JP2000352731A - レーザ光発生装置 - Google Patents

レーザ光発生装置

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JP2000352731A
JP2000352731A JP11162696A JP16269699A JP2000352731A JP 2000352731 A JP2000352731 A JP 2000352731A JP 11162696 A JP11162696 A JP 11162696A JP 16269699 A JP16269699 A JP 16269699A JP 2000352731 A JP2000352731 A JP 2000352731A
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JP
Japan
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harmonic
optical
resonator
fundamental wave
optical resonator
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JP11162696A
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English (en)
Inventor
Yuji Kaneda
有史 金田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノイズが少なく、効率的かつ安定した連続波
短波長光源を得ることができるレーザ光発生装置を提供
すること。 【解決手段】 基本波レーザ光源1から入射する基本波
0 の第二高調波2f0を発生させる第二高調波発生媒
質7を有する光共振器4を用いて、第二高調波2f0
共振制御を行うのに用いる誤差信号eを、基本波f0
対して信号発生器3から固定周波数で位相変調を与え、
かつ光共振器4から外部へ漏れる第二高調波2f0 の同
じ周波数成分の位相を検出することにより得るように
し、これをレーザ光源の周波数制御手段にフィードバッ
クして、連続波で安定な共振の制御を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光発生装置
に関し、更に詳しくは、連続波の安定した短波長光源を
得ることができるレーザ光発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】連続波の深紫外光源は産業上、原盤記録
装置や顕微鏡の分野に応用可能であることが知られてお
り、その開発には多くの努力がなされてきた。コンパク
トで高効率なレーザ光源として、半導体レーザ励起の固
体レーザとその非線形波長変換が注目されてきた。産業
上よく用いられるのはNd:YAG等の近赤外線を基本
波として非線形波長変換を2回以上繰り返すことで短波
長化を図り、紫外線光源として用いる例がある。ここ
で、実際に用いることができる非線形光学媒質の非線形
性が限られていることから、連続波モードにおいては効
率のよい波長変換のためには、光共振器の利用が必須と
なっているのが現状である。
【0003】従来から、第1の光共振器で基本波を共振
させ、その共振器内部に置かれた第二高調波発生媒質に
より第二高調波を得、さらに第2の光共振器で第二高調
波を共振させその共振器の中に置かれる第四高調波発生
媒質により第四高調波を得るという方法が多く採られて
きた。しかし、この方法だと、共振器が2つ以上必要に
なるという欠点がある。
【0004】共振器を用いた非線形波長変換の効率化は
古くから提案されており(Ashkin et al.,IEEE JQE vo
l.QE-2, No.6, P.109)、例えば図4に示すように、パ
ルス光源を用いた場合には基本波を入力として第二高調
波を共振させ、効率よく第二高調波を発生させる、ある
いは更に同じ共振器の中に置かれる第四高調波発生結晶
より第四高調波を得ることも実現されている(Stappaer
ts et al.,Optics Letters vol.19 P.563(1994), Tidwe
ll et al.,Optics Letters vol.18 p.1517(1993), Knit
tel et al.,Optics Letters vol.22 P.366(1997))。
【0005】図4について説明すると、レーザ光源11
から出た基本波は、モード整合器12、ミラー13、1
4を介して光共振器15に入射する。光共振器15は、
6枚のミラー15A、15B、15C、15D、15
E、15Fで構成され、内部に第二高調波発生媒質19
および第四高調波発生媒質20を有している。ミラー1
5Cから外部へ透過する基本波はビームダンプ21に捕
獲され、一方、得られた第四高調波はミラー15Fから
出力される。そこで、上記従来技術では、光共振器15
において共振状態を得るために、ミラー15Bから漏れ
る光を受光手段16で受光し、これを共振器長制御サー
ボ17を介してミラー15Dにマウントしたピエゾ素子
18に供給し、受光した光と同期して常にミラー15D
を正弦的に振動させるようにしている。
【0006】このように従来の技術では、共振の制御を
行うための誤差信号の発生は共振器長を細かく変化さ
せ、高調波出力を最大に保つという、いわゆるditherin
g と呼ばれる手段が用いられてきた。この技術は原理的
には連続波でも応用可能であるが、ditherの分だけ出力
が変動してノイズが多く発生し、本質的に安定なレーザ
光源の実現の妨げとなっていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題に
鑑みてなされ、ノイズが少なく、効率的で安定した連続
波短波長光源を得ることができるレーザ光発生装置を提
供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するに
あたり、本発明の請求項1では、連続波で基本波を発す
るレーザ光源と、基本波に固定周波数で位相変調を与え
る位相変調器と、基本波の第二高調波を発生する非線形
光学媒質を内部に有し第二高調波を共振させる光共振器
と、基本波の光周波数を制御する周波数制御手段と、光
共振器の外部に配置され、光共振器から漏れる第二高調
波の光を受光する受光手段と、受光手段からの信号と上
記位相変調器に与える電気信号との同期検波を行ってそ
の誤差信号を発生する手段とを有し、この誤差信号を上
記周波数制御手段にフィードバックすることにより、光
共振器内における共振周波数と同期する基本波の光周波
数を保持するようにしている。
【0009】上記誤差信号は、光共振器への入射光と光
共振器からの出射光との間の位相のズレに対応した信号
で、この誤差信号がゼロとなる点すなわち共振点に、基
本波の光周波数が一致するように上記周波数制御手段を
制御するとともに、その共振周波数に当該基本波の光周
波数を固定することにより、共振状態を維持する。これ
により、低ノイズの連続波の第二高調波を効率的にかつ
安定して得ることができる。
【0010】また、本発明の請求項2では、請求項1の
構成要素である周波数制御手段に代えて、光共振器の光
路長を制御する共振器長制御手段を設け、上記誤差信号
を当該共振器長制御手段にフィードバックすることによ
り、光共振器内における共振周波数と同期する光共振器
の共振器長を保持するようにしている。この構成によれ
ば、共振器長を一定に保つことができるので、請求項1
の発明と同様に、低ノイズの連続波の第二高調波を効率
的にかつ安定して得ることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
【0012】図1は本発明の第1の実施の形態によるレ
ーザ光発生装置を示している。光共振器4は、4枚のミ
ラー4A、4B、4C及び4Dで構成され、基本波レー
ザ光源1から発せられる連続波の基本波f0 をミラー4
A→4B→4C→4D→4Aと順に反射させて、光共振
器4の内部で共振させるように構成される。本実施の形
態では、光共振器4で基本波f0 の第二高調波2f0
発生させるべく、共振器4の内部に第二高調波発生媒質
としての非線形光学媒質(本実施の形態ではKTP結
晶)7が設けられている。
【0013】ミラー4A〜4Dは、第二高調波2f0
対して反射率を高くして構成され、このうちミラー4A
は基本波f0 に対して高い透過性を有する。第二高調波
を発生する非線形光学媒質7の入射および出射光学面に
は、第二高調波に対する反射防止膜がコーティングされ
る。反射防止膜としては、フッ化マグネシウムやタンタ
ル酸化物、シリコン酸化物などの単層または多層膜が用
いられる。また、上記非線形光学媒質7の入射側及び出
射側がブルースタ角で形成され、所定の偏光成分にある
光の透過が100%となるようにしてコヒーレント性た
高めたレーザ光を得るようにしている。
【0014】本実施の形態では、光共振器4で第二高調
波2f0 を効率よく発生させるために、基本波レーザ光
源1と光共振器4との間に、信号発生器3からの固定周
波数で基本波f0 に位相変調を与える位相変調器2を設
けるとともに、光共振器4の外部に、この光共振器4か
ら漏れる第二高調波2f0 の光を受光するフォトディテ
クタ等の受光手段5を設け、この受光手段5からの信号
を混合器6に供給して信号発生器3からの基準周波数信
号と同期検波し、その誤差信号eを基本波レーザ光源1
の周波数制御手段へ出力するように構成している。すな
わち、搬送波である基本波f0 に信号発生器3から固定
周波数の信号波を乗せて側帯波を形成し、その光共振器
4に対する入力光および出力光のそれぞれの信号波の位
相のズレを検出することにより、共振状態が得られてい
るかどうかを検出するようにしている。
【0015】次に、本実施の形態の作用について説明す
る。
【0016】基本波レーザ光源1から発せられる基本波
0 は、位相変調器2により信号発生器3からの基準周
波数信号で位相変調され、ミラー4Aから光共振器4へ
入射する。基本波f0 が非線形光学媒質7に入射するこ
とにより、第二高調波2f0が発生する。残った基本波
0 は大部分がミラー4Bを透過して外部へ出射する。
第二高調波2f0 は、ミラー4A〜4Dで反射する度に
僅かずつではあるが透過しながらも、大部分は光共振器
4を一周し、また同じパスに重なる。受光手段5は、光
共振器4から漏れてくる第二高調波2f0 を受光し、こ
の受光手段5の出力信号と信号発生器3からの基準周波
数信号とを混合器6において公知の同期検波(位相敏感
検波)を行って誤差信号eを得る。
【0017】図2は、実験的に得られた第二高調波2f
0 の強度信号と誤差信号eの波形を示している。この誤
差信号eの波形は、周波数制御手段により基本波レーザ
光源1から発せられる基本波f0 の光周波数をその制御
範囲内でスキャニングして得られた誤差信号の出力分布
であり、中央部に現れる急峻なスロープの中心点C
0(誤差信号ゼロ)の点が、光共振器4内の光周波数と
基本波f0 の光周波数とが同期する共振周波数(共振
点)を表している。この点C0 において、光共振器4の
共振器長の一周の光路長は第二高調波2f0 の波長の整
数倍であり、第二高調波2f0 の共振効果によって第二
高調波発生の効率が増強される。すなわち、この点でレ
ーザ光出力強度信号Iが最大のピークを示し、基本波f
0 の光周波数をこの共振周波数に一致させれば光共振器
4内における第二高調波の共振状態が得られる。
【0018】そこで本実施の形態では、誤差信号eに基
づいて決定した共振周波数に上記周波数制御手段をロッ
ク(固定)し、基本波レーザ光源1から常にこの共振周
波数で基本波f0 を発するようにする。これにより、効
率のよい連続波の波長変換が実現され、ノイズが少なく
効率的で安定した基本波の第二高調波光源を得ることが
できる。また、第二高調波2f0 の出力中に外乱等の影
響で光共振器4の共振状態が外れた場合でも、誤差信号
eに基づいて共振周波数を再設定すれば、共振状態を常
に保持することが可能となる。得られた第2高調波のレ
ーザ光は、ミラー4A〜4Dのいずれかから外部へ取り
出される。
【0019】なお、図2において横軸の時間は、共振点
0 に対して位相のズレを時間で表示したものである
が、この横軸を直接、位相または周波数に置き換えて考
えるえることも可能である。また、共振点C0 が時間0
の軸に対してやや正の領域に偏っているが、これは測定
系を構成する光ケーブル内や計器内における光のディレ
イが影響したものである。
【0020】図3は、本発明の第2の実施の形態を示し
ている。なお、図において上述の第1の実施の形態と対
応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説
明は省略する。
【0021】すなわち本実施の形態では、光共振器4の
中に、基本波f0 の第二高調波2f 0 を発生する非線形
光学媒質7と併せて、第二高調波2f0 の第二高調波、
つまり基本波f0 の第四高調波4f0 を発生する非線形
光学媒質8を配置している。これにより、ミラー4A〜
4Dからなる1つの光共振器4を用いるだけで、基本波
0 から第四高調波4f0 への変換を容易に行うことが
でき、波長約1.06μmの連続波近赤外線レーザ光を
基本光源とし、波長約0.27μmの連続波紫外線を得
ることができる。
【0022】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0023】例えば以上の各実施の形態では、誤差信号
eを基本波レーザ光源1の周数制御手段にフィードバッ
クするように構成したが、光共振器4のいずれかのミラ
ーをピエゾ素子などの精密位置決め装置にマウントし
て、当該ミラーを光の進行方向に移動させることにより
共振器長を制御できる場合には、この共振器長制御手段
に誤差信号eをフィードバックして光路長を調整し、共
振状態が得られる共振器長を保持するようにしてもよ
い。
【0024】また、以上の各実施の形態では、基本波レ
ーザ光源1とこれと独立した位相変調器(すなわち外部
変調器)2とを設けたが、基本波レーザ光源として半導
体レーザを用いれば、励起電流を変化させることによっ
てかなりの程度まで高速度変調を行うことができるの
で、独立した位相変調器は不要となる。
【0025】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のレーザ光発
生装置によれば、以下の効果を得ることができる。
【0026】すなわち請求項1の発明によれば、光共振
器への入射光と光共振器からの出射光との間の位相のズ
レに対応した信号を誤差信号として得、これを周波数制
御手段にフィードバックして、光共振器内における共振
周波数と同期する基本波の光周波数を一定保持するよう
にしているので、ノイズの少ない安定した連続波の第二
高調波光を効率的に得ることができる。
【0027】また、請求項2の発明によれば、上記誤差
信号を、光共振器の光路長を制御する共振器長制御手段
にフィードバックして、光共振器内における共振周波数
と同期する共振器長を一定保持するようにしているの
で、出力の変動が少ない、すなわち低ノイズの連続波の
第二高調波を効率よく、かつ安定して得ることができ
る。
【0028】また、請求項5の発明によれば、ノイズの
少ない第四高調波を効率的にかつ安定して得ることがで
き、例えば、波長約1.06μmの連続波近赤外線レー
ザ光を基本光源とし、波長約0.27μmの連続波紫外
線を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるレーザ光発生
装置の概略構成図である。
【図2】レーザ光の出力強度信号と誤差信号とを示す図
である。
【図3】本発明の第2の実施の形態によるレーザ光発生
装置の概略構成図である。
【図4】従来のレーザ光発生装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1…基本波レーザ光源、2…位相変調器、3…信号発生
器、4…光共振器、4A、4B、4C、4D…ミラー、
5…受光手段、6…混合器、7…第二高調波を発生する
非線形光学媒質、8…第四高調波を発生する非線形光学
媒質。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 連続波で基本波を発するレーザ光源と、 前記基本波に固定周波数で位相変調を与える位相変調器
    と、 前記基本波の第二高調波を発生する非線形光学媒質を内
    部に有し前記第二高調波を共振させる光共振器と、 前記基本波の光周波数を制御する周波数制御手段と、 前記光共振器の外部に配置され、前記光共振器から漏れ
    る前記第二高調波の光を受光する受光手段と、 前記受光手段からの信号と前記位相変調器に与える電気
    信号との同期検波を行ってその誤差信号を発生する手段
    とを有し、 前記誤差信号を前記周波数制御手段にフィードバックす
    ることにより、前記光共振器内における共振周波数と同
    期する前記基本波の光周波数を保持するようにしたこと
    を特徴とするレーザ光発生装置。
  2. 【請求項2】 連続波で基本波を発するレーザ光源と、 前記基本波に固定周波数で位相変調を与える位相変調器
    と、 前記基本波の第二高調波を発生する非線形光学媒質を内
    部に有し前記第二高調波を共振させる光共振器と、 前記光共振器の光路長を制御する共振器長制御手段と、 前記光共振器の外部に配置され、前記光共振器から漏れ
    る前記第二高調波の光を受光する受光手段と、 前記受光手段からの信号と前記位相変調器に与える電気
    信号との同期検波を行い誤差信号を発生する手段とを有
    し、 前記誤差信号を前記共振器長制御手段にフィードバック
    することにより、前記光共振器内における共振周波数と
    同期する前記光共振器の共振器長を保持するようにした
    ことを特徴とするレーザ光発生装置。
  3. 【請求項3】 前記第二高調波を発生する非線形光学媒
    質の入射及び出射光学面に、第二高調波に対する反射防
    止膜がコーティングされることを特徴とする請求項1又
    は請求項2に記載のレーザ光発生装置。
  4. 【請求項4】 前記第二高調波を発生する非線形光学媒
    質の光の入射側及び出射側が、ブルースタ角で形成され
    ることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレー
    ザ光発生装置。
  5. 【請求項5】 前記光共振器の内部に、前記第二高調波
    の第二高調波を発生させる非線形光学媒質を配置し、前
    記基本波の第四高調波を発生させるようにしたことを特
    徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ光発生装
    置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013201166A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Toshiba Corp 共振器制御装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013201166A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Toshiba Corp 共振器制御装置

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