JP2001038451A - 鋳物砂の充填方法及びその装置並びに主型造型方法及びその装置 - Google Patents
鋳物砂の充填方法及びその装置並びに主型造型方法及びその装置Info
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- JP2001038451A JP2001038451A JP11213479A JP21347999A JP2001038451A JP 2001038451 A JP2001038451 A JP 2001038451A JP 11213479 A JP11213479 A JP 11213479A JP 21347999 A JP21347999 A JP 21347999A JP 2001038451 A JP2001038451 A JP 2001038451A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主
型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の
表面とほぼ同一になるようにする。 【解決手段】模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構に
より、この分割型遮蔽機構の複数の遮蔽部材がそれぞれ
これと相互に対向する前記模型板の模型部とで所要の間
隔を成す砂充填空間を画成し、この砂充填空間に鋳物砂
を供給する。前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向す
る前記模型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ
前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一で成るようにす
る
型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の
表面とほぼ同一になるようにする。 【解決手段】模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構に
より、この分割型遮蔽機構の複数の遮蔽部材がそれぞれ
これと相互に対向する前記模型板の模型部とで所要の間
隔を成す砂充填空間を画成し、この砂充填空間に鋳物砂
を供給する。前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向す
る前記模型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ
前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一で成るようにす
る
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鋳枠内の主型の密
度をほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビティ面の
背面にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一になるよう
にすべく鋳物砂の充填方法及びその装置並びに、この鋳
物砂の充填方法を利用した主型の造型方法及びその装置
に関する。
度をほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビティ面の
背面にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一になるよう
にすべく鋳物砂の充填方法及びその装置並びに、この鋳
物砂の充填方法を利用した主型の造型方法及びその装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に従来の鋳枠付き主型の造型機にお
いては、模型板上の鋳枠への鋳物砂の充填は、鋳物砂を
ホッパーから重力落下により鋳枠内に供給し、その後供
給された鋳物砂の上面を適宜の手段で引き掻いて平坦状
にする工程で行なっていた。
いては、模型板上の鋳枠への鋳物砂の充填は、鋳物砂を
ホッパーから重力落下により鋳枠内に供給し、その後供
給された鋳物砂の上面を適宜の手段で引き掻いて平坦状
にする工程で行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の鋳物砂の充填方式では、模型板の模型部の高さに関
係なく鋳物砂が鋳枠内に供給されるため、鋳物砂をスク
イズして造型された主型は、模型部の高さの相違によっ
て鋳型の密度が異なるなどの問題があった。
来の鋳物砂の充填方式では、模型板の模型部の高さに関
係なく鋳物砂が鋳枠内に供給されるため、鋳物砂をスク
イズして造型された主型は、模型部の高さの相違によっ
て鋳型の密度が異なるなどの問題があった。
【０００４】しかも、従来の鋳物砂の充填方式では、ホ
ッパからの鋳物砂の排出量はほぼ一定であるため、模型
板の模型の形状変化に伴い鋳枠への鋳物砂の充填状態が
変わり、これに伴って鋳物砂をスクイズすると、鋳型が
鋳枠から突出したりする。この場合には鋳型表面を鋳枠
のそれと同一のレベルにすべく鋳型を掻き取る必要があ
り、この結果、無駄な鋳物砂が大量に発生したり、サン
ドカット装置が必要になったり、掻き取った鋳物砂が飛
散するなどの問題も生じていた。
ッパからの鋳物砂の排出量はほぼ一定であるため、模型
板の模型の形状変化に伴い鋳枠への鋳物砂の充填状態が
変わり、これに伴って鋳物砂をスクイズすると、鋳型が
鋳枠から突出したりする。この場合には鋳型表面を鋳枠
のそれと同一のレベルにすべく鋳型を掻き取る必要があ
り、この結果、無駄な鋳物砂が大量に発生したり、サン
ドカット装置が必要になったり、掻き取った鋳物砂が飛
散するなどの問題も生じていた。
【０００５】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしか
つ前記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前
記鋳枠の表面とほぼ同一になるようにすべく鋳物砂の充
填方法及びその装置と、この鋳物砂の充填方法を利用し
た主型の造型方法及びその装置を提供することにある。
で、その目的は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしか
つ前記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前
記鋳枠の表面とほぼ同一になるようにすべく鋳物砂の充
填方法及びその装置と、この鋳物砂の充填方法を利用し
た主型の造型方法及びその装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するのための手段】上記の目的を達成する
ために請求項１における鋳物砂の充填方法は、鋳枠内の
主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一に
なるようにすべく鋳物砂の充填方法であって、模型板、
鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、この分割型遮蔽
機構の複数の遮蔽部材がそれぞれこれと相互に対向する
前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填空間を
画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給する工
程と、を含み、前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向
する前記模型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイ
ズ前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一で成るように
して、鋳物砂の充填後、鋳枠等内に充填された鋳物砂を
適宜の慣用の鋳型造型機によりスクイズする。
ために請求項１における鋳物砂の充填方法は、鋳枠内の
主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一に
なるようにすべく鋳物砂の充填方法であって、模型板、
鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、この分割型遮蔽
機構の複数の遮蔽部材がそれぞれこれと相互に対向する
前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填空間を
画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給する工
程と、を含み、前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向
する前記模型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイ
ズ前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一で成るように
して、鋳物砂の充填後、鋳枠等内に充填された鋳物砂を
適宜の慣用の鋳型造型機によりスクイズする。
【０００７】また、請求項３における主型の造型方法
は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型に
おけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面
とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する方法であ
って、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、
この遮蔽機構の遮蔽部材のスクイズ面がこれと相互に対
向する前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填
空間を画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給
する工程と、前記遮蔽部材のスクイズ面が最終的には前
記鋳枠の表面とほぼ同一レベルまで後退して前記供給さ
れた鋳物砂をスクイズする工程と、を含み、前記複数の
遮蔽部材のそれぞれとこれと相互に対向する前記模型板
の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスクイズ
後の割合が相互にほぼ同一に成るようにすることを特徴
とする。
は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型に
おけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面
とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する方法であ
って、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、
この遮蔽機構の遮蔽部材のスクイズ面がこれと相互に対
向する前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填
空間を画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給
する工程と、前記遮蔽部材のスクイズ面が最終的には前
記鋳枠の表面とほぼ同一レベルまで後退して前記供給さ
れた鋳物砂をスクイズする工程と、を含み、前記複数の
遮蔽部材のそれぞれとこれと相互に対向する前記模型板
の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスクイズ
後の割合が相互にほぼ同一に成るようにすることを特徴
とする。
【０００８】
【実施例１】以下、発明の実施例を図１〜図３に基づき
詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例の所要部を
示す縦断面図であって、鋳物砂の鋳枠等への充填とスク
イズ機能を備えた装置を示す。そして、図示しない適宜
の慣用手段により間欠的に水平移動可能に配置された移
動定盤１の上面上には、模型板２がセットしてあり、前
記移動定盤１が一時停止する所定位置における前記模型
板２の上方位置に、鋳枠３が図示しない枠搬送装置によ
り入出しかつ昇降するようになっている。また、前記所
定位置における前記鋳枠３の上方位置には、下端部に盛
枠４を所要距離上下動可能にして垂設された分割型遮蔽
機構５が図示しないアクチュエータにより昇降可能にし
て配設してある。
詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例の所要部を
示す縦断面図であって、鋳物砂の鋳枠等への充填とスク
イズ機能を備えた装置を示す。そして、図示しない適宜
の慣用手段により間欠的に水平移動可能に配置された移
動定盤１の上面上には、模型板２がセットしてあり、前
記移動定盤１が一時停止する所定位置における前記模型
板２の上方位置に、鋳枠３が図示しない枠搬送装置によ
り入出しかつ昇降するようになっている。また、前記所
定位置における前記鋳枠３の上方位置には、下端部に盛
枠４を所要距離上下動可能にして垂設された分割型遮蔽
機構５が図示しないアクチュエータにより昇降可能にし
て配設してある。
【０００９】そして、前記分割型遮蔽機構５は、スクイ
ズヘッド機能も兼ね備えており、しかも、前記盛枠４を
所要距離上下動可能にして垂設された逆置箱状の支持部
材６の上面には、砂供給手段としての四角筒状の砂ホッ
パ７が設けてある。また、前記支持部材６の下部空間内
には、複数の遮蔽部材８・８が碁盤の目状に配置されか
つ上下動自在にして設けてあり、これら遮蔽部材８・８
は、下方へ延びる丸棒状を成しかつ前記支持部材６に装
着された複数のアクチュエータ９・９の下端に装着して
ある。
ズヘッド機能も兼ね備えており、しかも、前記盛枠４を
所要距離上下動可能にして垂設された逆置箱状の支持部
材６の上面には、砂供給手段としての四角筒状の砂ホッ
パ７が設けてある。また、前記支持部材６の下部空間内
には、複数の遮蔽部材８・８が碁盤の目状に配置されか
つ上下動自在にして設けてあり、これら遮蔽部材８・８
は、下方へ延びる丸棒状を成しかつ前記支持部材６に装
着された複数のアクチュエータ９・９の下端に装着して
ある。
【００１０】また、前記複数のアクチュエータ９・９
は、図示しない制御装置に接続してあって、前記遮蔽部
材８・８は、アクチュエータ９・９によって適宜上下動
するとともに所要位置に停止してその位置を維持できる
ようになっている。これに伴ない、複数の遮蔽部材８・
８は、図1に示すように、これら遮蔽部材８・８と相互
に対向する前記模型板２の模型部とで成す複数の間隔に
ついて、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互に限りな
く近くような位置に維持できるようになっている。すな
わち、スクイズ前における遮蔽部材８・８とこれと相互
に対向する前記模型板２の模型部とで成す複数の間隔を
A，Bとし、スクイズ後におけるそれらをａ，ｂとすると
（図２参照）、これらの割合ａ／Ａ及びｂ／Ｂが、ａ／
Ａ＝ｂ／Ｂの関係に限りなく近くなるように制御される
ようになっている。
は、図示しない制御装置に接続してあって、前記遮蔽部
材８・８は、アクチュエータ９・９によって適宜上下動
するとともに所要位置に停止してその位置を維持できる
ようになっている。これに伴ない、複数の遮蔽部材８・
８は、図1に示すように、これら遮蔽部材８・８と相互
に対向する前記模型板２の模型部とで成す複数の間隔に
ついて、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互に限りな
く近くような位置に維持できるようになっている。すな
わち、スクイズ前における遮蔽部材８・８とこれと相互
に対向する前記模型板２の模型部とで成す複数の間隔を
A，Bとし、スクイズ後におけるそれらをａ，ｂとすると
（図２参照）、これらの割合ａ／Ａ及びｂ／Ｂが、ａ／
Ａ＝ｂ／Ｂの関係に限りなく近くなるように制御される
ようになっている。
【００１１】また、図３に示すように、前記支持部材６
における複数の遮蔽部材８・８に囲まれた各空間内に
は、砂排出孔１０が形成してあり、各砂排出孔１０は図
２に示すように、漏斗状を成している。そして、各砂排
出孔１０の下端には、上昇時の遮蔽部材８・８の下面レ
ベルまで延びる導管１１が垂設してあり、各導管１１
は、下端が板材で閉塞されかつ下部に砂排出用の貫通孔
１２が放射状に４個設けてある。
における複数の遮蔽部材８・８に囲まれた各空間内に
は、砂排出孔１０が形成してあり、各砂排出孔１０は図
２に示すように、漏斗状を成している。そして、各砂排
出孔１０の下端には、上昇時の遮蔽部材８・８の下面レ
ベルまで延びる導管１１が垂設してあり、各導管１１
は、下端が板材で閉塞されかつ下部に砂排出用の貫通孔
１２が放射状に４個設けてある。
【００１２】次に、上記の装置を用いて、鋳枠３内の主
型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビティ面
の背面にあたる面が鋳枠３の表面とほぼ同一になる主型
の造型手順について説明する。まず、図１に示すよう
に、模型板２上に鋳枠３を、鋳枠３上に盛枠４及び分割
型遮蔽機構５をそれぞれ重ね合わせた後、図示しないア
クチュエータを伸長作動して複数の遮蔽部材８・８を下
降させるとともに、複数の遮蔽部材８・８を、これらと
相互に対向する模型板２の模型部とで成す複数の間隔に
ついて、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互に限りな
く近づくような位置Ａ・Ｂに維持する。言い換えると、
模型部の高さが高い部分では遮蔽部材８が下降して圧縮
される鋳物砂の量を少なくし、模型部の高さが低い部分
では、遮蔽部材８は上昇したままで、圧縮される鋳物砂
の量を多くするように移動して、模型板２・鋳枠３・盛
枠４・複数の遮蔽部材８・８により、砂充填空間を構成
する。
型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビティ面
の背面にあたる面が鋳枠３の表面とほぼ同一になる主型
の造型手順について説明する。まず、図１に示すよう
に、模型板２上に鋳枠３を、鋳枠３上に盛枠４及び分割
型遮蔽機構５をそれぞれ重ね合わせた後、図示しないア
クチュエータを伸長作動して複数の遮蔽部材８・８を下
降させるとともに、複数の遮蔽部材８・８を、これらと
相互に対向する模型板２の模型部とで成す複数の間隔に
ついて、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互に限りな
く近づくような位置Ａ・Ｂに維持する。言い換えると、
模型部の高さが高い部分では遮蔽部材８が下降して圧縮
される鋳物砂の量を少なくし、模型部の高さが低い部分
では、遮蔽部材８は上昇したままで、圧縮される鋳物砂
の量を多くするように移動して、模型板２・鋳枠３・盛
枠４・複数の遮蔽部材８・８により、砂充填空間を構成
する。
【００１３】次いで、図示しない砂投入機構により鋳物
砂を投入して、鋳物砂を分割型遮蔽機構５の砂ホッパ７
から複数の砂排出孔１０・１０と貫通孔１２・１２を通
して砂充填空間内に供給し、続いて、図２に示すよう
に、図示しないアクチュエーターにより、分割型遮蔽機
構５を下降させて砂充填空間内の鋳物砂を複数の遮蔽部
材８・８によりスクイズする。この場合、各導管１１の
下端が平坦状になっているため、この導管１１・１１の
下面部分の鋳物砂も部分的には平坦状にスクイズされる
こととなる。下端が板材で閉塞されこの複数の遮蔽部材
８・８のスクイズ作動に伴い、鋳物砂の遮蔽部材８・８
への反力が遮蔽部材８・８の下降力より大きくなると、
遮蔽部材８・８は分割型遮蔽機構５の下降に伴ってアク
チュエータの上昇端まで上昇する。そして、この時の遮
蔽部材８・８の下降力は、分割型遮蔽機構５本体の下降
力より小さくなければならない。分割型遮蔽機構５が所
定の位置まで下降し、鋳物砂を均一にスクイズした状態
では、全ての遮蔽部材８・８は、上昇端に移動してスク
イズ面が平坦状態で均一にスクイズされた主型を造型で
きる。
砂を投入して、鋳物砂を分割型遮蔽機構５の砂ホッパ７
から複数の砂排出孔１０・１０と貫通孔１２・１２を通
して砂充填空間内に供給し、続いて、図２に示すよう
に、図示しないアクチュエーターにより、分割型遮蔽機
構５を下降させて砂充填空間内の鋳物砂を複数の遮蔽部
材８・８によりスクイズする。この場合、各導管１１の
下端が平坦状になっているため、この導管１１・１１の
下面部分の鋳物砂も部分的には平坦状にスクイズされる
こととなる。下端が板材で閉塞されこの複数の遮蔽部材
８・８のスクイズ作動に伴い、鋳物砂の遮蔽部材８・８
への反力が遮蔽部材８・８の下降力より大きくなると、
遮蔽部材８・８は分割型遮蔽機構５の下降に伴ってアク
チュエータの上昇端まで上昇する。そして、この時の遮
蔽部材８・８の下降力は、分割型遮蔽機構５本体の下降
力より小さくなければならない。分割型遮蔽機構５が所
定の位置まで下降し、鋳物砂を均一にスクイズした状態
では、全ての遮蔽部材８・８は、上昇端に移動してスク
イズ面が平坦状態で均一にスクイズされた主型を造型で
きる。
【００１４】さらに、スクイズ完了時の反力（鋳型密
度）を図示しない圧力測定装置（分割型遮蔽機構５昇降
用アクチュエータの圧力から計算、あるいは、分割型遮
蔽機構５と分割型遮蔽機構５昇降用アクチュエータの間
に設けたロードセル等）で測定し、次の造型工程におい
て、分割型遮蔽機構５の下降位置を制御し、砂充填空間
内への鋳物砂の供給量を増減させて、スクイズ後の鋳型
密度すなわちスクイズ完了時の反力が同じになるように
制御する。
度）を図示しない圧力測定装置（分割型遮蔽機構５昇降
用アクチュエータの圧力から計算、あるいは、分割型遮
蔽機構５と分割型遮蔽機構５昇降用アクチュエータの間
に設けたロードセル等）で測定し、次の造型工程におい
て、分割型遮蔽機構５の下降位置を制御し、砂充填空間
内への鋳物砂の供給量を増減させて、スクイズ後の鋳型
密度すなわちスクイズ完了時の反力が同じになるように
制御する。
【００１５】なお、上記の実施例では、鋳物砂のスクイ
ズ造型は、鋳物砂充填装置で行なったが、この鋳物砂充
填装置で模型板上の鋳枠内に所要量の鋳物砂を供給した
後、適宜の慣用鋳型造型機で鋳物砂をスクイズして所望
の主型を造型するようにしてもよい。
ズ造型は、鋳物砂充填装置で行なったが、この鋳物砂充
填装置で模型板上の鋳枠内に所要量の鋳物砂を供給した
後、適宜の慣用鋳型造型機で鋳物砂をスクイズして所望
の主型を造型するようにしてもよい。
【００１６】
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、請求項
１における鋳物砂の充填方法は、鋳枠内の主型の密度を
ほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビティ面の背面
にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一になるようにす
べく鋳物砂の充填方法であって、模型板、鋳枠、盛枠及
び分割型遮蔽機構により、この分割型遮蔽機構の複数の
遮蔽部材がそれぞれこれと相互に対向する前記模型板の
模型部とで所要の間隔を成す砂充填空間を画成する工程
と、この砂充填空間に鋳物砂を供給する工程と、を含
み、前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向する前記模
型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスク
イズ後の割合が相互にほぼ同一で成るようにして、鋳物
砂の充填後、鋳枠等内に充填された鋳物砂を適宜の慣用
の鋳型造型機によりスクイズするようにしたから、鋳枠
内の主型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が鋳枠の表面とほぼ同一になる
ように、鋳物砂を模型板上の鋳枠内に容易かつ確実に充
填することができるなどの優れた実用的効果を奏する。
１における鋳物砂の充填方法は、鋳枠内の主型の密度を
ほぼ均一にしかつ前記主型におけるキャビティ面の背面
にあたる面が前記鋳枠の表面とほぼ同一になるようにす
べく鋳物砂の充填方法であって、模型板、鋳枠、盛枠及
び分割型遮蔽機構により、この分割型遮蔽機構の複数の
遮蔽部材がそれぞれこれと相互に対向する前記模型板の
模型部とで所要の間隔を成す砂充填空間を画成する工程
と、この砂充填空間に鋳物砂を供給する工程と、を含
み、前記複数の遮蔽部材とこれと相互に対向する前記模
型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスク
イズ後の割合が相互にほぼ同一で成るようにして、鋳物
砂の充填後、鋳枠等内に充填された鋳物砂を適宜の慣用
の鋳型造型機によりスクイズするようにしたから、鋳枠
内の主型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が鋳枠の表面とほぼ同一になる
ように、鋳物砂を模型板上の鋳枠内に容易かつ確実に充
填することができるなどの優れた実用的効果を奏する。
【００１７】また、請求項３における主型の造型方法
は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型に
おけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面
とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する方法であ
って、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、
この遮蔽機構の遮蔽部材のスクイズ面がこれと相互に対
向する前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填
空間を画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給
する工程と、前記遮蔽部材のスクイズ面が最終的には前
記鋳枠の表面とほぼ同一レベルまで後退して前記供給さ
れた鋳物砂をスクイズする工程と、を含み、前記複数の
遮蔽部材のそれぞれとこれと相互に対向する前記模型板
の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスクイズ
後の割合が相互にほぼ同一に成るようにするから、鋳枠
内の主型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が鋳枠の表面とほぼ同一になる
主型を容易かつ確実に造型することができ、しかも、別
途スクイズヘッドが必要がないため、このための主型造
型装置は、全体的にはコンパクトになるなどの優れた実
用的効果を奏する。
は、鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前記主型に
おけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳枠の表面
とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する方法であ
って、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構により、
この遮蔽機構の遮蔽部材のスクイズ面がこれと相互に対
向する前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す砂充填
空間を画成する工程と、この砂充填空間に鋳物砂を供給
する工程と、前記遮蔽部材のスクイズ面が最終的には前
記鋳枠の表面とほぼ同一レベルまで後退して前記供給さ
れた鋳物砂をスクイズする工程と、を含み、前記複数の
遮蔽部材のそれぞれとこれと相互に対向する前記模型板
の模型部とで成す複数の間隔は、スクイズ前とスクイズ
後の割合が相互にほぼ同一に成るようにするから、鋳枠
内の主型の密度をほぼ均一にしかつ主型におけるキャビ
ティ面の背面にあたる面が鋳枠の表面とほぼ同一になる
主型を容易かつ確実に造型することができ、しかも、別
途スクイズヘッドが必要がないため、このための主型造
型装置は、全体的にはコンパクトになるなどの優れた実
用的効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例の主要部の縦断面図であっ
て、砂供給時の砂供給空間の形状を示す。
て、砂供給時の砂供給空間の形状を示す。
【図２】本発明の一実施例の主要部の縦断面図であっ
て、スクイズ時の砂供給空間の形状を示す。
て、スクイズ時の砂供給空間の形状を示す。
【図３】図１のＡ−Ａ断面図である。
２ 模型板、 ３ 鋳枠、 ４ 盛枠、 分割型遮蔽機構
Claims (4)
- 【請求項１】 鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ
前記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記
鋳枠の表面とほぼ同一になるようにすべく鋳物砂の充填
方法であって、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構
により、この分割型遮蔽機構の複数の遮蔽部材がそれぞ
れこれと相互に対向する前記模型板の模型部とで所要の
間隔を成す砂充填空間を画成する工程と、この砂充填空
間に鋳物砂を供給する工程と、を含み、前記複数の遮蔽
部材とこれと相互に対向する前記模型板の模型部とで成
す複数の間隔は、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互
にほぼ同一で成るようにすることを特徴とする鋳物砂の
充填方法。 - 【請求項２】鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前
記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳
枠の表面とほぼ同一になるようにすべく鋳物砂の充填装
置であって、模型板と、この模型板上に載置可能な鋳枠
と、この鋳枠上に載置可能な盛枠と、少なくともこの盛
枠に進入可能でありかつ表面がこれと相互に対向する前
記模型板の模型部とで所要の間隔を成す位置に一時維持
可能な複数の遮蔽部材を有する分割型遮蔽機構と、前記
模型板、前記鋳枠、前記盛枠及び前記分割型遮蔽機構に
より画成された砂充填空間に鋳物砂を供給する砂供給手
段と、を備え、前記複数の遮蔽部材のそれぞれとこれと
相互に対向する前記模型板の模型部とで成す複数の間隔
は、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一に
成るようにすることを特徴とする鋳物砂の充填装置。 - 【請求項３】鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前
記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳
枠の表面とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する
方法であって、模型板、鋳枠、盛枠及び分割型遮蔽機構
により、この分割型遮蔽機構の遮蔽部材のスクイズ面が
これと相互に対向する前記模型板の模型部とで所要の間
隔を成す砂充填空間を画成する工程と、この砂充填空間
に鋳物砂を供給する工程と、前記遮蔽部材のスクイズ面
が最終的には前記鋳枠の表面とほぼ同一レベルまで後退
して前記供給された鋳物砂をスクイズする工程と、を含
み、前記複数の遮蔽部材のそれぞれとこれと相互に対向
する前記模型板の模型部とで成す複数の間隔は、スクイ
ズ前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一に成るように
することを特徴とする主型の造型方法。 - 【請求項４】鋳枠内の主型の密度をほぼ均一にしかつ前
記主型におけるキャビティ面の背面にあたる面が前記鋳
枠の表面とほぼ同一になるようにすべく主型を造型する
装置であって、模型板と、この模型板上に載置可能な鋳
枠と、この鋳枠上に載置可能な盛枠と、少なくともこの
盛枠に進入可能でありかつ表面がこれと相互に対向する
前記模型板の模型部とで所要の間隔を成す位置に一時維
持可能な複数の遮蔽部材を有する分割型遮蔽機構と、前
記模型板、前記鋳枠、前記盛枠及び前記分割型遮蔽機構
により画成された砂充填空間に鋳物砂を供給する砂供給
手段と、を備え、前記複数の遮蔽部材のそれぞれとこれ
と相互に対向する前記模型板の模型部とで成す複数の間
隔は、スクイズ前とスクイズ後の割合が相互にほぼ同一
に成るようにしかつ前記遮蔽部材はスクイズフッド機能
を有することを特徴とする主型の造型装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11213479A JP2001038451A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 鋳物砂の充填方法及びその装置並びに主型造型方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11213479A JP2001038451A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 鋳物砂の充填方法及びその装置並びに主型造型方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001038451A true JP2001038451A (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=16639891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11213479A Pending JP2001038451A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 鋳物砂の充填方法及びその装置並びに主型造型方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001038451A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018016123A1 (ja) | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型方法 |
| WO2019216230A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-11-14 | 新東工業株式会社 | 生型造型センサー、及び、生型造型性の評価方法 |
| WO2019216231A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-11-14 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型装置、鋳型品質評価装置、及び、鋳型品質評価方法 |
| US11660664B2 (en) | 2018-06-15 | 2023-05-30 | Sintokogio, Ltd. | Mold molding apparatus and method for controlling mold molding apparatus |
-
1999
- 1999-07-28 JP JP11213479A patent/JP2001038451A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2018016123A1 (ja) | 2016-07-20 | 2018-01-25 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型方法 |
| KR20190027777A (ko) | 2016-07-20 | 2019-03-15 | 신토고교 가부시키가이샤 | 주형 조형 방법 |
| WO2019216230A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-11-14 | 新東工業株式会社 | 生型造型センサー、及び、生型造型性の評価方法 |
| WO2019216231A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-11-14 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型装置、鋳型品質評価装置、及び、鋳型品質評価方法 |
| JPWO2019216230A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2021-05-20 | 新東工業株式会社 | 生型造型センサー、及び、生型造型性の評価方法 |
| JPWO2019216231A1 (ja) * | 2018-05-07 | 2021-05-27 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型装置、鋳型品質評価装置、及び、鋳型品質評価方法 |
| JP7196912B2 (ja) | 2018-05-07 | 2022-12-27 | 新東工業株式会社 | 鋳型造型装置、鋳型品質評価装置、及び、鋳型品質評価方法 |
| JP7196911B2 (ja) | 2018-05-07 | 2022-12-27 | 新東工業株式会社 | 生型造型センサー、及び、生型造型性の評価方法 |
| US11660664B2 (en) | 2018-06-15 | 2023-05-30 | Sintokogio, Ltd. | Mold molding apparatus and method for controlling mold molding apparatus |
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