JP2001019484A - ガラス組成 - Google Patents
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- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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Abstract
を、SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、
Li2Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O
5が0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、ZrO2が
0.1wt%以上で且つ 15wt%以下、ZrO2/
P2O5が1.1以上で且つ 8.5以下、とした。
Description
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率(=ヤング率/比重)によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
に請求項1に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、A
l2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、Li2
Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、ZrO2が
0.1wt%以上で且つ 15wt%以下、ZrO2/
P2O5が1.1以上で且つ 8.5以下、にしたことを
特徴とする。
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、SiO2が65wt%以上で且つ80
wt%以下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%
以下、Li2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、
P2O5が0.2wt%以上で且つ5wt%以下、ZrO
2が0.1wt%以上で且つ15wt%以下、ZrO2/
P2O5が1.1以上で且つ 8.5以下、であることを
特徴としている。
が65wt%より少ないと、溶融性が悪くなり、80w
t%を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が3wt%より少ないと
析出結晶が少なく、強度が得られず、15wt%を越え
ると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
もに、リチウムダイシリケート系結晶の構成成分であ
る。組成比が3wt%より少ないと結晶相であるリチウ
ムダイシリケートの析出が不十分となり、15wt%を
越えると、析出結晶相のリチウムダイシリケートが不安
定となり結晶化を制御しにくくなる。また化学的耐久性
が低下し磁気膜に影響を与える恐れがあり、また研磨−
洗浄工程における安定性が悪くなる。
リケート系結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全
体に結晶を均一に析出させるために重要な成分である。
組成比が0.2wt%より少ないと十分な結晶核が形成
されにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、
研磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得
られなくなる。また難溶融性のZrO2成分に対する融
剤としての効果が十分得られなくなる。5wt%を越え
ると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、また失透性
も強くなることから溶融成形時の生産性が低下する。ま
た化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れが
あると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
スの結晶核剤である。特にクオーツ系結晶をガラス全体
に均一に析出させるために非常に有効である。組成比が
0.1wt%より少ないと十分な結晶核が形成されなく
にくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質に析
出し、微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加
工においてディスク基板として必要な平滑面が得られな
くなる。また化学的耐久性および耐マイグレーションが
低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあるとともに、研
磨−洗浄工程において安定性が悪くなる。また15wt
%を越えると溶融温度が高くなり、また失透しやすくな
り溶融成形が困難となる。また析出結晶相が変化し求め
る特性が得られにくくなる。
ウムダイシリケート系結晶の析出比を決める要素であ
り、1.1より小さいと、クオーツ系結晶が析出しにく
く、求める特性が得られにくくなり、8.5より大きい
と、リチウムダイシリケート系結晶が析出しにくく、求
める特性が得られにくくなる。
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される1次熱処理温度
と1次処理時間により保持し(熱処理)、結晶核生成が
行われる。引き続き、2次熱処理温度と2次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
板は、SiO2が65wt%以上で且つ80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%以下、L
i2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ5wt%以下、ZrO2が0.
1wt%以上で且つ15wt%以下、ZrO2/P2O5
が1.1以上で且つ 8.5以下とするために、非常に
高い比弾性率と高い生産性を得ることが可能となった。
いて説明する。第1〜第4実施例のガラスを構成する材
料組成比(単位:wt%)、条件式の値、溶融温度と溶
融時間、1次熱処理温度と1次処理時間、2次熱処理温
度と2次処理時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均
結晶粒径、比重、ヤング率、比弾性率を表1に示す。同
様に第5〜第8実施例のガラスを表2に示す。同様に第
9〜第12実施例のガラスを表3に示す。同様に第13
〜第16実施例のガラスを表4に示す。同様に第17〜
第20実施例のガラスを表5に示す。同様に第21〜第
24実施例のガラスを表6に示す。
74.6wt%、Al2O3を6.5wt%、Li2Oを
8.5wt%、P2O5を2wt%、ZrO2を3.5w
t%、CaOを2.9wt%、K2Oを1.5wt%、
Sb2O3を0.5wt%、ZrO2/P2O5を1.8の
組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
72.5wt%、Al2O3を7.2wt%、Li2Oを
3.6wt%、P2O5を2wt%、ZrO2を8wt
%、CaOを2.2wt%、K2Oを3wt%、Sb2O
3を1.5wt%、ZrO2/P2O5を4の組成比であ
る。
の製造方法に従って、溶融温度1540度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度580度、1次処理時間5
時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて
処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相
がリチウムダイシリケートで、比弾性率が34.2とい
う特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性
率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
75.5wt%、Al2O3を10.8wt%、Li2O
を8.5wt%、P2O5を2.4wt%、ZrO2を
2.8wt%、ZrO2/P2O5を1.2の組成比であ
る。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.9と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
73.5wt%、Al2O3を8wt%、Li2Oを8.
5wt%、P2O5を3wt%、ZrO2を7wt%、Z
rO2/P2O5を2.3の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が36.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
72wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2Oを1
0.5wt%、P2O5を3wt%、ZrO2を3.5w
t%、CaOを0.5wt%、ZrO2/P2O5を1.
2の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.9と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
75.5wt%、Al2O3を11.2wt%、Li2O
を7.8wt%、P2O5を1.5wt%、ZrO2を2
wt%、CaOを2wt%、ZrO2/P2O5を1.3
の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が38.6と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
67wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2Oを
9.5wt%、P2O5を4wt%、ZrO2を8wt
%、K2Oを1wt%、ZrO2/P2O5を2の組成比で
ある。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.1と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
69wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2Oを9
wt%、P2O5を3.8wt%、ZrO2を5wt%、
K2Oを3wt%、ZrO2/P2O5を1.3の組成比で
ある。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
74wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2Oを8.
7wt%、P2O5を2.5wt%、ZrO2を4.5w
t%、Sb2O3を0.5wt%、ZrO2/P2O5を
1.8の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
を73.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を11.5wt%、P2O5を1.2wt%、ZrO2を
2.5wt%、Sb2O3を1.5wt%、ZrO2/P2
O5を2.1の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
を72.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を9wt%、P2O5を2.2wt%、ZrO2を4.5
wt%、B2O3を2wt%、ZrO2/P2O5を2の組
成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
を72wt%、Al2O3を11.2wt%、Li2Oを
9.8wt%、P2O5を1.5wt%、ZrO2を2.
5wt%、B2O3を3wt%、ZrO2/P2O5を1.
7の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が39.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
を70wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2Oを
9.5wt%、P2O5を3wt%、ZrO2を6.3w
t%、MgOを1wt%、ZrO2/P2O5を2.1の
組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
トで、副析出結晶相がクオーツ、比弾性率が38.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
を74.2wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2O
を8wt%、P2O5を1.5wt%、ZrO2を2.5
wt%、MgOを4wt%、ZrO2/P2O5を1.7
の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が39.1という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
を76.8wt%、Al2O3を9.6wt%、Li2O
を5.7wt%、P2O5を1.2wt%、ZrO2を
4.7wt%、BaOを2wt%、ZrO2/P2O5を
3.9の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1520度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度585度、1次処理時間5
時間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間
にて処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結
晶相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が36.1
という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比
弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
を75.5wt%、Al2O3を9.6wt%、Li2O
を8.4wt%、P2O5を1wt%、ZrO2を2.5
wt%、BaOを3wt%、ZrO2/P2O5を2.5
の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時間、2
次処理温度690度、2次処理時間2.5時間にて処置
した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相がリ
チウムダイシリケートで、比弾性率が36.6という特
性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率を
有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
を74.5wt%、Al2O3を8.8wt%、Li2O
を6.9wt%、P2O5を4wt%、ZrO2を5.5
wt%、ZnOを0.3wt%、ZrO2/P2O5を
1.4の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が36.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
を73.2wt%、Al2O3を8.8wt%、Li2O
を9.8wt%、P2O5を2.5wt%、ZrO2を
3.7wt%、ZnOを2wt%、ZrO2/P2O5を
1.5の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が36.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
を73.2wt%、Al2O3を10.7wt%、Li2
Oを10.1wt%、P2O5を2.5wt%、ZrO2
を3wt%、Nb2O5を0.5wt%、ZrO2/P2O
5を1.2の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が36.6という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
を72wt%、Al2O3を12.9wt%、Li2Oを
10.4wt%、P2O5を0.5wt%、ZrO2を
2.7wt%、Nb2O5を1.5wt%、ZrO2/P2
O5を5.4の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度600度、1次処理時間4.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が36.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
を77wt%、Al2O3を8.5wt%、Li2Oを
8.5wt%、P2O5を2wt%、ZrO2を2.8w
t%、Ta2O5を1.2wt%、ZrO2/P2O5を
1.4の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が36.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
を68.5wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2O
を10.7wt%、P2O5を3wt%、ZrO2を4w
t%、Ta2O5を4wt%、ZrO2/P2O5を0の組
成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1540度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度575度、1次処理時間
5.5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が33.
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
を73.5wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を10wt%、P2O5を2.5wt%、ZrO2を3.
5wt%、La2O3を1wt%、ZrO2/P2O5を
1.4の組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
を67.3wt%、Al2O3を9.7wt%、Li2O
を10wt%、P2O5を4wt%、ZrO2を5wt
%、La2O3を4wt%、ZrO2/P2O5を1.3の
組成比である。
の製造方法に従って、溶融温度1540度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度570度、1次処理時間
5.5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が35.
8という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、ZrO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分の組成範囲を、 SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、 Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、 Li2Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、 P2O5が0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、 ZrO2が0.1wt%以上で且つ 15wt%以下、 ZrO2/P2O5が1.1wt%以上で且つ 8.5w
t%以下、としたことを特徴とするガラス組成。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011225441A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Ivoclar Vivadent Ag | ZrO2成分を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
JP2014515722A (ja) * | 2011-04-20 | 2014-07-03 | ストラウマン ホールディング アーゲー | ガラスセラミック体の調製方法 |
JP2015505786A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
JP2015505787A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8444756B2 (en) | 2003-08-07 | 2013-05-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate materials |
US9220576B2 (en) | 2003-08-07 | 2015-12-29 | Ivoclar Vivadent Ag | Machining of ceramic materials |
ES2489523T3 (es) | 2005-02-08 | 2014-09-02 | Ivoclar Vivadent Ag | Material vitrocerámico de silicato de litio |
TW200724506A (en) * | 2005-10-07 | 2007-07-01 | Ohara Kk | Inorganic composition |
ITFI20060231A1 (it) * | 2006-09-18 | 2008-03-19 | Colorobbia Italia S P S | Processo per la preparazione di lastre in materiale vetro ceramico, lastre cosi' ottenute e loro uso |
DE102007011337A1 (de) * | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Hermsdorfer Institut Für Technische Keramik E.V. | Verblendkeramik für dentale Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid und Verfahren zur Verblendung von dentalen Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid |
DE202009019061U1 (de) | 2009-12-23 | 2016-02-23 | Degudent Gmbh | Lithiummetasilicat-Glaskeramik und deren Verwendung |
US8865606B2 (en) | 2010-04-16 | 2014-10-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Process for the preparation of dental restorations |
KR20140077949A (ko) | 2011-10-14 | 2014-06-24 | 이보클라 비바덴트 아게 | 6가 금속 산화물을 포함하는 리튬 실리케이트 유리 세라믹 및 리튬 실리케이트 유리 |
BR112014008567A2 (pt) | 2011-10-14 | 2017-04-18 | Ivoclar Vivadent Ag | vitrocerâmica e vidro de silicato de lítio com óxido de metal pentavalente |
ES2568249T3 (es) | 2011-10-14 | 2016-04-28 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido metálico divalente |
DK2765976T3 (en) | 2011-10-14 | 2016-05-17 | Ivoclar Vivadent Ag | LITHIUM SILICATE GLASS CERAMICS AND GLASS WITH TETRAVALENT METAL OXIDE |
JP5977442B2 (ja) | 2012-05-04 | 2016-08-24 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 二ケイ酸リチウムアパタイトガラスセラミック |
JP6340362B2 (ja) | 2012-05-11 | 2018-06-06 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 歯科目的のための予備焼結ブランク |
BR112014027613A2 (pt) | 2012-05-11 | 2017-06-27 | Ivoclar Vivadent Ag | moldes pré-sinterizados para finalidades dentais |
EP2765119B1 (de) | 2013-02-12 | 2021-07-28 | Ivoclar Vivadent AG | Rohling für dentale Zwecke |
EP2792649B1 (de) | 2013-04-15 | 2019-11-27 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an Rubidiumoxid |
EP2944619B1 (de) | 2014-05-13 | 2023-08-09 | Ivoclar Vivadent AG | Verfahren zur Herstellung von Lithiumsilikatgläsern und Lithiumsilikat-Glaskeramiken |
TWI678348B (zh) | 2014-10-08 | 2019-12-01 | 美商康寧公司 | 具有葉長石及矽酸鋰結構的高強度玻璃陶瓷 |
EP3050856B1 (de) | 2015-01-30 | 2019-05-29 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Diopsid-Glaskeramik |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4042362A (en) | 1976-05-18 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Production of glass-ceramic articles |
US4304603A (en) | 1980-08-11 | 1981-12-08 | Corning Glass Works | Glass-ceramic compositions designed for radomes |
US4374931A (en) | 1982-01-08 | 1983-02-22 | Corning Glass Works | Photochromic glass suitable for ophthalmic applications |
US4714687A (en) | 1986-10-27 | 1987-12-22 | Corning Glass Works | Glass-ceramics suitable for dielectric substrates |
US5219799A (en) | 1991-10-07 | 1993-06-15 | Corning Incorporated | Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing |
US5391522A (en) | 1993-05-19 | 1995-02-21 | Kabushiki Kaisya Ohara | Glass-ceramic for magnetic disks and method for manufacturing the same |
US5626935A (en) | 1993-05-19 | 1997-05-06 | Kabushiki Kaisya Ohara | Magnetic disk substrate and method for manufacturing the same |
EP0729924B1 (en) | 1993-05-19 | 2000-01-26 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic for a magnetic disk substrate |
JP2959363B2 (ja) | 1993-12-09 | 1999-10-06 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用着色結晶化ガラス |
US5352638A (en) | 1994-02-22 | 1994-10-04 | Corning Incorporated | Nickel aluminosilicate glass-ceramics |
US5489558A (en) | 1994-03-14 | 1996-02-06 | Corning Incorporated | Glasses for flat panel display |
FR2726350B1 (fr) | 1994-10-14 | 1997-01-10 | Eurokera | Plaques pliees en vitroceramique, plaques de cuisson comportant une telle plaque pliee et procede de fabrication d'une plaque pliee en vitroceramique |
US5476821A (en) | 1994-11-01 | 1995-12-19 | Corning Incorporated | High modulus glass-ceramics containing fine grained spinel-type crystals |
US5491116A (en) | 1995-04-03 | 1996-02-13 | Corning Incorporated | Fine-grained glass-ceramics |
EP0736497A1 (en) | 1995-04-07 | 1996-10-09 | Corning Incorporated | Method and apparatus for molding glass |
WO1997001164A1 (fr) * | 1995-06-21 | 1997-01-09 | Ngk Insulators, Ltd. | Substrat de disque magnetique, disque magnetique et procede de production de substrats de disques magnetiques |
JPH10208226A (ja) | 1997-01-28 | 1998-08-07 | Yamamura Glass Co Ltd | 結晶化ガラス磁気ディスク基板 |
US5726108A (en) | 1995-07-24 | 1998-03-10 | Yamamura Glass Co., Ltd. | Glass-ceramic magnetic disk substrate |
US5786286A (en) | 1995-10-31 | 1998-07-28 | Corning Incorporated | Glass ceramic rear panel for emissive display |
US6287663B1 (en) * | 1995-10-31 | 2001-09-11 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
US5910459A (en) | 1995-10-31 | 1999-06-08 | Corning Incorporated | Glass-ceramic containing a stabilized hexacelsian crystal structure |
US5691256A (en) * | 1995-12-28 | 1997-11-25 | Yamamura Glass Co., Ltd. | Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate |
JPH10226532A (ja) | 1995-12-28 | 1998-08-25 | Yamamura Glass Co Ltd | 磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板 |
TW366331B (en) | 1996-02-02 | 1999-08-11 | Ohara Kk | A glass-ceramic substrate for a magnetic disk |
JP3131138B2 (ja) | 1996-02-05 | 2001-01-31 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 |
JPH09314458A (ja) | 1996-05-27 | 1997-12-09 | Yamamura Glass Co Ltd | 結晶化ガラスの精密研磨方法 |
JP3140702B2 (ja) | 1996-12-20 | 2001-03-05 | 日本碍子株式会社 | 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
US6187441B1 (en) * | 1996-12-26 | 2001-02-13 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium and magnetic recording medium having the substrate |
JPH1116142A (ja) | 1997-04-28 | 1999-01-22 | Ohara Inc | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板 |
JP3098220B2 (ja) | 1997-04-28 | 2000-10-16 | 株式会社オハラ | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミック基板 |
JP3311308B2 (ja) * | 1998-03-03 | 2002-08-05 | 株式会社オハラ | 垂直磁気記録媒体用ガラスセラミックス基板 |
JP3996294B2 (ja) | 1998-03-13 | 2007-10-24 | Hoya株式会社 | 結晶化ガラスからなる情報記録媒体用基板及び情報記録媒体 |
US6383645B1 (en) * | 1998-03-23 | 2002-05-07 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for an information storage medium |
FR2777559B1 (fr) | 1998-04-16 | 2000-07-13 | En Nom Collectif Eurokera Soc | Fabrication de plaques vitroceramiques a ouverture(s) au pourtour deforme ; plaques vitroceramiques deformees |
JP2000086289A (ja) * | 1998-09-10 | 2000-03-28 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラスの核形成剤、結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
JP2000143290A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法 |
JP2001097740A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
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