JP2001017899A

JP2001017899A - 薬液膜形成方法および薬液膜形成装置

Info

Publication number: JP2001017899A
Application number: JP11196300A
Authority: JP
Inventors: Kota Hirakawa; 幸太平川
Original assignee: Noritake Co Ltd; Noritake Electronics Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd; Noritake Electronics Ltd
Priority date: 1999-07-09
Filing date: 1999-07-09
Publication date: 2001-01-23

Abstract

(57)【要約】【課題】被膜形成体の表面に薬液膜を形成するに際し
て、その表面への異物の付着を抑制し得る薬液膜形成方
法および薬液膜形成装置を提供する。【解決手段】下降工程において液槽５２内に入れられた
フィルタ５４内にはその外壁を透過してラッカー溶液４
２が入ることから、そのラッカー溶液４２中に異物が含
まれていてもその外壁に濾過されることとなるため、そ
の外壁を透過し得ない一定の大きさ以上の異物はフィル
タ５４内に入り込まない。そのため、浸漬工程において
は、そのフィルタ５４内に入った実質的に異物を含まな
いラッカー溶液４２、すなわち、フィルタ５４の外壁で
隔離されることで異物の侵入が抑制されている領域に前
面板１６が浸されることから、引上工程において前面板
１６をラッカー溶液４２から引き上げることによってそ
の一面１２にラッカー溶液膜が形成される際には、その
一面１２には異物が付着し得ない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、被膜形成体の表面に薬液を塗布
して薬液膜を形成する方法および装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、気密容器の外囲器の一部を構成
する透光性壁部の気密空間に面する略平坦な内面に蛍光
体層およびそれを覆う薄膜金属を備え、その気密空間内
で発生させられた電子でその蛍光体を励起発光させ、そ
の光をその透光性壁部を通して射出することにより画像
を表示する形式の電子線励起発光装置や表示装置が知ら
れている。例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube：陰極線
管) や、ＦＥＤ（FieldEmission Display：電界放出表
示装置）等がそれである。このような発光装置では、ガ
ラス等から構成される透光性壁部の内面に蛍光体層およ
びそれを覆うアルミニウム等から構成される薄膜金属に
よってメタル・バック蛍光面が構成されていることか
ら、蛍光体層で発生させられて気密空間側に向かう光は
その薄膜金属で反射され、外部に向かわせられる。一
方、その薄膜金属は通常、蒸着によって形成されて多孔
質であると共に膜厚が極めて薄いことから、電子線は容
易に透過させられて蛍光体層に到達し蛍光体を励起す
る。そのため、蛍光体層で発生した光が有効に利用され
ることから、高い発光効率が得られるという利点があ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、透光性壁部
の内面に上記のようなメタル・バック蛍光面を形成する
に際しては、その内面に蛍光体ペーストを塗布して焼成
することにより蛍光体層を例えば 20(μm)程度の所定厚
みに形成し、その上にアルミニウム等の金属を100 〜20
0(nm) 程度の厚さで蒸着する。このとき、焼成して形成
された蛍光体層の表面には大きな凹凸が存在することか
ら、上記のように極めて薄い金属膜を直接その上に一様
な厚さで滑らかに形成することは困難である。そのた
め、一般には以下のような手順で蒸着が為される。先
ず、蛍光体層が設けられている透光性壁部の内面上の全
面にSiイオンや Kイオン等を含むアルカリ性水溶液をス
ピン・コータ等で塗布して略均一に濡らすウェッティン
グ処理を施す。次いで、その内面が乾かないうちに、例
えばアクリル樹脂等を含むラッカー溶液等の樹脂液をそ
の内面上に塗布して乾燥するフィルミング処理を施すこ
とにより、その内面上に例えば1(μm)程度の略一様な厚
さを有して滑らかな表面を備えた樹脂膜を形成する。そ
の後、所定パターンでマスクしてアルミニウムを蒸着
し、更に、焼成処理を施して樹脂膜を分解除去すること
により、上記のように極めて薄い金属膜を一様な厚さで
設けることができる。

【０００４】上記の各工程のうち、フィルミング処理
は、従来、例えばウェッティング処理と同様にスピン・
コータを用いて実施されていたが、このような方法で
は、塗布面積が大きくなるほど樹脂膜に厚みむらが生じ
易くなる等の不都合がある。そのため、近年では、例え
ば5(cp) 程度の粘度に調製した樹脂液中に透光性壁部を
浸して引き上げ、余分な樹脂液をたらし落とすディップ
・コート（浸漬被覆）法で、樹脂膜を形成することが提
案されている。しかしながら、ディップ・コータでは、
樹脂液を蓄えた液槽が複数の透光性壁部に順次樹脂液を
塗布する間は定常的にその上面を開放させられているこ
とから、空気中に存在する異物（ごみ）が液槽内に入る
ことは避けられない。そのため、図１４に示すように、
樹脂液１１０の液面１１２に浮遊する異物１１４が透光
性壁部（基板１１６）の引き上げ時に同時に引き上げら
れることから、その内面（表面１１８）に異物１１４が
付着するという問題があった。

【０００５】なお、図１５に模式的に示すように、通
常、ディップ・コータ１２０には、樹脂液１１０中の異
物１１４を除去する目的でフィルタ１２２を通る経路で
樹脂液１１０を循環させる濾過装置１２４が液槽１２６
に併設されている。樹脂液１１０は、上部の吸込口１２
８から吸い込まれてフィルタ１２２を通る過程で異物１
１４を除去され、ポンプ１３０によって排出口１３２か
ら液槽１２６内に戻される。しかしながら、このような
循環式の濾過装置１２４では、液面１１２に浮遊する異
物１１４は吸込口１２８から吸い込まれ難い。そのた
め、ディップ・コート法においては液面１１２に浮遊す
る異物１１４が表面１１８に付着し易く最も問題となる
にも拘わらず、上記のような濾過装置１２４ではこれを
除去することができないのである。このような問題は、
上述したようなメタル・バック蛍光面の製造過程におけ
るフィルミングの場合だけでなく、ディップ・コート法
によって樹脂液や無機材料を含む液等の薬液を被膜形成
面に塗布する場合にも同様に生じ得る。

【０００６】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであって、その目的は、被膜形成体の表面に薬液
膜を形成するに際して、その表面への異物の付着を抑制
し得る薬液膜形成方法および薬液膜形成装置を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための第１の手段】斯かる目的を達成
するため、第１発明の薬液膜形成方法の要旨とするとこ
ろは、被膜形成体の表面に所定の薬液から成る膜を形成
する方法であって、(a) 前記薬液が透過可能な外壁を備
えた有底容器を、その薬液がその外壁を透過する経路だ
けを通ってその外壁で濾過されつつその内側に入るよう
にその薬液を蓄えた薬液槽内に入れる工程と、(b) 前記
有底容器内に入った前記薬液に前記被膜形成体を浸す浸
漬工程と、(c) 前記被膜形成体を前記薬液から引き上げ
ることにより、その引上過程でその被膜形成体の表面に
その薬液から成る膜を形成する引上工程とを、含むこと
にある。

【０００８】

【第１発明の効果】このようにすれば、容器を薬液槽内
に入れる工程において薬液槽内に入れられた有底容器内
にはその外壁を透過して濾過されつつ薬液が入ることか
ら、その薬液中に異物が含まれていても、その外壁を透
過し得ない一定の大きさ以上の異物は容器内に入り込ま
ない。そのため、浸漬工程においては、その容器内に入
った実質的に異物を含まない薬液、すなわち、有底容器
の外壁で隔離されることで異物の侵入が抑制されている
領域に被膜形成体が浸されることから、引上工程におい
て被膜形成体を薬液から引き上げる際にその表面に異物
が付着し得ない。したがって、被膜形成体の表面に薬液
膜を形成するに際して、その表面への異物の付着を好適
に抑制できる。

【０００９】

【第１発明の他の態様】ここで、好適には、前記の容器
を薬液槽内に入れる工程は、外壁が所定メッシュの網状
体で構成された有底容器を前記薬液槽内に入れるもので
ある。このようにすれば、網状体の目開きを適宜設定す
ることにより、その開口よりも大きい異物を好適に除去
できる。

【００１０】また、好適には、前記の薬液膜形成方法
は、前記表面における許容異物量に応じて予め定められ
た所定周期で前記有底容器を取り替える容器取替工程を
含むものである。このようにすれば、有底容器が一定の
周期で取り替えられるため、薬液槽内に入れられている
間にその有底容器内に混入した異物が被膜形成体の表面
に付着することが一層抑制される。すなわち、有底容器
内に入る薬液はその外壁によって濾過されるが、異物の
透過を完全に防止することは困難である。また、有底容
器の上端部が開放されている場合は定常的に、そうでな
い場合には被膜形成体の入れ替え時等に断続的に、有底
容器内には空気中の異物が混入する。したがって、容器
内の異物量は次第に増加することとなるが、有底容器を
取り替えて、再び薬液が外壁を透過する経路だけを通っ
て容器内に入るように液槽内に入れることにより、その
容器内の薬液は異物量が十分に少ない初期状態に戻る。
そのため、所定周期で容器を取り替えることで、被膜形
成体が浸漬される容器内の異物量を少なくできるため、
容易にその被膜形成体の表面に付着する異物量を許容量
以下に維持することができる。なお、上記の「有底容器
の取り替え」は、使用中の容器に替えて清浄な容器を薬
液槽内に入れることを意味し、別の容器に取り替えるこ
とだけでなく、取り出した容器を洗浄して再度薬液槽内
に入れることをも含むものである。

【００１１】因みに、薬液槽内に被膜形成体を直接浸漬
する場合には、前述したように循環式の濾過装置等を用
いても液面に浮遊する異物を十分に除去できない。その
ため、このような膜形成方法で薬液中に含まれる異物の
量を被膜形成体への付着量が許容量以下となる一定値以
下に保とうとすると、薬液の入れ替えや薬液槽を空にし
て清掃する等の大掛かりな作業が必要となる。

【００１２】また、好適には、前記の薬液膜形成方法
は、前記容器取替工程において前記薬液槽から取り出さ
れた前記有底容器を洗浄してその内部に混入した異物を
除去する容器洗浄工程を更に含むものである。このよう
にすれば、容器の内面には薬液内に混入していた異物が
その容器を取り替えるために薬液槽から取り出す際に付
着するが、容器洗浄工程において洗浄することによって
容器内に混入した異物が除去されるため、その容器を被
膜形成体への薬液膜形成に繰り返し用いることができ
る。

【００１３】

【課題を解決するための第２の手段】また、前記目的を
達成するための第２発明の薬液膜形成装置の要旨とする
ところは、被膜形成体の表面に所定の薬液から成る膜を
形成するための薬液膜形成装置であって、(a) 前記薬液
を蓄える薬液槽と、(b) 前記薬液が透過可能な外壁を備
えた有底容器を、前記薬液槽内に蓄えられたその薬液が
その外壁を透過する経路だけを通ってその外壁で濾過さ
れつつその内側に入る槽内位置とその薬液槽外の位置と
の間で移動させる有底容器移動装置と、(c) 前記被膜形
成体を前記有底容器内に入った前記薬液に浸される浸漬
位置と前記薬液槽外の位置との間で移動させる被膜形成
体移動装置とを、含むことにある。

【００１４】

【第２発明の効果】このようにすれば、薬液の透過可能
な有底容器は有底容器移動装置によって薬液槽内の位置
と薬液槽外の位置との間で移動させられ、その槽内位置
においては薬液槽内に蓄えられた薬液が外壁を透過して
濾過されつつその内側に入るため、被膜形成体移動装置
によって浸漬位置と槽外位置との間で移動させられる被
膜形成体は、その浸漬位置において有底容器内に外壁を
透過して入った薬液に浸される。そのため、薬液中に異
物が含まれていても薬液はその外壁に濾過されることに
なるため、その外壁を透過し得ない一定の大きさ以上の
異物は容器内に入り込まない。したがって、被膜形成体
が浸される薬液には実質的に異物が含まれないことか
ら、その表面に薬液膜を形成するに際して、その表面に
異物が付着することが好適に抑制される。

【００１５】

【第２発明の他の態様】ここで、前記の薬液膜形成装置
は、好適には、(b-2) 前記有底容器移動装置が底面の反
対側に位置する一面が開放された筒状容器を前記有底容
器として移動させるものであり、(d) その有底容器を、
前記一面が移動方向における後端に位置する向きで所定
の洗浄液内で移動させ且つその向きでその洗浄液内から
取り出すことによって洗浄する洗浄装置を更に含むもの
である。このようにすれば、被膜形成体の表面に薬液膜
を形成している間にその内部に異物が入った有底容器
は、開放された一面が後端に位置する向きで洗浄液内で
移動させられる間に、外壁を通って容器内に入る洗浄液
の流れによってその一面側からその異物が排出させら
れ、その一面が後端に位置する向きのまま洗浄液から取
り出されることにより、容器内に入っていた異物が好適
に除去される。そのため、洗浄後の有底容器を有底容器
移動装置に戻して繰り返し用いることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図面を
参照して詳細に説明する。

【００１７】図１は、本発明の薬液膜形成方法が前面板
の製造工程に適用されたＦＥＤ１０の構成を一部を切り
欠いて示す斜視図である。図において、ＦＥＤ１０は、
それぞれの略平坦な一面１２，１４が向かいあうように
互いに平行に配置され且つ同様な寸法・形状の前面板１
６および背面板１８と、それら前面板１６と背面板１８
との間に設けられてそれらを所定間隔を以て隔てて相互
に接合することにより、気密空間２０を形成するスペー
サ２２とを備えている。

【００１８】上記の前面板１６および背面板１８は、例
えばそれぞれ1 〜2(mm) 程度の均一な厚さを備えて透光
性を有する軟化点が600(℃) 程度のソーダ・ライム・ガ
ラスから成るものである。また、前記のスペーサ２２
は、例えば、前面板１６および背面板１８と同様な外形
寸法を有する矩形枠状乃至格子状を成すものである。こ
のスペーサ２２は、例えば４２６合金から成る0.3(mm)
程度の一様な厚さの矩形枠状乃至格子状の素材の表面
に、600(℃) 程度の軟化点の硼珪酸ガラスから成る図示
しない絶縁ガラス層が 10(μm)程度の厚さに電着等によ
って設けられて構成されている。このため、気密空間２
０の高さは例えば0.3(mm) 程度である。

【００１９】また、前面板１６の一面１２には、例えば
ＩＴＯ（酸化インジウム錫：IndiumTin Oxide）等から
成るストライプ状の複数本の透明な陽極２４が、一方向
に沿って並んで設けられている。それら複数本の陽極２
４の各々の表面には、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の
３つの発光色の何れかに対応する蛍光体層２６が、例え
ば、その一方向と直交する方向にＲ，Ｇ，Ｂの順に繰り
返し並ぶように設けられている。上記の陽極２４は、例
えばスパッタ等の薄膜法によって例えば1(μm)程度の厚
さに形成されたものであり、シート抵抗値が 10(Ω／
□) 以下程度と比較的高い導電性を備えている。また、
上記の蛍光体層２６は、例えば、ZnO:Zn，ZnS:Ag+In₂O₃
等の電子線によって可視光を発する材料から構成される
ものであって、例えば厚膜スクリーン印刷法等によって
10〜 20(μm)程度の厚さで設けられることにより、面積
抵抗率が500(Ω/cm²) 以下程度の導電性を備えている。

【００２０】また、図２に前面板１６の断面を拡大して
示すように、一面１２のうちの蛍光体層２６が設けられ
ていない残部には、例えば黒色顔料を含むガラスから成
るブラック・マスク２８が10〜 20(μm)程度の厚さで設
けられており、それら蛍光体層２６の表面およびブラッ
ク・マスク２８の表面は、一面１２の全面にそれら蛍光
体層２６およびブラック・マスク２８の表面形状に倣っ
て設けられた 100〜 200(nm)程度の厚さのアルミニウム
薄膜３０によって覆われている。上記のブラック・マス
ク２８は例えば厚膜スクリーン印刷法等によって設けら
れたものであり、アルミニウム薄膜３０は例えば蒸着等
によって滑らかな表面を有して設けられたものである。
したがって、本実施例においては、前面板１６が透光性
壁部に、一面１２が略平坦なその内面にそれぞれ相当
し、その一面１２には蛍光体層２６およびアルミニウム
薄膜３０から成るメタル・バック蛍光面が形成されてい
る。このため、ＦＥＤ１０は、背面板１８側からは蛍光
体層２６の発光が観察され得ず、前面板１６側から蛍光
体層２６を透過した光を観察する所謂透過型の表示装置
に構成されている。

【００２１】図１に戻って、前記の背面板１８の一面１
４には、複数本のカソード電極３２およびゲート電極３
４が互いに直交し且つ二酸化珪素（SiO₂）等から成る図
示しない絶縁膜によって絶縁された状態で設けられてお
り、それらの交差部分において、ゲート電極３４には複
数個の電子通過孔３６が設けられる一方、カソード電極
３２上にはその電子通過孔３６に対応する部分に複数個
のエミッタ（冷陰極）３８が設けられている。

【００２２】上記のカソード電極３２は例えば、金（A
u）等の導電性の高い金属から成るものであり、ゲート
電極３４はクロム（Cr）等から成るものである。また、
エミッタ３８は、例えば、モリブデン（Mo）等から成る
スピント(spindt)型と呼ばれる円錐状の冷陰極であり、
複数個が何れも1(μm)程度の一様な高さに形成されてい
る。これらは何れも陽極２４と同様にスパッタ等の薄膜
法によって設けられている。なお、エミッタ３８は、表
面伝導型、ＭＩＭ型、或いはＭＩＳ型等に構成されたも
のであってもよい。また、上記の電子通過孔３６はそれ
ぞれが直径 1〜2(μm)程度の大きさの略円形を成すもの
であり、例えばイオン・エッチング等でゲート電極３４
を部分的に除去することによって形成されている。な
お、上述した図示しない絶縁膜は、エミッタ３８が形成
されている部分を除いたカソード電極３２の略全面を覆
って設けられており、ゲート電極３４はその絶縁膜上に
形成されている。また、ゲート電極３４はエミッタ３８
の先端よりも前面板１６側に位置させられており、ゲー
ト電極３４と前面板１６上に設けられた蛍光体層２６の
表面との距離は例えば0.2 〜1(mm) 程度である。なお、
図においては、カソード電極３２およびゲート電極３４
の交差部分において、交点毎に４つの電子通過孔３６お
よびエミッタ３８が設けられているように描かれている
が、通常は、更に多数の例えば2000個程度の電子通過孔
３６およびエミッタ３８が交点毎に設けられている。

【００２３】このため、カソード電極３２およびゲート
電極３４にそれぞれ所定の信号電圧および走査電圧が印
加されると、それらの間の大きな電圧勾配に基づいて生
じる電界放出（Field Emission）によってエミッタ３８
から電子が放出される。この電子は、前面板１６上に設
けられた陽極２４に所定の正電圧が印加されることによ
り、電子通過孔３６を通ってその陽極２４に向かって飛
ぶ。これにより、その陽極２４上に設けられている前記
蛍光体層２６に電子が衝突させられ、蛍光体層２６が発
光させられる。このとき、蛍光体層２６はアルミニウム
薄膜３０で覆われているが、そのアルミニウム薄膜３０
は蒸着形成された薄膜であって極めて薄く且つ多孔質で
ある。そのため、エミッタ３８から放出され且つ陽極２
４に引き寄せられた電子は、そのアルミニウム薄膜３０
を透過して蛍光体層２６に入射して蛍光体に衝突する。
一方、蛍光体層２６で発生した光は、前面板１６側だけ
でなく背面板１８側にも向かうが、その背面板１８側に
向かう光はアルミニウム薄膜３０で前面板１６側に反射
される。したがって、発生した光の殆どが前面板１６を
透過して射出されることとなるため、実質的な発光効率
が高められる。このＦＥＤ１０を全点灯させて発光状態
を観察したところ、アルミニウム薄膜３０のむらは見ら
れず、また、むらに起因する輝度むらも見られなかっ
た。なお、本実施例においては、カソード電極３２とゲ
ート電極３４の交点毎に一画素が構成されている。ま
た、ＦＥＤ１０には、陽極２４、カソード３２、ゲート
３４等を接続するための電気配線や、後述の製造工程で
説明するように気密容器を形成した後に内部から排気す
るための排気穴等が備えられているが、図においてはこ
れらを省略している。

【００２４】上記のＦＥＤ１０は、例えば、図３に示さ
れる工程に従って製造される。図において、工程ＳＲ１
乃至ＳＲ３は背面板１８の処理工程であり、工程ＳＦ１
乃至ＳＦ４は前面板１６の処理工程である。背面板１８
の処理工程においては、先ず、カソード形成工程ＳＲ１
において、背面板１８の一面１４上に例えばスパッタ法
等で金等から成る導電膜を成膜してパターニングするこ
とによりカソード電極３２を形成する。続くゲート形成
工程ＳＲ２においては、カソード電極３２上に絶縁膜を
形成した後、その絶縁膜上に同様にスパッタ法等によっ
てクロム等から成る導電膜を成膜し、パターニングする
と共にエッチングやイオン・エッチング等によってその
導電膜を部分的に除去して、前記電子通過孔３６を備え
たゲート電極３４を形成する。なお、ゲート電極のパタ
ーニングは後述のエミッタ３８を形成した後に行っても
よい。そして、エミッタ形成工程ＳＲ３において、上記
電子通過孔３６が形成された位置においてカソード電極
３２上の絶縁膜を部分的に除去した後、スパッタ法等で
モリブデン膜を成膜する。これにより、絶縁膜が除去さ
れた部分においてはカソード電極３２上にモリブデン膜
が成膜されるが、その形状は自然に円錐状を成すものと
なるため、前記のような形状にエミッタ３８が形成され
るのである。ゲート電極３４上に形成された不要のモリ
ブデン膜はこの後で除去される。

【００２５】一方、前面板１６の処理工程においては、
先ず、陽極形成工程ＳＦ１において、一面１２にＩＴＯ
から成る陽極２４をスパッタ等の薄膜法によって形成
し、次いで、蛍光体層形成工程ＳＦ２において、ＲＧＢ
３色に対応する３種の蛍光体を色毎に定められた所定位
置に厚膜スクリーン印刷法等によって塗布して蛍光体層
２６を設ける。続くブラック・マスク形成工程ＳＦ３に
おいては、蛍光体層２６が設けられた位置を除く一面１
２の残部に、例えば厚膜スクリーン印刷法等を用いて黒
色顔料を含む絶縁ガラス・ペーストを印刷して焼成処理
を施すことにより、ブラック・マスク２８を形成する。
図４(a) 〜(f) は、この前面板１６の処置工程の各段階
における断面の要部を陽極２４等を省略して示す図であ
って、同図(a) は、この状態或いはその焼成前の状態を
示している。その後、アルミニウム薄膜形成工程ＳＦ４
において、それら蛍光体層２６およびブラック・マスク
２８の表面を覆うようにアルミニウム薄膜３０を形成す
る。本実施例においては、このアルミニウム薄膜形成工
程ＳＦ４が金属薄膜形成工程に対応する。

【００２６】上記のアルミニウム薄膜形成工程ＳＦ４
は、例えば、図５に示される工程図に従って以下のよう
にして実施される。図において、先ず、ウェッティング
工程ＳＦ４１においては、例えば、0.1(％) 程度の濃度
で珪素やカリウム等の陽イオンを含む水ガラス等のアル
カリ性水溶液４０を一面１２上の全面に塗布し、スピン
・コータ等でその一面１２に垂直な回転軸回りに回転さ
せて濡れを均一化させる。図４(b) は、この状態を示し
ている。このとき、回転数は例えば500(r.p.m.)程度、
回転時間は 10(秒) 程度である。次いで、フィルミング
工程ＳＦ４２では、例えば粘度が5(cp) 程度で樹脂成分
としてアクリル樹脂を、溶剤成分としてトルエンを含む
ラッカー溶液４２を、一面１２上がアルカリ性水溶液４
０で濡れているうちに、その全面に塗布する。図４(c)
は、この状態を示している。

【００２７】上記のラッカー溶液４２の塗布は、例え
ば、図６、７に示されるディップ・コータ・ユニット４
４を用いて実施される。図６は、ディップ・コータ４６
と洗浄装置４８とが併設されて構成されるユニット４４
の全体を一部を切り欠いて示す正面図であり、図７は、
そのディップ・コータ４６の右側面を一部を切り欠いて
示す図である。前面板１６にラッカー溶液４２を塗布す
るためのディップ・コータ４６は、内部空間への塵埃の
侵入を防止するための透明の防塵カバー５０で全体が取
り囲まれたものであって、その内側には、ラッカー溶液
４２を蓄えた液槽５２と、その液槽５２内に前面板１６
およびフィルタ５４を入れ或いはそこから引き上げるた
めの上下移動装置５６とが備えられている。液槽５２
は、温度調節ユニット５８上に載せられており、それに
蓄えられたラッカー溶液４２が一定温度に保たれるよう
になっている。本実施例においては、液槽５２が薬液槽
に相当する。

【００２８】上記の上下移動装置５６は、鉛直方向に伸
びるように立設されて支柱を兼ねる一対のガイド・レー
ル６０と、それらの間の中央位置に同様に鉛直方向に沿
って伸びるように立設されたねじ軸６２とを備え、その
下端部近傍に液槽５２に隣接して配置された駆動モータ
６３でそのねじ軸６２を回動させることによって、一対
の支持板６４、６６をガイド・レール６０で案内しつつ
鉛直方向に移動させるものである。上側に位置する一方
の支持板６４には、液槽５２の上方に向かって水平方向
に伸び且つその先端部が下方に向かって伸びる鉤型のホ
ルダ支持部材６８が取り付けられており、そのホルダ支
持部材６８の下端には前面板１６を保持するための基板
ホルダ７０が備えられている。基板ホルダ７０は、上端
および下端に水平方向に沿って互いに平行に伸びる溝７
２、７４をそれぞれ有するものであり、前面板１６は、
その面方向が鉛直方向に沿った向きで上下端が溝７２、
７４にそれぞれ嵌め入れられた状態で保持される。基板
ホルダ７０は、支持板６４が下端位置にあるときに液槽
５２内のラッカー溶液４２内にその全体が浸漬される
が、支持板６４が上端位置にあるときにはラッカー溶液
４２からその全体が出ている。そのため、基板ホルダ７
０に保持された前面板１６は、その基板ホルダ７０が液
槽５２内にあるときに、そのラッカー溶液４２にその全
体が浸漬されることとなる。本実施例においては、前面
板１６が被膜形成体に相当する。

【００２９】一方、下側に位置する支持板６６には、液
槽５２の上方に向かって水平方向に伸びるフィルタ支持
部材７６が取り付けられている。フィルタ支持部材７６
は、例えば、液槽５２の上方に位置させられた部分の水
平面内における形状が矩形枠状を成すものであり、前記
のフィルタ５４はその矩形枠状部分に吊り下げられてい
る。フィルタ５４は、例えば図８に一部を切り欠いた斜
視図によってその全体形状を示すように、例えば線径 2
3(μm)程度の金属線を縦糸および横糸として＃３２５程
度に織ったステンレス製メッシュに折曲加工および接合
加工を施すことにより、上端が開放された箱型容器すな
わち有底の筒状容器に構成されたものである。フィルタ
５４は、支持板６６の上端位置においては液槽５２内の
ラッカー溶液４２から完全に出た位置にあるが、その下
端位置においては上端部が僅かにラッカー溶液４２の液
面４２ａよりも上側に突き出して位置し、その開口から
ラッカー溶液４２が内側に入り込むことのないように保
たれる。本実施例においては、フィルタ５４が有底容器
に相当する。

【００３０】また、ねじ軸６２および支持板６４、６６
はボールねじを構成するが、本実施例においては、例え
ば上側に位置する支持板６４だけがそのねじ軸６２に螺
合されている。下側に位置する支持板６６はねじ軸６２
に螺合されるための雌ねじ穴をを有しておらず、そのね
じ軸６２に軸心方向の相対移動可能に嵌め合わされてい
るだけである。支持板６４、６６間には、例えば図９に
例示されるような係合鉤７８および係合突起８０を有す
る係合装置（図６、７では省略）が適宜の位置に備えら
れている。係合鉤７８は、紙面に垂直な軸心回りに回動
可能に支持板６４に取り付けられており、例えば電磁石
８２によって図に示される位置とそれよりも左回りに回
動させられた位置との間で回動させられる。そのため、
その係合鉤７８の先端が係合突起８０に引っ掛けられた
図に示される係合状態においては、ねじ軸６２が回動さ
せられると支持板６６が支持板６４に伴って上下に移動
させられるが、係合鉤７８が係合突起８０から外れた非
係合状態においては、支持板６６はねじ軸６２が回動さ
せられても下端位置に留まる。したがって、電磁石８２
のオン−オフ作動だけで、基板ホルダ７０がフィルタ５
４内に位置させられたまま一体的に移動させられる状態
と、基板ホルダ７０がフィルタ５４に対して鉛直方向に
相対移動させられる状態とが容易に切り換えられる。本
実施例においては、モータ６３、ねじ軸６２、支持板６
４、６６、およびフィルタ支持部材７６によってフィル
タ移動装置（有底容器移動装置）が構成されており、モ
ータ６３、ねじ軸６２、支持板６４、ホルダ支持部材６
８、および基板ホルダ７０によって前面板移動装置（被
膜形成体移動装置）が構成されている。

【００３１】なお、図６、７において、８４は防塵シャ
ッタであり、後述する前面板（基板）１６の基板ホルダ
７０への入替え時やフィルタ５４の交換時等に、シャッ
タ・シリンダ８６の作動により液槽５２の開口を塞ぐ位
置に移動させられる。前者の前面板１６の入替え時には
フィルタ５４は液槽５２内にあり、防塵シャッタ８４
は、そのフィルタ５４の上方で作動させられる。なお、
図６、７は、支持板６４、６６を高さ方向における中間
位置に留めた状態で示しており、支持板６６の下端位置
においてはフィルタ支持部材７６が防塵シャッタ８４の
下側に位置する。また、基板ホルダ７０およびフィルタ
５４を上下移動させないディップ・コータ４６の休止時
においては、異物混入を防ぐために、別途用意された蓋
が液槽５２の開口部に載せられる。

【００３２】また、図６において、前記の洗浄装置４８
は、ディップ・コータ４６によって液槽５２内のラッカ
ー溶液４２内に出し入れされる前記のフィルタ５４を洗
浄するためのものである。洗浄装置４８は、水や溶剤等
の洗浄液が蓄えられた洗浄槽９０と、フィルタ５４の開
口端とは反対側の底部を掴んで紙面に垂直な回転軸９２
回りに回転する洗浄アーム９４と、洗浄済みのフィルタ
５４を保管するための保管棚９６と、洗浄槽９０からフ
ィルタ５４を引き上げて保管棚９６に移動するためのフ
ィルタ引上装置９８とを備えている。フィルタ引上装置
９８の下端にはフィルタ５４を掴むためのチャック１０
０が備えられており、洗浄アーム９４の保持するフィル
タ５４はチャック１００で掴まれて保管棚９６に移動さ
せられる。

【００３３】以上のように構成されたディップ・コータ
・ユニット４４を用いたラッカー溶液４２の塗布は、例
えば図１０に示される各工程に従って行われる。以下、
その工程の各段階における液槽５２、フィルタ５４およ
び基板ホルダ７０等の位置関係を模式的に示す図１１を
参照して塗布方法を説明する。先ず、図１０の下降工程
ＳＦ４２１においては、支持板６４、６６の係合状態で
ねじ軸６２を回転させることにより、基板ホルダ７０を
フィルタ５４と共に液槽５２に向かって下降させる。こ
のとき、基板ホルダ７０はフィルタ５４内にその全体が
入れられている。図１１(a) は、この下降中の状態を示
しており、(b) は、下降終了時点を示している。

【００３４】上記の下降終了時においては、基板ホルダ
７０はその全体がラッカー溶液４２に浸漬されている
が、フィルタ５４はその上端部が液面４２ａよりも上に
露出させられている。下降過程においてフィルタ５４の
下端がラッカー溶液４２内に入ると、直ちにメッシュで
構成されたフィルタ５４の底部および側壁を通ってラッ
カー溶液４２がそれによって濾過されつつその内側に入
り込むが、下降終了時においてもフィルタ５４の上端は
ラッカー溶液４２から露出しているため、箱型のフィル
タ５４の内側にはそれによって濾過されたラッカー溶液
４２だけが入り、開口端から直にラッカー溶液４２が入
ることはない。そのため、たとえ液槽５２内にごみ等の
異物が混入していても、フィルタ５４内には入り込まな
いことから、その内側には異物を含まない清浄なラッカ
ー溶液４２だけの領域が形成される。フィルタ５４の目
開きは、このように異物が内部に入り込まず且つラッカ
ー溶液４２は内部に入るような大きさに設定されてい
る。本実施例においては、この下降工程ＳＦ４２１が容
器を薬液槽内に入れる工程に対応し、フィルタ５４の底
部および側壁が外壁に相当する。

【００３５】次いで、ホルダ上昇工程ＳＦ４２２におい
ては、支持板６４、６６の係合を解除してねじ軸６２を
下降工程ＳＦ４２１における方向とは反対方向に回転さ
せる。これにより、基板ホルダ７０は上昇させられてラ
ッカー溶液４２内から引き上げられるが、支持板６４と
の係合が解除された支持板６６は下端位置に留まるた
め、フィルタ５４はラッカー溶液４２内に入ったままで
ある。図１１(c) は、基板ホルダ７０の上昇中の状態を
示している。続く基板保持工程ＳＦ４２３においては、
支持板６４が上端位置まで上昇させられることによって
液槽５２外に位置させられた基板ホルダ７０に、ウェッ
ティング処理を施した前面板１６をその側方（図におけ
る紙面に垂直な方向）から差し入れて保持させる。図１
１(d) は、この状態を示している。なお、このとき、前
面板１６の抜き差しに伴って、その下方に位置するフィ
ルタ５４内に異物が入り得る場合には、前記の防塵シャ
ッタ８４を閉めた上で基板保持工程ＳＦ４２３を実施す
れば良い。基板ホルダ７０およびフィルタ５４のラッカ
ー溶液４２への浸漬および引上げは、例えばこれらを比
較的遅い10(mm/s)程度の一定速度で下降或いは上昇させ
て行われるため、液面４２ａの揺れは殆ど生じないが、
このように前面板１６を保持させている間に浸漬および
引上げに伴うラッカー溶液４２の動きが緩和され、その
液面４２ａは一層穏やかになる。

【００３６】そして、浸漬工程ＳＦ４２４においては、
基板ホルダ７０を図１１(d) に矢印で示されるようにフ
ィルタ５４の内側位置で下降させて液槽５２内に入れ
る。すなわち、フィルタ５４に濾過されることにより異
物を除去された清浄なラッカー溶液４２内に基板ホルダ
７０を浸漬する。このとき、基板ホルダ７０の下降速度
は例えば10(mm/s)程度の比較的遅い一定速度であり、そ
の面方向が鉛直方向に略沿った向きで滑らかにラッカー
溶液４２内に入れられる。基板ホルダ７０は、支持板６
４が支持板６６に当接させられる下端位置まで下降させ
られ、これにより、それに保持された前面板１６が完全
にラッカー溶液４２内に浸漬されることとなる。図１１
(e) は、この状態を示している。このとき、前面板１６
が一定速度で液面４２ａに対して垂直な向きを保ったま
まラッカー溶液４２内に入れられることから、液面４２
ａの揺れは殆ど生じない。引上工程ＳＦ４２５において
は、下降が終了してから液面４２ａの僅かな揺れが静ま
るまで待機した後、基板ホルダ７０を例えば10(mm/s)程
度の一定速度で上昇させる。この引上げの際にも、上昇
速度が比較的低速且つ一定速度であるため、液面４２ａ
は振動せず、略平坦に保たれたままである。図１１(f)
は、この引上中の状態を示している。

【００３７】これにより、前面板１６の表面（一面１２
およびその裏面）にはラッカー溶液４２が付着させられ
るが、液槽５２内のラッカー溶液４２内から引き上げら
れる過程で過剰分が液槽５２内に滴り落ちて除去される
ため、その粘度によって定められる薄い膜厚のラッカー
溶液膜が表面に形成される。このとき、前面板１６が浸
漬されたフィルタ５４の内側の領域ではラッカー溶液４
２に異物が含まれていないことから、その引上過程にお
いても前面板１６の表面には異物が何ら付着しない。し
かも、前面板１６の引き上げ時には液面４２ａが揺れず
略平坦に保たれることから、その揺れに起因するラッカ
ー溶液４２の付着むらは生じない。更に、フィルミング
処理はアルカリ性水溶液４０によって一面１２が濡れて
いる状態で為されることから、その一面１２ではそのア
ルカリ性水溶液４０の存在によってラッカー溶液４２の
付着厚みが一様になる。したがって、前面板１６の一面
１２には、異物を含まず且つ一様な厚みの滑らかなラッ
カー溶液膜が形成されることとなる。なお、ラッカー溶
液４２は、前面板１６の裏面にも付着し、その裏面には
アルカリ水溶液４０が塗布されていないことから付着厚
みにむらが生じるが、この裏面にはアルミニウム薄膜３
０等を何ら膜形成しないことから、そのことは何ら問題
とならない。

【００３８】上記のようにして基板ホルダ７０を液槽５
２内から引き上げた後、基板取り外し工程ＳＦ４２６で
は、前面板１６を基板ホルダ７０から取り外し、乾燥工
程ＳＦ４２８において、例えば室温で自然乾燥させる。
これにより、ラッカー溶液４２中の溶剤成分（トルエン
等）が揮発させられて厚さ5(μm)程度のアクリル樹脂等
から成る樹脂膜１００が形成されると同時にアルカリ性
水溶液４０の液分（水）が除去され、実質的に蛍光体層
２６およびブラック・マスク２８上に直接的にその樹脂
膜１００が設けられる。図４(d) は、この状態を示して
いる。前述したように前面板１６は異物を含まないラッ
カー溶液４２中に浸されることから、この樹脂膜１００
にはごみや異物は付着していない。なお、上記の乾燥過
程で、アルカリ性水溶液４０に含まれていた微量の陽イ
オンにより、蛍光体層２６中の蛍光体粒子相互の固着強
度が高められる。

【００３９】図５に戻って、アルミニウム蒸着工程ＳＦ
４３では、上記のように樹脂膜１００が設けられた前面
板１６の一面１２上に、100 〜200(nm) 程度の厚さでア
ルミニウム薄膜３０を蒸着する。図４(e) は、この状態
を示している。この後、焼成工程ＳＦ４４において、ラ
ッカー溶液４２中に含まれている樹脂の分解温度等に応
じて定められる所定の処理温度で加熱処理を施すことに
より、樹脂膜１００が分解除去され、結果としてアルミ
ニウム薄膜３０が蛍光体層２６およびブラック・マスク
２８上に直接位置させられる。図４(f) は、この状態を
示している。このとき、アルミニウム薄膜３０の下地層
として形成された樹脂膜１００には何ら異物が含まれて
いないことから、そのアルミニウム薄膜３０はむらなく
一様な厚みで滑らかな表面を以て形成されている。な
お、前述したようにアルミニウム薄膜３０は多孔質であ
るため、樹脂膜１００の分解除去の妨げとはならない。

【００４０】図３に戻って、接合工程Ｓ５においては、
上記のようにしてそれぞれ処理された背面板１８および
前面板１６を、別途用意したスペーサ２２を介して一面
１２、１４が向かい合うように積み重ね、加熱処理を施
すことにより、例えばスペーサ２２の上下端面等に予め
塗布された鉛ガラスから成る図示しないシール・ガラス
等の封着剤で気密に接合する。なお、加熱処理温度はそ
の封着剤の種類等に応じて定められ、例えば470 〜500
(℃) 程度である。この後、排気工程Ｓ６において、図
示しない排気穴から排気して気密空間２０内を例えば5
×10^-7(Torr)程度の真空度とすることにより、前記図１
に示されるＦＥＤ１０が得られる。本実施例において
は、このようにしてＦＥＤ１０の製造過程においてアル
ミニウム薄膜３０がむらなく形成されていることから、
前述のようにそれに起因する輝度むらが生じないのであ
る。

【００４１】なお、前述したように、フィルタ５４内に
は液槽５２内に蓄えられているラッカー溶液４２内の異
物は殆ど混入しないが、液槽５２内と同様に空気中の異
物は混入する。また、フィルタ５４によって濾過しても
異物を完全に除去するのは困難であり、フィルタ５４内
の異物量は徐々に増加する。したがって、ディップ・コ
ータ４６を用いたフィルミング処理においては、一面１
２の許容異物量に応じて、一回或いは複数回のディッピ
ング処理毎に、フィルタ５４を清浄なものに取り替え、
或いはその内側の異物を例えば洗浄装置４８を用いて除
去する必要がある。

【００４２】すなわち、前記の図１０に示される基板取
り外し工程ＳＦ４２６に続いて、フィルタ５４の異物除
去が不要な場合には、直ちに基板保持工程ＳＦ４２３に
戻って次の前面板１６のフィルミング処理を実施する
が、異物除去が必要な場合には、フィルタ取替工程ＳＦ
４２８において、フィルタ５４を清浄な状態で保管棚９
６に用意されている別のフィルタ５４に取り替える。こ
の取替処理は、例えば、以下のような手順で行う。先
ず、基板ホルダ７０を空の状態で下端位置まで下降さ
せ、次いで、支持板６４、６６を係合させた状態で上昇
させることによってそれらを完全に液槽５２外に出す。
続いて、支持板６６を適当な挟持具やねじ等を用いてガ
イド・レール６０に固定することで、フィルタ５４をそ
の位置に保持する。そして、基板ホルダ７０を更に上昇
させることにより、その全体をフィルタ５４外へ出す。
その後、フィルタ５４をフィルタ支持部材７６から取り
外すことにより、これを清浄なものに取り替える。取替
頻度は、例えば異物混入量の経時変化を予め調べてこれ
に基づいて決定すればよい。このように定期的或いは不
定期にフィルタ５４を清浄なものに取り替えることによ
り、前面板１６が浸漬されるラッカー溶液４２を常に十
分に異物量が少ない状態に維持できる。

【００４３】一方、取り外された使用済みフィルタ５４
の洗浄は、例えば以下のようにして実施する。先ず、取
り外したフィルタ５４を、洗浄装置４８の保管棚９６上
まで搬送する。次いで、そのフィルタ５４を洗浄アーム
９４で把持する。把持位置は、例えばフィルタ５４の底
部近傍である。図６は、このように洗浄すべきフィルタ
５４を洗浄アーム９４が掴んだ状態を示している。洗浄
アーム９４を図における右回りに回動させると、図１２
に模式的に示すように洗浄液１０２中をフィルタ５４が
ａ→ｂ→ｃ→ｄの経路で移動させられる。この移動過程
で、フィルタ５４内にはその移動方向の前方に位置する
底面および側面を通って洗浄液１０２が内側に連続的に
流入し、後方に位置する開放端から排出されることか
ら、フィルタ５４の内側に付着していた異物は、その洗
浄液１０２の流れによって同時に排出される。フィルタ
５４は、開口部が常に後方に位置するように移動させら
れ且つ開口部を下向きにして洗浄液１０２から取り出さ
れるため、排出された異物が再びフィルタ５４内に入る
ことはない。そのため、このように洗浄槽９０内でフィ
ルタ５４を移動させるだけで容易に異物を除去すること
ができる。異物を除去されたフィルタ５４は、フィルタ
引上装置９８によって保管棚９６上に移動させられ、開
口部が下向きになるようにそこに載置される。なお、フ
ィルタ５４の保存中は、個々に或いは全体にまとめて覆
いを掛け、異物が内部に入ることを防止する。前記のフ
ィルタ取替工程ＳＦ４２８では、このようにして清浄に
されたフィルタ５４が用いられる。すなわち、フィルタ
５４は、破損等によって異物除去機能が失われるまで
は、何度も繰り返し用い得る。

【００４４】なお、上記のような洗浄ではフィルタ５４
に付着しているラッカー溶液４２の完全な除去が困難な
場合には、それが硬化して目詰まりさせることを防止す
るため、溶剤中に浸漬して保存すればよい。また、異物
を一層確実に除去すると共にラッカー溶液４２の残留を
防止するためには、洗浄前にフィルタ５４の外側からエ
アブロー等を施しておくことが望ましい。

【００４５】ここで、本実施例によれば、下降工程ＳＦ
４２１において液槽５２内に入れられたフィルタ５４内
にはその外壁を透過してラッカー溶液４２が入ることか
ら、そのラッカー溶液４２中に異物が含まれていてもそ
の外壁に濾過されることとなるため、その外壁を透過し
得ない一定の大きさ以上の異物はフィルタ５４内に入り
込まない。そのため、浸漬工程ＳＦ４２４においては、
そのフィルタ５４内に入った実質的に異物を含まないラ
ッカー溶液４２、すなわち、フィルタ５４の外壁で隔離
されることで異物の侵入が抑制されている領域に前面板
１６が浸されることから、引上工程ＳＦ４２５において
前面板１６をラッカー溶液４２から引き上げることによ
ってその一面１２にラッカー溶液膜が形成される際に
は、その一面１２には異物が付着し得ない。したがっ
て、前面板１６の一面１２にラッカー溶液膜を形成する
に際して、その一面１２への異物の付着を好適に抑制で
きる。

【００４６】また、本実施例においては、フィルタ取替
工程ＳＦ４２８において、フィルタ５４が一定の周期で
取り替えられるため、液槽５２内に入れられている間に
そのフィルタ５４内に混入した異物が前面板１６の一面
１２に付着することが一層抑制される。

【００４７】また、本実施例においては、フィルタ取替
工程ＳＦ４２８において液槽５２から取り出されたフィ
ルタ５４は、フィルタ洗浄工程において洗浄液１０２内
で洗浄されることにより、その内部に混入した異物が除
去される。そのため、フィルタ５４はその内部に混入し
た異物が除去されて清浄化されることから、フィルミン
グ処理に繰り返し用いることが可能となる。

【００４８】また、本実施例においては、ラッカー溶液
４２の透過可能なフィルタ５４はフィルタ移動装置によ
って液槽５２内の位置と液槽外の位置との間で移動させ
られ、その槽内位置においては液槽５２内に蓄えられた
ラッカー溶液４２が外壁を透過してその内側に入るた
め、前面板移動装置によって浸漬位置と槽外位置との間
で移動させられる前面板１６は、その浸漬位置において
フィルタ５４内に外壁を透過して入ったラッカー溶液４
２に浸される。そのため、ラッカー溶液４２中に異物が
含まれていてもラッカー溶液４２はその外壁に濾過され
ることになるため、その外壁を透過し得ない一定の大き
さ以上の異物はフィルタ５４内に入り込まない。したが
って、前面板１６が浸されるラッカー溶液４２には実質
的に異物が含まれないことから、その一面１２に樹脂膜
１００を形成するに際して、その一面１２に異物が付着
することが好適に抑制される。

【００４９】また、本実施例においては、ディップ・コ
ータ・ユニット４４には、洗浄装置４８が備えられてお
り、内部に異物が入ったフィルタ５４は、開口部が後端
に位置する向きで洗浄液１０２内で移動させられる間
に、外壁を通ってフィルタ５４内に入る洗浄液１０２の
流れによってその開口部からその異物が排出させられ、
その開口部が後端に位置する向きのまま洗浄液１０２か
ら取り出されることにより、フィルタ５４内に入ってい
た異物が好適に除去される。そのため、洗浄後のフィル
タ５４をフィルタ移動装置に戻して繰り返し用いること
ができる。

【００５０】なお、上述した実施例においては、予め液
槽５２内にフィルタ５４を入れ、その後、前面板１６を
その内側に入れていたが、フィルタ５４内に前面板１６
を入れた状態で同時に液槽５２内に入れるように装置を
構成しても差し支えない。図１３は、そのように構成す
る場合の前面板１６およびフィルタ５４の動きを説明す
る図である。図１３(a) において、液槽５２内にはラッ
カー溶液４２が蓄えられており、その上方には内側に前
面板１６が入れられたフィルタ５４が位置させられてい
る。前面板１６は、その全体がフィルタ５４内に入って
おり、その上端はフィルタ５４の開口端よりも下側に位
置する。浸漬工程を兼ねるフィルタを液槽５２内に入れ
る工程においては、そのままフィルタ５４を下降させて
液槽５２に入れ、ラッカー溶液４２に浸す。図１３(b)
は、下降中の状態を、図１３(c)は下降終了時の状態を
それぞれ示す。この下降中にはフィルタ５４と前面板１
６との相対位置が維持される。図に示されるように、本
実施例においても、下降終了時には前面板１６がラッカ
ー溶液４２内に完全に沈んでいる一方、フィルタ５４は
その上端部が液面４２ａよりも上に位置させられてい
る。そして、液面４２が静まった後、前面板１６だけを
静かに一定速度で引き上げることにより、前述の実施例
と同様にしてその一面１２にラッカー溶液膜が形成され
る。図１３(d)は、前面板１６を引き上げた状態を示
す。このように、フィルタ５４と前面板１６は、順次に
ラッカー溶液４２中に入れても、同時に入れてもよい。

【００５１】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は、更に別の態様でも実施で
きる。

【００５２】例えば、実施例においては、本発明が画像
表示装置であるＦＥＤ１０の製造過程およびその製造過
程に用いられる装置に適用された場合について説明した
が、基板等の被膜形成体の表面に樹脂溶液等の薬液から
成る膜を形成するものであれば、例えば、ＬＣＤ等のレ
ジスト膜形成、レジねーと（金属有機化合物）ペースト
を用いたＩＴＯ膜、SnO 膜、SiO₂膜等の他の膜形成にも
同様に適用される。なお、ＩＴＯ膜およびSnO 膜は、表
示装置等において透明電極を構成するものであり、SiO₂
膜は、被膜形成時にアルカリ成分との直接接触を避ける
目的で設けられるものである。

【００５３】また、実施例においては、ラッカー溶液４
２から前面板１６を引き上げる際には、フィルタ５４を
液層５２内に残したまま、その前面板１６だけを引き上
げていたが、同時にフィルタ５４を引き上げることもで
きる。ただし、液面４２ａの揺れに起因する樹脂膜１０
０の膜厚むらを発生させないためには、前面板１６だけ
を引き上げる方が好ましい。

【００５４】また、実施例においては、有底容器として
メッシュから成るフィルタ５４が用いられていたが、そ
の目開きは除去しようとする異物の大きさやラッカー溶
液４２の透過の容易さ等に応じて適宜設定されるもので
あり、また、ラッカー溶液４２等の薬液を濾過しつつそ
の内側に導き入れるものであれば、濾過機能を有する素
材で構成された外壁を有する種々の有底容器が用いられ
得る。なお、実施例においては有底容器がメッシュから
成るフィルタ５４で構成されていたことから、開口端を
除くその全面がラッカー溶液４２を濾過する外壁として
機能させられていたが、一部の外壁だけが濾過機能を有
し、他の部分は薬液も一切透過させない壁で構成されて
いてもよい。

【００５５】また、実施例においては、フィルタ５４は
上端面が開放された箱状に構成されていたが、その形状
は用途に応じて適宜変更される。例えば、一面を開閉可
能に構成してその全面がメッシュで閉じられた空間を有
するフィルタ等を用いてもよい。

【００５６】また、実施例においては、フィルタ取替工
程ＳＦ４２８においてフィルタ５４を取り替えた後、洗
浄装置４８で洗浄処理を施していたが、異物が許容量以
上になったフィルタ５４を直ちに洗浄して清浄化した
後、直ちに使用しても差し支えない。

【００５７】また、実施例においては、アルミニウム薄
膜３０を形成するに際して、一時的に下地層を構成して
後の工程で焼失させられる樹脂膜１００を一面１２に形
成する場合に本発明が適用された場合について説明した
が、形成された被着面にそのまま残存させられる薬液膜
を形成する場合にも本発明は同様に適用される。

【００５８】また、実施例においては、被膜形成体であ
る前面板１６をラッカー溶液４２内に完全に沈める場合
について説明したが、被膜形成体の表面の一部に薬液膜
を形成する場合には、その膜形成をすべき部分だけを薬
液に浸せばよく、その全体を浸す必要はない。

【００５９】その他、一々例示はしないが、本発明はそ
の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のＦＥＤの構成を一部を切り
欠いて示す斜視図である。

【図２】図１のＦＥＤの前面板の断面を拡大して示す図
である。

【図３】図１のＦＥＤの製造工程を説明する工程図であ
る。

【図４】図３の各工程における前面板の断面構造を説明
する図である。

【図５】図３のアルミニウム薄膜形成工程を詳しく説明
する工程図である。

【図６】図５のフィルミング工程に用いられるディップ
・コータ・ユニットの全体構成を説明する正面図であ
る。

【図７】図６のディップ・コータの右側面図である。

【図８】ディップ・コータに用いられるフィルタの全体
を示す斜視図である。

【図９】支持板相互の係合構造を説明する図である。

【図１０】図５のフィルミング工程を詳しく説明する工
程図である。

【図１１】(a) 〜(f) は、図１０の各工程におけるフィ
ルタおよび基板ホルダの動きを説明する図である。

【図１２】図６の洗浄装置による洗浄原理を説明する図
である。

【図１３】本発明の他の実施例におけるフィルタおよび
前面板の動きを説明する図である。

【図１４】従来のディップ・コーティングの問題点を説
明する図である。

【図１５】従来のディップ・コータの構成を説明する図
である。

【符号の説明】

１２：一面（表面）１６：前面板（被膜形成体）４２：ラッカー溶液（薬液）５２：液槽（薬液槽）５４：フィルタ（有底容器）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4D075 AB12 AB37 AB41 AB43 AB52 AB60 BB16X BB99X CA47 DA06 DC22 EA05 4F040 AA02 AC02 BA47 CC02 CC10 CC11 CC20 5C028 CC02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被膜形成体の表面に所定の薬液から成る
膜を形成する方法であって、前記薬液が透過可能な外壁を備えた有底容器を、その薬
液がその外壁を透過する経路だけを通ってその外壁に濾
過されつつその内側に入るようにその薬液を蓄えた薬液
槽内に入れる工程と、前記有底容器内に入った前記薬液に前記被膜形成体を浸
す浸漬工程と、前記被膜形成体を前記薬液から引き上げることにより、
その引上過程でその被膜形成体の表面にその薬液から成
る膜を形成する引上工程とを、含むことを特徴とする薬
液膜形成方法。
【請求項２】被膜形成体の表面に所定の薬液から成る
膜を形成するための薬液膜形成装置であって、前記薬液を蓄える薬液槽と、前記薬液が透過可能な外壁を備えた有底容器を、前記薬
液槽内に蓄えられたその薬液がその外壁を透過する経路
だけを通ってその外壁に濾過されつつその内側に入る槽
内位置とその薬液槽外の位置との間で移動させる有底容
器移動装置と、前記被膜形成体を前記有底容器内に入った前記薬液に浸
される浸漬位置と前記薬液槽外の位置との間で移動させ
る被膜形成体移動装置とを、含むことを特徴とする薬液
膜形成装置。
【請求項３】前記有底容器移動装置は、底面の反対側
に位置する一面が開放された筒状容器を前記有底容器と
して移動させるものであり、その有底容器を、前記一面が移動方向における後端に位
置する向きで所定の洗浄液内で移動させ且つその向きで
その洗浄液内から取り出すことによって洗浄する洗浄装
置を更に含むものである請求項２の薬液膜形成装置。