JP2000504976A - 介入的処置のためのmrシステム及び侵入的な装置 - Google Patents

介入的処置のためのmrシステム及び侵入的な装置

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Abstract

(57)【要約】 MR装置及び侵入的な装置を有する介入的処置用のMRシステムである。MR装置は対象の一部の画像を捕捉するよう配置される。侵入的な装置の一部は、侵入的な装置の表面の下に相互に距離を置いて配置される2つの非磁性導体を有するコイル又は導電体ルーブを設けることによってMR画像の中に撮像されうる。患者又は侵入的な装置の運動によるアーティファクトの減少はMR信号をサンプリングすることによって獲得されえ、それにより補助磁界はk空間中の複数のラインが走査される時間の間に周期的に印加される。

Description

【発明の詳細な説明】 介入的処置のためのMRシステム及び侵入的な装置 本発明は、a)定常磁界を発生する磁石と、 b)読取り傾斜及び読取り傾斜に直交する他の一時傾斜磁界を有する一時傾斜 磁界を発生する手段と、 c)RFパルスを発生する手段と、 d)MR信号を測定する手段と、 e)対象の画像を決定するよう測定されたMR信号を処理する処理手段と、 f)補助磁界を発生する手段を有する侵入的な装置と、 g)上記一時傾斜磁界を発生する手段、上記RFパルスを発生する手段及び上 記補助磁界を発生する手段のための制御信号を発生する制御ユニットとを有し、 対象の領域の画像を捕捉するよう配置されたMR装置を有し、 上記制御ユニットは、MR信号の測定の間k空間が複数のラインに沿って走査 され補助磁界が印加されるよう、読出し傾斜及び他の一時傾斜磁界のうちの1つ が定常磁界の上に重合わせられるよう配置され、 上記処理手段は更に印加された補助磁界によって誘導される測定されたMR信 号の変化から対象中の侵入的な装置の位置を決定するよう配置される介入的処置 用のMRシステムであって、 上記制御ユニットは更に、k空間の中の複数のラインが走査される時間の間、 上記補助磁界は周期的に印加されるよう配置されることを特徴とするMRシステ ムに関する。 この種類のMRシステムは米国特許第4,572,198号より既知である。 本願の文脈において侵入的な装置とはその位置決めが重要となる任意の器具、例 えば誘導ワイヤ又は生検針といった器具 を意味すると理解される。本願の文脈においてk空間とは軌道に沿ってMR信号 が測定され、測定値が対象の画像の逆フーリエ変換された値を発生させる空間周 波数領域として理解されるべきである。k空間中の軌道は励起RFパルスからM R信号の実際の測定時点までの時間間隔に亘って印加された一時傾斜磁界の時積 分によって決定される。 既知のMRシステムでは、対象に侵入的な装置が使用される介入的処置を受け させるよう、侵入的な装置はMR装置と協働して配置される。これは例えば患者 の血管形成である。更に、既知のMRシステムでは画像処理手段は患者の2つの 連続するMR画像に基づいて対象のスライス中の侵入的な装置の一部分の位置を 決定する。補助磁界は最初の画像の再構築のためのMR信号を発生する間スイッ チオフされ、一方次のMR画像の再構築のための信号を発生する間スイッチオン される。侵入的な装置の一部分に設けられたコイルによって発生される補助磁界 はMR装置によって発生された磁界を乱し、それにより2つのMR画像間に相違 が発生する。処理ユニットは2つのMR画像の変化に基づいて侵入的な装置の一 部分の位置を決定する。更なる段階では侵入的な装置の一部分の位置はカーソル によって人体のMR画像上に重ね合わされ、モニタ上に表示される。 決定された位置の精度が侵入的な装置又は対象の画像の中の運動アーティファ クトによって影響を受けることは既知の装置の欠点である。 本発明は特に決定された位置の精度に対するそのような運動アーティファクト の影響を減少させることを目的とする。 このため本発明によるMRシステムは、制御ユニットがk空間中の複数のライ ンが走査される時間の間に補助磁界が周期的に印加されるよう更に配置されるこ とを特徴とする。この方法の効果は、MR信号の変化は侵入的な装置又は対象の 動きによってあまり影響を 受けず、侵入的な装置に対して決定された位置の精度は改善されることである。 これは位置情報が得られるべきMR信号の差の発生の間に経過する時間が既知の 方法で位置を得るのに必要とされる1つ又は2つの画像の捕捉時間と比較して実 質的に減少されているためである。 本発明によるMR信号の実施例は、制御ユニットが補助磁界が印加される時間 がk空間中の単一のラインが走査される時間よりも短いよう配置されており、k 空間の各ラインは2回走査され、処理手段はk空間中の同じラインに対応する2 つの測定されたMR信号の複素減算によって侵入的な装置の位置を決定するよう 更に配置されることを特徴とする。侵入的な装置の位置情報は従ってより高い精 度で獲得されうる。これは、補助磁界によって影響を受けるMR信号の第1の測 定と、補助磁界によって影響を受けていないk空間中の同じラインのMR信号の 第2の測定との間に経過する時間は実質的に2つのMR画像の続く捕捉の間に経 過する時間よりも短いためである。 本発明によるMRシステムの他の実施例は、MR信号を測定する手段はMR信 号がサンプリング周波数を使用してサンプリングされるよう配置され、制御ユニ ットは印加される補助磁界がMR信号のサンプリングの間にMR信号の元の帯域 幅に略等しい周波数によって周期的に印加され、処理手段は測定されたMR信号 がフーリエ変換され、フーリエ変換された値が侵入的な装置及び対象の画像情報 の位置情報へ分割されるよう配置されることを特徴とする。MR信号の元の帯域 幅BWsは対象の中のメートルで表わされる視野(FOV)、印加された読取り 傾斜の強さ(mT/m)及び磁気回転比γ(rad/sT)に関連し、公式BWs =γGxFOV/2πによって表わされる。反復周波数faux=BWsを有する周 期的に印加される補助磁界Baux(x,y)は、位置(xo,yo)において侵入 的な装置の遠位端の近傍における磁化に乱れを誘導する。2 次元フーリエ変換の後、D=2πfaux/γG(m)とすると、位置(xo),( xo+D,yo)及び(xo−D,yo)において画像中に乱れが生ずる。視野(F OV)は撮像される人体の一部の寸法として定義される。シフトは磁化の位相の 誘導された乱れの1次近似の及びフーリエ変換対の並行移動特性の結果である。 距離Dが視野よりも大きければ、乱れは対象画像の外側の位置へシフトされる。 侵入的な装置の位置情報は複素画像の左右の縁の付近に現れ、対象の画像情報は 複素画像の中央付近に現れる。従って2つの別々の画像が獲得されうる:1つの 対象の画像及び1つの乱れの画像である。 本発明によるMRシステムの更なる実施例は、侵入的な装置の位置が複素画像 の左側の縁の付近に現れる位置情報と右側の縁の付近に現れる位置情報との組合 せによって定義されることを特徴とする。これにより侵入的な装置の位置測定の 信号対雑音比が改善される効果がである。これは画像の左側の縁にある情報は、 右側の縁にある情報と同じ情報であるが反対の符号を有するためである。このと き信号対雑音比は約√2だけ改善される。 本発明によるMRシステムの更なる実施例は、制御ユニットが高速MR撮像シ ーケンスを発生するよう配置されることを特徴とする。高速MR撮像シーケンス の使用により、例えば1つの画像当たり約100乃至200msの範囲で対象の 画像を獲得するようMR信号の測定の捕捉時間は減少される。結果として人体の 運動による画像アーティファクトは更に減少される。高速撮像シーケンスは例え ば高速磁界エコーシーケンス(FFE),ターボスピンエコーシーケンス(TS E)及び傾斜及びスピンエコーシーケンス(GRASE)である。これらのシー ケンスはそれ自体として特に欧州特許出願第604441号より既知である。 本発明によるMRシステムの更なる実施例は、また制御ユニットがいわゆるキ ーホール技術によってMR信号から画像を得るよう配 置されることを特徴とする。この段階は捕捉時間の更なる減少を提供する。この 技術は特に欧州特許出願第543468号より既知である。引用された特許出願 によるキーホール技術は第1の画像を捕捉するよう完全なk空間に関連するMR 信号の組を利用する。続いて、k空間の当該の部分に関連する以前に獲得された MR信号組のMR信号の位置に次に代入される新しいMR信号を発生するために 、k空間の一部分のみが使用される。この更新されたMR信号の組から一時的な 続く画像が決定される。 本発明によるMR信号の更なる実施例は、侵入的な装置の位置を自動的に決定 し、このように決定された侵入的な装置の位置から撮像されるべき次のスライス の位置を自動的に決定することによって侵入的な装置の位置が追跡されることを 特徴とする。追跡によって、侵入的な装置又は人体が動いた場合でもスライス画 像中の侵入的な装置の位置は連続的に監視されるという効果がある。 本発明の上述及び他の面は以下説明される実施例を参照して明らかとなろう。 図中: 図1はMRシステムの実施例を示す図であり、 図2はコイルを有するカテーテルの実施例を示す図であり、 図3はEPIシーケンスを示す図であり、 図4はTSEシーケンスを示す図であり、 図5はkx軸に沿ったMR信号のスペクトルを示す図である。 図1はMR装置1及び侵入的な装置15を有するMRシステムの実施例を示す 図である。MR装置1は定常磁界を発生する第1の磁石系2を有する。図示され る座標系のz方向は磁石系2の定常磁界の方向に対応する。MRシステムは更に 、z方向に向けられた一時的な磁界とx、y及びz方向の傾斜とを夫々発生する ための第2の磁石系3を有する。議論の簡単化のため、x、y及びzは夫々読取 り符号化、位相符号化及び方向選択として使用されることに注意すべきである。 これらの方向はシステムの主方向と一致する必要はない。更に、x方向,y方向 及びz方向の傾斜を有する一時傾斜磁界は本願中、読出し傾斜、位相符号傾斜及 びスライス選択傾斜と称される。電源供給手段4は第2の磁石系3に電源供給す る。磁石系2は検査されるべき対象7、例えば人体の一部等を収容するのに十分 大きな検査空間を包囲する。RF送信器コイル5はRF磁界を発生するよう作用 し、RF源及び変調器6に接続される。RF送信器コイル5は検査空間中の人体 7の一部の周囲に配置される。システムはまた送信器/受信器回路9を通じて信 号増幅及び復調ユニット10に接続される受信器コイルを有する。受信器コイル 8及びRF送信器コイル5は同一のコイルであり得る。制御ユニット11はRF パルス及び一時傾斜磁界を有する撮像シーケンスを発生するために変調器6及び 電源供給手段4を制御する。検査空間中に配置される人体の一部の中の核スピン の励起の後、受信器コイル5はMR信号を受信する。そこから得られる位相及び 振幅は更に増幅及び復調ユニット10の中で処理される。画像再構築ユニット1 2は画像を形成するよう発生された信号を処理する。この画像は画像処理ユニッ ト13を通じて例えばモニタ14上に表示される。制御ユニット11はまた画像 再構築ユニット12、画像処理ユニット13及びカテーテル電源供給ユニット1 6を制御する。図1はまた侵入的な装置の実施例としてカテーテル15を示す。 カテーテル15はカテーテル電源供給ユニット16に接続されるコイル(図示せ ず)を有する。 図2はカテーテルの実施例の詳細図を示す図である。カテーテル15は導管2 0、遠位端21、近位端22及びコイル23を有する。カテーテル15は低磁気 感受率の電気的に適当な絶縁材によって形成される。カテーテル15は例えば0 .3mm乃至3mmの直径と、例えば110乃至150cmの範囲の固定長を有 する。残りについ てはカテーテル15は外被24を含む慣習的な形状及び構成を有する。導管20 は任意に与えられうる。 コイル23は例えば表面の直下にカテーテル15内の導管20に隣接する位置 に遠位端21付近に設けられうる。コイル23は非磁性導電材、例えば0.1m mの直径を有する銅のワイヤを有する。コイルは非磁性電導体25,26を通じ てカテーテル電源供給ユニット15に接続される。コイルはまた非磁性導電体に よって形成され、カテーテルの実質的な場所に沿って延在するループとして設け られうる。補助磁界Bauxはコイル23を通じて電流Iauxによって発生される。 電流Iauxはカテーテル電源供給ユニット16によって供給される。制御ユニッ ト11は電流Iauxの強さ及び電流Iauxがコイル23に印加される周期を制御す る。 カテーテル15の遠位端21は例えば人体の血管の中に導入されうる。導管2 0を通じて更なる機器が人体の中に導入される;例えばカテーテル15を制御す るためのより細いカテーテル又は誘導ワイヤが導管20を通じて挿入されうる。 更に造影剤又は作用物質、例えば血栓崩壊液もまたカテーテル15を通じて投与 されうる。 本発明を、例として上記のMRシステムについてエコー平面撮像シーケンス( EPI)と組み合わせて説明する。EPI撮像システムはそれ自体として引用さ れた欧州特許出願第604441号より既知である。 図3は、RF励起パルス及び一時傾斜磁界Gx,Gy,Gzを有するエコー平面 撮像シーケンス30を示す図である。図3中、一時傾斜磁界Bauxもまた図示さ れている。EPIシーケンスは、フリップ角αを有する励起パルス100及びカ テーテル15の遠位端21を含む人体7のスライス中の核スピンを励起するスラ イス選択傾斜110の印加によって開始する。フリップ角αは例えば90°であ る。スライス選択の後、初期位相符号化傾斜120及び読取り傾斜130が印加 される。k空間の中に規則的に分布され、kx軸 に平行に延在する複数の平行ラインに沿ってMR信号150,151,152を 測定するため、ブリップと称される更なる位相符号化傾斜121,122,12 3が読取り傾斜130の第2及び更なるローブの後に印加される。例えばk空間 中の128又は256のラインに対応する測定されたMR信号の完全な組を獲得 するため、EPIシーケンスは初期位相符号化傾斜の異なる値に対して繰り返さ れる。画像はMR信号の測定された組から再構築されうる。 本発明の第1の方法によれば、第1の段階において第1のEPIシーケンスは 例えばk空間中の3つのラインに対応する3つの磁界エコーMR信号150,1 51,152を測定するために実行される。方法の更なる段階では、再び3つの MR信号を測定するために、第1の補助磁界140は更なるEPIシーケンスの 中のRF励起パルス100及び読取り傾斜130の間に印加される。第1の補助 磁界140はコイル23の付近の対象の中の磁化に乱れを誘導する。最後の3つ の測定されたMR信号は、第1のEPIシーケンスの3つのMR信号が対応する のと同じk空間中の3つのラインに対応する。各EPIシーケンスのMR信号の 受信及びサンプリングの後、受信されたMR信号のサンプリングされた値は夫々 基準及び測定の組の中に記憶される。 異なる位相符号化傾斜を有する第1及び更なるEPIシーケンス30を繰り返 すことにより、また上記の方法で補助磁界Bauxを周期的に印加することにより 、完全な基準の組及び完全な測定の組が獲得される。完全な基準の組及び完全な 測定の組は、スライスの画像を再構築するためにk空間中の128又は256の ラインに対応するMR信号の全てのサンプリングされた値を有する。 方法の更なる段階では、再構築ユニット12は、k空間の中の同じラインの同 じサンプル点に対応する基準の組及び測定の組からのサンプリングされた複素値 の合計によって基準の組及び測定の組からのサンプリングされた複素値の差の組 を決定する。カテーテル1 5の遠位端21の位置は差の組のフーリエ変換によって得られ、対象7の画像は 再構築の組のフーリエ変換によって再構築される。このようにして得られた遠位 端21の位置は対象7の再構築されたMR画像の中でオーバーレイ又はカーソル として示される。 第1の方法によって検出可能な乱れを誘導するのに必要とされる電流Iauxの 強さは、カテーテル15の中のコイル23の種類及び形状と、電流Iauxが与え られる間の時間とに依存する。これらのパラメータは当業者によって実験的に決 定されうる。 本発明による方法の利点は、2つの連続する測定の間に経過する時間が2つの 測定の間の時間が1つの画像の捕捉時間と等しい既知の方法に対して減少される ため、対象の運動又は対象7の中のカテーテル15の運動による運動アーティフ ァクトが減少されることである。 更に、測定の組を獲得するよう補助磁界を発生するために印加された電流に関 して逆の補助磁界が発生される基準の組を獲得することが可能である。この方法 による補助磁界の変調の利点は、要求される最大が同じ差に対してより小さくな り、より少ない電力消費をもたらすことである。 更に、引き算の結果、カテーテルは画像における唯一の可視構造となるため、 カテーテルの位置の自動化された認識が可能である。 上記のMRシステムでは、第1の方法は例えば既知のターボスピンエコー(T SE)シーケンスと組み合わせて適用されうる。TSEシーケンスは特に引用さ れた欧州特許出願第604441号より既知である。図4はRF励起パルスと、 3つの再フォーカスパルスと、一時傾斜磁界Gx,Gy,Gzとを有するTSEシ ーケンス40を示す図である。TSEシーケンスは、フリップ角αを有するRF 励起パルス200と、人体7のスライス中の核スピンを励起する第1のスライス 選択傾斜210との発生によって開始する。スライス選択の後、初期読取り傾斜 230が印加され、続いてフリップ角 βを有する再フォーカスパルス201と、第2のスライス選択傾斜211とが印 加される。フリップ角αは例えば90°であり、フリップ角βは例えば180° である。再フォーカスパルス201の後に、第1の位相符号化傾斜220と第1 の読取り傾斜231とが印加される。第1のMR信号250は第1の読取り傾斜 231の間に測定される。最初の読取り傾斜231の後に、第1の位相復号化傾 斜221が印加される。更にMR信号251,252は共にフリップ角βを有す る更なる再フォーカスパルス202,203を印加することによって測定される 。例えばkx軸に平行に延びるk空間の中の128又は256の平行なラインに 対応するMR信号の完全な組は、位相符号化傾斜220の異なる値に対するTS Eシーケンス40を繰り返すことによって測定される。更に、TSEシーケンス ではMR信号の高速崩壊を防ぐため、Carr,Purcell,Meiboh m,Gill(CPMG)条件が満たされていなくてはならない。 CPMG条件は、TSEシーケンスにおいて2つの連続する再フォーカスパル スの間の磁化の全体的なパルス変化は、励起パルスと第1の再フォーカスパルス との間の磁化の位相変化の半分に等しいことを述べる。提供されたTSEシーケ ンスに対する結果は、主に第1の読取り傾斜231と第2の再フォーカスパルス 202との間の時間の周期では、位相復号化傾斜221もまた位相符号化傾斜2 20と反対の傾斜で発生されねばならず、第1の補助磁界240が読出し磁界2 31の前に印加される場合は逆の補助磁界241はまたやはり読出し傾斜231 の後に、第2の再フォーカスパルス202の前に印加されねばならないことであ る。第1の逆の補助磁界241は第1の補助磁界240に対して逆の方向を有す る。逆の補助磁界241はコイル23を通じて逆の電流−Iauxによって誘導さ れる。 本発明によれば、第1の補助磁界240及び第1の逆の磁界24 1は、k空間中の各連続するラインが直接続けて2回走査されるようMR信号2 50及び第2のMR信号251を測定するために適用されたTSEシーケンス4 0の中で上述の方法で印加される。第1のMR信号250はk空間中のラインの 第1の走査に対応し、第2のMR信号251はk空間中の同じラインの第2の走 査に対応する。第1のMR信号250は第1の補助磁界240によって影響を受 け、第2のMR信号251は第1の補助磁界240によって影響を受けない。測 定された値は夫々基準の組及び測定の組の中に記憶される。上述のTSEシーケ ンスは、第2の再フォーカスパルス202、スライス選択傾斜212、位相符号 化傾斜222、位相復号化傾斜223及び読出し傾斜232を繰り返すことによ り2つ以上の一連のMR信号に拡張されうる。更にこの拡張TSEシーケンスで は、補助磁界242,243は2つの連続するMR信号のうちの1つのみが影響 を受けるよう周期的に印加される。完全な基準の組及び完全な測定の組を獲得す るために、TSEシーケンス40は1回以上繰り返される。更なる段階において 、EPIシーケンスが適用される方法に関して上述されたのと同様に、カテーテ ル15の位置情報及び対象7の画像情報が決定される。第1の方法をTSEと組 み合わせることの利点は、k空間中の同じラインに対応するMR信号の2つの測 定の間の時間の経過が減少され、従って運動アーティファクトもまた減少される ことである。 基準の組の信号対雑音比を改善させるために、第2の再フォーカスパルス20 2と第2の読取り傾斜232との間に第2の逆補助磁界242を発生させ、第2 の読取り傾斜232の後に第3の再フォーカスパルス203の前に第2の補助磁 界243を発生させることによって、第2のMR信号251に対して影響を与え るよう逆の補助磁界が印加されうる。この方法の効果は、乱れは両方のMR信号 に存在するが逆の符号を有するため、両方のMR信号の引き算において足し合わ せられることである。 検出可能な乱れを誘導するのに必要とされる電流Iauxの強さはカテーテル1 5中のコイル23の種類及び形状に依存し、当業者によって実験的又は計算によ って決定されうる。 本発明の第1の方法はEPI又はTSEシーケンスと組み合わせたMRシステ ムに対して示されたが、既知の傾斜及びスピンエコー(GRASE)シーケンス といった他のシーケンスもまた可能である。上記のGRASEシーケンスは特に 引用された欧州特許出願第604441号より既知である。 本発明による第2の方法は、例としてEPIシステムと組み合わせられる上述 のMRシステムについて図示される。制御ユニット11はカテーテル15の遠位 端21が存在するスライスからMR信号を測定し、サンプリングするためにEP Iシーケンスを発生するよう配置される。MR信号の元の帯域幅は公式BWs= γGxFOV/2π、ただしFOVは対象中のメートルで表わされる視野、Gxは x方向のmT/mで表わされる一時傾斜磁界、γはrad/sTで表わされる磁 気回転定数によって表わされる。サンプリング周波数は公式fs=2BWsによっ て決定される。従って、MR信号のサンプリングの中で2倍の過剰サンプリング が想定される。実際はMR信号のサンプリング周波数は例えば約60Khzであ る。更に、y方向においてFOVはFOV=2π/γΔGyyによって決定され 、ただし、Tyは位相符号化傾斜Gyが励起パルスと読出し傾斜の印加との間の周 期として定義される準備位相の間に印加される時間を表わし、ΔGyは2つの連 続する位相符号化傾斜の間の増分とする。x方向及びy方向のサンプル数は例え ば夫々128,128又は256,256である。 更に図3に示されるように、本発明によればEPIシーケンス中、反復周波数 faux=BWsを有する周期的磁界Baux(x,y)は読出し傾斜130の間に印 加される。周期的磁界Bauxの効果は、磁化ベクトルの変化が遠位端21を有す るスライス中の位置xo, yoで誘導されることである。この磁化の変化は測定されたMR信号のスペクト ルを広くする結果をもたらす。MR信号のスペクトルS(kx,ky)は公式 によって表わされる。小さい値のΦaux(x,y)sin(D.kx)に対しては 、Φaux(x,y)=Baux/2πfauxとすると、公式(1)は によって近似されうる。2次元フーリエ変換の後、D=2πfaux/γGとすると 、乱れの位置は再構築された画像の中でに現れる。従って、侵入的な装置の位置情報は再構築された画像の左又は右の縁 へシフトされ、対象の画像情報は再構築された画像のFOVの中の中央付近に維 持される。 本発明による方法の次の段階では、画像処理ユニット13はフーリエ変換され たデータを遠位端21の位置情報と対象の画像情報とに分離し、2つの別々の画 像、即ち対象7の1つの画像と、遠位端21の位置の1つの画像とを形成する。 図5は第2の方法の原理を図示する。例として第2の方法を図示するために、 BWs=γGxFOV/2πのとき、乱れが反復周波数faux=BWsを有する補助 磁界BauxによってFOVの中央付近に誘導される1次元の例に適用される。図 5はデータのフーリエ変換後のスペクトルを表わす図である。スペクトル50は FOV中に中央付近の位置51において画像情報を含み、中央から距離Dの2つ の位置52,53付近に位置情報を含む。 第2の方法にEPIシーケンスを組み合わせることの利点は、位置情報が得ら れるべきMR信号の2つの測定の間の時間の経過は更に減少され、従って運動ア ーティファクトもまた減少されることである。 カテーテルの位置情報の信号対雑音比は再構築された画像の左の縁の付近の位 置情報と、画像の右側の縁の付近の位置情報とを組み合わせることによって更に 改善される。例えば足し算によって画像の左の縁の付近の位置情報と、画像の右 側の縁の付近の位置情報とは、異なる位相に対して修正される。これは公式(2 )により、位置(xo−D)の付近に存在する情報は、位置(xo+D)の付近に 存在する情報と同じ情報であるが、異なる符号を有するためである。信号対雑音 比の利得は約√2である。 補助磁界Baux(x,y)の強さはカテーテル15内で使用されるコイルの形 状及び種類に依存する。更に、第2の方法では、公式の決定において1次の近似 が使用されるため、補助磁界Baux(x,y)の強さに対して上限が課される。 この上限は磁化のπ/4の位相変化によって推定されうる。更に、この位相変化 は補助磁界の周期の半分によって獲得されるべきであり、これはΦ(x,y)< π/2によって表わされうる。補助磁界の強さの下限はカテーテルの位置測定の 所望の信号対雑音比によって決定される。 MR装置に課される更なる要件は送信器/受信器回路9の通過帯域の帯域幅で あり、信号増幅及び復調ユニット10はMR信号中のより高い周波数を通過させ るよう適合されねばならない。送信器/受信器回路の通過帯域は、例えば元の帯 域幅BWsの3倍以上でなくてはならない。サンプリング周波数は元の帯域幅B Wsの少なくとも6倍であるべきである。 第1の画像に対するMR信号の発生の間に第1の方向の電流の影響下の補助磁 界によって乱れが誘導される場合、及び次の画像に対するMR信号の発生の間に 上記第1の方向と反対の方向の電流の影 響下の逆補助磁界によって乱れが誘導される場合、位置精度は更に改善されうる 。 第2の方法はまた図3に関して説明されたTSEシーケンスと組み合わせて適 用されうる。この組合せでは、周期的な補助磁界244,245は読取り傾斜2 31,232の間に印加される。印加された補助磁界Bauxの周波数fauxはEP Iシーケンスと組み合わせて第2の方法を参照して説明されたのと同じ方法で決 定される。更に、第2の方法は傾斜及びスピンエコー(GRASE)シーケンス と組み合わせて適用されうる。 MR画像捕捉時間は例えばいわゆるキーホール方法を使用することによって減 少されうる。キーホール方法は欧州特許出願第543468号より既知である。 引用された特許明細書に記載されるキーホール方法によれば、完全なk空間に関 連するMR信号の組は最初の基準画像を獲得するために使用される。次の画像を 獲得するために、新しいMR信号はk空間の一部分に対してのみ測定される。受 信されたMR信号は続いて予め獲得されたk空間のこの部分に関連するMR信号 の位置に代入され、画像再構築ユニット12のメモリ中に記憶される。画像再構 築ユニット12は続いて更新されたMR信号の組から次の画像を決定する。 MRシステムの更なる実施例において介入の間にカテーテルの位置を追跡する ために、カテーテルの位置は画像及び対象中の撮像されるべき次のスライスの位 置から自動的に決定される。このため位置情報は、得られたカテーテル位置に従 ってRF励起パルス及びスライス選択傾斜を適合させる制御ユニット11へ与え られる。追跡の効果は、侵入的な装置又は人体の運動の間、スライス画像の中の 侵入的な装置の位置は連続的に監視されることである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. a)定常磁界を発生する磁石と、 b)読取り傾斜及び読取り傾斜に直交する他の一時傾斜磁界を有する一時傾斜 磁界を発生する手段と、 c)RFパルスを発生する手段と、 d)MR信号を測定する手段と、 e)対象の画像を決定するよう測定されたMR信号を処理する処理手段と、 f)補助磁界を発生する手段を有する侵入的な装置と、 g)上記一時傾斜磁界を発生する手段、上記RFパルスを発生する手段及び上 記補助磁界を発生する手段のための制御信号を発生する制御ユニットとを有する 、対象の領域の画像を捕捉するよう配置されたMR装置を有し、 上記制御ユニットは、MR信号の測定の間k空間が複数のラインに沿って走査 され補助磁界が印加されるよう、読出し傾斜及び他の一時傾斜磁界のうちの1つ が定常磁界の上に重合わせられるよう配置され、 上記処理手段は更に印加された補助磁界によって誘導される測定されたMR信 号の変化から対象中の侵入的な装置の位置を決定するよう配置される介入的処置 用のMRシステムであって、 上記制御ユニットは更に、k空間の中の複数のラインが走査される時間の間、 上記補助磁界は周期的に印加されるよう配置されることを特徴とするMRシステ ム。 2. 上記制御ユニットは各周期の中で補助磁界が印加される時間はk空間の中 の単一のラインが走査される時間よりも短いよう配置され、k空間の各ラインは 2回走査され、 上記処理手段は更にk空間中の同じラインに対応する2つの測定 されたMR信号の引き算によって侵入的な装置の位置を決定するよう配置される ことを特徴とする、請求項1記載のMRシステム。 3. 上記MR信号を測定する手段はMR信号がサンプリング周波数によってサ ンプリングされるよう配置され、 上記制御ユニットは印加された補助磁界がMR信号のサンプリングの間、MR 信号の元の帯域幅と略等しい周期で印加されるよう配置され、 上記処理手段は更にサンプリングされた値がフーリエ変換され、フーリエ変換 された値が侵入的手段の位置情報及び対象の画像情報へ分割されるよう配置され ることを特徴とする、請求項1記載のMRシステム。 4. 上記処理手段は更に、上記侵入的な装置の位置は複素画像の左側の縁付近 に存在する位置情報と右側の縁の付近に存在する位置情報との組合せによって決 定されるよう配置されることを特徴とする、請求項3記載のMRシステム。 5. 上記制御ユニットは高速MR撮像シーケンスを発生するよう配置されるこ とを特徴とする、請求項1乃至4のうちいずれか1項記載のMRシステム。 6. 上記MR装置はまたいわゆるキーホール技術によってMR信号から画像を 得るよう配置されることを特徴とする、請求項5記載のMRシステム。 7. 上記侵入的な装置の位置は侵入的な装置の位置を自動的に決定し、このよ うにして決定された侵入的な装置の位置から対象の中の撮像されるべき次のスラ イスの位置を自動的に決定することに よって追跡されることを特徴とする、請求項1乃至6のうちいずれか1項記載の MRシステム。
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