JP2000504853A - 対称光導波路を製造する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 光学部材(30)の形成に使用する構造体およびそのような部材(30)を製造する方法が記載されている。この構造体は、化学線42のビームによる物体の一部(40)の照射の際に、照射された領域の屈折率が増大するように物体内にある濃度の光屈折感受性成分を有する光学材料の非導波性物体(34,36,38)からなる。光学部材(30)を製造する方法は、光学材料の非導波性物体(34,36,38)を提供し；物体内にある濃度の光屈折感受性成分を提供し；光学材料の非導波性物体を、水素、ジュテリウムおよびそれらの混合物のうちの一つに接触させ：露出された部分の屈折率が増大するように、光学材料の非導波性物体の一部(40)を化学線(42)に露出する各工程からなる。このような構造体および方法を用いて、対称プレーナ導波路、光ファイバ導波路および格子のような他の光学部材を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 対称光導波路を製造する方法 本発明は、米国特許法第119条(e)号の元で、1996年2月15日に出願された米国 特許仮出願第60/011713号の恩恵を受けるものである。 発明の分野 本発明は、広く、プレーナ導波路のような光学素子を製造する方法に関し、よ り詳しくは、光屈折感受性成分を含有する、最初は非導波性である構造体から、 この構造体に水素添加し、構造体の一部に化学線を選択的に露出して、この部分 の屈折率を変更し、導波路を形成することにより、光導波路素子を製造する方法 に関するものである。本発明はまた、この方法に使用する構造体およびこの方法 により製造された製品に関するものである。 発明の背景 インライン型光ファイバ回折格子が知られている。インライン格子を光ファイ バ中に書き込むある方法は、ファイバの一部において化学線（典型的に紫外線） の二つのビームを干渉させる工程からなる。この二つのビームは、横方向でファ イバに入射し、二つのビーム間の角度（および化学線の波長）により格子の間隔 が決定される。典型的に、ファイバ格子がゲルマニウム添加ファイバ内に形成さ れ、このゲルマニウム添加ファイバの化学線に対する感度は熱水素処理により向 上する。この水素添加は、所定の圧力および温度で行われる。この方法を用いて 、ファイバまたはプレーナシリカ導波路内に格子を書き込み、プレーナ光導波路 のコア層中にチャンネルを書き込むことができる。導波路ガラス、例えば、シリ カガラスは、二酸化ゲルマニウムのような光屈折感受性成分を含有しなければな らない。 米国特許第5,235,659号および関連する米国特許第5,287,427号には、せいぜい 250℃の温度で導波路の少なくとも一部を中位の圧力で水素に露出し、この露出 された部分の一部に化学線を照射する各工程からなる処理により、シリカベース の光導波路（ファイバまたはプレーナ導波路）内に得られる正規化屈折率を大幅 に変化させられることが開示されている。特に、プレーナ導波路の屈折率を変更 する方法が開示されている（第５段第34行から第６段第９行まで）。例えば、ケ イ素基体上に形成された、ガラス質シリカの下側クラッド層、中間（コア）ゲル マノシリケート層、およびガラス質シリカの上側クラッド層からなる層状構造体 が形成される。この構造体は、コア層の垂直面において導波路特性を有するが、 コア層の水平面においては放射線を制限しない。水平面の制限は、構造体に水素 を添加し、この構造体に、層状構造に対して垂直に焦点が合わせられた化学線を 照射し、所定の様式で構造体に亘りビームを移動させることにより達成される。 ゲルマノシリケートコア層の照射領域における屈折率は、コア層の隣接する横部 分よりも上昇し、横方向の導波を提供している。クラッド層の屈折率は、実質的 に不変のままである。 このような構造体において、米国特許第5,235,659号に記載されているように 、書込みは、既にプレーナ導波路特性を有する層状構造体内で行われる。何故な らば、ゲルマニウムドーパントを含有するコア層が、ドーパントを含有しない上 側および下側クラッド層の屈折率よりも大きい屈折率を有するからである。書込 みが行われた後に、コア層の照射領域の屈折率はさらに増大させられる。コア層 の書込領域と、その上下のクラッド層との間の屈折率差は、そのコアの書込領域 と、ドーパントを含有するコア層の隣接する横領域との間の屈折率差よりも大き くなる。そのようなプレーナ導波路の欠点の一つには、それが非対称の導波路で あること、すなわち、書込領域と隣接領域との間の屈折率差が全ての方向におい て同一であるわけではないということがある。このような構造体において、チャ ンネル導波路と、それを囲む構造体との間の屈折率差は、垂直寸法のほうが、水 平寸法よりも大きい。したがって、モードは、水平にはほとんど導かれず、この 方向に拡張してしまう。 非対称導波路は、そのような構造体内で伝搬される非対称モードフィールドの ために不都合である。その結果として、単一モードファイバに関する結合損失が 増大し、偏光依存性が大きくなる。非対称導波路のモードフィールドは、導波路 の断面を長方形にすることにより、例えば、幅広くというよりも高くすることに より、円形状に対称にすることができる。この手法により、結合損失が大きいと いう問題が克服される。しかしながら、この手法ではまだ、チャンネル導波路と プレーナまたは「スラブ」導波路との間で結合が生じてしまう。この結合により 、チャンネル導波路の固有モードの伝搬定数のプレーナ導波路の（いくつかの） ものに対する等化に対応する選択された波長で透過損失が生じる。本発明の対称 プレーナ導波路には「スラブ」導波路がないので、これらの損失は生じない。 本発明の目的は、対称導波特性を有する導波路の製造に使用する非導波性構造 体を提供することにある。 発明の概要 手短に言うと、本発明により、光学材料の非導波性物体、および化学線のビー ムによりその物体の一部を照射した際に、照射した部分の屈折率が増大するよう な物体内のある濃度の光屈折感受性成分からなる光学部材の形成に使用する構造 体を提供する。 本発明の別の形態において、光学材料の非導波性物体を提供し；この物体内に ある濃度の光屈折感受性成分を提供し；この光学材料の非導波性物体を、水素、 ジュテリウムおよびこれらの混合物のうちの一つからなる雰囲気に接触させ；露 出された部分の屈折率が増大するように光学材料の非導波性物体の一部を化学線 に露出する各工程からなる光学部材の製造方法を提供する。 そのような構造体および方法を用いて、対称プレーナ導波路、光ファイバ導波 路および格子のような他の光学部材を形成することができる。 本発明の別の形態において、選択された値の屈折率を有する光学材料の第一と 第二の層；および第一と第二の層の間に配置された光学材料の第三の層であって 、第三の層の屈折率を第一と第二の層の値に十分に近くして導波を防ぐために、 選択された濃度の光屈折感受性成分を含む第三の層からなる対称プレーナ導波路 の形成に使用する構造体を提供する。 本発明の別の形態において、選択された値の屈折率を有する光学材料の第一と 第二の層を提供し；第一と第二の層の間に配置された光学材料の第三の層であっ て、第三の層の屈折率を第一と第二の層の値に十分に近くして導波を防ぐために 、選択された濃度の光屈折感受性成分を含む第三の層を提供し；少なくとも光学 材料の第三の層を、水素、ジュテリウムおよびそれらの混合物のうちの一つから な る雰囲気に接触させ；露出された部分の屈折率が対称導波路を形成するように十 分に変更されるように、光学材料の第三の層の一部を化学線に露出する各工程か らなる対称プレーナ導波路の製造方法を提供する。 本発明の別の形態において、選択された値の屈折率を有する光学材料の第一と 第二の層；第一と第二の層の間に配置された光学材料の第三の層であって、第三 の層の屈折率を第一と第二の層の値に十分に近くして導波を防ぐために、選択さ れた濃度の光屈折感受性成分を含む第三の層；および対称導波路を形成するのに 十分な化学線のビームへの露出により形成された、屈折率の増大した第三の層内 の領域からなる対称プレーナ導波路を提供する。 本発明の別の形態において、選択された値の屈折率を有する光ファイバ材料の クラッド層；およびクラッド層により囲まれた光ファイバ材料のコアであって、 コアの屈折率をクラッド層の値に十分に近くして導波を防ぐために、選択された 濃度の光屈折感受性成分を含むコアからなる光ファイバ導波路の形成に使用する 構造体を提供する。 本発明の別の形態において、選択された値の屈折率を有する光ファイバ材料の クラッド層を提供し；クラッド層により囲まれた光ファイバ材料のコアであって 、コアの屈折率をクラッド層の値に十分に近くして導波を防ぐために、選択され た濃度の光屈折感受性成分を含むコアを提供し；少なくとも光ファイバ材料のコ アを、水素、ジュテリウムおよびそれらの混合物のうちの一つからなる雰囲気に 接触させ；露出された部分の屈折率が導波路を形成するように十分に変更される ように、光ファイバ材料のコアの一部を化学線に露出する各工程からなる光ファ イバ導波路の製造方法を提供する。 本発明の新しい形態は、特に、添付した請求の範囲に関して記載されている。 本発明自体が、さらなる目的およびその利点とともに、本発明の現在好ましい実 施の形態に関する以下の詳細な記載を添付した図面とともに参照することにより 、いっそう完全に理解されよう。 図面の簡単な説明 図１は、導波路を形成するのに用いられる構造体の概略図である。 図２は、プレーナ導波路の概略図である。 図３は、光ファイバ導波路の概略図である。 発明の詳細な説明 光導波路は典型的に、ここに論じられているように、比較的低い屈折率材料の クラッドにより少なくとも部分的に囲まれ、光波長の電磁放射線をその内部に透 過させるように適用された比較的高い屈折率のコアからなる細長い構造体である 。効果的な単一モード導波路に関して、望ましい屈折率差（正規化デルタ）は、 10^-4より大きく、好ましくは10^-3から10^-2以上である。 本発明は、非導波性構造体から、光学部材、例えば、プレーナ導波路、ファイ バ導波路およびファイバまたはプレーナ導波路内の光学格子を製造する方法に関 するものである。対称プレーナ導波路を調製する本発明のある実施の形態におい て、この方法は、酸化物ガラスの非導波性物体からなる構造体を提供し、この構 造体を水素に露出し、照射された部分の屈折率が変更され、導波性チャンネルが 形成されるように、構造体の一部に化学線を照射する各工程からなる。 図１は、プレーナ導波路の調製に使用する構造体20を示している。構造体20は 、任意の基体22、下側クラッド層24、コア層26および上側クラッド層28を備えて いる。基体22は通常、導波路層がその上に配置されているケイ素または二酸化ケ イ素ウェーハである。しかしながら、ある構造体においては、下側クラッド層が 基体層として機能している。 従来技術の導波路において、下側と上側のクラッド層24、28は、通常シリカガ ラスであり、各々の層は屈折率ｎ₀を有している。典型的に、層24はガラス質シ リカであり、層28は、酸化ホウ素および五酸化リンを含有し、ガラス質シリカの 屈折率と等しい屈折率を有するシリカである。コア層26は一般的に、ｎ₁＞ｎ₀で ある屈折率ｎ₁を有するゲルマノシリケート、すなわち、光屈折感受性酸化ゲル マニウムが添加されたガラス質シリカである。典型的にデルタは約10^-5である。 このような構造体は、層に対して垂直な導波特性を有している。構造体への水素 添加およびそれに続く光屈折感受性ゲルマニウムを含有するコア層の選択された 領域への化学照射により、照射された領域の屈折率が、ｎ₂＞ｎ₁＞ｎ₀である、 ｎ₂に増大される。クラッド層およびコア層の残りの部分の屈折率は、実質的に 元のままである。このような構造体は今、コア層内に限定された導波路領域を有 している。ここで、コアの照射領域と隣接するクラッド層との間の屈折率差は、 コアの照射領域と横方向に隣接するコア領域との間の屈折率差よりも大きく、し たがって、非対称の（スラブ）導波路が限定される。 本発明の導波路において、コア層26は一般的に、屈折率ｎ₁を有する光屈折感 受性酸化物ガラス層である。酸化物ガラスは一般的に、光屈折感受性ドーパント として酸化ゲルマニウムを含んでいる。適切なガラスとしては、二酸化ケイ素が 主成分であるゲルマノシリケートが挙げられる。導波路を書き込むのに必要な光 屈折性効果を達成するのに要求される高シリカガラスのゲルマニア含有量は好ま しくは、10重量パーセントよりも大きい。しかしながら、二酸化ゲルマニウムが 主成分である酸化物ガラスを使用してもよい。本発明の重要な特徴は、クラッド 層24、28が、ｎ₁がｎ₀にほぼ等しい、屈折率ｎ₀を有する酸化物ガラス、例えば 、シリカガラスからなる。そのような構造体は、三つの層全てが実質的に同一の 屈折率を有するので、導波特性を全く有していない。関心のある波長での導波が 生じない限り、ｎ₁を、ｎ₀よりもわずかに大きくするかまたは小さくすることが できる。 クラッド層およびコア層がシリカガラスからなる、本発明の好ましい実施の形 態において、クラッド層は、さらに、その屈折率を、二酸化ゲルマニウムのよう な光屈折感受性成分を含有するコア層シリカガラスの屈折率まで上昇させるため に光屈折非感受性成分を含有していても差し支えない。屈折率を上昇させる適切 な光屈折非感受性化合物としては、二酸化チタンおよび五酸化リンが挙げられる 。本発明の別の実施の形態において、ガラスの屈折率を低下させる光屈折非感受 性成分、例えば、酸化ホウ素をクラッド層に加えても差し支えない。同様に、コ ア層は、光屈折感受性成分に加えて、クラッド層の屈折率に一致させるためにコ ア層の屈折率を上昇または下降させる、様々な量の光屈折非感受性成分を含有し ていても差し支えない。 本発明の典型的な実施の形態において、一種類以上の光屈折非感受性成分が三 つの層全てに加えられ、光屈折感受性成分がコア層内のみに存在して、屈折率を 一致させている。 ここで図２を参照する。この図面には、明確にするために上側クラッド層が部 分的に除去された、基体層32、下側クラッド層34、コア層36および上側クラッド 層38を有する本発明の導波路構造体30が示されている。下側クラッド層および上 側クラッド層の両方がｎ₀の屈折率を有し、コア層がｎ₁の屈折率を有している。 ここで、ｎ₀およびｎ₁は実質的に等しい。そのような構造体30は非導波性である 。 導波路構造体内に導波路を形成するために、最初にプレーナ構造体30に水素分 子を添加する。ある用途においては、ジュテリウムまたは水素とジュテリウムと の混合物を用いても差し支えない。添加後の水素分子の濃度が大きければ大きい ほど、誘発される屈折率変化も大きくなる。水素含浸は、水素をガラスと反応さ せずに拡散するような十分に高い温度で行われる。好ましくは、水素含浸を、例 えば、100気圧の高圧下で行う。達成される水素濃度は、添加圧力に関して線形 である。添加時間は、浸透が望まれる表面下の深さにより決定される。このよう に添加された水素により、ガラス内の光反応が促進され、化学照射の際に、屈折 率が変化する。 プレーナ構造体の水素添加は典型的に、12時間から７日間までの期間に亘り、 20℃から250℃までの温度と、10気圧から300気圧までの水素中で行われる。この ように調製された構造体を、例えば、0.5時間から２時間までの期間に亘り、20 パルス／秒、240ｍＪ／パルスで、エキシマレーザからの約248ｎｍの紫外線に露 出することにより、屈折率を所望のように変化させる。 本発明の構造体に関する屈折率は、６ｍｍ厚のドープされたシリカガラス（79 重量％のＳｉＯ₂、５重量％のＢ₂Ｏ₃、２重量％のＰ₂Ｏ₅および14重量％のＧｅ Ｏ₂）の基底層を有するＳｉＯ₂の10ｍｍ厚の層からなるプレーナ構造体を、100 気圧の水素中、３日間に亘り85℃に保持することにより望ましく上昇させる。こ の構造体を、0.5時間の期間に亘り、20パルス／秒、300ｍＪ／パルスで、エキシ マレーザからの約248ｎｍの紫外線に露出することにより、屈折率を5.5×10^-3だ け変化させる。 米国特許第5,287,427号に開示されている実施例の結果には、基底ゲルマノシ リケートガラス層（８ｍｍ厚、2.6モル％のＧｅＯ₂）を有するＳｉＯ₂の25ｍｍ 厚の層を備えたプレーナ構造体を、187気圧の水素中で６日間に亘り21℃に保持 することが必要である。これにより、十分に水素が添加されて、紫外線への露出 後に４×10^-3だけ屈折率が変化したゲルマニア添加ガラス内に導波路コアが形成 されると推測される。当業者は概して、最小の実験により、屈折率を所望なだけ 変化させるのに必要な一連の条件を決定することができる。 再度図２を参照する。構造体30の限定領域40が、紫外線のような化学線42に露 出されて、導波路を限定している。この露出は、約数ミクロンのくびれを有する 焦点ビームの形態であっても、またはマスクを通した露出であってもよい。それ により、コアの照射領域40の屈折率は、ｎ₂＞ｎ₁およびｎ₁＝ｎ₀となるようにｎ₂ まで上昇させられる。このような構造体は今では、コア層36内に限定された導 波路領域（またはチャンネル）40を有する。ここで、チャンネルと垂直方向に隣 接するクラッド層との間の屈折率差、並びにチャンネルと横方向に隣接するコア 層との間の屈折率差は実質的に同一であり、したがって、対称導波路が限定され ている。導波路の形状は重要ではなく、「スラブ」導波路効果がないので、透過 損失もない。 本発明のプレーナ導波路において、コア層は好ましくは、50-90重量％のＳｉ Ｏ₂、0-20重量％のＢ₂Ｏ₃、0-10重量％のＰ₂Ｏ₅、および1-30重量％のＧｅＯ₂を 含有するゲルマノシリケートガラスからなる。 ある好ましい実施の形態において、コア層は、79重量％のＳｉＯ₂、５重量％ のＢ₂Ｏ₃、２重量％のＰ₂Ｏ₅および14重量％のＧｅＯ₂からなる。 別の好ましい実施の形態において、コア層は、63重量％のＳｉＯ₂、７重量％ のＢ₂Ｏ₃、８重量％のＰ₂Ｏ₅および23重量％のＧｅＯ₂からなる。 本発明のプレーナ導波路において、クラッド層は好ましくは、酸化ゲルマニウ ムが存在しない、コア層のガラスと類似のガラスから形成される。所望の一致屈 折率は、成分の含有量を、例えば、50-100重量％のＳｉＯ₂、0-20重量％のＢ₂Ｏ₃ 、および0-30重量％のＰ₂Ｏ₅の範囲で変更することにより達成される。 各々の光学層が実質的に同一の屈折率を有するように、各々の層内に、適切な 濃度の光屈折非感受性成分とともに異なる濃度の光屈折感受性成分を有する構造 体を形成することもできる。水素添加および構造体の化学線による照射の際に、 コア層内に対称導波路が形成される。 最初に非導波性である構造体から、本発明により得られる対称プレーナ導波路 より、平面内方向および平面に垂直な方向において同一の伝搬定数を有する二軸 対称モードフィールドを有する光ガイド構造体が得られる。著しい結合損失が防 がれ、幾何学的複屈折（偏光依存性）の危険がなくなる。 本発明はまた、異なる層を実施するための異なる範囲の組成物も提供する。 上述した本発明を、光ファイバ導波路を含む様々な光学素子に実施することが できる。他の潜在的な用途としては、ファイバデルタのオンライン調整、ソリト ン伝搬用の分散減少ファイバ、分散操作ファイバ、断熱性テーパ、格子、センサ 等が挙げられる。 図３を参照する。この図面には、光ファイバ材料のコア54を囲む光ファイバ材 料のクラッド層52を備えた光ファイバ導波路の形成に使用する構造体50が示され ている。コア54は、クラッド層およびコアの屈折率が、化学照射の前に導波を防 ぐのに十分に近くなるように、ある量の光屈折感受性成分を含有している。クラ ッド層の材料は、対称プレーナ導波路のクラッド層に関して上述した材料と同様 である。光ファイバのコアは好ましくは、光屈折感受性成分が添加された酸化物 ガラス、例えば、ゲルマニアが添加されたシリカガラス、またはゲルマニアガラ スである。水素添加およびコアの紫外線照射を、上述した対称プレーナ導波路に 関する様式と実質的に同様に行い、コア内に導波路チャンネルを形成する。この チャンネルは、強度が均一かまたは異なる紫外線露出により形成される。クラッ ドと光との間の正規化屈折率差（デルタ）は、均一であっても、またはコアの長 さに沿って変わっていても差し支えない。照射の強度および／または期間を変え ることにより、格子のような他の特徴をコア中に書き込んでも差し支えない。 最初にコアおよびクラッド層の屈折率を等しくするまたはほぼ一致させること により、どの場所でもファイバのデルタを高くせずに、コアに多量の光屈折感受 性材料、例えば、10重量％より多いゲルマニアを含ませることができる。高含有 量の光屈折感受性材料が、光屈折効果を強くし、ファイバ中に構造体を書き込む のが容易になるので望ましい。結合損失を標準的な通信ファイバの程度まで最小 にするのに、低デルタが望ましい。 本発明を現在好ましいその実施の形態とともに記載してきたが、当業者には、 本発明の精神および範囲から逸脱せずに、多くの改変および変更を実施してもよ く、したがって、本発明は、添付した請求の範囲のみにより限定すべきと意図す ることを理解されよう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マスクメイヤー，リチャード オー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830 コーニング パウダーホーン ドライヴ 10287

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 対称の導波特性を提供する光学製品であって、 光学材料が限定された導波領域のないように実質的に均一な屈折率を有する 光学材料の物体、および 該光学材料の物体内に選択的に位置する光屈折感受性材料からなり、 該光屈折感受性領域を化学線に露出した際に、該光屈折感受性領域と、これ を囲む非光屈折性感受性領域との間の屈折率の二軸対称変化により、前記物体 内に対称導波性領域が提供されることを特徴とする製品。 ２． 前記光学材料の物体が、屈折率ｎ₁を有するコア領域、および該コア領域 に隣接する、屈折率ｎ₀を有するクラッド領域からなり、該クラッド領域およ びコア領域のうちの少なくとも一つが、化学線への露出前に、ｎ₁がｎ₀に十分 に近く、前記材料が関心のある波長で非導波性であるように前記光屈折感受性 成分を含有することを特徴とする請求の範囲１記載の製品。 ３． 前記クラッド領域が屈折率ｎ₀の光学材料の第一と第二の層からなり、前 記コア領域が該第一と第二のクラッド層の間に配置された屈折率ｎ₁の第三の 層からなることを特徴とする請求の範囲２記載の製品。 ４． 前記物体内の対称導波性領域が、該物体のコア領域内のチャンネルである ことを特徴とする請求の範囲２記載の製品。 ５． 前記光学材料の物体が酸化物ガラスからなることを特徴とする請求の範囲 １記載の製品。 ６． 前記酸化物ガラスがシリカガラスからなることを特徴とする請求の範囲５ 記載の製品。 ７． 前記光屈折感受性材料が、前記物体のコア領域内の二酸化ゲルマニウムで あることを特徴とする請求の範囲２記載の製品。 ８． 少なくとも10重量％の二酸化ゲルマニウムを含むことを特徴とする請求の 範囲７記載の製品。 ９． 前記クラッド領域が、酸化ホウ素、五酸化リン、二酸化チタン、およびこ れらの混合物のうちの少なくとも一つの非光屈折感受性材料を含むことを特徴 とする請求の範囲２記載の製品。 10． 前記コア領域が、酸化ホウ素、五酸化リン、二酸化チタン、およびこれら の混合物のうちの少なくとも一つの非光屈折感受性材料を含むことを特徴とす る請求の範囲２記載の製品。 11． 前記コア領域が、50-90重量％のＳｉＯ₂、0-20重量％のＢ₂Ｏ₃、0-10重量 ％のＰ₂Ｏ₅、および1-30重量％のＧｅＯ₂を含有するゲルマノシリケートから なることを特徴とする請求の範囲２記載の製品。 12． 前記クラッド領域が、50-100重量％のＳｉＯ₂、0-20重量％のＢ₂Ｏ₃、お よび0-30重量％のＰ₂Ｏ₅を含有するシリカガラスからなることを特徴とする請 求の範囲２記載の製品。 13． 前記コア領域が、水素、ジュテリウムおよびこれらの混合物のうちの一つ を含有することを特徴とする請求の範囲２記載の製品。 14． 前記製品がプレーナ対称導波路であることを特徴とする請求の範囲２記載 の製品。 15． 前記製品がファイバ導波路であることを特徴とする請求の範囲２記載の製 品。 16． 対称導波特性を有する光学製品を製造する方法であって、 ａ） 屈折率ｎ₁を有するコア領域、および該コア領域に隣接した屈折率ｎ₀ を有するクラッド領域を備えた光学材料の物体を提供し、ここで、該コア領域 およびクラッド領域のうちの少なくとも一つが、ｎ₀およびｎ₁が、物体が関心 のある波長で非導波性となるように十分に近くなるように選択された濃度の光 屈折感受性材料を含み、 ｂ） 前記光屈折感受性材料を含む物体の少なくとも一部を、水素、ジュテ リウムおよびこれらの混合物のうちの一つからなる雰囲気に接触させ、 ｃ） 露出された領域の屈折率が変化し、前記物体内に対称導波領域が形成 されるように、前記光屈折感受性材料を含む物体の少なくとも一部を化学線に 露出する各工程からなることを特徴とする方法。 17． 前記コア領域およびクラッド領域を備えた光学材料の物体を提供する工程 が、クラッド材料の第一と第二の層および該クラッド層の間のコア材料の第三 の層を提供する工程からなることを特徴とする請求の範囲16記載の方法。 18． 前記物体内に対称導波領域を形成するために、前記第三の層の一部に前記 化学線を露出する工程を含むことを特徴とする請求の範囲17記載の方法。 19． 前記光屈折感受性材料が二酸化ゲルマニウムであることを特徴とする請求 の範囲16記載の方法。 20． 前記クラッド領域が光屈折非感受性材料からなることを特徴とする請求の 範囲16記載の方法。 21． 前記光屈折非感受性材料が、酸化ホウ素、五酸化リン、二酸化チタン、お よびこれらの混合物のうちの一つであることを特徴とする請求の範囲20記載の 方法。 22． 前記コア領域が光屈折非感受性材料を含有することを特徴とする請求の範 囲16記載の方法。 23． 前記光屈折非感受性材料が、酸化ホウ素、五酸化リン、二酸化チタン、お よびこれらの混合物のうちの一つであることを特徴とする請求の範囲22記載の 方法。 24． 前記光屈折感受性材料を含む物体の少なくとも一部を化学線に露出する工 程が、前記クラッド領域に対する前記コア領域の屈折率を増大させて、該コア 領域内に光導波チャンネルを形成する工程からなることを特徴とする請求の範 囲16記載の方法。 25． 前記コア領域およびクラッド領域がシリカガラスからなることを特徴とす る請求の範囲16記載の方法。 26． 光ファイバ導波路を製造する工程を含むことを特徴とする請求の範囲16記 載の方法。 27． 対称プレーナ導波路を製造する工程を含むことを特徴とする請求の範囲16 記載の方法。