JP2000351797A - ステロイド誘導体の製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体の製造方法Info
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- JP2000351797A JP2000351797A JP11161208A JP16120899A JP2000351797A JP 2000351797 A JP2000351797 A JP 2000351797A JP 11161208 A JP11161208 A JP 11161208A JP 16120899 A JP16120899 A JP 16120899A JP 2000351797 A JP2000351797 A JP 2000351797A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】種々のビタミンD誘導体を製造するための中間
体として有用なステロイド誘導体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、
R2はアシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、
Xはハロゲン原子または保護されていてもよい水酸基を
表す。)で示される1,5−ジエン化合物の1,2位の
二重結合をエポキシ化することにより一般式(II−
1) 【化2】 (式中、R1、R2およびXは前記定義のとおりであ
る。)で示される1,2−エポキシ化合物を得、得られ
た1,2−エポキシ化合物にパラジウム化合物を作用さ
せることを特徴とする一般式(III) 【化3】 (式中、R1およびXは前記定義のとおりである。)で
示される1,2−エポキシ−5,7−ジエン化合物の製
造方法。
体として有用なステロイド誘導体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、
R2はアシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、
Xはハロゲン原子または保護されていてもよい水酸基を
表す。)で示される1,5−ジエン化合物の1,2位の
二重結合をエポキシ化することにより一般式(II−
1) 【化2】 (式中、R1、R2およびXは前記定義のとおりであ
る。)で示される1,2−エポキシ化合物を得、得られ
た1,2−エポキシ化合物にパラジウム化合物を作用さ
せることを特徴とする一般式(III) 【化3】 (式中、R1およびXは前記定義のとおりである。)で
示される1,2−エポキシ−5,7−ジエン化合物の製
造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はステロイド誘導体の
製造方法およびその中間体に関する。本発明により提供
されるステロイド誘導体は、慢性腎不全、副甲状腺機能
低下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠
陥症および乾癬などの皮膚疾患や骨髄性白血病などの細
胞分化機能に異常をきたした疾患の治療に有効な1α−
ヒドロキシビタミンD3、1α,25−ジヒドロキシビ
タミンD3、1α−ヒドロキシビタミンD2、24−エ
ピ−1α,25−ジヒドロキシビタミンD2、2β−
(3−ヒドロキシプロポキシ)−1α,25−ジヒドロ
キシビタミンD3、1α,24−ジヒドロキシビタミン
D3、22−オキサ−1α,25−ジヒドロキシビタミ
ンD3、22−デヒドロ−26,27−シクロ−1α,
24−ジヒドロキシビタミンD3などのビタミンD誘導
体の合成中間体として有用である。
製造方法およびその中間体に関する。本発明により提供
されるステロイド誘導体は、慢性腎不全、副甲状腺機能
低下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠
陥症および乾癬などの皮膚疾患や骨髄性白血病などの細
胞分化機能に異常をきたした疾患の治療に有効な1α−
ヒドロキシビタミンD3、1α,25−ジヒドロキシビ
タミンD3、1α−ヒドロキシビタミンD2、24−エ
ピ−1α,25−ジヒドロキシビタミンD2、2β−
(3−ヒドロキシプロポキシ)−1α,25−ジヒドロ
キシビタミンD3、1α,24−ジヒドロキシビタミン
D3、22−オキサ−1α,25−ジヒドロキシビタミ
ンD3、22−デヒドロ−26,27−シクロ−1α,
24−ジヒドロキシビタミンD3などのビタミンD誘導
体の合成中間体として有用である。
【0002】
【従来の技術】近年、ビタミンD研究の進展に伴い、ビ
タミンDの側鎖部分やA環部分を修飾することによりカ
ルシウム代謝調節作用と分化誘導作用を分離あるいは増
強した種々のビタミンD誘導体が開発されている。これ
らのビタミンD誘導体およびその合成中間体の製造方法
としては、例えば、25−ヒドロキシコレステロール
を2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベン
ゾキノン(DDQ)で酸化して得られる25−ヒドロキ
シコレスタ−1,4,6−トリエン−3−オンの25位
の水酸基を保護した後に3位をエノールアセチル化し、
得られた化合物を還元することを特徴とする1α,25
−ジヒドロキシ−7−デヒドロコレステロールの製造方
法(米国特許4287129号参照)、1α,2α−
エポキシ−20−メチル−4,6−プレグナジエン−3
−オン−21−オールの3位を還元し、次いで4,5−
エポキシ化してジエポキシアルコールに変換した後、3
位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転さ
せ、得られた化合物の該エポキシ部分を還元的に開裂さ
せ、生じた水酸基を転位した後、脱離させることにより
5,7−ジエンを構築することを特徴とするプレグナン
誘導体の製造方法(特許第2731543号公報参
照)、20−メチル−1,4−プレグナジエン−3−
オン−21−オールを20−メチル−1,5−プレグナ
ジエン−3−オン−21−オールに異性化した後、3位
を還元し、次いで側鎖を構築した後、得られた化合物を
酸化することにより7−ケト体へ誘導し、さらに1,2
−エポキシ化した後、7−ケト部をトシルヒドラジンに
よりトシルヒドラジドに変換して水素化リチウムで処理
することにより5,7−ジエンを構築することを特徴と
するステロイド誘導体の製造方法(特表平6−5083
47号公報参照)などが知られている。
タミンDの側鎖部分やA環部分を修飾することによりカ
ルシウム代謝調節作用と分化誘導作用を分離あるいは増
強した種々のビタミンD誘導体が開発されている。これ
らのビタミンD誘導体およびその合成中間体の製造方法
としては、例えば、25−ヒドロキシコレステロール
を2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベン
ゾキノン(DDQ)で酸化して得られる25−ヒドロキ
シコレスタ−1,4,6−トリエン−3−オンの25位
の水酸基を保護した後に3位をエノールアセチル化し、
得られた化合物を還元することを特徴とする1α,25
−ジヒドロキシ−7−デヒドロコレステロールの製造方
法(米国特許4287129号参照)、1α,2α−
エポキシ−20−メチル−4,6−プレグナジエン−3
−オン−21−オールの3位を還元し、次いで4,5−
エポキシ化してジエポキシアルコールに変換した後、3
位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転さ
せ、得られた化合物の該エポキシ部分を還元的に開裂さ
せ、生じた水酸基を転位した後、脱離させることにより
5,7−ジエンを構築することを特徴とするプレグナン
誘導体の製造方法(特許第2731543号公報参
照)、20−メチル−1,4−プレグナジエン−3−
オン−21−オールを20−メチル−1,5−プレグナ
ジエン−3−オン−21−オールに異性化した後、3位
を還元し、次いで側鎖を構築した後、得られた化合物を
酸化することにより7−ケト体へ誘導し、さらに1,2
−エポキシ化した後、7−ケト部をトシルヒドラジンに
よりトシルヒドラジドに変換して水素化リチウムで処理
することにより5,7−ジエンを構築することを特徴と
するステロイド誘導体の製造方法(特表平6−5083
47号公報参照)などが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のとおり、ビタミ
ンD誘導体およびその合成中間体の製造方法は既に知ら
れている。しかしながら、の方法は、既に側鎖部分の
骨格を有する原料を用いるという点において、種々の側
鎖を有するビタミンD誘導体の製造方法には適さない。
の方法は、目的とする3位の立体配置を得るために、
3位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転
させる必要がある。の方法は、酸化により7−ケト体
へ誘導し、該7−ケト部をトシルヒドラジンによりトシ
ルヒドラジドに変換後、水素化リチウムで処理すること
により5,7−ジエンを構築しており、工程が長いとい
う欠点を有している。しかして、本発明の目的は、種々
のビタミンD誘導体を製造するための中間体として有用
なステロイド誘導体の製造方法およびその中間体を提供
することにある。
ンD誘導体およびその合成中間体の製造方法は既に知ら
れている。しかしながら、の方法は、既に側鎖部分の
骨格を有する原料を用いるという点において、種々の側
鎖を有するビタミンD誘導体の製造方法には適さない。
の方法は、目的とする3位の立体配置を得るために、
3位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転
させる必要がある。の方法は、酸化により7−ケト体
へ誘導し、該7−ケト部をトシルヒドラジンによりトシ
ルヒドラジドに変換後、水素化リチウムで処理すること
により5,7−ジエンを構築しており、工程が長いとい
う欠点を有している。しかして、本発明の目的は、種々
のビタミンD誘導体を製造するための中間体として有用
なステロイド誘導体の製造方法およびその中間体を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、(1)一般式(I)
目的は、(1)一般式(I)
【0005】
【化7】
【0006】(式中、R1は水素原子または水酸基の保
護基を表し、R2はアシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表し、Xはハロゲン原子または保護されていても
よい水酸基を表す。)で示される1,5−ジエン化合物
(以下、1,5−ジエン化合物(I)と略称する)の
1,2位の二重結合をエポキシ化することにより一般式
(II−1)
護基を表し、R2はアシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表し、Xはハロゲン原子または保護されていても
よい水酸基を表す。)で示される1,5−ジエン化合物
(以下、1,5−ジエン化合物(I)と略称する)の
1,2位の二重結合をエポキシ化することにより一般式
(II−1)
【0007】
【化8】
【0008】(式中、R1、R2およびXは前記定義の
とおりである。)で示される1,2−エポキシ化合物
(以下、1,2−エポキシ化合物(II−1)と略称す
る)を得、得られた1,2−エポキシ化合物(II−
1)にパラジウム化合物を作用させることを特徴とする
一般式(III)
とおりである。)で示される1,2−エポキシ化合物
(以下、1,2−エポキシ化合物(II−1)と略称す
る)を得、得られた1,2−エポキシ化合物(II−
1)にパラジウム化合物を作用させることを特徴とする
一般式(III)
【0009】
【化9】
【0010】(式中、R1およびXは前記定義のとおり
である。)で示される1,2−エポキシ−5,7−ジエ
ン化合物(以下、1,2−エポキシ−5,7−ジエン化
合物(III)と略称する)の製造方法 (2)1,2−エポキシ化合物(II−1)にパラジウ
ム化合物を作用させることを特徴とする1,2−エポキ
シ−5,7−ジエン化合物(III)の製造方法、およ
び(3)一般式(II)
である。)で示される1,2−エポキシ−5,7−ジエ
ン化合物(以下、1,2−エポキシ−5,7−ジエン化
合物(III)と略称する)の製造方法 (2)1,2−エポキシ化合物(II−1)にパラジウ
ム化合物を作用させることを特徴とする1,2−エポキ
シ−5,7−ジエン化合物(III)の製造方法、およ
び(3)一般式(II)
【0011】
【化10】
【0012】(式中、R1およびXは前記定義のとおり
であり、R3は水素原子または水酸基の保護基を表
す。)で示される1,2−エポキシ化合物を提供するこ
とにより達成される。
であり、R3は水素原子または水酸基の保護基を表
す。)で示される1,2−エポキシ化合物を提供するこ
とにより達成される。
【0013】
【発明の実施の形態】上記一般式中、R1およびR3が
表す水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として通
常知られている保護基であれば特に制限はなく、例えば
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプ
ロピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチ
ルジフェニルシリル基などの三置換シリル基;メトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基、1−(エトキ
シ)エチル基、メトキシイソプロピル基などの1−(ア
ルコキシ)アルキル基;テトラヒドロフラニル基、テト
ラヒドロピラニル基などの2−オキサシクロアルキル
基;t-ブチル基などのアルキル基;ベンジル基、パラ
メトキシベンジル基などのアラルキル基;アリル基、プ
ロペニル基などのアルケニル基;パラメトキシフェニル
基などのアリール基;アセチル基、トリフルオロアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ベ
ンゾイル基、メチルベンゾイル基などのアシル基;メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオ
キシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、
ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニ
ル基、t-ブチルオキシカルボニル基などのアルコキシ
カルボニル基などを挙げることができる。
表す水酸基の保護基としては、水酸基の保護基として通
常知られている保護基であれば特に制限はなく、例えば
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプ
ロピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチ
ルジフェニルシリル基などの三置換シリル基;メトキシ
メチル基、メトキシエトキシメチル基、1−(エトキ
シ)エチル基、メトキシイソプロピル基などの1−(ア
ルコキシ)アルキル基;テトラヒドロフラニル基、テト
ラヒドロピラニル基などの2−オキサシクロアルキル
基;t-ブチル基などのアルキル基;ベンジル基、パラ
メトキシベンジル基などのアラルキル基;アリル基、プ
ロペニル基などのアルケニル基;パラメトキシフェニル
基などのアリール基;アセチル基、トリフルオロアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ベ
ンゾイル基、メチルベンゾイル基などのアシル基;メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオ
キシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、
ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニ
ル基、t-ブチルオキシカルボニル基などのアルコキシ
カルボニル基などを挙げることができる。
【0014】R2が表すアシル基としては、例えばアセ
チル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メチルベンゾ
イル基などが挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシ
カルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、イソブチル
オキシカルボニル基、t-ブチルオキシカルボニル基な
どが挙げられる。
チル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メチルベンゾ
イル基などが挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシ
カルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、イソブチル
オキシカルボニル基、t-ブチルオキシカルボニル基な
どが挙げられる。
【0015】Xが表すハロゲン原子としては、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、保護されて
いてもよい水酸基としては、R1およびR3が表す水酸
基の保護基で保護されていてもよい水酸基が挙げられ
る。
子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、保護されて
いてもよい水酸基としては、R1およびR3が表す水酸
基の保護基で保護されていてもよい水酸基が挙げられ
る。
【0016】以下、各工程について説明する。
【0017】工程1:1,5−ジエン化合物(I)の
1,2位の二重結合をエポキシ化することによる1,2
−エポキシ化合物(II−1)の製造
1,2位の二重結合をエポキシ化することによる1,2
−エポキシ化合物(II−1)の製造
【0018】反応は、炭素−炭素二重結合部分のエポキ
シ化反応に一般に使用されるエポキシ化剤を用いて行う
ことができる。このようなエポキシ化剤としては、例え
ば、過ギ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ
過安息香酸、過安息香酸、モノ過フタル酸、p−ニトロ
過安息香酸、m−ジニトロ過安息香酸などの有機過酸;
t−ブチルヒドロペルオキシドなどの有機過酸化物;過
酸化水素などが挙げられる。エポキシ化剤の使用量は、
1,5−ジエン化合物(I)1モルに対して1〜10モ
ル倍の範囲が好ましい。
シ化反応に一般に使用されるエポキシ化剤を用いて行う
ことができる。このようなエポキシ化剤としては、例え
ば、過ギ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ
過安息香酸、過安息香酸、モノ過フタル酸、p−ニトロ
過安息香酸、m−ジニトロ過安息香酸などの有機過酸;
t−ブチルヒドロペルオキシドなどの有機過酸化物;過
酸化水素などが挙げられる。エポキシ化剤の使用量は、
1,5−ジエン化合物(I)1モルに対して1〜10モ
ル倍の範囲が好ましい。
【0019】反応は溶媒の存在下で行うのが好ましい。
使用する溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り特
に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素;
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベ
ンゼンなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル;メタノール、エタノール、プロパ
ノール、t−ブチルアルコールなどのアルコールなどが
挙げられる。溶媒の使用量は、1,5−ジエン化合物
(I)に対して5〜200倍重量の範囲が好ましい。
使用する溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り特
に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素;
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベ
ンゼンなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル;メタノール、エタノール、プロパ
ノール、t−ブチルアルコールなどのアルコールなどが
挙げられる。溶媒の使用量は、1,5−ジエン化合物
(I)に対して5〜200倍重量の範囲が好ましい。
【0020】反応温度は、−70〜200℃の範囲が好
ましく、−30〜30℃の範囲がより好ましい。
ましく、−30〜30℃の範囲がより好ましい。
【0021】反応は、1,5−ジエン化合物(I)を溶
媒と混合して所定温度とし、この溶液にエポキシ化剤を
添加することにより行うのが好ましい。
媒と混合して所定温度とし、この溶液にエポキシ化剤を
添加することにより行うのが好ましい。
【0022】このようにして得られた1,2−エポキシ
化合物(II−1)の反応混合物からの単離・精製は通
常の有機反応において用いられる単離・精製法と同様に
して行うことができる。例えば、反応混合物を氷冷した
チオ硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジエチルエーテル、
酢酸エチル、ジクロロメタンなどの有機溶媒で抽出し、
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムなどで乾燥後、濃縮
して得られた粗生成物を再結晶やクロマトグラフィーな
どによって精製する。
化合物(II−1)の反応混合物からの単離・精製は通
常の有機反応において用いられる単離・精製法と同様に
して行うことができる。例えば、反応混合物を氷冷した
チオ硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジエチルエーテル、
酢酸エチル、ジクロロメタンなどの有機溶媒で抽出し、
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムなどで乾燥後、濃縮
して得られた粗生成物を再結晶やクロマトグラフィーな
どによって精製する。
【0023】なお、1,2−エポキシ化合物(II−
1)の7位は、さらに必要に応じて保護及び脱保護を行
うことができる。
1)の7位は、さらに必要に応じて保護及び脱保護を行
うことができる。
【0024】工程2:1,2−エポキシ化合物(II−
1)にパラジウム化合物を作用させることによる1,2
−エポキシ−5,7−ジエン化合物(III)の製造
1)にパラジウム化合物を作用させることによる1,2
−エポキシ−5,7−ジエン化合物(III)の製造
【0025】パラジウム化合物としては、0価パラジウ
ム化合物または2価パラジウム化合物のいずれも用いる
ことができるが、例えばトリス(ジベンジリデンアセト
ン)2パラジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、
硝酸パラジウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセ
トナト)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウムなどが挙げられ、特にトリス(ジベン
ジリデンアセトン)2パラジウム(クロロホルム)が好
ましい。パラジウム化合物の使用量に特に制限はない
が、通常、1,2−エポキシ化合物(II−1)1モル
に対して0.01〜1モルの範囲が好ましい。
ム化合物または2価パラジウム化合物のいずれも用いる
ことができるが、例えばトリス(ジベンジリデンアセト
ン)2パラジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、
硝酸パラジウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセ
トナト)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)パラジウムなどが挙げられ、特にトリス(ジベン
ジリデンアセトン)2パラジウム(クロロホルム)が好
ましい。パラジウム化合物の使用量に特に制限はない
が、通常、1,2−エポキシ化合物(II−1)1モル
に対して0.01〜1モルの範囲が好ましい。
【0026】パラジウム化合物は安定化のため3級ホス
フィン化合物と併用するのが好ましい。かかる3級ホス
フィン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィ
ン、トリストリルホスフィンなどのトリアリールホスフ
ィン;トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリシクロ
アルキルホスフィン;トリブチルホスフィン、トリイソ
ブチルホスフィン、トリ−t−ブチルホスフィンなどの
トリアルキルホスフィン;ジフェニルホスフィノエタ
ン、ジフェニルホスフィノプロパン、ジフェニルホスフ
ィノブタンなどの2座配位ホスフィンなどが挙げられる
が、特にトリブチルホスフィンが好ましい。3級ホスフ
ィン化合物を併用させる場合、その使用量はパラジウム
化合物1モルに対して1〜20モルの範囲が特に好まし
い。
フィン化合物と併用するのが好ましい。かかる3級ホス
フィン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィ
ン、トリストリルホスフィンなどのトリアリールホスフ
ィン;トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリシクロ
アルキルホスフィン;トリブチルホスフィン、トリイソ
ブチルホスフィン、トリ−t−ブチルホスフィンなどの
トリアルキルホスフィン;ジフェニルホスフィノエタ
ン、ジフェニルホスフィノプロパン、ジフェニルホスフ
ィノブタンなどの2座配位ホスフィンなどが挙げられる
が、特にトリブチルホスフィンが好ましい。3級ホスフ
ィン化合物を併用させる場合、その使用量はパラジウム
化合物1モルに対して1〜20モルの範囲が特に好まし
い。
【0027】反応に際しては、副反応を抑制する観点か
ら、塩基性物質を共存させることが好ましい。このよう
な塩基性物質としては、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、ピリジンなどの脂肪族または芳香族
アミンが挙げられ、これらの中でもトリエチルアミンが
特に好ましい。塩基性物質を共存させる場合、その使用
量は1,2−エポキシ化合物(II−1)1モルに対し
て1〜10モルの範囲が好ましい。
ら、塩基性物質を共存させることが好ましい。このよう
な塩基性物質としては、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、ピリジンなどの脂肪族または芳香族
アミンが挙げられ、これらの中でもトリエチルアミンが
特に好ましい。塩基性物質を共存させる場合、その使用
量は1,2−エポキシ化合物(II−1)1モルに対し
て1〜10モルの範囲が好ましい。
【0028】反応は溶媒の存在下で行うのが好ましい。
使用する溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;ジメチルスル
ホキシドなどが挙げられる。溶媒の使用量は、1,2−
エポキシ化合物(II−1)に対して5〜500倍重量
の範囲が好ましい。
使用する溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
などのエーテル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド;ジメチルスル
ホキシドなどが挙げられる。溶媒の使用量は、1,2−
エポキシ化合物(II−1)に対して5〜500倍重量
の範囲が好ましい。
【0029】反応温度は−70〜200℃の範囲が好ま
しく、0〜150℃の範囲がより好ましい。
しく、0〜150℃の範囲がより好ましい。
【0030】反応は、アルゴンまたは窒素などの不活性
ガス雰囲気下、室温でパラジウム化合物、3級ホスフィ
ン化合物および溶媒を混合し、必要に応じて塩基性物質
を加えた後、この溶液に1,2−エポキシ化合物(II
−1)を添加し、所定温度として行うのが好ましい。
ガス雰囲気下、室温でパラジウム化合物、3級ホスフィ
ン化合物および溶媒を混合し、必要に応じて塩基性物質
を加えた後、この溶液に1,2−エポキシ化合物(II
−1)を添加し、所定温度として行うのが好ましい。
【0031】このようにして得られた1,2−エポキシ
−5,7−ジエン化合物(III)の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行うことができる。例えば、反応
混合物を濾過して不溶物を除去し、濾液を減圧下に濃縮
して得られる粗生成物を、再結晶・クロマトグラフィー
などによって精製する。
−5,7−ジエン化合物(III)の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応において用いられる単離
・精製法と同様にして行うことができる。例えば、反応
混合物を濾過して不溶物を除去し、濾液を減圧下に濃縮
して得られる粗生成物を、再結晶・クロマトグラフィー
などによって精製する。
【0032】1,2−エポキシ−5,7−ジエン化合物
(III)は、例えば次に示したスキームにより1α−
ヒドロキシビタミンD3に変換することができる。
(III)は、例えば次に示したスキームにより1α−
ヒドロキシビタミンD3に変換することができる。
【0033】
【化11】
【0034】すなわち、1,2−エポキシ−5,7ジエ
ン化合物(III)を水素化アルミニウムリチウムなど
で還元した後、1位の水酸基を保護することにより化合
物(V)を得、該化合物(V)の21位をヨウ素に置換
した後、リチウムジイソアミル銅を作用させ、さらに水
酸基の脱保護を行うことで、一般式(VIII)で示さ
れる1α−ヒドロキシプロビタミンD3が得られる。こ
の1α−ヒドロキシプロビタミンD3は、紫外線を照射
した後、熱異性化することにより1α−ヒドロキシビタ
ミンD3に変換できる。
ン化合物(III)を水素化アルミニウムリチウムなど
で還元した後、1位の水酸基を保護することにより化合
物(V)を得、該化合物(V)の21位をヨウ素に置換
した後、リチウムジイソアミル銅を作用させ、さらに水
酸基の脱保護を行うことで、一般式(VIII)で示さ
れる1α−ヒドロキシプロビタミンD3が得られる。こ
の1α−ヒドロキシプロビタミンD3は、紫外線を照射
した後、熱異性化することにより1α−ヒドロキシビタ
ミンD3に変換できる。
【0035】なお、出発原料として用いる1,5−ジエ
ン化合物(I)は、たとえば以下のスキームに従って製
造することができる(参考例1〜4参照)。
ン化合物(I)は、たとえば以下のスキームに従って製
造することができる(参考例1〜4参照)。
【化12】 (式中、R1、R2およびXは前記定義のとおりであ
る。)
る。)
【0036】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例により限定
されるものではない。
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例により限定
されるものではない。
【0037】参考例1 (7α,20S)−7−ヒドロキシ−21−ヨード−2
0−メチル−プレグナ−1,4−ジエン−3−オン1
5.0gを塩化メチレン300mlに溶解し、アセトン
300mlを加えた。この溶液を氷冷し、酸化剤とし
て、三酸化クロム10gと濃硫酸11mlを水50ml
に溶かして調製した溶液(Jones試薬)を反応液が橙黄
色を呈するまで注意深く加えた(添加量33.2g)。
反応液をさらに1時間氷冷下で撹拌した後、反応液の橙
黄色が消えるまで反応液にイソプロパノールを加え(添
加量25ml)、残存する酸化剤を分解した。混合液中
の不溶物をセライトで濾過し、濾液を減圧下で濃縮後、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより、(20S)−21−ヨード−
20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,7−ジオ
ン10.6gを得た(収率71%)。
0−メチル−プレグナ−1,4−ジエン−3−オン1
5.0gを塩化メチレン300mlに溶解し、アセトン
300mlを加えた。この溶液を氷冷し、酸化剤とし
て、三酸化クロム10gと濃硫酸11mlを水50ml
に溶かして調製した溶液(Jones試薬)を反応液が橙黄
色を呈するまで注意深く加えた(添加量33.2g)。
反応液をさらに1時間氷冷下で撹拌した後、反応液の橙
黄色が消えるまで反応液にイソプロパノールを加え(添
加量25ml)、残存する酸化剤を分解した。混合液中
の不溶物をセライトで濾過し、濾液を減圧下で濃縮後、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより、(20S)−21−ヨード−
20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,7−ジオ
ン10.6gを得た(収率71%)。
【0038】1H−NMRスペクトル(270MHz,
CDCl3,TMS,ppm)δ:0.78(s,3
H),1.04(d,J=5.4Hz,3H),1.2
6(s,3H),3.13−3.18(dd,J=9.
4,4.9Hz,1H),3.17(d,J=13.4
Hz,1H),3.32(dd,J=9.4,2.0H
z,1H),3.58(dd,J=13.4,2.0H
z,1H),6.07(dd,J=2.0,2.0H
z,1H),6.29(dd,J=9.9,2.0H
z,1H),7.06(d,J=9.9Hz,1H)
CDCl3,TMS,ppm)δ:0.78(s,3
H),1.04(d,J=5.4Hz,3H),1.2
6(s,3H),3.13−3.18(dd,J=9.
4,4.9Hz,1H),3.17(d,J=13.4
Hz,1H),3.32(dd,J=9.4,2.0H
z,1H),3.58(dd,J=13.4,2.0H
z,1H),6.07(dd,J=2.0,2.0H
z,1H),6.29(dd,J=9.9,2.0H
z,1H),7.06(d,J=9.9Hz,1H)
【0039】参考例2 参考例1の方法で得られた(20S)−21−ヨード−
20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,7−ジオ
ン1.0gを酢酸イソプロペニル13mlおよび酢酸ブ
チル13mlに懸濁させた後、p−トルエンスルホン酸
1.5gを加え、3時間還流した。反応混合物を水25
mlにあけ、酢酸エチル25mlで抽出した。抽出液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
(20S)−3,7−ジアセチルオキシ−21−ヨード
−20−メチルプレグナ−1,3,5,7−テトラエン
の粗生成物1.5gを得た。得られた粗(20S)−
3,7−ジアセチルオキシ−21−ヨード−20−メチ
ルプレグナ−1,3,5,7−テトラエンをエタノール
8mlとテトラヒドロフラン8mlの混合溶媒に溶解さ
せ、この溶液に水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロ
フラン溶液(約1M,7ml)を0℃で数回に分けて加
え、その後、氷冷下で17時間撹拌した。反応液を室温
とし、さらに水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロフ
ラン溶液(約1M,3ml)を加えた後、室温で6時間
撹拌した。この反応混合物に50%酢酸水溶液50ml
を氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解
した後、酢酸エチル50mlで抽出した。抽出液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、(3β,20S)−3,7−ジ
ヒドロキシ−21−ヨード−20−メチルプレグナ−
1,5−ジエンの2種のジアステレオマーとして、下記
の物性を有するジアステレオマーA(以下、単にジアス
テレオマーAと称する)を0.4gおよび下記の物性を
有するジアステレオマーB(以下、単にジアステレオマ
ーBと称する)を0.1g得た(両者を合わせた収率5
0%)。
20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,7−ジオ
ン1.0gを酢酸イソプロペニル13mlおよび酢酸ブ
チル13mlに懸濁させた後、p−トルエンスルホン酸
1.5gを加え、3時間還流した。反応混合物を水25
mlにあけ、酢酸エチル25mlで抽出した。抽出液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
(20S)−3,7−ジアセチルオキシ−21−ヨード
−20−メチルプレグナ−1,3,5,7−テトラエン
の粗生成物1.5gを得た。得られた粗(20S)−
3,7−ジアセチルオキシ−21−ヨード−20−メチ
ルプレグナ−1,3,5,7−テトラエンをエタノール
8mlとテトラヒドロフラン8mlの混合溶媒に溶解さ
せ、この溶液に水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロ
フラン溶液(約1M,7ml)を0℃で数回に分けて加
え、その後、氷冷下で17時間撹拌した。反応液を室温
とし、さらに水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロフ
ラン溶液(約1M,3ml)を加えた後、室温で6時間
撹拌した。この反応混合物に50%酢酸水溶液50ml
を氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解
した後、酢酸エチル50mlで抽出した。抽出液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、(3β,20S)−3,7−ジ
ヒドロキシ−21−ヨード−20−メチルプレグナ−
1,5−ジエンの2種のジアステレオマーとして、下記
の物性を有するジアステレオマーA(以下、単にジアス
テレオマーAと称する)を0.4gおよび下記の物性を
有するジアステレオマーB(以下、単にジアステレオマ
ーBと称する)を0.1g得た(両者を合わせた収率5
0%)。
【0040】ジアステレオマーA1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
TMS,ppm)δ:0.76(s,3H),1.04
(d,J=5.0Hz,3H),1.14(s,3
H),2.28−2.36(ddd,J=11.6,
9.9,1.5Hz,1H),2.50(ddd,J=
12.4,5.9,1.7Hz,1H),3.18(d
d,J=9.4,4.5Hz,1H),3.33(d
d,J=9.4,2.0Hz,1H),3.86(dd
d,J=9.9,3.7,2.5,1H),4.25
(dddd,J=9.9,5.9,2.0,2.0H
z,1H),5.39(br s,1H),5.58
(dd,J=10.4,1.5Hz,1H),5.74
(dd,J=10.4,2.0Hz,1H)
TMS,ppm)δ:0.76(s,3H),1.04
(d,J=5.0Hz,3H),1.14(s,3
H),2.28−2.36(ddd,J=11.6,
9.9,1.5Hz,1H),2.50(ddd,J=
12.4,5.9,1.7Hz,1H),3.18(d
d,J=9.4,4.5Hz,1H),3.33(d
d,J=9.4,2.0Hz,1H),3.86(dd
d,J=9.9,3.7,2.5,1H),4.25
(dddd,J=9.9,5.9,2.0,2.0H
z,1H),5.39(br s,1H),5.58
(dd,J=10.4,1.5Hz,1H),5.74
(dd,J=10.4,2.0Hz,1H)
【0041】ジアステレオマーB1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
TMS,ppm)δ:0.76(s,3H),1.03
(d,J=5.4Hz,3H),1.17(s,3
H),2.63(dd,J=9.9,1.7Hz,1
H),3.15−3.21(dd,J=10.1,5.
1Hz,1H),3.33(dd,J=10.1,2.
5Hz,1H),3.90(br d,J=7.1H
z,1H),4.32−4.38(m,1H),5.2
5(br s,1H),5.55(dd,J=9.9,
1.7Hz,1H),5.73(dd,J=9.9,
1.7Hz,1H)
TMS,ppm)δ:0.76(s,3H),1.03
(d,J=5.4Hz,3H),1.17(s,3
H),2.63(dd,J=9.9,1.7Hz,1
H),3.15−3.21(dd,J=10.1,5.
1Hz,1H),3.33(dd,J=10.1,2.
5Hz,1H),3.90(br d,J=7.1H
z,1H),4.32−4.38(m,1H),5.2
5(br s,1H),5.55(dd,J=9.9,
1.7Hz,1H),5.73(dd,J=9.9,
1.7Hz,1H)
【0042】参考例3 参考例2の方法で得られた(3β,20S)−3,7−
ジヒドロキシ−21−ヨード−20−メチルプレグナ−
1,5−ジエンのジアステレオマーA3.3gをジメチ
ルホルムアミド30mlに溶解させ、イミダゾール1.
1gと塩化リチウム3.1gを加えた。この溶液を氷冷
してt−ブチルジメチルシリルクロリド2.4gを加え
た後、室温に戻して2時間撹拌した。反応混合物を冷却
した1N塩酸水溶液30mlにあけ、酢酸エチル30m
lで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
(3β,20S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−21−クロロ−7−ヒドロキシ−20−メチルプレ
グナ−1,5−ジエン1.6gを得た(収率46%)。
ジヒドロキシ−21−ヨード−20−メチルプレグナ−
1,5−ジエンのジアステレオマーA3.3gをジメチ
ルホルムアミド30mlに溶解させ、イミダゾール1.
1gと塩化リチウム3.1gを加えた。この溶液を氷冷
してt−ブチルジメチルシリルクロリド2.4gを加え
た後、室温に戻して2時間撹拌した。反応混合物を冷却
した1N塩酸水溶液30mlにあけ、酢酸エチル30m
lで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
(3β,20S)−3−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−21−クロロ−7−ヒドロキシ−20−メチルプレ
グナ−1,5−ジエン1.6gを得た(収率46%)。
【0043】1H−NMRスペクトル(270MHz,
CDCl3,ppm)δ:0.085(s,6H),
0.73(s,3H),0.90(s,9H),1.1
1(d,J=6.4Hz,3H),1.13(s,3
H),2.29−2.43(m,2H),3.45(d
d,J=10.4,6.2Hz,1H),3.59(d
d,J=10.4,2.5Hz,1H),3.85(b
r dd,J=6.8,6.8Hz,1H),4.23
(ddd,J=8.9,6.9,1.7Hz,1H),
5.36(br s,1H),5.50(d,J=1
0.4Hz,1H),5.67(dd,J=10.4,
1.7Hz,1H)
CDCl3,ppm)δ:0.085(s,6H),
0.73(s,3H),0.90(s,9H),1.1
1(d,J=6.4Hz,3H),1.13(s,3
H),2.29−2.43(m,2H),3.45(d
d,J=10.4,6.2Hz,1H),3.59(d
d,J=10.4,2.5Hz,1H),3.85(b
r dd,J=6.8,6.8Hz,1H),4.23
(ddd,J=8.9,6.9,1.7Hz,1H),
5.36(br s,1H),5.50(d,J=1
0.4Hz,1H),5.67(dd,J=10.4,
1.7Hz,1H)
【0044】参考例4 参考例3の方法で得られた(3β,20S)−3−t−
ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−7−ヒド
ロキシ−20−メチルプレグナ−1,5−ジエン2.2
gをピリジン10mlおよび無水酢酸2.3mlに溶解
させて氷冷し、ジメチルアミノピリジン0.6gを加
え、その後、室温に戻して12時間撹拌した。反応液を
酢酸エチル10mlで希釈した後、3N塩酸水溶液10
mlにあけた。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
(3β,20S)−7−アセチルオキシ−3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−20−メチル
プレグナ−1,5−ジエン(一般式(I)の化合物)
2.1gを得た(収率86%)。
ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−7−ヒド
ロキシ−20−メチルプレグナ−1,5−ジエン2.2
gをピリジン10mlおよび無水酢酸2.3mlに溶解
させて氷冷し、ジメチルアミノピリジン0.6gを加
え、その後、室温に戻して12時間撹拌した。反応液を
酢酸エチル10mlで希釈した後、3N塩酸水溶液10
mlにあけた。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
(3β,20S)−7−アセチルオキシ−3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−20−メチル
プレグナ−1,5−ジエン(一般式(I)の化合物)
2.1gを得た(収率86%)。
【0045】1H−NMRスペクトル(270MHz,
CDCl3,ppm)δ:0.071(s,3H),
0.076(s,3H),0.74(s,3H),0.
89(s,9H),1.10(d,J=6.4Hz,3
H),1.15(s,3H),2.03(s,3H),
2.27−2.41(m,2H),3.41(dd,J
=10.6,6.2Hz,1H),3.58(dd,J
=10.6,2.7Hz,1H),4.22(ddd,
J=8.9,6.4,2.0Hz,1H),5.03
(ddd,J=8.4,1.5,1.5Hz,1H),
5.32(d,J=2.0Hz,1H),5.51
(d,J=10.4Hz,1H),5.65(dd,J
=10.4,2.0Hz,1H)
CDCl3,ppm)δ:0.071(s,3H),
0.076(s,3H),0.74(s,3H),0.
89(s,9H),1.10(d,J=6.4Hz,3
H),1.15(s,3H),2.03(s,3H),
2.27−2.41(m,2H),3.41(dd,J
=10.6,6.2Hz,1H),3.58(dd,J
=10.6,2.7Hz,1H),4.22(ddd,
J=8.9,6.4,2.0Hz,1H),5.03
(ddd,J=8.4,1.5,1.5Hz,1H),
5.32(d,J=2.0Hz,1H),5.51
(d,J=10.4Hz,1H),5.65(dd,J
=10.4,2.0Hz,1H)
【0046】実施例1 参考例4の方法で得られた(3β,20S)−7−アセ
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−20−メチルプレグナ−1,5−ジエン
1.3gを塩化メチレン50mlに溶解して氷冷し、m
−クロロ過安息香酸0.9gを加えた後、室温で48時
間撹拌した。この反応混合物を冷却した10%チオ硫酸
ナトリウム水溶液50mlにあけ、酢酸エチル50ml
で抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、(1
α,2α,3β,20S)−7−アセチルオキシ−3−
t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−1,
2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エン(一般
式(II)の化合物)、(1β,2β,3β,20S)
−7−アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリル
オキシ−21−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチ
ルプレグナ−5−エン(一般式(II)の化合物)およ
び副生成物として(3β,5α,6α,20S)−7−
アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−21−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレ
グナ−5−エン、(3β,5β,6β,20S)−7−
アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−21−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレ
グナ−5−エンの4種類の化合物の混合物(モル比で4
3:9:19:29)0.52gを得た((3β,20
S)−7−アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−21−クロロ−1,2−エポキシ−20−
メチルプレグナ−5−エンの収率20%)。
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−20−メチルプレグナ−1,5−ジエン
1.3gを塩化メチレン50mlに溶解して氷冷し、m
−クロロ過安息香酸0.9gを加えた後、室温で48時
間撹拌した。この反応混合物を冷却した10%チオ硫酸
ナトリウム水溶液50mlにあけ、酢酸エチル50ml
で抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、(1
α,2α,3β,20S)−7−アセチルオキシ−3−
t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−1,
2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エン(一般
式(II)の化合物)、(1β,2β,3β,20S)
−7−アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリル
オキシ−21−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチ
ルプレグナ−5−エン(一般式(II)の化合物)およ
び副生成物として(3β,5α,6α,20S)−7−
アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−21−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレ
グナ−5−エン、(3β,5β,6β,20S)−7−
アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−21−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレ
グナ−5−エンの4種類の化合物の混合物(モル比で4
3:9:19:29)0.52gを得た((3β,20
S)−7−アセチルオキシ−3−t−ブチルジメチルシ
リルオキシ−21−クロロ−1,2−エポキシ−20−
メチルプレグナ−5−エンの収率20%)。
【0047】(1α,2α,3β,20S)−7−アセ
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.74(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
02(s,3H),3.03(d,J=4.0Hz,1
H),3.13−3.16(d,J=4.0Hz,1
H),3.34−3.44(m,1H),3.55−
3.61(m,1H),3.83(dd,J=9.4,
7.4Hz,1H),5.02(br d,J=8.4
Hz,1H),5.38(d,J=2.2Hz,1H)
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.74(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
02(s,3H),3.03(d,J=4.0Hz,1
H),3.13−3.16(d,J=4.0Hz,1
H),3.34−3.44(m,1H),3.55−
3.61(m,1H),3.83(dd,J=9.4,
7.4Hz,1H),5.02(br d,J=8.4
Hz,1H),5.38(d,J=2.2Hz,1H)
【0048】(1β,2β,3β,20S)−7−アセ
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.76(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
03(s,3H),3.13−3.16(1H),3.
13−3.16(1H),3.34−3.44(m,1
H),3.55−3.61(m,1H),3.88−
3.94(ddd,J=11.9,5.6,1.9,1
H),4.96−4.99(m,1H),5.19
(d,J=2.2Hz,1H)
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.76(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
03(s,3H),3.13−3.16(1H),3.
13−3.16(1H),3.34−3.44(m,1
H),3.55−3.61(m,1H),3.88−
3.94(ddd,J=11.9,5.6,1.9,1
H),4.96−4.99(m,1H),5.19
(d,J=2.2Hz,1H)
【0049】(3β,5α,6α,20S)−7−アセ
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.67(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
07(s,3H),2.90(s,1H),3.34−
3.44(m,1H),3.55−3.61(m,1
H),4.49−4.55(br dd,J=9.4,
6.4Hz,1H),4.81(d,J=6.9Hz,
1H),5.59(d,J=10.4Hz,1H),
5.79(dd,J=10.4,2.0Hz,1H),
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.67(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
07(s,3H),2.90(s,1H),3.34−
3.44(m,1H),3.55−3.61(m,1
H),4.49−4.55(br dd,J=9.4,
6.4Hz,1H),4.81(d,J=6.9Hz,
1H),5.59(d,J=10.4Hz,1H),
5.79(dd,J=10.4,2.0Hz,1H),
【0050】(3β,5β,6β,20S)−7−アセ
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.68(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
09(s,3H),3.13−3.16(1H),3.
34−3.44(m,1H),3.55−3.61
(m,1H),4.34−4.40(br dd,J=
10.4,5.4Hz,1H),4.86(dd,J=
9.4,2.0Hz,1H),5.57(d,J=1
0.4Hz,1H),5.68(dd,J=10.4,
2.0Hz,1H)
チルオキシ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
1−クロロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ
−5−エン1 H−NMRスペクトル(270MHz,CDCl3,
ppm)δ:0.04−0.13(s,3H),0.0
4−0.13(s,3H),0.68(s,3H),
0.86−0.94(s,9H),1.07−1.17
(d,3H),1.17−1.28(s,3H),2.
09(s,3H),3.13−3.16(1H),3.
34−3.44(m,1H),3.55−3.61
(m,1H),4.34−4.40(br dd,J=
10.4,5.4Hz,1H),4.86(dd,J=
9.4,2.0Hz,1H),5.57(d,J=1
0.4Hz,1H),5.68(dd,J=10.4,
2.0Hz,1H)
【0051】実施例2 トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(クロ
ロホルム)45mgをジオキサン5mlに溶解させた
後、トリブチルホスフィン90μlおよびトリエチルア
ミン0.1mlを加えた。この溶液に、実施例1で得ら
れた(1α,2α,3β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(1β,2β,3β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(3β,5α,6α,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(3β,5β,6β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ンの混合物(モル比で43:9:19:29)0.52
gをジオキサン9mlに溶解させて得られた溶液を加
え、撹拌しながら2.5時間還流した。反応混合物を冷
却後、不溶物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮し、得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、(1α,2α,3β,20S)−3
−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−
1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジ
エン(一般式(III)の化合物)0.12gを得た
(収率70%)。
ロホルム)45mgをジオキサン5mlに溶解させた
後、トリブチルホスフィン90μlおよびトリエチルア
ミン0.1mlを加えた。この溶液に、実施例1で得ら
れた(1α,2α,3β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(1β,2β,3β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(3β,5α,6α,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ン、(3β,5β,6β,20S)−7−アセチルオキ
シ−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロ
ロ−5,6−エポキシ−20−メチルプレグナ−5−エ
ンの混合物(モル比で43:9:19:29)0.52
gをジオキサン9mlに溶解させて得られた溶液を加
え、撹拌しながら2.5時間還流した。反応混合物を冷
却後、不溶物を濾過し、濾液を減圧下に濃縮し、得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、(1α,2α,3β,20S)−3
−t−ブチルジメチルシリルオキシ−21−クロロ−
1,2−エポキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジ
エン(一般式(III)の化合物)0.12gを得た
(収率70%)。
【0052】MS(m/z):477(M+)
【0053】
【発明の効果】本発明によれば、種々のビタミンD誘導
体を製造するための中間体として有用なステロイド誘導
体の製造方法およびその中間体が提供される。
体を製造するための中間体として有用なステロイド誘導
体の製造方法およびその中間体が提供される。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、
R2はアシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、
Xはハロゲン原子または保護されていてもよい水酸基を
表す。)で示される1,5−ジエン化合物の1,2位の
二重結合をエポキシ化することにより一般式(II−
1) 【化2】 (式中、R1、R2およびXは前記定義のとおりであ
る。)で示される1,2−エポキシ化合物を得、得られ
た1,2−エポキシ化合物にパラジウム化合物を作用さ
せることを特徴とする一般式(III) 【化3】 (式中、R1およびXは前記定義のとおりである。)で
示される1,2−エポキシ−5,7−ジエン化合物の製
造方法。 - 【請求項2】 一般式(II−1) 【化4】 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、
R2はアシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、
Xはハロゲン原子または保護されていてもよい水酸基を
表す。)で示される1,2−エポキシ化合物にパラジウ
ム化合物を作用させることを特徴とする一般式(II
I) 【化5】 (式中、R1およびXは前記定義のとおりである。)で
示される1,2−エポキシ−5,7−ジエン化合物の製
造方法。 - 【請求項3】 一般式(II) 【化6】 (式中、R1およびR3は水素原子または水酸基の保護
基を表し、Xはハロゲン原子または保護されていてもよ
い水酸基を表す。)で示される1,2−エポキシ化合
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11161208A JP2000351797A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11161208A JP2000351797A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000351797A true JP2000351797A (ja) | 2000-12-19 |
Family
ID=15730667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11161208A Pending JP2000351797A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000351797A (ja) |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP11161208A patent/JP2000351797A/ja active Pending
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