JP2000355526A - 洗髪用化粧料 - Google Patents
洗髪用化粧料Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】洗髪中の泡立ちに優れ、洗髪後の毛髪のまとま
り、さらさら感、艶に優れた洗髪用化粧料を提供する。 【解決手段】（Ａ）アミノ基又はアンモニウム基とフェ
ニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ有するポリシ
ロキサンと、アニオン性又は両性ポリマーとを反応させ
て得られる複合高分子と、（Ｂ）アニオン界面活性剤及
び／又は両性界面活性剤とを含有することを特徴とする
洗髪用化粧料。
り、さらさら感、艶に優れた洗髪用化粧料を提供する。 【解決手段】（Ａ）アミノ基又はアンモニウム基とフェ
ニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ有するポリシ
ロキサンと、アニオン性又は両性ポリマーとを反応させ
て得られる複合高分子と、（Ｂ）アニオン界面活性剤及
び／又は両性界面活性剤とを含有することを特徴とする
洗髪用化粧料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗髪中の泡立ちに
優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、しっとり感、艶に優れ
た洗髪用化粧料に関する。
優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、しっとり感、艶に優れ
た洗髪用化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の消費者の洗髪用化粧料に対する要
望は、単に毛髪の汚れを落とすだけではなく、洗髪後の
毛髪のまとまりや、さらさら感等のコンディショニング
効果にまでおよんでいる。
望は、単に毛髪の汚れを落とすだけではなく、洗髪後の
毛髪のまとまりや、さらさら感等のコンディショニング
効果にまでおよんでいる。
【０００３】従来、洗髪用化粧料のコンディショニング
剤として、カチオン化セルロース等のカチオン性ポリマ
ーやシリコーン化合物等が広く用いられている。しかし
カチオン性ポリマーを配合した洗髪用化粧料を連用する
と、カチオン性ポリマーが毛髪上に蓄積し、べたつき
感、ごわつき感が生じる等の欠点があった。また、シリ
コーン化合物を配合した洗髪用化粧料は、さらさら感に
は優れているものの、シリコーンが本来持つ消泡性によ
り泡立ちが著しく低下し、使用性について十分満足いく
ものではなかった。
剤として、カチオン化セルロース等のカチオン性ポリマ
ーやシリコーン化合物等が広く用いられている。しかし
カチオン性ポリマーを配合した洗髪用化粧料を連用する
と、カチオン性ポリマーが毛髪上に蓄積し、べたつき
感、ごわつき感が生じる等の欠点があった。また、シリ
コーン化合物を配合した洗髪用化粧料は、さらさら感に
は優れているものの、シリコーンが本来持つ消泡性によ
り泡立ちが著しく低下し、使用性について十分満足いく
ものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】すなわち本発明の目的
は、洗髪中の泡立ちに優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、
しっとり感、艶に優れた洗髪用化粧料を提供することに
ある。
は、洗髪中の泡立ちに優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、
しっとり感、艶に優れた洗髪用化粧料を提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な状況に鑑み、鋭意研究した結果、特定の複合高分子
と、アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性剤とを
含有する洗髪用化粧料が上記の難点を解決することを見
出し、本発明を完成するに至った。
な状況に鑑み、鋭意研究した結果、特定の複合高分子
と、アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性剤とを
含有する洗髪用化粧料が上記の難点を解決することを見
出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、第１の本発明は、（Ａ）アミノ
基又はアンモニウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ
少なくとも１つ有するポリシロキサンと、アニオン性又
は両性ポリマーとを反応させて得られる複合高分子と、
（Ｂ）アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性剤と
を含有することを特徴とする洗髪用化粧料である。
基又はアンモニウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ
少なくとも１つ有するポリシロキサンと、アニオン性又
は両性ポリマーとを反応させて得られる複合高分子と、
（Ｂ）アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性剤と
を含有することを特徴とする洗髪用化粧料である。
【０００７】また、第２の本発明は、一般式（１）
【０００８】
【化２】
【０００９】〔式中、Ｒ1は互いに独立して炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、水酸基、炭素原子数１ない
し５のアルコキシ基又はトリメチルシロキシ基を表し、
Ｑ1は次式：−Ｒ3Ｘ｛Ｒ3は直接結合又は炭素原子数２
ないし６のアルキレン基を表し、そしてＸは次式：−
（ＮＲ4Ｒ5）eＮＲ4 2、−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ+Ｒ4 3Ａ-及び
−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ（Ｒ4）ＣＯＲ6（Ｒ4は互いに独立し
て水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ5は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
し、Ｒ6は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ａ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又はＣＯＯ-を表し、そしてｅ
は０ないし６の整数を表す）からなる群から選択される
基を表す｝で表される基を表し、Ｑ2はフェニル基含有
基を表し、Ｒ2は互いに独立して前記Ｒ1、Ｑ1又はＱ2に
定義したものと同じ意味を表し、そしてｘ、ｙ及びｚは
いずれも０以上の整数で、かつ、０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦２０
００であるが、ただしｙ＝０の場合はＲ2の少なくとも
１つはＱ1であり、ｚ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つ
はＱ2である〕で表されるポリシロキサンと、アニオン
性又は両性ポリマーとを反応させて得られる複合高分子
と、（Ｂ）アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性
剤とを含有することを特徴とする洗髪用化粧料である。
１ないし１８のアルキル基、水酸基、炭素原子数１ない
し５のアルコキシ基又はトリメチルシロキシ基を表し、
Ｑ1は次式：−Ｒ3Ｘ｛Ｒ3は直接結合又は炭素原子数２
ないし６のアルキレン基を表し、そしてＸは次式：−
（ＮＲ4Ｒ5）eＮＲ4 2、−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ+Ｒ4 3Ａ-及び
−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ（Ｒ4）ＣＯＲ6（Ｒ4は互いに独立し
て水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ5は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
し、Ｒ6は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ａ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又はＣＯＯ-を表し、そしてｅ
は０ないし６の整数を表す）からなる群から選択される
基を表す｝で表される基を表し、Ｑ2はフェニル基含有
基を表し、Ｒ2は互いに独立して前記Ｒ1、Ｑ1又はＱ2に
定義したものと同じ意味を表し、そしてｘ、ｙ及びｚは
いずれも０以上の整数で、かつ、０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦２０
００であるが、ただしｙ＝０の場合はＲ2の少なくとも
１つはＱ1であり、ｚ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つ
はＱ2である〕で表されるポリシロキサンと、アニオン
性又は両性ポリマーとを反応させて得られる複合高分子
と、（Ｂ）アニオン界面活性剤及び／又は両性界面活性
剤とを含有することを特徴とする洗髪用化粧料である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態について
詳述する。
詳述する。
【００１１】本発明で用いられる複合高分子は、特開平
１０−２９８０４３号公報及び特開平１１−７９９５８
号公報に示される製造方法により合成されるものであ
る。
１０−２９８０４３号公報及び特開平１１−７９９５８
号公報に示される製造方法により合成されるものであ
る。
【００１２】本発明で用いられるアミノ基又はアンモニ
ウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ
有するポリシロキサンは、一般式（１）
ウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ
有するポリシロキサンは、一般式（１）
【００１３】
【化３】
【００１４】〔式中、Ｒ1は互いに独立して炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、水酸基、炭素原子数１ない
し５のアルコキシ基又はトリメチルシロキシ基を表し、
Ｑ1は次式：−Ｒ3Ｘ｛Ｒ3は直接結合又は炭素原子数２
ないし６のアルキレン基を表し、そしてＸは次式：−
（ＮＲ4Ｒ5）eＮＲ4 2、−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ+Ｒ4 3Ａ-及び
−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ（Ｒ4）ＣＯＲ6（Ｒ4は互いに独立し
て水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ5は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
し、Ｒ6は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ａ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又はＣＯＯ-を表し、そしてｅ
は０ないし６の整数を表す）からなる群から選択される
基を表す｝で表される基を表し、Ｑ2はフェニル基含有
基を表し、Ｒ2は互いに独立して前記Ｒ1、Ｑ1又はＱ2に
定義したものと同じ意味を表し、そしてｘ、ｙ及びｚは
いずれも０以上の整数で、かつ、０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦２０
００であるが、ただしｙ＝０の場合はＲ2の少なくとも
１つはＱ1であり、ｚ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つ
はＱ2である〕で表されるものである。
１ないし１８のアルキル基、水酸基、炭素原子数１ない
し５のアルコキシ基又はトリメチルシロキシ基を表し、
Ｑ1は次式：−Ｒ3Ｘ｛Ｒ3は直接結合又は炭素原子数２
ないし６のアルキレン基を表し、そしてＸは次式：−
（ＮＲ4Ｒ5）eＮＲ4 2、−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ+Ｒ4 3Ａ-及び
−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ（Ｒ4）ＣＯＲ6（Ｒ4は互いに独立し
て水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ5は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表
し、Ｒ6は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ａ-はＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又はＣＯＯ-を表し、そしてｅ
は０ないし６の整数を表す）からなる群から選択される
基を表す｝で表される基を表し、Ｑ2はフェニル基含有
基を表し、Ｒ2は互いに独立して前記Ｒ1、Ｑ1又はＱ2に
定義したものと同じ意味を表し、そしてｘ、ｙ及びｚは
いずれも０以上の整数で、かつ、０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦２０
００であるが、ただしｙ＝０の場合はＲ2の少なくとも
１つはＱ1であり、ｚ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つ
はＱ2である〕で表されるものである。
【００１５】上記式中の基Ｒ1としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基及びトリメチルシロキシ基等が挙げられ、好
ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくは
メチル基又はトリメチルシロキシ基［−ＯＳｉ（Ｃ
Ｈ3）3］である。また、分子中の基Ｒ1は互いに同一で
あっても、相違していてもよい。
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基及びトリメチルシロキシ基等が挙げられ、好
ましくはメチル基又はエチル基であり、特に好ましくは
メチル基又はトリメチルシロキシ基［−ＯＳｉ（Ｃ
Ｈ3）3］である。また、分子中の基Ｒ1は互いに同一で
あっても、相違していてもよい。
【００１６】上記式中の基Ｑ1としては、例えば、以下
の基等を挙げることができる。［−Ｃ3Ｈ6ＮＨ2］、
［−Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）2］、［−Ｃ3Ｈ6Ｎ+Ｈ3Ｃ
ｌ-］、［−Ｃ 3Ｈ6Ｎ+Ｈ3ＣＯＯ-］、［−Ｃ3Ｈ6ＮＨＣ
2Ｈ4ＮＨ2］、［−Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ（Ｃ
Ｈ3）2］、［−Ｃ3Ｈ6ＮＨＣ2Ｈ4Ｎ+Ｈ3Ｃｌ-］、［−
Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ+（ＣＨ3）3Ｃｌ-］、［−
Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ（ＣＨ3）ＣＯＣ3Ｈ7］
の基等を挙げることができる。［−Ｃ3Ｈ6ＮＨ2］、
［−Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）2］、［−Ｃ3Ｈ6Ｎ+Ｈ3Ｃ
ｌ-］、［−Ｃ 3Ｈ6Ｎ+Ｈ3ＣＯＯ-］、［−Ｃ3Ｈ6ＮＨＣ
2Ｈ4ＮＨ2］、［−Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ（Ｃ
Ｈ3）2］、［−Ｃ3Ｈ6ＮＨＣ2Ｈ4Ｎ+Ｈ3Ｃｌ-］、［−
Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ+（ＣＨ3）3Ｃｌ-］、［−
Ｃ3Ｈ6Ｎ（ＣＨ3）Ｃ2Ｈ4Ｎ（ＣＨ3）ＣＯＣ3Ｈ7］
【００１７】上記式中の基Ｑ2としては、例えば、次
式：−Ｒ3Ｔ（式中Ｒ3は上で定義されたものと同じ意
味、すなわち直接結合又は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基、特にエチレン基を表し、そしてＴは、未置
換、又はアルキル基、特にメチル基により置換されたフ
ェニル基を表す）で表される基であり、具体的には、フ
ェニル基（以下、−Ｐｈとも表記する）、トリル基［−
Ｐｈ（ＣＨ3）］、キシリル基［−Ｐｈ（ＣＨ3）2］、
フェネチル基［−Ｃ2Ｈ4Ｐｈ］、トリルエチレン基［−
Ｃ2Ｈ4Ｐｈ（ＣＨ3）］等を挙げることができる。な
お、フェニル環上の置換基は、あらゆる位置に結合し得
る。すなわち、置換基が１個の場合、基Ｒ3への結合手
又は遊離結合手に対して、ｏ、ｍ−又はｐ−位であって
よく、置換基が２個の場合、互いにｏ、ｍ−又はｐ−位
であってよく、そしてそれ以上の置換基を有する場合で
も、どの位置に結合されていてもよい。
式：−Ｒ3Ｔ（式中Ｒ3は上で定義されたものと同じ意
味、すなわち直接結合又は炭素原子数２ないし６のアル
キレン基、特にエチレン基を表し、そしてＴは、未置
換、又はアルキル基、特にメチル基により置換されたフ
ェニル基を表す）で表される基であり、具体的には、フ
ェニル基（以下、−Ｐｈとも表記する）、トリル基［−
Ｐｈ（ＣＨ3）］、キシリル基［−Ｐｈ（ＣＨ3）2］、
フェネチル基［−Ｃ2Ｈ4Ｐｈ］、トリルエチレン基［−
Ｃ2Ｈ4Ｐｈ（ＣＨ3）］等を挙げることができる。な
お、フェニル環上の置換基は、あらゆる位置に結合し得
る。すなわち、置換基が１個の場合、基Ｒ3への結合手
又は遊離結合手に対して、ｏ、ｍ−又はｐ−位であって
よく、置換基が２個の場合、互いにｏ、ｍ−又はｐ−位
であってよく、そしてそれ以上の置換基を有する場合で
も、どの位置に結合されていてもよい。
【００１８】上記式中の基Ｒ2は、互いに独立して前記
Ｒ1、Ｑ1又はＱ2のいずれかに定義したものと同じ意味
を表す。
Ｒ1、Ｑ1又はＱ2のいずれかに定義したものと同じ意味
を表す。
【００１９】上記式中のｘ、ｙ及びｚは上記範囲内の整
数である。この範囲を外れると、アニオン性又は両性ポ
リマーとの反応生成物である複合高分子がゲル化を起こ
しやすく、安定した洗髪用化粧料の調製が困難になる。
数である。この範囲を外れると、アニオン性又は両性ポ
リマーとの反応生成物である複合高分子がゲル化を起こ
しやすく、安定した洗髪用化粧料の調製が困難になる。
【００２０】本発明で用いられるアミノ基又はアンモニ
ウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ
有するポリシロキサンとしては、例えば、下記の式
（２）〜（１５）で表されるものが挙げられる。
ウム基とフェニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ
有するポリシロキサンとしては、例えば、下記の式
（２）〜（１５）で表されるものが挙げられる。
【００２１】
【化４】
【００２２】
【化５】
【００２３】
【化６】
【００２４】
【化７】
【００２５】
【化８】
【００２６】
【化９】
【００２７】
【化１０】
【００２８】
【化１１】
【００２９】
【化１２】
【００３０】
【化１３】
【００３１】
【化１４】
【００３２】
【化１５】
【００３３】
【化１６】
【００３４】
【化１７】
【００３５】本発明で用いられるアニオン性又は両性ポ
リマーとしては、例えば、アクリル酸エステル／メタク
リル酸エステル共重合体（プラスサイズ、互応化学社
製）、酢酸ビニル／クロトン酸共重合体（レジン２８−
１３１０、ＮＳＣ社製）、酢酸ビニル／クロトン酸／ビ
ニルネオデカネート共重合体（２８−２９３０、ＮＳＣ
社製）、メチルビニルエーテルマレイン酸ハーフエステ
ル（ガントレッツＥＳ、ＩＳＰ社製）、ｔ−ブチルアク
リレート／アクリル酸エチル／メタクリル酸共重合体
（ルビマー、ＢＡＳＦ社製）、ビニルピロリドン／ビニ
ルアセテート／ビニルプロピオネート共重合体（ルビス
コールＶＡＰ、ＢＡＳＦ社製）、ビニルアセテート／ク
ロトン酸共重合体（ルビセットＣＡ、ＢＡＳＦ社製）、
ビニルアセテート／クロトン酸／ビニルピロリドン共重
合体（ルビセットＣＡＰ、ＢＡＳＦ社製）、ビニルピロ
リドン／アクリレート共重合体（ルビフレックス、ＢＡ
ＳＦ社製）、アクリレート／アクリルアミド共重合体
（ウルトラホールド、ＢＡＳＦ社製）、ビニルアセテー
ト／ブチルマレアート／イソボルニルアクリラート共重
合体（アドバンテージ、ＩＳＰ社製）、アクリル酸オク
チルアミド／アクリル酸エステル共重合体（ダーマクリ
ル７９、ＮＳＣ社製）等のアニオン性ポリマーや、アク
リル酸オクチルアクリルアミド／アクリル酸ヒドロキシ
プロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル共重合体
（ＡＭＰＨＯＭＥＲ、ＮＳＣ社製）等の両性ポリマー等
が挙げられ、特にカルボキシル基含有ポリマーが好まし
い。
リマーとしては、例えば、アクリル酸エステル／メタク
リル酸エステル共重合体（プラスサイズ、互応化学社
製）、酢酸ビニル／クロトン酸共重合体（レジン２８−
１３１０、ＮＳＣ社製）、酢酸ビニル／クロトン酸／ビ
ニルネオデカネート共重合体（２８−２９３０、ＮＳＣ
社製）、メチルビニルエーテルマレイン酸ハーフエステ
ル（ガントレッツＥＳ、ＩＳＰ社製）、ｔ−ブチルアク
リレート／アクリル酸エチル／メタクリル酸共重合体
（ルビマー、ＢＡＳＦ社製）、ビニルピロリドン／ビニ
ルアセテート／ビニルプロピオネート共重合体（ルビス
コールＶＡＰ、ＢＡＳＦ社製）、ビニルアセテート／ク
ロトン酸共重合体（ルビセットＣＡ、ＢＡＳＦ社製）、
ビニルアセテート／クロトン酸／ビニルピロリドン共重
合体（ルビセットＣＡＰ、ＢＡＳＦ社製）、ビニルピロ
リドン／アクリレート共重合体（ルビフレックス、ＢＡ
ＳＦ社製）、アクリレート／アクリルアミド共重合体
（ウルトラホールド、ＢＡＳＦ社製）、ビニルアセテー
ト／ブチルマレアート／イソボルニルアクリラート共重
合体（アドバンテージ、ＩＳＰ社製）、アクリル酸オク
チルアミド／アクリル酸エステル共重合体（ダーマクリ
ル７９、ＮＳＣ社製）等のアニオン性ポリマーや、アク
リル酸オクチルアクリルアミド／アクリル酸ヒドロキシ
プロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル共重合体
（ＡＭＰＨＯＭＥＲ、ＮＳＣ社製）等の両性ポリマー等
が挙げられ、特にカルボキシル基含有ポリマーが好まし
い。
【００３６】本発明で用いられる複合高分子は、上記ポ
リシロキサン１００重量部に対して、上記アニオン性又
は両性ポリマー２０〜５０００重量部を反応させること
により得られる。
リシロキサン１００重量部に対して、上記アニオン性又
は両性ポリマー２０〜５０００重量部を反応させること
により得られる。
【００３７】また、本発明で用いられる複合高分子は、
ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、ア
ミノエチルプロパノール、アンモニア、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、塩基性アミノ酸等のアルカリ剤に
より中和して用いることが好ましい。
ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、ア
ミノエチルプロパノール、アンモニア、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、塩基性アミノ酸等のアルカリ剤に
より中和して用いることが好ましい。
【００３８】本発明で用いられる複合高分子の配合量と
しては、洗髪用化粧料の総量を基準として、０．１〜３
重量％が好ましい。配合量が０．１重量％未満である
と、十分なコンディショニング効果が得られない場合が
ある。また、３重量％を超えて配合した場合、配合量に
見合うだけの効果の向上が得られない場合がある。
しては、洗髪用化粧料の総量を基準として、０．１〜３
重量％が好ましい。配合量が０．１重量％未満である
と、十分なコンディショニング効果が得られない場合が
ある。また、３重量％を超えて配合した場合、配合量に
見合うだけの効果の向上が得られない場合がある。
【００３９】本発明で用いられるアニオン界面活性剤と
しては、例えば、脂肪酸石鹸、α−アシルスルホン酸
塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキル硫酸
塩、アルキルアミド硫酸塩、アルキルリン酸塩、アルキ
ルアミドリン酸塩、アルキロイルアルキルタウリン塩、
Ｎ−アシルアミノ酸塩、スルホコハク酸塩等が挙げられ
る。
しては、例えば、脂肪酸石鹸、α−アシルスルホン酸
塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸
塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキル硫酸
塩、アルキルアミド硫酸塩、アルキルリン酸塩、アルキ
ルアミドリン酸塩、アルキロイルアルキルタウリン塩、
Ｎ−アシルアミノ酸塩、スルホコハク酸塩等が挙げられ
る。
【００４０】本発明で用いられるアニオン性界面活性剤
の配合量としては、洗髪用化粧料の総量を基準として、
０．５〜５０重量％が好ましい。
の配合量としては、洗髪用化粧料の総量を基準として、
０．５〜５０重量％が好ましい。
【００４１】本発明で用いられる両性界面活性剤として
は、例えば、カルボキシベタイン型、アミドベタイン
型、スルホベタイン型、ヒドロキシスルホベタイン型、
アミドスルホベタイン型、ホスホベタイン型、アミノカ
ルボン酸塩型、イミダゾリン誘導体型、アミドアミン型
等が挙げられる。
は、例えば、カルボキシベタイン型、アミドベタイン
型、スルホベタイン型、ヒドロキシスルホベタイン型、
アミドスルホベタイン型、ホスホベタイン型、アミノカ
ルボン酸塩型、イミダゾリン誘導体型、アミドアミン型
等が挙げられる。
【００４２】本発明で用いられる両性界面活性剤の配合
量としては、洗髪用化粧料の総量を基準として、０．５
〜５０重量％が好ましい。
量としては、洗髪用化粧料の総量を基準として、０．５
〜５０重量％が好ましい。
【００４３】上記のアニオン界面活性剤、両性界面活性
剤はそれぞれ単独又は２種以上を混合して使用すること
ができる。
剤はそれぞれ単独又は２種以上を混合して使用すること
ができる。
【００４４】本発明の洗髪用化粧料は、発明の効果を損
なわない範囲であれば、上記必須成分の他に、洗髪用化
粧料に一般的に配合される成分、例えば、ラノリン誘導
体、蛋白質誘導体や、メチルポリシロキサン、メチルフ
ェニルポリシロキサン等のシリコーン油、ポリエチレン
グリコール等の脂肪酸エステル油、ツバキ油、オリーブ
油等の植物油等の油性成分、プロピレングリコール、グ
リセリン、ポリエチレングリコール等の保湿成分、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル等の非イオン界面活性
剤、塩化アルキルトリメチルアンモニウム等のカチオン
界面活性剤、流動パラフィン、ワセリン、スクワラン等
の炭化水素、水溶性高分子物質、金属イオン封鎖剤、防
腐剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、色素、
香料及び噴射剤等を配合することも可能である。
なわない範囲であれば、上記必須成分の他に、洗髪用化
粧料に一般的に配合される成分、例えば、ラノリン誘導
体、蛋白質誘導体や、メチルポリシロキサン、メチルフ
ェニルポリシロキサン等のシリコーン油、ポリエチレン
グリコール等の脂肪酸エステル油、ツバキ油、オリーブ
油等の植物油等の油性成分、プロピレングリコール、グ
リセリン、ポリエチレングリコール等の保湿成分、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル等の非イオン界面活性
剤、塩化アルキルトリメチルアンモニウム等のカチオン
界面活性剤、流動パラフィン、ワセリン、スクワラン等
の炭化水素、水溶性高分子物質、金属イオン封鎖剤、防
腐剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、色素、
香料及び噴射剤等を配合することも可能である。
【００４５】また、本発明の洗髪用化粧料は、特に剤型
にとらわれず、例えば、シャンプー、リンス、トリート
メント等に適用することができる。
にとらわれず、例えば、シャンプー、リンス、トリート
メント等に適用することができる。
【００４６】
【実施例】以下に実施例、比較例を挙げて本発明を説明
する。本発明は、これらにより限定されるものではな
い。
する。本発明は、これらにより限定されるものではな
い。
【００４７】＜実施例、比較例に用いた複合高分子の合
成法＞アニオン性ポリマーとしてアクリル酸オクチルア
ミド／アクリル酸エステル共重合体（市販品ダーマクリ
ル７９：ＮＳＣ社製）１２重量部をエタノール１００重
量部に投入し、室温にて攪拌して溶解させた。次いで、
アミノ基又はアンモニウム基とフェニル基含有基とをそ
れぞれ少なくとも１つ有するポリシロキサンとして下記
の式
成法＞アニオン性ポリマーとしてアクリル酸オクチルア
ミド／アクリル酸エステル共重合体（市販品ダーマクリ
ル７９：ＮＳＣ社製）１２重量部をエタノール１００重
量部に投入し、室温にて攪拌して溶解させた。次いで、
アミノ基又はアンモニウム基とフェニル基含有基とをそ
れぞれ少なくとも１つ有するポリシロキサンとして下記
の式
【００４８】
【化１８】
【００４９】で示されるポリシロキサン８重量部を添加
し、室温で混合攪拌した。さらに、窒素ガス雰囲気下で
攪拌しながら、８０℃で加熱還流を３時間行った後、溶
媒を流出させ固形分を２０重量％に調整し複合高分子を
得た。
し、室温で混合攪拌した。さらに、窒素ガス雰囲気下で
攪拌しながら、８０℃で加熱還流を３時間行った後、溶
媒を流出させ固形分を２０重量％に調整し複合高分子を
得た。
【００５０】実施例、比較例に示したコンディショニン
グ性及び起泡性の試験方法は下記の通りである。なお、
以下の表に示す組成物の配合量は、それぞれ重量％で示
す。
グ性及び起泡性の試験方法は下記の通りである。なお、
以下の表に示す組成物の配合量は、それぞれ重量％で示
す。
【００５１】（１）コンディショニング性試験 仕上がり感試験法（ハーフヘッド法） パネル（２０名）が頭髪を左右半々に分け、一方をコン
トロールとして、ポリオキシエチレンラウリルエーテル
硫酸塩２０重量％で、他方を試料で同時に洗髪し、洗髪
後の毛髪のまとまり具合、さらさら感、艶を比較評価し
た。
トロールとして、ポリオキシエチレンラウリルエーテル
硫酸塩２０重量％で、他方を試料で同時に洗髪し、洗髪
後の毛髪のまとまり具合、さらさら感、艶を比較評価し
た。
【００５２】評価基準は以下の通りである。 ◎：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが９人以上 ○：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが７〜８人 △：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが４〜６人 ×：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが３人以下
ルが９人以上 ○：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが７〜８人 △：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが４〜６人 ×：コントロールよりも仕上がり感がよいと答えたパネ
ルが３人以下
【００５３】（２）起泡性試験 活性剤濃度が２％の水溶液（ＣａＣＯ3５０ｐｐｍ人工
硬水使用、４０℃）を調製し、ロスマイルス試験法に準
じて行った。
硬水使用、４０℃）を調製し、ロスマイルス試験法に準
じて行った。
【００５４】評価基準は以下の通りである。 ◎：優秀 泡高さ ２５０ｍｍ以上 ○：良好 泡高さ ２１０ｍｍ以上２５０ｍｍ未満 △：普通 泡高さ １７０ｍｍ以上２１０ｍｍ未満 ×：不良 泡高さ １７０ｍｍ未満
【００５５】実施例１〜７、比較例１〜６ 表１、表２に示した組成の洗髪用化粧料を常法により調
製し、前記各試験を実施した。その結果を表１、表２に
併せて示す。
製し、前記各試験を実施した。その結果を表１、表２に
併せて示す。
【００５６】
【表１】
【００５７】
【表２】
【００５８】表１より明らかなように、本発明の必須成
分を用いた実施例の洗髪用化粧料はいずれも優れた性能
を有していた。
分を用いた実施例の洗髪用化粧料はいずれも優れた性能
を有していた。
【００５９】一方、表２より明らかのように、必須成分
のいずれかを欠いた比較例の洗髪用化粧料では、毛髪の
まとまり具合、さらさら感、艶、起泡性の面で劣ってお
り、本発明の目的を達成できなかった。
のいずれかを欠いた比較例の洗髪用化粧料では、毛髪の
まとまり具合、さらさら感、艶、起泡性の面で劣ってお
り、本発明の目的を達成できなかった。
【００６０】
【発明の効果】以上記載のごとく、本発明は、洗髪中の
泡立ちに優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、さらさら感、
艶に優れた洗髪用化粧料を提供することができる。
泡立ちに優れ、洗髪後の毛髪のまとまり、さらさら感、
艶に優れた洗髪用化粧料を提供することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）アミノ基又はアンモニウム基とフ
ェニル基含有基とをそれぞれ少なくとも１つ有するポリ
シロキサンと、アニオン性又は両性ポリマーとを反応さ
せて得られる複合高分子と、（Ｂ）アニオン界面活性剤
及び／又は両性界面活性剤とを含有することを特徴とす
る洗髪用化粧料。 - 【請求項２】 （Ａ）の複合高分子が、一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1は互いに独立して炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、水酸基、炭素原子数１ないし５のアルコ
キシ基又はトリメチルシロキシ基を表し、Ｑ1は次式：
−Ｒ3Ｘ｛Ｒ3は直接結合又は炭素原子数２ないし６のア
ルキレン基を表し、そしてＸは次式：−（ＮＲ4Ｒ5）e
ＮＲ4 2、−（ＮＲ4Ｒ5）eＮ+Ｒ4 3Ａ-及び−（ＮＲ
4Ｒ5）eＮ（Ｒ4）ＣＯＲ6（Ｒ4は互いに独立して水素原
子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ5
は炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ6は
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ａ-はＣ
ｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又はＣＯＯ-を表し、そしてｅは０ない
し６の整数を表す）からなる群から選択される基を表
す｝で表される基を表し、Ｑ2はフェニル基含有基を表
し、Ｒ2は互いに独立して前記Ｒ1、Ｑ1又はＱ2に定義し
たものと同じ意味を表し、そしてｘ、ｙ及びｚはいずれ
も０以上の整数で、かつ、０≦ｘ＋ｙ＋ｚ≦２０００で
あるが、ただしｙ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つは
Ｑ1であり、ｚ＝０の場合はＲ2の少なくとも１つはＱ2
である〕で表されるポリシロキサンと、アニオン性又は
両性ポリマーとを反応させて得られる複合高分子である
ことを特徴とする請求項１に記載の洗髪用化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11165177A JP2000355526A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 洗髪用化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11165177A JP2000355526A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 洗髪用化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000355526A true JP2000355526A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15807324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11165177A Pending JP2000355526A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | 洗髪用化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000355526A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012474A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Kao Corp | シャンプー組成物 |
-
1999
- 1999-06-11 JP JP11165177A patent/JP2000355526A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012474A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Kao Corp | シャンプー組成物 |
| JP4703895B2 (ja) * | 2001-06-26 | 2011-06-15 | 花王株式会社 | シャンプー組成物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040805 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040806 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060328 |