JP2000512288A - オリゴヌクレオチド合成用中間体 - Google Patents
オリゴヌクレオチド合成用中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
式
[式中、B1はヌクレオシド塩基の基であり、R1は水素またはヒドロキシ保護基であり、R2は水素、ヒドロキシまたは2'ヌクレオシド修飾原子もしくは基であり、R3は置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、C2〜C10アルケニル、C4〜C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリールまたはC7〜C13アラルキル基であり、Zはハロゲンまたは式(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、C2〜C10アルケニル、C4〜C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリー
ルまたはC7〜C13アラルキル基であるか、またはR4が当該基であって、R5が水素であるか、またはR4およびR5はそれらが結合する窒素原子と共に5員環ないし13員環のヘテロ環を表わす)で示される基であるか、またはZは式
Description
【発明の詳細な説明】
オリゴヌクレオチド合成用中間体
本発明はオリゴヌクレオチド用中間体である化学化合物およびそのような化合
物のオリゴヌクレオチド調製における使用に関する。
従って、本発明はその一側面において、式
[式中、B1はヌクレオシド塩基の基であり、R1は水素またはヒドロキシ保護基
であり、R2は水素、ヒドロキシまたは2'ヌクレオシド修飾原子もしくは基であ
り、R3は置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、C2〜C10アルケニル、C4〜
C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリールまたはC7〜C13アラルキル基
であり、Zはハロゲンまたは式II
(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、
C2〜C10アルケニル、C4〜C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリール
またはC7〜C13アラルキル基であるか、またはR4が当該基であって、R5が水
素であるか、またはR4およびR5はそれらが結合する窒素原子と共に5員環ない
し13員環のヘテロ環を表わす)で示される基であるか、またはZは式
(式中、Nucは5'ヒドロキシ基を除いた後の天然もしくは合成ヌクレオシドま
たはオリゴヌクレオチド残基であり、その5'メチレンを介して表示した酸素原
子に結合している)で示される基である]
で示される化合物を提供する。
R3、R4またはR5が置換されたアルキル、アルケニル、シクロアルキルアル
キル、アリールまたはアラルキル基を表わすとき、当該基は、好ましくは、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、シアノ、ニトロまたはトリ(C1〜C15
ヒドロカルビル)シリル、またはR3の場合には、C1〜C4アルキルスルホニルま
たはC6〜C10アリールスルホニルにより置換されている。
トリ(C1〜C15ヒドロカルビル)シリル基が式Iの化合物に存在するとき、該
基は、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−n−プロピルシリ
ル、トリ−イソプロピルシリル、トリ−n−ブチルシリル、トリ−イソブチルシ
リル、イソプロピルジメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリルまたは1,1,
2,2−テトラメチルエチルジメチルシリル(テキシルジメチルシリル)などのト
リアルキルシリル;トリフェニルシリルなどのトリアリールシリル;トリベンジ
ルシリルなどのトリアリールアルキルシリル;フェニルジメチルシリル、フェニ
ルジエチルシリル、フェニルジイソプロピルシリルまたはフェニル・ジ−tert−
ブチルシリルなどのアリールジアルキルシリル;またはメチルジフェニルシリル
、イソプロピルジフェニルシリルまたはtert−ブチルジフェニルシリルなどのア
ルキルジアリールシリルである。R3,R4またはR5がトリ(C1〜C15ヒドロカル
ビル)シリル置換基を有する場合、該基は、好ましくは、トリ(C1〜C4ヒドロカ
ルビル)シリル、とりわけ、トリメチルシリルである。トリ(C1〜C15ヒドロカ
ルビル)シリルとしてのR1は、好ましくは、C1〜C6アルキルジ(C6〜C8アリ
ール)シリル、とりわけ、tert−ブチルジフェニルシリル、または分枝C2〜C10
アルキル ジ(C1〜C4アルキル)シリル、とりわけ、テキシルジメチルシリルで
ある。
R1は望ましくない反応に対して5'−ヒドロキシ基を保護し得る如何なるヒド
ロキシ保護基であってもよい。そのような基は周知であり、C1〜C10脂肪族、
例えば、アルキル基;C3〜C8脂環式、例えば、シクロアルキル基;C6〜C10
芳香族、例えば、アリール基;C7〜C40芳香脂肪族、例えば、アラルキルまた
はC1〜C4−アルコキシ置換アラルキル基;式−CORまたは−SO2R(式中、
RはC1〜C10脂肪族基、C3〜C8脂環式基、C6〜C10芳香族基またはC7〜C4 0
芳香脂肪族基;およびトリ(C1〜C15ヒドロカルビル)シリル基を包含する。好
ましいR1は水素またはオリゴヌクレオチドの合成に常用される5'−保護基であ
り、より好ましくは、水素、C7〜C40芳香脂肪族基またはトリ(C1〜C15
ヒドロカルビル)シリル基、とりわけ、メトキシトリチル、ジメトキシトリチル
またはトリスtert−ブチルトリチルなどの置換もしくは非置換トリフェニルメチ
ル基、またはtert−ブチルジフェニルシリルなどのC1〜C6アルキルジ(C6〜C8
アリール)シリル基、特に、ジメトキシトリチルまたはtert−ブチルジフェニル
シリルである。
2'ヌクレオシド修飾原子または基であるR2、すなわち、水素原子またはヒド
ロキシ基の代わりにヌクレオシドの2'位置に結合することのできる原子または
基は、フッ素、塩素または臭素原子などのハロゲン原子;メチル、トリフルオロ
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチルまたはデシ
ルなどのC1〜C10非置換アルキル;フェニル、トリルまたはキシリルなどのC6
〜C10アリール;ベンジルなどのC7〜C13アラルキル;アミノ;メチルアミノ
、エチルアミノまたはオクチルアミノなどのC1〜C10アルキルアミノ;メチル
チオ、エチルチオまたはオクチルチオなどのC1〜C10アルキルチオ;アチド;
硝酸塩;亜硝酸塩;シアン化物;シアン酸塩;メタンスルホン酸塩;C1〜C10
アミノアルキルアミノ;式−OR6または−OCOR6(式中、R6はC1〜C30有
機基である)で示される基;置換シリル;RNA切断基;コレステリル基;接合
体;リポーター基;介在基(インターカレーター);オリゴヌクレオチドの薬物動
態性を改善する基;またはオリゴヌクレオチドの薬力学的性質を改善する基であ
る。
好ましいR2は水素、ハロゲン、ヒドロキシまたは式−OR6または−OCOR6
(R6はメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−ブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチ
ル、2−エチルヘキシル、n−ノニルまたはn−デシルなどのC1〜C10アルキ
ル基;ビニル、アリル、メタリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテ
ニル、オクテニル、ノネニルまたはデセニルなどのC2〜C10アルケニル基;シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロ
ペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシク
ロオクチルなどのC3〜C8シクロアルキル基;シクロプロピルメチル、シクロブ
チルメチル、シクロヘキシルメチル、メチルシクロヘキシルメチル、シクロ
ヘキシルエチルまたはジメチルシクロヘキシルエチルなどのC4〜C10シクロア
ルキルアルキル基;フェニル、オルト−、メタ−もしくはパラ−トリル、オルト
−、メタ−もしくはパラ−キシリルまたはナフチルなどのC6〜C10アリール基
;またはベンジル、フェニルエチル、ジフェニルメチルまたはトリフェニルメチ
ルなどのC7〜C25アラルキルであり、そのいずれの基も非置換であるか、例え
ば、ハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシまたはシアノで置換されていて
もよく、あるいはR2が式−OR6のものである場合には、R6はトリ(C1〜C15
ヒドロカルビル)シリル基である)である。より好ましい態様において、R2は水
素、ヒドロキシ、フッ素、式−OR6(式中、R6はC1〜C4アルキル基、C2〜C4
アルケニル基、C7〜C13アラルキル基または式−(R7−O)n−R8(式中、R7
はC1〜C4アルキレン基;R8はC1〜C4アルキル基;nは1〜8である)で示さ
れる基である)で示される基であるか、あるいはR2は式−OCOR6(式中、R6
はC1〜C4アルキルまたはC6〜C8アリールである)でしめされる基である。と
りわけ好ましい態様において、R2は水素、ヒドロキシ、フッ素、メトキシ、エ
トキシ、アリルオキシ、ベンジルオキシ、メトキシエトキシ、−O−(CH2CH2
O)3CH3'アセトキシまたはベンゾイルオキシである。
C1〜C10アルキルとしてのR3,R4またはR5は、例えば、メチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペ
ンチル、イソペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、2−エチ
ルヘキシル、n−ノニルまたはn−デシルなどの直鎖もしくは分枝した基である
。C2〜C10アルケニルとしてのR3,R4またはR5は、例えば、ビニル、アリル
、メタリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノ
ネニルまたはデセニルなどである。C4〜C10シクロアルキルアルキルとしての
R3,R4またはR5は、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シ
クロペンチルメチル、シクロペンチルエチル、メチルシクロペンチルメチル、シ
クロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、メチルシクロヘキシルメチル、メ
チルシクロヘキシルエチル、ジメチルシクロヘキシルメチルまたはジメチルシク
ロヘキシルエチルなどである。C6〜C10アリールとしてのR3,R4またはR5は
、例えば、フェニル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、o−キシリル、m
−
キシリルまたはp−キシリルなどである。C7〜C13アラルキルとしてのR3,R4
またはR5は、例えば、ベンジル、フェニルエチルまたはジフェニルメチルなど
である。R3,R4またはR5としての上記の基のいずれもが上記のごとく置換もし
くは非置換であってよい。
R4およびR5が結合した窒素原子と共にヘテロ環を表わす場合、このヘテロ環
は、例えば、ピロリジンのような5−員環、ピペリジン、2,6−ジメチルピペ
リジン、N−メチルピペラジン、モルホリンまたはチオモルホリン環などの6−
員環、ペルヒドロアゼピン環などの7−員環、ペルヒドロアゾシン環などの8−
員環、ペルヒドロアゾニン環などの9−員環、ペルヒドロアゼシン環などの10
−員環、アザシクロウンデカン環などの11−員環、アザシクロドデカン環など
の12−員環またはアザシクロトリデカン環などの13−員環である。
R3は、好ましくは、置換もしくは非置換のC1〜C4アルキル、C3〜C5アル
ケニル、C6〜C8シクロアルキルアルキルまたはC7〜C9アラルキル基、とりわ
け、メチル、エチル、2−シアノエチル、2,2,2−トリクロロエチル、アリル
、ベンジルまたは2−(トリメチルシリル)エチルである。
式IのZが式IIで示される基であるとき、好ましい態様において、R4および
R5は独立に置換もしくは非置換のC1〜C4アルキル、C3〜C5アルケニルC6〜
C8シクロアルキルアルキルまたはC7〜C9アラルキルであるか、あるいはR4が
C1〜C4アルキル、好ましくは、イソプロピルまたはtert−ブチルなどの分枝C1
〜C4アルキル、またはベンジルなどのC7〜C9アラルキルであり、R5が水素
であるか、あるいはR4およびR5が結合した窒素原子と共に環内に1または2個
のヘテロ原子を有する5−員環もしくは6−員環のヘテロ環を表わす。とりわけ
好ましい態様において、R4およびR5は独立にメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、アリル
またはベンジルであるか、あるいはR4およびR5が結合した窒素原子と共にピロ
リジン、ピペリジンまたはモルホリン環を表わす。
式IのZが式IIIの基であるとき、該残基Nucは5'ヒドロキシ基を除去した
後の天然もしくは合成ヌクレオシド残基であり、例えば、アデノシン、シチジン
、グアノシン、チミジン、ウリジン、2−アミノアデノシン、6−N−ベンジル
ア
デノシン、5−N−メチルシチジン、4−N−ベンゾイルシチジン、5−プロピ
ニルシチジン、2−N−イソブチリルグアノシン、N−ベンジルオキシメチルチ
ミジンまたは5−フルオロウラシルなど、あるいはそれから誘導されるジヌクレ
オチド、トリヌクレオチドまたは高次オリゴマーであるオリゴヌクレオチドであ
り、天然の連鎖、すなわち、ホスホロチオエートまたはメチルホスホネートなど
のリン酸ジエステル、ヌクレオシド間連鎖またはその合成類似体、あるいはその
ようなヌクレオシド間連鎖のP(III)前駆体である。
式IのB1は天然産ヌクレオシドに見出される塩基由来の基であり、例えば、
窒素原子上に保護基が置換もしくは非置換したものであってもよく、該保護基は
、例えば、アセチルのどの脂肪族アシル基、ベンゾイルまたはニトロベンゾイル
などの芳香族アシル基、またはベンジルオキシメチルなどのアラルキルオキシア
ルキル保護基により置換されたもの、あるいはそのような塩基の合成類似体であ
る。ヌクレオチド化学で常用され、B1の窒素原子上に存在してもよい他の型の
保護基は、N,N−ジメチルホルムアミジン、N,N−ジメチルアセトアミジンお
よびN−メチルピロリジン・アミジン基などのアミジン基、およびアミノ基をカ
ルバメート基に変換するtert−ブトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル
基を包含する。
このように、B1はプリンまたはピリミジン由来の基であって、例えば、アデ
ニン、グアニン、シトシン、チミンまたはウラシル、あるいはそれら塩基の類似
体、例えば、2−アミノアデニン、6−ヒドロキシプリン、5−メチルシトシン
、5−プロピニルシトシン、5−フルオロウラシル、5−プロピニルウラシルま
たはジヒドロウラシル、あるいは、そのような基が窒素原子上に、例えば、上記
のごとき保護基を置換した基である。
Zが式IIIの基である場合の確かな好ましい態様において、Nucとは上記の
ごときヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチドの残基であり、その末端3'位置
が固相オリゴヌクレオチド合成に用いられる支持体などの固形支持体、例えば、
長鎖アルキルアミノ基を有する制御多孔性ガラス(CPG)などの不活性シリカ−
ベース支持体にスクシニル基のようなリンカーを介して結合している。固形支持
体はまた、支持体上で合成するオリゴヌクレオチドに対して3'末端修飾基とし
て作用する基を有していてもよい。
本発明化合物は可能な異性体の1つの形態、例えば、ジアステレオ異性体、光
学異性体、そのラセミ化合物もしくは混合物としての形態でもよい。式Iの化合
物の好ましい異性体は式IVの化合物である。
(式中、B1,R1,R2およびR3は前記定義のとおりである)
式Iのとりわけ好ましい特定化合物は後記実施例記載の化合物である。
Zが式IIの基である場合の式Iの化合物は、Zがハロゲンである場合の式Iの
化合物、すなわち、式
(式中、B1,R1,R2およびR3は前記定義のとおりであり、Yはハロゲンである)
で表わされる化合物と式
(式中、R4およびR5は前記定義のとおりである)で表わされる化合物とを反応さ
せることにより調製される。この反応は有機溶媒、例えば、クロロホルムなどの
ハロゲン化炭化水素中、ピリジンなどの第三級窒素塩基の存在下に−78℃ない
し50℃の温度、好ましくは、−30℃ないし25℃で実施することができる。
式Vの化合物は、式VIIの化合物を非酸化的にハロゲン化することにより調製
することができる。
(式中、B1,R1,R2およびR3は前記定義のとおりである)
非酸化的ハロゲン化反応は、式VIIの化合物と非酸化的ハロゲン化試薬、例えば
、トリフェニルジクロロホスホランまたはジクロロトリス(2,4,6−トリブロ
モフェノキシ)ホスホランなどのハロホスホランとを塩基、好ましくは、ピリジ
ンなどの第三級窒素塩基の存在下に、有機溶媒(ピリジンでもよいが、好ましく
は、クロロホルムなどのハロ炭化水素)中、−20℃ないし60℃の温度、好ま
しくは0℃ないし50℃で実施することができる。
式VIの化合物は市販品として入手可能であるか、既知手法により調製すること
ができるアミンである。
式VIIの化合物およびその調製法はWO96/08503に記載されている。
Zが式IIIで示される基である場合の式Iの化合物は、R1がヒドロキシ保護基
であり、Zが式IIで示される基である場合の式Iの化合物と、遊離の5'ヒドロ
キシ基を有する天然もしくは合成ヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチド(1つ
またはそれ以上のP(III)前駆体分子内ヌクレオシド連鎖をもつオリゴヌクレオ
チドを包含する)と反応させることにより調製することができる。反応は溶液中
または上記のように固体担体に結合させたヌクレオシドまたはヌクレオチドで実
施することができる。該反応は、通常のオリゴヌクレオチド合成において、3'
ホスホラミダイト基含有ヌクレオシドと遊離5'ヒドロキシ基含有ヌクレオシド
もしくはオリゴヌクレオチド間のカップリング反応として知られる条件下および
手法を用いて実施可能であることが見出されている(例えば、‘Oligonucleotide
s and Analogues,A Practical Approach’ed.F.Eckstein,IRL Press,1991
参照)。
このように、Zが式IIで示される基である場合の式Iの化合物は、テトラゾー
ルまたは5−(4−ニトロフェニル)テトラゾールなどのアミン−プロトン化カッ
プリング触媒(活性化剤)の存在下にヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチドと反
応させ、Zが式IIIで示される基である式Iの化合物を生成させることができる
。この反応は−20℃ないし50℃、好ましくは室温で実施することができる。
Zが式IIIで示される基である場合の式Iの化合物は、Nucのオリゴヌクレ
オチド残基よりも多いヌクレオシド単位を有するオリゴヌクレオチドの調製用中
間体である。従って、本発明は、式
(式中、B1,R1,R3およびNucは前記定義のとおりであり、Xは酸素またはイ
オウである)で示される化合物の製造法をも提供し、その要旨はZが式IIIで示さ
れる基である式Iの化合物を酸化反応に付し、Xが酸素である式VIIIのオリゴヌ
クレオチドを形成するか、または硫化反応に付し、Xがイオウである式VIIIのオ
リゴヌクレオチドを形成することを特徴とする。
式IにおいてZが式IIIの基である化合物の酸化または硫化反応は、亜リン酸
エステル・ヌクレオシド間の連鎖をそれぞれ酸化または硫化するために用いる方
法により実施することができる。従って、式IにおいてZが式IIIの基である化
合物の酸化反応は、例えば、オリゴヌクレオチド合成において亜リン酸エステル
・ヌクレオシド間の連鎖を酸化する反応として知られる条件および手法を用い、
ヨードおよび水で処理するか、またはtert−ブチルヒドロペルオキシドなどのヒ
ドロペルオキシドで処理することにより実施することができる。式IにおいてZ
が式IIIの基である化合物の硫化反応は、例えば、オリゴヌクレオチド合成にお
いて亜リン酸エステル・ヌクレオシド間の連鎖を硫化する反応として知られる手
法を用い、有機溶媒(通常、二硫化炭素)中三級アミンの存在下にイオウで処理す
るか、[3H]1,2−ベンゾジチオール−3−オン−1,1−ジオキシド(ビュー
ケイジ(Beaucage)試薬)で処理するか、またはテトラエチルチウラムで処理する
ことにより実施する。酸化反応、硫化反応とも一般に室温で実施する。
従って、本発明は、他の側面において、保護された5'ヒドロキシ基と3'位に
式
(式中、R3,R4およびR5は上記定義のとおりである)で示される基を有するヌク
レオシドを、遊離の5'ヒドロキシ基を有する天然もしくは合成ヌクレオシド
またはオリゴヌクレオチドとのヌクレオシド・カップリング反応に付し、式(式
中、R3は上記定義のとおりである)で示されるヌクレオシド間の連鎖を有するオ
リゴヌクレオチド前駆体を形成させ、該前駆体を式
(式中、R3は上記定義のとおりであり、Xは酸素またはイオウである)で示され
るヌクレオシド間の連鎖を有するオリゴヌクレオチドに変換するが、その場合、
該前駆体を酸化することにより式XIにおいてXが酸素であるヌクレオシド間連
鎖を有するオリゴヌクレオチドとし、また、該前駆体を硫化することにより式X
IにおいてXがイオウであるヌクレオシド間連鎖を有するオリゴヌクレオチドと
することを特徴とするオリゴヌクレオチドの製造法を提供する。
3'位に式IXの基を有するヌクレオシド、遊離の5'ヒドロキシ基を有するヌク
レオシドまたはオリゴヌクレオチド、および当該反応を実施する方法はこれまで
に記述したとおりである。
Nucが固形支持体に連結したヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチドの残基
である式VIIIのオリゴヌクレオチドを処理して5'保護基R1を除去し、得られる
5'ヒドロキシ末端オリゴヌクレオチドを、所望の長さのオリゴヌクレオチドが
得られるまで、保護5'ヒドロキシル基を有し、3'位に固形支持体に連結した式
VIIIの脱保護ジヌクレオチド上の遊離5'ヒドロキシ基と反応し得る、あるいは
反応するように活性化されている基を有する天然もしくは合成ヌクレオシドまた
はオリゴヌクレオチドとの連続的カップリング反応に付す。このように、式VIII
のオリゴヌクレオチドを、3'ホスホラミダイト、H−ホスホネートまたはホス
ホジエステル基と保護5'ヒドロキシ基を有するヌクレオシドまたはオリゴヌク
レオチドとカップルさせるか、式IにおけるZが式IIの基である化合物とカップ
ル反応させ、鎖長が延びたオリゴヌクレオチドを生じる。該鎖長延伸オリゴヌク
レオチドは、所望の長さのオリゴヌクレオチドが得られるまで、更なる代替反応
により次々に鎖長を延伸することができる。3'ホスホラミダイト、H−ホスホ
ネートまたはホスホジエステル基を有するヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチ
ドを用いる場合、該カップリング反応はオリゴヌクレオチド合成において既知の
手法を用い実施することができる。式IにおいてZが式IIの基である化合物を用
いる場合、該カップリング反応は上記のとおりに実施することができる。このよ
うに、3'ホスホラミダイトまたは式IにおいてZが式IIの基である化合物を用
いる場合、カップリング・サイクルは酸化または硫化工程を伴うが、一方、3'
H−ホスホネートを用いる場合、酸化または硫化反応は鎖長延伸が完了して後に
実施し、3'ホスホジエステルを用いる場合、酸化反応は必要ない。
所望数のヌクレオシドを有するオリゴヌクレオチドが合成された段階で、該オ
リゴヌクレオチドは常用の方法、例えば、トリフルオロ酢酸のような水性有機酸
での処理によりジメトキシトリチル基などのヒドロキシ保護基を除去してもよい
。オリゴヌクレオチドを固形支持体上で合成した場合には、この処理は支持体か
ら該オリゴヌクレオチドを脱離する前または脱離した後に実施してもよい。脱離
は例えば濃アンモニア水での処理のような常法を用いて実施し得るが、この処理
に
際して、該オリゴヌクレオチドの合成に用いた1つまたはそれ以上のヌクレオシ
ドの環外窒素原子上に存在する保護基もまた除去される。脱保護により生成した
末端5'ヒドロキシルは、例えば、BeaucageおよびIyer,(Tetrahedron 49,1925
〜63(1993))により記載された手法を用い、リン酸基または他の5'修飾基などの
5'末端修飾基を導入するために反応させることができる。
本発明を以下の実施例により説明する。
各実施例の化合物およびその前駆体の式において、Etはエチル、Meはメチ
ル、Tは1−チミニル、t−Buはtert−ブチル、Phはフェニル、そしてDM
Trはジメトキシトリチルである。
各実施例に用いた化合物およびその前駆体は以下のように調製する。化合物A この化合物はWO96/08503の化合物87であり、WO96/08503
の実施例84に記載のとおりに調製する。化合物B 化合物A(0.85g、1.22mmol)を無水メタノール(10ml)に溶かし、この
溶液にナトリウムメトキシド(4.4Nメタノール溶液1.5ml)を加える。室温で
16時間かき混ぜた後、濃縮し、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィ
ー(グラジエント溶出−クロロホルム、メタノール、トリエチルアミン 100
:20:1〜100:35:1)により精製し、更に、生成物を水性0.5%トリ
エチルアミンの溶液としてダウエックス50W−X2イオン交換カラム(トリエ
チルアミン型)を通して精製し、濃縮すると化合物Bを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CD3OD,162MHz)δ23.7ppm。化合物C この化合物はWO96/08503の化合物84であり、WO96/0850
3の実施例81に記載のとおりに調製する。化合物D 化合物B(500mg、0.71mmol)およびジシクロヘキシルカルボジイミド(1
89mg、0.92mmol)を乾燥THF(5.4ml)に溶かし、この溶液に3−ヒドロ
キシプロピオニトリル(58μl、0.85mmol)をアルゴン下室温で加える。得
られる溶液を55℃で2時間加熱する。冷却後、混合物を濾過し、酢酸エチル(
20ml)で希釈し、水および食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥、濾過、濃縮す
る。得られる生成物をジクロロメタン(5ml)に採り、濾過、濃縮(この工程はジ
シクロヘキシル尿素を除去するために繰り返すことが必要)すると化合物Dが得
られるが、このものはリンにおけるジアステレオ異性体の混合物として単離され
る。
別途方法:化合物B(12.3g、17.4mmol)およびジシクロヘキシルカルボ
ジイミド(3.94g、19.1mmol)をTHF(120ml)に溶かし、この溶液にア
ルゴン下3−ヒドロキシプロピオニトリル(1.42ml、20.8mmol)を加え、得
られる混合物を60℃で4時間加熱する。略半量まで濃縮し、等容量の酢酸エチ
ルで希釈し、濾過して生成する沈殿を除去する。有機層は濾過物を酢酸エチルで
洗浄後約200mlとなるが、これを水(4x80ml)および飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウム上乾燥し、濃縮する。得られる固形物をアセトニトリル(200m
l)に再溶解し、ヘキサン(6x50ml)で抽出する。アセトニトリル層を次いで濃
縮し、高減圧下に乾燥すると化合物Dを得る。
実測値:C 62.2%;H 5.9%;N 6.5%
C35H38N3O8P・H2Oとして計算値:C 62.05%;H 5.95%;N
6.2%31
Pnmr1Hデカップリング(162MHz、CDCl3)δ37.5、37.3pp
m。化合物E この化合物はWO96/08503の化合物100であり、WO96/085
03の実施例98に記載のとおりに調製する。化合物F 化合物E(0.47g、0.60mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)(0.148g、0.72mmol)およびトリエチルアミン塩酸塩(0.24g、1.
8mmol)を無水クロロホルム(3ml)に溶かし、この溶液にアルゴン下3−ヒドロ
キシプロピオニトリル(81μl、1.2mmol)を加える。得られる混合物を60
℃で4時間加熱する。次いで、この混合物を減圧下に濃縮し、酢酸エチル(50m
l)に採り、濾過する。得られる澄明溶液を水(3x20ml)および食塩水(8x2
0ml)で抽出する。硫酸ナトリウム上乾燥し、濾過、減圧下に濃縮するとDCC
を含む粗製生成物として得る。この粗製物をアセトニトリルに溶解し、ヘキサン
で繰り返し抽出することでDCCを除去する。
実測値:C 63.35%;H 6.50%;N 8.80%
C40H46N5O7P・H2Oとして計算値:C 63.40%;H 6.40%;N
9.25%31
Pnmr1Hデカップリング(162MHz、CDCl3)δ38.1、37.4pp
m。化合物G 化合物B(1.0g、1.41mmol)をジクロロメタン(15ml)に溶かし、この溶
液にアルゴン気流下5℃でトリエチルアミン(98μl、0.71mmol)を添加し
、次いで、メチルクロロホルメート(142μl、1.84mmol)を滴下する。5
分後、溶液を室温に戻し、45分間かき混ぜる。混合物をCH2Cl2で希釈し、
水洗、乾燥(Na2SO4)し、濃縮する。フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグ
ラフィー(溶出液:酢酸エチル:メタノール、10:1)により精製すると、リン
におけるジアステレオマー混合物として化合物Gを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ37.3および37.
化合物H トリアゾール(20.7g、0.3mol)を乾燥ピリジンとの共蒸発(4x50ml)
により注意深く乾燥し、次いで、ピリジン(80ml)に溶かし、アルゴン下0℃に
冷却する。トリエチルアミン(41.8ml、0.3mol)を加え、混合物をオキシ塩
化リン(6.87ml、75mmol)を添加しながらかき混ぜる。得られる溶液を0℃
で15分間かき混ぜる。注意深く乾燥(3x50mlピリジンとの共蒸発)した化合
物83(WO96/08503の化合物、WO96/08503の実施例80に
記載のとおりに調製)(20.6g、30mmol)をピリジン(50ml)に溶かした溶液
を滴下する。得られる強い着色溶液を室温に戻す。18時間後、混合物を濃縮し
、THF(300ml)に溶解する。濃アンモニア(90ml)を加え、混合物を室温で
18時間かき混ぜる。濃縮し、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー
(グラジエント溶出、酢酸エチル+10%〜25%メタノール)により精製すると
、リンにおけるジアステレオ異性体混合物として化合物Hを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CD3OD,162MHz)δ50.0および49.
5ppm。化合物J 化合物H(7.87g、11.5mmol)を乾燥THF(110ml)に溶かし、その溶
液にアルゴン下、トリエチルアミン(6.4ml、45.9mmol)を添加し、得られる
溶液に塩化ベンゾイル(2.00ml、17.21mmol)を添加しながら−70℃に冷
却する。この溶液を室温に戻し、一夜かき混ぜる。得られる混合物を部分的に濃
縮し、酢酸エチル中に溶解し、水で二度、次いで食塩水で一度洗浄する。この溶
液をNa2SO4上で乾燥し、濃縮して、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグ
ラフィー(グラジエント溶出、ヘキサン:酢酸エチル1:5〜純酢酸エチル)に
より精製すると、リンにおける2ジアステレオ異性体混合物として化合物Jを得
る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ47.0および46.
8ppm。
実測値:C 61.85%;H 7.25%;N 5.10%
C42H56O8N3PSi・3/2H2Oとして計算値:C 61.75%;H 7.
30%;N 5.15%化合物K 化合物J(14.5g、18.34mmol)を乾燥THF(160ml)を溶かし、その
溶液にフッ化テトラブチルアンモニウムのTHF溶液(20.2ml、20.2mmol)
をゆっくりと加える。その得られる溶液を室温で6時間かき混ぜ、黄色油状物を
生じるまで蒸発し、次いで、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー(
グラジエント溶出、酢酸エチル〜酢酸エチル:エタノール7:1)により精製す
ると、リンにおける2ジアステレオ異性体混合物として化合物Kを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ48.9および48.
8ppm。
実測値:C 55.65%;H 7.00%;N 7.35%
C26H38O8N3P・1/2H2Oとして計算値:C 55.70%;H 7.00
%;N 7.50%化合物L 化合物K(2.48g、4.50mmol)をトルエン(3x20ml)からの共蒸発によ
り注意深く乾燥する。次いで、室温、アルゴン下にジクロロメタン(45ml)を加
え、更にエタノール(2.62ml、45mmol)を加える。得られる溶液をかき混ぜ
、塩化トリメチルシリル(5.69ml、45.0mmol)を添加しながら−15℃に冷
却する。得られる混合物をアルゴンで十分に脱ガスし、ゆっくりと室温に戻す。
室温で6時間かき混ぜた後、混合物をジクロロメタンで希釈し、炭酸水素ナトリ
ウム溶液で二度洗浄し、Na2SO4上で乾燥、濃縮すると、リンにおける2ジア
ステレオ異性体混合物として化合物Lを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ35.5および34.
2ppm。
実測値:C 55.5%;H 6.10%;N 9.70%
C20H26N3O6Pとして計算値:C 55.15%;H 6.00%;N 9.6
5%化合物M 化合物L(4.79g、11.0mmol)を乾燥ピリジンとの共蒸発(6x50ml)に
より注意深く乾燥し、次いで、ピリジン(80ml)に溶かし、トリエチルアミン(
3.1ml、22mmol)を加え、更に室温、アルゴン下で塩化ジメトキシトリチル(
4.10g、12.1mmol)を加える。室温、16時間後、混合物を濃縮し、−2
0℃で一夜貯蔵する。得られる固形物をTHF(50ml)、トリエチルアミン(1
5ml)および水(10ml)に溶解し、室温で7時間かき混ぜる。得られる混合物を
濃縮し、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー(グラジエント溶出、
酢酸エチル:トリエチルアミン50:1〜酢酸エチル:メタノール:トリエチル
アミン55:45:2)により精製すると、化合物Mを得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、202MHz)δ22.4ppm。
実測値:C 64.5%;H 6.65%;N 6.4%
C45H55N4O8P・3/2H2Oとして計算値:C 64.5%;H 6.95%
;N 6.7%化合物N 化合物Nは、出発原料として化合物Bの代わりに化合物Mを用い、アセトニト
リル−ヘキサンによる分配を省略する以外は、化合物Dについて記載した代替方
法により調製する。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ37.2および36.
8ppm。
MS(FAB)M/Z 763(MH+)。実施例1 慎重に乾燥した化合物C(40mg、70μmol)をピリジン(80μl、1mmol)
含有ジュウテリオクロロホルム(0.5ml)に溶かした溶液に、ジクロロトリフェ
ニルホスホラン(113mg、350μmol)を加える。得られる混合物を振盪し、
該ホスホランを溶解させ、次いで常温に放置する。反応の進行を31Pnmrによ
りモニターする。生成物である化合物1は201ppmで共鳴する。16時間後、
追加のジクロロトリフェニルホスホラン(45mg、140μmol)を加える。更に
24時間後、31Pnmrは反応が95%終了していることを示す。ジイソプロピ
ルアミン(総量150μl、1.07mmol)を−30℃で粗製反応混合物に30μ
lずつ加える。得られる混合物を室温に戻し、ジクロロメタン(20ml)で希釈し
、脱イオン水(2x10ml)で二度洗浄し、乾燥(Na2SO4)後、濃縮する。フ
ラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー(グラジエント溶出、4:1〜2
:1ヘキサン−酢酸エチル)により精製すると、化合物2を2ジアステレオ異性
体の混合物として得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ123.0、122.
3。実施例2 実施例1の手法を用い、化合物D(30mg、44μmol)を先ず化合物3に変換
し、次いで、実施例1で用いたジイソプロピルアミンをピロリジン(56μl、
0.67mmol)と置き換え、化合物4に変換する。実施例3
5'-TTT tTC TCT CTC TCT-3'(式中、tは化合物4から誘導されるヌクレオシド
単位を表わす)の配列を有するオリゴヌクレオチド1を標準固相ホスホラミダイ
ト・オリゴヌクレオチド合成法(Oligonucleotides and Analogues A Practical
Approach,ed.F.Eckstein,IRL Press 1991)により調製するが、ただし、合成
の適切な時点で通常の3'−ホスホラミダイト−置換ヌクレオシドの代わりに化
合物4を用い、結果として式IのZが式IIIの基である化合物(式中、Nucはオ
リゴヌクレオチドTC TCT CTC TCT残基を示す)を形成させ、次い
で標準的酸化工程において酸化して、式VIIIのXが酸素であるオリゴヌクレオチ
ドとする;このオリゴヌクレオチドは更にカップリングしてオリゴヌクレオチド
1とする。実施例4 ビス(トリクロロメチル)カーボネート(1.01g、3.40mmol)を乾燥ジクロ
ロメタン(10ml)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(2.68g、1
0.21mmol)を乾燥ジクロロメタン(8ml+7ml洗浄液)に溶かした溶液をアルゴ
ン気流下、攪拌、5℃で加える。この混合物を直ちに室温まで5分で昇温し、次
いでピリジン(1.24ml)を添加し、混合物を完全に混合、5℃まで再冷却する
。得られる淡褐色溶液に化合物D(3.45g、5.11mmol)のピリジン(1.24
ml)含有乾燥ジクロロメタン(10ml+5ml洗浄液)溶液を加える。添加終了後、
溶液を室温まで昇温する。室温で1時間かき混ぜた後の混合物は化合物3(31P
nmrδ206.7ppm)を含んでいる。この混合物を−30℃に冷却し、ジイソ
プロピルアミン(3.57ml、27mmol)を5分間で加える。混合物は10分を要
して室温に戻し、次いで減圧下に半容量まで濃縮する。この溶液を直ちにフラッ
シュ・シリカクロマトグラフィーカラム(300g、シリカ)に移し、ヘキサン:
テトラヒドロフラン:トリエチルアミン(25:25:1)で溶出する。一部精製
物のフラクションを与える。不純フラクションは更にフラッシュ・シリカクロマ
トグラフィーに付し、ヘキサン:テトラヒドロフラン:ジクロロメタン:トリエ
チルアミン(25:25:10:1)で溶出する。生成フラクションのすべてをプ
ールし、濃縮すると化合物5が白色泡状物として、また、リンにおけるジアステ
レオ異性体の混合物として単離される。
実測値:C 66.2%;H 7.25%;N 7.5%
C41H51O7N4Pとして計算値:C 66.3%;H 6.9%;N 7.55%31
Pnmr1Hデカップリング(162MHz、CDCl3)δ128.3、127.
8ppm。
M/Z(ES+)743(M+H)+
(ES-)741(M−H)- 実施例5 化合物6および7を実施例4の方法に従って調製するが、ただし、化合物Dは
化合物Fに置き換える。反応は同じモル量の試薬を用い実施するが、濃度は半分
とする。調製の初期段階では、反応は1時間よりもむしろ2時間続行させて化合
物6(31Pnmrδ205.7ppm)を生じる。最終処理では粗製物を2度水洗し、
濃縮し、フラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル
/メタノール10:1+2% Et3N)により精製すると化合物7を2ジアス
テレオマーの混合物として得る。
実測値:C 63.85%;H 7.05%;N 9.55%
C46H59N6O6P・2H2Oとして計算値:C 64.25%;H 7.35%;
N 9.80%31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ128.6、128.
1ppm。
M/Z(ES+)823(MH+)実施例6 化合物8および9を実施例4の方法に従って調製するが、ただし、化合物Dは
化合物Gに置き換える。調製の初期段階では化合物8(31Pnmrδ207.7pp
m)を生じる。最終精製はフラッシュ・シリカ・カラムクロマトグラフィーを繰り
返し実施するが、先ず、ヘキサン/酢酸エチル2:1+2%Et3Nで溶出し、
次いで、ヘキサン/ジエチルエーテル1:3+2%Et3Nで溶出すると化合物
9を2ジアステレオマーの混合物として得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、202MHz)δ128.8および1
27.8ppm。
M/Z(ES+)(704、705、706、MH+)
(ES-)(702、703、704、M−H-)実施例7 化合物10を実施例6の方法に従って調製するが、ただし、実施例6で用いた
ジイソプロピルアミンをジメチルアミンに置き換え、中間体化合物8をTHF中
ジメチルアミンの2.0モル溶液と反応させる。フラッシュ・シリカ・カラムク
ロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル/ヘキサン3:1+2%Et3N)による
最終精製で、化合物10を2ジアステレオマーの混合物として得る。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ144.3および1
44.2ppm。実施例8 化合物11および12を実施例10の方法に従って調製するが、ただし、化合
物Dは化合物Nに置き換える。この場合、最終生成物である化合物12はフラッ
シュ・シリカ・カラムクロマトグラフィー(ヘキサン−THF−トリエチルアミ
ン50:50:1)で精製する。31
Pnmr1Hデカップリング(CDCl3、162MHz)δ128.1および1
27.6ppm。
MS(ES+)846、847、848(MH)+
(ES-)844、845、846(M−H)- 実施例9〜15
以下の修飾オリゴヌクレオチドをホスホラミダイト法を用いる標準DNA合成
技術により調製した。すべてのカップリング反応を二重カップリングにより実施
する;すなわち、オリゴヌクレオチド結合支持体を2〜3秒間ホスホラミダイト
溶液または修飾溶液に触れさせた後、該溶液をモノマー溶液の新鮮バッチと置き
換える。ホスホラミダイトとのカップリングの場合には、支持体を酸化またはチ
オ化(硫化)の前に洗浄する。式IのZが式IIの基である修飾モノマー(ホスホラ
ミダイトとしても知られる)とのカップリングの場合には、支持体を洗浄せずに
直ちに酸化またはチオ化溶液に接触させる。この操作はPIII中間体結合支持体の
潜在的水解を最小限とする。
以下に示す修飾オリゴヌクレオチドのヌクレオチド配列において、T、C、A
およびGはそれらの通常の意味を有し、通常のホスホラミダイトモノマーから誘
導されるものであり、tは化合物5から誘導されるヌクレオチド単位を示し、c
は化合物7から誘導されるヌクレオチド単位を示し、化合物5および化合物7は
合成の適切な時点で用いられる。硫化したヌクレオチド間連鎖はsにより示され
る。他のすべてのヌクレオチド間連鎖は酸化される。実施例9
5' TTTTtCTCTCTCTCT 3'
TOF MS 実測値=
理論値=4424.3実施例10
5' tttttCTCTCTCTCT 3'
TOF MS 実測値=4415.3
理論値=4415.9実施例11
5' GCGttttttttttGCG 3'
TOF MS 実測値=4859.8
理論値=4865実施例12
5' TTTTTTTTTTTTTTTtttT 3'
TOF MS 実測値=5709.3
理論値=5711.7実施例13
5' ttctcGsCsCsCsGsCsTsCsCstcctcC 3'
TOF MS 実測値=6086.6
理論値=7001.5実施例14
5' tstscstscsGsCsCsCsGsCsTsCsCstscscstscsC 3'
TOF MS 実測値=6214.5
理論値=6246.1実施例15
5' tstscstscsGsCsTsGsGsTsGsAsGstststscsA 3'
TOF MS 実測値=6092.9
理論値=6114
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(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
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,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S
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GH,HU,IL,IS,JP,KP,KR,LC,L
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,NZ,PL,RO,SG,SI,SK,TR,TT,
UA,US,UZ,VN,YU
(72)発明者 アルトマン,カール―ハインツ
スイス、ツェーハー―4153ライナッハ、タ
ネンヴェーク5番
(72)発明者 ダグラス,マーク・エドワード
イギリス、エスケイ10・5ビーアール、チ
ェシャー、マックルズフィールド、ボーリ
ントン、カンバーランド・ドライブ17番
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.式 [式中、B1はヌクレオシド塩基の基であり、R1は水素またはヒドロキシ保護基 であり、R2は水素、ヒドロキシまたは2'ヌクレオシド修飾原子もしくは基であ り、R3は置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、C2〜C10アルケニル、C4〜 C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリールまたはC7〜C13アラルキル基 であり、Zはハロゲンまたは式 (式中、R4およびR5はそれぞれ独立に置換もしくは非置換C1〜C10アルキル、 C2〜C10アルケニル、C4〜C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリール またはC7〜C13アラルキル基であるか、またはR4が当該基であって、R5が水 素であるか、またはR4およびR5はそれらが結合する窒素原子と共に5員環ない し13員環のヘテロ環を表わす)で示される基であるか、またはZは式 (式中、Nucは5’ヒドロキシ基を除いた後の天然もしくは合成ヌクレオシド またはオリゴヌクレオチド残基であり、その5'メチレンを介して表示した酸素 原子に結合している)で示される基である] で示される化合物。 2.該置換された基がハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、シアノ、 ニトロまたはトリ(C1〜C15ヒドロカルビル)シリルにより置換されている請求 項1記載の化合物。 3.R1が水素、C7〜C40芳香脂肪族基またはトリ(C1〜C15ヒドロカルビル) シリル基である請求項1または2記載の化合物。 4.R1が水素、置換もしくは非置換のトリフェニルメチル基またはC1〜C6ア ルキルジ(C6〜C8アリル)シリル基である請求項3記載の化合物。 5.R1がジメトキシトリチルまたはtert−ブチルジフェニルシリル基である請 求項4記載の化合物。 6.R2が水素、ハロゲン、ヒドロキシまたは式−OR6もしくは−OCOR6( 式中、R6が置換または非置換のC1〜C10アルキル、C2〜C10アルケニル、C3 〜C8シクロアルキル、C4〜C10シクロアルキルアルキル、C6〜C10アリール またはC7〜C25アラルキル基である)で表わされる基、またはトリ(C1〜C15ヒ ドロカルビル)シリル基である前記請求項のいずれかに記載の化合物。 7.R2が水素、ヒドロキシ、フッ素、式−OR6[式中、R6はC1〜C4アルキ ル基、C2〜C4アルケニル、C7〜C13アラルキル基、または−(R7−O−)n− R8(式中、R7はC1〜C4アルキレンであり、R8はC1〜C4アルキルであり、n は1〜8である)で示される基である]で示される基であるか、またはR2が式− OCOR6(式中、R6はC1〜C4アルキルまたはC6〜C8アリールである)で示さ れる基である請求項6に記載の化合物。 8.R2が水素、ヒドロキシ、フッ素、メトキシ、エトキシ、アリルオキシ、ベ ンジルオキシ、メトキシエトキシ、−O−(CH2CH2O)3CH3'アセトキシま たはベンゾイルオキシである請求項6に記載の化合物。 9.R3が置換もしくは非置換のC1〜C4アルキル、C3〜C5アルケニル、C6 〜C8シクロアルキルアルキルまたはC7〜C9アラルキル基である前記請求項の いずれかに記載の化合物。 10.R3がメチル、エチル、2−シアノエチル、2,2,2−トリクロロエチル 、アリル、ベンジルまたは2−(トリメチルシリル)エチルである請求項9に記載 の化合物。 11.Zが式II(式中、R4およびR5は独立に置換もしくは非置換のC1〜C4ア ルキル、C3〜C5アルケニル、C6〜C8シクロアルキルアルキルまたはC7〜C9 アラルキルであるか、あるいはR4がC1〜C4アルキルまたはC7〜C9アラルキ ルであり、R5が水素であるか、あるいはR4およびR5が結合した窒素原子と共 に環内に1または2個のヘテロ原子を有する5−員環もしくは6−員環のヘ テロ環を表わす)の基である前記請求項のいずれかに記載の化合物。 12.R4およびR5が独立にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、 n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、アリルまたはベンジル であるか、あるいはR4およびR5が結合した窒素原子と共にピロリジン、ピペリ ジンまたはモルホリン環を表わす請求項11に記載の化合物。 13.Zが式III(式中、Nucは固形支持体に結合している)で示される基であ る請求項1〜10に記載の化合物。 14.Zが塩素または臭素である請求項1に記載の化合物。 15.式 (式中、B1,R1,R2、R3およびZは前記定義のとおりである) で示される前記請求項のいずれかに記載の化合物。 16.B1がチミニル、5−メチルシトシニルまたは窒素原子上に保護基の置換 したチミニルもしくは5−メチルシトシニルであり、R1がジメトキシトリチル またはtert−ブチルジフェニルシリルであり、R2が水素であり、R3がメチル、 エチルまたは2−シアノエチルであり、そしてZが塩素または式II(式中、R4お よびR5はそれぞれメチルまたはイソプロピルである)で示される基であるか、ま たはZが式IIIで示される基である請求項1または請求項15に記載の化合物。 17.式IにおいてZがハロゲンである化合物を式 (式中、R4およびR5は請求項1に記載のとおりである) で示される化合物と反応させることを特徴とする、Zが式IIで示される基である 請求項1記載の化合物の製造法。 18.反応を有機溶媒中、第三級窒素塩基の存在下に−78℃ないし50℃の 温度で実施することを特徴とする請求項17に記載の方法。 19.式 (式中、B1,R1,R2およびR3は請求項1に定義のとおりである) で示される化合物を非酸化的ハロゲン化試薬により非酸化的にハロゲン化するこ とを特徴とする、式IにおいてZがハロゲンである化合物の製造法。 20.該非酸化的ハロゲン化試薬がハロホスホランであることを特徴とする請 求項19に記載の方法。 21.該ハロゲン化反応を有機溶媒中、塩基の存在下に−20℃ないし60℃ の温度で実施することを特徴とする請求項19または20に記載の方法。 22.R1がヒドロキシ保護基であり、Zが式IIで示される基である請求項1の 化合物を遊離の5'ヒドロキシル基含有天然もしくは合成ヌクレオシドまたはオ リゴヌクレオチドと反応させることを特徴とする請求項1に記載の化合物の製造 法。 23.Zが式IIIで示される基である請求項1記載の化合物を酸化反応に付し、 式VIIIにおいてXが酸素であるオリゴヌクレオチドとするか、または硫化反応に 付して、式VIIIにおいてXがイオウであるオリゴヌクレオチドとすることを特徴 とする式(式中、B1、R1,R3およびNucは請求項1に定義のとおりであり、Xは酸素 またはイオウである) で示されるオリゴヌクレオチドの製造法。 24.保護された5'ヒドロキシ基と3'位に式 (式中、R3,R4およびR5は請求項1に定義のとおりである) で示される基を有するヌクレオシドを、遊離の5'ヒドロキシ基を有する天然も しくは合成ヌクレオシドまたはオリゴヌクレオチドとのヌクレオシド・カップリ ング反応に付し、式 (式中、R3は請求項1に定義のとおりである) で示されるヌクレオシド間の連鎖を有するオリゴヌクレオチド前駆体を形成させ 、該前駆体を式(式中、R3は上記定義のとおりであり、Xは酸素またはイオウである) で示されるヌクレオシド間の連鎖を有するオリゴヌクレオチドに変換するが、そ の場合、該前駆体を酸化することにより式XIにおいてXが酸素であるヌクレオ シド間連鎖を有するオリゴヌクレオチドとし、また、該前駆体を硫化することに より式XIにおいてXがイオウであるヌクレオシド間連鎖を有するオリゴヌクレ オチドとすることを特徴とするオリゴヌクレオチドの製造法。 25.オリゴヌクレオチドの合成における請求項1記載の化合物の使用。 26.実施例のいずれかに実質的に記載した請求項1の化合物。 27.実施例1、2または4ないし8のいずれかに実質的に記載した請求項1 7の方法。 28.実施例1、2、4、5、6または8のいずれかに実質的に記載した請求 項19の方法。 29.実施例3および9ないし15のいずれかに実質的に記載した請求項22 、23または24の方法。
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