JP2000505673A - 実質的に連続した放射線検出ゾーンを備えたエックス線断層撮影システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 エックス線源と、ほぼ直線状配列（３４）にグループ分けした複数のエックス線検出器クリスタルを含み、エックス線源と連携するエックス線検出器アセンブリとを備えるエックス線走査システムにおいて、エックス線源から射出され、検出器アセンブリを通過する放射線が、ほぼすべて少なくとも１つの検出器クリスタルの少なくとも一部を通過するように検出器配列を位置決めすることにより、実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する。検出器配列は、焦点から延びる半径方向の直線（４２）に名目上垂直な方向に対して、あらかじめ選択した角度αだけ傾斜させてあり、したがって、配列内の隣接検出器クリスタル間の空間は、エックス線源から射出するエックス線と整列しない。角度αは、検出器クリスタルの形状および配列内の隣接クリスタル間の空間によって決まる。

Description

【発明の詳細な説明】 実質的に連続した放射線検出ゾーンを備えたエックス線断層撮影システム 技術分野 本発明は、一般にエックス線コンピュータ断層撮影（ＣＴ）システムに関し、 特にこのようなシステム内にあるエックス線検出器アセンブリの構成に関する。発明の背景 通常、第３世代のＣＴスキャナは、エックス線源と、直径を挟んで対向する、 環状ディスクの側部にそれぞれ固定したエックス線検出器配列とを含んでいる。 エックス線検出器は、ガントリ・サポート内に回転自在に取り付けられている。 ディスクの開口部内に位置する患者の走査を行っている間、ディスクは回転軸の 周りを回転し、これと並行して、エックス線がエックス線源の焦点から患者を貫 通して検出器システムに達する。 エックス線源および検出器配列は、焦点と各検出器との間のエックス線経路す べてが、ディスクの回転軸に垂直な同一平面（いわゆる「スライス面」、「回転 面」、または「走査面」）内にあるように配置されている。エックス線の経路が 、実質的な点源を始点とし、異なる角度で検出器まで延びているため、エックス 線の経路は扇状になっており、ある瞬間におけるエックス線経路すべてを表わす のに、「扇状ビーム」という用語が使用される。走査時のある測定時間に１基の 検出器が検出する放射線は、「放射線」すなわち「ビーム」だと考えることがで きる。放射線は、その経路にある患者の質量により、一部が減衰し、各検出器は 、減衰の積分の関数、すなわわち焦点からその検出器までの放射線経路にある患 者の部位の比重の関数として、強度測定値を１つだけ生成する。これらのエック ス線強度測定、すなわち投射は、複数の角度ディスク位置のそれぞれにおいて、 規 定の測定空間で行われるのが普通である。 ガス状態型、固体状態型などを初めとして、各種検出器が開発されている。代 表的な固体状態検出器（以下、「検出器」または「検出器チャンネル」と称する ）は、高エネルギー・エックス線光量子を低エネルギー可視光線光量子に変換す る閃光クリスタルと、低エネルギー可視光線光量子を振幅が非常に小さい電流（ すなわち、ピコアンペアからナノアンペア程度）に変換するフォトダイオードと を含んでいる。各検出器チャンネルの出力は、検出器のクリスタルに入射するエ ックス線束である。検出器配列の出力は、導体配列を介して、信号処理用データ 収集システム（ＤＡＳ）に伝達される。 得られた画像の解像度は、検出器の大きさによって決まるため、ＣＴスキャナ ・システムは、焦点を中心として延びる円弧にそってきわめて近接させて配置し た数百の検出器を含む。このような検出器配列のコストを下げることを目的とし て、米国特許第５４８７０９８号では、それぞれ複数の固体状態検出器を備えた 、予備組立済固体状態検出器モジュールの使用について述べている。前記特許は 、John DobbsおよびDavid Banksに付与され、本発明の譲受人に譲渡されたもの である。例えば、本発明の譲受人が製造した第３世代のＣＴスキャナ・システム は、それぞれ検出器１６基から成るモジュール２４個、すなわち４８度以下の角 度に対応する円弧内に密接に配置した総数３８４基の検出器を含む。したがって 、検出器単体の幅は、ミリメートル程度である。 検出器の奥行きまたは高さ（すなわち検出器の半径方向寸法）は、エックス線 光子を光学光子に変換して求める。この寸法は確率関数になる。エックス線がク リスタル内により深く貫入するほど、変換率は高くなる。したがって、変換率を 少なくとも９９％にするには、通常、半径方向の検出器の高さすなわち奥行きが ２．５ミリメートル程度となる。 モジュール内の各検出器は、四方を反射率が高い材料で取り囲まれているのが 普通である。この材料は、エックス線に対する透過性が高いが、クリスタル間の 過剰な光の漏洩を防止し、隣接する検出器チャンネル間の光の干渉を実質的に低 減あるいは排除する。さらに、反射性材料は、その下にあるフォトダイオードに 、クリスタルが生成する可視光を反射し、このクリスタルからでる信号のレベル を高める。反射性の高い材料が検出器のクリスタル間にあると、少なくとも０． ２〜０．３ミリメートルの放射線に対する感度が比較的低い狭小な領域により、 クリスタルが有効に分離される。この領域の深さは、クリスタルの半径方向の深 さに等しく、約２．５ミリメートルとなる。 放射線に対する検出器クリスタルの応答のグラフは、検出器クリスタルの主要 部分、すなわち中央部分で、一般に一定した最大感度を示し、検出器クリスタル の縁部にある、感度が低い領域、および配列内の隣接クリスタル間で比較的急激 に減少する。ＣＴスキャナ・システムの検出ゾーンは、複数の独立した検出領域 （検出器クリスタル）により構成され、この領域は、個々の検出器クリスタル間 および隣接検出器配列間にある、感度が低い領域（反射性材料）によって隔てら れている。 取扱いおよび製造の便宜をはかるため、検出器は、一般に直線的な配列にグル ープ分けされ、各配列は、少なくとも１６基、場合により２４基の検出器により 構成される。連続した検出領域をより正確に模式化するには、放射線に対して比 較的感度が低い、隣接検出器クリスタル間の空間をできるだけ小さくすることが 望ましい。しかし、配列した検出器間に反射性が高い覆膜があり、しかも製造直 後の検出器の寸法にはばらつきがあるため、厳密に連続した検出領域が得られる ほど検出器を接近させることは実際上困難である。患者の各投影において、個々 の検出器チャンネル間の空間および隣接する検出器配列間の空間は、信号情報が 少ない領域であることは明らかである。このような領域が存在すると、検出器の 放射線検出効率が低下し、したがって、再構成した画像の精度および解像度に影 響がでる。 したがって、既存システムの問題を解決するシステムを提供できれば、ＣＴス キャナ・システム技術において利益である。発明の目的 したがって、本発明の目的は、実質的に連続した放射線検出ゾーンを有するエ ックス線走査システムを提供することである。 さらに、本発明の他の目的は、形状効率が最大となるように検出器の配置を最 適化したエックス線走査システムを提供することである。 加えて本発明の目的は、配列した隣接検出器クリスタル間、および隣接配列間 にある間隙によってシステムの放射線検出効率が低下することがないエックス線 走査システムを提供することである。発明の概要 本発明によるエックス線走査システムは、（ａ）放射線ビームが射出される焦 点を規定するエックス線源と、（ｂ）回転軸の周りを回転するようにエックス線 源を支持する構造物と、（ｃ）配列した複数のエックス線検出器を含み、エック ス線源と連携して、焦点から検出器すべてに達する放射線ビームを画成するエッ クス線検出器アセンブリとを含む。エックス線走査システムは、さらに、焦点に 対する検出器の位置決めおよび検出器相互の位置決めを行い、さらに放射線ビー ム内に実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する手段を具備している。本発 明によれば、配列を通過するビーム内の放射線が、ほとんどすべて、少なくとも １基の検出器の少なくとも一部を通過する。 検出器は、ほぼ直線状の配列にグループ分けされ、この配列は、配列内の隣接 検出器間の狭小な空間が、焦点から延びる半径方向の直線と不整合であり、した がって、エックス線源から放出されるビームとも不整合であるように方向が定め られている。したがって、配列は、このような半径方向の直線に対して垂直では なく、その代わりに、焦点から配列のほぼ中心まで延びる半径方向の直線とほぼ 垂直な配列方向に対して、あらかじめ選択した角度αをなすように方向を定めて ある。角度αの値は、検出器クリスタルの形状およびクリスタル間の空間に応じ て決まる値であって、エックス線源から射出され、検出器に衝突する放射線のほ ぼすべてが、少なくとも１つの検出器クリスタルの少なくとも一部を通過するよ うに選択する。 各検出器配列は、支持構造物と係合するようにしたモジュール式ユニットにな っていることが好ましい。 さらに、本発明のエックス線走査システムは、エックス線源と検出器アセンブ リとの間に配設した複数の散乱防止プレートを含み、支持構造物に取り付けた散 乱防止プレート・アセンブリを含む場合もある。散乱防止プレートは、焦点から 延びる半径方向の直線にほぼ整合しており、さらに対応する検出器の、最大感度 が一定な領域とほぼ整合するように配置することが好ましい。 本発明の前記およびその他の目的および特徴は、一部は自明であり、一部は、 以下で明らかになる。したがって本発明は、以下の詳細な説明に例を挙げる要素 および部品構成の組み合わせである構造を有する装置を備えている。本発明の範 囲は、請求項に示す。図面の簡単な説明 本発明の特徴、目的を十分に理解するために、添付の図面と併せて、以下の詳 細な説明を参照されたい。 第１図は、本発明による、ＣＴスキャナ・システムの軸方向図である。 第２図は、本発明による検出器モジュールの好ましい実施形態の斜視図である 。 第３図は、本発明の好ましい実施形態によるＣＴスキャナ・システムの一部の 略軸方向図である。 第４図は、本発明の好ましい実施形態による支持構造物上のモジュール式検出 器および散乱防止アセンブリの略平面図である。 第５図は、焦点から延びる半径方向の直線に対して、ある角度で方向を定めた 検出器配列の一部の略詳細図である。 第６図は、検出器配列の別の実施形態の略平面図である。図面の詳細な説明 本明細書で使用する場合、「半径方向の」という表現は、エックス線源の焦点 から延びる方向または前記焦点に向かう方向を意味する。また、本明細書で使用 する場合、「接線方向の」という表現は、半径方向にほぼ垂直であり、かつエッ クス線スキャナの回転軸にほぼ垂直な方向を意味する。 本発明のＣＴスキャナ・システムは、配列した隣接クリスタル間の空間が、焦 点から延びる半径方向の直線に不整合であり、したがって焦点から射出されるエ ックス線とも不整合になるようにすべての検出器配列の方向を定める手段を設け ることによって、実質的に連続した放射線検出ゾーンを実現するものである。焦 点から配列のほぼ中心まで延びる半径方向の直線に名目上垂直な配列の方向に対 して、あらかじめ選択した角度αをなすように配列の方向を定める。配列の方向 を定める角度は、エックス線源から射出され、検出器アセンブリに衝突する放射 線が、ほぼすべて少なくとも１つの検出器クリスタルの少なくとも一部を通過す るように選択する。角度αの値は、検出器クリスタルの形状および検出器クリス タル間の空間、具体的には、半径方向に測定した場合の検出器クリスタルの高さ 、および接線方向に測定した場合のクリスタル間の空間幅によって決まる。検出 器の配列が、このように名目上垂直な方向から傾いているため、エックス線源か ら射出され、検出器アセンブリを通過する放射線のほぼすべてが、少なくとも１ つの検出器クリスタルの少なくとも一部に衝突し、検出器クリスタル間または検 出器配列間にある、放射線に対する感度が比較的低い領域にだけは、ほぼまった く放射線が衝突しない。 第１図は、本発明によるＣＴスキャナ・システムを示す図である。ＣＴ走査の データを提供するため、スキャナ８は、エックス線源１２と、ディスク１０に取 り付けた検出器アセンブリ１４とを含む。エックス線源１２および検出器アセン ブリ１４は、ＣＴ走査時にディスクの中心開口部を貫通して延びる物体１８の周 囲を回転するように、（第１図に対して垂直に延びる）回転軸１６の周囲を回転 する。物体１８は、頭部または胴体など、患者の一部の場合もある。（回転軸１ ６に対して垂直な）走査平面内で、エックス線源１２は、連続した扇状のエック ス線ビーム２０を放射する。前記ビームは、焦点９から射出し、検出器アセンブ リ１４まで延び、物体１８を通過したのち、検出器アセンブリ１４によって感知 される。物体１８と検出器アセンブリ１４との間には、散乱防止プレートの配列 ２２があって、検出器が感知した散乱放射線の量を実質的に減少させる。 好ましい実施形態では、検出器が３８４基あり、４８°の円弧に対応している 。ただし、検出器の数および円弧の角度は変えることもできる。再度第１図を参 照して説明すると、ディスク１０は、アルミニウムなど、軽量材料製であること が好ましく、軸１６の周りを高速で滑らかに回転する。ディスク１０は、物体１ ８をディスクの開口部に貫通させることができるように、オープン・フレーム構 造になっている。物体１８は、例えばパレットまたはテーブル３２上で支持され ている。パレットまたはテーブルは、エックス線に対してできるだけ透過性を備 えているのがよい。ディスク１０が回転するのにともない、検出器アセンブリ１ ４が周期的にサンプリングされ、様々な射出角度から走査面内で物体１８を貫通 するエックス線を定期的に測定する。次に適切な信号処理装置（図示せず）によ り、周知の数学的方法にしたがって測定値を電子的に処理し、最終的な画像情報 を生成する。画像情報は、メモリに保存され、コンピュータで解析され、適切に 表示される。 検出器アセンブリ１４は、支持突起２８の形態をした基礎支持要素を含む。各 検出器および散乱防止プレートは、対応する複数の同じモジュール２４、２６に 組み込まれている。モジュールは正確に整合が行われ、突起２８に固定されてい る。検出器が必ず走査平面上にあって、エックス線源１２の焦点９に対して等し い角度で相対するように、突起は、適切な支柱３０を備えたディスク１０により 支持されている。 検出器モジュール２４の好ましい形態の詳細を図２に示す。このモジュールは 、ソリッド・ステート検出器９２の配列３４および多導体リボン・ケーブル９４ または柔軟なその他のコネクタを一方の面に取り付けた金属ブロック９０を備え ている。ブロック同士が相互に干渉することなく検出器配列を密接配置しやすく するには、ブロック９０の少なくとも一部の幅が、配列３４よりも狭くなってい ることが好ましい。図示した実施形態では、ブロック９０の幅が、配列３４の幅 よりも均等に狭くなっているが、配列の配置を容易にして、形状効率を最大にし 、放射線が、検出器クリスタル間にある、放射線に対する感度が低い領域に衝突 する可能性をできるだけ少なくするようなその他の構成も、本発明の範囲内に入 る。 検出器配列の下にあるフォトダイオードは、隣接する検出器クリスタル間にあ る反射性材料領域に衝突する放射線を検出することができるが、フォトダイオー ドによる検出は、放射線の検出率がわずか１％程度と、大幅に低下する。したが って、検出器クリスタル間の空間に放射線が直接衝突するのは避けることが望ま しい。 第３図および第４図に、本発明の検出器モジュール構成の好ましい実施形態を 利用したＣＴスキャナ・システムを示す。１６個の検出器クリスタル９２が、モ ジュール・ブロック９０上に直線状配列３４にして取り付けてある。第４図に明 瞭に示されているように、配列３４は、ブロック９０の縁部を越えて延びており 、したがって、隣接配列の検出器クリスタルが、配列の端部と隣接する検出器モ ジュールのブロックとの接触に干渉することなく、扇状ビームの円弧にそって接 線方向に近接配置できる。各検出器モジュール２４は、焦点９（図示せず）から 配列の中心に延びる半径方向の直線４２に名目上垂直な配列方向に対して、あら かじめ選択した角度αで傾斜している。傾斜を与えることによって、接線方向に 重 なったパターン、すなわち「鱗状」パターンに検出器配列３４を配設することが でき、したがって、（反射性材料３８の領域として指定した）隣接する検出器間 の空間は、半径方向の直線４２にそって不整合になっている。また、焦点から射 出し、検出器モジュールに向かう放射線が、少なくとも１つの検出器クリスタル の少なくとも一部を必ず通過するように、隣接検出器配列の重なりの程度を調整 することができる。よって、エックス線源からでるエックス線は、少なくとも１ つの検出器クリスタルの少なくとも一部に衝突するが、検出器クリスタル間の反 射性材料の領域にだけは衝突することがない。 特に稠密な物体への放射線照射から生じる迷放射線、すなわち散乱放射線が、 検出器クリスタルに衝突するのを防止するために、長尺で薄い「散乱防止」プレ ート２２の配列を、エックス線源と検出器の間に配置する。散乱防止プレートは 、エックス線を通さず、実質的に、エックス線源から検出器にいたる直線を横切 る放射線だけを通すように検出器と整合した状態になっている。一般に、散乱防 止プレートは、焦点から延びる半径方向の直線４２にそって整合するように配置 され、また、各光路に沿って通常の入射放射線から例えば、約３度以上変化する 角度で検出器クリスタルに衝突する放射線を遮断するように配置されている。 第４図は、本発明の好ましい実施形態によるＣＴスキャナ・システムの一部を 示す図であり、この図では、検出器モジュール２４および散乱防止プレート・モ ジュール２６が、支持構造物、すなわち突起２８に取り付けられている。散乱防 止プレート・モジュール２６は、散乱防止プレート２２が、焦点から延びる半径 方向の直線とほぼ整合するように検出器モジュールに対して配置され、検出器モ ジュール２４に固定されている。 第５図は、配列内の２つのクリスタルおよびエックス線がクリスタルに衝突す る際の方位の拡大図である。エックス線源と検出器アセンブリとの半径方向距離 は、比較的大きく（８５０ｍｍ程度）、配列内のクリスタルの間の空間は比較的 狭い（０．２〜０．３ｍｍ程度）ため、エックス線１９は、本質的に平行になる 。 検出器クリスタルに衝突する放射線の約９０％が、クリスタルへの貫入深さが１ ミリメートルに達するまでに吸収される。好ましい実施形態では、約２．５ミリ メートルまで放射線を貫入させる検出器クリスタルが、衝突する放射線の約９９ ．５％を吸収する。 検出器配列を傾斜させてあるため、点Ａ、または点Ａの左側および点Ａ’の右 側の点で検出器１に衝突するエックス線は、約９９．５％だけ吸収される。点Ｄ 、または点Ｄの右側および点Ｄ’の左側の点で検出器２に衝突するエックス線も 、約９９．５％だけ吸収される。点Ａと点Ｄとの間の領域に衝突するエックス線 は、傾斜角度および衝突点次第では、検出器１および２のいずれか一方または両 方の一部に貫入する。点Ｂおよび点Ｃの間に衝突する場合の吸収率は約９０％で あり、領域ＡＢおよびＣＤで衝突する場合の吸収率は、約９０％と９９．５％と の中間の値になる。２つの隣接するクリスタルへの放射線の貫入深さの合計が、 領域ＢＣで衝突するエックス線が９０％吸収される程度になるように傾斜角度を 選択する。 隣接する検出器モジュールは、焦点からほぼ同じ半径方向距離に位置している が、検出器モジュールを接線方向に重なったパターン、すなわち「鱗状」パター ンにするために、名目上垂直な方向に対して、あらかじめ選択した角度αで傾斜 している。第５図に示すように、角度の値は、検出器クリスタル間の空間幅およ び検出器の半径方向高さによって決まる。放射線が、少なくとも１つの検出器ク リスタルに約１ミリメートルだけ貫入できる程度に検出器配列を傾斜させること が好ましい。実際の角度は、約７度から１１度の範囲で変化する。ただし、少な くとも１つの検出器クリスタルの少なくとも一部に、所望するだけ放射線を貫入 させるには、その他の角度にしなければならないこともある。 本発明による検出器配列構成の大きな利点は、ＣＴスキャナ・システムの形状 効率が向上することである。焦点から延びる半径方向の直線に名目上垂直な方向 に対して検出器配列を傾けるだけで、実質的に連続した放射線検出ゾーンができ る。このように検出器配列を傾斜させることにより、検出器クリスタル間の空間 が、焦点から射出されるエックス線と整合しなくなり、しかも、エックス線が、 検出器クリスタルの少なくとも一部に必ず貫入するとともに、検出器間の空間に だけは衝突しなくなる。 本発明の好ましい実施形態では、対応する検出器の、最大感度が一定の領域と 整合するように、検出器１４に対して散乱防止プレート２２を配置する。散乱防 止プレートは、検出器と同数である必要はなく、検出器よりも多くしたり、少な くしたりすることができる。 検出器配列は、ほぼ矩形の検出器チャンネルを備えたほぼ矩形の要素として示 したが、第６図に示すように、平行四辺形にした検出器チャンネル９２’を備え た平行四辺形として構成することもできる。このような配列は、焦点から延びる 半径方向の直線４２にほぼ垂直な配列の表面に配置することもできる。平行四辺 形構成のクリスタルの角度αは、第３図および第４図の実施形態の配列２４に与 えた傾斜角度と同じ結果をもたらす。 本明細書に開示した発明の範囲から逸脱することなく、上記の装置に変更を加 えることができるため、上記の説明の内容、および添付の図面に図示した内容は 、すべて説明用であって限定的なものではないものとする。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．（ａ）放射線ビームが射出される焦点を定めるエックス線源と、（ｂ）回 転軸の回りを回転するようにエックス線源を支持する手段と、（ｃ）前記エック ス線源と連携する複数のエックス線検出器を含み、焦点から検出器すべてに達す る放射線ビームを画成するエックス線検出器アセンブリとを含む形式のエックス 線走査システムであって、 前記焦点に対する前記検出器の位置決め、および前記検出器相互の位置決めを 行って、前記放射線ビーム内に実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する手 段をさらに含み、前記検出器アセンブリを通過する前記ビーム内の放射線のほぼ すべてが、少なくとも１基の検出器の少なくとも一部を通過するエックス線走査 システム。 ２．前記検出器が、複数のほぼ直線状の配列にグループ分けされ、検出器配列 が、焦点から半径方向にほぼ同じ距離に位置し、焦点から延びる半径方向の直線 に対してほぼ垂直以外の角度をなす請求項１に記載のエックス線走査システム。 ３．前記検出器配列が、焦点から前記配列のほぼ中心まで延びる半径方向の直 線に名目上垂直な方向に対して、あらかじめ選択した角度αで配置されており、 配列内の隣接する検出器間の空間が前記半径方向の直線と整列していない請求項 ２に記載のエックス線走査システム。 ４．前記各検出器が、前記放射線を検出する検出器クリスタルを含み、前記角 度αの絶対値が、検出器クリスタルの高さおよび配列内の隣接クリスタル間の空 間の幅によって決まる請求項３に記載のエックス線走査システム。 ５．回転軸の回りを回転するようにエックス線源を支持する手段が、前記回転 軸の回りを回転するように前記エックス線源と前記検出器アセンブリの両方を支 持する手段を含む請求項４に記載のエックス線走査システム。 ６．前記システムが、フレーム・サポートを含むガントリをさらに含み、前記 回転軸の回りを回転するように前記エックス線源と前記検出器アセンブリの両方 を支持する手段が、前記フレーム・サポート内で前記回転軸の回りに回転するよ うに前記エックス線源および前記検出器アセンブリを支持するフレームを含む請 求項５に記載のエックス線走査システム。 ７．前記フレームが、前記検出器を位置決めする前記手段と連携する基準面を 含む請求項６に記載のエックス線走査システム。 ８．エックス線源と前記検出器アセンブリとの間に配設した複数の散乱防止プ レートを含む散乱防止プレート・アセンブリと、前記散乱防止プレートが、焦点 から延びる半径方向の直線とほぼ整合するように、前記検出器アセンブリに対し て前記散乱防止プレート・アセンブリを取り付ける手段とをさらに含み、検出器 により検出される放射線が、エックス線源から直接放射される放射線にほぼ限定 される請求項７に記載のエックス線走査システム。 ９．前記散乱防止プレートが、対応する検出器の、最大感度がほぼ一定な領域 とほぼ整合している請求項８に記載のエックス線走査システム。 １０．（ａ）回転軸の回りを回転するように、少なくともエックス線源を回転 自在に支持するフレームを含むガントリと、（ｂ）前記エックス線源と連携する 複数のエックス線検出器を含み、１つまたは複数のほぼ直線状の配列に配設され たエックス線検出器アセンブリと、（ｃ）前記検出器アセンブリを支持するよう に前記フレームに接続された支持構造物と、（ｄ）前記支持構造物上に取り付け た散乱防止プレート・アセンブリとを含むコンピュータ断層撮影エックス線走査 システムであって、前記散乱防止プレート・アセンブリが、エックス線源と前記 検出器アセンブリとの間に配設した複数の散乱防止プレートを含み、前記エック ス線源が、放射線が射出される焦点を定めるとともに、検出器システムにより放 射線ビームを定めるコンピュータ断層撮影エックス線走査システムにおいて、 前記検出器アセンブリを通過する前記放射線ビームから生成する放射線のほぼ すべてが、少なくとも１基の検出器の少なくとも一部を通過するように、検出器 を位置決めする工程を備える、実質的に連続した放射線検出ゾーンを形成する方 法。 １１．前記検出器配列が、焦点から半径方向にほぼ同じ距離に位置し、焦点か ら延びる半径方向の直線に対してほぼ垂直以外の角度をなす請求項１０に記載の 方法。 １２．前記配列が、焦点から前記配列のほぼ中心まで延びる半径方向の直線に 名目上垂直な方向に対して、あらかじめ選択した角度αで前記支持構造物上に取 り付けられ、配列内の隣接検出器間の空間が、前記半径方向の直線と整列してい ない請求項１１に記載の方法。 １３．各検出器が、検出器クリスタルを含み、前記角度αの値が、検出器クリ スタルの高さおよび配列内の隣接クリスタル間の空間の幅によって決まる請求項 １２に記載の方法。