JP2001026027A - 真空積層装置および真空積層方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 膜体により被積層材を加圧すると共に効率よ
く適切な温度に加熱することができる真空積層装置およ
び真空積層方法を提供する。 【解決手段】 真空積層装置は、密閉チャンバを形成す
る上板１，下板２と、下板２の対向面に設けられ上板１
の対向面に向かって膨出されることにより被積層材Ｈを
加圧する膜体３と、チャンバ内を減圧する減圧手段と、
任意に膜体３をその設けられた下板２の対向面に密接さ
せると共に上板１対向面に向かって膨出させて被積層材
Ｈを加圧するよう膜体３を操作する膜体操作手段７と、
膜体３によって上板１の対向面に対して加圧される被積
層材Ｈを加熱する加熱手段８と、膜体３とその膜体３が
設けられた下板２の対向面との間に配置された加熱手段
９と、膜体３の上板１の対向面に向かう膨出に追従して
膜体３の裏面と接触するように加熱手段９を移動させる
追従移動手段１０と、を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被積層材を真空雰
囲気下において加圧・加熱することにより積層する真空
積層装置および真空積層方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の技術としては、特開昭６３−２９
５２１８号公報に開示されているように、内外に開口す
る２つの搬送口を有する加熱容器と、この加熱容器の内
部に収容されかつ前記両搬送口の開口周縁に設けられそ
の内部で２種のステージ材料を一体化する筒状のラバー
とを備え、このラバーに管体を介して真空源を接続した
成形プレスが知られている。このものにおいては、加熱
容器に接続された加熱装置が図示されている。

【０００３】また、特開昭６３−２９９８９５号公報に
開示されているように、被成形物を移送する移送手段
と、この移送手段の中間部に開閉駆動可能に配置され、
上記被成形物をその移送過程で加熱・加圧して一体成形
する真空チャンバーと、この真空チャンバーを開閉駆動
するチャンバー開閉手段と、上記真空チャンバーを加熱
する加熱機構とを備えた真空プレス装置が知られてい
る。このものにおいては、真空チャンバーを構成する可
動側チャンバーと固定側チャンバーとの内部にそれぞれ
耐熱性のラバーシートが張設されており、両ラバーシー
トの間で密閉された真空室が形成され、この真空室には
真空ポンプで負圧が作用し、かつ、可動側チャンバーと
固定側チャンバーが加熱機構で加熱されていることによ
り、ステージ材料が加熱・加圧され一体成形されるなど
と記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術にあっては、被成形物またはステージ材料を加
熱するために、加熱容器に接続された加熱装置（特開昭
６３−２９５２１８号公報）や、可動側チャンバーおよ
び固定側チャンバーに接続された加熱機構（特開昭６３
−２９９８９５号公報）によって加熱容器またはチャン
バーを加熱するものであり、被成形物またはステージ材
料を加圧するときには、筒状のラバーまたはラバーシー
トが加熱容器あるいはチャンバーから引き離された状態
となる。すなわち、被成形物またはステージ材料は、筒
状のラバーまたはラバーシートにより加圧されていると
きに、加熱された加熱容器またはチャンバーから離れた
状態となる。そのため、加圧される被成形物またはステ
ージ材料を効率よく適切な温度に精度よく加熱すること
ができないという問題があった。

【０００５】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、膜体により被積層材を加圧すると共に効率
よく適切な温度に加熱することができる真空積層装置お
よび真空積層方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１の真空積層装置
に係る発明は、上記目的を達成するため、被積層材が収
容される、少なくとも一面が膜体によって形成された密
閉チャンバと、密閉チャンバ内を真空引きする吸引手段
と、膜体の膨出を阻止して真空引きされた密閉チャンバ
内の被積層材が加圧されないように、または、膜体を膨
出させてその表面により被積層材を加圧させるように、
任意のタイミングで膜体を操作する膜体操作手段と、被
積層材を加熱する加熱手段と、を備えた真空積層装置で
あって、被積層材を加圧するために膨出された膜体の裏
面に加熱手段が接するように、加熱手段を膜体の膨出に
応じて移動可能としたことを特徴とするものである。

【０００７】請求項２の真空積層方法に係る発明は、上
記目的を達成するため、被積層材を少なくとも一面が膜
体によって形成されたチャンバに収容して密閉する工程
と、被積層材が加圧されないように膜体の膨出を阻止し
た状態で密閉されたチャンバ内を減圧する工程と、この
減圧を維持しつつ膜体を膨出させてその表面で被積層材
を加圧すると共に加熱手段により被積層材を加熱する工
程と、を含む真空積層方法であって、被積層材を加圧す
るときの膜体の膨出に応じて加熱手段が膜体の裏面に接
するように、加熱手段を移動させることを特徴とするも
のである。

【０００８】本発明の請求項１に係る真空積層装置で
は、被積層材を収容して密閉チャンバを形成し、膜体が
膨出して被積層材を不用意に加圧しないように、膜体操
作手段により膜体をその設けられた対向面に密着させ、
密閉チャンバ内を減圧する。その後、膜体操作手段によ
り膜体をその設けられた対向面から離間させるようにし
て膨出させ被積層材を加圧する。このとき、膜体の膨出
に応じて加熱手段を膜体の裏面に接するように移動さ
せ、被積層材を加熱する。膜体に加熱手段が接した状態
で膜体が被積層材を加圧するため、被積層材は効率よく
加熱される。

【０００９】また、本発明の請求項２に係る真空積層方
法では、被積層材を少なくとも一面が膜体によって形成
されたチャンバに収容して密閉し、被積層材が加圧され
ないように膜体の膨出を阻止した状態で密閉されたチャ
ンバ内を減圧し、この減圧を維持しつつ膜体を膨出させ
てその表面で被積層材を加圧すると共に加熱手段により
被積層材を加熱する。この被積層材を加圧及び加熱する
とき、膜体の膨出に応じて加熱手段が膜体の裏面に接す
るように、加熱手段を移動させる。膜体に加熱手段が接
した状態で膜体が被積層材を加圧するため、被積層材は
効率よく加熱される。

【００１０】

【発明の実施の形態】最初に、本発明の真空積層装置の
実施の一形態を図１〜図３に基づいて詳細に説明する。
なお、図において同一符号は同一部分または相当部分と
する。

【００１１】この実施の形態における本発明の真空積層
装置は、図１および図２に示すように、概略、相対向し
て相対的に近接遠退可能に設けられ、近接したときに被
積層材Ｈが収容された密閉チャンバ５を形成する上板１
および下板２と、上板１または下板２のいずれか一方の
対向面に設けられ、上板１または下板２のいずれか他方
の対向面に向かって膨出されることにより該他方の対向
面との間で被積層材Ｈを加圧する膜体３と、チャンバ５
内を減圧する減圧手段６と、任意に膜体３を、その設け
られた上板１または下板２の一方の対向面に密接させる
と共に、上板１または下板２のいずれか他方の対向面に
向かって膨出させて被積層材Ｈを加圧するよう膜体３を
操作する膜体操作手段７と、膜体３によって上板１また
は下板２のいずれか他方の対向面に対して加圧される被
積層材Ｈを加熱する加熱手段８と、膜体３とその膜体３
が設けられた上板１または下板２の一方の対向面との間
に配置された加熱手段９と、該膜体３と上板１または下
板２の一方の対向面との間に配置された加熱手段９を、
膜体３の上板１または下板２のいずれか他方の対向面に
向かう膨出に追従して、膜体３の裏面と接触するように
移動させる追従移動手段１０と、を備えてなる。

【００１２】上板１は、略矩形の平板状体からなるもの
で、この実施の形態の場合、支持台（図示を省略した）
などにより所定の高さに固定保持されている。上板１の
下面には、他方の対向面を構成する上定盤１１と、上定
盤１１に対して加圧される被積層材Ｈを加熱する加熱手
段としての電気ヒータ８と、断熱材１２とを収容するた
めの凹部１６が形成されている。凹部１６は、断熱材１
２および電気ヒータ８を介して取付けられた上定盤１１
の下面が上板１の凹部１６の周囲の下面と連続してほぼ
同一面を形成するよう設定されている。断熱材１２は、
ビス１３により上板１の凹部１６の底面（天井面）に取
付けられている。上定盤１１は、ボルト１４により上板
１に取付けられている。

【００１３】また、電気ヒータ８は、上定盤１１と共に
ボルト１４が挿通されていることにより、上板１との間
に断熱材１２を介して固定されており、上定盤１１を所
定の温度に加熱することができるように、すなわち、上
定盤１１に対して押圧される被積層材Ｈを加熱すること
ができるよう配置されている。上定盤１１、電気ヒータ
８、および断熱材１２の周側面と凹部１６の側壁面との
間には、チャンバ５内に開口するような間隙が形成され
ている。上板１のほぼ中央には、減圧手段６としての真
空ポンプ（図示を省略した）に接続されるポートを有す
る通路６ａが凹部１６に貫通するように穿設されてい
る。上板１の断熱材１２と接する凹部１６の天井面に
は、間隙と通路６ａとを連通する溝１５が格子状に複数
形成されている。

【００１４】なお、上定盤１１の下面は、剛性を有する
平滑な表面が形成されているが、必要に応じてシリコン
ゴムなどの耐熱性弾性層を貼着することもできる。ま
た、加熱手段８は、電気ヒータに限定されることなく、
図示は省略するが、油や蒸気などの加熱流体を流通循環
させるための流路を上板内に形成してもよい。さらに、
図示した実施の形態では、上板１の凹部１６の天井面に
溝１５を形成した場合によって説明したが、断熱材１２
の凹部１６と接する面に溝を形成することもできる。

【００１５】下板２は、上板１と略同じ大きさの矩形の
平板状体からなるもので、この実施の形態の場合、所定
の高さに固定保持された上板１に対して近接遠退可能に
支持され、昇降駆動手段（図示を省略した）が接続され
ている。昇降駆動手段により下板２を上板１に対して近
接させるよう上昇させると、後述する枠体２０が上板１
と下板２との間に挟持されてチャンバ５が形成され、下
板２を上板１から離間させるよう下降させるとチャンバ
５が開放されることとなる。

【００１６】下板２の上面には、上板１の凹部１６とほ
ぼ同じ大きさの開口を有する枠体２０がボルト２１によ
り取付けられている。下板２の上面（上板に対する一方
の対向面）には断熱材２２を昇降可能に収容する凹部２
８が形成されており、断熱材２２の上面には加熱手段と
しての電気ヒータ９と下定盤２３とが順次載置されてい
る。すなわち、電気ヒータ９は、膜体３とこの膜体３が
設けらている下板２の一方の対向面との間に配置されて
いる。下板２の凹部２８の周囲と枠体２０の間には、下
定盤２３上を覆うように配置された膜体３の周縁が気密
に挟持されている。

【００１７】さらに、枠体２０の上面には、Ｏリングな
どのシール部材２５を保持するための溝２０ａが形成さ
れている。下板２を上昇させて枠体２０のシール部材２
５が上板１に当接押圧されると、密閉されたチャンバ５
が形成されることとなる。そして、形成されたチャンバ
５は、その一面が膜体３によって形成されることとな
る。なお、膜体３は、伸縮性、可撓性、弾性、耐熱性等
を有する、例えばシリコンゴムやフッ素ゴム等の素材が
用いられている。膜体３の周縁は、下板２の凹部２８の
周囲と枠体２０の間で挟持されることに限定されず、枠
体２０の下面に対して接着剤などにより固着することも
できる。枠体２０の高さ（厚さ）を変更することによ
り、被積層材Ｈの厚さに応じてチャンバ５の高さを変更
することもできる。

【００１８】下板２上の、枠体２０および下板２の間に
挟持された膜体３の周縁と対応する位置には、Ｏリング
などのシール部材２６を保持するための溝２７が形成さ
れている。このシール部材２６により、下板２と膜体３
との間の気密性が保証されている。すなわち、膜体３の
下方の下板２の内部には密閉された空間が形成されてい
る。下板２のほぼ中央には、後述する膜体操作手段７が
接続されるポートを有する通路７ａが凹部２８に貫通す
るように穿設されている。下定盤２３は、例えば所謂パ
ンチングメタルのような多孔板により構成されている。
また、断熱材２２と電気ヒータ９には通路７ａと整合す
るように孔５１，５０がそれぞれ形成されている。膜体
操作手段７により通路７ａを介して供給・吸引される空
気などの作動流体は、断熱材２２および電気ヒータ９の
孔５１，５０を通って多孔板からなる下定盤２３を通過
することとなり、その流動作用を膜体３の全面にわたっ
て均等に及ぼすことができる。

【００１９】さらに、下板２の下面には複数の取付プレ
ート３０がボルト３１により固定され、各取付プレート
３０には、電気ヒータ９を昇降移動させる追従移動手段
１０を構成する複数のアクチュエータ３２がボルト３３
によりそれぞれ取付けられている。そして、下板２に
は、各アクチュエータ３２と断熱材２２を収容する凹部
２８との間にわたって貫通する孔３４が形成されてお
り、各孔３４には昇降ロッド３５が挿通されると共に、
各孔３４と昇降ロッド３５との間の気密性を保つための
シールブッシュ３６が設けられている。昇降ロッド３５
の一端はボルト３７により断熱材２２と固定されてお
り、他端はアクチュエータ３２の作動杆３２ａと連結さ
れている。アクチュエータ３２の作動杆３２ａを伸長駆
動すると、昇降ロッド３５を介して断熱材２２に載置さ
れた電気ヒータ９が上昇される。なお、アクチュエータ
３２は、この実施の形態の場合、少なくともピストンロ
ッドなどの作動杆３２ａを伸長駆動することが可能な単
動式の流体作動シリンダを使用することができるが、作
動杆３２ａを伸長・退縮駆動することが可能な複動シリ
ンダ（図４を参照）や、昇降ロッド３５を軸方向に移動
させることが可能な他の形式のアクチュエータを使用す
ることもできる。

【００２０】膜体操作手段７は、図２および図３に示す
ように、真空ポンプ４０と、エアコンプレッサなどの圧
縮空気源４１と、圧縮空気源４１から圧縮空気を所定圧
力Ｐ１に減圧して供給するための圧力調整弁４２と、真
空ポンプ４０と圧縮空気源４１とをそれぞれ接続・遮断
するように切り替え操作する切替弁４３，４４と、各切
替弁４３，４４を通路７ａのポートと並列に接続する管
路４５と、を備えてなる。また、圧縮空気源４１の切替
弁４４にはアクチュエータとしての単動式シリンダ３２
と接続する管路５０が並列に接続されており、この管路
５０の途中には圧縮空気を所定の圧力Ｐ２に減圧してシ
リンダ室３２ｂに供給するための圧力調整弁５１とシリ
ンダ室３２ｂ内に供給された空気の排出を許容するよう
設けられた逆止弁５２とが並列に介装されている。

【００２１】図２に示すように、圧縮空気源４１の接続
を遮断するように切替弁４４を操作すると共に、真空ポ
ンプ４０を管路４５と接続するように切替弁４３を操作
すると、膜体３と下板２との間の密閉された空間内の空
気が下定盤２３の全面と電気ヒータ９および断熱材９
ａ，２２の孔５０，５１とを介して通路７ａから吸引さ
れ、チャンバ５内が減圧されたときであっても膜体３が
不用意に膨出して被積層材Ｈを加圧することがないよう
に、膜体３を全面にわたって下板２の下定盤２３に密着
させる。なお、膜体操作手段７による膜体３の吸着力
は、減圧手段６によりチャンバ５内を減圧したときに、
膜体３が下定盤２３から離間しないように、減圧手段６
による減圧力以上に設定されている。

【００２２】また、図３に示すように、真空ポンプ４０
の接続を遮断するように切替弁４３を操作すると共に、
圧縮空気源４１を管路４５と接続するように切替弁４４
を操作すると、圧力調整弁４２で所定の圧力Ｐ１に調整
された圧縮空気は、管路４５と、通路７ａと断熱材２２
および電気ヒータ９の孔５１，５０とを介して多孔板か
らなる下定盤２３の全面から膜体３の下方の下板２の内
部の密閉された空間に供給されて、膜体３が被積層材Ｈ
を全面にわたって上定盤１１に対して均等に押圧して加
圧するように、チャンバ５内に膨出する。そして、圧力
調整弁５１で所定の圧力Ｐ２に調整された圧縮空気が管
路５０を介してシリンダ室３２ｂに供給されてピストン
ロッド３２ａを伸長駆動させ電気ヒータ９などを上昇さ
せて、被積層材Ｈを加圧すべく上定盤１１に向かって膨
出される膜体３の裏面に下定盤２３を介して接する。こ
こで、シリンダ３２の内径（ピストンの外径）をＤと
し、昇降ロッド３５の外径をｄとする。電気ヒータ９
の、膜体３の裏面に対する接触力は、次式のように表す
ことができる。 接触力＝（Ｄ² Ｐ２−ｄ² Ｐ１）π／４

【００２３】シリンダ３２に供給される圧縮空気は、圧
縮空気源４１からの圧縮空気を圧力調整弁４２によって
所定の圧力Ｐ１に減圧された後に、さらに圧力調整弁５
１によって所定の圧力Ｐ２に減圧される。すなわち、圧
力調整弁４２を介して通路７ａから膜体３の下方の空間
に供給される圧縮空気の圧力Ｐ１は、圧力調整弁５１を
介してシリンダ３２に供給される圧縮空気の圧力Ｐ２よ
りも高いため、膜体３を上定盤１１に向かって膨出させ
ると同時に、昇降ロッド３５を押し下げるように作用す
る傾向がある。しかしながら、ピストンの外径Ｄが昇降
ロッド３５の外径ｄよりも大きいために、このような傾
向が実際に引き起こされることはなく、電気ヒータ９
は、被積層材Ｈを加圧すべく上定盤１１に向かって膨出
される膜体３に追従して緩やかに上昇移動して下定盤２
３を介して膜体３の裏面に接し、下定盤２３および膜体
３を介して被積層材Ｈを効率よく適切な温度で加熱す
る。

【００２４】なお、電気ヒータ９の接触力は、被積層材
Ｈを膜体３の膨出により加圧するため、下定盤２３を介
して電気ヒータ９が膜体３を所定の温度に加熱すること
ができる程度でよい。また、下板２の電気ヒータ９は、
上板１の被積層材Ｈが押し当てられる上定盤１１を加熱
するための電気ヒータ８と同じ温度に設定することがで
き、また、膜体３が冷えない程度の保温温度に加熱手段
よりも低く設定したり、あるいは、下定盤２３および膜
体３を介して被積層材Ｈを実質的に加熱することができ
るように電気ヒータ８以上の温度に設定することもでき
る。

【００２５】被積層材Ｈが加圧と共に加熱されて積層成
形が完了すると、圧縮空気源４１の管路４５との接続を
遮断するように切替弁４４を操作し、真空ポンプ４０を
管路４５に接続するように切替弁４３を操作すると、再
び膜体３と下板２との間の密閉された空間内の空気が下
定盤２３の全面と電気ヒータ９および断熱材２２の孔５
０，５１とを介して通路７ａから吸引されて、膜体３が
全面にわたって下板２に密着され、電気ヒータ９がその
自重と共に膜体３の吸着により下降され、シリンダ室３
２ｂの空気が逆止弁５２から排出される。

【００２６】本発明の真空積層装置は、上述したよう
に、上板１に減圧手段６を接続すると共に、下板２に枠
体２０、膜体３、膜体操作手段７、および追従移動手段
１０を設けた実施の形態に限定されることなく、図４に
示すように、上板１に枠体２０、膜体３、膜体操作手段
７、および追従移動手段１０を設けると共に、下板２に
減圧手段６を接続することもできる。この場合にあって
は、追従移動手段１０のアクチュエータとして複動型の
シリンダ３２’を使用し、これに伴って、３ポート切替
弁４４’を使用することが好ましい。上定盤１１は多孔
板により構成され、下定盤２３の上面は剛性を有する平
滑な表面が形成される。そして、上板の凹部１６に断熱
材１２が昇降可能に収容され、追従移動手段１０のアク
チュエータ３２’により電気ヒータ８が膜体３の膨出に
応じて昇降移動される。

【００２７】さらに、上述した実施の形態では上板１ま
たは下板２のいずれか一方の対向面のみに膜体３を向け
た場合によって説明したが、本発明の真空積層装置は、
これに限定されることなく、図５に示すように、両対向
面にそれぞれ膜体３，４を膨出可能に設け、両膜体３，
４の膨出に追従してその裏面にそれぞれ加熱手段として
の両電気ヒータ８，９が接するように、追従移動手段１
０を設けることもできる。この場合にあっては、被積層
材Ｈは、両膜体３，４間で加圧されると共に、これら膜
体３，４の裏面に接した電気ヒータ８，９により加熱さ
れて積層される。この場合には、上定盤１１および下定
盤２３の双方が多孔板により構成され、また、上板１お
よび下板２の双方に膜体操作手段７がそれぞれ接続さ
れ、枠体２０に減圧手段の通路６ａが形成される。

【００２８】また、上述した実施の形態では、枠体２０
が上板１と下板２との間で挟持されることにより密閉チ
ャンバ５が形成されるよう構成した場合によって説明し
たが、上板１と下板２とを相対的に近接させたときに密
閉チャンバ５が形成されるのであれば、例えば（図示は
省略する）、上板１および／または下板２の対向面の外
周に突出させて枠体２０のような部分を一体に形成する
こともできる。

【００２９】次に、本発明の真空積層方法を図１〜図３
に示された真空積層装置を使用した場合によって説明す
る。この実施の形態における本発明の真空積層方法は、
概略、被積層材Ｈを対面させて上板１または下板２のい
ずれか一方の対向面に設けられた膜体３と他方の対向面
との間に位置させる工程と、上板１と下板２とを相対的
に近接させて前記膜体３と上板１または下板２の対向面
のいずれか他方との間に被積層材Ｈが収容された密閉チ
ャンバ５を形成する工程と、膜体３が被積層材Ｈを加圧
することがないように膜体３をその設けられた上板１ま
たは下板２のいずれか一方の対向面に密着させた状態
で、密閉チャンバ５内を減圧する工程と、この減圧を維
持しつつ上板１または下板２のいずれか他方の対向面と
の間で被積層材Ｈを加圧するように膜体３を膨出操作す
ると共に加熱する工程と、膜体３の裏面に加熱手段９を
接触させて膜体３を介して被積層材Ｈを加熱する工程
と、から構成されている。

【００３０】被積層材Ｈは、例えば、積層基板やフレキ
シブル積層基板に支持体フィルムおよび感光層からなる
フィルム状フォトレジスト形成層を積層する場合のよう
に、複数の板状、シート状あるいはフィルム状材料から
なるもので、熱可塑性もしくは熱硬化性樹脂製フィルム
同士、または該フィルム状物と基材、例えば木材板、金
属板、有機材料、無機材料もしくは複合材料からなるシ
ートとを貼り合わせるためにも適用できることはいうま
でもない。ここで、上記フィルム状物同士の積層は同種
または異種のものを２層または３層以上で行われてもよ
く、基材へのフィルム状物の積層は基材の片面のみ、ま
たは両面に行われてもよい。図１〜図３に示された実施
の形態の場合においては、被積層材Ｈは、膜体３上に載
置される。

【００３１】その後、下板２を上板１に対して近接移動
させると、図２に示すように、被積層材Ｈが上定盤１１
と膜体３の間に収容された状態で、密閉されたチャンバ
５が形成される。そして、圧縮空気源４１の接続を遮断
するように切替弁４４を操作すると共に、真空ポンプ４
０を管路４５と接続するように切替弁４３を操作するこ
とにより、膜体３を全面にわたって下板２の下定盤２３
に密着させる。この状態で減圧手段６を作動して密閉チ
ャンバ５内の空気を吸引すると、被積層材Ｈは、膜体３
に加圧されることなくその周囲が減圧される。

【００３２】密閉チャンバ５内の減圧が完了したら、図
３に示すように、真空ポンプ４０の接続を遮断するよう
に切替弁４３を操作すると共に、圧縮空気源４１を管路
４５と接続するように切替弁４４を操作し、膜体３を下
定盤２３から離間させるように上定盤１１に向かって膨
出させて、被積層材Ｈを全面にわたって上定盤１１に対
して均等に押圧することにより加圧する。上定盤１１が
電気ヒータ８によって所定の温度に加圧されているた
め、被積層材Ｈは加圧と同時に加熱されることとなる。
また、膜体３が膨出すると同時に、またはわずかに遅れ
て、アクチュエータ３２が伸長するように駆動されて、
昇降ロッド３５を介して断熱材２２上の電気ヒータ９が
追従移動され膜体３の裏面に接することとなる。このと
き、電気ヒータ９が所定の温度に加熱されており、膜体
３は被積層材Ｈを冷却しない程度に保温され、あるい
は、被積層材Ｈを実質的に積層成形することができるよ
うな熱を保有している。この電気ヒータ９により膜体３
に伝播される加熱温度は、被積層材Ｈの種類などの条件
によって設定される。

【００３３】被積層材Ｈの積層成形が完了したら、減圧
手段６の駆動を停止して密閉チャンバ５内に大気を導入
すると共に、圧縮空気源４１の管路４５との接続を遮断
するように切替弁４２を操作し真空ポンプ４０を管路４
５に接続するように切替弁４３を操作して、膜体３と下
板２との間の密閉された空間内の空気を吸引し、下定盤
２３に膜体３を密着させて電気ヒータ９などを下降さ
せ、下板２を上板１から離間させるように下降させてチ
ャンバ５を開放し、積層品を取り出す。

【００３４】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、被積層材を加
圧するために膨出された膜体の裏面に加熱手段が接する
ように、加熱手段を膜体の膨出に応じて移動可能とした
ことにより、被積層材を膜体により効率よく適切な温度
に加熱すると共に加圧することができる真空積層装置を
提供することができる。

【００３５】請求項２の発明によれば、被積層材を加圧
するときの膜体の膨出に応じて加熱手段が膜体の裏面に
接するように、加熱手段を移動させることにより、被積
層材を膜体により効率よく適切な温度に加熱すると共に
加圧することができる真空積層方法を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空積層装置の実施の一形態を示す断
面図である。

【図２】図１に示した真空積層装置において、被積層材
をチャンバ内に収容した状態を示す部分拡大図である。

【図３】図２の状態から被積層材を加熱・加圧するとき
に、加熱手段が膜体の膨出に追従して移動した状態を示
す部分拡大図である。

【図４】本発明の真空積層装置の別の実施の形態を示す
断面図である。

【図５】本発明の真空積層装置のさらに別の実施の形態
を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｈ 被積層材 １ 上板 ２ 下板 ３ 膜体 ４ 膜体 ５ チャンバ ６ 減圧手段 ７ 膜体操作手段 ８ 電気ヒータ（加熱手段） ９ 電気ヒータ（加熱手段） １０ 追従移動手段

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被積層材が収容される、少なくとも一面
   が膜体によって形成された密閉チャンバと、 密閉チャンバ内を真空引きする吸引手段と、 膜体の膨出を阻止して真空引きされた密閉チャンバ内の
   被積層材が加圧されないように、または、膜体を膨出さ
   せてその表面により被積層材を加圧させるように、任意
   のタイミングで膜体を操作する膜体操作手段と、 被積層材を加熱する加熱手段と、を備えた真空積層装置
   であって、 被積層材を加圧するために膨出された膜体の裏面に加熱
   手段が接するように、加熱手段を膜体の膨出に応じて移
   動可能としたことを特徴とする真空積層装置。
2. 【請求項２】 被積層材を少なくとも一面が膜体によっ
   て形成されたチャンバに収容して密閉する工程と、 被積層材が加圧されないように膜体の膨出を阻止した状
   態で密閉されたチャンバ内を減圧する工程と、 この減圧を維持しつつ膜体を膨出させてその表面で被積
   層材を加圧すると共に加熱手段により被積層材を加熱す
   る工程と、を含む真空積層方法であって、 被積層材を加圧するときの膜体の膨出に応じて加熱手段
   が膜体の裏面に接するように、加熱手段を移動させるこ
   とを特徴とする真空積層方法。