JP2001004695A - Semiconductor device and its manufacture - Google Patents
Semiconductor device and its manufactureInfo
- Publication number
- JP2001004695A JP2001004695A JP11170255A JP17025599A JP2001004695A JP 2001004695 A JP2001004695 A JP 2001004695A JP 11170255 A JP11170255 A JP 11170255A JP 17025599 A JP17025599 A JP 17025599A JP 2001004695 A JP2001004695 A JP 2001004695A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- burn
- test
- substrate
- semiconductor chip
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法に係わり、特に、バーンイン試験を行う際に
バーンインボードを作製する必要のない半導体装置及び
その製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor device which does not require a burn-in board when performing a burn-in test and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体装置の製造方法の一例につ
いて説明する。2. Description of the Related Art An example of a conventional method for manufacturing a semiconductor device will be described.
【0003】まず、半導体ウエハ上にフォトリソグラフ
ィの工程等により多数個の半導体素子を形成した後、半
導体ウエハから半導体素子をダイシングにより個別に分
離切断してチップ化する。次に、半導体素子にリードを
接続し、樹脂モールドを行うことにより半導体デバイス
(半導体パッケージ)が形成される。First, after a large number of semiconductor elements are formed on a semiconductor wafer by a photolithography process or the like, the semiconductor elements are individually separated and cut from the semiconductor wafer by dicing to form chips. Next, a semiconductor device (semiconductor package) is formed by connecting leads to the semiconductor element and performing resin molding.
【0004】この後、この半導体デバイスにバーンイン
試験を行う。すなわち、多数個のソケットが取り付けら
れたバーンインボードを準備し、前記半導体デバイスを
ソケットに収納し、バーンインボードを恒温槽内に挿入
する。次に、恒温槽内を所定の温度に昇温することによ
り半導体デバイスを恒温下に置き、この半導体デバイス
に定格もしくはそれを越える電源電圧を印加し、半導体
デバイスの入力回路に実動作に近い信号を印加しながら
スクリーニングを行う。After that, a burn-in test is performed on the semiconductor device. That is, a burn-in board to which a number of sockets are attached is prepared, the semiconductor device is stored in the socket, and the burn-in board is inserted into a thermostat. Next, the semiconductor device is kept at a constant temperature by raising the temperature in the constant temperature bath to a predetermined temperature, a power supply voltage rated or higher than the rated value is applied to the semiconductor device, and a signal close to the actual operation is applied to the input circuit of the semiconductor device. The screening is performed while applying a voltage.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
半導体装置の製造方法では、半導体デバイスの機種毎に
バーンインボードを作製する必要がある。即ち、バーン
インボードに取り付けられたソケットは所定の半導体デ
バイスにしか対応することができず、機種が異なればソ
ケットも異なるものが必要となるため、バーンインボー
ドを機種毎に準備しなければならなかった。従って、こ
れがバーンイン試験のコスト低減の障害要因となってい
た。In the above-described conventional method for manufacturing a semiconductor device, it is necessary to manufacture a burn-in board for each type of semiconductor device. That is, since the socket attached to the burn-in board can only support a predetermined semiconductor device, and a different model requires a different socket, a burn-in board must be prepared for each model. . Therefore, this has been an obstacle to the cost reduction of the burn-in test.
【0006】特に、チップサイズに近い大きさまで小型
化されたパッケージであるCSP(Chip Sized Package)
にバーンイン試験を行う際のバーンインボードを作製す
ることは困難であるため、このバーンインボードの製造
コストはより大きくなる。In particular, a CSP (Chip Sized Package) which is a package miniaturized to a size close to a chip size.
Since it is difficult to manufacture a burn-in board when performing a burn-in test, the manufacturing cost of this burn-in board is further increased.
【0007】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、バーンイン試験を行う際
にバーンインボードを作製する必要のない半導体装置及
びその製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device which does not require a burn-in board when performing a burn-in test, and a method of manufacturing the same. is there.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る半導体装置は、基板と、前記基板の一
方の主面上にCSP実装された複数の半導体チップと、
前記基板の他方の主面上に形成され、前記半導体チップ
に電気的に接続された端子と、を具備し、前記基板は、
バーンイン試験を行うための信号を前記半導体チップに
供給する信号供給配線を備えていることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor device according to the present invention comprises a substrate, a plurality of semiconductor chips mounted on a CSP on one main surface of the substrate,
And a terminal formed on the other main surface of the substrate and electrically connected to the semiconductor chip.
A signal supply line for supplying a signal for performing a burn-in test to the semiconductor chip is provided.
【0009】本発明に係る半導体装置の製造方法は、バ
ーンイン試験を行うための信号を後記半導体チップに供
給する信号供給配線を備え、一方の主面上に後記半導体
チップに電気的に接続する端子が形成されている基板を
準備する工程と、前記基板の他方の主面上に半導体チッ
プをCSP実装する工程と、前記基板を恒温槽に挿入し
てバーンイン試験を行う工程と、前記半導体チップの相
互間に位置する基板を切断する工程と、を具備すること
を特徴とする。A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a signal supply wiring for supplying a signal for performing a burn-in test to a semiconductor chip to be described later, and a terminal electrically connected to the semiconductor chip to be described later on one main surface. Preparing a substrate on which is formed, CSP mounting a semiconductor chip on the other main surface of the substrate, performing a burn-in test by inserting the substrate into a constant temperature bath, Cutting the substrates located between each other.
【0010】上記半導体装置の製造方法では、基板の他
方の主面上に半導体チップをCSP実装し、この基板を
恒温槽内に挿入することによりバーンイン試験を行うた
め、専用のバーンインボードを使用することなく、バー
ンイン試験を容易に行うことができる。従って、バーン
イン試験を行う際にバーンインボードを作製する必要が
ない。In the method of manufacturing a semiconductor device, a semiconductor chip is CSP-mounted on the other main surface of the substrate, and a burn-in test is performed by inserting the substrate into a constant temperature bath. The burn-in test can be easily performed without any problem. Therefore, there is no need to prepare a burn-in board when performing a burn-in test.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0012】図1(a)は、本発明の実施の形態による
半導体装置を示す平面図であり、図1(b)は、図1
(a)に示す半導体装置の1b−1b線に沿った断面図
である。図2は、図1に示す実装基板における信号供給
配線を示す構成図である。図3は、図2に示す半導体チ
ップに内蔵されたバウンダリスキャン回路を示す図であ
る。FIG. 1A is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device shown in FIG. FIG. 2 is a configuration diagram showing a signal supply wiring on the mounting board shown in FIG. FIG. 3 is a diagram showing a boundary scan circuit built in the semiconductor chip shown in FIG.
【0013】図1(a),(b)に示すように、半導体
チップ3はその内部回路と電気的に接続されたバンプ5
を有し、このバンプ5を介して実装基板1の上に複数の
半導体チップ3がCSP実装されている。この半導体チ
ップ3の下面と実装基板1の上面との間は樹脂7により
封止されている。また、実装基板1の下には複数のボー
ルグリッド9が形成されており、ボールグリッド9は図
示せぬ接続手段によりバンプ5に電気的に接続されてい
る。As shown in FIGS. 1A and 1B, a semiconductor chip 3 has bumps 5 electrically connected to its internal circuit.
And a plurality of semiconductor chips 3 are CSP-mounted on the mounting substrate 1 via the bumps 5. The space between the lower surface of the semiconductor chip 3 and the upper surface of the mounting substrate 1 is sealed with a resin 7. A plurality of ball grids 9 are formed below the mounting substrate 1, and the ball grids 9 are electrically connected to the bumps 5 by connection means (not shown).
【0014】図2に示すように、実装基板1には半導体
チップ3に電源を供給する共通の電源配線11が形成さ
れている。また、実装基板1にはテストモードに制御す
る共通の信号配線12が形成されており、この信号配線
12は半導体チップ3に電気的に接続されている。ま
た、実装基板1には共通のSI配線13及びSCK配線
14が形成されており、SI配線13及びSCK配線1
4それぞれは半導体チップ3に電気的に接続されてい
る。As shown in FIG. 2, a common power supply line 11 for supplying power to the semiconductor chip 3 is formed on the mounting substrate 1. Further, a common signal line 12 for controlling a test mode is formed on the mounting substrate 1, and the signal line 12 is electrically connected to the semiconductor chip 3. Further, the common SI wiring 13 and the SCK wiring 14 are formed on the mounting substrate 1, and the SI wiring 13 and the SCK wiring 1 are formed.
4 are electrically connected to the semiconductor chip 3.
【0015】図3に示すように、前記半導体チップ3は
テストモードにおいてバウンダリスキャン回路を内蔵し
ている。バウンダリスキャン回路は、シフトレジスタ2
1と、NOR回路22と、MUX23,24と、バッフ
ァ25〜29とを含んでいる。As shown in FIG. 3, the semiconductor chip 3 incorporates a boundary scan circuit in a test mode. The boundary scan circuit includes a shift register 2
1, a NOR circuit 22, MUXes 23 and 24, and buffers 25 to 29.
【0016】次に、上記半導体装置の製造方法について
説明する。Next, a method of manufacturing the semiconductor device will be described.
【0017】まず、実装基板1の一方の主面に図2に示
す共通の電源配線11、信号配線12、SI配線13及
びSCK配線14を形成すると共に、実装基板1の他方
の主面に図1(b)に示すボールグリッド9を形成す
る。First, a common power supply wiring 11, signal wiring 12, SI wiring 13 and SCK wiring 14 shown in FIG. 2 are formed on one main surface of the mounting substrate 1, and a diagram is formed on the other main surface of the mounting substrate 1. The ball grid 9 shown in FIG.
【0018】この後、図3に示すバウンダリスキャン回
路を備えた半導体チップ3を準備し、この半導体チップ
3を前記実装基板1の一方の主面上にCSP実装する。
すなわち、実装基板1のパッド(図示せず)上に樹脂7
を塗布し、前記パッドと半導体チップ3のバンプ5とを
位置合わせした後、実装基板1上に半導体チップ3を実
装する。このようにして比較的大面積の実装基板1に複
数の半導体チップ3を実装する。Thereafter, a semiconductor chip 3 having a boundary scan circuit shown in FIG. 3 is prepared, and the semiconductor chip 3 is mounted on one main surface of the mounting substrate 1 by CSP.
That is, the resin 7 is placed on the pads (not shown) of the mounting substrate 1.
Is applied, the pads and the bumps 5 of the semiconductor chip 3 are aligned, and then the semiconductor chip 3 is mounted on the mounting substrate 1. In this way, the plurality of semiconductor chips 3 are mounted on the mounting board 1 having a relatively large area.
【0019】次に、CSP実装の実装不良を検査する。
実装不良は、半導体チップ3のバンプ5と実装基板1の
パッドとのコンタクトが良好であるか否かにより判別す
るものとする。Next, a mounting defect of the CSP mounting is inspected.
The mounting failure is determined based on whether the contact between the bump 5 of the semiconductor chip 3 and the pad of the mounting board 1 is good.
【0020】すなわち、バウンダリスキャン回路にハイ
レベルのテストモード信号を入力し、半導体チップ3か
らハイレベルの信号を出力させ、ボールグリッド9でハ
イレベル電位を確認することにより、半導体チップ3の
コンタクト不良を判別する。That is, a high-level test mode signal is input to the boundary scan circuit, a high-level signal is output from the semiconductor chip 3, and a high-level potential is confirmed by the ball grid 9. Is determined.
【0021】次に、図1に示すような複数の半導体チッ
プ3が実装された実装基板1をバーンイン装置によりダ
イナミックバーンイン試験を行う。Next, a dynamic burn-in test is performed on the mounting substrate 1 on which a plurality of semiconductor chips 3 as shown in FIG.
【0022】すなわち、この実装基板1を所定温度に昇
温された恒温槽内に挿入し、この実装基板1を恒温下に
置き、この半導体チップ3に定格もしくはそれを越える
電源電圧を電源配線11から印加し、半導体チップ3の
バウンダリスキャン回路にSI配線13から信号を入力
する。これにより、回路を動作させ、スクリーニングを
行う。なお、スクリーニングとは、製品の品質及び信頼
性レベルを得るため、故障メカニズムに則した試験によ
って、潜在欠陥の製品を除去するすることである。That is, the mounting substrate 1 is inserted into a constant temperature bath heated to a predetermined temperature, the mounting substrate 1 is kept at a constant temperature, and a power supply voltage rated for or exceeding the semiconductor chip 3 is supplied to the power supply wiring 11. And input a signal from the SI wiring 13 to the boundary scan circuit of the semiconductor chip 3. Thus, the circuit is operated and screening is performed. The screening is to remove a product having a latent defect by a test based on a failure mechanism in order to obtain a product quality and a reliability level.
【0023】この後、図1(a)に示す実装基板1をダ
イシングすることにより個々のCSPが形成される。つ
まり、実装基板1における半導体チップ3の相互間に位
置する部分を切断し、実装基板1上に実装された個々の
半導体チップ3に分離することによりCSPが形成され
る。Thereafter, individual CSPs are formed by dicing the mounting substrate 1 shown in FIG. That is, the CSP is formed by cutting a portion of the mounting substrate 1 located between the semiconductor chips 3 and separating the semiconductor chip 3 into individual semiconductor chips 3 mounted on the mounting substrate 1.
【0024】上記実施の形態によれば、実装基板1に複
数の半導体チップ3をCSP実装し、この実装基板1を
恒温槽内に挿入することによりバーンイン試験を行うた
め、従来の半導体装置の製造方法のように専用のバーン
インボードを作製する必要がない。これにより、バーン
イン試験を容易に行うことができ、バーンイン試験のコ
ストを低減することができる。According to the above embodiment, a plurality of semiconductor chips 3 are mounted on the mounting substrate 1 by CSP, and a burn-in test is performed by inserting the mounting substrate 1 into a constant temperature bath. There is no need to create a dedicated burn-in board as in the method. Thus, the burn-in test can be easily performed, and the cost of the burn-in test can be reduced.
【0025】また、本実施の形態では、バウンダリスキ
ャン回路にハイレベルのテストモード信号を入力し、半
導体チップ3からハイレベルの信号を出力させ、ボール
グリッド9でハイレベル電位を確認することにより、半
導体チップ3の実装不良(コンタクト不良)を容易に判
別することができる。また、シリアル入力から交互にデ
ータを転送し、電源電流を測定することにより、隣接す
るパッドのショート不良をリジェクトすることができ
る。In this embodiment, a high-level test mode signal is input to the boundary scan circuit, a high-level signal is output from the semiconductor chip 3, and a high-level potential is confirmed by the ball grid 9. The mounting failure (contact failure) of the semiconductor chip 3 can be easily determined. Also, by alternately transferring data from the serial input and measuring the power supply current, it is possible to reject a short-circuit failure of an adjacent pad.
【0026】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。例えば、
本実施の形態では、実装基板1に9個の半導体チップを
CSP実装しているが、一つの実装基板に実装する半導
体チップの数を種々変更することは可能であり、実装基
板に10個以上の半導体チップをCSP実装することも
可能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications. For example,
In this embodiment, nine semiconductor chips are mounted on the mounting board 1 by CSP. However, the number of semiconductor chips mounted on one mounting board can be variously changed. CSP mounting is also possible.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板の他方の主面上に半導体チップをCSP実装し、この
基板を恒温槽内に挿入することによりバーンイン試験を
行う。したがって、バーンイン試験を行う際にバーンイ
ンボードを作製する必要のない半導体装置及びその製造
方法を提供することができる。As described above, according to the present invention, a burn-in test is performed by mounting a semiconductor chip by CSP on the other main surface of a substrate and inserting the substrate into a thermostat. Therefore, it is possible to provide a semiconductor device that does not require a burn-in board when performing a burn-in test, and a method for manufacturing the same.
【図1】図1(a)は、本発明の実施の形態による半導
体装置を示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)
に示す半導体装置の1b−1b線に沿った断面図であ
る。FIG. 1A is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a plan view of FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device shown in FIG.
【図2】図1に示す実装基板における信号供給配線を示
す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a signal supply wiring on the mounting board shown in FIG. 1;
【図3】図2に示す半導体チップに内蔵されたバウンダ
リスキャン回路を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a boundary scan circuit built in the semiconductor chip shown in FIG. 2;
1 実装基板 3 半導体チッ
プ 5 バンプ 7 樹脂 9 ボールグリッド 11 電源配線 12 信号配線 13 SI配線 14 SCK配線 21 シフトレ
ジスタ 22 NOR回路 23,24 M
UX 25〜29 バッファREFERENCE SIGNS LIST 1 mounting board 3 semiconductor chip 5 bump 7 resin 9 ball grid 11 power supply wiring 12 signal wiring 13 SI wiring 14 SCK wiring 21 shift register 22 NOR circuit 23, 24 M
UX 25-29 buffer
Claims (2)
体チップと、 前記基板の他方の主面上に形成され、前記半導体チップ
に電気的に接続された端子と、 を具備し、 前記基板は、バーンイン試験を行うための信号を前記半
導体チップに供給する信号供給配線を備えていることを
特徴とする半導体装置。A substrate; a plurality of semiconductor chips mounted on one main surface of the substrate by CSP; and terminals formed on the other main surface of the substrate and electrically connected to the semiconductor chip. And a signal supply line for supplying a signal for performing a burn-in test to the semiconductor chip.
半導体チップに供給する信号供給配線を備え、一方の主
面上に後記半導体チップに電気的に接続する端子が形成
されている基板を準備する工程と、 前記基板の他方の主面上に半導体チップをCSP実装す
る工程と、 前記基板を恒温槽に挿入してバーンイン試験を行う工程
と、 前記半導体チップの相互間に位置する基板を切断する工
程と、 を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。2. A substrate having a signal supply wiring for supplying a signal for performing a burn-in test to a semiconductor chip to be described later and having, on one main surface, a terminal electrically connected to the semiconductor chip to be described later is prepared. A step of performing CSP mounting of a semiconductor chip on the other main surface of the substrate; a step of performing a burn-in test by inserting the substrate into a constant temperature bath; and cutting a substrate located between the semiconductor chips. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11170255A JP2001004695A (en) | 1999-06-16 | 1999-06-16 | Semiconductor device and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11170255A JP2001004695A (en) | 1999-06-16 | 1999-06-16 | Semiconductor device and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001004695A true JP2001004695A (en) | 2001-01-12 |
Family
ID=15901559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11170255A Withdrawn JP2001004695A (en) | 1999-06-16 | 1999-06-16 | Semiconductor device and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001004695A (en) |
-
1999
- 1999-06-16 JP JP11170255A patent/JP2001004695A/en not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
USRE43607E1 (en) | Method and apparatus for evaluating a known good die using both wire bond and flip-chip interconnects | |
US6586266B1 (en) | High performance sub-system design and assembly | |
US6121677A (en) | Reduced size integrated circuits and methods using test pads located in scribe regions of integrated circuits wafers | |
US6075711A (en) | System and method for routing connections of integrated circuits | |
JPH07115113A (en) | Semiconductor wafer testing device and testing method | |
JPH0817198B2 (en) | Method and apparatus for making a connection between a circuit chip and a temporary carrier for burn-in testing | |
JP3948393B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
US20080206907A1 (en) | Method for fabricating semiconductor device to which test is performed at wafer level and apparatus for testing semiconductor device | |
KR100687687B1 (en) | Multichip module packaging method | |
US6278128B1 (en) | Semiconductor device having external connection terminals formed in two-dimensional area | |
JP2001004695A (en) | Semiconductor device and its manufacture | |
US6337576B1 (en) | Wafer-level burn-in | |
TW379394B (en) | A system and method for packaging integrated circuits | |
JP3495835B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and inspection method thereof | |
JP4056252B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
KR0151836B1 (en) | Wafer level burn-in and its method | |
JPS61216339A (en) | Composite wafer scale integrated circuit | |
JPS612343A (en) | Semiconductor device | |
JPH05341014A (en) | Semiconductor module mono-body, semiconductor module device, and method for testing | |
JPS6154642A (en) | Replacement circuit | |
JP2000260835A (en) | Equipment and method for inspecting semiconductor integrated circuits | |
JP2004214563A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH04364063A (en) | Multichip semiconductor integrated circuit | |
JPH07263508A (en) | Wafer having burn-in testing circuit and burn-in test method | |
JP2000188312A (en) | Semiconductor wafer and its burn-in method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |