JP3772047B2 - Optical recording medium - Google Patents

Description

【０００７】
（式中、Ｘは電子求引性を示すＮＯ ₂ 基、ＣＦ ₃ 基、ＣＮ基を表し、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に炭素数１〜６の置換または非置換の直鎖または分岐のアルキル基、またはＲ¹ 、Ｒ² が隣接する窒素原子と共に他の基と結合して形成される、置換されていてもよい環を表す。環Ａは置換されていてもよいピリジン環を表す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明につき詳細に説明する。
前記一般式（１）において、Ｘは電子求引性を示すＮＯ₂ 基、ＣＦ₃ 基またはＣＮ基を示す。
Ｒ₁ 、Ｒ₂ はそれぞれ独立に炭素数１〜６の置換または非置換の直鎖または分岐のアルキル基、またはＲ¹ とＲ² が隣接する窒素原子と結合して形成される置換されていてもよい環を表す。Ｒ¹ およびＲ² がアルキル基の場合、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基が挙げられ、置換アルキル基としては２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシ置換アルキル基；カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基等のカルボキシ置換アルキル基；シアノメチル基、２−シアノエチル基等のシアノ置換アルキル基；２−アミノエチル基等のアミノ置換アルキル基；２−クロロエチル基、３−クロロプロピル基、２−クロロプロピル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等のハロゲン置換アルキル基；ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、２−フェニルエチル基等のフェニル置換アルキル基（アラルキル基）；２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−ｎ−プロポキシエチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−ｉｓｏ−ブトキシエチル基、２−（２−エチルヘキシルオキシ）エチル基、３−メトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、２−メトキシプロピル基等のアルコキシ置換アルキル基；２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−（エトキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｉｓｏ−プロポキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル基、２−（２−ｉｓｏ−ブトキシエトキシ）エチル基、２−｛２−（２−エチルヘキシルオキシ）エトキシ｝エチル基等のアルコキシアルコキシ置換アルキル基；
【０００９】
２−アリルオキシエチル基等のアルケニルオキシ置換アルキル基；２−フェノキシエチル基等のアリールオキシ置換アルキル基；２−ベンジルオキシエチル基等のアラルキルオキシ置換アルキル基；２−アセチルオキシエチル基、２−プロピオニルオキシエチル基、２−ｎ−ブチリルオキシエチル基、２−ｉｓｏ−ブチリルオキシエチル基、２−トリフルオロアセチルオキシエチル基等のアシルオキシ置換アルキル基；メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニルメチル基、ｎ−ブトキシカルボニルメチル基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニルメチル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、フルフリルオキシカルボニルメチル基、テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルメチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基、２−ｉｓｏ−ブトキシカルボニルエチル基、２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−フルフリルオキシカルボニルエチル基等の置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル置換アルキル基；２−メトキシカルボニルオキシエチル基、２−エトキシカルボニルオキシエチル基、２−ｎ−プロポキシカルボニルオキシエチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシカルボニルオキシエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルオキシエチル基、２−ｉｓｏ−ブトキシカルボニルオキシエチル基、２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル基、２−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル基、２−フルフリルオキシカルボニルオキシエチル基等の置換もしくは非置換のアルコキシカルボニルオキシ置換アルキル基；フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基等のヘテロ環置換アルキル基等が挙げられる。
【００１０】
又、Ｒ¹ とＲ² が隣接する窒素原子と共に他の基と結合して形成される、置換されていてもよい環の場合、具体的には下記に示す５員環又は６員環が挙げられる。
【００１１】
【化３】

【００１２】
（Ｒ⁶ はアルキル基を表す。）
これらの環は置換基を有していてもよく、その置換基に特に制限はないが、例えば環Ａの置換基として挙げたものが挙げられる。
中でも好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基である。
以上述べてきた中で、Ｒ¹ およびＲ² として特に好ましいのは炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル基、または、Ｒ¹ とＲ² が隣接する窒素原子と共に他の基と結合して形成する、置換されていてもよい下記環構造である。
【００１３】
【化４】

【００１４】
環Ａは、置換されてもよいピリジン環を表し、かかる置換基としては特に制限されないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖または分岐のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｉｓｏ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロ−ｎ−プロポキシ基、パーフルオロ−ｉｓｏ−プロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブトキシ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルコキシ基；トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、パーフルオロ−ｎ−プロピルチオ基、パーフルオロ−ｉｓｏ−プロピルチオ基、パーフルオロ−ｎ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、パーフルオロ−ｓｅｃ−ブチルチオ基等の炭素数１〜４の直鎖または分岐のフルオロアルキルチオ基等が挙げられ、それらの置換位置は特に限定されず、置換基の数も１〜３個の範囲で可能であるが、好ましい置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１または２のアルコキシ基、フルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルキルチオ基または塩素原子であり、置換基の数は１または２である。
【００１５】
さらに好ましくは、メチル基、エチル基、メトキシ基、塩素原子から選ばれる１個の置換基である。
一般式（１）で表される化合物の好ましい例としては下記のものが挙げられる。
【００１６】
【化５】

【００１７】
【化６】

【００１８】
本発明に使用される一般式（１）で示される骨格を有する化合物の製法は、特に限定されないが、例えば、下記反応式で示される反応により製造することができる。
【００１９】
【化７】

（式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² は前記したのと同じ意義を表す。）
【００２０】
＜参考文献＞ Sythesis,1992(8),798〜802.
J Chem Soc,Perkin Trans 1, 1995(19) 2497-2502.
またＸがニトロ基の場合は下記に示すようにニトロ化反応により製造することもできる。
【００２１】
【化８】

（式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² は前記したのと同じ意義を表す。）
【００２２】
＜参考文献＞ J Chem Soc,Perkin Trans 2, 1972,1940.
本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と前記化合物を含む記録層とから構成されるものであるが、さらに必要に応じて基板上に下引き層、金属反射層、保護層等を設けても良い。
好ましい層構成の一例としては、記録層上に金、銀、アルミニウムのような金属反射層および保護層を設けた高反射率の媒体が挙げられる。
以下、この構造の媒体を例に、本発明の光学記録媒体について説明する。
【００２３】
本発明の光学記録媒体における基板の材質としては、基本的には記録光及び再生光の波長で透明であればよい。例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、高生産性、コスト、耐吸湿性の点から射出成形ポリカーボネート樹脂基板が特に好ましい。
【００２４】
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板の成形時に付与することが好ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチが０．５〜１．２μｍ程度であることが好ましい。
基板上、または必要に応じて下引き層等を設けた上に、本発明で特定する化合物を含む記録層を形成する。
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法は挙げられるが、量産性、コスト面からスピンコート法が特に好ましい。
【００２５】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、場合によっては加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、２−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００２６】
また、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００２７】
さらに、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。他系統の色素としては、主として記録用のレーザー波長域に吸収を有し、照射されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その箇所の記録層、反射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴いピットが形成されるならば特に制限されない。また、ＣＤ−Ｒのような７７０〜８３０ｎｍから選ばれた波長の近赤外レーザーやＤＶＤ−Ｒのような６２０〜６９０ｎｍから選ばれた赤色レーザーでの記録に適する色素を併用して、複数の波長域でレーザーでの記録に対応する光記録媒体とすることもできる。他系統の色素としては含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
【００２８】
さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００２９】
色素の膜厚は、記録方法により異なってくる場合があり、特に限定するものではないが、好ましくは５０〜３００ｎｍである。
次に記録層の上に、好ましくは、厚さ５０〜３００ｎｍの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｃｒ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属を挙げることができる。なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点、等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００３０】
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＮ₄ 、ＭｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂ 等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調整した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００３１】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３〜３０μｍが好ましい。
また、反射層面に基板を貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内面とし対向させ光記録媒体２枚を貼り合わせる等の手段を用いても良い。基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のために紫外線硬化樹脂、無機系薄膜等を成膜してもよい。
反射層上に設けた保護層の上、または反射層面に貼り合わせた基板の上等に更に印刷受容層を形成することもできる。
【００３２】
本発明の光記録媒体について使用されるレーザー光は、高密度記録のため波長は短いほど好ましいが、特に３５０〜５３０ｎｍのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例としては、中心波長４１０ｎｍ、５１５ｎｍのレーザー光が挙げられる。
波長３５０〜５３０ の範囲のレーザー光の一例は、４１０ｎｍの青色または５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザーを使用することにより得ることができるが、その他、例えば、(a) 基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー、または(b) 半導体レーザーによって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザーのいずれかを第二高調波発生素子(SHG) より波長変換することによっても得ることができる。
【００３３】
上記のＳＨＧとしては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合、その倍波の４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、ＣｒドープしたLiSrAlF₆結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の４３０ｎｍなどが挙げられる。
上記のようにして得られた光記録媒体への記録は、基板の両面または片面に設けた記録層に０．４〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。レーザー光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの吸収による、分解、発熱、溶解等の記録層の熱的変形が起こる。
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変化が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行う。
【実施例】
【００３４】
以下実施例によりこの発明を具体的に説明するが、かかる実施例はその要旨を越えない限り、本発明を限定するものではない。
【００３５】
実施例１
下記構造式（ａ）で示される化合物（東京化成工業（株）製。クロロホルム中でのλmax ＝３６８ｎｍ、モル吸光係数は２．０２×１０⁴ ）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、濃度を１．０重量％に調整した。これをろ過してできた溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布し、塗布後、１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λmax ）は、３７９ｎｍであった。
【００３６】
【化９】

【００３７】
この塗布膜上に、スパッタリング法等にて銀膜を成膜して反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂をスピンコート等にて塗布、ＵＶ照射により硬化させて保護層を形成することにより、光学記録媒体を得ることができる。
この光学記録媒体は、塗布膜のλmax の値より、例えば中心波長４１０ｎｍの半導体レーザーによる記録再生が可能であることがわかる。
【発明の効果】
本発明によれば、青色レーザーを用いる高密度の記録、再生が可能な光学記録媒体を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a novel write-once optical recording medium using an organic dye in a recording layer. Furthermore, the present invention relates to a write-once optical recording medium compatible with a blue laser.
[0002]
[Prior art]
In recent years, semiconductor lasers having a short oscillation wavelength have been developed, and an optical recording medium capable of high-density recording / reproducing using a laser beam having a shorter wavelength than the conventional 780 nm or 830 nm is required. Conventionally proposed optical recording media include magneto-optical recording media, phase change recording media, chalcogen oxide optical recording media, and organic dye-based optical recording media. Among these, the organic dye-based optical recording medium is considered to have an advantage in that it is inexpensive and advantageous in the manufacturing process.
At present, as an organic dye-based optical recording medium, a CD-R of a type in which a highly reflective metal layer is laminated on an organic dye layer is mass-produced and widely known. A high-density organic dye-based optical recording medium (DVD-R) for recording with a red semiconductor laser having a shorter wavelength than this has been developed and put into practical use. It is considered that an optical recording medium capable of recording / reproducing with a blue semiconductor laser having a wavelength shorter than R is required.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
[0004]
In general, recording media used in CD-R and DVD-R each have a problem that when recording and reproducing with a blue semiconductor laser having a short wavelength, the reflectance is low and recording and reproduction cannot be performed.
An object of this invention is to provide the novel optical recording medium which can respond to a blue semiconductor laser.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The inventors of the present invention have found that an optical recording medium advantageously corresponding to a blue semiconductor laser can be provided by containing the compound represented by the general formula (1) in the recording layer, and the present invention has been achieved.
That is, the present invention is an optical recording medium in which a recording layer capable of writing / reading information with a laser is provided on a substrate, wherein the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1). The gist of the optical recording medium is as follows.
[0006]
[Chemical 2]

[0007]
(In the formula, X represents an electron-withdrawing NO ₂ group, CF ₃ group, or CN group, and R ¹ and R ² are each independently a substituted or unsubstituted linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms . alkyl group, or are formed in combination with other radicals together with the nitrogen atom to which R ^1, R ² are adjacent, represent a ring which may be substituted. ring a represents a pyridine ring optionally substituted .)
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention will be described in detail below.
In the general formula (1), X represents a NO ₂ group, a CF ₃ group or a CN group exhibiting electron withdrawing properties.
R _1, R ₂ each independently represent a substituted or unsubstituted straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or substituted are formed by combining with the nitrogen atom to which R ¹ and R ² are adjacent Represents an optional ring. When R ¹ and R ² are alkyl groups, specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, 2 -A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as an ethylhexyl group, and examples of the substituted alkyl group include a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 4-hydroxybutyl group, and a 2-hydroxypropyl group. Hydroxy-substituted alkyl groups such as carboxymethyl groups, 2-carboxyethyl groups, 3-carboxypropyl groups, etc .; cyano-substituted alkyl groups such as cyanomethyl groups, 2-cyanoethyl groups; 2-aminoethyl groups, etc. Amino-substituted alkyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 2-chloropropyl group, 2,2,2- Halogen-substituted alkyl groups such as trifluoroethyl group; phenyl-substituted alkyl groups (aralkyl group) such as benzyl group, p-chlorobenzyl group and 2-phenylethyl group; 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2- n-propoxyethyl group, 2-n-butoxyethyl group, 2-iso-butoxyethyl group, 2- (2-ethylhexyloxy) ethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 2-methoxypropyl group Alkoxy-substituted alkyl groups such as 2- (2-methoxyethoxy) ethyl group, 2- (ethoxyethoxy) ethyl group, 2- (2-n-propoxyethoxy) ethyl group, 2- (2-iso-propoxyethoxy) An ethyl group, a 2- (2-n-butoxyethoxy) ethyl group, a 2- (2-iso-butoxyethoxy) ethyl group, - alkoxyalkoxy-substituted alkyl groups such as {2- (2-ethylhexyl oxy) ethoxy} ethyl group;
[0009]
Alkenyloxy-substituted alkyl groups such as 2-allyloxyethyl groups; aryloxy-substituted alkyl groups such as 2-phenoxyethyl groups; aralkyloxy-substituted alkyl groups such as 2-benzyloxyethyl groups; 2-acetyloxyethyl groups, 2- Acyloxy-substituted alkyl groups such as propionyloxyethyl group, 2-n-butyryloxyethyl group, 2-iso-butyryloxyethyl group, 2-trifluoroacetyloxyethyl group; methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, n-propoxycarbonylmethyl group, iso-propoxycarbonylmethyl group, n-butoxycarbonylmethyl group, iso-butoxycarbonylmethyl group, 2-ethylhexyloxycarbonylmethyl group, benzyloxycarbonylmethyl group, furfuryloxy Rubonylmethyl group, tetrahydrofurfuryloxycarbonylmethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propoxycarbonylethyl group, 2-iso-propoxycarbonylethyl group, 2-n-butoxycarbonyl Substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl substitution such as ethyl, 2-iso-butoxycarbonylethyl, 2- (2-ethylhexyloxycarbonyl) ethyl, 2-benzyloxycarbonylethyl, 2-furfuryloxycarbonylethyl Alkyl group; 2-methoxycarbonyloxyethyl group, 2-ethoxycarbonyloxyethyl group, 2-n-propoxycarbonyloxyethyl group, 2-iso-propoxycarbonyloxyethyl group, 2-n-butoxycarbo Substituted or unsubstituted such as ruoxyethyl group, 2-iso-butoxycarbonyloxyethyl group, 2- (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) ethyl group, 2-benzyloxycarbonyloxyethyl group, 2-furfuryloxycarbonyloxyethyl group An alkoxycarbonyloxy-substituted alkyl group; a heterocyclic-substituted alkyl group such as a furfuryl group and a tetrahydrofurfuryl group;
[0010]
In addition, in the case of an optionally substituted ring formed by combining R ¹ and R ² with another group together with the adjacent nitrogen atom, specific examples include the 5-membered ring or 6-membered ring shown below. It is done.
[0011]
[Chemical 3]

[0012]
(R ⁶ represents an alkyl group.)
These rings may have a substituent, and the substituent is not particularly limited, and examples thereof include those listed as the substituent for ring A.
Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms are preferable.
Of the foregoing, R ¹ and R ² are particularly preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or R ¹ and R ² are bonded to other groups together with the adjacent nitrogen atom. And the following ring structure which may be substituted.
[0013]
[Formula 4]

[0014]
Ring A represents an optionally substituted pyridine ring, and the substituent is not particularly limited. For example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a tert-butyl group, C1-C4 linear or branched alkyl group such as sec-butyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, sec-butoxy group Linear or branched alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms such as halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluoro-n-propyl group, perfluoro- Carbon number such as iso-propyl group, perfluoro-n-butyl group, perfluoro-tert-butyl group, perfluoro-sec-butyl group -4 linear or branched fluoroalkyl groups; trifluoromethoxy group, pentafluoroethoxy group, perfluoro-n-propoxy group, perfluoro-iso-propoxy group, perfluoro-n-butoxy group, perfluoro-tert -C1-C4 linear or branched fluoroalkoxy groups such as butoxy group, perfluoro-sec-butoxy group; trifluoromethylthio group, pentafluoroethylthio group, perfluoro-n-propylthio group, perfluoro- Examples thereof include linear or branched fluoroalkylthio groups having 1 to 4 carbon atoms such as iso-propylthio group, perfluoro-n-butylthio group, perfluoro-tert-butylthio group, perfluoro-sec-butylthio group, etc. The substitution position is not particularly limited, and the number of substituents is also 1 to 1. A preferable substituent is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms, a fluoroalkyl group, a fluoroalkoxy group, a fluoroalkylthio group, or a chlorine atom. The number of substituents is 1 or 2.
[0015]
More preferably, it is one substituent selected from a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, and a chlorine atom.
Preferable examples of the compound represented by the general formula (1) include the following.
[0016]
[Chemical formula 5]

[0017]
[Chemical 6]

[0018]
Although the manufacturing method of the compound which has the frame | skeleton shown by General formula (1) used for this invention is not specifically limited, For example, it can manufacture by reaction shown by the following Reaction Formula.
[0019]
[Chemical 7]

(Wherein R ¹ and R ² represent the same meaning as described above.)
[0020]
<References> Sythesis, 1992 (8), 798-802.
J Chem Soc, Perkin Trans 1, 1995 (19) 2497-2502.
When X is a nitro group, it can also be produced by nitration reaction as shown below.
[0021]
[Chemical 8]

(Wherein R ¹ and R ² represent the same meaning as described above.)
[0022]
<References> J Chem Soc, Perkin Trans 2, 1972, 1940.
The optical recording medium of the present invention is basically composed of a substrate and a recording layer containing the compound, and further, if necessary, an undercoat layer, a metal reflective layer, a protective layer, etc. on the substrate. It may be provided.
As an example of a preferred layer configuration, a high reflectance medium in which a metal reflective layer such as gold, silver, and aluminum and a protective layer are provided on the recording layer can be mentioned.
Hereinafter, the optical recording medium of the present invention will be described using the medium having this structure as an example.
[0023]
The material of the substrate in the optical recording medium of the present invention may be basically transparent at the wavelength of recording light and reproducing light. Examples include acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyimide resin, polystyrene resin, epoxy resin, etc., but high productivity, cost, moisture absorption resistance In view of the properties, an injection-molded polycarbonate resin substrate is particularly preferable.
[0024]
These substrate materials are formed into a disk shape by an injection molding method or the like. If necessary, guide grooves and pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits are preferably provided at the time of forming the substrate, but can also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. When the guide groove has a spiral shape, the groove pitch is preferably about 0.5 to 1.2 μm.
A recording layer containing the compound specified in the present invention is formed on a substrate or, if necessary, an undercoat layer or the like.
Examples of the method for forming the recording layer include thin film forming methods commonly used, such as vacuum deposition, sputtering, doctor blade method, cast method, spin coating method, and dipping method, but spin from the viewpoint of mass productivity and cost. A coating method is particularly preferred.
[0025]
In the case of film formation by a spin coating method, the number of rotations is preferably 500 to 5000 rpm, and after spin coating, treatment such as heating or solvent vapor may be performed depending on circumstances.
The coating solvent for forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or a dipping method may be any solvent that does not attack the substrate and is not particularly limited. For example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 2-hydroxy-3-methyl - 2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chain hydrocarbon solvents such as n-hexane and n-octane Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane and cyclooctane; perfluoroalkyl alcohols such as tetrafluoropropanol, octafluoropentanol and hexafluorobutanol Examples of the solvent include hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl isobutyrate.
[0026]
In addition, a transition metal chelate compound (for example, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone, etc.) as a singlet oxygen quencher for the purpose of stability and light resistance improvement of the recording layer, In order to improve the recording sensitivity, a recording sensitivity improving agent such as a metal compound may be contained. Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, an ethylenediamine complex, an azomethine complex, a phenylhydroxyamine complex, a phenanthroline complex, Organic metal compounds such as dihydroxyazobenzene complex, dioxime complex, nitrosoaminophenol complex, pyridyltriazine complex, acetylacetonate complex, metallocene complex and porphyrin complex can be mentioned. Although it does not specifically limit as a metal atom, It is preferable that it is a transition metal.
[0027]
Furthermore, other types of pigments can be used in combination as necessary. Other types of dyes have absorption mainly in the laser wavelength region for recording, and heat, such as decomposition, evaporation, dissolution, etc., on the recording layer, reflective layer or substrate at that location by absorption of the irradiated laser light energy. There is no particular limitation as long as the pits are formed with a general deformation. In addition, a combination of a dye suitable for recording with a near infrared laser having a wavelength selected from 770 to 830 nm such as CD-R and a red laser selected from 620 to 690 nm such as DVD-R is used. An optical recording medium corresponding to recording with a laser in the wavelength region may be used. Other dyes include metal-containing azo dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, squarylium dyes, metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, Examples include azulenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, and pyrylium dyes.
[0028]
Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed. Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
[0029]
The film thickness of the dye may vary depending on the recording method and is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 nm.
Next, a reflective layer having a thickness of 50 to 300 nm is preferably formed on the recording layer. As a material for the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr, and Pd metals may be used alone or in an alloy. It is possible to use. Among these, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as the material for the reflective layer. Other than this, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Mention may be made of metals such as Bi and metalloids. Of these, those containing Ag as a main component are particularly preferred because of their low cost, high reflectivity, and when a print receiving layer described later is provided, a white and beautiful ground color can be obtained. . Here, the main component means one having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.
[0030]
Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, and improve adhesion.
The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic substance include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, UV Examples thereof include a curable resin. Examples of inorganic substances include SiO ₂ , SiN ₄ , MgF ₂ , SnO _{2 and the} like. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying. The UV curable resin can be formed by adjusting the coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with UV light. As the UV curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
[0031]
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm, but is preferably 3 to 30 μm in the present invention.
Also, a means such as bonding the substrate to the reflection layer surface or bonding two optical recording media with the reflection layer surfaces facing each other as an inner surface may be used. An ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface side of the substrate in order to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like.
A print receiving layer may be further formed on a protective layer provided on the reflective layer or on a substrate bonded to the reflective layer surface.
[0032]
The laser beam used for the optical recording medium of the present invention is preferably as short as possible for high-density recording, but a laser beam of 350 to 530 nm is particularly preferable. A typical example of such laser light is laser light having center wavelengths of 410 nm and 515 nm.
An example of laser light in the wavelength range of 350 to 530 can be obtained by using a high-power semiconductor laser of 410 nm blue or 515 nm blue-green, but for example, (a) the fundamental oscillation wavelength is 740 to The second harmonic generation element (SHG) converts the wavelength of either a semiconductor laser capable of continuous oscillation at 960 nm or (b) a solid-state laser that is excited by the semiconductor laser and has a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm. Can also be obtained.
[0033]
The SHG may be any piezoelectric element that lacks inversion symmetry, but KDP, ADP, BNN, KN, LBO, a compound semiconductor, and the like are preferable. As a specific example of the second harmonic, in the case of a semiconductor laser having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm, a harmonic of 430 nm, and in the case of a solid-state laser excited by a semiconductor laser, a Cr-doped LiSrAlF ₆ crystal (fundamental oscillation wavelength of 860 nm) 430 nm of the double wave from.
Recording on the optical recording medium obtained as described above is performed by irradiating the recording layer provided on both sides or one side of the substrate with laser light focused to about 0.4 to 0.6 μm. In the portion irradiated with the laser beam, thermal deformation of the recording layer such as decomposition, heat generation and dissolution occurs due to absorption of laser beam energy.
The recorded information is reproduced by reading the difference in reflectance between the portion where the thermal change has occurred and the portion where the thermal change has not occurred with the laser beam.
【Example】
[0034]
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the examples do not limit the present invention as long as the gist thereof is not exceeded.
[0035]
Example 1
A compound represented by the following structural formula (a) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .; λmax = 368 nm in chloroform, molar extinction coefficient is 2.02 × 10 ⁴ ) is dissolved in octafluoropentanol, and the concentration is 1 Adjusted to 0.0 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and dried at 100 ° C. for 30 minutes after application. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 379 nm.
[0036]
[Chemical 9]

[0037]
On this coating film, a silver film is formed by sputtering or the like to form a reflective layer, and an ultraviolet curable resin is applied by spin coating or the like, and cured by UV irradiation to form a protective layer. An optical recording medium can be obtained.
From this value of λmax of the coating film, it can be seen that this optical recording medium can be recorded and reproduced by a semiconductor laser having a center wavelength of 410 nm, for example.
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction using a blue laser.

Claims (2)

An optical recording medium provided with a recording layer capable of writing / reading information with a laser on a substrate, wherein the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1) .

(In the formula, X represents an electron-withdrawing NO ₂ group, CF ₃ group, or CN group, and R ¹ and R ² are each independently a substituted or unsubstituted linear or branched group having 1 to 6 carbon atoms . alkyl group, or are formed in combination with other radicals together with the nitrogen atom to which R ^1, R ² are adjacent, represent a ring which may be substituted. ring a represents a pyridine ring optionally substituted .) The optical recording medium according to claim 1, wherein a laser wavelength for writing and reading is 350 to 530 nm .