【発明の詳細な説明】
改善された一般部品用洗浄装置発明の背景 発明の分野
本発明は、物品を洗浄溶液で洗浄する装置に関し、より具体的には、汚染され
、た汚い洗浄溶液を回収プロセスにて回収し、新鮮な汚染されていない洗浄溶液
を得ることができる一般部品用洗浄装置に関する。関連技術の説明
事実上全ての産業ならびに商取引を取り囲む環境におけるメンテナンス、修理
、および改造の作業では、グリース、オイル、汚れ、その他の汚染物質を除去す
るために、非常に多岐にわたる種類の部品や物品を洗浄しなければならない。通
常、小さな部品の洗浄には、金属部品その他の物品から、グリースや他の蓄積し
た残滓を除去するのに適しているとされている揮発性溶剤や水溶液が用いられる
。
炭化水素またはハロゲン化炭化水素などの洗浄溶液による種々の部品の洗浄を
実施し易くするために、洗浄溶液で満たされた５５ガロンのドラムの上に着脱自
在に支持されたシンクが用いられている。溶液を、前記ドラムから部品を濯ぐの
に用いられるシンク内のスピゴットまで送るポンプが設けられている。
溶液は、シンクからドレン抜きされて、ドラムに戻される。洗浄操作が始まる
と、溶液は、初回使用後に直ぐに汚染される。しかし、洗浄操作中は、汚染され
た溶液は、通常月単位で計画されている次回の予定溶液交換まで、引き続き使用
される。汚染溶液の定期的な交換は、通常は、洗浄機械の提供をも契約の一環と
して行うサービス会社によって実施される。
溶液を交換するには、シンクを、汚染溶液が入ったドラムから除去し、新鮮な
溶液を入れた別のドラムの上に載置する。そこで、汚染されたドラムの溶液は取
り出されて、ＥＰＡの汚染物質排出ガイドラインに従って廃棄される。この手順
は、非効率的で、費用と時間が掛かかるため、製造あるいは修理設備では、溶液
の予定交換日に挟まれた期間に、汚く、汚染された溶液を用いて、部品洗浄作業
を実施する以外に、方法は残されていない。
本発明は、米国特許第５，３４９，９７４号明細書にも記されている、本願発
明者の部品洗浄機に関連して、以上の課題を改善するものであり、上記公報の内
容は、本明細書に参考として組み込まれるものである。
本発明は特に、もしも用いられる洗浄溶液の大気中での蒸発温度が危険を伴う
高さでなく、大気圧下の蒸発が安全に行われる場合には、蒸留プロセスにおいて
真空ポンプを取り去るという可能性を提供するものである。また、本発明では、
蒸留チャンバーに残っている汚染物を中央に集める特別な構造を持った蒸留チャ
ンバーの傾斜底により、着脱可能な蓋の必要性はなくなる。
蒸留チャンバーへの接近を得るためと、汚染物を除去するために、装置の正面
において、外部から接近可能でねじ込み式のキャップが付いた小さなポートを蒸
留チャンバーの下部正面に設けても良い。
以上の構造的な改善によれば、蒸留チャンバーの洗浄を、より短時間で容易に
行うことができ、装置の生産コストを著しく低減することができる。さらに、真
空下または部分的な真空下で蒸留を行うことが望ましい場合には、本発明による
と、液体リング真空ポンプを使用することができる。液体リング真空ポンプの一
番の利点は、シールを形成する手段として、液体を用いているために、摩擦およ
び磨耗が回避され、他の真空ポンプよりも、実質的に耐用期間が長い点にある。
さらに、本発明に用いられている液体リング真空ポンプは、標準の１１０ボル
ト電源で駆動されるため、高い効率が得られる。液体リング真空ポンプをうまく
適応させ、かつ、その損傷を防止するために、本発明では、未汚染の溶液を用い
た真空ポンプの操作を可能にする二次貯留槽を採用している。発明の概要
本発明は、一般の部品やエンジン部品のような物品を濯ぎ洗浄し、かつ、必要
に応じて、高純度の新鮮な洗浄溶液を提供しうる装置を対象としている。
より具体的には、本発明は、新鮮な汚染されていない洗浄溶液を提供して、汚
染された洗浄溶液の定期的な交換と廃棄の必要性を無くすために、汚染された汚
い洗浄溶液（溶剤と水溶性の洗浄溶液の双方を含む）を、通常ベースで再循環さ
せる。このようにして、本発明によると、環境保護局（ＥＰＡ）の汚染物排出ガ
イドラインに適合するための、実際的で経済的な手段が提供される。
本発明の一般部品用洗浄装置には、スプラッシュガード、開放された上部構造
、および、着脱可能な正面壁部を形成し、少なくとも部分的に包囲する壁構造を
備えた洗浄槽が設けられている。この洗浄槽には更に、使用後の洗浄溶液の回収
を容易にするために、側部、正面、および後方から、中央に位置するドレンに向
かって下向きに僅かに傾斜した床が設けられている。
洗浄溶液は、一旦ドレンとフィルターを通過すると、保持タンクに戻される。
ポンプは、洗浄溶液を保持タンクから吐出口に回収し、浄溶液は吐出口から保持
タンクに戻されると、ここで、洗浄サイクルで決められている期間だけ物品を濯
ぐ。
回収プロセスの間は、汚染物バルブのアセンブリーが開かれ、洗浄溶液を、保
持タンク内から蒸留チャンバーに開放する。洗浄溶液が、一旦、蒸留チャンバー
にドレン抜きされると、汚染物バルブのアセンブリーは閉じられ、洗浄溶液は、
蒸発温度まで加熱され、その結果、蒸気は凝縮器に進入する。
凝縮器では、蒸気は液体状態に凝縮され、新鮮な回収された洗浄溶液が得られ
る。そこで、この新鮮な洗浄溶液は、洗浄サイクルの引き続く使用のために、保
持層へ導かれる。
蒸留チャンバー内の真空を実現し、洗浄溶液の蒸発温度を下げるための真空ポ
ンプを用いても良い。好適な実施形態では、ポンプの寿命を長くし、装置全体の
効率を高めるために、液体リング真空ポンプが用いられる。
この場合、一次保持タンク内の汚染された洗浄溶液を、蒸留チャンバーに落と
すことができるよう、凝縮、浄化された洗浄溶液は、蒸留チャンバーから二次保
持タンクに向けられる。このように、二次保持タンクから一次保持層に一旦移さ
れた洗浄溶液は、損傷を避けるためには、沈殿物や汚染物の無い溶液を必要とす
る液体リング真空ポンプの運転に使用することができる。
したがって、以上の事柄を念頭に置いて、本発明の第１の目的は、メンテナン
ス、修理、および改造操作の期間中に部品を洗浄するのに、使用可能であり、か
つ、必要に応じて、使用者に高純度の洗浄溶液を通常ベースで提供できるよう、
洗浄溶液を回収して再循環するための手段を含む一般部品用洗浄装置を提供する
ことにある。
本発明のもう一つの目的は、前述のように、汚染された洗浄溶液の定期的な交
換と廃棄の必要を無くした一般部品用洗浄装置を提供すると共に、ＥＰＡの排出
ガイドラインに適合した、実際的で経済的な手段を提供することにある。
本発明の更なる目的は、新鮮で汚染されていない洗浄溶液を、通常ベースで提
供するために、洗浄溶液の再循環に適し、かつ、比較的コンパクトで安価な部品
洗浄装置を提供することにある。
本発明のさらに別の目的は、上記した一般部品用洗浄装置であって、標準の１
１０ボルト電源で駆動され、したがって、ポンプの耐用がより永く、効率の高い
ものを提供することにある。
本発明のまた別の目的は、以上に記した一般部品用洗浄装置であって、収納さ
れている汚染物を集めるような構造の底を備えており、そのため、汚染物を小さ
なポートから除去することができ、着脱可能な蓋と蓋を持ち上げるアセンブリー
を設ける必要がなく、したがって、高効率で建造費の安い蒸留チャンバーを有す
るものを提供することにある。
本発明の更に別の目的は、以上に記した一般部品用洗浄装置であって、政府が
課す全ての安全規則および要求に適合するものを提供することにある。
本発明の前述及び他の目的と利点は、以下に続く記載によって更に明らかにな
ると思う。図面の簡単な説明
本発明の本質の完全に理解するために、下記の詳細な説明を、添付図面を参照
して読むべきである。
図１は、本発明の一般部品用洗浄装置の正面上方から見たの斜視図、
図２は、装置の内部キャビネットの中に納められた主な構造部材の一般的な形
態を一部破断して示す背面上部斜視図、
図３は、装置の部材の構造と相互関係を示す一部破断した側面図、図４は、本
発明の種々の部材間の機能的な関係を説明する概略図である。
各図にわたって、類似の符号は類似の部品を示している。好適な実施形態の詳細な説明
特に先ず図１は、本発明の一般部品用洗浄装置１０を概略的に示している。こ
の装置１０には、洗浄盤１４を形成する上部と、ベース１７、側壁１８，１８’
、後壁１９、および前壁２０を含む下部１６とを有するキャビネット１２を設け
ても良い。
洗浄盤１４は、洗浄盤１４を部分的に取り囲んでスプラッシュガードを形成す
るための、側壁部２１，２２と後壁部２３を含んでいる。前壁パネル２４は、洗
浄盤１４の対向する側壁部２１，２２に互いに対向するように形成されたチャン
ネル２５，２５’内に着脱可能に嵌め込まれている。洗浄操作の間は、前壁パネ
ル２４を引き上げて、装置１０の残りの部分から取り外すことができる。これに
より、洗浄盤１４への装置１０の正面からの接近は妨げられない。
洗浄盤１４の床２６は、側部、後方、および正面から、ドレン２８の位置する
中央領域に向かって、下向きに傾斜しているのが好ましい。ドレン２８は、ドレ
ン板２９を含み、洗浄盤１４内で部品を洗浄するのに使用した後の洗浄溶液は、
ここからドレン抜きされる。
ドレン板２９を通過した後の洗浄溶液は、ドレン板２９の直下に嵌め込まれた
フィルターに向かう。洗浄溶液は、フィルターから復帰流路３２に導かれ、ここ
から、洗浄溶液保持タンク４０に導かれる。非使用期間中は、蒸気封入バルブは
閉じられているので、保持タンク４０から、蒸気が大気中に逃げることは防止さ
れている。保持タンク４０の寸法と形状は、所定量の洗浄溶液を収納するように
決められている。洗浄溶液は、装置の運転中はずっと回収され、再循環される。
保持タンク４０内に支持されたポンプ４４は、保持タンク４０内の洗浄溶液を
復帰導管４６から再循環させ、復帰導管４６と吐出口５０と端部に洗浄ブラシを
付けたホース５２を連絡している三方バルブ４８に導く。洗浄盤４０への排出に
際しては、バルブレバ−５６によって、洗浄溶液を吐出口５０とホース５２のど
ちらに、或いは双方に向けるかのバルブ操作を容易に行うことができる（図１、
図３および図４を参照）。
ホース５２に付けられた洗浄ブラシ５４は、そこから流体が流れるように設計
されているので、堆積したグリス、汚れ、その他の汚染物を洗浄される物品から
除去するために、物品にブラシを掛けると同時に、洗浄溶液で濯ぐことが可能で
ある。洗浄溶液は、吐出口５０または洗浄ブラシ５４から一旦排出されると、ド
レン２８と復帰流路３２を介して保持タンク４０に戻される。
非使用期間中のポンプ４４の駆動中止を容易にするために、装置１０の外部の
接近し易い位置に、電気スイッチ（分かり易さのために図示されていない）が設
けられている。この点に関して、部品洗浄操作の間だけ継続する１回の洗浄サイ
クルが定められている。
１回の洗浄サイクルが終了すると、選択的に設定可能なインターバルを挟んで
、保持タンク４０内に入っている洗浄溶液（洗浄盤内で種々の部品を洗浄するの
に使用された後も汚染されていない）は、蒸留チャンバー６０に開放される。
図３と図４に示すように、再循環プロセスの初期に、モータＭ１またはソレノ
イドによって、蒸気封入バルブアセンブリー３４は閉じられる。モータＭ１また
はソレノイドは、カム３６を回転してレバー３５を動かし、その結果、バネ３３
がバルブ軸３７を上方へ付勢し、バルブヘッド３８がバルブシート３９と当たっ
て、保持タンク４０内の蒸気が大気中に逃げるのが防止される。蒸気封入バルブ
アセンブリー３４は、蒸気が逃げることを防止するための手段として、非使用時
の全期間中にわたって類似の要領で働いている。
再循環プロセスでは、モータＭ２（またはソレノイド）が駆動して、カム部材
６４が回転し、洗浄溶液封入アセンブリー６６が作動する。再循環プロセスの開
始に際しては、カム部材６４が部分的に回転して、レバー６７を動かし、バルブ
軸７０に軸芯方向下向きの力が加えられて、バルブヘッド７２がバルブシート７
６との係合から解放される。
洗浄溶液封入アセンブリー６６が開くと、汚染された洗浄溶液は、保持タンク
４０内から、搬送流路５８を介して、蒸留チャンバー６０に解き放たれる。バル
ブアセンブリー６６を開けると、洗浄溶液が直ちに搬送流路５８を通って蒸留チ
ャンバー６０に流れるように、保持タンク４０の底４１は、図３に示す如く、洗
浄溶液封入アセンブリー６６に向かって傾斜した特殊な形状をしている。
その後、沈殿物を蒸留チャンバーへ洗い流し、空になった保持タンク４０を、
奇麗で概して汚染物の無い状態とするために、バルブシート７６と保持タンク４
０の底４１の上に、少量の清浄な洗浄溶液を噴霧する（詳細は後述する）。
蒸留チャンバー６０は、側壁８０，８１、前壁８２、後壁８３、底８５、およ
び天井８４を含んでいる。蒸留チャンバー内の熱を維持するために、その側部、
底、および上部は、全て断熱されている。蒸留チャンバー６０の底８５は、下部
中央領域８６に向かって傾斜した特殊な構造と形状をしており、沈殿その他の汚
染物は、中央領域８６に集まって滞留するので、その洗浄はより容易になってい
る。
装置正面の取り外し可能なキャップ８７は、下方中央領域８６の付近にて、蒸
留チャンバー６０の正面に貫通形成されたポート８９に、これをカバーし、シー
ルするようにして、着脱可能に嵌め込まれている。棒の先にスコップが付いた道
具を用いれば、ポート８９に達することができ、蒸留チャンバー６０の底を掻き
取り、蓄積した沈殿をポートを介して掃き出すことができる。
蒸留用の蒸気を生成するのに充分な温度まで洗浄溶液を加熱するために、蒸留
チャンバー６０内には、複数の加熱素子９０が設けられている。各加熱素子９０
は、電気で駆動され、蒸留チャンバー６０の内部に、洗浄溶液によって包囲され
るように延びているチューブ内に、１個ずつ嵌め込まれた長尺状の素子からなる
ものとすれば良い。
冷却帯内に凝縮器１００が配置されており、ファン１０２によって冷却されて
いる。凝縮器１００は、蒸留チャンバー６０の上部内の開放端まで延びる第１導
管１０４を含んでいる。導管１０４の開放端１０５は、蒸気を受けるべく、特別
な位置に配置されている。
蒸気はその後、導管１０４から凝縮器１００に導かれ、ここで凝縮されて、新
鮮で汚染されていない洗浄溶液が得られる。第２導管１０８は、凝縮器１００か
ら第２下部洗浄溶液保持タンク１１０まで延びている。
蒸留されて、清浄化された洗浄溶液は、一時保管のために、下部保持タンク１
１０に向けられる。ここには、上部保持タンク４０内に収納されている洗浄溶液
の別の装入分がある。
前述したように、上部保持タンク４０内に装入されている洗浄溶液が、部品の
洗浄操作によって汚染されて、再循環が必要な場合には、この上部保持タンク４
０内の装入分は、上部保持タンク４０から蒸留チャンバー６０に解放される。そ
の後、第２下部洗浄溶液保持タンク１１０内の少量（約１から２パイント）の
清浄化された新鮮な洗浄溶液が、搬送ポンプ１１４から導かれた搬送ライン１１
６を介して、上部保持タンク４０に散布される。
後述するように、搬送ポンプ１１４は、真空を保つための逆止弁を途中に設け
たライン１１２によって、下部保持タンク１１０の底と連結されている。バルブ
アセンブリー６６上に散布された少量の洗浄溶液は、バルブシート７６から沈殿
を取り除く。
同時に、液体リング真空ポンプ１３０がその内部および出力ライン１３２に収
納されていた少量の新鮮な洗浄溶液を、保持タンク４０の傾斜した底４１上に排
出し、沈殿を搬送流路５８から蒸留チャンバー６０内に洗い落とす。
保持タンク４０とバルブアセンブリー６６が一旦濯がれると、蒸留チャンバー
６６を封鎖するために、封入バルブアセンブリー６６を閉じる。ここで搬送ポン
プ１１４が駆動され、その結果、下部保持タンク１１０内の清浄化された汚染さ
れていない洗浄溶液が、上部保持タンク４０に搬送される。
清浄化された洗浄溶液の下部保持タンク１１０内の装入分が完全に上部保持タ
ンク４０に搬送されると、液体リング真空ポンプ１３０は駆動される。清浄化さ
れた洗浄溶液は、保持タンク４０から吸入ライン１３４を介して真空ポンプ１３
０に引き出され、ここから、出力ライン１３２を介して第２凝縮器１４０に排出
され、保持タンク４０へ戻す前に、ここで冷却される。
真空ポンプ１３０の運転は、下部保持タンク１１０の上部に導かれた真空ライ
ン１５０を吸引する。引き続き真空ポンプ１３０を運転すると、下部保持タンク
１１０、凝縮器１００および蒸留チャンバー６０内に真空が生じる。このように
して、洗浄溶液が蒸発する温度が実質的に下げられ、その結果、装置１０の操作
効率が高められる。蒸留チャンバー６０と下部保持タンク１１０内の真空を保持
するために、真空ラインに沿って、第２逆止弁１３６が設けられている。
図４に示すように、保持タンク４０から真空ポンプ１３０に導かれた流体吸入
ライン１３４内にはソレノイドバルブ１４４が設けられている。蒸留チャンバー
６０内が真空となると、ソレノイドバルブ１４４は閉じられ、真空ポンプ１３０
は停止される。このように、ソレノイドバルブ１４４は、洗浄溶液が保持タンク
４０からドレン抜きされて、真空ポンプ１３０内に戻るのを防止している。
前述したように、蒸留チャンバー６０内の汚染された洗浄溶液は、その後、加
熱、蒸発されて、蒸留、清浄化された洗浄溶液は、下部保持タンク１１０内に収
集される。引き続き、上述した要領で、再循環が繰り返される。
実際的、かつ好適と考えられる実施形態として、本発明を示してきたが、後述
する請求の範囲の範囲内で、展開が可能である。したがって、請求の範囲は、均
等論の範囲を除くように限定されるものではない。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for cleaning articles with a cleaning solution, and more particularly to recovering contaminated and dirty cleaning solutions. The present invention relates to a cleaning device for general parts, which can be collected in a process to obtain a fresh, non-contaminated cleaning solution. Description of the Related Art Maintenance, repair, and remodeling operations in virtually all industrial and commercial environments surround a wide variety of parts and articles to remove grease, oil, dirt, and other contaminants. Must be washed. Typically, small parts are cleaned with volatile solvents or aqueous solutions that are considered suitable for removing grease and other accumulated residues from metal parts and other articles. To facilitate cleaning of various components with a cleaning solution such as a hydrocarbon or halogenated hydrocarbon, a sink removably supported on a 55 gallon drum filled with a cleaning solution is used. . A pump is provided to pump the solution from the drum to a spigot in a sink used to rinse parts. The solution is drained from the sink and returned to the drum. At the beginning of the washing operation, the solution is immediately contaminated after the first use. However, during the cleaning operation, the contaminated solution will continue to be used until the next scheduled solution change, which is usually planned on a monthly basis. Periodic replacement of the contaminated solution is usually performed by a service company that also provides cleaning machines as part of the contract. To change the solution, remove the sink from the drum containing the contaminated solution and place it on another drum containing fresh solution. The contaminated drum solution is then removed and discarded in accordance with EPA's pollutant emission guidelines. This procedure is inefficient, costly and time consuming, so manufacturing or repair equipment may use dirty, contaminated solution to clean parts during periods between scheduled replacement dates of the solution. There is no way but to do so. The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in connection with the parts washing machine of the present inventor, which is also described in US Pat. No. 5,349,974. It is incorporated herein by reference. The present invention is particularly useful for the possibility of removing the vacuum pump in the distillation process if the atmospheric evaporation temperature of the washing solution used is not dangerously high and evaporation under atmospheric pressure can be carried out safely. Is provided. Also, with the present invention, the need for a removable lid is eliminated by the inclined bottom of the distillation chamber, which has a special structure for collecting contaminants remaining in the distillation chamber at the center. In order to gain access to the distillation chamber and to remove contaminants, a small port with an externally accessible screw-on cap may be provided at the lower front of the distillation chamber at the front of the apparatus. According to the structural improvement described above, the distillation chamber can be easily cleaned in a shorter time, and the production cost of the apparatus can be significantly reduced. Furthermore, if it is desired to carry out the distillation under vacuum or partial vacuum, a liquid ring vacuum pump can be used according to the invention. The primary advantage of liquid ring vacuum pumps is that they use liquid as a means of forming a seal, thereby avoiding friction and wear, and have a substantially longer service life than other vacuum pumps. . In addition, the liquid ring vacuum pump used in the present invention is driven by a standard 110 volt power supply, providing high efficiency. In order to successfully adapt and prevent damage to the liquid ring vacuum pump, the present invention employs a secondary reservoir that allows operation of the vacuum pump with uncontaminated solution. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to an apparatus capable of rinsing articles such as general parts and engine parts, and providing a high purity fresh cleaning solution as required. More specifically, the present invention provides a clean, uncontaminated cleaning solution to eliminate the need for periodic replacement and disposal of the contaminated cleaning solution (eg, a contaminated dirty cleaning solution). (Including both the solvent and the aqueous washing solution) are recirculated on a regular basis. In this manner, the present invention provides a practical and economical means for meeting the Environmental Protection Agency (EPA) pollutant emission guidelines. The cleaning device for general parts of the present invention is provided with a cleaning tank having a splash guard, an open upper structure, and a wall structure that forms a detachable front wall portion and at least partially surrounds the front wall portion. . The wash tank is further provided with a floor that is slightly inclined downward from the sides, front and rear toward the central drain to facilitate recovery of the used wash solution. . Once the cleaning solution has passed through the drain and filter, it is returned to the holding tank. The pump collects the cleaning solution from the holding tank to the outlet, and when the purified solution is returned to the holding tank from the outlet, it rinses the article for a period determined by the washing cycle. During the recovery process, the contaminant valve assembly is opened, releasing the cleaning solution from within the holding tank to the distillation chamber. Once the cleaning solution is drained into the distillation chamber, the contaminant valve assembly is closed and the cleaning solution is heated to the evaporation temperature, so that vapor enters the condenser. In the condenser, the vapors are condensed to a liquid state and a fresh recovered wash solution is obtained. The fresh wash solution is then directed to a retaining layer for subsequent use in a wash cycle. A vacuum pump for realizing a vacuum in the distillation chamber and lowering the evaporation temperature of the cleaning solution may be used. In a preferred embodiment, a liquid ring vacuum pump is used to increase pump life and increase overall system efficiency. In this case, the condensed and purified cleaning solution is directed from the distillation chamber to the secondary holding tank so that the contaminated cleaning solution in the primary holding tank can be dropped into the distillation chamber. The washing solution once transferred from the secondary holding tank to the primary holding layer should be used to operate a liquid ring vacuum pump that requires a solution free of sediment and contaminants in order to avoid damage. Can be. Thus, with the foregoing in mind, a first object of the present invention is that it can be used to clean parts during maintenance, repair, and retrofit operations, and optionally, An object of the present invention is to provide a cleaning device for general parts including a means for collecting and recirculating a cleaning solution so that a user can be provided with a high-purity cleaning solution on a regular basis. Another object of the present invention is to provide a cleaning device for general parts which eliminates the need for periodic replacement and disposal of contaminated cleaning solutions, as described above, and which meets the EPA emission guidelines. To provide efficient and economical means. It is a further object of the present invention to provide a relatively compact and inexpensive component cleaning apparatus suitable for recirculation of the cleaning solution to provide fresh and uncontaminated cleaning solution on a regular basis. is there. It is yet another object of the present invention to provide a cleaning device for general parts as described above, which is powered by a standard 110 volt power supply and therefore has a longer service life and higher efficiency of the pump. Yet another object of the present invention is a cleaning device for general parts as described above, which has a bottom with a structure for collecting stored contaminants, thus removing contaminants from small ports. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a distillation chamber which can be provided without a removable lid and a lid lifting assembly, and thus has a high efficiency and low construction cost. It is yet another object of the present invention to provide a cleaning device for general parts as described above, which meets all government imposed safety rules and requirements. The foregoing and other objects and advantages of the invention will be more apparent from the description that follows. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS For a full understanding of the nature of the invention, the following detailed description should be read with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of the general component cleaning apparatus of the present invention as viewed from the front and above. FIG. 2 is a partially broken view of a general configuration of main structural members housed in an internal cabinet of the apparatus. FIG. 3 is a partially cutaway side view showing the structure and interrelationship of the members of the apparatus, and FIG. 4 is a schematic diagram illustrating the functional relationship between various members of the present invention. is there. Like numbers refer to like parts throughout the figures. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First of all, FIG. 1 schematically shows a general component cleaning apparatus 10 of the present invention. The apparatus 10 may be provided with a cabinet 12 having an upper portion forming a washing plate 14 and a lower portion 16 including a base 17, side walls 18, 18 ′, a rear wall 19 and a front wall 20. The cleaning board 14 includes side walls 21 and 22 and a rear wall 23 for partially surrounding the cleaning board 14 to form a splash guard. The front wall panel 24 is detachably fitted into channels 25 and 25 ′ formed on the opposite side walls 21 and 22 of the cleaning board 14 so as to face each other. During the cleaning operation, the front wall panel 24 can be pulled up and removed from the rest of the device 10. Thus, the approach of the cleaning board 14 from the front of the apparatus 10 is not prevented. The floor 26 of the wash basin 14 is preferably sloped downward from the sides, rear and front toward the central area where the drain 28 is located. The drain 28 includes a drain plate 29 from which the cleaning solution after it has been used to clean the components in the cleaning board 14 is drained. After passing through the drain plate 29, the cleaning solution is directed to a filter fitted immediately below the drain plate 29. The cleaning solution is guided from the filter to the return channel 32, and from here to the cleaning solution holding tank 40. During the period of non-use, the vapor filling valve is closed, so that vapor from the holding tank 40 is prevented from escaping into the atmosphere. The size and shape of the holding tank 40 are determined so as to store a predetermined amount of the cleaning solution. The cleaning solution is collected and recirculated throughout the operation of the device. The pump 44 supported in the holding tank 40 recirculates the cleaning solution in the holding tank 40 from the return conduit 46, and connects the return conduit 46 with the discharge port 50 and the hose 52 having a cleaning brush at the end. To the three-way valve 48. When discharging the cleaning solution to the cleaning board 40, the valve lever 56 can easily perform the valve operation to direct the cleaning solution to the discharge port 50 and the hose 52 or to both of them (FIGS. 1, 3, and 5). 4). A cleaning brush 54 attached to the hose 52 is designed to allow fluid to flow therefrom, so that the article is brushed to remove accumulated grease, dirt, and other contaminants from the article being cleaned. At the same time, it is possible to rinse with a cleaning solution. Once discharged from the discharge port 50 or the cleaning brush 54, the cleaning solution is returned to the holding tank 40 via the drain 28 and the return flow path 32. An electrical switch (not shown for clarity) is provided at an easily accessible location external to the device 10 to facilitate shut down of the pump 44 during periods of non-use. In this regard, a single cleaning cycle is defined that lasts only during the component cleaning operation. At the end of a single cleaning cycle, the cleaning solution contained in the holding tank 40 (contaminated after being used to clean various components in the cleaning board) at selectively configurable intervals. Are open to the distillation chamber 60. As shown in FIGS. 3 and 4, at the beginning of the recirculation process, the motor M1 or solenoid closes the vapor fill valve assembly. The motor M1 or the solenoid rotates the cam 36 to move the lever 35. As a result, the spring 33 urges the valve shaft 37 upward, and the valve head 38 comes into contact with the valve seat 39, and the vapor in the holding tank 40 Is prevented from escaping into the atmosphere. The steam-filled valve assembly 34 operates in a similar manner during periods of non-use as a means of preventing the escape of steam. In the recirculation process, the motor M2 (or solenoid) is driven to rotate the cam member 64 and operate the cleaning solution enclosing assembly 66. At the start of the recirculation process, the cam member 64 is partially rotated to move the lever 67, and a downward force is applied to the valve shaft 70 in the axial direction, so that the valve head 72 is engaged with the valve seat 76. It is released from the case. When the cleaning solution enclosing assembly 66 is opened, the contaminated cleaning solution is released from the holding tank 40 to the distillation chamber 60 via the transfer channel 58. When the valve assembly 66 is opened, the bottom 41 of the holding tank 40 is inclined toward the cleaning solution enclosing assembly 66 as shown in FIG. 3 so that the cleaning solution immediately flows through the transfer channel 58 into the distillation chamber 60. It has a special shape. The sediment is then rinsed into the distillation chamber and a small amount of cleaning is placed on the valve seat 76 and the bottom 41 of the holding tank 40 to keep the empty holding tank 40 clean and generally free of contaminants. Spray a clean solution (details will be described later). Distillation chamber 60 includes side walls 80, 81, front wall 82, rear wall 83, bottom 85, and ceiling 84. The sides, bottom and top are all insulated to maintain heat in the distillation chamber. The bottom 85 of the distillation chamber 60 has a special structure and shape that slopes toward the lower central region 86, and the sediment and other contaminants collect and accumulate in the central region 86 so that its cleaning is easier. Has become. A removable cap 87 on the front of the device is removably fitted near and in the vicinity of the lower central area 86 to cover and seal a port 89 formed through the front of the distillation chamber 60. I have. With a tool with a scoop at the end of the rod, port 89 can be reached and the bottom of distillation chamber 60 can be scraped and the accumulated sediment can be swept out through the port. A plurality of heating elements 90 are provided within the distillation chamber 60 to heat the cleaning solution to a temperature sufficient to generate the vapor for distillation. Each heating element 90 may be a long element that is electrically driven and fitted one by one into a tube that extends inside the distillation chamber 60 so as to be surrounded by the cleaning solution. good. A condenser 100 is arranged in the cooling zone, and is cooled by a fan 102. The condenser 100 includes a first conduit 104 that extends to an open end in the upper portion of the distillation chamber 60. The open end 105 of the conduit 104 is specially positioned to receive steam. The vapor is then conducted from conduit 104 to condenser 100 where it is condensed to obtain a fresh, uncontaminated cleaning solution. The second conduit 108 extends from the condenser 100 to a second lower cleaning solution holding tank 110. The distilled and cleaned washing solution is directed to the lower holding tank 110 for temporary storage. Here, there is another charge of the cleaning solution contained in the upper holding tank 40. As described above, when the cleaning solution charged in the upper holding tank 40 is contaminated by the washing operation of the parts and recirculation is required, the charged amount in the upper holding tank 40 is , From the upper holding tank 40 to the distillation chamber 60. Thereafter, a small amount (about 1 to 2 pints) of the cleaned fresh cleaning solution in the second lower cleaning solution holding tank 110 is transferred to the upper holding tank 40 via the transfer line 116 led from the transfer pump 114. Sprayed on. As will be described later, the transfer pump 114 is connected to the bottom of the lower holding tank 110 by a line 112 provided with a check valve for keeping vacuum. A small amount of cleaning solution sprayed on the valve assembly 66 removes sediment from the valve seat 76. At the same time, a liquid ring vacuum pump 130 discharges a small amount of fresh washing solution contained therein and in the output line 132 onto the inclined bottom 41 of the holding tank 40, and precipitates from the transfer channel 58 through the distillation chamber 60. Wash off inside. Once the holding tank 40 and the valve assembly 66 have been rinsed, the enclosed valve assembly 66 is closed to seal off the distillation chamber 66. Here, the transport pump 114 is driven, and as a result, the cleaned and non-contaminated cleaning solution in the lower holding tank 110 is transported to the upper holding tank 40. When the charge of the cleaned cleaning solution in the lower holding tank 110 is completely transferred to the upper holding tank 40, the liquid ring vacuum pump 130 is driven. The cleaned cleaning solution is drawn from the holding tank 40 to the vacuum pump 130 via the suction line 134, from where it is discharged to the second condenser 140 via the output line 132 and before returning to the holding tank 40. Then, it is cooled here. The operation of the vacuum pump 130 sucks the vacuum line 150 led to the upper part of the lower holding tank 110. When the vacuum pump 130 is continuously operated, a vacuum is generated in the lower holding tank 110, the condenser 100, and the distillation chamber 60. In this way, the temperature at which the cleaning solution evaporates is substantially reduced, thereby increasing the operating efficiency of the device 10. A second check valve 136 is provided along the vacuum line to maintain a vacuum in the distillation chamber 60 and the lower holding tank 110. As shown in FIG. 4, a solenoid valve 144 is provided in a fluid suction line 134 led from the holding tank 40 to the vacuum pump 130. When the inside of the distillation chamber 60 becomes a vacuum, the solenoid valve 144 is closed, and the vacuum pump 130 is stopped. As described above, the solenoid valve 144 prevents the cleaning solution from being drained from the holding tank 40 and returning to the inside of the vacuum pump 130. As described above, the contaminated cleaning solution in the distillation chamber 60 is then heated and evaporated, and the distilled and cleaned cleaning solution is collected in the lower holding tank 110. Subsequently, the recirculation is repeated as described above. Although the present invention has been shown as a practical and preferred embodiment, it can be developed within the scope of the following claims. Accordingly, the claims are not to be limited except in light of the scope of the doctrine of equivalents.