JP2000351796A - ステロイド誘導体およびその製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体およびその製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】種々のビタミンＤ誘導体を製造するための中間
体として有用なステロイド誘導体およびその製造方法を
提供する。 【解決手段】 一般式（Ｖ−１） 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示される３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物の３位と７位の水酸基を保護して
一般式（Ｖ−２） 【化２】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ５およびＲ６
は水酸基の保護基を表す。）で示される１，５−ジエン
化合物を得、得られた１，５−ジエン化合物の１，２位
の二重結合をエポキシ化することを特徴とする一般式
（ＶＩ） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｒ５およびＲ６は前記定義のとおりであ
る。）で示される１，２−エポキシ化合物の製造方法。
体として有用なステロイド誘導体およびその製造方法を
提供する。 【解決手段】 一般式（Ｖ−１） 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示される３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物の３位と７位の水酸基を保護して
一般式（Ｖ−２） 【化２】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ５およびＲ６
は水酸基の保護基を表す。）で示される１，５−ジエン
化合物を得、得られた１，５−ジエン化合物の１，２位
の二重結合をエポキシ化することを特徴とする一般式
（ＶＩ） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｒ５およびＲ６は前記定義のとおりであ
る。）で示される１，２−エポキシ化合物の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はステロイド誘導体お
よびその製造方法に関する。本発明により提供されるス
テロイド誘導体は、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、
骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症およ
び乾癬などの皮膚疾患や骨髄性白血病などの細胞分化機
能に異常をきたした疾患の治療に有効な１α−ヒドロキ
シビタミンＤ３、１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
３、１α−ヒドロキシビタミンＤ２、２４−エピ−１
α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ２、２β−（３−ヒ
ドロキシプロポキシ）−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ３、１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ３、２
２−オキサ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ３、
２２−デヒドロ−２６，２７−シクロ−１α，２４−ジ
ヒドロキシビタミンＤ３などのビタミンＤ誘導体の合成
中間体として有用である。
よびその製造方法に関する。本発明により提供されるス
テロイド誘導体は、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、
骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症およ
び乾癬などの皮膚疾患や骨髄性白血病などの細胞分化機
能に異常をきたした疾患の治療に有効な１α−ヒドロキ
シビタミンＤ３、１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
３、１α−ヒドロキシビタミンＤ２、２４−エピ−１
α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ２、２β−（３−ヒ
ドロキシプロポキシ）−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ３、１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ３、２
２−オキサ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ３、
２２−デヒドロ−２６，２７−シクロ−１α，２４−ジ
ヒドロキシビタミンＤ３などのビタミンＤ誘導体の合成
中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】近年、ビタミンＤ研究の進展に伴い、ビ
タミンＤの側鎖部分やＡ環部分を修飾することによりカ
ルシウム代謝調節作用と分化誘導作用を分離あるいは増
強した種々のビタミンＤ誘導体が開発されている。これ
らのビタミンＤ誘導体およびその合成中間体の製造方法
としては、例えば、２５−ヒドロキシコレステロール
を２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベン
ゾキノン（ＤＤＱ）で酸化して得られる２５−ヒドロキ
シコレスタ−１，４，６−トリエン−３−オンの２５位
の水酸基を保護した後に３位をエノールアセチル化し、
得られた化合物を還元することを特徴とする１α，２５
−ジヒドロキシ−７−デヒドロコレステロールの製造方
法（米国特許４２８７１２９号参照）、１α，２α−
エポキシ−２０−メチル−４，６−プレグナジエン−３
−オン−２１−オールの３位を還元し、次いで４，５−
エポキシ化してジエポキシアルコールに変換した後、３
位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転さ
せ、得られた化合物の該エポキシ部分を還元的に開裂さ
せ、生じた水酸基を転位した後、脱離させることにより
５，７−ジエンを構築することを特徴とするプレグナン
誘導体の製造方法（特許第２７３１５４３号公報参
照）、２０−メチル−１，４−プレグナジエン−３−
オン−２１−オールを２０−メチル−１，５−プレグナ
ジエン−３−オン−２１−オールに異性化した後、３位
を還元し、次いで側鎖を構築した後、得られた化合物を
酸化することにより７−ケト体へ誘導し、さらに１，２
−エポキシ化した後、７−ケト部をトシルヒドラジンに
よりトシルヒドラジドに変換して水素化リチウムで処理
することにより５，７−ジエンを構築することを特徴と
するステロイド誘導体の製造方法（特表平６−５０８３
４７号公報参照）などが知られている。
タミンＤの側鎖部分やＡ環部分を修飾することによりカ
ルシウム代謝調節作用と分化誘導作用を分離あるいは増
強した種々のビタミンＤ誘導体が開発されている。これ
らのビタミンＤ誘導体およびその合成中間体の製造方法
としては、例えば、２５−ヒドロキシコレステロール
を２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベン
ゾキノン（ＤＤＱ）で酸化して得られる２５−ヒドロキ
シコレスタ−１，４，６−トリエン−３−オンの２５位
の水酸基を保護した後に３位をエノールアセチル化し、
得られた化合物を還元することを特徴とする１α，２５
−ジヒドロキシ−７−デヒドロコレステロールの製造方
法（米国特許４２８７１２９号参照）、１α，２α−
エポキシ−２０−メチル−４，６−プレグナジエン−３
−オン−２１−オールの３位を還元し、次いで４，５−
エポキシ化してジエポキシアルコールに変換した後、３
位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転さ
せ、得られた化合物の該エポキシ部分を還元的に開裂さ
せ、生じた水酸基を転位した後、脱離させることにより
５，７−ジエンを構築することを特徴とするプレグナン
誘導体の製造方法（特許第２７３１５４３号公報参
照）、２０−メチル−１，４−プレグナジエン−３−
オン−２１−オールを２０−メチル−１，５−プレグナ
ジエン−３−オン−２１−オールに異性化した後、３位
を還元し、次いで側鎖を構築した後、得られた化合物を
酸化することにより７−ケト体へ誘導し、さらに１，２
−エポキシ化した後、７−ケト部をトシルヒドラジンに
よりトシルヒドラジドに変換して水素化リチウムで処理
することにより５，７−ジエンを構築することを特徴と
するステロイド誘導体の製造方法（特表平６−５０８３
４７号公報参照）などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のとおり、ビタミ
ンＤ誘導体およびその合成中間体の製造方法は既に知ら
れている。しかしながら、の方法は、既に側鎖部分の
骨格を有する原料を用いるという点において、種々の側
鎖を有するビタミンＤ誘導体の製造方法には適さない。
の方法は、目的とする３位の立体配置を得るために、
３位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転
させる必要がある。の方法は、酸化により７−ケト体
へ誘導し、該７−ケト部をトシルヒドラジンによりトシ
ルヒドラジドに変換後、水素化リチウムで処理すること
により５，７−ジエンを構築しており、工程が長いとい
う欠点を有している。しかして、本発明の目的は、種々
のビタミンＤ誘導体を製造するための中間体として有用
なステロイド誘導体およびその製造方法を提供すること
にある。
ンＤ誘導体およびその合成中間体の製造方法は既に知ら
れている。しかしながら、の方法は、既に側鎖部分の
骨格を有する原料を用いるという点において、種々の側
鎖を有するビタミンＤ誘導体の製造方法には適さない。
の方法は、目的とする３位の立体配置を得るために、
３位の水酸基を酸化し、次いで還元してその立体を反転
させる必要がある。の方法は、酸化により７−ケト体
へ誘導し、該７−ケト部をトシルヒドラジンによりトシ
ルヒドラジドに変換後、水素化リチウムで処理すること
により５，７−ジエンを構築しており、工程が長いとい
う欠点を有している。しかして、本発明の目的は、種々
のビタミンＤ誘導体を製造するための中間体として有用
なステロイド誘導体およびその製造方法を提供すること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、（１）一般式（ＶＩＩ）
目的は、（１）一般式（ＶＩＩ）
【０００５】
【化２７】
【０００６】（式中、Ｘはハロゲン原子または保護され
ていてもよい水酸基を表す。）で示されるステロイド化
合物（以下、ステロイド化合物（ＶＩＩ）と略称する）
の７位を酸化することにより一般式（Ｉ）
ていてもよい水酸基を表す。）で示されるステロイド化
合物（以下、ステロイド化合物（ＶＩＩ）と略称する）
の７位を酸化することにより一般式（Ｉ）
【０００７】
【化２８】
【０００８】（式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示される３，７−ジオン化合物（以下、３，７−ジオ
ン化合物（Ｉ）と略称する）を得、得られた３，７−ジ
オン化合物（Ｉ）の７位をエノールエステル化すること
により一般式（ＩＩ）
で示される３，７−ジオン化合物（以下、３，７−ジオ
ン化合物（Ｉ）と略称する）を得、得られた３，７−ジ
オン化合物（Ｉ）の７位をエノールエステル化すること
により一般式（ＩＩ）
【０００９】
【化２９】
【００１０】（式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ
１はアシル基を表す。）で示される１，４，６−トリエ
ン−３−オン化合物（以下、１，４，６−トリエン−３
−オン化合物（ＩＩ）と略称する）を得、得られた１，
４，６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）の３位をエ
ノールエステル化することにより一般式（ＩＩＩ）
１はアシル基を表す。）で示される１，４，６−トリエ
ン−３−オン化合物（以下、１，４，６−トリエン−３
−オン化合物（ＩＩ）と略称する）を得、得られた１，
４，６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）の３位をエ
ノールエステル化することにより一般式（ＩＩＩ）
【００１１】
【化３０】
【００１２】（式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおり
であり、Ｒ２はアシル基を表す。）で示される１，３，
５，７−テトラエン化合物（以下、１，３，５，７−テ
トラエン化合物（ＩＩＩ）と略称する）を得、得られた
１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の３位を
還元することにより一般式（ＩＶ−１）
であり、Ｒ２はアシル基を表す。）で示される１，３，
５，７−テトラエン化合物（以下、１，３，５，７−テ
トラエン化合物（ＩＩＩ）と略称する）を得、得られた
１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の３位を
還元することにより一般式（ＩＶ−１）
【００１３】
【化３１】
【００１４】（式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおり
である。）で示される１，５，７−トリエン化合物（以
下、１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）と略称す
る）を得、得られた１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ
−１）の７位を還元することにより一般式（Ｖ−１）
である。）で示される１，５，７−トリエン化合物（以
下、１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）と略称す
る）を得、得られた１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ
−１）の７位を還元することにより一般式（Ｖ−１）
【００１５】
【化３２】
【００１６】（式中、Ｘは前記定義のとおりである。）
で示される３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合
物（以下、３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合
物（Ｖ−１）と略称する）を得、得られた３，７−ジヒ
ドロキシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の３位と７
位の水酸基を保護して一般式（Ｖ−２）
で示される３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合
物（以下、３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合
物（Ｖ−１）と略称する）を得、得られた３，７−ジヒ
ドロキシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の３位と７
位の水酸基を保護して一般式（Ｖ−２）
【００１７】
【化３３】
【００１８】（式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ
５およびＲ６は水酸基の保護基を表す。）で示される
１，５−ジエン化合物（以下、１，５−ジエン化合物
（Ｖ−２）と略称する）を得、得られた１，５−ジエン
化合物（Ｖ−２）の１，２位の二重結合をエポキシ化す
ることを特徴とする一般式（ＶＩ）
５およびＲ６は水酸基の保護基を表す。）で示される
１，５−ジエン化合物（以下、１，５−ジエン化合物
（Ｖ−２）と略称する）を得、得られた１，５−ジエン
化合物（Ｖ−２）の１，２位の二重結合をエポキシ化す
ることを特徴とする一般式（ＶＩ）
【００１９】
【化３４】
【００２０】（式中、Ｘ、Ｒ５およびＲ６は前記定義の
とおりである。）で示される１，２−エポキシ化合物
（以下、１，２−エポキシ化合物（ＶＩ）と略称する）
の製造方法、（２）３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジ
エン化合物（Ｖ−１）の３位と７位の水酸基を保護して
１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）を得、得られた１，５
−ジエン化合物（Ｖ−２）の１，２位の二重結合をエポ
キシ化することを特徴とする１，２−エポキシ化合物
（ＶＩ）の製造方法、（３）一般式（Ｖ）
とおりである。）で示される１，２−エポキシ化合物
（以下、１，２−エポキシ化合物（ＶＩ）と略称する）
の製造方法、（２）３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジ
エン化合物（Ｖ−１）の３位と７位の水酸基を保護して
１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）を得、得られた１，５
−ジエン化合物（Ｖ−２）の１，２位の二重結合をエポ
キシ化することを特徴とする１，２−エポキシ化合物
（ＶＩ）の製造方法、（３）一般式（Ｖ）
【００２１】
【化３５】
【００２２】（式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ
３およびＲ４は水素原子または水酸基の保護基を表
す。）で示される１，５−ジエン化合物、（４）１，
５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）の７位を還元する
ことを特徴とする３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエ
ン化合物（Ｖ−１）の製造方法、（５）一般式（ＩＶ）
３およびＲ４は水素原子または水酸基の保護基を表
す。）で示される１，５−ジエン化合物、（４）１，
５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）の７位を還元する
ことを特徴とする３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエ
ン化合物（Ｖ−１）の製造方法、（５）一般式（ＩＶ）
【００２３】
【化３６】
【００２４】（式中、Ｘ、Ｒ１およびＲ３は前記定義の
とおりである。）で示される１，５，７−トリエン化合
物、（６）１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩ
Ｉ）の３位を還元することを特徴とする１，５，７−ト
リエン化合物（ＩＶ−１）の製造方法、（７）１，３，
５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）、（８）１，４，
６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）の３位をエノー
ルエステル化することを特徴とする１，３，５，７−テ
トラエン化合物（ＩＩＩ）の製造方法、（９）１，４，
６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）、（１０）３，
７−ジオン化合物（Ｉ）の７位をエノールエステル化す
ることを特徴とする１，４，６−トリエン−３−オン化
合物（ＩＩ）の製造方法、（１１）３，７−ジオン化合
物（Ｉ）、および（１２）ステロイド化合物（ＶＩＩ）
の７位を酸化することを特徴とする３，７−ジオン化合
物（Ｉ）の製造方法を提供することにより達成される。
とおりである。）で示される１，５，７−トリエン化合
物、（６）１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩ
Ｉ）の３位を還元することを特徴とする１，５，７−ト
リエン化合物（ＩＶ−１）の製造方法、（７）１，３，
５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）、（８）１，４，
６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）の３位をエノー
ルエステル化することを特徴とする１，３，５，７−テ
トラエン化合物（ＩＩＩ）の製造方法、（９）１，４，
６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）、（１０）３，
７−ジオン化合物（Ｉ）の７位をエノールエステル化す
ることを特徴とする１，４，６−トリエン−３−オン化
合物（ＩＩ）の製造方法、（１１）３，７−ジオン化合
物（Ｉ）、および（１２）ステロイド化合物（ＶＩＩ）
の７位を酸化することを特徴とする３，７−ジオン化合
物（Ｉ）の製造方法を提供することにより達成される。
【００２５】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ１およびＲ２が
表すアシル基としては、アセチル基、トリクロロアセチ
ル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイ
ル基などが挙げられる。
表すアシル基としては、アセチル基、トリクロロアセチ
ル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイ
ル基などが挙げられる。
【００２６】Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６が表す水酸基
の保護基としては、水酸基の保護基として通常知られて
いる保護基であれば特に制限はなく、例えばトリメチル
シリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリ
ル基、ｔ-ブチルジメチルシリル基、ｔ-ブチルジフェニ
ルシリル基などの三置換シリル基；メトキシメチル基、
メトキシエトキシメチル基、１−（エトキシ）エチル
基、メトキシイソプロピル基などの１−（アルコキシ）
アルキル基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基などの２−オキサシクロアルキル基；ｔ-ブチ
ル基などのアルキル基；ベンジル基、パラメトキシベン
ジル基などのアラルキル基；アリル基、プロペニル基な
どのアルケニル基；パラメトキシフェニル基などのアリ
ール基；アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、
メチルベンゾイル基などのアシル基；メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシ
カルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブ
チルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基
などを挙げることができる。
の保護基としては、水酸基の保護基として通常知られて
いる保護基であれば特に制限はなく、例えばトリメチル
シリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリ
ル基、ｔ-ブチルジメチルシリル基、ｔ-ブチルジフェニ
ルシリル基などの三置換シリル基；メトキシメチル基、
メトキシエトキシメチル基、１−（エトキシ）エチル
基、メトキシイソプロピル基などの１−（アルコキシ）
アルキル基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基などの２−オキサシクロアルキル基；ｔ-ブチ
ル基などのアルキル基；ベンジル基、パラメトキシベン
ジル基などのアラルキル基；アリル基、プロペニル基な
どのアルケニル基；パラメトキシフェニル基などのアリ
ール基；アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、
メチルベンゾイル基などのアシル基；メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシ
カルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブ
チルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基
などを挙げることができる。
【００２７】Ｘが表すハロゲン原子としては、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、保護されて
いてもよい水酸基としては、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ
６が表す水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基
が挙げられる。
子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、保護されて
いてもよい水酸基としては、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ
６が表す水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基
が挙げられる。
【００２８】以下、各工程について説明する。
【００２９】工程１：ステロイド化合物（ＶＩＩ）の７
位の水酸基を酸化することによる３，７−ジオン化合物
（Ｉ）の製造
位の水酸基を酸化することによる３，７−ジオン化合物
（Ｉ）の製造
【００３０】酸化剤としては、例えば三酸化クロム（Ｃ
ｒＯ３）、三酸化クロム−硫酸（Jones試薬）；二クロ
ム酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７）、二クロム酸カリ
ウム（Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７）などの二クロム酸塩；ジメチル
スルホキシド−無水酢酸などが挙げられる。これらの中
でも、三酸化クロムを等モルの濃硫酸と共に水に溶解す
ることにより容易に調製することができるJones試薬を
用いるのが特に好ましい。酸化剤の使用量は、ステロイ
ド化合物（ＶＩＩ）１モルに対して１〜２０モルの範囲
が好ましい。
ｒＯ３）、三酸化クロム−硫酸（Jones試薬）；二クロ
ム酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７）、二クロム酸カリ
ウム（Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７）などの二クロム酸塩；ジメチル
スルホキシド−無水酢酸などが挙げられる。これらの中
でも、三酸化クロムを等モルの濃硫酸と共に水に溶解す
ることにより容易に調製することができるJones試薬を
用いるのが特に好ましい。酸化剤の使用量は、ステロイ
ド化合物（ＶＩＩ）１モルに対して１〜２０モルの範囲
が好ましい。
【００３１】反応は、溶媒の存在下で行うのが好まし
い。使用できる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
ければ特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエス
テル；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフランなどのエーテル；塩化メチレン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
これらのなかでもアセトンを用いるのが好ましい。溶媒
の使用量はステロイド化合物（ＶＩＩ）に対して５〜２
００重量倍の範囲が好ましい。
い。使用できる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさな
ければ特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエス
テル；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフランなどのエーテル；塩化メチレン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
これらのなかでもアセトンを用いるのが好ましい。溶媒
の使用量はステロイド化合物（ＶＩＩ）に対して５〜２
００重量倍の範囲が好ましい。
【００３２】反応温度は−７０〜２００℃の範囲が好ま
しく、−１０〜４０℃の範囲がより好ましい。
しく、−１０〜４０℃の範囲がより好ましい。
【００３３】反応は、例えばステロイド化合物（ＶＩ
Ｉ）を溶媒と混合し、この溶液に酸化剤を添加すること
により行うのが好ましい。
Ｉ）を溶媒と混合し、この溶液に酸化剤を添加すること
により行うのが好ましい。
【００３４】このようにして得られた３，７−ジオン化
合物（Ｉ）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有
機反応において行われる単離・精製法と同様にして行う
ことができる。例えば、反応液にイソプロパノールなど
を加えて残存する酸化剤を分解し、不溶物をセライトな
どで濾過した後、濾液を減圧下で濃縮して得られた粗生
成物を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製す
る。
合物（Ｉ）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有
機反応において行われる単離・精製法と同様にして行う
ことができる。例えば、反応液にイソプロパノールなど
を加えて残存する酸化剤を分解し、不溶物をセライトな
どで濾過した後、濾液を減圧下で濃縮して得られた粗生
成物を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製す
る。
【００３５】工程２：３，７−ジオン化合物（Ｉ）の７
位をエノールエステル化することによる１，４，６−ト
リエン−３−オン化合物（ＩＩ）の製造
位をエノールエステル化することによる１，４，６−ト
リエン−３−オン化合物（ＩＩ）の製造
【００３６】エノールエステル化反応には、無水酢酸、
無水トリフルオロ酢酸、無水トリクロロ酢酸などの酸無
水物；塩化アセチル、塩化トリフルオロアセチル、塩化
トリクロロアセチルなどの酸ハロゲン化物；酢酸イソプ
ロペニル、トリフルオロ酢酸イソプロペニル、トリクロ
ロ酢酸イソプロペニルなどのエステルなどをアシル化剤
として用いることができる。アシル化剤の使用量は、
３，７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜１００
モルの範囲が好ましい。
無水トリフルオロ酢酸、無水トリクロロ酢酸などの酸無
水物；塩化アセチル、塩化トリフルオロアセチル、塩化
トリクロロアセチルなどの酸ハロゲン化物；酢酸イソプ
ロペニル、トリフルオロ酢酸イソプロペニル、トリクロ
ロ酢酸イソプロペニルなどのエステルなどをアシル化剤
として用いることができる。アシル化剤の使用量は、
３，７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜１００
モルの範囲が好ましい。
【００３７】反応は溶媒の存在下または不存在下に行う
ことができる。使用できる溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさない限り特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
プロピルなどのエステルなどが挙げられる。また、上記
したアシル化剤自身を溶媒として使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合、その使用量は３，７−ジオ
ン化合物（Ｉ）に対して５〜２００重量倍の範囲が好ま
しい。
ことができる。使用できる溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさない限り特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
プロピルなどのエステルなどが挙げられる。また、上記
したアシル化剤自身を溶媒として使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合、その使用量は３，７−ジオ
ン化合物（Ｉ）に対して５〜２００重量倍の範囲が好ま
しい。
【００３８】反応は、塩基性物質または酸性物質の共存
下に行ってもよい。このような塩基性物質としては、例
えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンなどの芳香族または脂肪族アミンが挙げられ
る。塩基性物質を共存させる場合、その使用量は、３，
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜２０モルの
範囲が好ましい。また、酸性物質としては、例えばｐ−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などのスルホン
酸；塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられる。酸性物質
を共存させる場合、その使用量は、３，７−ジオン化合
物（Ｉ）１モルに対して０．１〜１０モルの範囲が好ま
しい。
下に行ってもよい。このような塩基性物質としては、例
えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンなどの芳香族または脂肪族アミンが挙げられ
る。塩基性物質を共存させる場合、その使用量は、３，
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜２０モルの
範囲が好ましい。また、酸性物質としては、例えばｐ−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などのスルホン
酸；塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられる。酸性物質
を共存させる場合、その使用量は、３，７−ジオン化合
物（Ｉ）１モルに対して０．１〜１０モルの範囲が好ま
しい。
【００３９】反応温度は−１０〜５０℃の範囲が好まし
く、０〜３０℃の範囲がより好ましい。
く、０〜３０℃の範囲がより好ましい。
【００４０】反応は、３，７−ジオン化合物（Ｉ）を溶
媒およびアシル化剤と混合し、必要に応じて塩基性物質
または酸性物質を加え、所定温度にて撹拌することによ
り行うのが好ましい。
媒およびアシル化剤と混合し、必要に応じて塩基性物質
または酸性物質を加え、所定温度にて撹拌することによ
り行うのが好ましい。
【００４１】このようにして得られた１，４，６−トリ
エン−３−オン化合物（ＩＩ）の反応混合物からの単離
・精製は、通常の有機反応において行われる単離・精製
法と同様にして行うことができる。例えば、反応混合物
を水または炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチ
ルなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムな
どで乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロ
マトグラフィーなどにより精製する。
エン−３−オン化合物（ＩＩ）の反応混合物からの単離
・精製は、通常の有機反応において行われる単離・精製
法と同様にして行うことができる。例えば、反応混合物
を水または炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチ
ルなどの有機溶媒で抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムな
どで乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロ
マトグラフィーなどにより精製する。
【００４２】なお、本工程において、アシル化剤を３，
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して２モル倍以上用
い、かつ反応を８０〜２００℃の範囲で行うことによ
り、３，７−ジオン化合物（Ｉ）の７位のエノールエス
テル化だけではなく３位のエノールエステル化も同時に
行い、次の工程３で述べる１，３，５，７−テトラエン
化合物（ＩＩＩ）を一段階で製造することも可能であ
る。
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して２モル倍以上用
い、かつ反応を８０〜２００℃の範囲で行うことによ
り、３，７−ジオン化合物（Ｉ）の７位のエノールエス
テル化だけではなく３位のエノールエステル化も同時に
行い、次の工程３で述べる１，３，５，７−テトラエン
化合物（ＩＩＩ）を一段階で製造することも可能であ
る。
【００４３】工程３：１，４，６−トリエン−３−オン
化合物（ＩＩ）の３位をエノールエステル化することに
よる１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の製
造
化合物（ＩＩ）の３位をエノールエステル化することに
よる１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の製
造
【００４４】エノールエステル化反応には、無水酢酸、
無水トリフルオロ酢酸、無水トリクロロ酢酸などの酸無
水物；塩化アセチル、塩化トリフルオロアセチル、塩化
トリクロロアセチルなどの酸ハロゲン化物；酢酸イソプ
ロペニル、トリフルオロ酢酸イソプロペニル、トリクロ
ロ酢酸イソプロペニルなどのエステルなどをアシル化剤
として用いることができる。アシル化剤の使用量は、
１，４，６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）１モル
に対して１〜１００モルの範囲が好ましい。
無水トリフルオロ酢酸、無水トリクロロ酢酸などの酸無
水物；塩化アセチル、塩化トリフルオロアセチル、塩化
トリクロロアセチルなどの酸ハロゲン化物；酢酸イソプ
ロペニル、トリフルオロ酢酸イソプロペニル、トリクロ
ロ酢酸イソプロペニルなどのエステルなどをアシル化剤
として用いることができる。アシル化剤の使用量は、
１，４，６−トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）１モル
に対して１〜１００モルの範囲が好ましい。
【００４５】反応は溶媒の存在下または不存在下に行う
ことができる。使用できる溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさない限り特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
プロピルなどのエステルなどが挙げられる。また、上記
したアシル化剤自身を溶媒として使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合、その使用量は１，４，６−
トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）に対して５〜２００
重量倍の範囲が好ましい。
ことができる。使用できる溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさない限り特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
プロピルなどのエステルなどが挙げられる。また、上記
したアシル化剤自身を溶媒として使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合、その使用量は１，４，６−
トリエン−３−オン化合物（ＩＩ）に対して５〜２００
重量倍の範囲が好ましい。
【００４６】反応は、塩基性物質または酸性物質の共存
下に行ってもよい。このような塩基性物質としては、例
えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンなどの芳香族または脂肪族アミンが挙げられ
る。塩基性物質を共存させる場合、その使用量は、３，
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜２０モルの
範囲が好ましい。また、酸性物質としては、例えばｐ−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などのスルホン
酸；塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられる。酸性物質
を共存させる場合、その使用量は、１，４，６−トリエ
ン−３−オン化合物（ＩＩ）１モルに対して０．１〜１
０モルの範囲が好ましい。
下に行ってもよい。このような塩基性物質としては、例
えばピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンなどの芳香族または脂肪族アミンが挙げられ
る。塩基性物質を共存させる場合、その使用量は、３，
７−ジオン化合物（Ｉ）１モルに対して１〜２０モルの
範囲が好ましい。また、酸性物質としては、例えばｐ−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などのスルホン
酸；塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられる。酸性物質
を共存させる場合、その使用量は、１，４，６−トリエ
ン−３−オン化合物（ＩＩ）１モルに対して０．１〜１
０モルの範囲が好ましい。
【００４７】反応温度は８０〜２００℃の範囲が好まし
く、９０〜１３０℃の範囲がより好ましい。
く、９０〜１３０℃の範囲がより好ましい。
【００４８】反応は、１，４，６−トリエン−３−オン
化合物（ＩＩ）を溶媒およびアシル化剤と混合し、必要
に応じて塩基性物質または酸性物質を加え、所定温度に
て撹拌することにより行うのが好ましい。
化合物（ＩＩ）を溶媒およびアシル化剤と混合し、必要
に応じて塩基性物質または酸性物質を加え、所定温度に
て撹拌することにより行うのが好ましい。
【００４９】このようにして得られた１，３，５，７−
テトラエン化合物（ＩＩＩ）の反応混合物からの単離・
精製は、通常の有機反応において行われる単離・精製法
と同様にして行うことができる。例えば反応混合物を水
または炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチルな
どの有機溶媒で抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウム水
溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムなどで
乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロマト
グラフィーなどにより精製する。
テトラエン化合物（ＩＩＩ）の反応混合物からの単離・
精製は、通常の有機反応において行われる単離・精製法
と同様にして行うことができる。例えば反応混合物を水
または炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチルな
どの有機溶媒で抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウム水
溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムなどで
乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロマト
グラフィーなどにより精製する。
【００５０】工程４：１，３，５，７−テトラエン化合
物（ＩＩＩ）の３位を還元することによる１，５，７−
トリエン化合物（ＩＶ−１）の製造
物（ＩＩＩ）の３位を還元することによる１，５，７−
トリエン化合物（ＩＶ−１）の製造
【００５１】還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられる。還元剤の使用量は
１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）１モルに
対して１〜５モル倍の範囲が好ましく、１〜３モル倍の
範囲がより好ましい。
ム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられる。還元剤の使用量は
１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）１モルに
対して１〜５モル倍の範囲が好ましく、１〜３モル倍の
範囲がより好ましい。
【００５２】反応は、溶媒の存在下に行うのが好まし
い。使用できる溶媒としては、還元剤の種類によっても
異なるが、エタノール、メタノールなどのアルコール；
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエーテルが好ましい。溶媒の使用量は１，
３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）に対して５〜
２００重量倍の範囲が好ましい。
い。使用できる溶媒としては、還元剤の種類によっても
異なるが、エタノール、メタノールなどのアルコール；
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエーテルが好ましい。溶媒の使用量は１，
３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）に対して５〜
２００重量倍の範囲が好ましい。
【００５３】反応温度は−７０〜３０℃の範囲が好まし
く、−３０〜０℃の範囲がより好ましい。
く、−３０〜０℃の範囲がより好ましい。
【００５４】反応は、１，３，５，７−テトラエン化合
物（ＩＩＩ）を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液
に還元剤を添加することにより行うのが好ましい。
物（ＩＩＩ）を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液
に還元剤を添加することにより行うのが好ましい。
【００５５】このようにして得られた１，５，７−トリ
エン化合物（ＩＶ−１）の反応混合物からの単離・精製
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行うことができる。例えば反応混合物に
水、硫酸ナトリウム水溶液、希塩酸、酢酸水溶液または
メタノールなどを加えて残存する還元剤を分解し、必要
に応じてさらに水で希釈した後、酢酸エチルなどの有機
溶媒で抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムなどで乾燥
後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製する。
エン化合物（ＩＶ−１）の反応混合物からの単離・精製
は、通常の有機反応において行われている単離・精製法
と同様にして行うことができる。例えば反応混合物に
水、硫酸ナトリウム水溶液、希塩酸、酢酸水溶液または
メタノールなどを加えて残存する還元剤を分解し、必要
に応じてさらに水で希釈した後、酢酸エチルなどの有機
溶媒で抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムなどで乾燥
後、濃縮して得られた粗生成物を再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製する。
【００５６】１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）
の３位の水酸基は必要に応じてさらに保護してもよく、
同様に次の工程５に付すことが可能である。この水酸基
の保護は、通常水酸基を保護するに際して行われる方法
と同様の方法で行うことができる。例えば、水酸基の保
護基としてｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
フェニルシリル基などのかさ高い三置換シリル基を保護
基とする場合、反応は、ｔ−ブチルジメチルシリルクロ
リド、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリドなどの三置
換シリルハライドまたはｔ−ブチルジメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート、ｔ−ブチルジフェニルシ
リルトリフルオロメタンスルホネートなどの三置換シリ
ルトリフルオロメタンスルホネートを、イミダゾール、
２，６−ルチジンなどの塩基の存在下に、１，５，７−
トリエン化合物（ＩＶ−１）と反応させることにより行
う。
の３位の水酸基は必要に応じてさらに保護してもよく、
同様に次の工程５に付すことが可能である。この水酸基
の保護は、通常水酸基を保護するに際して行われる方法
と同様の方法で行うことができる。例えば、水酸基の保
護基としてｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジ
フェニルシリル基などのかさ高い三置換シリル基を保護
基とする場合、反応は、ｔ−ブチルジメチルシリルクロ
リド、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリドなどの三置
換シリルハライドまたはｔ−ブチルジメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート、ｔ−ブチルジフェニルシ
リルトリフルオロメタンスルホネートなどの三置換シリ
ルトリフルオロメタンスルホネートを、イミダゾール、
２，６−ルチジンなどの塩基の存在下に、１，５，７−
トリエン化合物（ＩＶ−１）と反応させることにより行
う。
【００５７】なお、還元剤を１，３，５，７−テトラエ
ン化合物（ＩＩＩ）１モルに対して２〜１０モル倍用
い、かつ反応温度を０〜６０℃の範囲内で行うことによ
り、１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の３
位を還元するだけでなく、７位を同時に還元して次の工
程５で述べる３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化
合物（Ｖ−１）に一段階で変換することも可能である。
ン化合物（ＩＩＩ）１モルに対して２〜１０モル倍用
い、かつ反応温度を０〜６０℃の範囲内で行うことによ
り、１，３，５，７−テトラエン化合物（ＩＩＩ）の３
位を還元するだけでなく、７位を同時に還元して次の工
程５で述べる３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化
合物（Ｖ−１）に一段階で変換することも可能である。
【００５８】工程５：１，５，７−トリエン化合物（Ｉ
Ｖ−１）の７位を還元することによる３，７−ジヒドロ
キシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の製造
Ｖ−１）の７位を還元することによる３，７−ジヒドロ
キシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の製造
【００５９】還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられる。還元剤の使用量は
１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）１モルに対し
て１〜１０モル倍の範囲が好ましい。
ム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛などが挙げられる。還元剤の使用量は
１，５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）１モルに対し
て１〜１０モル倍の範囲が好ましい。
【００６０】反応は、溶媒の存在下に行うのが好まし
い。使用できる溶媒としては、還元剤の種類によっても
異なるが、エタノール、メタノールなどのアルコール；
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエーテルが好ましい。溶媒の使用量は、１，
５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）に対して５〜２０
０重量倍の範囲が好ましい。
い。使用できる溶媒としては、還元剤の種類によっても
異なるが、エタノール、メタノールなどのアルコール；
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエーテルが好ましい。溶媒の使用量は、１，
５，７−トリエン化合物（ＩＶ−１）に対して５〜２０
０重量倍の範囲が好ましい。
【００６１】反応温度は−１０〜１００℃の範囲が好ま
しく、０〜６０℃の範囲がより好ましい。
しく、０〜６０℃の範囲がより好ましい。
【００６２】反応は、１，５，７−トリエン化合物（Ｉ
Ｖ−１）を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液に還
元剤を添加することにより行うのが好ましい。
Ｖ−１）を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液に還
元剤を添加することにより行うのが好ましい。
【００６３】このようにして得られた３，７−ジヒドロ
キシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行うことができる。例え
ば、反応混合物に水、硫酸ナトリウム水溶液、希塩酸、
酢酸水溶液またはメタノールなどを加えて残存する還元
剤を分解し、必要に応じてさらに水で希釈した後、酢酸
エチルなどの有機溶媒で抽出する。抽出液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムなどで乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結
晶、クロマトグラフィーなどにより精製する。
キシ−１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において行われてい
る単離・精製法と同様にして行うことができる。例え
ば、反応混合物に水、硫酸ナトリウム水溶液、希塩酸、
酢酸水溶液またはメタノールなどを加えて残存する還元
剤を分解し、必要に応じてさらに水で希釈した後、酢酸
エチルなどの有機溶媒で抽出する。抽出液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムなどで乾燥後、濃縮して得られた粗生成物を再結
晶、クロマトグラフィーなどにより精製する。
【００６４】工程６：３，７−ジヒドロキシ−１，５−
ジエン化合物（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基を保
護することによる１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）の製
造
ジエン化合物（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基を保
護することによる１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）の製
造
【００６５】３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化
合物（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基の保護は、通
常水酸基を保護するに際して行われる方法と同様の方法
で行うことができる。例えば、水酸基の保護基としてｔ
−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリ
ル基などのかさ高い三置換シリル基を保護基とする場
合、反応はｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ｔ−ブ
チルジフェニルシリルクロリドなどの三置換シリルハラ
イドまたはｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホネート、ｔ−ブチルジフェニルシリルトリフル
オロメタンスルホネートなどの三置換シリルトリフルオ
ロメタンスルホネートを、イミダゾール、２，６−ルチ
ジンなどの塩基の存在下に、３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）と反応させることによ
り行う。水酸基の保護基としてアセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、ベンゾイル基などのアシル基を保護基と
する場合、反応は無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸など
のカルボン酸無水物または塩化ベンゾイルなどのカルボ
ン酸ハロゲン化物を、ピリジン、トリエチルアミンなど
の塩基の存在下に３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエ
ン化合物（Ｖ−１）と反応させることにより行う。ま
た、水酸基の保護基としてメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基を保護
基とする場合、反応はクロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エ
チルなどのクロロ炭酸エステルをピリジン、トリエチル
アミンなどの塩基の存在下に３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）と反応させることによ
り行う。３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合物
（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基は、同一の水酸基
の保護基によって保護してもよく、異なった水酸基の保
護基によって保護してもよい。
合物（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基の保護は、通
常水酸基を保護するに際して行われる方法と同様の方法
で行うことができる。例えば、水酸基の保護基としてｔ
−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリ
ル基などのかさ高い三置換シリル基を保護基とする場
合、反応はｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、ｔ−ブ
チルジフェニルシリルクロリドなどの三置換シリルハラ
イドまたはｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホネート、ｔ−ブチルジフェニルシリルトリフル
オロメタンスルホネートなどの三置換シリルトリフルオ
ロメタンスルホネートを、イミダゾール、２，６−ルチ
ジンなどの塩基の存在下に、３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）と反応させることによ
り行う。水酸基の保護基としてアセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、ベンゾイル基などのアシル基を保護基と
する場合、反応は無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸など
のカルボン酸無水物または塩化ベンゾイルなどのカルボ
ン酸ハロゲン化物を、ピリジン、トリエチルアミンなど
の塩基の存在下に３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエ
ン化合物（Ｖ−１）と反応させることにより行う。ま
た、水酸基の保護基としてメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基を保護
基とする場合、反応はクロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エ
チルなどのクロロ炭酸エステルをピリジン、トリエチル
アミンなどの塩基の存在下に３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物（Ｖ−１）と反応させることによ
り行う。３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合物
（Ｖ−１）の３位および７位の水酸基は、同一の水酸基
の保護基によって保護してもよく、異なった水酸基の保
護基によって保護してもよい。
【００６６】工程７：１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）
の１，２位の二重結合をエポキシ化することによる１，
２−エポキシ化合物（ＶＩ）の製造
の１，２位の二重結合をエポキシ化することによる１，
２−エポキシ化合物（ＶＩ）の製造
【００６７】反応は、炭素−炭素二重結合部分のエポキ
シ化反応に一般に使用されるエポキシ化剤を用いて行う
ことができる。このようなエポキシ化剤としては、例え
ば、過ギ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ
過安息香酸、過安息香酸、モノ過フタル酸、ｐ−ニトロ
過安息香酸、ｍ−ジニトロ過安息香酸などの有機過酸；
ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどの有機過酸化物；過
酸化水素などが挙げられる。エポキシ化剤の使用量は、
１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）１モルに対して１〜１
０モル倍の範囲が好ましい。
シ化反応に一般に使用されるエポキシ化剤を用いて行う
ことができる。このようなエポキシ化剤としては、例え
ば、過ギ酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ
過安息香酸、過安息香酸、モノ過フタル酸、ｐ−ニトロ
過安息香酸、ｍ−ジニトロ過安息香酸などの有機過酸；
ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどの有機過酸化物；過
酸化水素などが挙げられる。エポキシ化剤の使用量は、
１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）１モルに対して１〜１
０モル倍の範囲が好ましい。
【００６８】反応は溶媒の存在下で行うのが好ましい。
使用できる溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り
特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水
素；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロ
ロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；
メタノール、エタノール、プロパノール、ｔ−ブチルア
ルコールなどのアルコールなどが挙げられる。溶媒の使
用量は、１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）に対して５〜
２００倍重量の範囲が好ましい。
使用できる溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り
特に制限はなく、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水
素；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロ
ロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；
メタノール、エタノール、プロパノール、ｔ−ブチルア
ルコールなどのアルコールなどが挙げられる。溶媒の使
用量は、１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）に対して５〜
２００倍重量の範囲が好ましい。
【００６９】反応温度は、−７０〜２００℃の範囲が好
ましく、−３０〜３０℃の範囲がより好ましい。
ましく、−３０〜３０℃の範囲がより好ましい。
【００７０】反応は、１，５−ジエン化合物（Ｖ−２）
を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液にエポキシ化
剤を添加することにより行うのが好ましい。
を溶媒と混合して所定温度とし、この溶液にエポキシ化
剤を添加することにより行うのが好ましい。
【００７１】このようにして得られた１，２−エポキシ
化合物（ＶＩ）の反応混合物からの単離・精製は通常の
有機反応において用いられる単離・精製法と同様にして
行うことができる。例えば、反応混合物を氷冷したチオ
硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ジクロロメタンなどの有機溶媒で抽出し、有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムなどで乾燥後、濃縮して
得られた粗生成物を再結晶やクロマトグラフィーなどに
よって精製する。
化合物（ＶＩ）の反応混合物からの単離・精製は通常の
有機反応において用いられる単離・精製法と同様にして
行うことができる。例えば、反応混合物を氷冷したチオ
硫酸ナトリウム水溶液にあけ、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ジクロロメタンなどの有機溶媒で抽出し、有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムなどで乾燥後、濃縮して
得られた粗生成物を再結晶やクロマトグラフィーなどに
よって精製する。
【００７２】１，２−エポキシ化合物（ＶＩ）は、例え
ば次に示したスキームにより１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ３に変換することができる。
ば次に示したスキームにより１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ３に変換することができる。
【００７３】
【化３７】
【００７４】すなわち、１，２−エポキシ化合物（Ｖ
Ｉ）を水素化アルミニウムリチウムなどで還元して一般
式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を得、該化合物の１位
と７位の水酸基をアシル基またはアルコキシカルボニル
基で保護した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）２
パラジウム（クロロホルム）などのパラジウム化合物を
作用させて、一般式（Ｘ）で示される５，７−ジエン化
合物へ変換する。得られた５，７−ジエン化合物の２１
位をヨウ素に置換した後、リチウムジイソアミル銅を作
用させ、さらに水酸基の脱保護を行うことで、一般式
（ＸＩＩＩ）で示される１α−ヒドロキシプロビタミン
Ｄ３が得られる。この１α−ヒドロキシプロビタミンＤ
３は、紫外線を照射した後、熱異性化することにより１
α−ヒドロキシビタミンＤ３に変換できる。
Ｉ）を水素化アルミニウムリチウムなどで還元して一般
式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を得、該化合物の１位
と７位の水酸基をアシル基またはアルコキシカルボニル
基で保護した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）２
パラジウム（クロロホルム）などのパラジウム化合物を
作用させて、一般式（Ｘ）で示される５，７−ジエン化
合物へ変換する。得られた５，７−ジエン化合物の２１
位をヨウ素に置換した後、リチウムジイソアミル銅を作
用させ、さらに水酸基の脱保護を行うことで、一般式
（ＸＩＩＩ）で示される１α−ヒドロキシプロビタミン
Ｄ３が得られる。この１α−ヒドロキシプロビタミンＤ
３は、紫外線を照射した後、熱異性化することにより１
α−ヒドロキシビタミンＤ３に変換できる。
【００７５】なお、本発明において原料として使用する
ステロイド化合物（ＶＩＩ）は、（７α，２０Ｓ）−７
−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエン
−２０−カルバルデヒドあるいはその２０位エピマーを
還元し、生成したヒドロキシル基を水酸基の保護基で保
護するか、または該ヒドロキシル基をスルホニル化した
後、ハロゲン化することにより製造できる。また、（７
α，２０Ｓ）−７−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ
−１，４−ジエン−２０−カルバルデヒドは、３α，７
α−ジヒドロキシ−５β−コラン酸および／またはその
塩を微生物を用いた変換反応に付すことにより製造でき
る（特許第２５２５０４９号参照）。
ステロイド化合物（ＶＩＩ）は、（７α，２０Ｓ）−７
−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエン
−２０−カルバルデヒドあるいはその２０位エピマーを
還元し、生成したヒドロキシル基を水酸基の保護基で保
護するか、または該ヒドロキシル基をスルホニル化した
後、ハロゲン化することにより製造できる。また、（７
α，２０Ｓ）−７−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ
−１，４−ジエン−２０−カルバルデヒドは、３α，７
α−ジヒドロキシ−５β−コラン酸および／またはその
塩を微生物を用いた変換反応に付すことにより製造でき
る（特許第２５２５０４９号参照）。
【００７６】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定さ
れるものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定さ
れるものではない。
【００７７】参考例１ （７α，２０Ｓ）−７−ヒドロキシ−３−オキソ−プレ
グナ−１，４−ジエン−２０−カルバルデヒド２０．０
ｇにエタノール２００ｍｌを加え、この溶液を氷冷下で
撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム０．６１ｇを数回
に分けて加え、添加終了後、氷冷下でさらに１時間撹拌
した。反応溶液を１Ｎ塩酸で中和した後、水２００ｍｌ
を加え、エタノールを減圧下に留去した。沈殿物を濾取
した後、水洗し、得られた沈殿物にトルエンを加えて共
沸脱水することにより脱水、濃縮し、（７α，２０Ｓ）
−７，２１−ジヒドロキシ−２０−メチル−プレグナ−
１，４−ジエン−３−オン１８．８ｇを得た（収率９３
％）。
グナ−１，４−ジエン−２０−カルバルデヒド２０．０
ｇにエタノール２００ｍｌを加え、この溶液を氷冷下で
撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム０．６１ｇを数回
に分けて加え、添加終了後、氷冷下でさらに１時間撹拌
した。反応溶液を１Ｎ塩酸で中和した後、水２００ｍｌ
を加え、エタノールを減圧下に留去した。沈殿物を濾取
した後、水洗し、得られた沈殿物にトルエンを加えて共
沸脱水することにより脱水、濃縮し、（７α，２０Ｓ）
−７，２１−ジヒドロキシ−２０−メチル−プレグナ−
１，４−ジエン−３−オン１８．８ｇを得た（収率９３
％）。
【００７８】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７７（ｓ，３
Ｈ），１．０５（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２
４（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．
３Ｈｚ，１Ｈ），２．７４（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．９，
３．３Ｈｚ，１．８Ｈｚ，１Ｈ），３．３７（ｄｄ，Ｊ
＝１０．２，６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．６４（ｄｄ，Ｊ
＝１０．２，３．３Ｈｚ，１Ｈ），４．０４（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），６．１４（ｍ，１Ｈ），６．２５（ｄｄ，
Ｊ＝１０．１，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ
＝１０．１Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７７（ｓ，３
Ｈ），１．０５（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），１．２
４（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．
３Ｈｚ，１Ｈ），２．７４（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．９，
３．３Ｈｚ，１．８Ｈｚ，１Ｈ），３．３７（ｄｄ，Ｊ
＝１０．２，６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．６４（ｄｄ，Ｊ
＝１０．２，３．３Ｈｚ，１Ｈ），４．０４（ｂｒ
ｓ，１Ｈ），６．１４（ｍ，１Ｈ），６．２５（ｄｄ，
Ｊ＝１０．１，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ
＝１０．１Ｈｚ，１Ｈ）
【００７９】参考例２ 参考例１の方法で得られた（７α，２０Ｓ）−７，２１
−ジヒドロキシ−２０−メチル−プレグナ−１，４−ジ
エン−３−オン１８．８ｇを塩化メチレン２００ｍｌに
溶解した後、ピリジン２２ｍｌおよびジメチルアミノピ
リジン０．５ｇを加え、氷冷下で３０分撹拌した。この
溶液にｐ−トルエンスルホニルクロリド１７．５ｇを数
回に分け加えた後、室温でさらに１２時間撹拌した。反
応混合物を氷水６５ｍｌにあけ、酢酸エチル（２５ｍｌ
＊２）で抽出した。抽出液をあわせ、冷却した１Ｎ塩酸
水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃
縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することにより、（７α，２０Ｓ）−
７−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエ
ン−２０−メタノール ４−メチルベンゼンスルホネー
ト２４．８ｇを得た（収率９１％）。
−ジヒドロキシ−２０−メチル−プレグナ−１，４−ジ
エン−３−オン１８．８ｇを塩化メチレン２００ｍｌに
溶解した後、ピリジン２２ｍｌおよびジメチルアミノピ
リジン０．５ｇを加え、氷冷下で３０分撹拌した。この
溶液にｐ−トルエンスルホニルクロリド１７．５ｇを数
回に分け加えた後、室温でさらに１２時間撹拌した。反
応混合物を氷水６５ｍｌにあけ、酢酸エチル（２５ｍｌ
＊２）で抽出した。抽出液をあわせ、冷却した１Ｎ塩酸
水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃
縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することにより、（７α，２０Ｓ）−
７−ヒドロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエ
ン−２０−メタノール ４−メチルベンゼンスルホネー
ト２４．８ｇを得た（収率９１％）。
【００８０】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７１（ｓ，３
Ｈ），０．９９（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，３Ｈ），１．２
２（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４５−
２．５０（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．０Ｈｚ，１Ｈ），
２．７３（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝１３．９，２．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．７６（ｄｄ，Ｊ＝９．４，６．４Ｈｚ，１
Ｈ），３．９６−４．０２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．０
Ｈｚ，１Ｈ），３．９９−４．０２（ｍ，１Ｈ），６．
１３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝９．
９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），
７．７７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７１（ｓ，３
Ｈ），０．９９（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，３Ｈ），１．２
２（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４５−
２．５０（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．０Ｈｚ，１Ｈ），
２．７３（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝１３．９，２．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．７６（ｄｄ，Ｊ＝９．４，６．４Ｈｚ，１
Ｈ），３．９６−４．０２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．０
Ｈｚ，１Ｈ），３．９９−４．０２（ｍ，１Ｈ），６．
１３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝９．
９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），
７．７７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ）
【００８１】参考例３ 参考例２の方法で得られた（７α，２０Ｓ）−７−ヒド
ロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエン−２０
−メタノール ４−メチルベンゼンスルホネート６０．
０ｇをアセトン１０００ｍｌに溶解した後、ヨウ化ナト
リウム６０．１ｇを加え、３時間還流した。反応混合物
を濾過した後、濾液を減圧下に濃縮した。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、（７α，２０Ｓ）−７−ヒドロキシ−２１
−ヨード−２０−メチル−プレグナ−１，４−ジエン−
３−オン（一般式（ＶＩＩ）の化合物）４２．１ｇを得
た（収率９２．５％）。
ロキシ−３−オキソ−プレグナ−１，４−ジエン−２０
−メタノール ４−メチルベンゼンスルホネート６０．
０ｇをアセトン１０００ｍｌに溶解した後、ヨウ化ナト
リウム６０．１ｇを加え、３時間還流した。反応混合物
を濾過した後、濾液を減圧下に濃縮した。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、（７α，２０Ｓ）−７−ヒドロキシ−２１
−ヨード−２０−メチル−プレグナ−１，４−ジエン−
３−オン（一般式（ＶＩＩ）の化合物）４２．１ｇを得
た（収率９２．５％）。
【００８２】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７８（ｓ，３
Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２
４（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．
０Ｈｚ，１Ｈ），２．７３（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．９，
３．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．１６（ｄｄ，Ｊ＝
９．７，５．０Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝
９．７，２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０３（ｄｄｄ，Ｊ＝
８．６，３．０，３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１５（ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２６（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０６
（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７８（ｓ，３
Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２
４（ｓ，３Ｈ），２．４９（ｄｄ，Ｊ＝１３．９，３．
０Ｈｚ，１Ｈ），２．７３（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．９，
３．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．１６（ｄｄ，Ｊ＝
９．７，５．０Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝
９．７，２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０３（ｄｄｄ，Ｊ＝
８．６，３．０，３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１５（ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２６（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０６
（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ）
【００８３】実施例１ 参考例３の方法で得られた（７α，２０Ｓ）−７−ヒド
ロキシ−２１−ヨード−２０−メチル−プレグナ−１，
４−ジエン−３−オン１５．０ｇを塩化メチレン３００
ｍｌに溶解し、アセトン３００ｍｌを加えた。この溶液
を氷冷し、酸化剤として、三酸化クロム１０ｇと濃硫酸
１１ｍｌを水５０ｍｌに溶かして調製した溶液（Jones
試薬）を反応液が橙黄色を呈するまで注意深く加えた
（添加量３３．２ｇ）。反応液をさらに１時間氷冷下で
撹拌した後、反応液の橙黄色が消えるまで反応液にイソ
プロパノールを加え（添加量２５ｍｌ）、残存する酸化
剤を分解した。混合液中の不溶物をセライトで濾過し、
濾液を減圧下で濃縮後、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、（２
０Ｓ）−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，４
−ジエン−３，７−ジオン（一般式（Ｉ）の化合物）１
０．６ｇを得た（収率７１％）。
ロキシ−２１−ヨード−２０−メチル−プレグナ−１，
４−ジエン−３−オン１５．０ｇを塩化メチレン３００
ｍｌに溶解し、アセトン３００ｍｌを加えた。この溶液
を氷冷し、酸化剤として、三酸化クロム１０ｇと濃硫酸
１１ｍｌを水５０ｍｌに溶かして調製した溶液（Jones
試薬）を反応液が橙黄色を呈するまで注意深く加えた
（添加量３３．２ｇ）。反応液をさらに１時間氷冷下で
撹拌した後、反応液の橙黄色が消えるまで反応液にイソ
プロパノールを加え（添加量２５ｍｌ）、残存する酸化
剤を分解した。混合液中の不溶物をセライトで濾過し、
濾液を減圧下で濃縮後、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、（２
０Ｓ）−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，４
−ジエン−３，７−ジオン（一般式（Ｉ）の化合物）１
０．６ｇを得た（収率７１％）。
【００８４】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７８（ｓ，３
Ｈ），１．０４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２
６（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１８（ｄｄ，Ｊ＝９．
４，４．９Ｈｚ，１Ｈ），３．１７（ｄ，Ｊ＝１３．４
Ｈｚ，１Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．０７（ｄｄ，Ｊ＝２．０，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７８（ｓ，３
Ｈ），１．０４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．２
６（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１８（ｄｄ，Ｊ＝９．
４，４．９Ｈｚ，１Ｈ），３．１７（ｄ，Ｊ＝１３．４
Ｈｚ，１Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．０７（ｄｄ，Ｊ＝２．０，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），６．２９（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ）
【００８５】実施例２ 実施例１の方法で得られた（２０Ｓ）−２１−ヨード−
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン０．６１ｇを酢酸イソプロペニル８ｍｌおよび酢酸ブ
チル８ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
０．９３ｇを加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物
を水１０ｍｌにあけ、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した。
抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより、（２０Ｓ）−７−
アセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ
−１，４，６−トリエン−３−オン（一般式（ＩＩ）の
化合物）０．５３ｇを得た（収率８０％）。
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン０．６１ｇを酢酸イソプロペニル８ｍｌおよび酢酸ブ
チル８ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
０．９３ｇを加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物
を水１０ｍｌにあけ、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した。
抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより、（２０Ｓ）−７−
アセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ
−１，４，６−トリエン−３−オン（一般式（ＩＩ）の
化合物）０．５３ｇを得た（収率８０％）。
【００８６】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．８１（ｓ，３
Ｈ），１．０４（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ），１．２
９（ｓ，３Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．２，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１７
（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．２Ｈｚ，１Ｈ），３．３１
（ｄｄ，Ｊ＝９．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．０１
（ｂｒ ｓｘ２，２Ｈ），６．２６（ｄｄ，Ｊ＝１０．
４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝１０．４
Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．８１（ｓ，３
Ｈ），１．０４（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ），１．２
９（ｓ，３Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．２，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１７
（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．２Ｈｚ，１Ｈ），３．３１
（ｄｄ，Ｊ＝９．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．０１
（ｂｒ ｓｘ２，２Ｈ），６．２６（ｄｄ，Ｊ＝１０．
４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝１０．４
Ｈｚ，１Ｈ）
【００８７】実施例３ 実施例２の方法で得られた（２０Ｓ）−７−アセチルオ
キシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，４，
６−トリエン−３−オン０．５３ｇを酢酸イソプロペニ
ル６ｍｌおよび酢酸ブチル６ｍｌに懸濁させた後、ｐ−
トルエンスルホン酸０．７４ｇを加え、還流下で１時間
加熱した。反応混合物を水１０ｍｌにあけ、酢酸エチル
１０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨ
ード−２０−メチルプレグナ−１，３，５，７−テトラ
エン（一般式（ＩＩＩ）の化合物）０．２２ｇを得た
（収率３８％）。
キシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，４，
６−トリエン−３−オン０．５３ｇを酢酸イソプロペニ
ル６ｍｌおよび酢酸ブチル６ｍｌに懸濁させた後、ｐ−
トルエンスルホン酸０．７４ｇを加え、還流下で１時間
加熱した。反応混合物を水１０ｍｌにあけ、酢酸エチル
１０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨ
ード−２０−メチルプレグナ−１，３，５，７−テトラ
エン（一般式（ＩＩＩ）の化合物）０．２２ｇを得た
（収率３８％）。
【００８８】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７５（ｓ，３
Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４
８（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．１９
（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．６，４．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．９０
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９６
（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，
１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７５（ｓ，３
Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４
８（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．１９
（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．６，４．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．９０
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９６
（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，
１Ｈ）
【００８９】実施例４ 実施例１の方法で得られた（２０Ｓ）−２１−ヨード−
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン４．０ｇを無水酢酸２０ｍｌに溶解した後、塩化アセ
チル１０ｇおよびピリジン１ｍｌを加え、撹拌しながら
３時間還流した。反応混合物を氷水１００ｍｌにあけ、
酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキ
シ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，３，
５，７−テトラエン（一般式（ＩＩＩ）の化合物）３．
５ｇを得た（収率８１％）。
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン４．０ｇを無水酢酸２０ｍｌに溶解した後、塩化アセ
チル１０ｇおよびピリジン１ｍｌを加え、撹拌しながら
３時間還流した。反応混合物を氷水１００ｍｌにあけ、
酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキ
シ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，３，
５，７−テトラエン（一般式（ＩＩＩ）の化合物）３．
５ｇを得た（収率８１％）。
【００９０】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７５（ｓ，３
Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４
８（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．１９
（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．６，４．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．９０
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９６
（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，
１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７５（ｓ，３
Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．４
８（ｓ，３Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．１９
（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．６，４．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．９０
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９６
（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，
１Ｈ）
【００９１】実施例５ 実施例１の方法で得られた（２０Ｓ）−２１−ヨード−
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン３．０ｇを酢酸イソプロペニル４０ｍｌおよび酢酸ブ
チル４０ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
４．６ｇを加え、室温で２時間撹拌し、さらに４時間還
流した。反応混合物を水１００ｍｌにあけ、酢酸エチル
１００ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮して（２０Ｓ）−３，７−
ジアセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグ
ナ−１，３，５，７−テトラエン（一般式（ＩＩＩ）の
化合物）の粗生成物４．５ｇを得た。
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン３．０ｇを酢酸イソプロペニル４０ｍｌおよび酢酸ブ
チル４０ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
４．６ｇを加え、室温で２時間撹拌し、さらに４時間還
流した。反応混合物を水１００ｍｌにあけ、酢酸エチル
１００ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮して（２０Ｓ）−３，７−
ジアセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグ
ナ−１，３，５，７−テトラエン（一般式（ＩＩＩ）の
化合物）の粗生成物４．５ｇを得た。
【００９２】実施例６ 実施例５で得られた粗（２０Ｓ）−３，７−ジアセチル
オキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，
３，５，７−テトラエン４．５ｇをテトラヒドロフラン
１００ｍｌに溶解し、この溶液に水素化ホウ素カルシウ
ムのテトラヒドロフラン溶液（約１Ｍ，１３ｍｌ）を０
℃で数回に分けて加え、その後、氷冷下で８時間撹拌し
た。反応混合物に５０％酢酸水溶液１２０ｍｌを氷冷下
に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解した後、
酢酸エチル１２０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、（３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキ
シ−３−ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレ
グナ−１，５，７−トリエン（一般式（ＩＶ−１）の化
合物）１．３ｇを得た（実施例５および６の２ステップ
での通算反応収率４０％）。
オキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−１，
３，５，７−テトラエン４．５ｇをテトラヒドロフラン
１００ｍｌに溶解し、この溶液に水素化ホウ素カルシウ
ムのテトラヒドロフラン溶液（約１Ｍ，１３ｍｌ）を０
℃で数回に分けて加え、その後、氷冷下で８時間撹拌し
た。反応混合物に５０％酢酸水溶液１２０ｍｌを氷冷下
に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解した後、
酢酸エチル１２０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、（３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキ
シ−３−ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレ
グナ−１，５，７−トリエン（一般式（ＩＶ−１）の化
合物）１．３ｇを得た（実施例５および６の２ステップ
での通算反応収率４０％）。
【００９３】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７１（ｓ，３
Ｈ），１．０６（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．０
９（ｓ，３Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｄ
ｄｄ，Ｊ＝１２．９，５．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），
３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．５Ｈｚ，１Ｈ），
３．３２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
４．２９−４．３４（ｍ，１Ｈ），５．４４（ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６７（ｂｒ ｄ，Ｊ＝９．９
Ｈｚ，１Ｈ），５．７０−５．７４（ｄｄ，Ｊ＝９．
９，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７１（ｓ，３
Ｈ），１．０６（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．０
９（ｓ，３Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．５９（ｄ
ｄｄ，Ｊ＝１２．９，５．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），
３．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．４，４．５Ｈｚ，１Ｈ），
３．３２（ｄｄ，Ｊ＝９．４，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
４．２９−４．３４（ｍ，１Ｈ），５．４４（ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６７（ｂｒ ｄ，Ｊ＝９．９
Ｈｚ，１Ｈ），５．７０−５．７４（ｄｄ，Ｊ＝９．
９，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
【００９４】実施例７ 実施例６で得られた（３β，２０Ｓ）−７−アセチルオ
キシ−３−ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプ
レグナ−１，５，７−トリエン１．３ｇをテトラヒドロ
フラン１００ｍｌに溶解し、この溶液に、水素化ホウ素
カルシウムのテトラヒドロフラン溶液（約１Ｍ，３３ｍ
ｌ）を０℃で数回に分けて加え、その後、室温まで徐々
に昇温して２４時間撹拌した。反応混合物に５０％酢酸
水溶液５０ｍｌを氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カ
ルシウムを分解した後、酢酸エチル５０ｍｌで抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、（３β，２０
Ｓ）−３，７−ジヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メ
チルプレグナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ−１）の化
合物）の２種類のジアステレオマーとして、下記の物性
を有するジアステレオマーＡ（以下、単にジアステレオ
マーＡと称する）を０．５６ｇおよび下記の物性を有す
るジアステレオマーＢ（以下、単にジアステレオマーＢ
と称する）を０．２０ｇ得た（両者を合わせた収率６４
％）。
キシ−３−ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプ
レグナ−１，５，７−トリエン１．３ｇをテトラヒドロ
フラン１００ｍｌに溶解し、この溶液に、水素化ホウ素
カルシウムのテトラヒドロフラン溶液（約１Ｍ，３３ｍ
ｌ）を０℃で数回に分けて加え、その後、室温まで徐々
に昇温して２４時間撹拌した。反応混合物に５０％酢酸
水溶液５０ｍｌを氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カ
ルシウムを分解した後、酢酸エチル５０ｍｌで抽出し
た。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、（３β，２０
Ｓ）−３，７−ジヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メ
チルプレグナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ−１）の化
合物）の２種類のジアステレオマーとして、下記の物性
を有するジアステレオマーＡ（以下、単にジアステレオ
マーＡと称する）を０．５６ｇおよび下記の物性を有す
るジアステレオマーＢ（以下、単にジアステレオマーＢ
と称する）を０．２０ｇ得た（両者を合わせた収率６４
％）。
【００９５】ジアステレオマーＡ１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７６（ｓ，３Ｈ），１．０４
（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ），１．１４（ｓ，３
Ｈ），２．２８−２．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．６，
９．９，１．５Ｈｚ，１Ｈ），２．５０（ｄｄｄ，Ｊ＝
１２．４，５．９，１．７Ｈｚ，１Ｈ），３．１８（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．４，４．５Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｄｄ
ｄ，Ｊ＝９．９，３．７，２．５，１Ｈ），４．２５
（ｄｄｄｄ，Ｊ＝９．９，５．９，２．０，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．３９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５８
（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），５．７４
（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７６（ｓ，３Ｈ），１．０４
（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，３Ｈ），１．１４（ｓ，３
Ｈ），２．２８−２．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．６，
９．９，１．５Ｈｚ，１Ｈ），２．５０（ｄｄｄ，Ｊ＝
１２．４，５．９，１．７Ｈｚ，１Ｈ），３．１８（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．４，４．５Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｄｄ
ｄ，Ｊ＝９．９，３．７，２．５，１Ｈ），４．２５
（ｄｄｄｄ，Ｊ＝９．９，５．９，２．０，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．３９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５８
（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），５．７４
（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
【００９６】ジアステレオマーＢ１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７６（ｓ，３Ｈ），１．０３
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１７（ｓ，３
Ｈ），２．６３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１．７Ｈｚ，１
Ｈ），３．１５−３．２１（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，５．
１Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，２．
５Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｂｒ ｄ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４．３２−４．３８（ｍ，１Ｈ），５．２
５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５５（ｄｄ，Ｊ＝９．９，
１．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，
１．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＴＭＳ，ｐｐｍ）δ：０．７６（ｓ，３Ｈ），１．０３
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１７（ｓ，３
Ｈ），２．６３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１．７Ｈｚ，１
Ｈ），３．１５−３．２１（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，５．
１Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，２．
５Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｂｒ ｄ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４．３２−４．３８（ｍ，１Ｈ），５．２
５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５５（ｄｄ，Ｊ＝９．９，
１．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，
１．７Ｈｚ，１Ｈ）
【００９７】実施例８ 実施例１の方法で得られた（２０Ｓ）−２１−ヨード−
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン１．０ｇを酢酸イソプロペニル１３ｍｌおよび酢酸ブ
チル１３ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
１．５ｇを加え、３時間還流した。反応混合物を水２５
ｍｌにあけ、酢酸エチル２５ｍｌで抽出した。抽出液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨード
−２０−メチルプレグナ−１，３，５，７−テトラエン
の粗生成物１．５ｇを得た。得られた粗（２０Ｓ）−
３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチ
ルプレグナ−１，３，５，７−テトラエンをエタノール
８ｍｌとテトラヒドロフラン８ｍｌの混合溶媒に溶解さ
せ、この溶液に水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロ
フラン溶液（約１Ｍ，７ｍｌ）を０℃で数回に分けて加
え、その後、氷冷下で１７時間撹拌した。反応液を室温
とし、さらに水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロフ
ラン溶液（約１Ｍ，３ｍｌ）を加えた後、室温で６時間
撹拌した。この反応混合物に５０％酢酸水溶液５０ｍｌ
を氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解
した後、酢酸エチル５０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、（３β，２０Ｓ）−３，７−ジ
ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−
１，５−ジエン（一般式（Ｖ−１）の化合物）の２種の
ジアステレオマーを得た（ジアステレオマーＡ：０．４
ｇ、ジアステレオマーＢ：０．１ｇ、両者を合わせた収
率５０％）。
２０−メチルプレグナ−１，４−ジエン−３，７−ジオ
ン１．０ｇを酢酸イソプロペニル１３ｍｌおよび酢酸ブ
チル１３ｍｌに懸濁させた後、ｐ−トルエンスルホン酸
１．５ｇを加え、３時間還流した。反応混合物を水２５
ｍｌにあけ、酢酸エチル２５ｍｌで抽出した。抽出液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
（２０Ｓ）−３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨード
−２０−メチルプレグナ−１，３，５，７−テトラエン
の粗生成物１．５ｇを得た。得られた粗（２０Ｓ）−
３，７−ジアセチルオキシ−２１−ヨード−２０−メチ
ルプレグナ−１，３，５，７−テトラエンをエタノール
８ｍｌとテトラヒドロフラン８ｍｌの混合溶媒に溶解さ
せ、この溶液に水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロ
フラン溶液（約１Ｍ，７ｍｌ）を０℃で数回に分けて加
え、その後、氷冷下で１７時間撹拌した。反応液を室温
とし、さらに水素化ホウ素カルシウムのテトラヒドロフ
ラン溶液（約１Ｍ，３ｍｌ）を加えた後、室温で６時間
撹拌した。この反応混合物に５０％酢酸水溶液５０ｍｌ
を氷冷下に加えて過剰の水素化ホウ素カルシウムを分解
した後、酢酸エチル５０ｍｌで抽出した。抽出液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、（３β，２０Ｓ）−３，７−ジ
ヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−
１，５−ジエン（一般式（Ｖ−１）の化合物）の２種の
ジアステレオマーを得た（ジアステレオマーＡ：０．４
ｇ、ジアステレオマーＢ：０．１ｇ、両者を合わせた収
率５０％）。
【００９８】実施例９ 実施例７の方法で得られた（３β，２０Ｓ）−３，７−
ジヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−
１，５−ジエンのジアステレオマーＡ３．３ｇをジメチ
ルホルムアミド３０ｍｌに溶解させ、イミダゾール１．
１ｇと塩化リチウム３．１ｇを加えた。この溶液を氷冷
してｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．４ｇを加え
た後、室温に戻して２時間撹拌した。反応混合物を冷却
した１Ｎ塩酸水溶液３０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍ
ｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
（３β，２０Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２１−クロロ−７−ヒドロキシ−２０−メチルプレ
グナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ）の化合物）１．６
ｇを得た（収率４６％）。
ジヒドロキシ−２１−ヨード−２０−メチルプレグナ−
１，５−ジエンのジアステレオマーＡ３．３ｇをジメチ
ルホルムアミド３０ｍｌに溶解させ、イミダゾール１．
１ｇと塩化リチウム３．１ｇを加えた。この溶液を氷冷
してｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．４ｇを加え
た後、室温に戻して２時間撹拌した。反応混合物を冷却
した１Ｎ塩酸水溶液３０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍ
ｌで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
（３β，２０Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−２１−クロロ−７−ヒドロキシ−２０−メチルプレ
グナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ）の化合物）１．６
ｇを得た（収率４６％）。
【００９９】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）δ：０．０８５（ｓ，６Ｈ），
０．７３（ｓ，３Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．１
１（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１３（ｓ，３
Ｈ），２．２９−２．４３（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５９（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，２．５Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｂ
ｒ ｄｄ，Ｊ＝６．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），４．２３
（ｄｄｄ，Ｊ＝８．９，６．９，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
５．３６（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５０（ｄ，Ｊ＝１
０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６７（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，
１．７Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）δ：０．０８５（ｓ，６Ｈ），
０．７３（ｓ，３Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．１
１（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ），１．１３（ｓ，３
Ｈ），２．２９−２．４３（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５９（ｄ
ｄ，Ｊ＝１０．４，２．５Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｂ
ｒ ｄｄ，Ｊ＝６．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），４．２３
（ｄｄｄ，Ｊ＝８．９，６．９，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
５．３６（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．５０（ｄ，Ｊ＝１
０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６７（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，
１．７Ｈｚ，１Ｈ）
【０１００】実施例１０ 実施例９の方法で得られた（３β，２０Ｓ）−３−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−７−ヒド
ロキシ−２０−メチルプレグナ−１，５−ジエン２．２
ｇをピリジン１０ｍｌおよび無水酢酸２．３ｍｌに溶解
させて氷冷し、ジメチルアミノピリジン０．６ｇを加
え、その後、室温に戻して１２時間撹拌した。反応液を
酢酸エチル１０ｍｌで希釈した後、３Ｎ塩酸水溶液１０
ｍｌにあけた。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
（３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−２０−メチル
プレグナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ−２）の化合
物）２．１ｇを得た（収率８６％）。
ブチルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−７−ヒド
ロキシ−２０−メチルプレグナ−１，５−ジエン２．２
ｇをピリジン１０ｍｌおよび無水酢酸２．３ｍｌに溶解
させて氷冷し、ジメチルアミノピリジン０．６ｇを加
え、その後、室温に戻して１２時間撹拌した。反応液を
酢酸エチル１０ｍｌで希釈した後、３Ｎ塩酸水溶液１０
ｍｌにあけた。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、
（３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−２０−メチル
プレグナ−１，５−ジエン（一般式（Ｖ−２）の化合
物）２．１ｇを得た（収率８６％）。
【０１０１】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）δ：０．０７１（ｓ，３Ｈ），
０．０７６（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ），０．
８９（ｓ，９Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３
Ｈ），１．１５（ｓ，３Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），
２．２７−２．４１（ｍ，２Ｈ），３．４１（ｄｄ，Ｊ
＝１０．６，６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ
＝１０．６，２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．２２（ｄｄｄ，
Ｊ＝８．９，６．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０３
（ｄｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５，１．５Ｈｚ，１Ｈ），
５．３２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．５１
（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６５（ｄｄ，Ｊ
＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）δ：０．０７１（ｓ，３Ｈ），
０．０７６（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ），０．
８９（ｓ，９Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３
Ｈ），１．１５（ｓ，３Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），
２．２７−２．４１（ｍ，２Ｈ），３．４１（ｄｄ，Ｊ
＝１０．６，６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ
＝１０．６，２．７Ｈｚ，１Ｈ），４．２２（ｄｄｄ，
Ｊ＝８．９，６．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０３
（ｄｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５，１．５Ｈｚ，１Ｈ），
５．３２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．５１
（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６５（ｄｄ，Ｊ
＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ）
【０１０２】実施例１１ 実施例１０で得られた（３β，２０Ｓ）−７−アセチル
オキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１−
クロロ−２０−メチルプレグナ−１，５−ジエン１．３
ｇを塩化メチレン５０ｍｌに溶解して氷冷し、ｍ−クロ
ロ過安息香酸０．９ｇを加えた後、室温で４８時間撹拌
した。この反応混合物を冷却した１０％チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液５０ｍｌにあけ、酢酸エチル５０ｍｌで抽出
した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、（１α，２
α，３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−１，２−エ
ポキシ−２０−メチルプレグナ−５−エン（一般式（Ｖ
Ｉ）の化合物）、（１β，２β，３β，２０Ｓ）−７−
アセチルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−２１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレ
グナ−５−エン（一般式（ＶＩ）の化合物）および副生
成物として（３β，５α，６α，２０Ｓ）−７−アセチ
ルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１
−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ−
５−エン、（３β，５β，６β，２０Ｓ）−７−アセチ
ルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１
−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ−
５−エンの４種類の化合物の混合物（モル比で４３：
９：１９：２９）０．５２ｇを得た（（３β，２０Ｓ）
−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチ
ルプレグナ−５−エンの収率２０％）。
オキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１−
クロロ−２０−メチルプレグナ−１，５−ジエン１．３
ｇを塩化メチレン５０ｍｌに溶解して氷冷し、ｍ−クロ
ロ過安息香酸０．９ｇを加えた後、室温で４８時間撹拌
した。この反応混合物を冷却した１０％チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液５０ｍｌにあけ、酢酸エチル５０ｍｌで抽出
した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下に濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより、（１α，２
α，３β，２０Ｓ）−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−２１−クロロ−１，２−エ
ポキシ−２０−メチルプレグナ−５−エン（一般式（Ｖ
Ｉ）の化合物）、（１β，２β，３β，２０Ｓ）−７−
アセチルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−２１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレ
グナ−５−エン（一般式（ＶＩ）の化合物）および副生
成物として（３β，５α，６α，２０Ｓ）−７−アセチ
ルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１
−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ−
５−エン、（３β，５β，６β，２０Ｓ）−７−アセチ
ルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２１
−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ−
５−エンの４種類の化合物の混合物（モル比で４３：
９：１９：２９）０．５２ｇを得た（（３β，２０Ｓ）
−７−アセチルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−２１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチ
ルプレグナ−５−エンの収率２０％）。
【０１０３】（１α，２α，３β，２０Ｓ）−７−アセ
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０２（ｓ，３Ｈ），３．０３（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．１３−３．１６（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．３４−３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−
３．６１（ｍ，１Ｈ），３．８３（ｄｄ，Ｊ＝９．４，
７．４Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ，１Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０２（ｓ，３Ｈ），３．０３（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．１３−３．１６（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１
Ｈ），３．３４−３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−
３．６１（ｍ，１Ｈ），３．８３（ｄｄ，Ｊ＝９．４，
７．４Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ，１Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）
【０１０４】（１β，２β，３β，２０Ｓ）−７−アセ
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．７６（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０３（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１６（１Ｈ），３．
１３−３．１６（１Ｈ），３．３４−３．４４（ｍ，１
Ｈ），３．５５−３．６１（ｍ，１Ｈ），３．８８−
３．９４（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．９，５．６，１．９，１
Ｈ），４．９６−４．９９（ｍ，１Ｈ），５．１９
（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−１，２−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．７６（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０３（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１６（１Ｈ），３．
１３−３．１６（１Ｈ），３．３４−３．４４（ｍ，１
Ｈ），３．５５−３．６１（ｍ，１Ｈ），３．８８−
３．９４（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．９，５．６，１．９，１
Ｈ），４．９６−４．９９（ｍ，１Ｈ），５．１９
（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）
【０１０５】（３β，５α，６α，２０Ｓ）−７−アセ
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０７（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｓ，１Ｈ），３．３４−
３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−３．６１（ｍ，１
Ｈ），４．４９−４．５５（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝９．４，
６．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，
１Ｈ），５．５９（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．７９（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０７（ｓ，３Ｈ），２．９０（ｓ，１Ｈ），３．３４−
３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−３．６１（ｍ，１
Ｈ），４．４９−４．５５（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝９．４，
６．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，
１Ｈ），５．５９（ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．７９（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），
【０１０６】（３β，５β，６β，２０Ｓ）−７−アセ
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．６８（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０９（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１６（１Ｈ），３．
３４−３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−３．６１
（ｍ，１Ｈ），４．３４−４．４０（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝
１０．４，５．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｄｄ，Ｊ＝
９．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．５７（ｄ，Ｊ＝１
０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６８（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，
２．０Ｈｚ，１Ｈ）
チルオキシ−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
１−クロロ−５，６−エポキシ−２０−メチルプレグナ
−５−エン１ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，
ｐｐｍ）δ：０．０４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０
４−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．６８（ｓ，３Ｈ），
０．８６−０．９４（ｓ，９Ｈ），１．０７−１．１７
（ｄ，３Ｈ），１．１７−１．２８（ｓ，３Ｈ），２．
０９（ｓ，３Ｈ），３．１３−３．１６（１Ｈ），３．
３４−３．４４（ｍ，１Ｈ），３．５５−３．６１
（ｍ，１Ｈ），４．３４−４．４０（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝
１０．４，５．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｄｄ，Ｊ＝
９．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．５７（ｄ，Ｊ＝１
０．４Ｈｚ，１Ｈ），５．６８（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，
２．０Ｈｚ，１Ｈ）
【０１０７】
【発明の効果】本発明によれば、種々のビタミンＤ誘導
体を製造するための中間体として有用なステロイド誘導
体およびその製造方法が提供される。
体を製造するための中間体として有用なステロイド誘導
体およびその製造方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C091 AA01 BB03 BB04 BB05 BB06 BB08 BB20 CC01 DD01 EE03 EE04 EE07 FF01 GG02 GG13 HH01 JJ03 KK01 LL01 MM03 NN01 PA02 PA05 PB03 QQ07 QQ15 RR08
Claims (12)
- 【請求項１】 一般式（ＶＩＩ） 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示されるステロイド化合物の７位を
酸化することにより一般式（Ｉ） 【化２】 （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）で示される
３，７−ジオン化合物を得、得られた３，７−ジオン化
合物の７位をエノールエステル化することにより一般式
（ＩＩ） 【化３】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ１はアシル基
を表す。）で示される１，４，６−トリエン−３−オン
化合物を得、得られた１，４，６−トリエン−３−オン
化合物の３位をエノールエステル化することにより一般
式（ＩＩＩ） 【化４】 （式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおりであり、Ｒ２
はアシル基を表す。）で示される１，３，５，７−テト
ラエン化合物を得、得られた１，３，５，７−テトラエ
ン化合物の３位を還元することにより一般式（ＩＶ−
１） 【化５】 （式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおりである。）で
示される１，５，７−トリエン化合物を得、得られた
１，５，７−トリエン化合物の７位を還元することによ
り一般式（Ｖ−１） 【化６】 （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）で示される
３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合物を得、得
られた３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合物の
３位と７位の水酸基を保護して一般式（Ｖ−２） 【化７】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ５およびＲ６
は水酸基の保護基を表す。）で示される１，５−ジエン
化合物を得、得られた１，５−ジエン化合物の１，２位
の二重結合をエポキシ化することを特徴とする一般式
（ＶＩ） 【化８】 （式中、Ｘ、Ｒ５およびＲ６は前記定義のとおりであ
る。）で示される１，２−エポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｖ−１） 【化９】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示される３，７−ジヒドロキシ−
１，５−ジエン化合物の３位と７位の水酸基を保護して
一般式（Ｖ−２） 【化１０】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ５およびＲ６
は水酸基の保護基を表す。）で示される１，５−ジエン
化合物を得、得られた１，５−ジエン化合物の１，２位
の二重結合をエポキシ化することを特徴とする一般式
（ＶＩ） 【化１１】 （式中、Ｘ、Ｒ５およびＲ６は前記定義のとおりであ
る。）で示される１，２−エポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｖ） 【化１２】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ３およびＲ４は水素原子または水酸基
の保護基を表す。）で示される１，５−ジエン化合物。 - 【請求項４】 一般式（ＩＶ−１） 【化１３】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１はアシル基を表す。）で示される
１，５，７−トリエン化合物の７位を還元することを特
徴とする一般式（Ｖ−１） 【化１４】 （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）で示される
３，７−ジヒドロキシ−１，５−ジエン化合物の製造方
法。 - 【請求項５】 一般式（ＩＶ） 【化１５】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１はアシル基を表し、Ｒ３は水素原子
または水酸基の保護基を表す。）で示される１，５，７
−トリエン化合物。 - 【請求項６】 一般式（ＩＩＩ） 【化１６】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１およびＲ２はアシル基を表す。）で
示される１，３，５，７−テトラエン化合物の３位を還
元することを特徴とする一般式（ＩＶ−１） 【化１７】 （式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおりである。）で
示される１，５，７−トリエン化合物の製造方法。 - 【請求項７】 一般式（ＩＩＩ） 【化１８】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１およびＲ２はアシル基を表す。）で
示される１，３，５，７−テトラエン化合物。 - 【請求項８】 一般式（ＩＩ） 【化１９】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１はアシル基を表す。）で示される
１，４，６−トリエン−３−オン化合物の３位をエノー
ルエステル化することを特徴とする一般式（ＩＩＩ） 【化２０】 （式中、ＸおよびＲ１は前記定義のとおりであり、Ｒ２
はアシル基を表す。）で示される１，３，５，７−テト
ラエン化合物の製造方法。 - 【請求項９】 一般式（ＩＩ） 【化２１】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表し、Ｒ１はアシル基を表す。）で示される
１，４，６−トリエン−３−オン化合物。 - 【請求項１０】 一般式（Ｉ） 【化２２】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示される３，７−ジオン化合物の７
位をエノールエステル化することを特徴とする一般式
（ＩＩ） 【化２３】 （式中、Ｘは前記定義のとおりであり、Ｒ１はアシル基
を表す。）で示される１，４，６−トリエン−３−オン
化合物の製造方法。 - 【請求項１１】 一般式（Ｉ） 【化２４】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示される３，７−ジオン化合物。 - 【請求項１２】 一般式（ＶＩＩ） 【化２５】 （式中、Ｘはハロゲン原子または保護されていてもよい
水酸基を表す。）で示されるステロイド化合物の７位を
酸化することを特徴とする一般式（Ｉ） 【化２６】 （式中、Ｘは前記定義のとおりである。）で示される
３，７−ジオン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11161207A JP2000351796A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11161207A JP2000351796A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000351796A true JP2000351796A (ja) | 2000-12-19 |
Family
ID=15730646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11161207A Pending JP2000351796A (ja) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | ステロイド誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000351796A (ja) |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP11161207A patent/JP2000351796A/ja active Pending
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