JP2001033225A - 画像処理検査方法および画像処理検査装置 - Google Patents

画像処理検査方法および画像処理検査装置

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JP2001033225A
JP2001033225A JP11211175A JP21117599A JP2001033225A JP 2001033225 A JP2001033225 A JP 2001033225A JP 11211175 A JP11211175 A JP 11211175A JP 21117599 A JP21117599 A JP 21117599A JP 2001033225 A JP2001033225 A JP 2001033225A
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Kazutomo Itou
一朋 伊藤
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Nok Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】たとえば、ゴム材料の表面に存在する欠陥の画
像のように、画像中にゴム材料の表面特性に起因したゴ
マ塩ノイズが多く含まれ、欠陥画像が途切れがちな画像
であっても、欠陥の全体的な形状を迅速かつ精度良く抽
出することができる画像処理検査方法および画像処理検
査装置を提供する。 【解決手段】被検査体の表面の画像データを2値化した
画像データのうち、欠陥画素と判断された画素の集合の
うち任意の画素をローカル点として、このローカル点か
ら出発して、所定の半径内で欠陥画素数最大方向を探索
し新たなローカル点を順次決定し、各ローカル点を結ぶ
軌跡を決定する追跡処理部31と、2値化した画像デー
タのうち軌跡上に位置する画素の連結を調査し、連結す
る画素の集合である連結成分を決定し、当該連結成分か
ら前記被検査体の表面に存在する欠陥形状を特定する画
像間連結調査部32とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、被検査
体の表面の画像から表面に存在する欠陥を抽出する画像
処理検査方法および画像処理検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、Oリング等のシール部材は、
シール部材の本来の機能を発揮させるため、シール面に
傷等の欠陥がないかを製品出荷前に検査する必要があ
る。従来において、Oリングのシール面の検査は、たと
えば、図17に示すような検査装置によって行ってい
た。なお、図17(a)は検査装置の上面図であり、図
17(b)は側面図である。図17において、Oリング
101は、駆動モータ105の回転軸105aに装着さ
れており、Oリング101の検査面101aの側方には
検査面101aを撮像する、たとえば、電荷結合素子を
用いたCCDカメラ102が配置されている。また、C
CDカメラ102の両側には、Oリング101の検査面
101aに向けて照明光を照射する照明装置103が配
置されている。CCDカメラ102の撮像した画像デー
タは画像処理装置106に入力される。
【0003】上記構成の検査装置においては、照明装置
103からの照明光が照らされたOリング101の検査
面101aの画像がCCDカメラ102によって撮像さ
れ、この画像が画像処理装置106に入力される。この
画像処理装置106に入力される画像は、単純な濃淡構
造をもつ画像である。画像処理装置106は、たとえ
ば、画像の中から濃度値の異なる対象部分を抜き出し、
対象部分に値1、その他の部分に値0を割り当てた2値
化画像に変換して欠陥画素であるエッジ要素を求めた
後、エッジ要素の各画素の連結を調べ、連結している画
素の集合に対して各々異なるラベルを割り当て(ラベリ
ング)、各ラベルの形状や相関距離を解析することでO
リング101の検査面101aに存在する欠陥の最終的
な認識を行う。なお、画素の連結とは、2値画像中の同
じ値をもつ二つの画素a、bに対し、すべてこれらと同
じ値をもつ隣接(4隣接または8隣接)画素の系列が存
在するときの二つの画素a、bの関係をいう。画像処理
装置106におけるエッジ要素の抜き出しは、しきい値
を決定し、このしきい値を基に画像の中から濃度値の変
化するエッジ要素を抽出する。また、2値化処理されて
抽出されたエッジ要素は、これだけでは、幅を持った線
図形であったり、ノイズ等の影響で小線分に分割される
ことが多く、このままでは欠陥の形状の認識を行うこと
が難しい。このため、画像処理装置106では、画像デ
ータの2値化処理によってエッジ要素を抽出した後で、
エッジ要素内の各画素のうち同じ性質をもつ画素を追跡
するエッジ追跡処理を行い、エッジ要素を結合して滑ら
かにつながった軌跡を抽出し欠陥を特定する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した被
検査体であるOリング101は、たとえば、ゴム材料か
ら形成されている。一般に、ゴム製品は添加物を多く含
んでいるので、その粒子が完全に分散されず、表面の光
の反射特性が一様ではない。また、Oリング101の成
形型や原材料の影響によって、性能に問題ないレベルで
も、表面が荒れている場合が多い。さらに、性能に問題
ないが、エアを吹き付ける等の手段によっても除去でき
ないミクロレベルのほこりが付着している場合がある。
このような表面特性をもつOリング101をCCDカメ
ラ102によって撮像すると、撮像された画像はノイズ
を多く含む画像となる。なお、ここでのノイズは、いわ
ゆるゴマ塩ノイズであり、背景の照度は一様で欠陥は黒
となる画像が得られないことが原因となるノイズであ
る。Oリング101の表面に存在する欠陥は、たとえ
ば、Oリング101を成形するための型の表面に付着し
た異物がOリング101の表面に転写されて発生した
り、型への成形材料の充填不良によって発生したりす
る。このため、欠陥の状態も様々で、欠陥形状も比較的
複雑であり、また、欠陥の輪郭線が途切れて輪郭が明ら
かでないことも多い。このため、Oリング101の表面
に存在する欠陥を含む2値化画像では、ゴマ塩ノイズが
顕著になり、欠陥領域以外にも白領域(背景または良品
面)に黒い点が散らばった画像となってしまうことや、
欠陥形状の複雑さのため、欠陥画素であるエッジ要素は
小線分に途切れていることが多い。欠陥画素であるエッ
ジ要素が小線分に途切れている2値画像データから欠陥
形状をそのまま特定することは困難であるため、エッジ
要素の画素間に一定の関係を導入し、関係の成立する画
素間を結合して滑らかにつながったものとする必要があ
る。
【0005】このエッジ要素間の結合方法としては、た
とえば、エッジ要素内の各画素の8点連結性を調べ、連
結している画素の集合である連結成分を抽出し、欠陥形
状を特定する方法が知られている。しかしながら、この
方法は、注目画素に隣接する画素との連結性を調べるの
みであるため、局所的な画素の連結しか抽出することが
できず、抽出された連結成分から欠陥の全体的な形状を
特定することが難しく、この結果、欠陥を誤認識してし
まうことがあるという不利益が存在した。一方、上記の
ゴマ塩ノイズや形状の複雑さによって途切れた状態にあ
るエッジ要素を結合して線を追跡する方法として、ハフ
変換を利用したアルゴリズムが知られている。しかしな
がら、ハフ変換は、幾何学的な線や円などの抽出を基本
としており、単純な実現方法では計算時間と使用メモリ
が大きくなり、異なった図形を同時に抽出することが難
しい等の理由から、多数の被検査体の欠陥を迅速に表面
検査する必要があるような場合には、実用的でない。
【0006】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
ものであって、たとえば、ゴム材料の表面に存在する欠
陥の画像のように、画像中にゴマ塩ノイズが多く含ま
れ、欠陥画像が途切れがちな画像であっても、欠陥の全
体的な形状を迅速かつ精度良く抽出することができる画
像処理検査方法および画像処理検査装置を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の画像処理検査方
法は、被検査体の表面の画像データを各画素の濃度に基
づいて2値化処理し、当該2値化処理された画像データ
に基づいて被検査体の表面に存在する欠陥を抽出する画
像処理検査方法であって、前記被検査体の表面の画像デ
ータを2値化した画像データのうち、欠陥画素と判断さ
れた画素の集合のうち任意の画素をローカル点とし、こ
のローカル点を中心とする所定半径範囲領域で欠陥画素
の数が最大となる欠陥画素数最大方向を探索し、当該欠
陥画素数最大方向に存在する欠陥画素の数が所定の数を
越える場合に、当該方向の前記ローカル点を中心とする
所定半径の円周上に位置する点を新たなローカル点と
し、当該新たなローカル点を起点として前記欠陥画素数
最大方向を探索し新たなローカル点を順次探索するステ
ップと、前記順次探索された各ローカル点を結ぶ軌跡を
決定するステップと、前記2値化した画像データのうち
前記軌跡上に位置する画素の連結を調査し、連結する画
素の集合である連結成分を決定し、当該連結成分から前
記被検査体の表面に存在する欠陥形状を特定するステッ
プとを有する。
【0008】前記欠陥画素数最大方向に存在する欠陥画
素の数が所定の数を越えない場合には、当該欠陥画素数
最大方向を探索する起点となったローカル点を前記軌跡
の終点とする。
【0009】本発明の画像処理検査装置は、被検査体の
表面の画像データを各画素の濃度に基づいて2値化処理
し、当該2値化処理された画像データに基づいて被検査
体の表面に存在する欠陥を抽出する画像処理検査方法で
あって、前記被検査体の表面の画像データを2値化した
画像データのうち、欠陥画素と判断された画素の集合の
うち任意の画素をローカル点とし、このローカル点を中
心とする所定半径範囲領域で欠陥画素の数が最大となる
欠陥画素数最大方向を探索し、当該欠陥画素数最大方向
に存在する欠陥画素の数が所定の数を越える場合に、当
該方向の前記ローカル点を中心とする所定半径の円周上
に位置する点を新たなローカル点とし、当該新たなロー
カル点を起点として前記欠陥画素数最大方向を探索し新
たなローカル点を順次探索し、探索された各ローカル点
を結ぶ軌跡を決定する追跡処理部と、前記2値化した画
像データのうち前記軌跡上に位置する画素の連結を調査
し、連結する画素の集合である連結成分を決定し、当該
連結成分から前記被検査体の表面に存在する欠陥形状を
特定する画像間連結調査部とを有する。
【0010】本発明では、2値化処理された被検査体の
表面の画像データの欠陥画素の任意のローカル点から出
発して、所定の半径内で欠陥画素数最大方向を探索し新
たなローカル点を順次決定していくことで、画素間を結
合する所定長の線分を連結した軌跡が得られる。すなわ
ち、本発明では、局所的な画素の連結を抽出するのでは
なく、大局的に画素間を結合して軌跡を決定する。ま
た、本発明では、大局的に画素間を結合する軌跡を求め
た後、この軌跡上に存在する各画素の連結性を調査する
ことで、欠陥を全体的に抽出でき、かつ抽出された欠陥
の形状が精度のよいものとなる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は、本発明に係る画像
処理検査装置が適用された表面検査装置の一構成例を示
す図である。本実施形態に係る表面検査装置61は、図
1に示すように、基台62上に固定され、被検査体とし
てのシール部材81が装着される装着軸65を回転駆動
する駆動装置64と、基台62上に設けられた支持部材
63によって支持された撮像手段としてのCCDカメラ
71と、支持部材63に固定され、シール部材81の上
方に設けられた照明手段としてのリング照明67と、シ
ール部材81の上方に設けられたロール型拡散板66
と、リング照明67の光源70と、画像処理検査装置7
5とを有する。
【0012】ここで、図2は図1に示した表面検査装置
61の被検査体としてのガスバルブ用のシール部材81
の構造を示す断面図である。シール部材81は、たとえ
ば、黒色のゴム材料から成形された中心部に貫通孔81
bをもつ円板状の部材であり、一端面側に環状のシール
面81aを有する。環状のシール面81aは、断面の輪
郭形状が凸状に湾曲して形成されており、このシール面
81aが他の部材と密着してシール機能を果たす。シー
ル部材81のシール面81aに傷等の欠陥が存在する
と、シール面81aが本来の機能を果たさなくなるた
め、欠陥の有無を検査する必要がある。
【0013】リング照明67は、その中央領域に開口部
67aをもつ環状体であり、図示しない環状に配置され
た光ファイバの束を内蔵している。これらの光ファイバ
は、リング照明67の側面から光源に向けて導出されて
いる。光源70から供給された光は、リング照明67の
内部で環状に配置された光ファイバを通じて、リング照
明67の下面67bから下方に向けて環状の照明光とし
て照射される。リング照明67は、その開口部67aの
中心が、シール部材81のシール面81a上に位置する
ように配置されるのが好ましい。また、リング照明67
の開口部67aの直径は、シール面81aの半径方向の
幅よりも十分に大きく設定されている。光源70には、
たとえば、波長特性について撮像手段としてのCCDカ
メラ71と相性の良いハロゲンランプを用いることがで
きる。
【0014】ロール型拡散板66は、その中央部に開口
部66aを有する円筒体である。ロール型拡散板66
は、開口部66aの中心がリング照明67の開口部67
aの中心線に略一致するように配置されるとともに、上
端部側の一部がリング照明67の開口部67a内に挿入
されている。また、ロール型拡散板66は、開口部66
aの中心がシール部材81のシール面81aの略中央位
置に位置するように配置されている。ロール型拡散板6
6は、その外周面66cに向けてリング照明67から照
射された環状の照明光を、環状の中実部を通じて下端面
66bからシール部材81のシール面81aに向けて導
く。このとき、ロール型拡散板66の環状の下端面66
bから拡散した照明光は様々な方向に拡散する。ロール
型拡散板66の形成材料は、たとえば、乳白色に着色し
た光透過性のアクリル樹脂等を用いることができ、この
材料を円筒状に成形する。また、ロール型拡散板66の
直径は、CCDカメラ71の視野範囲およびシール部材
81のシール面81aの検査範囲が確保できる値に設定
される。
【0015】駆動装置64は、たとえば、シール部材8
1が装着される装着軸65を所定の角度毎に回転させる
駆動モータからなり、CCDカメラ71によって撮像さ
れるシール部材81のシール面81aの各検査領域に応
じた回転角度でシール部材81を順次回転させ、最終的
にシール部材81を360度回転させる。
【0016】CCDカメラ71は、視野がロール型拡散
板66の開口部66aを通じてシール部材81のシール
面81aに向くように配置されている。CCDカメラ7
1には、画像処理分野において汎用的に用いられるもの
を使用し、たとえば、100万画素のCCDカメラを用
いる。
【0017】画像処理検査装置75は、たとえば、パー
ソナルコンピュータから構成され、CCDカメラ71に
よって撮像された画像データがそれぞれ入力され、これ
らの画像データを量子化し、この画像データに後述する
画像処理を施し、シール部材81のシール面81aに存
在する欠陥を抽出する。
【0018】上記構成の表面検査装置61では、まず、
シール部材81の貫通孔81bを駆動装置64の装着軸
65に装着する。次いで、リング照明67から照明光を
照射する。リング照明67から照射された環状の照明光
の一部はロール型拡散板66の外周面66cに入射し、
ロール型拡散板66の内部に導入され、ロール型拡散板
66の下端面66bから拡散し、シール部材81のシー
ル面81aの検査領域には、下端面66bから散乱した
拡散光が照射される。このため、シール部材81のシー
ル面81aの検査領域における照度分布は、シール面8
1aが湾曲していても略均一となる。この状態で、シー
ル部材81のシール面81aの検査領域の上方に設けら
れたCCDカメラ71によって検査領域の画像を撮像す
る。
【0019】ここで、図3は、上記した画像処理検査装
置75の構成を示す構成図である。図3に示すように、
画像処理検査装置75は、大きく分けて2値化処理部2
0と欠陥抽出部30とからなる。2値化処理部20は、
CCDカメラ71によって撮像されたシール部材81の
シール面81aの画像データを2値化処理する。欠陥抽
出部30は、2値化処理部20によって2値化された画
像データのエッジ要素に基づいてシール部材81のシー
ル面81aに存在する欠陥を抽出する。
【0020】2値化処理部20は、画像データ入力部2
1と、濃度勾配算出部22と、平均値算出部23と、標
準偏差算出部24、しきい値算出部25、エッジ要素抽
出部26、フィルタ部27とを有する。
【0021】画像データ入力部21は、CCDカメラ7
1によって撮像されたシール部材81のシール面81a
の画像データを取り込み、これを量子化する。
【0022】濃度勾配算出部22は、画像データ入力部
21から入力された量子化された画像データの各画素の
濃度勾配(グラディエント強度)Δを算出する。具体的
には、各画素の濃度の差分値を算出する。
【0023】平均値算出部23は、濃度勾配算出部22
で算出された画像データの各画素の濃度勾配Δの平均値
mを求める。標準偏差算出部24は、濃度勾配算出部2
2で算出された画像データの各画素の濃度勾配Δの標準
偏差σを求める
【0024】しきい値算出部24は、平均値算出部23
で算出された濃度勾配Δの平均値mおよび標準偏差σに
基づいて、画像データの濃度の変化する変化点(エッジ
要素)を判別するしきい値Tを決定する。しきい値T
は、たとえば、次式(1)によって決定される。
【0025】T=m+t・σ …(1) 但し、tはしきい値Tの調整用パラメータであり、適宜
設定される。
【0026】エッジ要素抽出部25は、しきい値算出部
24で算出されたしきい値Tに基づいて、画像データ入
力部21に入力されたシール部材81のシール面81a
の画像データを2値化して欠陥を含むエッジ要素を抽出
する。具体的には、画像データ入力部21に入力された
各画素の濃度としきい値Tとを比較して、しきい値Tよ
りも大きな値の濃度を持つ画素を欠陥画素としてエッジ
要素とし、しきい値Tよりも小さな値の濃度を持つ画素
を背景要素とする。このしきい値Tで2値化された画像
データのエッジ要素には、シール部材81のシール面8
1aに存在する欠陥およびシール面81aのざらつき等
に起因したゴマ塩ノイズ成分の双方が含まれている。
【0027】フィルタ部26は、エッジ要素抽出部25
で2値化された画像データを所定の大きさの複数の正方
格子を有するメッシュ状のフィルタでスクリーニングし
てエッジ要素に含まれるノイズ成分を除去する。ここ
で、図4はフィルタ部26で2値化された画像データに
施す処理を説明するための図である。図4(a)示すよ
うに、矩形状のパターン画像R0 とパターン画像R0
周辺に存在する微小なノイズ画像Nとがエッジ要素とし
て存在する2値化画像を想定すると、フィルタ部26は
この2値化画像データを所定の大きさの複数の正方格子
を持つフィルタK(以下、格子フィルタKと呼ぶ。)に
よってスクリーニング、すなわち、ふるいにかける。フ
ィルタ部26では、パターン画像R0 とノイズ画像Nの
うち、格子フィルタKの格子線KL で囲まれる領域内に
のみ存在し、格子線KL 上には存在しない画素は、エッ
ジ要素から除外する。上記の処理が施された2値化画像
は、図4(b)に示すように、パターン画像R0 のみと
なり、ノイズ画像Nは除外される。なお、格子フィルタ
Kの正方格子の大きさは、2値化された画像データに含
まれるノイズの大きさ等に応じて適宜設定される。
【0028】本実施形態の画像処理検査装置75の2値
化処理部20では、しきい値Tを濃度勾配Δの平均値m
および標準偏差σから上記のようにして決定するため、
シール部材81のシール面81aの画像にノイズが多く
含まれ、欠陥画像がノイズ内に埋もれた状態でもある程
度適切な値のしきい値Tを簡単に決定することができ
る。また、本実施形態の画像処理検査装置75の2値化
処理部20では、しきい値Tに基づいて2値化された画
像データを格子フィルタKによってふるいにかけること
によって、2値化された画像データに含まれるノイズ成
分を簡単に除くことができる。以上のように、本実施形
態の画像処理検査装置75の2値化処理部20では、シ
ール部材81のシール面81aの画像データの2値化処
理の際に必要なしきい値Tを比較的簡単にかつ適切に決
定でき、さらに、2値化された画像データに含まれるノ
イズ成分の除去に、複雑なアルゴリズムを要しない格子
フィルタKを用いているためノイズ除去に要する処理時
間を大幅に短縮化することができる。このようにして得
られた2値化された画像データの欠陥画素からなるエッ
ジ要素は、シール部材81のシール面81aに存在する
欠陥の情報を適切に含む画像となる。
【0029】欠陥抽出部30は、エッジ追跡処理部3
1、画素間連結調査部32、ラベリング処理部33とを
有する。エッジ追跡処理部31は、2値化処理部20の
フィルタ部26で得られた2値化された画像データのエ
ッジ要素のエッジ追跡処理を行う。2値化処理部20の
フィルタ部26で得られた2値化された画像データのエ
ッジ要素は、ノイズ成分がある程度除かれているが、こ
の状態のエッジ要素では、画像データに含まれるノイズ
成分や欠陥の形状の複雑さによってエッジ要素が小線分
に分割されていることが多く、この途切れたエッジ要素
間を結合して滑らかにしないと欠陥形状を識別すること
ができない。このため、エッジ追跡処理部31は、たと
えば、図5に示す方法によってエッジ要素間の結合を行
う。
【0030】図5(a)に示すように、まず、2値化画
像中に存在する一連の欠陥を反映したエッジ要素Sのロ
ーカル点(欠陥位置)R1を決定する。次いで、ローカ
ル点R1を中心とした半径rの円周上に位置する点r
〔1〕とローカル点R1との間の線分上に位置する各画
素のうち、ローカル点R1に位置する画素と同じ性質を
持つ画素の数をカウントする。同じ性質を持つ画素と
は、具体的には、たとえば、ローカル点R1に位置する
画素と同様に欠陥画素とされた画素である。同様の処理
を、半径rの円周上のローカル点R1を中心として角度
θ毎に回転した位置にある点r〔2〕〜r〔n〕(な
お、r〔n〕は180度回転した位置にある)とローカ
ル点R1との間の線分上に位置する各画素のうち、ロー
カル点R1と同様の性質をもつ画素の数を順次カウント
する。
【0031】上記処理の結果、ローカル点R1に位置す
る画素と同様の性質を持つ画素の数が最大となる方向が
点r〔a〕の方向であったとすると、この方向における
ローカル点R1に位置する画素と同様の性質を持つ画素
の最大数Vmax が予め決められたしきい値Thよりも大
きい場合にのみ、図5(c)に示すように、この点を新
たなローカル点R2とする。同様に、ローカル点R2を
起点として、図5(b)において説明した処理を行い、
図5(d)に示すように、新たなローカル点R3、R4
を探索する。たとえば、新たなローカル点R4を起点と
して、ローカル点R4に位置する画素と同じ性質の画素
を探索したとき、ローカル点R4に位置する画素と同様
の性質を持つ画素の数が最大となる方向の当該画素の最
大数Vmax がしきい値Thよりも小さい場合には、この
ローカル点R4を終点とする。
【0032】このように探索したローカル点R1、R
2、R3およびR4を結ぶ軌跡を一つの欠陥の軌跡とす
る。上記の処理をエッジ要素の各画素について行うこと
により、欠陥の全体的な軌跡が特定される。
【0033】画素間連結調査部32は、2値化画像のエ
ッジ要素を基に、エッジ追跡処理部31において得られ
た欠陥の軌跡上に存在する各画素の連結性を調査する。
たとえば、図6に示すように、(i,j) に位置する画素x
0 に対して、(i+1,j),(i,j+1) ,(i-1,j) ,(i,j-1)
,(i+1,j+1) ,(i-1,j+1) ,(i+1,j-1) ,(i+1,j-1)
に位置する各画素x1 〜x8 を8近傍と呼び、この8近
傍のうち画素x0と同値の画素を画素x0 に隣接してい
るという。また、2値画像中の同じ値をもつ二つの画素
a、bに対し、すべてこれらと同じ値をもつ隣接(4隣
接または8隣接)画素の系列が存在するときの二つの画
素a、bの関係をいう。画素間連結調査部32は、エッ
ジ要素のうちエッジ追跡処理部31において得られた欠
陥の軌跡上に存在する各画素と上記のように連結する画
素を探索する処理を行う。すなわち、エッジ追跡処理部
31では、小線分にとぎれることが多いエッジ要素間を
大局的に結合することで、欠陥の大局的な軌跡を決定し
たが、この軌跡のみでは欠陥の実際の形状が特定できな
いため、軌跡上に位置する各画素と連結する画素を探索
し、欠陥画素を拡張することで欠陥を精度良く特定す
る。
【0034】ラベリング処理部33は、エッジ追跡処理
部31および画素間連結調査部32において得られた連
結する画素の集合(連結成分)に対し、各々異なったラ
ベルを割り当て、各ラベルにおける連結成分の形状や相
関距離を解析することで、シール部材81のシール面8
1aに存在する欠陥の最終的な認識を行う。
【0035】次に、上記画像処理検査装置を用いた画像
処理検査方法の処理手順の一例について図7および図8
に示すフローチャートを参照して説明する。まず、図7
に示すように、CCDカメラ71からのシール部材81
のシール面81aの画像を画像処理検査装置75に入力
し、この画像データの各画素の濃度勾配Δを求める(ス
テップS1)。図9に画像処理検査装置75に入力され
たシール部材81のシール面81aの画像の一例を示
す。図9に示すように、シール面81aの画像は、全体
的にノイズが多く含まれ、中央領域に濃度が濃くなった
シール面81a上の欠陥がぼんやりと映し出されてい
る。
【0036】次いで、求めた各画素の濃度勾配Δの平均
値mおよび標準偏差σを求め(ステップS2)、これら
平均値mおよび標準偏差σから上記式(1)によってし
きい値Tを求める(ステップS3)。このしきい値Tを
用いて画像データの全画素の2値化を行う(ステップS
4)。この2値化は、たとえば、欠陥画素(濃度がしき
い値より濃い画素)を1とし、他の画素を0とする。図
10に図9に示した画像を2値化した2値化画像の一例
を示す。図10において、黒色領域は画素の値が0の領
域であり、白色領域は値が1の領域である。図10から
わかるように、2値化画像には多くのノイズ成分が含ま
れている。
【0037】次いで、上記の2値化画像の注目画素につ
いて、上記した格子フィルタKを設定し(ステップS
5)、格子線KL 上に欠陥画素が存在しないかを判断し
(ステップS6)、画像データのスクリーニングを行
う。格子線KL 上に欠陥画素が存在しない場合には、当
該格子線KL で囲まれる格子内の画素の値を0にする
(ステップS7)。格子線KL 上に欠陥画素が存在する
場合には、当該格子線KL で囲まれる格子内の画素の値
はそのままの状態とする。全ての画素について格子フィ
ルタKを設定したかを判断し(ステップS8)、格子フ
ィルタKの設定が完了すると、ノイズの除かれた2値化
画像が得られる(ステップS9)。ここで、図11は、
2値化画像に格子フィルタKを設定した状態を示す図で
あり、図12は格子フィルタKによってスクリーニング
された2値化画像を示す図である。上述した図10に示
す2値化画像と図12に示す2値化画像とを比較する
と、ノイズ成分が大部分除去されているのが分かる。な
お、ここまでの処理は、上記の画像処理検査装置75の
2値化処理部20において行われる処理である。
【0038】次いで、図8に示すように、得られた2値
化画像データから任意の欠陥画素(値が1の画素)を決
定し、この点をローカル点Lとする(ステップS1
1)。次いで、このローカル点Lから半径rの円周上の
点r〔j〕(j=1〜n)とローカル点Lとを結ぶ線分
上に存在する欠陥画素の数Mをカウントする。なお、点
r〔j〕は円周上の基準位置から角度Φ〔i〕(Φ=0
〜180°)に位置する点である。このローカル点Lと
半径rの円周上の各点r〔j〕を結ぶ線分上の欠陥画素
の数Mに基づいて、欠陥画素の数Mが最大となる方向Φ
max を探索する(ステップS12)。なお、欠陥画素の
数Mが最大となる方向Φmax のローカル点Lと半径rの
円周上の点をr〔a〕とする。
【0039】次いで、欠陥画素の数Mが最大となる方向
Φmax における欠陥画素の数Mと予め決められたしきい
値Thとの大小を比較し(ステップS13)、欠陥画素
の数Mがしきい値Thよりも大きい場合には、点r
〔a〕を新たなローカル点Lとし(ステップS14)、
この新たなローカル点Lを起点として欠陥画素の数Mが
最大となる方向Φmax を探索する。欠陥画素の数Mがし
きい値Thよりも小さい場合には、ローカル点Lを更新
せず、このローカル点Lを終点とし、探索して得られた
各ローカル点Lを結ぶ軌跡を決定する(ステップS1
5)。
【0040】ここで、図13は、図12に示した2値化
画像に対して行った欠陥軌跡の追跡処理によって得られ
た軌跡を示す図である。一方、図15は、図12に示し
た2値化画像の各画素の8点連結を調べて欠陥軌跡の追
跡処理を行った結果得られた軌跡を示す図である。2値
化画像の各画素の8点連結による欠陥軌跡の追跡は、局
所的な追跡であり、図15からわかるように、追跡した
軌跡が小線分に分割される割合が多くなっている。一
方、本実施形態の追跡方法によれば、図13に示すよう
に、軌跡が小線分に分割される割合が少なく、欠陥の軌
跡の特徴を大局的に捉えることができる。
【0041】次いで、得られた欠陥軌跡上の各画素の連
結性を調査する(ステップS16)。上記の処理によっ
て得られた大局的な欠陥軌跡上の各画素の8点連結を調
べ、軌跡上に位置する各画素と連結する画素の集合であ
る連結成分を求めることで欠陥画素を拡張し、この連結
成分にラベリングする。各ラベルにおける連結成分の形
状や相関距離を解析することで、シール部材81のシー
ル面81aに存在する欠陥の最終的な認識を行う。図1
4は、欠陥軌跡上の各画素の8点連結を調べ、欠陥画素
を拡張し、連結成分にラベリングした画像を示す図であ
る。図14に示すように、欠陥は3つの大きな範囲にラ
ベリングされており、シール部材81のシール面81a
に存在する欠陥の形状を大局的に特定することができ
る。
【0042】一方、図16は、図15に示した8点連結
による欠陥軌跡の追跡結果に基づいて、軌跡上に位置す
る各画素の連結成分を求め、これらラベリングした画像
を示す図である。図16から分かるように、8点連結に
よる欠陥軌跡の追跡結果に基づいて、軌跡上に位置する
各画素の連結成分を求めると、連結成分が多数存在し、
欠陥の形状を局所的にしか捉えることができず欠陥の形
状を正確に認識することが難しい。
【0043】以上のように、本実施形態によれば、適切
に決定されたしきい値Tに基づいて2値化された画像デ
ータを格子フィルタKによってスクリーニングすること
で、2値化画像を得るため、比較的簡単な処理で精度良
くエッジ要素を検出することができる。特に、たとえ
ば、ゴム材料の表面に存在する欠陥の画像のように、ゴ
ム材料の表面の特質に起因したノイズが多く含まれ、か
つ、欠陥の画像の濃淡差が少ない画像から精度が良く安
定したエッジ要素を検出することが可能となる。また、
本実施形態によれば、2値化画像のエッジ要素(欠陥画
素の集合)の一点から所定の範囲で欠陥画素の存在する
数が最大となる方向を探索して欠陥の軌跡を追跡し、得
られた軌跡上の各画素について局所的な連結性を調査し
て欠陥を抽出することで、欠陥を大局的に抽出すること
ができ、濃淡差が少ない欠陥画像や複雑な形状の欠陥の
全体像を確実に抽出することができる。
【0044】
【発明の効果】本発明によれば、ゴム材料の表面に存在
する欠陥の画像のように、画像中にノイズが多く含ま
れ、欠陥画像が途切れがちな画像であっても、欠陥の全
体的な形状を迅速かつ精度良く抽出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る画像処理検査装置が適用された表
面検査装置の一構成例を示す図である。
【図2】図1に示した表面検査装置61の被検査体とし
てのガスバルブ用のシール部材81の構造を示す断面図
である。
【図3】画像処理検査装置75の構成を示す構成図であ
る。
【図4】フィルタ部26で2値化された画像データに施
す処理を説明するための図である。
【図5】エッジ追跡処理部31のエッジ追跡の原理を説
明するための図である。
【図6】画素の連結を説明するための図である。
【図7】本発明の画像処理検査方法の処理手順の一例を
示すフローチャートである。
【図8】図7に続く処理手順の一例を示すフローチャー
トである。
【図9】画像処理検査装置75に入力されたシール部材
81のシール面81aの画像の一例を示す図である。
【図10】図9に示した画像を2値化した2値化画像の
一例を示す図である。
【図11】2値化画像に格子フィルタKを設定した状態
を示す図である。
【図12】格子フィルタKによってスクリーニングされ
た2値化画像を示す図である。
【図13】図12に示した2値化画像に対して行った欠
陥軌跡の追跡処理によって得られた軌跡を示す図であ
る。
【図14】欠陥軌跡上の各画素の8点連結を調べ、欠陥
画素を拡張し、連結成分にラベリングした画像を示す図
である。
【図15】図12に示した2値化画像の各画素の8点連
結を調べて欠陥軌跡の追跡処理を行った結果得られた軌
跡を示す図である。
【図16】図15に示した8点連結による欠陥軌跡の追
跡結果に基づいて、軌跡上に位置する各画素の連結成分
を求め、これらラベリングした画像を示す図である。
【図17】表面検査装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
20…2値化処理部 21…画像データ入力部 22…濃度勾配算出部 23…平均値算出部 24…標準偏差算出部 25…しきい値算出部 26…エッジ要素抽出部 27…フィルタ部 30…欠陥抽出部30 31…エッジ追跡処理部 32…画素間連結調査部 33…ラベリング処理部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被検査体の表面の画像データを各画素の濃
    度に基づいて2値化処理し、当該2値化処理された画像
    データに基づいて被検査体の表面に存在する欠陥を抽出
    する画像処理検査方法であって、 被検査体の表面の画像データを2値化した画像データの
    うち、欠陥画素と判断された画素の集合のうち任意の画
    素をローカル点とし、このローカル点を中心とする所定
    半径範囲領域で欠陥画素の数が最大となる欠陥画素数最
    大方向を探索し、当該欠陥画素数最大方向に存在する欠
    陥画素の数が所定の数を越える場合に、当該方向の前記
    ローカル点を中心とする所定半径の円周上に位置する点
    を新たなローカル点とし、当該新たなローカル点を起点
    として前記欠陥画素数最大方向を探索し新たなローカル
    点を順次探索するステップと、 前記順次探索された各ローカル点を結ぶ軌跡を決定する
    ステップと、 前記2値化した画像データのうち前記軌跡上に位置する
    画素の連結を調査し、連結する画素の集合である連結成
    分を決定し、当該連結成分から前記被検査体の表面に存
    在する欠陥形状を特定するステップとを有する画像処理
    検査方法。
  2. 【請求項2】前記欠陥画素数最大方向に存在する欠陥画
    素の数が所定の数を越えない場合には、当該欠陥画素数
    最大方向を探索する起点となったローカル点を前記軌跡
    の終点とする請求項1に記載の画像処理検査方法。
  3. 【請求項3】被検査体の表面の画像データを各画素の濃
    度に基づいて2値化処理し、当該2値化処理された画像
    データに基づいて被検査体の表面に存在する欠陥を抽出
    する画像処理検査方法であって、 被検査体の表面の画像データを2値化した画像データの
    うち、欠陥画素と判断された画素の集合のうち任意の画
    素をローカル点とし、このローカル点を中心とする所定
    半径範囲領域で欠陥画素の数が最大となる欠陥画素数最
    大方向を探索し、当該欠陥画素数最大方向に存在する欠
    陥画素の数が所定の数を越える場合に、当該方向の前記
    ローカル点を中心とする所定半径の円周上に位置する点
    を新たなローカル点とし、当該新たなローカル点を起点
    として前記欠陥画素数最大方向を探索し新たなローカル
    点を順次探索し、探索された各ローカル点を結ぶ軌跡を
    決定する追跡処理部と、 前記2値化した画像データのうち前記軌跡上に位置する
    画素の連結を調査し、連結する画素の集合である連結成
    分を決定し、当該連結成分から前記被検査体の表面に存
    在する欠陥形状を特定する画像間連結調査部とを有する
    画像処理検査装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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