JP2000343824A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2000343824A
JP2000343824A JP11160749A JP16074999A JP2000343824A JP 2000343824 A JP2000343824 A JP 2000343824A JP 11160749 A JP11160749 A JP 11160749A JP 16074999 A JP16074999 A JP 16074999A JP 2000343824 A JP2000343824 A JP 2000343824A
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JP
Japan
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group
substituted
ring
optical recording
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP11160749A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuko Okijima
祐子 大木島
Takumi Nagao
卓美 長尾
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium capable of recording and reproducing in a high density by a blue laser. SOLUTION: The optical recording medium comprises a recording layer containing a compound represented by the formula, wherein a ring A is an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle which may be substituted, rings B, C are each 5-membered ring which may have a substituent, or may form a condensed ring together with C1 and C2, C1' and C2' and another group, wherein X, X' are each independently a nitrogen atom, or C-R1, Y, Y' are each independently an oxygen atom, a sulfur atom or N-R2, wherein R1 is a hydrogen atom, a substituted or nonsubstituted alkyl group, a substituted or nonsubstituted alkoxy group, a substituted or nonsubstituted alkenyl group, a substituted or nonsubstituted amino group, a substituted or nonsubstituted alkylthio group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group or the like, and R2 is a hydrogen atom, a substituted or nonsubstituted alkyl group or a substituted or nonsubsituted alkenyl group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機色素を記録層
に用いた新規な追記型光学記録媒体に関するものであ
る。更に、本発明は青色レーザーにより書き込み及び読
み取りができる光学記録媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel write-once optical recording medium using an organic dye for a recording layer. Further, the present invention relates to an optical recording medium which can be written and read by a blue laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、発振波長の短い半導体レーザーの
開発が進められ、従来の780nmや830nmよりも
短波長のレーザー光を用いた高密度の記録再生可能な光
学記録媒体が求められている。従来提案されている光学
記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒体、
カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色素系光学記録媒
体、等がある。これらの中で、安価で製造プロセス上有
利であるという点で、有機色素系光学記録媒体は優位性
を有するものと考えられている。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor lasers having a short oscillation wavelength have been developed, and there has been a demand for an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction using a laser beam having a shorter wavelength than the conventional 780 nm or 830 nm. Conventionally proposed optical recording media include magneto-optical recording media, phase-change recording media,
There are chalcogen oxide optical recording media, organic dye optical recording media, and the like. Among these, the organic dye-based optical recording medium is considered to have an advantage in that it is inexpensive and advantageous in the manufacturing process.

【0003】現在、有機色素系光学記録媒体には、反射
率の高い金属層を有機色素層の上に積層したタイプのC
D−Rが量産化され広く知られている。これよりもさら
に短波長の赤色半導体レーザーで記録する高密度の有機
色素系光学記録媒体(DVD−R)が開発され、実用化
されているが、今後、より一層高密度化を狙ったDVD
−Rよりもさらに短波長の青色半導体レーザーで記録再
生可能な光学記録媒体が必要になると考えられている。
At present, an organic dye-based optical recording medium has a C type in which a metal layer having high reflectivity is laminated on the organic dye layer.
DR is mass-produced and widely known. A high-density organic dye-based optical recording medium (DVD-R) for recording with a red semiconductor laser having a shorter wavelength than this has been developed and put into practical use.
It is considered that an optical recording medium capable of recording and reproducing with a blue semiconductor laser having a shorter wavelength than -R is required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般に、CD−R、D
VD−Rでそれぞれ使用されている記録媒体は、短波長
の青色半導体レーザーで記録再生すると、反射率が低く
記録再生ができないという問題を有している。本発明
は、青色半導体レーザーに対応することのできる新規な
光学記録媒体を提供することを目的とする。
Generally, CD-R, D
The recording medium used in each of the VD-Rs has a problem that when recording and reproducing with a blue semiconductor laser having a short wavelength, the reflectivity is low and recording and reproducing cannot be performed. An object of the present invention is to provide a novel optical recording medium that can correspond to a blue semiconductor laser.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記一般式
(1)で示される化合物を記録層に含有させることで、
青色半導体レーザーに対応する光学記録媒体を見出し、
本発明に到達した。すなわち本発明は、基板上にレーザ
ーによる情報の書き込み/または読み取りが可能な記録
層が設けられた光学記録媒体において、該記録層が下記
一般式(1)で示される化合物を含有することを特徴と
する光学記録媒体を要旨とするものである。
Means for Solving the Problems The present inventors include a compound represented by the above general formula (1) in a recording layer,
Find an optical recording medium corresponding to the blue semiconductor laser,
The present invention has been reached. That is, the present invention is characterized in that, in an optical recording medium provided with a recording layer on which information can be written / read by a laser on a substrate, the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1). The gist of the invention is an optical recording medium.

【0006】[0006]

【化2】 Embedded image

【0007】(式中、環Aは置換されてもよい芳香族炭
化水素環もしくは芳香族複素環を表し、環B、環Cは置
換基を有しても良い5員環を表すが、それぞれC1 とC
2 、C 1'とC2'及び他の基と共に縮合環を形成してもよ
い。ここで、X、X' はそれぞれ独立して窒素原子、C
−R1 を表し、Y、Y' はそれぞれ独立して酸素原子、
硫黄原子、N−R2 を表す。ここでR1 は水素原子、置
換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアル
コキシ基、置換または非置換のアルケニル基、置換また
は非置換のアミノ基、置換または非置換のアルキルチオ
基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、
アルキルスルホニル基、カルボン酸エステル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、
アリール基、ハロゲン原子、ホルミル基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホン酸基、ニトロ基、シアノ
基を表す。R2 は水素原子、置換または非置換のアルキ
ル基、置換または非置換のアルケニル基を表す。)
Wherein ring A is an optionally substituted aromatic carbon
Represents a hydrogenated ring or an aromatic heterocyclic ring, and ring B and ring C are
Represents a 5-membered ring which may have a substituent,1 And C
Two , C 1'And CTwo'And other groups may form a condensed ring.
No. Here, X and X 'are each independently a nitrogen atom, C
-R1 Y and Y ′ are each independently an oxygen atom,
Sulfur atom, NRTwo Represents Where R1 Is a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkyl group
Oxy, substituted or unsubstituted alkenyl, substituted or unsubstituted
Is an unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkylthio
Group, alkylcarbonyl group, alkoxycarbonyl group,
Alkylsulfonyl group, carboxylate group, carba
Moyl group, sulfamoyl group, sulfonate group,
Aryl group, halogen atom, formyl group, hydroxy
Group, carboxyl group, sulfonic group, nitro group, cyano
Represents a group. RTwo Is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl
Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group. )

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下本発明につき詳細に説明す
る。前記一般式(1)において、環B、環Cはそれぞれ
置換基を有しても良い5員環、もしくは、C1 とC2
1'とC2'及び他と共に形成する縮合環を表し、それら
の群であれば特に制限されないが、好ましくは下記のも
のが挙げられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. In the general formula (1), ring B and ring C are each a 5-membered ring which may have a substituent, or C 1 and C 2 ,
Represents a condensed ring formed together with C 1 ′ and C 2 ′ and others, and is not particularly limited as long as it is a group thereof, but preferably includes the following.

【0009】[0009]

【化3】 Embedded image

【0010】(式中、E1 〜E6 は一般式(1)におい
て記載したR1 で示される置換基。E 7 〜E10はR2
示される置換基であり、F1 〜F12及びG1 〜G24は水
素原子または任意の置換基を示す。) R1 は一般式(1)において記載されている範囲の置換
基であればよく、特に制限されないが、例えば水素原
子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子;ホルミル基;ヒドロキシ基;カルボキシル基;スル
ホン酸基;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、te
rt−ブチル基、sec−ブチル基等の炭素数1〜10
の直鎖または分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等
の炭素数3〜6の環状アルキル基が挙げられ、置換アル
キル基としては、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロ
キシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロ
キシプロピル基等のヒドロキシ置換アルキル基;カルボ
キシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキ
シプロピル基等のカルボキシ置換アルキル基;シアノメ
チル基、2−シアノエチル基等のシアノ置換アルキル
基;2−アミノエチル基等のアミノ置換アルキル基;2
−クロロエチル基、3−クロロプロピル基、2−クロロ
プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、トリ
フルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフル
オロ−n−プロピル基等のハロゲン置換アルキル基;2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−nプ
ロポキシエチル基、2−nブトキシエチル基、2−is
o−ブトキシエチル基、2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)エチル基、3−メトキシプロピル基、4−メトキシ
ブチル基、2−メトキシプロピル基等のアルコキシ置換
アルキル基;2−アリルオキシエチル基等のアルケニル
オキシ置換アルキル基;2−アセチルオキシエチル基、
2−プロピオニルオキシエチル基、2−n−ブチリルオ
キシエチル基、2−iso−ブチリルオキシエチル基、
2−トリフルオロアセチルオキシエチル基等のアシルオ
キシ置換アルキル基、メトキシカルボニルメチル基、イ
ソプロポキシカルボニルエチル基等の炭素数3〜7のア
ルコキシカルボニルアルキル基等が挙げられる。
(Wherein E1 ~ E6 Is the general formula (1)
R described1 A substituent represented by E 7 ~ ETenIs RTwo so
Is a substituent represented by1 ~ F12And G1 ~ Gtwenty fourIs water
Represents an element atom or an optional substituent. ) R1 Is a substitution within the range described in the general formula (1).
It is not particularly limited as long as it is a group.
Child; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom
Child; formyl group; hydroxy group; carboxyl group;
Sulfonic acid group; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group,
n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, te
1 to 10 carbon atoms such as rt-butyl group and sec-butyl group
Linear or branched alkyl groups; cyclopropyl groups,
Clobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.
A cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms;
As the kill group, a 2-hydroxyethyl group, 3-hydro
Xypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-hydro
Hydroxy-substituted alkyl groups such as xypropyl groups;
Xymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxy
Carboxy-substituted alkyl groups such as cypropyl groups; cyanome
Cyano-substituted alkyl such as tyl group and 2-cyanoethyl group
An amino-substituted alkyl group such as a 2-aminoethyl group; 2
-Chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 2-chloro
Propyl, 2,2,2-trifluoroethyl, tri
Fluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perful
A halogen-substituted alkyl group such as an o-n-propyl group; 2
-Methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-n-propyl
Ropoxyethyl group, 2-n-butoxyethyl group, 2-is
o-butoxyethyl group, 2- (2-ethylhexyloxy)
B) ethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxy
Alkoxy substitution such as butyl group and 2-methoxypropyl group
Alkyl group; alkenyl such as 2-allyloxyethyl group
An oxy-substituted alkyl group; a 2-acetyloxyethyl group,
2-propionyloxyethyl group, 2-n-butyrylo
A xyethyl group, a 2-iso-butyryloxyethyl group,
Acyloxy such as 2-trifluoroacetyloxyethyl group
A xy-substituted alkyl group, a methoxycarbonylmethyl group,
C 3-7 carbon atoms such as a sopropoxycarbonylethyl group;
And alkoxycarbonylalkyl groups.

【0011】また、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、ter
t−ブトキシ基、sec−ブトキシ基等の炭素数1〜1
0の直鎖または分岐のアルコキシ基が挙げられ、置換ア
ルコキシ基としては、2−クロロエトキシ基、3−クロ
ロプロポキシ基、2−クロロプロポキシ基、2,2,2
−トリフルオロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、
ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ−n−プロポ
キシ基等のハロゲン置換アルコキシ基等が挙げられる。
Also, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, ter
C 1 to C 1 such as t-butoxy group and sec-butoxy group
0 straight-chain or branched alkoxy groups; and substituted alkoxy groups include 2-chloroethoxy, 3-chloropropoxy, 2-chloropropoxy, 2,2,2
-Trifluoroethoxy group, trifluoromethoxy group,
Examples include a halogen-substituted alkoxy group such as a pentafluoroethoxy group and a perfluoro-n-propoxy group.

【0012】また、ビニル基、アリル基、プロぺニル
基、ブテニル基、ペンテニル基等の炭素数2〜10の直
鎖または分岐のアルケニル基;シクロペンテニル基、シ
クロへキシニル基等の炭素数3〜10の環状アルケニル
基が挙げられ、置換アルケニル基としては、2−ブロモ
ビニル基、2,2−ジクロロビニル基、1,2−ジブロ
モビニル基、1,2−ジブロモプロぺニル基等のハロゲ
ン置換アルケニル基等が挙げられる。
A linear or branched alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group or a pentenyl group; a carbon atom having a carbon number of 3 such as a cyclopentenyl group or a cyclohexynyl group; And a substituted alkenyl group such as a halogen-substituted group such as a 2-bromovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group, a 1,2-dibromovinyl group, and a 1,2-dibromopropenyl group. An alkenyl group and the like can be mentioned.

【0013】また、メチルチオ基、エチルチオ基、n−
プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n−ブチルチオ
基、tert−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基等
の炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルキルチオ基が
挙げられ、置換アルキルチオ基としては、、2−クロロ
エチルチオ基、3−クロロプロピルチオ基、2−クロロ
プロピルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ
基、トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチル
チオ基等のハロゲン置換アルキルチオ基等が挙げられ
る。
Further, methylthio, ethylthio, n-
A linear or branched alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, such as a propylthio group, an isopropylthio group, an n-butylthio group, a tert-butylthio group, a sec-butylthio group, and the like. Halogen-substituted alkylthio groups such as an ethylthio group, a 3-chloropropylthio group, a 2-chloropropylthio group, a 2,2,2-trifluoroethylthio group, a trifluoromethylthio group, and a pentafluoroethylthio group; .

【0014】また、アミノ基の他に、置換アミノ基とし
ては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、n−プロピル
アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−
n−プロピルアミノ基等のアルキル置換アミノ基、アシ
ルアミノ基、スルホアミノ基等が挙げられる。その他
に、アセチル基、プロピオル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、
ヘキサノイル基、ヘプタノイル基等の炭素数2〜7のア
ルキルカルボニル基;メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロ
ポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、te
rt−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボ
ニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基があ
る。更に、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル
基、n−ブチルスルホニル基、tert−ブチルスルホ
ニル基、sec−ブチルスルホニル基等の炭素数1〜6
のアルキルスルホニル基;カルボン酸エステル基;カル
バモイル基;スルファモイル基;スルホン酸エステル
基;フェニル基、ナフチル基等の置換基を有しても良い
炭素数6〜16のアリール基が挙げられる。
In addition to the amino group, examples of the substituted amino group include a methylamino group, an ethylamino group, an n-propylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, and a di-amino group.
Examples thereof include an alkyl-substituted amino group such as an n-propylamino group, an acylamino group, and a sulfoamino group. In addition, acetyl group, propio group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group,
An alkylcarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a hexanoyl group and a heptanoyl group; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, te
There is an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as an rt-butoxycarbonyl group and a sec-butoxycarbonyl group. Further, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group,
C 1-6 such as n-propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group, tert-butylsulfonyl group, sec-butylsulfonyl group
A carboxyyl group; a carbamoyl group; a sulfamoyl group; a sulfonic ester group; and an aryl group having 6 to 16 carbon atoms which may have a substituent such as a phenyl group or a naphthyl group.

【0015】R1 において好ましいのは、水素原子;ハ
ロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基;炭素数
1〜6の直鎖または分岐のアルキル基;炭素数1〜6の
ハロゲン置換アルキル基;炭素数1〜5のアルコキシ
基;炭素数1〜5のアルキルチオ基である。特に好まし
いのは、水素原子;炭素数1〜4の直鎖または分岐のア
ルキル基;炭素数1〜3のアルコキシ基;炭素数1〜3
のアルキルチオ基である。
R 1 is preferably a hydrogen atom; a halogen atom; a nitro group; a cyano group; a formyl group; a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a halogen-substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; an alkylthio group having 1 to 5 carbon atoms. Particularly preferred are a hydrogen atom; a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms;
Is an alkylthio group.

【0016】R2 は一般式(1)において記載されてい
る範囲の置換基であればよく、特に制限されないが、例
えば、水素原子または前記R1 で挙げられた置換または
非置換のアルキル基、置換または非置換のアルケニル基
と同様のものが挙げられる。特に好ましくは、水素原
子;炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基;炭素
数1〜4のハロゲン置換アルキル基である。環B、Cの
置換基(例えば、上記構造式中に示されているF1〜F
12)は特に制限されないが、R1と同様のものが挙げら
れる。また、環B、Cが縮合環を表す場合、その縮合環
の置換基(例えば、上記構造式中に示されているG1
24)は特に制限されないが、R1と同様のものが挙げ
られる。一般式(1)において、環Bと環Cが同じ環で
対称性を持つ化合物であっても、互いに異なる環で非対
称性の化合物であってもよく、特に限定されるものでは
ない。環Aは芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環で
あればよく、それらの群の中であれば特に制限されない
が、好ましくは下記のものが挙げられる。
R 2 may be any substituent as long as it is in the range described in the general formula (1), and is not particularly limited. Examples thereof include a hydrogen atom or the substituted or unsubstituted alkyl group mentioned above in R 1 , Examples include the same as the substituted or unsubstituted alkenyl groups. Particularly preferred are a hydrogen atom; a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; and a halogen-substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Substituents on rings B and C (for example, F 1 to F shown in the above structural formula)
12) is not particularly limited, it is the same as those for R 1. When the rings B and C represent a condensed ring, the substituents of the condensed ring (for example, G 1 to
G 24 ) is not particularly limited, and examples thereof include the same as R 1 . In the general formula (1), the ring B and the ring C may be a compound having the same ring and having symmetry or a compound having different rings and having asymmetricity, and are not particularly limited. Ring A may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring, and is not particularly limited as long as it is in those groups, but preferably includes the following.

【0017】[0017]

【化4】 Embedded image

【0018】(式中、D1 〜D10、D13〜D29は、特に
制限されないが、先に記載したR1と同様のものが挙げ
られる。D11及びD12は、R2 と同様のものが挙げられ
る。) 一般式(1)で表される化合物の好ましい例としては下
記のものが挙げられる。
(Wherein D 1 to D 10 and D 13 to D 29 are not particularly limited, and include the same as R 1 described above. D 11 and D 12 are the same as R 2 Preferred examples of the compound represented by the general formula (1) include the following.

【0019】[0019]

【化5】 Embedded image

【0020】[0020]

【化6】 Embedded image

【0021】[0021]

【化7】 Embedded image

【0022】[0022]

【化8】 Embedded image

【0023】[0023]

【化9】 Embedded image

【0024】[0024]

【化10】 Embedded image

【0025】[0025]

【化11】 Embedded image

【0026】[0026]

【化12】 Embedded image

【0027】[0027]

【化13】 Embedded image

【0028】[0028]

【化14】 Embedded image

【0029】[0029]

【化15】 Embedded image

【0030】[0030]

【化16】 Embedded image

【0031】[0031]

【化17】 Embedded image

【0032】本発明の光学記録媒体は、基本的には基板
と前記化合物を含む記録層とから構成されるものである
が、さらに必要に応じて基板上に下引き層、金属反射
層、保護層等を設けても良い。好ましい層構成の一例と
しては、記録層上に金、銀、アルミニウムのような金属
反射層および保護層を設けた高反射率の媒体が挙げられ
る。以下、この構造の媒体を例に、本発明の光学記録媒
体について説明する。
The optical recording medium of the present invention is basically composed of a substrate and a recording layer containing the above compound. If necessary, a subbing layer, a metal reflective layer, a protective layer, A layer or the like may be provided. An example of a preferable layer configuration includes a medium having a high reflectance in which a metal reflective layer such as gold, silver, and aluminum and a protective layer are provided on the recording layer. Hereinafter, the optical recording medium of the present invention will be described using a medium having this structure as an example.

【0033】本発明の光学記録媒体における基板の材質
としては、基本的には記録光及び再生光の波長で透明で
あればよい。例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキ
シ樹脂等が挙げられるが、高生産性、コスト、耐吸湿性
の点から射出成形ポリカーボネート樹脂基板が特に好ま
しい。
The material of the substrate in the optical recording medium of the present invention is basically required to be transparent at the wavelength of recording light and reproducing light. For example, acrylic resin, methacrylic resin,
Polycarbonate resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyimide resin, polystyrene resin, epoxy resin, and the like.Injection molded polycarbonate resin from the viewpoint of high productivity, cost, and moisture absorption resistance Substrates are particularly preferred.

【0034】これらの基板材料は射出成形法等により円
盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案
内溝やピットを形成することもある。このような案内溝
やピットは、基板の成形時に付与することが好ましい
が、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与すること
もできる。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチ
が0.5〜1.2μm程度であることが好ましい。基板
上、または必要に応じて下引き層等を設けた上に、本発
明で特定する化合物を含む記録層を形成する。記録層の
成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ド
クターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬
法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量
産性、コスト面からスピンコート法が特に好ましい。
These substrate materials are formed into substrates in a disk shape by an injection molding method or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits are preferably provided at the time of molding the substrate, but may also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. When the guide groove is spiral, the groove pitch is preferably about 0.5 to 1.2 μm. A recording layer containing the compound specified in the present invention is formed on a substrate or, if necessary, on a subbing layer. Examples of the method for forming the recording layer include thin film forming methods generally used such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method. The coating method is particularly preferred.

【0035】スピンコート法による成膜の場合、回転数
は500〜5000rpmが好ましく、スピンコートの
後、場合によっては加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の
処理を行っても良い。ドクターブレード法、キャスト
法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層
を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶
媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセト
ンアルコール、2−ヒドロキシ−3−メチル2−ブタノ
ン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、
n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジ
メチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、t
ert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環
状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オク
タフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等
のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチ
ル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボ
ン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
In the case of film formation by spin coating, the number of revolutions is preferably 500 to 5000 rpm. After spin coating, a treatment such as heating or exposure to a solvent vapor may be performed in some cases. When forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and a dipping method, the coating solvent is not particularly limited as long as it does not attack the substrate. For example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 2-hydroxy-3-methyl 2-butanone; cellosolve solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; n-hexane;
chain hydrocarbon solvents such as n-octane; cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, t
cyclic hydrocarbon solvents such as tert-butylcyclohexane and cyclooctane; perfluoroalkyl alcohol solvents such as tetrafluoropropanol, octafluoropentanol and hexafluorobutanol; hydroxycarboxylic acids such as methyl lactate, ethyl lactate and methyl isobutyrate Ester solvents and the like.

【0036】また、記録層の安定や耐光性向上のため
に、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化
合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフ
ェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビス
ジチオ−α−ジケトン等)等や、記録感度向上のために
金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良
い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原
子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるもの
を言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系
錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロ
リン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキ
シム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジ
ルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メ
タロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属
化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されな
いが、遷移金属であることが好ましい。
In order to improve the stability and light resistance of the recording layer, a transition metal chelate compound (eg, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone, etc.) is used as a singlet oxygen quencher. And a recording sensitivity improver such as a metal compound for improving the recording sensitivity. Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, and the like.Examples include an ethylenediamine complex, an azomethine complex, a phenylhydroxyamine complex, a phenanthroline complex, Organometallic compounds such as dihydroxyazobenzene-based complexes, dioxime-based complexes, nitrosoaminophenol-based complexes, pyridyltriazine-based complexes, acetylacetonate-based complexes, metallocene-based complexes, and porphyrin-based complexes are exemplified. The metal atom is not particularly limited, but is preferably a transition metal.

【0037】さらに、必要に応じて他系統の色素を併用
することもできる。他系統の色素としては、主として記
録用のレーザー波長域に吸収を有し、照射されたレーザ
ー光エネルギーの吸収によって、その箇所の記録層、反
射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴
いピットが形成されるならば特に制限されない。また、
CD−Rのような770〜830nmから選ばれた波長
の近赤外レーザーやDVD−Rのような620〜690
nmから選ばれた赤色レーザーでの記録に適する色素を
併用して、複数の波長域でレーザーでの記録に対応する
光記録媒体とすることもできる。他系統の色素としては
含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシ
アニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリ
リウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリ
ールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム
系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、
インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジ
ン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
Further, if necessary, other types of dyes can be used in combination. Other types of dyes mainly absorb in the laser wavelength range for recording, and absorb heat of the irradiated laser light to cause heat, such as decomposition, evaporation, and dissolution, on the recording layer, reflective layer, or substrate at that location. There is no particular limitation as long as pits are formed with a substantial deformation. Also,
Near-infrared laser having a wavelength selected from 770 to 830 nm such as CD-R and 620 to 690 such as DVD-R
A dye suitable for recording with a red laser selected from nm can also be used in combination to provide an optical recording medium compatible with laser recording in a plurality of wavelength ranges. Other types of dyes include metal-containing azo dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, squarylium dyes, metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, Azurenium dye, naphthoquinone dye, anthraquinone dye,
Examples include indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, and pyrylium dyes.

【0038】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましい
バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケ
トン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウ
レタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィン等が挙げられる。
Further, if necessary, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used in combination. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

【0039】色素の膜厚は、記録方法により異なってく
る場合があり、特に限定するものではないが、好ましく
は50〜300nmである。次に記録層の上に、好まし
くは、厚さ50〜300nmの反射層を形成する。反射
層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いも
の、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、N
i、Pt、Ta、Cr及びPdの金属を単独あるいは合
金にして用いることが可能である。この中でもAu、A
l、Agは反射率が高く反射層の材料として適してい
る。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例え
ば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、R
e、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、G
a、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi
などの金属及び半金属を挙げることができる。なかでも
Agを主成分としているものはコストが安い点、高反射
率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場
合には地色が白く美しいものが得られる点、等から特に
好ましい。ここで主成分とは含有率が50%以上のもの
をいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜
を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用い
ることも可能である。
The thickness of the dye may vary depending on the recording method, and is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 nm. Next, a reflective layer having a thickness of preferably 50 to 300 nm is formed on the recording layer. As a material of the reflection layer, one having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, N
The metals i, Pt, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, A
1 and Ag have high reflectance and are suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, R
e, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, G
a, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi
And metal and semimetals. Among them, those containing Ag as a main component are particularly preferable in that they are inexpensive, easily reflect a high reflectance, and when a print receiving layer described later is provided, a beautiful white ground color can be obtained. . Here, the main component means one having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal, and use it as a reflective layer.

【0040】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下
に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のた
めに公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設け
ることもできる。反射層の上に形成する保護層の材料と
しては、反射層を外力から保護するものであれば特に限
定しない、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げるこ
とができる。また、無機物質としては、SiO2 、Si
4 、MgF2 、SnO2 等が挙げられる。熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を
塗布し、乾燥することによって形成することができる。
UV硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解
して塗布液を調整した後にこの塗布液を塗布し、UV光
を照射して硬化させることによって形成することができ
る。UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレ
ートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。
これらの材料は単独であるいは混合して用いても良い
し、1層だけではなく多層膜にして用いても良い。
As a method of forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion. The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. As the organic substance, thermoplastic resin, thermosetting resin, electron beam curable resin, UV Curable resins and the like can be mentioned. Further, as the inorganic substance, SiO 2 , Si
N 4 , MgF 2 , SnO 2 and the like can be mentioned. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying.
The UV-curable resin can be formed by applying the coating solution as it is or after dissolving it in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and irradiating with UV light to cure the coating solution. As the UV-curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used.
These materials may be used alone or as a mixture, or may be used as a multilayer film instead of a single layer.

【0041】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ
法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもス
ピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、一般に0.
1〜100μmの範囲であるが、本発明においては、3
〜30μmが好ましい。また、反射層面に基板を貼り合
わせる、あるいは反射層面相互を内面とし対向させ光記
録媒体2枚を貼り合わせる等の手段を用いても良い。基
板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のために紫外
線硬化樹脂、無機系薄膜等を成膜してもよい。反射層上
に設けた保護層の上、または反射層面に貼り合わせた基
板の上等に更に印刷受容層を形成することもできる。
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method or the like is used as in the case of the recording layer. Of these, the spin coating method is preferable. The thickness of the protective layer is generally set at 0.1.
Although it is in the range of 1 to 100 μm, in the present invention, it is 3 μm.
-30 μm is preferred. Alternatively, a method may be used in which a substrate is bonded to the reflective layer surface, or two optical recording media are bonded to each other with the reflective layer surfaces facing each other. An ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface of the substrate to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like. A print-receiving layer can be further formed on a protective layer provided on the reflective layer, on a substrate bonded to the reflective layer surface, or the like.

【0042】本発明の光記録媒体について使用されるレ
ーザー光は、高密度記録のため波長は短いほど好ましい
が、特に350〜530nmのレーザー光が好ましい。
かかるレーザー光の代表例としては、中心波長410n
m、515nmのレーザー光が挙げられる。波長350
〜530 の範囲のレーザー光の一例は、410nmの
青色または515nmの青緑色の高出力半導体レーザー
を使用することにより得ることができるが、その他、例
えば、(a) 基本発振波長が740〜960nmの連続発
振可能な半導体レーザー、または(b) 半導体レーザーに
よって励起されかつ基本発振波長が740〜960nm
の連続発振可能な固体レーザーのいずれかを第二高調波
発生素子(SHG) より波長変換することによっても得るこ
とができる。
The laser beam used for the optical recording medium of the present invention is preferably shorter in wavelength for high-density recording, but is more preferably 350 to 530 nm.
A typical example of such a laser beam is a center wavelength 410 n
m, 515 nm laser light. Wavelength 350
An example of the laser light in the range of to 530 can be obtained by using a high-power semiconductor laser of 410 nm blue or 515 nm turquoise. In addition, for example, (a) the fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm A semiconductor laser capable of continuous oscillation; or (b) a semiconductor laser excited by the semiconductor laser and having a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm.
Can be obtained by converting the wavelength of any of the solid-state lasers capable of continuous oscillation from the second harmonic generation element (SHG).

【0043】上記のSHGとしては、反転対称性を欠く
ピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、KDP、
ADP、BNN、KN、LBO、化合物半導体などが好
ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が
860nmの半導体レーザーの場合、その倍波の430
nm、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合
は、CrドープしたLiSrAlF6結晶(基本発振波長860
nm)からの倍波の430nmなどが挙げられる。上記
のようにして得られた光記録媒体への記録は、基板の両
面または片面に設けた記録層に0.4〜0.6μm程度
に集束したレーザー光を照射することにより行う。レー
ザー光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの
吸収による、分解、発熱、溶解等の記録層の熱的変形が
起こる。記録された情報の再生は、レーザー光により、
熱的変化が起きている部分と起きていない部分の反射率
の差を読みとることにより行う。
The SHG may be any piezo element that does not have inversion symmetry.
ADP, BNN, KN, LBO, compound semiconductor, and the like are preferable. As a specific example of the second harmonic, in the case of a semiconductor laser having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm, 430 of its harmonic is used.
nm, and in the case of a solid-state laser pumped by a semiconductor laser, a Cr-doped LiSrAlF 6 crystal (fundamental oscillation wavelength 860
430 nm, which is a harmonic of 430 nm. Recording on the optical recording medium obtained as described above is performed by irradiating the recording layer provided on both sides or one side of the substrate with laser light focused to about 0.4 to 0.6 μm. Thermal deformation of the recording layer such as decomposition, heat generation, and melting occurs due to absorption of laser light energy in the portion irradiated with the laser light. Reproduction of recorded information is performed by laser light.
This is performed by reading the difference in reflectance between the portion where the thermal change has occurred and the portion where the thermal change has not occurred.

【0044】[0044]

【実施例】以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
るが、かかる実施例はその要旨を越えない限り、本発明
を限定するものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the invention unless it exceeds the gist thereof.

【0045】実施例1 下記構造式(a)で示される化合物(クロロホルム中で
のλmax =377nm、モル吸光係数は4.93×10
4 )をオクタフルオロペンタノールに溶解し、濃度を
1.0重量%に調整した。これをろ過してできた溶解液
を直径120mm、厚さ1.2mmの射出成型ポリカー
ボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布
し、塗布後、100℃で30分間乾燥した。この塗布膜
の最大吸収波長(λmax )は、383nmであった。
Example 1 A compound represented by the following structural formula (a) (λmax = 377 nm in chloroform, molar extinction coefficient: 4.93 × 10
4 ) was dissolved in octafluoropentanol to adjust the concentration to 1.0% by weight. A solution obtained by filtering the solution was dropped on an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 383 nm.

【0046】[0046]

【化18】 Embedded image

【0047】この塗布膜上に、スパッタリング法等にて
銀膜を成膜して反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂
をスピンコート等にて塗布、UV照射により硬化させて
保護層を形成することにより、光学記録媒体を得ること
ができる。この光学記録媒体は、塗布膜のλmax の値よ
り、例えば中心波長410nmの半導体レーザーによる
記録再生が可能であることがわかる。
On this coating film, a reflective layer is formed by forming a silver film by a sputtering method or the like, and a UV-curable resin is further applied by spin coating or the like and cured by UV irradiation to form a protective layer. By doing so, an optical recording medium can be obtained. From this optical recording medium, it can be seen from the value of λmax of the coating film that recording and reproduction can be performed by a semiconductor laser having a center wavelength of 410 nm, for example.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明により得られる光学記録媒体は、
青色レーザーを用いる高密度の記録再生の可能な光学記
録媒体である。
The optical recording medium obtained according to the present invention comprises:
This is an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction using a blue laser.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 4C069 // C07D 207/34 C07D 207/34 4H056 263/32 263/32 5D029 263/56 263/56 277/22 277/22 277/32 277/32 277/56 277/56 277/66 277/66 307/42 307/42 333/18 333/18 333/54 333/54 403/10 403/10 403/14 403/14 405/14 405/14 409/10 409/10 409/14 409/14 413/10 413/10 413/14 413/14 417/10 417/10 417/14 417/14 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA32 EA43 FA01 FB42 4C033 AD06 AD09 AD10 4C037 GA02 GA05 HA08 4C056 BA03 BA20 CA03 CA09 CC01 CC10 CD02 4C063 AA01 AA03 BB01 BB06 CC52 CC67 CC76 CC92 CC94 DD04 DD41 DD52 DD58 DD62 DD73 EE05 4C069 AC07 4H056 DD12 DD23 DE02 FA06 5D029 JA04 JB28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 4C069 // C07D 207/34 C07D 207/34 4H056 263/32 263 / 32 5D029 263/56 263/56 277/22 277/22 277/32 277/32 277/56 277/56 277/66 277/66 307/42 307/42 333/18 333/18 333/54 333/54 403/10 403/10 403/14 403/14 405/14 405/14 409/10 409/10 409/14 409/14 413/10 413/10 413/14 413/14 417/10 417/10 417 / 14 417/14 F term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA32 EA43 FA01 FB42 4C033 AD06 AD09 AD10 4C037 GA02 GA05 HA08 4C056 BA03 BA20 CA03 CA09 CC01 CC10 CD02 4C063 AA01 AA03 BB01 CC52 DD67 DD DD DD DD DD DD DD DD DD DD DD DD DD EE05 4C069 AC07 4H056 DD12 DD23 DE02 FA06 5D029 JA04 JB28

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にレーザーによる情報の書き込み
/または読み取りが可能な記録層が設けられた光学記録
媒体において、該記録層が下記一般式(1)で示される
化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体。 【化1】 (式中、環Aは置換されてもよい芳香族炭化水素環もし
くは芳香族複素環を表し、環B、環Cは置換基を有して
も良い5員環を表すが、それぞれC1 とC2 、C 1'とC
2'及び他の基と共に縮合環を形成してもよい。ここで、
X、X' はそれぞれ独立して窒素原子、C−R1 を表
し、Y、Y' はそれぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、
N−R2 を表す。ここでR1 は水素原子、置換または非
置換のアルキル基、置換または非置換のアルコキシ基、
置換または非置換のアルケニル基、置換または非置換の
アミノ基、置換または非置換のアルキルチオ基、アルキ
ルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルス
ルホニル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、
スルファモイル基、スルホン酸エステル基、アリール
基、ハロゲン原子、ホルミル基、ヒドロキシ基、カルボ
キシル基、スルホン酸基、ニトロ基、シアノ基を表す。
2 は水素原子、置換または非置換のアルキル基、置換
または非置換のアルケニル基を表す。)
1. Writing information on a substrate by laser
Optical recording provided with a readable recording layer
In the medium, the recording layer is represented by the following general formula (1)
An optical recording medium comprising a compound. Embedded image(Wherein ring A is an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring,
Or an aromatic heterocyclic ring, wherein ring B and ring C have a substituent
Also represents a good five-membered ring,1 And CTwo , C 1'And C
TwoAnd a fused ring with other groups. here,
X and X ′ each independently represent a nitrogen atom, C—R1 The table
And Y and Y ′ each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom,
NRTwo Represents Where R1 Is a hydrogen atom, substituted or unsubstituted
A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group,
Substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted
Amino group, substituted or unsubstituted alkylthio group, alkyl
Carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkyls
Rufonyl group, carboxylate group, carbamoyl group,
Sulfamoyl group, sulfonate group, aryl
Group, halogen atom, formyl group, hydroxy group, carbo
Represents a xyl group, a sulfonic group, a nitro group, and a cyano group.
RTwo Is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group,
Or an unsubstituted alkenyl group. )
【請求項2】 環Aがベンゼン環、5員環もしくは6員
環の芳香族複素環である請求項1に記載の光学記録媒
体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the ring A is a benzene ring, a 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle.
【請求項3】 書き込み及び読み取りのレーザー波長が
350nm〜530nmである請求項1または2に記載
の光学記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein a laser wavelength for writing and reading is from 350 nm to 530 nm.
JP11160749A 1999-06-08 1999-06-08 Optical recording medium Pending JP2000343824A (en)

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