JP2000344784A - シラシクロブタン化合物、その製造法及びそれから生成される重合体 - Google Patents
シラシクロブタン化合物、その製造法及びそれから生成される重合体Info
- Publication number
- JP2000344784A JP2000344784A JP2000120257A JP2000120257A JP2000344784A JP 2000344784 A JP2000344784 A JP 2000344784A JP 2000120257 A JP2000120257 A JP 2000120257A JP 2000120257 A JP2000120257 A JP 2000120257A JP 2000344784 A JP2000344784 A JP 2000344784A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silacyclobutane
- compound
- formula
- hydrocarbon group
- triorganosilyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 118
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 20
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 112
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 40
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 34
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 31
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 29
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 84
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- UJCLFVWIHMQGJN-UHFFFAOYSA-N [Si]C=CCl Chemical compound [Si]C=CCl UJCLFVWIHMQGJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 12
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 12
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 abstract description 6
- JRGHZKJPOKLFAF-UHFFFAOYSA-N 2-[1,1-dichloro-2-(2,2-dimethylpropyl)-3-methylsiletan-3-yl]ethynyl-trimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)CC1C(C)(C#C[Si](C)(C)C)C[Si]1(Cl)Cl JRGHZKJPOKLFAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000005386 organosiloxy group Chemical group 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 75
- -1 silicon dichloro-substituted 3-vinyl-1-silacyclobutanes Chemical class 0.000 description 73
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 230000008859 change Effects 0.000 description 25
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 20
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical group [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 11
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 10
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- OQMDGUAMLGEBEW-UHFFFAOYSA-N 1-chlorosiletane Chemical compound Cl[SiH]1CCC1 OQMDGUAMLGEBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 5
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-en-3-yne Chemical group CC(=C)C#C BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001345 alkine derivatives Chemical group 0.000 description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 3
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 3
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- IWGBARKYCMMYGQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2-(2,2-dimethylpropyl)-3-methyl-3-(2-phenylethynyl)siletane Chemical compound C1[Si](Cl)(Cl)C(CC(C)(C)C)C1(C)C#CC1=CC=CC=C1 IWGBARKYCMMYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PASYEMKYRSIVTP-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorosiletane Chemical class Cl[Si]1(Cl)CCC1 PASYEMKYRSIVTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEOWUDKONKUYAB-UHFFFAOYSA-N 3-but-1-ynyl-1,1-dichloro-2-(2,2-dimethylpropyl)-3-methylsiletane Chemical compound CCC#CC1(C)C[Si](Cl)(Cl)C1CC(C)(C)C ZEOWUDKONKUYAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical class ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006621 Wurtz reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000000451 chemical ionisation Methods 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005828 desilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001979 organolithium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical group 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUDADSWTYMSWAI-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2-(2,2-dimethylpropyl)-4-ethyl-3-prop-1-en-2-yl-2h-silete Chemical compound CCC1=C(C(C)=C)C(CC(C)(C)C)[Si]1(Cl)Cl QUDADSWTYMSWAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZGYKOAJCUHAKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylsilane Chemical class [SiH3]C=CCl WZGYKOAJCUHAKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- LLNIYFUFJFOZDS-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-phenylbut-3-en-2-ol Chemical compound CC(=C)C(O)CC1=CC=CC=C1 LLNIYFUFJFOZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000191368 Chlorobi Species 0.000 description 1
- JZUFKLXOESDKRF-UHFFFAOYSA-N Chlorothiazide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC2=C1NCNS2(=O)=O JZUFKLXOESDKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical group [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 238000006085 Schmidt reaction Methods 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003965 capillary gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KFCOFSWVVHVGAU-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-bis(trimethylsilyloxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](Cl)(C=C)O[Si](C)(C)C KFCOFSWVVHVGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 238000000484 continuous-wave nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QWRDZADJOIJTGA-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](Cl)(Cl)C=C QWRDZADJOIJTGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- DTPQZKZONQKKSU-UHFFFAOYSA-N silver azanide silver Chemical compound [NH2-].[Ag].[Ag].[Ag+] DTPQZKZONQKKSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 新規なシラシクロブタン化合物、その製造法
及びそれから得られる重合体を提供することである。 【解決手段】 次式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有するシラシクロブタン化合物。
及びそれから得られる重合体を提供することである。 【解決手段】 次式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有するシラシクロブタン化合物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、環C−3の位置に置換
又は非置換エテニル基が結合しているシラシクロブタン
化合物を提供する。本発明は、シラシクロブタン化合
物、少くとも1つのシラシクロブタン単位を含有するシ
ラン重合体及び少くとも1つのシラシクロブタン単位を
含有するシロキサン重合体の製造法も提供する。
又は非置換エテニル基が結合しているシラシクロブタン
化合物を提供する。本発明は、シラシクロブタン化合
物、少くとも1つのシラシクロブタン単位を含有するシ
ラン重合体及び少くとも1つのシラシクロブタン単位を
含有するシロキサン重合体の製造法も提供する。
【0002】
【従来の技術】シラシクロブタン、その製造法及びシラ
シクロブタン単位を含有する重合体は技術的に既知であ
る。例えば、米国特許第4、985、565号は、式
シクロブタン単位を含有する重合体は技術的に既知であ
る。例えば、米国特許第4、985、565号は、式
【化5】 (式中のR′は一価の置換又は非置換炭化水素基又はY
であり、R″及びR′′′は別々に水素又は一価の置換
又は非置換炭化水素基であり、Yはシラシクロブタンの
ケイ素原子に窒素又は酸素原子を結合している一価の基
であり、xは0〜3である)を有するシラシクロブタン
を開示している。
であり、R″及びR′′′は別々に水素又は一価の置換
又は非置換炭化水素基であり、Yはシラシクロブタンの
ケイ素原子に窒素又は酸素原子を結合している一価の基
であり、xは0〜3である)を有するシラシクロブタン
を開示している。
【0003】米国特許第5、001、187号は、式H
O(Ra 2SiO)mHを有するポリジオルガノシロキ
サンオリゴマー及び式
O(Ra 2SiO)mHを有するポリジオルガノシロキ
サンオリゴマー及び式
【化6】 (式中のYはオリゴマーのSiOH基と反応性の基又は
原子であり;Raは炭素原子数が1〜6の一価の炭化水
素又は置換炭化水素基であり;Rb及びRcは水素、炭
化水素又は置換炭化水素基であり;mは3〜500であ
る)。
原子であり;Raは炭素原子数が1〜6の一価の炭化水
素又は置換炭化水素基であり;Rb及びRcは水素、炭
化水素又は置換炭化水素基であり;mは3〜500であ
る)。
【0004】オーナ(Aunar)らは、等モル量のト
リロロビニルシランとt−ブチルリチウム及び過剰の
1、3−ブタジエンを反応させることによるシリコンジ
クロロ置換3−ビニル−1−シラシクロブタンの合成を
開示している(Oranometallics 199
3、12(10)、4123−4134を参照)。
リロロビニルシランとt−ブチルリチウム及び過剰の
1、3−ブタジエンを反応させることによるシリコンジ
クロロ置換3−ビニル−1−シラシクロブタンの合成を
開示している(Oranometallics 199
3、12(10)、4123−4134を参照)。
【0005】オーナ(Auner)らの英国特許第2、
326、417号は、シラシクロブタン化合物及びシラ
シクロブタン及び/又はシラシクロブタン単位を含有す
るシロキサン重合体を開示している。そのシラシクロブ
タン化合物は、式
326、417号は、シラシクロブタン化合物及びシラ
シクロブタン及び/又はシラシクロブタン単位を含有す
るシロキサン重合体を開示している。そのシラシクロブ
タン化合物は、式
【化7】 (式中のR1,R2,R3,R4,及びR5は、別々に
炭化水素基又は水素であり;R6は炭素原子数が少くと
も4のアルキルであり;Xは加水分解性基であり;R8
はR1又はXである)。Xの例はハロゲン及びヒドロカ
ルボノオキシを含む。英国特許第2、326、417号
は、R1及びR4はメチル基又はビニル基が望ましく、
そのシロキサン重合体は優れた低温耐性を有することを
教示している。
炭化水素基又は水素であり;R6は炭素原子数が少くと
も4のアルキルであり;Xは加水分解性基であり;R8
はR1又はXである)。Xの例はハロゲン及びヒドロカ
ルボノオキシを含む。英国特許第2、326、417号
は、R1及びR4はメチル基又はビニル基が望ましく、
そのシロキサン重合体は優れた低温耐性を有することを
教示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記の引用した文献は
種々のシラシクロブタン化合物を開示しているけれど
も、これらの文献はいずれも、本発明の環C−3の位置
に置換又は非置換エテニル基が結合しているシラシクロ
ブタン化合物、そのシラシクロブタン化合物、本発明の
シラン重合体又はシロキサン重合体の製造法を教示して
いない。
種々のシラシクロブタン化合物を開示しているけれど
も、これらの文献はいずれも、本発明の環C−3の位置
に置換又は非置換エテニル基が結合しているシラシクロ
ブタン化合物、そのシラシクロブタン化合物、本発明の
シラン重合体又はシロキサン重合体の製造法を教示して
いない。
【0007】我々は、適当に置換したクロロビニルシラ
ンと共役エニンとの混合物を、t−ブチルリチウムで処
理することによって、環C−3の位置に置換又は非置換
エテニル基を結合しているシラシクロブタン化合物が生
成することを発見した。
ンと共役エニンとの混合物を、t−ブチルリチウムで処
理することによって、環C−3の位置に置換又は非置換
エテニル基を結合しているシラシクロブタン化合物が生
成することを発見した。
【0008】
【課題を解決するための手段】特に、本発明は、式
【化8】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有することを特徴とするシラシクロブ
タン化合物に関する。
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有することを特徴とするシラシクロブ
タン化合物に関する。
【0009】また、本発明は、式
【化9】R1R2ClSCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法に関する。
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法に関する。
【0010】さらに本発明は、式
【化10】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体に関する。
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体に関する。
【0011】さらに本発明は、式
【化11】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有することを特徴とするシロキサン重合体
に関する。
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有することを特徴とするシロキサン重合体
に関する。
【0012】本発明のシラシクロブタン化合物は、高い
熱安定性を示す。実際に、そのシラシクロブタン化合物
は、空気中で100℃までの温度に分解することなく加
熱することができる。
熱安定性を示す。実際に、そのシラシクロブタン化合物
は、空気中で100℃までの温度に分解することなく加
熱することができる。
【0013】本発明のシラシクロブタン化合物の製造法
は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法は、
出発の共役エニンにおける置換エテニル基がシラシクロ
ブタン化合物の環C−3位置に結合している単一のレギ
オ異性体を与える。置換エテニル基を環C−2位置に結
合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検出さ
れない。その上、その反応は、容易に入手できる出発材
料を使用して1つの合成工程で進行する。
は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法は、
出発の共役エニンにおける置換エテニル基がシラシクロ
ブタン化合物の環C−3位置に結合している単一のレギ
オ異性体を与える。置換エテニル基を環C−2位置に結
合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検出さ
れない。その上、その反応は、容易に入手できる出発材
料を使用して1つの合成工程で進行する。
【0014】本発明のシラン及びシロキサン重合体は、
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エテニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエテ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素を含有する化合物と反応性であ
る。
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エテニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエテ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素を含有する化合物と反応性であ
る。
【0015】本発明のシラシクロブタン化合物は、ホモ
ポリマー及び共重合体を含むシラン及びシロキサン重合
体の製造に特に有用である。少くとも1つのクロロ基を
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、シラン重合体の製造及びシリカ及びガラス
の表面のシリル化に有用である。少くとも1つのクロロ
基、トリオルガノシロキシ基又はオルガノオキシ基を環
のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタン
化合物は、シロキサン重合体の製造及びシロキサン重合
体及びシロキサン樹脂の末端封鎖に有用である。
ポリマー及び共重合体を含むシラン及びシロキサン重合
体の製造に特に有用である。少くとも1つのクロロ基を
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、シラン重合体の製造及びシリカ及びガラス
の表面のシリル化に有用である。少くとも1つのクロロ
基、トリオルガノシロキシ基又はオルガノオキシ基を環
のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタン
化合物は、シロキサン重合体の製造及びシロキサン重合
体及びシロキサン樹脂の末端封鎖に有用である。
【0016】置換又は非置換エテニル基を環のケイ素原
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシラシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシラシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
【0017】本発明のシロキサン重合体は、変圧器用流
体及びブレーキ用流体のような低温にさらされる組成物
中の成分として有用である。本発明のシロキサン重合体
は、さらに有機水素シロキサン架橋剤を含むヒドロシリ
ル化硬化性シリコーン組成物の製造にも有用である。
体及びブレーキ用流体のような低温にさらされる組成物
中の成分として有用である。本発明のシロキサン重合体
は、さらに有機水素シロキサン架橋剤を含むヒドロシリ
ル化硬化性シリコーン組成物の製造にも有用である。
【0018】本発明のこれら及び他の特徴、側面及び利
点は、次の記載及び請求項を参照することによってさら
に良く理解されるであろう。
点は、次の記載及び請求項を参照することによってさら
に良く理解されるであろう。
【0019】ここでの用語「置換又は非置換エテニル
基」は、式−C=CR3(式中のR3は以下に定義され
ている)を有する基を意味する。
基」は、式−C=CR3(式中のR3は以下に定義され
ている)を有する基を意味する。
【0020】本発明によるシラシクロブタン化合物は、
式
式
【化12】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有する。
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有する。
【0021】R1及びR2によって表される一価の炭化
水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、望ましくは1
〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子
を有する。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非
環式炭化水素基は分枝又は非分枝構造をもち得る。一価
の炭化水素基は、限定ではないが、メチル、エチル、プ
ロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピ
ル、1−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチ
ルブチル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチ
ルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及び
オクタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロ
ペンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルの
ようなシクロアルキル;フェニル及びナフチルのような
アリール;トリル及びキシリルのようなアルカリール;
ベンジル及びフェネチルのようなアラルキル;ビニル、
アリル及びプロペニルのようなアルケニル;スチリル及
びチナミルのようなアリールアルケニル;及びエテニル
及びプロピニルのようなアルキニルを含む。好適な一価
の炭化水素基の例は、メチル、プロピル、ブチル及びフ
ェニルを含む。
水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、望ましくは1
〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子
を有する。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非
環式炭化水素基は分枝又は非分枝構造をもち得る。一価
の炭化水素基は、限定ではないが、メチル、エチル、プ
ロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピ
ル、1−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチ
ルブチル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチ
ルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及び
オクタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロ
ペンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルの
ようなシクロアルキル;フェニル及びナフチルのような
アリール;トリル及びキシリルのようなアルカリール;
ベンジル及びフェネチルのようなアラルキル;ビニル、
アリル及びプロペニルのようなアルケニル;スチリル及
びチナミルのようなアリールアルケニル;及びエテニル
及びプロピニルのようなアルキニルを含む。好適な一価
の炭化水素基の例は、メチル、プロピル、ブチル及びフ
ェニルを含む。
【0022】R1及びR2によって表されるトリオルガ
ノシロキシ基は、式R3SiO−を有する(式中の各R
は、それぞれ前に定義し、かつ好適な実施態様を含み例
示した一価の炭化水素基である)。望ましいトリオルガ
ノシロキシ基の例は、トリメチルシロキシ、トリエチル
シロキシ、ジメチルフェニルシロキシ及びジフェニルメ
チルシロキシを含む。
ノシロキシ基は、式R3SiO−を有する(式中の各R
は、それぞれ前に定義し、かつ好適な実施態様を含み例
示した一価の炭化水素基である)。望ましいトリオルガ
ノシロキシ基の例は、トリメチルシロキシ、トリエチル
シロキシ、ジメチルフェニルシロキシ及びジフェニルメ
チルシロキシを含む。
【0023】R1及びR2によって表されるオルガノオ
キシ基は、式RO−(式中の各Rは、それぞれ前に定義
し、かつ好適な実施態様を含み例示した一価の炭化水素
基である)を有する。望ましいオルガノオキシ基はメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ及びフェノキシ
を含む。
キシ基は、式RO−(式中の各Rは、それぞれ前に定義
し、かつ好適な実施態様を含み例示した一価の炭化水素
基である)を有する。望ましいオルガノオキシ基はメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ及びフェノキシ
を含む。
【0024】R1、R2及びR3によって表されるトリ
オルガノシリル基は、式R3Si−(式中の各Rは、そ
れぞれ前に定義し、かつ好適な実施態様を含み例示した
一価の炭化水素基である)を有する。望ましいトリオル
ガノシリル基は、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル及びジフェニルメチルシリ
ルを含む。R3によって表される一価の炭化水素基は共
役脂肪族不飽和を含まない。ここでの用語「共役脂肪族
不飽和を含まない」は、一価の炭化水素基がシラシクロ
ブタン化合物の環のC−3の位置に結合した脂肪族の炭
素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合に共役した炭
素−炭素三重結合を含有しないことを意味する。これら
の一価の炭化水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、
好適には1〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5
の炭素原子を有する。少くとも3つの炭素原子を含有す
る一価の非環式炭化水素基は、分枝又は非分枝構造を有
しうる。共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化水素基
は、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブ
チル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1、
1−ジメチルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、1
−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチルプロ
ピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及びオ
クタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロペ
ンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルのよ
うなシクロアルキル;フェニル、ナフチル、トリル及び
キシリルのようなアリール;ベンジル及びフェネチルの
ようなアラルキル;アリル及び2−ブテニルのようなア
ルケニル;シナミルのようなアリールアルケニル;及び
2−プロピニルのようなアルキニルを含む。共役脂肪族
不飽和を含まない好適な一価の炭化水素基の例は、メチ
ル、プロピル、ブチル及びフェニルを含む。R3によっ
て表される共役脂肪族不飽和を含まない最適の一価の炭
化水素基の例はフェニルのようなアリールである。
オルガノシリル基は、式R3Si−(式中の各Rは、そ
れぞれ前に定義し、かつ好適な実施態様を含み例示した
一価の炭化水素基である)を有する。望ましいトリオル
ガノシリル基は、トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル及びジフェニルメチルシリ
ルを含む。R3によって表される一価の炭化水素基は共
役脂肪族不飽和を含まない。ここでの用語「共役脂肪族
不飽和を含まない」は、一価の炭化水素基がシラシクロ
ブタン化合物の環のC−3の位置に結合した脂肪族の炭
素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合に共役した炭
素−炭素三重結合を含有しないことを意味する。これら
の一価の炭化水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、
好適には1〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5
の炭素原子を有する。少くとも3つの炭素原子を含有す
る一価の非環式炭化水素基は、分枝又は非分枝構造を有
しうる。共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化水素基
は、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル、ブ
チル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1、
1−ジメチルエチル、ペンチル、1−メチルブチル、1
−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチルブチ
ル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチルプロ
ピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及びオ
クタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロペ
ンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルのよ
うなシクロアルキル;フェニル、ナフチル、トリル及び
キシリルのようなアリール;ベンジル及びフェネチルの
ようなアラルキル;アリル及び2−ブテニルのようなア
ルケニル;シナミルのようなアリールアルケニル;及び
2−プロピニルのようなアルキニルを含む。共役脂肪族
不飽和を含まない好適な一価の炭化水素基の例は、メチ
ル、プロピル、ブチル及びフェニルを含む。R3によっ
て表される共役脂肪族不飽和を含まない最適の一価の炭
化水素基の例はフェニルのようなアリールである。
【0025】R4によって表される一価の飽和炭化水素
基は、典型的に1〜20の炭素原子、好適には1〜10
の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子を有す
る。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非環式飽
和炭化水素基は、分枝又は非分枝構造を有しうる。一価
の飽和炭化水素基の例は、メチル、エチル、プロピル、
1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−
メチルプロピル、1、1−ジメチルエチル、ペンチル、
1−メチルブチル、1−エチルプロピル、2−メチルブ
チル、3−メチルブチル、1、2−ジメチルプロピル、
2、2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデ
シル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘ
プタデシル及びオクタデシルのような非分枝及び分枝ア
ルキル;シクロペンチル、シクロヘキシル及びメチルシ
クロヘキシルのようなシクロアルキルを含む。好適な一
価の飽和炭化水素基の例は、メチル、エチル、プロピル
及びブチルを含む。R3によって表される共役脂肪族不
飽和を含まない最適の一価の炭化水素基の例はフェニル
のようなアリールである。
基は、典型的に1〜20の炭素原子、好適には1〜10
の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子を有す
る。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非環式飽
和炭化水素基は、分枝又は非分枝構造を有しうる。一価
の飽和炭化水素基の例は、メチル、エチル、プロピル、
1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−
メチルプロピル、1、1−ジメチルエチル、ペンチル、
1−メチルブチル、1−エチルプロピル、2−メチルブ
チル、3−メチルブチル、1、2−ジメチルプロピル、
2、2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデ
シル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘ
プタデシル及びオクタデシルのような非分枝及び分枝ア
ルキル;シクロペンチル、シクロヘキシル及びメチルシ
クロヘキシルのようなシクロアルキルを含む。好適な一
価の飽和炭化水素基の例は、メチル、エチル、プロピル
及びブチルを含む。R3によって表される共役脂肪族不
飽和を含まない最適の一価の炭化水素基の例はフェニル
のようなアリールである。
【0026】本発明のシラシクロブタン化合物の例は、
1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−3−
(2−トリメチルシリルエテニル)−1−シラシクロブ
タン;3−(ブト−1−イン−1−イル)−1、1−ジ
クロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシク
ロブタン;及び1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネ
オペンチル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラ
シクロブタンを含む。本発明による好適なシラシクロブ
タンは、1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラシクロ
ブタンである。本発明によるシラシクロブタン化合物の
製造法は、式
1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−3−
(2−トリメチルシリルエテニル)−1−シラシクロブ
タン;3−(ブト−1−イン−1−イル)−1、1−ジ
クロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシク
ロブタン;及び1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネ
オペンチル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラ
シクロブタンを含む。本発明による好適なシラシクロブ
タンは、1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラシクロ
ブタンである。本発明によるシラシクロブタン化合物の
製造法は、式
【化13】R1R2ClSCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式
【化14】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成る。
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成る。
【0027】クロロビニルシランの上記式において、R
1及びR2によって表されるトリオルガノシロキシ基
は、式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示した通りである。
1及びR2によって表されるトリオルガノシロキシ基
は、式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示した通りである。
【0028】少くとも1つのトリオルガノシロキシ基を
有する本法のクロロビニルシランは、トリクロロビニル
シランと適量のトリオルガノシラノール又はトリオルガ
ノシラノエイトとを次のスキームに従って反応させるこ
とによって製造できる:
有する本法のクロロビニルシランは、トリクロロビニル
シランと適量のトリオルガノシラノール又はトリオルガ
ノシラノエイトとを次のスキームに従って反応させるこ
とによって製造できる:
【化15】 (式中のRは、式(I)を有するシラシクロブタン化合
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
り、Mはアルカリ金属であり、aは1又は2である)。
ジクロロ(トリオルガノシロキシ)ビニルシランは、ト
リクロロビニルシランの単位モル当たり1モルのトリオ
ルガノシラノールを使用して得られる。トリオルガノシ
ラノール又はトリオルガノシラノエイトとトリクロロビ
ニルシラントの反応は、典型的にジエチルエーテル又は
テトラヒドロフランのようなエーテル溶媒中で行われ
る。さらに、トリオルガノシラノールとトリクロロビニ
ルシランとの反応は、ピリジン又は第三級アミンのよう
な塩素(それらは遊離したHClと結合できる)の存在
下で実施するのが望ましい。
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
り、Mはアルカリ金属であり、aは1又は2である)。
ジクロロ(トリオルガノシロキシ)ビニルシランは、ト
リクロロビニルシランの単位モル当たり1モルのトリオ
ルガノシラノールを使用して得られる。トリオルガノシ
ラノール又はトリオルガノシラノエイトとトリクロロビ
ニルシラントの反応は、典型的にジエチルエーテル又は
テトラヒドロフランのようなエーテル溶媒中で行われ
る。さらに、トリオルガノシラノールとトリクロロビニ
ルシランとの反応は、ピリジン又は第三級アミンのよう
な塩素(それらは遊離したHClと結合できる)の存在
下で実施するのが望ましい。
【0029】本法のトリオルガノシロキシを含有するク
ロロビニルシランの望ましい製造法は、Aunerら
(Chem.Ber.1993,126、2177−2
186)によって、クロロビス(トリメチルシロキシ)
ビニルシランの製造に使用された。ジエチルエーテル
(250mL)におけるリチウムトリメチルシラノエイ
ト(400ミリモル)の溶液を、テトラヒドロフラン
(300mL)におけるトリクロロビニルシラン(20
0ミリモル)の溶液に0℃で3時間かけてゆっくり添加
した。その混合体を室温に暖めた後、蒸留によってエー
テル溶媒を除去する。その残留物はn−ペンタンに溶解
させて、その溶液を8時間環流させる、その時間の間に
塩化リチウムの沈殿物が生成する。その溶液をガラスろ
過器(D4)に通してろ過して塩化リチウムを除去し、
ろ液は蒸発によって濃縮する。残留物は、蒸留してクロ
ロビス(トリメチルシロキシ)ビニルシラン(60%収
率)を得る。ジクロロ(トリメチルシロキシ)ビニルシ
ランは、同じ方法及び等量(例えば、200ml)のリ
チウムトリメチルシラノエイト及びトリクロロビニルシ
ランを使用して製造できる。
ロロビニルシランの望ましい製造法は、Aunerら
(Chem.Ber.1993,126、2177−2
186)によって、クロロビス(トリメチルシロキシ)
ビニルシランの製造に使用された。ジエチルエーテル
(250mL)におけるリチウムトリメチルシラノエイ
ト(400ミリモル)の溶液を、テトラヒドロフラン
(300mL)におけるトリクロロビニルシラン(20
0ミリモル)の溶液に0℃で3時間かけてゆっくり添加
した。その混合体を室温に暖めた後、蒸留によってエー
テル溶媒を除去する。その残留物はn−ペンタンに溶解
させて、その溶液を8時間環流させる、その時間の間に
塩化リチウムの沈殿物が生成する。その溶液をガラスろ
過器(D4)に通してろ過して塩化リチウムを除去し、
ろ液は蒸発によって濃縮する。残留物は、蒸留してクロ
ロビス(トリメチルシロキシ)ビニルシラン(60%収
率)を得る。ジクロロ(トリメチルシロキシ)ビニルシ
ランは、同じ方法及び等量(例えば、200ml)のリ
チウムトリメチルシラノエイト及びトリクロロビニルシ
ランを使用して製造できる。
【0030】本法の共役エニン(R3が共役脂肪族不飽
和を含まない一価の炭化水素基である場合)は、プロパ
ルギルアルコールの脱水、末端アルキンのハロゲン化ビ
ニルとの結合及びエニンの異性体化を含む周知の方法に
よって製造できる。例えば、これら及び他の方法は、B
randsmaによって記載されている(L.Bran
dsma in Studies in Organi
c Chemistry 34:Preparativ
e Acetylenic Chemistry,2n
d ed.;Elsevier Science:Am
sterdam,1992 参照)。必要なエニンの構
造に依存して選択される特定の方法は、当業者には明白
である。これらの方法のいくつかを以下の実施例に示
す。
和を含まない一価の炭化水素基である場合)は、プロパ
ルギルアルコールの脱水、末端アルキンのハロゲン化ビ
ニルとの結合及びエニンの異性体化を含む周知の方法に
よって製造できる。例えば、これら及び他の方法は、B
randsmaによって記載されている(L.Bran
dsma in Studies in Organi
c Chemistry 34:Preparativ
e Acetylenic Chemistry,2n
d ed.;Elsevier Science:Am
sterdam,1992 参照)。必要なエニンの構
造に依存して選択される特定の方法は、当業者には明白
である。これらの方法のいくつかを以下の実施例に示
す。
【0031】本法の共役エニン(R3がトリオルガノシ
リル基である場合)は、次のスキームに従って式HC=
CC(R4)=CH2を有する対応するエニンのシリル
化によって製造できる:
リル基である場合)は、次のスキームに従って式HC=
CC(R4)=CH2を有する対応するエニンのシリル
化によって製造できる:
【化16】 (式中のRは、式(I)を有するシラシクロブタン化合
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
り;R4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物に
ついて前に定義及び例示した通りである)。
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
り;R4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物に
ついて前に定義及び例示した通りである)。
【0032】メチルリチウムの代わりに、エチルリチウ
ム、ブチルリチウム及びフェニルリチウムを含む他のオ
ルガノリチウム化合物を使用できる。
ム、ブチルリチウム及びフェニルリチウムを含む他のオ
ルガノリチウム化合物を使用できる。
【0033】式HC=CC(R4)=CH2を有するエ
ニンは、プロパルギルアルコールの脱水、末端アルキン
のハロゲン化ビニルとの結合及びエニンの異性体化を含
む周知の方法によって製造できる。例えば、これら及び
他の方法は、Brandsmaによって記載されている
(L.Brandsma in Studies in
Organic Chemistry 34:Pre
parative Acetylenic Chemi
stry,2nd ed.;ElsevierScie
nce:Amsterdam,1992 参照)。選択
する特定の方法は、必要なエニンの構造に依存する。
ニンは、プロパルギルアルコールの脱水、末端アルキン
のハロゲン化ビニルとの結合及びエニンの異性体化を含
む周知の方法によって製造できる。例えば、これら及び
他の方法は、Brandsmaによって記載されている
(L.Brandsma in Studies in
Organic Chemistry 34:Pre
parative Acetylenic Chemi
stry,2nd ed.;ElsevierScie
nce:Amsterdam,1992 参照)。選択
する特定の方法は、必要なエニンの構造に依存する。
【0034】トリオルガノシリル基を末端の三重結合炭
素原子に結合している共役エニンの前出の製造法は、以
下の実施例に記載されている。
素原子に結合している共役エニンの前出の製造法は、以
下の実施例に記載されている。
【0035】本法のt−ブチルリチウムは、典型的にペ
ンタン、ヘキサン又はシクロヘキサンのような炭化水素
溶媒に使用される。t−ブチルリチウムの製造法は、技
術的に極めて周知である。炭化水素溶媒中のt−ブチル
リチウムは所定の濃度範囲で市販されている。t−ブチ
ルリチウム用の炭化水素溶媒は、希釈剤を使用すると
き、以下に記載する反応の希釈剤として使用する炭化水
素溶媒と同一であることが望ましい。
ンタン、ヘキサン又はシクロヘキサンのような炭化水素
溶媒に使用される。t−ブチルリチウムの製造法は、技
術的に極めて周知である。炭化水素溶媒中のt−ブチル
リチウムは所定の濃度範囲で市販されている。t−ブチ
ルリチウム用の炭化水素溶媒は、希釈剤を使用すると
き、以下に記載する反応の希釈剤として使用する炭化水
素溶媒と同一であることが望ましい。
【0036】本発明のシラシクロブタン化合物は、クロ
ロビニルシランと共役エニンとの混合物をt−ブチルリ
チウムと接触させることによって製造される。その反応
は、クロロシランとオルガノリチウム化合物とを接触さ
せるのに適当な標準の反応器で実施できる。その反応器
は、かくはんのようなかくはん手段を備えることが望ま
しい。
ロビニルシランと共役エニンとの混合物をt−ブチルリ
チウムと接触させることによって製造される。その反応
は、クロロシランとオルガノリチウム化合物とを接触さ
せるのに適当な標準の反応器で実施できる。その反応器
は、かくはんのようなかくはん手段を備えることが望ま
しい。
【0037】本法は、空気中の酸素又は湿気の実質的に
非存在下で行うことが望ましい。これは、反応物質の導
入前に反応器に窒素又はアルゴンのような乾燥不活性ガ
スでパージし、次にかかるガスの雰囲気を反応器に維持
することによって達成できる。
非存在下で行うことが望ましい。これは、反応物質の導
入前に反応器に窒素又はアルゴンのような乾燥不活性ガ
スでパージし、次にかかるガスの雰囲気を反応器に維持
することによって達成できる。
【0038】本法のシラシクロブタン化合物は希釈剤の
存在しないときに製造できるけれども、クロロビニルシ
ラン及び共役エニンは、得られる混合体をt−ブチルリ
チウムと接触させる前に炭化水素溶媒に溶解させること
が望ましい。本法のシラシクロブタン化合物を生成する
ために、その反応を妨げない炭化水素溶媒又はその混合
体を希釈剤として使用することが望ましい。その炭化水
素溶媒は、200℃までの標準沸点を有することが望ま
しい。炭化水素溶媒が200℃以上の標準沸点を有する
ときは、溶媒を蒸留によってシラシクロブタン化合物か
ら分離することが困難である。適当な炭化水素溶媒の例
は、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン
及びそれらの異性体を含む。炭化水素溶媒は、ペンタン
又はヘキサンが望ましい。使用する場合の炭化水素溶媒
の量は、典型的にはクロロビニルシランと共役エニンの
混合体の体積の0.01〜100倍、好適には1〜20
倍である。
存在しないときに製造できるけれども、クロロビニルシ
ラン及び共役エニンは、得られる混合体をt−ブチルリ
チウムと接触させる前に炭化水素溶媒に溶解させること
が望ましい。本法のシラシクロブタン化合物を生成する
ために、その反応を妨げない炭化水素溶媒又はその混合
体を希釈剤として使用することが望ましい。その炭化水
素溶媒は、200℃までの標準沸点を有することが望ま
しい。炭化水素溶媒が200℃以上の標準沸点を有する
ときは、溶媒を蒸留によってシラシクロブタン化合物か
ら分離することが困難である。適当な炭化水素溶媒の例
は、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン
及びそれらの異性体を含む。炭化水素溶媒は、ペンタン
又はヘキサンが望ましい。使用する場合の炭化水素溶媒
の量は、典型的にはクロロビニルシランと共役エニンの
混合体の体積の0.01〜100倍、好適には1〜20
倍である。
【0039】クロロビニルシランと共役エニンの混合体
は、t−ブチルリチウムと−78℃〜70℃の温度で接
触させることができる。その反応は、望ましくは−78
℃〜室温、さらに望ましくは、室温で行うことが望まし
い。
は、t−ブチルリチウムと−78℃〜70℃の温度で接
触させることができる。その反応は、望ましくは−78
℃〜室温、さらに望ましくは、室温で行うことが望まし
い。
【0040】典型的にクロロビニルシランと共役エニン
の混合体は、t−ブチルリチウムをその混合体にゆっく
り添加することによってt−ブチルリチウムと接触され
る。炭化水素溶媒中のt−ブチチルリチウムの溶液は滴
状でその混合体に添加することが望ましい。また、その
反応混合体は、例えば、少くともt−ブチチルリチウム
の添加中にかくはんによってかくはんすることが望まし
い。
の混合体は、t−ブチルリチウムをその混合体にゆっく
り添加することによってt−ブチルリチウムと接触され
る。炭化水素溶媒中のt−ブチチルリチウムの溶液は滴
状でその混合体に添加することが望ましい。また、その
反応混合体は、例えば、少くともt−ブチチルリチウム
の添加中にかくはんによってかくはんすることが望まし
い。
【0041】クロロビニルシラン/共役エニン/t−ブ
チルリチウムのモル比は、広範囲に変わりうるが、これ
らの反応物質の等モル量が使用される。反応物質のいず
れか1つが過剰であると、副生物を生成して必要なシラ
シクロブタン化合物の収率が低下する。例えば、過剰の
t−ブチルリチウムは、塩化物をかたよらせる、又はト
リオルガノシロキシーケイ素結合を開裂させることによ
ってシラシクロブタン生成物との反応の恐れがある。過
剰の共役エニンはt−ブチルリチウムと反応して1、2
−及び1、4−付加物のような副生物を生成する。過剰
のクロロビニルシランは、t−ブチルリチウムと反応し
てジシラシクロブタンのような副生物を生成する。
チルリチウムのモル比は、広範囲に変わりうるが、これ
らの反応物質の等モル量が使用される。反応物質のいず
れか1つが過剰であると、副生物を生成して必要なシラ
シクロブタン化合物の収率が低下する。例えば、過剰の
t−ブチルリチウムは、塩化物をかたよらせる、又はト
リオルガノシロキシーケイ素結合を開裂させることによ
ってシラシクロブタン生成物との反応の恐れがある。過
剰の共役エニンはt−ブチルリチウムと反応して1、2
−及び1、4−付加物のような副生物を生成する。過剰
のクロロビニルシランは、t−ブチルリチウムと反応し
てジシラシクロブタンのような副生物を生成する。
【0042】本法のシラシクロブタン化合物は、塩化リ
チウムの沈殿物をろ過によって除去し、減圧下の蒸留に
よって炭化水素溶媒を除去し、次に残留物を高真空下で
分別蒸留によってそれらの反応混合物から回収できる。
チウムの沈殿物をろ過によって除去し、減圧下の蒸留に
よって炭化水素溶媒を除去し、次に残留物を高真空下で
分別蒸留によってそれらの反応混合物から回収できる。
【0043】少くとも1つのトリオルガノシロキシ基、
オルガノオキシ基、トリオルガノシリル基又は一価の炭
化水素基をその環のケイ素原子に結合している本発明の
シラシクロブタン化合物は、Si−O,Si−Si及び
Si−C結合を形成するためにオルガノクロロシランの
周知反応を使用して対応するモノクロロシラシクロブタ
ン又はジクロロシラシクロブタン化合物から製造でき
る。モノクロロシラシクロブタン出発材料は、これらと
同じ方法を用いて対応するジクロロシラシクロブタン化
合物から製造できる。そのジクロロシラシクロブタン化
合物は前記のように製造される。
オルガノオキシ基、トリオルガノシリル基又は一価の炭
化水素基をその環のケイ素原子に結合している本発明の
シラシクロブタン化合物は、Si−O,Si−Si及び
Si−C結合を形成するためにオルガノクロロシランの
周知反応を使用して対応するモノクロロシラシクロブタ
ン又はジクロロシラシクロブタン化合物から製造でき
る。モノクロロシラシクロブタン出発材料は、これらと
同じ方法を用いて対応するジクロロシラシクロブタン化
合物から製造できる。そのジクロロシラシクロブタン化
合物は前記のように製造される。
【0044】少くとも1つのトリオルガノシロキシ基を
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、対応するトリオルガノシラノール又はトリ
オルガノシラノエイトをクロロシクロブタン化合物と次
のスキームに従って反応させることによって製造でき
る:
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、対応するトリオルガノシラノール又はトリ
オルガノシラノエイトをクロロシクロブタン化合物と次
のスキームに従って反応させることによって製造でき
る:
【化17】 (式中のRは一価の炭化水素基であり;Mはアルカリ金
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
【0045】トリオルガノシラノールとクロロシラシク
ロブタンとの反応は、典型的にピリジン又は第三級アミ
ンのような塩基(それらは遊離されるHClと結合す
る)の存在下で行われる。
ロブタンとの反応は、典型的にピリジン又は第三級アミ
ンのような塩基(それらは遊離されるHClと結合す
る)の存在下で行われる。
【0046】トリオルガノシラノエイトは、対応するト
リオルガノ(オルガノオキシ)シランとアルカリ金属の
水酸化物とを反応させる、又はトリオルガノシラノール
とアルカリ金属又はアルカリ金属の水酸化物とを反応さ
せることによって得られる。トリオルガノシラノエイト
は、対応するヘキサオルガノジシロキサンを、アルコ−
ル溶液中で水酸化ナトリウムと反応させる、又は炭化水
素溶媒中でメチルリチウム又はフェニルリチウムのよう
なオルガノリチウム試薬と反応させることによって製造
することもできる。トリオルガノシラノエイトとクロロ
シラシクロブタン化合物との反応は、典型的にトルエン
のような炭化水素溶媒中で行う。少くとも1つのトリオ
ルガノシロキシ基を環のケイ素原子に結合している本発
明のシラシクロブタン化合物は、対応するアルコール又
はフェノールとクロロシラシクロブタン化合物とを塩基
の存在下で次のスキームに従って反応されることによっ
て製造できる:
リオルガノ(オルガノオキシ)シランとアルカリ金属の
水酸化物とを反応させる、又はトリオルガノシラノール
とアルカリ金属又はアルカリ金属の水酸化物とを反応さ
せることによって得られる。トリオルガノシラノエイト
は、対応するヘキサオルガノジシロキサンを、アルコ−
ル溶液中で水酸化ナトリウムと反応させる、又は炭化水
素溶媒中でメチルリチウム又はフェニルリチウムのよう
なオルガノリチウム試薬と反応させることによって製造
することもできる。トリオルガノシラノエイトとクロロ
シラシクロブタン化合物との反応は、典型的にトルエン
のような炭化水素溶媒中で行う。少くとも1つのトリオ
ルガノシロキシ基を環のケイ素原子に結合している本発
明のシラシクロブタン化合物は、対応するアルコール又
はフェノールとクロロシラシクロブタン化合物とを塩基
の存在下で次のスキームに従って反応されることによっ
て製造できる:
【化18】 (式中のRは一価の炭化水素基であり;Mはアルカリ金
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4で表される基は、式(I)を有するシラシクロブタン
化合物について前に定義及び例示しているものである。
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4で表される基は、式(I)を有するシラシクロブタン
化合物について前に定義及び例示しているものである。
【0047】アルコール又はフェノールとクロロシラシ
クロブタンとの反応は、典型的にピリジン又は第三級ア
ミンのような塩基(それらは遊離されるHClと結合す
る)の存在下で行われる。
クロブタンとの反応は、典型的にピリジン又は第三級ア
ミンのような塩基(それらは遊離されるHClと結合す
る)の存在下で行われる。
【0048】そのアルコール又はフェノールは実質的に
水を含まないことが望ましい。アルコール又はフェノー
ルとクロロシラシクロブタン化合物との反応は、しばし
ば溶媒として過剰のアルコール又はフェノールを使用し
て行われる。しかしながら、過剰のアルコール又はフェ
ノールは、ジクロロシラシクロブタン化合物からモノ
(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合物を製造する
ときには回避すべきである。アルコール又はフェノール
とクロロシラシクロブタン化合物との反応は、エ−テル
又はトルエンのような不活性溶媒中でも行うことができ
る。少くとも1つのトリオルガノシリル基を環のケイ素
原子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物
は、対応するトリオルガノシリルーアルカリ金属化合物
とクロロシラシクロブタン化合物とを次のスキームに従
って反応されることによって製造できる:
水を含まないことが望ましい。アルコール又はフェノー
ルとクロロシラシクロブタン化合物との反応は、しばし
ば溶媒として過剰のアルコール又はフェノールを使用し
て行われる。しかしながら、過剰のアルコール又はフェ
ノールは、ジクロロシラシクロブタン化合物からモノ
(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合物を製造する
ときには回避すべきである。アルコール又はフェノール
とクロロシラシクロブタン化合物との反応は、エ−テル
又はトルエンのような不活性溶媒中でも行うことができ
る。少くとも1つのトリオルガノシリル基を環のケイ素
原子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物
は、対応するトリオルガノシリルーアルカリ金属化合物
とクロロシラシクロブタン化合物とを次のスキームに従
って反応されることによって製造できる:
【化19】 (式中のRは一価の炭化水素基であり;Mはアルカリ金
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
【0049】トリオルガノシリ−アルカリ金属化合物
は、対応するヘキサオルガノジシランとアルカリ金属と
をエーテル溶媒中で反応させることによって得られる。
これらの化合物は、対応するクロロシランとリチウム金
属とをテトラヒドロフラン中で反応させることによって
も良い収率で製造できる。
は、対応するヘキサオルガノジシランとアルカリ金属と
をエーテル溶媒中で反応させることによって得られる。
これらの化合物は、対応するクロロシランとリチウム金
属とをテトラヒドロフラン中で反応させることによって
も良い収率で製造できる。
【0050】トリオルガノシリル−アルカリ金属化合物
とクロロシラシクロブタン化合物との反応は、典型的に
室温でテトラヒドロフランのようなエーテル溶媒中で行
う。
とクロロシラシクロブタン化合物との反応は、典型的に
室温でテトラヒドロフランのようなエーテル溶媒中で行
う。
【0051】少くとも1つの一価の炭化水素基を環のケ
イ素原子に結合している本発明のシラシクロブタン化合
物は、対応するグリニャール試薬又は有機金属化合物と
クロロシラシクロブタン化合物とを次のスキームに従っ
て反応されることによって製造できる:
イ素原子に結合している本発明のシラシクロブタン化合
物は、対応するグリニャール試薬又は有機金属化合物と
クロロシラシクロブタン化合物とを次のスキームに従っ
て反応されることによって製造できる:
【化20】 (式中のRは一価の炭化水素基であり;Mはアルカリ金
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
【0052】その有機金属化合物は、オルガノクロロシ
ランと反応性である普通の有機金属化合物にすることが
できる、そしてオルガノリチウム、オルガノナトリウ
ム、オルガノカリウム及びオルガノ亜鉛化合物を含む。
オルガノリチウム化合物がそれらの高反応性のために望
ましい。
ランと反応性である普通の有機金属化合物にすることが
できる、そしてオルガノリチウム、オルガノナトリウ
ム、オルガノカリウム及びオルガノ亜鉛化合物を含む。
オルガノリチウム化合物がそれらの高反応性のために望
ましい。
【0053】グリニャール試薬又は有機金属化合物とク
ロロシラシクロブタン化合物との反応は、典型的にジエ
ーテルのようなエーテル又はトルエンのような炭化水素
溶媒中で行う。
ロロシラシクロブタン化合物との反応は、典型的にジエ
ーテルのようなエーテル又はトルエンのような炭化水素
溶媒中で行う。
【0054】式(I)を有する(R3が水素である場
合)本発明のシラシクロブタン化合物は周知のアレン−
シュミット反応を用いて次のスキームに従って、対応す
る(トリオルガノシリル)エテニルシラシクロブタン化
合物の脱シリル化によって製造できる:
合)本発明のシラシクロブタン化合物は周知のアレン−
シュミット反応を用いて次のスキームに従って、対応す
る(トリオルガノシリル)エテニルシラシクロブタン化
合物の脱シリル化によって製造できる:
【化21】 (式中のRは一価の炭化水素基であり;Mはアルカリ金
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
属であり;R2はクロロ、トリオルガノシロキシ、オル
ガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価の炭化水素
基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭
化水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は
一価の飽和炭化水素基である)。R,R2,R3及びR
4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義及び例示しているものである。
【0055】アレン−シュミットの脱シリル化反応は、
最初に(トリオルガノシリル)−エテニルシラシクロブ
タン化合物と等量の窒化銀とを水性エタノール溶液(エ
タノール:水=2:1)中で室温において反応させるこ
とによって行う。
最初に(トリオルガノシリル)−エテニルシラシクロブ
タン化合物と等量の窒化銀とを水性エタノール溶液(エ
タノール:水=2:1)中で室温において反応させるこ
とによって行う。
【0056】本発明のシラン重合体は、式
【化22】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1で有る)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有する。
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1で有る)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有する。
【0057】上記式(II)において、R3、R4及び
R5によって表される基は、式(I)を有するシラシク
ロブタン化合物について定義及び例示(好適な実施例を
含む)されている通りである。本発明のシラン重合体
は、一般に3〜1000、好適には5〜200の重合度
を有する。本発明のシラン重合体は、式(II)を有す
るシラシクロブタン単位を含有するホモポリマー及び共
重合体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロブ
タン単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの異
なるシラシクロブタン単位が存在する。別のタイプの共
重合体はシランクロブタン単位と、式R2Si(式中の
Rは式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義した一価の炭化水素基である)を有するオルガ
ノシラン単位を含有する。
R5によって表される基は、式(I)を有するシラシク
ロブタン化合物について定義及び例示(好適な実施例を
含む)されている通りである。本発明のシラン重合体
は、一般に3〜1000、好適には5〜200の重合度
を有する。本発明のシラン重合体は、式(II)を有す
るシラシクロブタン単位を含有するホモポリマー及び共
重合体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロブ
タン単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの異
なるシラシクロブタン単位が存在する。別のタイプの共
重合体はシランクロブタン単位と、式R2Si(式中の
Rは式(I)を有するシラシクロブタン化合物について
前に定義した一価の炭化水素基である)を有するオルガ
ノシラン単位を含有する。
【0058】本発明のシラン重合体は、オルガノクロロ
シランからポリシランを製造する周知の方法を使用して
製造できる。本発明のシラン重合体は、ウルツの結合反
応を用いて、少くとも1つのクロロシラシクロブタン化
合物又は少くとも1つのクロロシラシクロブタン化合物
とオルガノクロロシラン化合物の混合物を炭化水素溶媒
中でナトリウム(又はリチウム)金属の存在下で反応さ
せることによって製造できる。本発明のシラン重合体の
製造に使用するのに適当なクロロシラシクロブタン化合
物は、式(I)を有する(この場合R1及びR2の少く
とも1つはクロロである)。ウルツの結合反応に使用す
るのに適当なオルガノクロロシラン化合物は、式RmS
iCl(4−m)を有する化合物、及び少くとも1つの
Siに結合した塩素原子を含有するシランオリゴマー及
びシラン重合体を含む(式中のR及びオリゴマー及び重
合体中の有機基は式(I)を有するシラシクロブタン化
合物について定義した一価の炭化水素基であり、mは2
又は3である)。
シランからポリシランを製造する周知の方法を使用して
製造できる。本発明のシラン重合体は、ウルツの結合反
応を用いて、少くとも1つのクロロシラシクロブタン化
合物又は少くとも1つのクロロシラシクロブタン化合物
とオルガノクロロシラン化合物の混合物を炭化水素溶媒
中でナトリウム(又はリチウム)金属の存在下で反応さ
せることによって製造できる。本発明のシラン重合体の
製造に使用するのに適当なクロロシラシクロブタン化合
物は、式(I)を有する(この場合R1及びR2の少く
とも1つはクロロである)。ウルツの結合反応に使用す
るのに適当なオルガノクロロシラン化合物は、式RmS
iCl(4−m)を有する化合物、及び少くとも1つの
Siに結合した塩素原子を含有するシランオリゴマー及
びシラン重合体を含む(式中のR及びオリゴマー及び重
合体中の有機基は式(I)を有するシラシクロブタン化
合物について定義した一価の炭化水素基であり、mは2
又は3である)。
【0059】ウルツ反応は、トルエンのような100℃
以上の沸点を有する炭化水素溶媒中で還流条件下で行う
ことが望ましい。その重合体生成物は、塩化ナトリウム
(又はリチウム)をろ過によって除去し、次にそのろ液
を減圧かで濃縮することによって回収できる。
以上の沸点を有する炭化水素溶媒中で還流条件下で行う
ことが望ましい。その重合体生成物は、塩化ナトリウム
(又はリチウム)をろ過によって除去し、次にそのろ液
を減圧かで濃縮することによって回収できる。
【0060】本発明によるシロキサン重合体は、式
【化23】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有する。
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有する。
【0061】上記式(III)において、R3、R4及
びR6によって表される基は、式(I)を有するシラシ
クロブタン化合物について定義及び例示(好適な実施例
を含む)されている通りである。本発明のシラン重合体
は、一般に3〜1000、好適には5〜200の重合度
を有する。本発明のシラン重合体は、式(III)を有
するシラシクロブタン単位を含有するホモポリマー及び
共重合体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロ
ブタン単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの
異なるシラシクロブタン単位が存在する。別のタイプの
共重合体はシラシクロブタン単位と、式R2SiO
2/2(式中のRは式(I)を有するシラシクロブタン
化合物について前に定義した一価の炭化水素基である)
を有するオルガノシラン単位を含有する。
びR6によって表される基は、式(I)を有するシラシ
クロブタン化合物について定義及び例示(好適な実施例
を含む)されている通りである。本発明のシラン重合体
は、一般に3〜1000、好適には5〜200の重合度
を有する。本発明のシラン重合体は、式(III)を有
するシラシクロブタン単位を含有するホモポリマー及び
共重合体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロ
ブタン単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの
異なるシラシクロブタン単位が存在する。別のタイプの
共重合体はシラシクロブタン単位と、式R2SiO
2/2(式中のRは式(I)を有するシラシクロブタン
化合物について前に定義した一価の炭化水素基である)
を有するオルガノシラン単位を含有する。
【0062】本発明のシラン重合体は、加水分解及び平
衡化を含むシロキサン重合体を製造する周知の方法を使
用して製造できる。例えば、本発明のシラン重合体は、
少くとも1つのクロロシラシクロブタン化合物又は少く
とも1つのクロロシラシクロブタン化合物とクロロシラ
シクロブタン化合物の混合物を加水分解することによっ
て製造できる。本発明のシラン重合体の製造使用するの
に適当なクロロシラシクロブタン化合物は、式(I)を
有する(この場合R1及びR2の少くとも1つはクロロ
である)。その加水分解反応に使用するのに適当なオル
ガノクロロシラン化合物は、式RmSiCl(4−m)
を有する化合物、及び少くとも1つのSiに結合した塩
素原子を含有するシランオリゴマー及びシラン重合体を
含む(式中のR及びオリゴマー及び重合体中の有機基は
式(I)を有するシラシクロブタン化合物について定義
した一価の炭化水素基であり、mは2又は3である)。
衡化を含むシロキサン重合体を製造する周知の方法を使
用して製造できる。例えば、本発明のシラン重合体は、
少くとも1つのクロロシラシクロブタン化合物又は少く
とも1つのクロロシラシクロブタン化合物とクロロシラ
シクロブタン化合物の混合物を加水分解することによっ
て製造できる。本発明のシラン重合体の製造使用するの
に適当なクロロシラシクロブタン化合物は、式(I)を
有する(この場合R1及びR2の少くとも1つはクロロ
である)。その加水分解反応に使用するのに適当なオル
ガノクロロシラン化合物は、式RmSiCl(4−m)
を有する化合物、及び少くとも1つのSiに結合した塩
素原子を含有するシランオリゴマー及びシラン重合体を
含む(式中のR及びオリゴマー及び重合体中の有機基は
式(I)を有するシラシクロブタン化合物について定義
した一価の炭化水素基であり、mは2又は3である)。
【0063】また本発明のシラン重合体は、少くとも1
つの(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合物又は少
くとも1つの(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合
物とオルガノ(オルガノオキシ)シラン化合物の混合物
を加水分解することによって製造できる。加水分解によ
って本発明のシラン重合体の製造に使用するのに適当な
(オルガノオキシシラシクロブタン)化合物は、式
(I)を有する(この場合R1及びR2の少くとも1つ
はオルガノオキシである)。その加水分解反応に使用す
るのに適当なオルガノ(オルガノオキシ)シラン化合物
は、式RmSiCl (4−m)を有する化合物、及び少
くとも1つのSiに結合したオルガノオキシ基を含有す
るシランオリゴマー及びシラン重合体を含む(式中のR
及びオリゴマー及び重合体中の有機基は式(I)を有す
るシラシクロブタン化合物について定義した一価の炭化
水素基であり、mは2又は3である)。
つの(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合物又は少
くとも1つの(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合
物とオルガノ(オルガノオキシ)シラン化合物の混合物
を加水分解することによって製造できる。加水分解によ
って本発明のシラン重合体の製造に使用するのに適当な
(オルガノオキシシラシクロブタン)化合物は、式
(I)を有する(この場合R1及びR2の少くとも1つ
はオルガノオキシである)。その加水分解反応に使用す
るのに適当なオルガノ(オルガノオキシ)シラン化合物
は、式RmSiCl (4−m)を有する化合物、及び少
くとも1つのSiに結合したオルガノオキシ基を含有す
るシランオリゴマー及びシラン重合体を含む(式中のR
及びオリゴマー及び重合体中の有機基は式(I)を有す
るシラシクロブタン化合物について定義した一価の炭化
水素基であり、mは2又は3である)。
【0064】(オルガノオキシ)シラシクロブタン化合
物の加水分解は、酸または塩基の存在下で行うことがで
きる。洗浄によって除去できる酸触媒は、塩酸、シュウ
酸、酢酸及びトリクロロ酢酸が望ましい。
物の加水分解は、酸または塩基の存在下で行うことがで
きる。洗浄によって除去できる酸触媒は、塩酸、シュウ
酸、酢酸及びトリクロロ酢酸が望ましい。
【0065】また本発明のシラン重合体は、少くとも1
つの(トリオルガノオキシ)シラシクロブタン化合物又
は少くとも1つの(トリオルガノオキシ)シラシクロブ
タン化合物とオルガノシロキサン化合物の混合物を平衡
化することによっても製造できる。本発明のシラン重合
体の製造に使用するのに適当な(トリオルガノオキシ)
シラシクロブタン)化合物は、式(I)を有する(この
場合R1及びR2の少くとも1つはトリオルガノオキシ
である)。平衡化反応に使用するのに適当なオルガノシ
ロキサン化合物は、式(R3Si)2Oを有するジシロ
キサン、式(R 3SiO)nを有するオルガノシクロシ
ロキサン、シロキサンオリゴマー及びシロキサン重合体
を含む普通のオルガノシロキサン化合物にすることがで
きる(式中のR及びオリゴマー及び重合体中の有機基は
式(I)を有するシラシクロブタン化合物について定義
した一価の炭化水素基であり、nは3〜10である)。
オルガノシクロシロキサンの例は、オクタメチルテトラ
シクロシロキサン(D4)及びデカメチルペンタシクロ
シロキサン(D5)を含む。シロキサンオリゴマー及び
シロキサン重合体の例はジメチルシロキサン流体を含
む。
つの(トリオルガノオキシ)シラシクロブタン化合物又
は少くとも1つの(トリオルガノオキシ)シラシクロブ
タン化合物とオルガノシロキサン化合物の混合物を平衡
化することによっても製造できる。本発明のシラン重合
体の製造に使用するのに適当な(トリオルガノオキシ)
シラシクロブタン)化合物は、式(I)を有する(この
場合R1及びR2の少くとも1つはトリオルガノオキシ
である)。平衡化反応に使用するのに適当なオルガノシ
ロキサン化合物は、式(R3Si)2Oを有するジシロ
キサン、式(R 3SiO)nを有するオルガノシクロシ
ロキサン、シロキサンオリゴマー及びシロキサン重合体
を含む普通のオルガノシロキサン化合物にすることがで
きる(式中のR及びオリゴマー及び重合体中の有機基は
式(I)を有するシラシクロブタン化合物について定義
した一価の炭化水素基であり、nは3〜10である)。
オルガノシクロシロキサンの例は、オクタメチルテトラ
シクロシロキサン(D4)及びデカメチルペンタシクロ
シロキサン(D5)を含む。シロキサンオリゴマー及び
シロキサン重合体の例はジメチルシロキサン流体を含
む。
【0066】前記平衡化反応は、典型的に強酸又は塩基
の存在下で行う。適当な酸の例は硫酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸及びドデシルベンゼンスルホン酸を含
む。適当な塩基の例は、水酸化カリウム及び水酸化テト
ラブチルアンモニウムを含む。
の存在下で行う。適当な酸の例は硫酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸及びドデシルベンゼンスルホン酸を含
む。適当な塩基の例は、水酸化カリウム及び水酸化テト
ラブチルアンモニウムを含む。
【0067】本発明のシラシクロブタン化合物は、高い
熱安定性を示す。実際に、そのシラシクロブタン化合物
は、空気中で100℃までの温度に分解することなく加
熱することができる。
熱安定性を示す。実際に、そのシラシクロブタン化合物
は、空気中で100℃までの温度に分解することなく加
熱することができる。
【0068】本発明のシラシクロブタン化合物の前記製
造法は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法
は、出発の共役エニンにおける置換エテニル基がシラシ
クロブタン化合物の環C−3位置に結合している単一の
レギオ異性体を与える。置換エテニル基を環C−2位置
に結合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検
出されない。その上、その反応は、容易に入手できる出
発材料を使用して1合成工程で進行する。
造法は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法
は、出発の共役エニンにおける置換エテニル基がシラシ
クロブタン化合物の環C−3位置に結合している単一の
レギオ異性体を与える。置換エテニル基を環C−2位置
に結合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検
出されない。その上、その反応は、容易に入手できる出
発材料を使用して1合成工程で進行する。
【0069】本発明のシラン及びシロキサン重合体は、
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エテニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエテ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素原子を含有する化合物と反応性で
ある。
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エテニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエテ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素原子を含有する化合物と反応性で
ある。
【0070】本発明のシラシクロブタン化合物は、ホモ
ポリマー及び共重合体を含むシラン及びシロキサン重合
体の製造に特に有用である。少くとも1つのクロロ基を
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、シラン重合体の製造及びシリカ及びガラス
の表面のシリル化に有用である。少くとも1つのクロロ
基、トリオルガノシロキシ基又はオルガノオキシ基を環
のケイ素原子に結合したいる本発明のシラシクロブタン
化合物は、シロキサン重合体の製造及びシロキサン重合
体及びシロキサン樹脂の末端封鎖に有用である。
ポリマー及び共重合体を含むシラン及びシロキサン重合
体の製造に特に有用である。少くとも1つのクロロ基を
環のケイ素原子に結合している本発明のシラシクロブタ
ン化合物は、シラン重合体の製造及びシリカ及びガラス
の表面のシリル化に有用である。少くとも1つのクロロ
基、トリオルガノシロキシ基又はオルガノオキシ基を環
のケイ素原子に結合したいる本発明のシラシクロブタン
化合物は、シロキサン重合体の製造及びシロキサン重合
体及びシロキサン樹脂の末端封鎖に有用である。
【0071】置換又は非置換エテニル基を環のケイ素原
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
【0072】本発明のシロキサン重合体は、変圧器用流
体及びブレーキ用流体のような低温にさらされる組成物
中の成分として有用である。本発明のシロキサン重合体
は、さらに有機水素シロキサン架橋剤を含むヒドロシリ
ル化硬化性シリコーン組成物の製造にも有用である。
体及びブレーキ用流体のような低温にさらされる組成物
中の成分として有用である。本発明のシロキサン重合体
は、さらに有機水素シロキサン架橋剤を含むヒドロシリ
ル化硬化性シリコーン組成物の製造にも有用である。
【0073】次の実施例は、本発明のシラシクロブタン
化合物及びその製造法をさらに説明するために提供する
が、特許請求の範囲に示す本発明を限定するものではな
い。実施例に記載の部及びパーセントは全て重量表示で
ある。
化合物及びその製造法をさらに説明するために提供する
が、特許請求の範囲に示す本発明を限定するものではな
い。実施例に記載の部及びパーセントは全て重量表示で
ある。
【0074】感空気性及び/又は感湿性の反応は、窒素
又はアルゴン雰囲気下で行った。その窒素又はアルゴン
は、銅触媒及びモレキュラ−シーブ(4オングストロー
ム)上で乾燥した。溶媒は従来の方法に従って蒸留によ
り乾燥した。クロロシランは使用前にK2CO3から蒸
留した。0℃以下の温度での反応は、特にことわらない
限りエタノール/ドライアイス又はエタノール/液体窒
素混合体からなる冷却浴を使用して行った。
又はアルゴン雰囲気下で行った。その窒素又はアルゴン
は、銅触媒及びモレキュラ−シーブ(4オングストロー
ム)上で乾燥した。溶媒は従来の方法に従って蒸留によ
り乾燥した。クロロシランは使用前にK2CO3から蒸
留した。0℃以下の温度での反応は、特にことわらない
限りエタノール/ドライアイス又はエタノール/液体窒
素混合体からなる冷却浴を使用して行った。
【0075】0.25mm×10mのChrompac
k CP Sil 5CB毛管カラムを備えたChro
mpack CP 9000 を使用してガスクロマト
グラフィ−を行った。NMR吸光分光分析の外にガスク
ロマトクラフィ−を使用して、実施例1及び2における
シラシクロブタンに対するZ/E異性体の割合を決定し
た。核磁気共鳴(NMR)は、Bruker WP10
0SY (1H,13C),Jeol JNM GX
270(13C,29Si),BrukerAMX 3
00(29Si)及びBruker DPX 300(
1H,13C)を使用して得た。NMR溶媒は、内部基
準としてテトラメチルシランを含有するジュウテリウム
置換したクロロホルム、CDCl3であった。
k CP Sil 5CB毛管カラムを備えたChro
mpack CP 9000 を使用してガスクロマト
グラフィ−を行った。NMR吸光分光分析の外にガスク
ロマトクラフィ−を使用して、実施例1及び2における
シラシクロブタンに対するZ/E異性体の割合を決定し
た。核磁気共鳴(NMR)は、Bruker WP10
0SY (1H,13C),Jeol JNM GX
270(13C,29Si),BrukerAMX 3
00(29Si)及びBruker DPX 300(
1H,13C)を使用して得た。NMR溶媒は、内部基
準としてテトラメチルシランを含有するジュウテリウム
置換したクロロホルム、CDCl3であった。
【0076】マススペクトルは、Finnigan M
AT イオントラップを結合したChrompack
9000ガスクロマトグラフを使用して得た。マススペ
クトルのデータは、電子流300mA,イオン加速電圧
3kV、イオン化電位70eV及びソース温度250℃
を用いて、マス/チャージ(m/z)の範囲50〜60
0について集めた。化学イオン化(CI)における反応
ガスとしてメタノールを使用した。
AT イオントラップを結合したChrompack
9000ガスクロマトグラフを使用して得た。マススペ
クトルのデータは、電子流300mA,イオン加速電圧
3kV、イオン化電位70eV及びソース温度250℃
を用いて、マス/チャージ(m/z)の範囲50〜60
0について集めた。化学イオン化(CI)における反応
ガスとしてメタノールを使用した。
【0077】
【実施例】実施例1 フラスコに無水酢酸1.3モルとp−トルエンスルホン
酸モノハイドレイト7gを装入した。アセチレンアルコ
ールHC=CC(CH3)2OH(1.0モル)を10
分かけて添加した、多少冷却した。次にそのフラスコを
エニンが留去され始めるまで急熱した。エニンが余り速
く留去しないように制御しながらさらに加熱した;60
℃以下で大部分が移行した。浴温度が高くなるにつれ、
反応混合体は濃黒色に変わった。45〜60分後、カラ
ムのヘッド部の温度が100℃に達したときに、加熱を
停止した。微量の酢酸を除去するために、その留出物を
別の小漏斗において3NのKOH冷溶液10〜15mL
で2回洗浄した。無水MgSO45gからの再蒸留によ
って、純粋なイソプロペニルアセチレン、HC=CC
(CH3)2(沸点−35℃/760mm)が高収率で
得られた。その化合物は、フリーザ−(−20〜−30
℃)に貯蔵した。
酸モノハイドレイト7gを装入した。アセチレンアルコ
ールHC=CC(CH3)2OH(1.0モル)を10
分かけて添加した、多少冷却した。次にそのフラスコを
エニンが留去され始めるまで急熱した。エニンが余り速
く留去しないように制御しながらさらに加熱した;60
℃以下で大部分が移行した。浴温度が高くなるにつれ、
反応混合体は濃黒色に変わった。45〜60分後、カラ
ムのヘッド部の温度が100℃に達したときに、加熱を
停止した。微量の酢酸を除去するために、その留出物を
別の小漏斗において3NのKOH冷溶液10〜15mL
で2回洗浄した。無水MgSO45gからの再蒸留によ
って、純粋なイソプロペニルアセチレン、HC=CC
(CH3)2(沸点−35℃/760mm)が高収率で
得られた。その化合物は、フリーザ−(−20〜−30
℃)に貯蔵した。
【0078】ジエチルエーテル中のイソプロペニルアセ
チレン溶液に、0.95当量(イソプロペニルアセチレ
ンのモル数を基準)のメチルリチウム(ジエチルエーテ
ル中に1.6M)を−50℃で窒素雰囲気下で滴下し
た。次に、その混合体に、−20〜−30℃において等
モル量のクロロトリメチルシランを添加した、その際塩
化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体は、冷浴中で
室温にゆっくり暖めた。次に、蒸留によってジエチルエ
ーテルを除去し、残留物をn−ペンタンで抽出した。そ
の抽出物は、ガラスフリット(D4)を通してろ過して
塩化リチウムを除去し、ろ液は減圧下で濃縮した。得ら
れた残留物は、高真空下で蒸留して、式
チレン溶液に、0.95当量(イソプロペニルアセチレ
ンのモル数を基準)のメチルリチウム(ジエチルエーテ
ル中に1.6M)を−50℃で窒素雰囲気下で滴下し
た。次に、その混合体に、−20〜−30℃において等
モル量のクロロトリメチルシランを添加した、その際塩
化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体は、冷浴中で
室温にゆっくり暖めた。次に、蒸留によってジエチルエ
ーテルを除去し、残留物をn−ペンタンで抽出した。そ
の抽出物は、ガラスフリット(D4)を通してろ過して
塩化リチウムを除去し、ろ液は減圧下で濃縮した。得ら
れた残留物は、高真空下で蒸留して、式
【化24】 を有する共役エニンを与えた。
【0079】トリクロロビニルシラン(8.1g,6.
4mL,50mmol)及び等モル量のペンタン(10
0mL)中の共役エニン(A)のかくはん溶液に、ペン
タン中のt−ブチルリチウム(1.7M,29.4m
L,50mmol)を20℃の窒素雰囲気下で添加し
た、その際塩化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体
は、1晩かくはんして、ガラスフリット(D4)を通し
てろ過して塩化リチウムを除去した。ろ液は減圧下で濃
縮し、得られた残留物は、高真空(0.1Pa)下で真
空ジャケット付き40cmのビグロウ(vigreau
x)カラムを介して分別蒸留して、Z及びEの異性体混
合体として式:
4mL,50mmol)及び等モル量のペンタン(10
0mL)中の共役エニン(A)のかくはん溶液に、ペン
タン中のt−ブチルリチウム(1.7M,29.4m
L,50mmol)を20℃の窒素雰囲気下で添加し
た、その際塩化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体
は、1晩かくはんして、ガラスフリット(D4)を通し
てろ過して塩化リチウムを除去した。ろ液は減圧下で濃
縮し、得られた残留物は、高真空(0.1Pa)下で真
空ジャケット付き40cmのビグロウ(vigreau
x)カラムを介して分別蒸留して、Z及びEの異性体混
合体として式:
【化25】 を有する1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−トリメチルシリルエテニル)−1−シ
ラシクロブタン6,68g(20.8mmol,48
%)及び式:
チル−3−(2−トリメチルシリルエテニル)−1−シ
ラシクロブタン6,68g(20.8mmol,48
%)及び式:
【化26】 を有する1、1−ジクロロ−3−(1−メチルビニル)
−4−ネオペンチル−2−(トリメチルシリル)−1−
シラシクロブト−2−エン4,44g(14.5mmo
l,29%)の混合物からなる無色の液体(沸点、55
〜59℃/0.1Pa)与えた。
−4−ネオペンチル−2−(トリメチルシリル)−1−
シラシクロブト−2−エン4,44g(14.5mmo
l,29%)の混合物からなる無色の液体(沸点、55
〜59℃/0.1Pa)与えた。
【0080】ガスクロマトグラフィー及びNMR分光測
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のネオペンチル基及びトリメチルシリルエチニル
基)/E異性体(シラシクロブタン環の反対側のネオペ
ンチル基及びトリメチルシリルエチニル基)の比は5
9:41であった。
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のネオペンチル基及びトリメチルシリルエチニル
基)/E異性体(シラシクロブタン環の反対側のネオペ
ンチル基及びトリメチルシリルエチニル基)の比は5
9:41であった。
【0081】それらの反応生成物について得られたNM
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、それぞれ式(1)及び(2)によ
って表されるシラシクロブタン及びシラシクロブタン化
合物と一致する。
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、それぞれ式(1)及び(2)によ
って表されるシラシクロブタン及びシラシクロブタン化
合物と一致する。
【0082】実施例2 トリクロロビニルシランと式
【化27】 を有する等モルの2−メチルヘキ−1−エン−3−イン
(Lancaster社から商的に入手)の溶液を実施
例1の方法を使用してt−ブチルリチウムで処理した。
その残留物は、高真空(0.1Pa)下で蒸留して、Z
及びEの異性体の混合体として式:
(Lancaster社から商的に入手)の溶液を実施
例1の方法を使用してt−ブチルリチウムで処理した。
その残留物は、高真空(0.1Pa)下で蒸留して、Z
及びEの異性体の混合体として式:
【化28】 を有する3−(ブト−1−イン−1−イル)−1、1−
ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシ
クロブタン4,46g(16.1mmol,32%)及
び式:
ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシ
クロブタン4,46g(16.1mmol,32%)及
び式:
【化29】 を有する1、1−ジクロロ−2−エチル−3−(1−メ
チルビニル)−4−ネオペンチル−1−シラシクロブト
−2−エン2,60g(9.4mmol,19%)から
なる無色の液体(沸点、82〜96℃/0.1Pa)を
与えた。
チルビニル)−4−ネオペンチル−1−シラシクロブト
−2−エン2,60g(9.4mmol,19%)から
なる無色の液体(沸点、82〜96℃/0.1Pa)を
与えた。
【0083】ガスクロマトグラフィー及びNMR分光測
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のブチニル基及びネオペンチル基)/E異性体(シ
ラシクロブタン環の反対側のブチル基及びネオペンチル
基)の比は53:47であった。
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のブチニル基及びネオペンチル基)/E異性体(シ
ラシクロブタン環の反対側のブチル基及びネオペンチル
基)の比は53:47であった。
【0084】それらの反応生成物について得られたNM
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、それぞれ式(3)及び(4)によ
って表されるシラシクロブタン及びシラシクロブタン化
合物と一致する。
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、それぞれ式(3)及び(4)によ
って表されるシラシクロブタン及びシラシクロブタン化
合物と一致する。
【0085】実施例3 テトラヒドロフラン90mL及び四塩化炭素210mL
中の2−メチル−4−フェニルブト−1−エン−3−オ
ール(16.02g)100mmolの溶液をドライの
トリフェニルホスフィン300mmol(78.70
g)と混合した。その溶液を環流下2時間沸騰するまで
加熱した、その際沈殿物が生成した。冷却後、400m
Lのペンタンを添加して、その沈殿物をろ過によって分
離した。溶媒は減圧下でろ液から除去し、残留物を分別
蒸留して、式
中の2−メチル−4−フェニルブト−1−エン−3−オ
ール(16.02g)100mmolの溶液をドライの
トリフェニルホスフィン300mmol(78.70
g)と混合した。その溶液を環流下2時間沸騰するまで
加熱した、その際沈殿物が生成した。冷却後、400m
Lのペンタンを添加して、その沈殿物をろ過によって分
離した。溶媒は減圧下でろ液から除去し、残留物を分別
蒸留して、式
【化30】 を有する2−メチル−4−フェニルブト−1−エン−3
−インを与えた。
−インを与えた。
【0086】ペンタン中のトリクロロビニルシランと等
モル量の共役エニンの溶液を実施例1の方法を使用して
t−ブチルリチウムで処理した。その残留物は、高真空
(0.1Pa)下で蒸留して、Z及びEの異性体の混合
体として式:
モル量の共役エニンの溶液を実施例1の方法を使用して
t−ブチルリチウムで処理した。その残留物は、高真空
(0.1Pa)下で蒸留して、Z及びEの異性体の混合
体として式:
【化31】 を有する1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラシクロ
ブタンから成る無色の粘性液体(沸点、108〜120
℃/0.1Pa)6.83gを与えた。
チル−3−(2−フェニルエテニル)−1−シラシクロ
ブタンから成る無色の粘性液体(沸点、108〜120
℃/0.1Pa)6.83gを与えた。
【0087】ガスクロマトグラフィー及びNMR分光測
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のフェニルエテニル基及びネオペンチル基)/E異
性体(シラシクロブタン環の反対側のフェニルエテニル
基及びネオペンチル基)の比は61:39であった。
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のフェニルエテニル基及びネオペンチル基)/E異
性体(シラシクロブタン環の反対側のフェニルエテニル
基及びネオペンチル基)の比は61:39であった。
【0088】それらの反応生成物について得られたNM
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、式(5)表されるシラシクロブタ
ン化合物と一致する。
Rスペクトル(1H,13C及び2 9Si)マススペク
トル及び元素分析は、式(5)表されるシラシクロブタ
ン化合物と一致する。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年4月21日(2000.4.2
1)
1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】変更
【補正内容】
【化3】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体。 ─────────────────────────────────────────────────────
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年7月5日(2000.7.5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり;R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有することを特徴とするシラシクロブ
タン化合物。
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり;R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有することを特徴とするシラシクロブ
タン化合物。
【化2】R1R2ClSiCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R 3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法。
ノシロキシであり;R 3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法。
【化3】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体。
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体。
【化4】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有することを特徴とするシロキサン重合
体。
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有することを特徴とするシロキサン重合
体。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0001
【補正方法】変更
【補正内容】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、環C−3の位置に置換
又は非置換エチニル基が結合しているシラシクロブタン
化合物を提供する。本発明は、シラシクロブタン化合
物、少くとも1つのシラシクロブタン単位を含有するシ
ラン重合体及び少くとも1つのシラシクロブタン単位を
含有するシロキサン重合体の製造法も提供する。
又は非置換エチニル基が結合しているシラシクロブタン
化合物を提供する。本発明は、シラシクロブタン化合
物、少くとも1つのシラシクロブタン単位を含有するシ
ラン重合体及び少くとも1つのシラシクロブタン単位を
含有するシロキサン重合体の製造法も提供する。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】オ−ナ(Auner)らは、等モル量のトリクロ
ロビニルシランとt−ブチルリチウム及び過剰の1、3
−ブタジエンを反応させることによるシリコンジクロロ
置換3−ビニル−1−シラシクロブタンの合成を開示し
ている(Oranometallics 1993、 12(10)、 4123-4134を
参照)。
ロビニルシランとt−ブチルリチウム及び過剰の1、3
−ブタジエンを反応させることによるシリコンジクロロ
置換3−ビニル−1−シラシクロブタンの合成を開示し
ている(Oranometallics 1993、 12(10)、 4123-4134を
参照)。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記の引用した文献は
種々のシラシクロブタン化合物を開示しているけれど
も、これらの文献はいずれも、本発明の環C−3の位置
に置換又は非置換エチニル基が結合しているシラシクロ
ブタン化合物、そのシラシクロブタン化合物、本発明の
シラン重合体又はシロキサン重合体の製造法を教示して
いない。
種々のシラシクロブタン化合物を開示しているけれど
も、これらの文献はいずれも、本発明の環C−3の位置
に置換又は非置換エチニル基が結合しているシラシクロ
ブタン化合物、そのシラシクロブタン化合物、本発明の
シラン重合体又はシロキサン重合体の製造法を教示して
いない。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】我々は、適当に置換したクロロビニルシラ
ンと共役エニンとの混合物を、t−ブチルリチウムで処
理することよって、環C−3の位置に置換又は非置換エ
チニル基を結合しているシラシクロブタン化合物が生成
することを発見した。
ンと共役エニンとの混合物を、t−ブチルリチウムで処
理することよって、環C−3の位置に置換又は非置換エ
チニル基を結合しているシラシクロブタン化合物が生成
することを発見した。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】また、本発明は、式
【化9】R1R2ClSiCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R 3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法に関する。
ノシロキシであり;R 3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法に関する。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】本発明のシラシクロブタン化合物の製造法
は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法は、
出発の共役エニンにおける置換エチニル基がシラシクロ
ブタン化合物の環C−3位置に結合している単一のレギ
オ異性体を与える。置換エチニル基を環C−2位置に結
合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検出さ
れない。その上、その反応は、容易に入手できる出発材
料を使用して1つの合成工程で進行する。
は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法は、
出発の共役エニンにおける置換エチニル基がシラシクロ
ブタン化合物の環C−3位置に結合している単一のレギ
オ異性体を与える。置換エチニル基を環C−2位置に結
合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検出さ
れない。その上、その反応は、容易に入手できる出発材
料を使用して1つの合成工程で進行する。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】本発明のシラン及びシロキサン重合体は、
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エチニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエチ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素を含有する化合物と反応性であ
る。
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換または非置換エチニル基を環C−3
位置に結合している少くとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエチ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素を含有する化合物と反応性であ
る。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】置換又は非置換エチニル基を環のケイ素原
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】ここでの用語「置換又は非置換エチニル
基」は、式−C≡CR3(式中のR3は以下に定義され
ている)を有する基を意味する。
基」は、式−C≡CR3(式中のR3は以下に定義され
ている)を有する基を意味する。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】R1及びR2によって表される一価の炭化
水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、望ましくは1
〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子
を有する。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非
環式炭化水素基は分枝又は非分枝構造をもち得る。一価
の炭化水素基は、限定ではないが、メチル、エチル、プ
ロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピ
ル、1−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチ
ルブチル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチ
ルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及び
オクタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロ
ペンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルの
ようなシクロアルキル;フェニル及びナフチルのような
アリ−ル;トリル及びキシリルのようなアルカリ−ル;
ベンジル及びフェネチルのようなアラルキル;ビニル、
アリル及びプロペニルのようなアルケニル;スチリル及
びシンナミルのようなアリ−ルアルケニル;及びエテニ
ル及びプロピニルのようなアルキニルを含む。好適な一
価の炭化水素基の例は、メチル、プロピル、ブチル及び
フェニルを含む。
水素基は、典型的に1〜20の炭素原子、望ましくは1
〜10の炭素原子、さらに望ましくは1〜5の炭素原子
を有する。少くとも3つの炭素原子を含有する一価の非
環式炭化水素基は分枝又は非分枝構造をもち得る。一価
の炭化水素基は、限定ではないが、メチル、エチル、プ
ロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピ
ル、1−エチルプロピル、2−メチルブチル、3−メチ
ルブチル、1、2−ジメチルプロピル、2、2−ジメチ
ルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及び
オクタデシルのような非分枝及び分枝アルキル;シクロ
ペンチル、シクロヘキシル及びメチルシクロヘキシルの
ようなシクロアルキル;フェニル及びナフチルのような
アリ−ル;トリル及びキシリルのようなアルカリ−ル;
ベンジル及びフェネチルのようなアラルキル;ビニル、
アリル及びプロペニルのようなアルケニル;スチリル及
びシンナミルのようなアリ−ルアルケニル;及びエテニ
ル及びプロピニルのようなアルキニルを含む。好適な一
価の炭化水素基の例は、メチル、プロピル、ブチル及び
フェニルを含む。
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】本発明のシラシクロブタン化合物の例は、
1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−3−
(2−トリメチルシリルエチニル)−1−シラシクロブ
タン;3−(ブト−1−イン−1−イル)−1、1−ジ
クロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシク
ロブタン;及び1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネ
オペンチル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラ
シクロブタンを含む。本発明による好適なシラシクロブ
タンは、1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラシクロ
ブタンである。本発明によるシラシクロブタン化合物の
製造法は、式
1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−3−
(2−トリメチルシリルエチニル)−1−シラシクロブ
タン;3−(ブト−1−イン−1−イル)−1、1−ジ
クロロ−3−メチル−2−ネオペンチル−1−シラシク
ロブタン;及び1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネ
オペンチル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラ
シクロブタンを含む。本発明による好適なシラシクロブ
タンは、1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラシクロ
ブタンである。本発明によるシラシクロブタン化合物の
製造法は、式
【化13】R1R2ClSiCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式
【化14】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成る。
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成る。
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】本法の共役エニン(R3がトリオルガノシ
リル基である場合)は、次のスキ−ムに従って式HC≡
CC(R4)=CH2を有する対応するエニンのリリル
化によって製造できる:
リル基である場合)は、次のスキ−ムに従って式HC≡
CC(R4)=CH2を有する対応するエニンのリリル
化によって製造できる:
【化16】 (式中のRは、式(I)を有するシラシクロブタン化合
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
る;R4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物に
ついて前に定義及び例示した通りである)。
物について前に定義及び例示した一価の炭化水素基であ
る;R4は式(I)を有するシラシクロブタン化合物に
ついて前に定義及び例示した通りである)。
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】式HC≡CC(R4)=CH2を有するエ
ニンは、プロパルギルアルコ−ルの脱水、末端アルキン
のハロゲン化ビニルとの結合及びエニンの異性体化を含
む周知の方法によって製造できる。例えば、これら及び
他の方法は、Brandsmaによって記載されている(L. Bra
ndsma in Studies in Organic Chemistry 34: Preparat
ive Acetylenic Chemistry, 2nd ed.; Elsevier Scienc
e: Amsterdam, 1992参照)。選択する特定の方法は、必
要なエニンの構造に依存する。
ニンは、プロパルギルアルコ−ルの脱水、末端アルキン
のハロゲン化ビニルとの結合及びエニンの異性体化を含
む周知の方法によって製造できる。例えば、これら及び
他の方法は、Brandsmaによって記載されている(L. Bra
ndsma in Studies in Organic Chemistry 34: Preparat
ive Acetylenic Chemistry, 2nd ed.; Elsevier Scienc
e: Amsterdam, 1992参照)。選択する特定の方法は、必
要なエニンの構造に依存する。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0056
【補正方法】変更
【補正内容】
【0056】本発明のシラン重合体は、式
【化22】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有する。
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1である)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有する。
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0057
【補正方法】変更
【補正内容】
【0057】上記式(II)において、R3、R4及び
R5によって表される基は、式(I)を有するシラシク
ロブタン化合物につい定義及び例示(好適な実施例を含
む)されている通りである。本発明のシラン重合体は、
一般に3〜1000,好適には5〜200の重合度を有
する。本発明のシラン重合体は、式(II)を有するシ
ラシクロブタン単位を含有するホモポリマ−及び共重合
体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロブタン
単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの異なる
シラシクロブタン単位が存在する。別つのタイプの共重
合体はシラシクロブタン単位と、式R2Si(式中のR
は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について前
に定義した一価の炭化水素基である)を有するオルガノ
シラン単位をを含有する。
R5によって表される基は、式(I)を有するシラシク
ロブタン化合物につい定義及び例示(好適な実施例を含
む)されている通りである。本発明のシラン重合体は、
一般に3〜1000,好適には5〜200の重合度を有
する。本発明のシラン重合体は、式(II)を有するシ
ラシクロブタン単位を含有するホモポリマ−及び共重合
体を含む。1つのタイプの共重合体はシラシクロブタン
単位のみを含有する、その場合、少くとも2つの異なる
シラシクロブタン単位が存在する。別つのタイプの共重
合体はシラシクロブタン単位と、式R2Si(式中のR
は式(I)を有するシラシクロブタン化合物について前
に定義した一価の炭化水素基である)を有するオルガノ
シラン単位をを含有する。
【手続補正17】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0059
【補正方法】変更
【補正内容】
【0059】ウルツ反応は、トルエンのような100℃
以上の沸点を有する炭化水素溶媒中で還流条件下で行う
ことが望ましい。その重合体生成物は、塩化ナトリウム
(又はリチウム)をろ過によって除去し、次にそのろ液
を減圧下で濃縮することによって回収できる。
以上の沸点を有する炭化水素溶媒中で還流条件下で行う
ことが望ましい。その重合体生成物は、塩化ナトリウム
(又はリチウム)をろ過によって除去し、次にそのろ液
を減圧下で濃縮することによって回収できる。
【手続補正18】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0068
【補正方法】変更
【補正内容】
【0068】本発明のシラシクロブタン化合物の前記製
造法は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法
は、出発の共役エニンにおける置換エチニル基がシラシ
クロブタン化合物の環C−3位置に結合している単一の
レギオ異性体を与える。置換エチニル基を環C−2位置
に結合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検
出されない。その上、その反応は、容易に入手できる出
発材料を使用して1合成工程で進行する。
造法は、極めてレギオ選択的である。換言すると、本法
は、出発の共役エニンにおける置換エチニル基がシラシ
クロブタン化合物の環C−3位置に結合している単一の
レギオ異性体を与える。置換エチニル基を環C−2位置
に結合したレギオ異性体のシラシクロブタン化合物は検
出されない。その上、その反応は、容易に入手できる出
発材料を使用して1合成工程で進行する。
【手続補正19】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0069
【補正方法】変更
【補正内容】
【0069】本発明のシラン及びシロキサン重合体は、
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換又は非置換エチニル基を環C−3位
置に結合している少なくとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエチ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素原子を含有する化合物と反応性で
ある。
従来のポリシロキサン及びポリシランと比較して、優れ
た低温耐性を示す。その上、本発明のシラン及びシロキ
サン重合体は、置換又は非置換エチニル基を環C−3位
置に結合している少なくとも1つのシラシクロブタン単
位を含有する。そのシラシクロブタン単位におけるエチ
ニル基のC−C三重結合は、ヒドロシリル化反応におい
てSiに結合した水素原子を含有する化合物と反応性で
ある。
【手続補正20】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0071
【補正方法】変更
【補正内容】
【0071】置換又は非置換エチニル基を環のケイ素原
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
子に結合している本発明のシラシクロブタン化合物は、
ポリシロキサン及びポリシランのようなSiに結合した
水素原子を有する化合物とのヒドロシリル化反応に使用
して、末端及び/又はペンダントのシルシクロブタン環
を含有するポリシロキサン又はポリシランの製造に使用
できる。本発明のシラン重合体は熱分解によって炭化ケ
イ素の製造に有用である。
【手続補正21】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0077
【補正方法】変更
【補正内容】
【0077】
【実施例】実施例1 フラスコに無水酢酸1.3モルとp−トルエンスルホン
酸モノハイドレイト7gを装入した。アセチレンアルコ
−ルHC≡CC(CC3)2OH(1.0モル)を10
分かけて添加した、多少冷却した。次にそのフラスコを
エニンが留去され始めるまで急熱した。エニンが余り速
く留去しないように制御しながらさらに加熱した;60
℃以下で大部分が移行した。浴温度が高くなるにつれ、
反応混合体は濃黒色に変わった。45〜60分後、カラ
ムのヘッド部の温度が100℃に達したときに、加熱を
停止した。微量の酢酸を除去するために、その留出物を
別の小漏斗において3NのKOH冷溶液10〜15mL
で2回洗浄した。無水MgSO45gからの再蒸留によ
って、純粋なイソプロペニルアセチレン、HC≡CC
(CC3)2 (沸点-35℃/760mm)が高収率で得られた。
その化合物は、フリ−ザ−(−20〜−30℃)に貯蔵
した。
酸モノハイドレイト7gを装入した。アセチレンアルコ
−ルHC≡CC(CC3)2OH(1.0モル)を10
分かけて添加した、多少冷却した。次にそのフラスコを
エニンが留去され始めるまで急熱した。エニンが余り速
く留去しないように制御しながらさらに加熱した;60
℃以下で大部分が移行した。浴温度が高くなるにつれ、
反応混合体は濃黒色に変わった。45〜60分後、カラ
ムのヘッド部の温度が100℃に達したときに、加熱を
停止した。微量の酢酸を除去するために、その留出物を
別の小漏斗において3NのKOH冷溶液10〜15mL
で2回洗浄した。無水MgSO45gからの再蒸留によ
って、純粋なイソプロペニルアセチレン、HC≡CC
(CC3)2 (沸点-35℃/760mm)が高収率で得られた。
その化合物は、フリ−ザ−(−20〜−30℃)に貯蔵
した。
【手続補正22】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0079
【補正方法】変更
【補正内容】
【0079】トリクロロビニルシラン(8.1g,6.
4mL,50mmol)及び等モル量のペンタン(10
0mL)中の共役エニン(A)のかくはん溶液に、ペン
タン中のt−ブチルリチウム(1.7M,29.4m
L,50mmol)を20℃の窒素雰囲気下で添加し
た、その際塩化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体
は、1晩かくはんして、ガラスフリット(D4)を通し
てろ過して塩化リチウムを除去した。ろ液は減圧下で濃
縮し、得られた残留物は、高真空(0.1Pa)下で真
空ジャケット付き40cmのビグロウ(vigreau
x)カラムを介して分別蒸留して、Z及びEの異性体混
合体として式:
4mL,50mmol)及び等モル量のペンタン(10
0mL)中の共役エニン(A)のかくはん溶液に、ペン
タン中のt−ブチルリチウム(1.7M,29.4m
L,50mmol)を20℃の窒素雰囲気下で添加し
た、その際塩化リチウムの沈殿物が生じた。その混合体
は、1晩かくはんして、ガラスフリット(D4)を通し
てろ過して塩化リチウムを除去した。ろ液は減圧下で濃
縮し、得られた残留物は、高真空(0.1Pa)下で真
空ジャケット付き40cmのビグロウ(vigreau
x)カラムを介して分別蒸留して、Z及びEの異性体混
合体として式:
【化25】 (1) を有する1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−トリメチルシリルエチニル)−1−シ
ラシクロブタン6,68g(20.8mmol,48
%)及び式:
チル−3−(2−トリメチルシリルエチニル)−1−シ
ラシクロブタン6,68g(20.8mmol,48
%)及び式:
【化26】 (2) を有する1、1−ジクロロ−3−(1−メチルビニル)
−4−ネオペンチル−2−(トリメチルシリル)−1−
シラシクロブト−2−エン4,44g(14.5mmo
l,29%)の混合物からなる無色の液体(沸点、55
〜59℃/0.1Pa)与えた。
−4−ネオペンチル−2−(トリメチルシリル)−1−
シラシクロブト−2−エン4,44g(14.5mmo
l,29%)の混合物からなる無色の液体(沸点、55
〜59℃/0.1Pa)与えた。
【手続補正23】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0086
【補正方法】変更
【補正内容】
【0086】ペンタン中のトリクロロビニルシランと等
モル量の共役エニンの溶液を実施例1の方法を使用して
t−ブチルリチウムで処理した。その残留物は、高真空
(0.1Pa)下で蒸留して、Z及びEの異性体の混
合体として式:
モル量の共役エニンの溶液を実施例1の方法を使用して
t−ブチルリチウムで処理した。その残留物は、高真空
(0.1Pa)下で蒸留して、Z及びEの異性体の混
合体として式:
【化31】 (5) を有する1、1−ジクロロ−3−メチル−2−ネオペン
チル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラシクロ
ブタンから成る無色の粘性液体(沸点、108〜120
℃/0.1Pa)6.83gを与えた。
チル−3−(2−フェニルエチニル)−1−シラシクロ
ブタンから成る無色の粘性液体(沸点、108〜120
℃/0.1Pa)6.83gを与えた。
【手続補正24】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0087
【補正方法】変更
【補正内容】
【0087】ガスクロマトグラフィ−及びNMR分光測
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のフェニルエチニル基及びネオペンチル基)/E異
性体(シラシクロブタン環の反対側のフェニルエチニル
基及びネオペンチル基)の比は61:39であった。
定によって測定したZ異性体(シラシクロブタン環の同
一側のフェニルエチニル基及びネオペンチル基)/E異
性体(シラシクロブタン環の反対側のフェニルエチニル
基及びネオペンチル基)の比は61:39であった。
Claims (5)
- 【請求項1】 式 【化1】 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ、トリオルガノ
シロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は
一価の炭化水素基であり;R3は共役脂肪族不飽和を含
まない一価の炭化水素基、トリオルガノシリル又は水素
であり、R4は一価の飽和炭化水素基である;但し、R
3が水素のときは、R1もR2もクロロ又はオルガノオ
キシではない)を有することを特徴とするシラシクロブ
タン化合物。 - 【請求項2】 式 【化2】R1R2ClSCH=CH2 を有するクロロビニルシランと、式 (式中のR1及びR2は、別々にクロロ又はトリオルガ
ノシロキシであり;R3は共役脂肪族不飽和を含まない
一価の炭化水素基又はトリオルガノシリルであり;R4
は一価の飽和炭化水素基である)を有する共役エニンか
ら成る混合物と、t−ブチルリチウムとを接触させる工
程から成ることを特徴とするシラシクロブタン化合物の
製造法。 - 【請求項3】 前記クロロビニルシランと共役エニンの
混合物を接触させる工程が、炭化水素溶媒中において行
われることを特徴とする請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 式 【化3】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基又はトリオルガノシリルであり;R4は一価の飽
和炭化水素基であり;R5はクロロ、トリオルガノシロ
キシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又は一価
の炭化水素基であり;aは0又は1で有る)を有する少
くとも1つのシラシクロブタン単位を含有することを特
徴とするシラン重合体。 - 【請求項5】 式 【化4】 (式中のR3は共役脂肪族不飽和を含まない一価の炭化
水素基、トリオルガノシリル又は水素であり;R4は一
価の飽和炭化水素基であり;R6はクロロ、トリオルガ
ノシロキシ、オルガノオキシ、トリオルガノシリル基又
は一価の炭化水素基、ヒドロキシ又は−O−である;但
し、R3が水素原子のときは、R6クロロ又はオルガノ
オキシではない)を有する少くとも1つのシラシクロブ
タン単位を含有することを特徴とするシロキサン重合
体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/298,389 US6136940A (en) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | Silacyclobutane compounds, methods of preparing same, and polymers formed therefrom |
US09/298389 | 1999-04-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000344784A true JP2000344784A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=23150289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000120257A Pending JP2000344784A (ja) | 1999-04-23 | 2000-04-21 | シラシクロブタン化合物、その製造法及びそれから生成される重合体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6136940A (ja) |
EP (1) | EP1046643A1 (ja) |
JP (1) | JP2000344784A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189491A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社カネカ | 反応性ケイ素基含有重合体、および硬化性組成物 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107021866A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-08-08 | 三峡大学 | 一种链状烯炔化合物及其合成方法 |
CN111253430B (zh) * | 2020-03-20 | 2022-05-13 | 西南科技大学 | 具有硅杂环丁烷交联结构的环硅氧烷聚合单体及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5017671A (en) * | 1989-10-16 | 1991-05-21 | Dow Corning Corporation | Polycyclosiloxanes containing silacyclobutane |
US4985565A (en) * | 1989-10-16 | 1991-01-15 | Dow Corning Corporation | Silacyclobutanes |
US5001187A (en) * | 1989-10-16 | 1991-03-19 | Dow Corning Corporation | Emulsions of silicone elastomer |
US4965367A (en) * | 1989-10-16 | 1990-10-23 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of silacyclobutanes |
GB2326417A (en) * | 1997-06-20 | 1998-12-23 | Dow Corning | Silacyclobutane and butene polymers |
-
1999
- 1999-04-23 US US09/298,389 patent/US6136940A/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-14 EP EP00108231A patent/EP1046643A1/en not_active Withdrawn
- 2000-04-21 JP JP2000120257A patent/JP2000344784A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189491A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社カネカ | 反応性ケイ素基含有重合体、および硬化性組成物 |
US11859037B2 (en) | 2018-03-30 | 2024-01-02 | Kaneka Corporation | Reactive silicon group-containing polymer and curable composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1046643A1 (en) | 2000-10-25 |
US6136940A (en) | 2000-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3178392A (en) | Heterocyclic and linear siliconmethylene and polysiloxane compounds containing siliconmethylene units and their preparation | |
US2835690A (en) | Base-catalyzed addition ot vinyl-silicon compositions | |
JPH08208839A (ja) | アルキルヒドリドシロキサンの製造方法 | |
JPH0788394B2 (ja) | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 | |
JPH0791386B2 (ja) | 非水系によるシリコーンオリゴマー調製法 | |
US3083219A (en) | Intercondensation of tetrahydrofuran with organohalosilanes | |
US2682512A (en) | Unsaturated organosilanes and method of making same | |
US6153781A (en) | Silacyclobutene compounds, methods of preparing same, and polymers formed therefrom | |
US5136064A (en) | Olefinic and acetylenic azasilacyclopentanes | |
US2671100A (en) | Hydrolyzable organosilylethynes | |
JP2000344784A (ja) | シラシクロブタン化合物、その製造法及びそれから生成される重合体 | |
Sommer et al. | Aliphatic Organo-functional Siloxanes1 | |
US5416233A (en) | Preparation of vinylsilane-benzocyclobutenes | |
US3529007A (en) | New organosilicon compounds,their preparation and their use | |
JP4278725B2 (ja) | α,ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンの製造方法 | |
JP4453827B2 (ja) | シロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法 | |
JP7416927B2 (ja) | ヒドリドシリコン化合物からのシロキサンの調製方法 | |
CN104470935B (zh) | 氧杂环硅烷及其制备方法 | |
JP2023542476A (ja) | シロキサンの調製方法 | |
JPH09309889A (ja) | シロキサン化合物およびその製造方法 | |
US2963500A (en) | Organosiloxy silalactones | |
JPH0786117B2 (ja) | アルコキシシラン | |
JPH05202068A (ja) | アルキンのシリルホルミル化法及びそれによって得られる生成物 | |
US3200137A (en) | Chlorinated bis(silyl)benzenes | |
JPH06107671A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 |