JP2000343663A - Release film - Google Patents
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- JP2000343663A JP2000343663A JP11160774A JP16077499A JP2000343663A JP 2000343663 A JP2000343663 A JP 2000343663A JP 11160774 A JP11160774 A JP 11160774A JP 16077499 A JP16077499 A JP 16077499A JP 2000343663 A JP2000343663 A JP 2000343663A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は離形フィルムに関
し、さらに詳しくは樹脂溶液から成形される樹脂シート
や樹脂被膜等の製造用キャリヤーフィルム、セラミック
スラリーから成形されるセラミックシート等の成形用キ
ャリヤーフィルム、あるいは粘着テープ等の粘着剤層の
保護フィルムに有用な、熱安定性、加工性、平坦性に優
れる離形フィルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film, and more particularly to a carrier film for producing a resin sheet or a resin coating formed from a resin solution, and a carrier film for forming a ceramic sheet formed from a ceramic slurry. And a release film having excellent thermal stability, processability, and flatness useful as a protective film for an adhesive layer such as an adhesive tape.
【0002】[0002]
【従来の技術】離形フィルムは、樹脂シート、樹脂被膜
あるいはセラミックシート等を成形する際のキャリヤー
フィルムとして用いられる。樹脂シートは、例えば塩化
ビニル等からなる樹脂溶液をキャリヤーフィルム上に塗
工(流延)した後、溶媒を加熱除去し、キャリヤーフィ
ルムを剥離分離することにより成形され、マーキングシ
ート等の用途に使用される。樹脂被膜は、例えば粘着剤
となる樹脂を溶媒に溶解した塗液をキャリヤーフィルム
の表面に塗布した後、加熱して溶媒を除去することによ
り製造される。セラミックシートは、例えばセラミック
粉体とバインダー剤等を溶媒に分散させたスラリーをキ
ャリヤーフィルムの表面に塗工した後、溶媒を加熱除去
し、キャリヤーフィルムを剥離除去することにより成形
される。2. Description of the Related Art A release film is used as a carrier film when forming a resin sheet, a resin coating, a ceramic sheet or the like. The resin sheet is formed by applying (casting) a resin solution made of, for example, vinyl chloride onto a carrier film, removing the solvent by heating, and peeling and separating the carrier film, and used for applications such as marking sheets. Is done. The resin film is produced, for example, by applying a coating solution in which a resin serving as an adhesive is dissolved in a solvent to the surface of the carrier film, and then heating to remove the solvent. The ceramic sheet is formed by, for example, applying a slurry in which a ceramic powder and a binder agent or the like are dispersed in a solvent to the surface of the carrier film, removing the solvent by heating, and removing and removing the carrier film.
【0003】近年、離形フィルムを使用してこのような
樹脂シート、樹脂被膜やセラミックシート等を成形して
製造することが多くなってきた。中でも電子部品(コン
デンサや基板等のセラミック電子部品など)や光学用部
品等の高性能を要する用途、特にセラミックシートや樹
脂シートにおいては、従来にもまして均一な厚みと高い
表面性が求められている。コンデンサにおいては、静電
容量を増すために厚みを薄くし、さらに多層積層するこ
とが多くなってきており、また携帯電話等の小型モバイ
ル商品に数多く実装するためにサイズにおいても超小型
化が進んでいる。また、セラミック基板では、ICパッ
ケージや回路基板の複合化が進み、積層コンデンサ同
様、多層化による多機能化、高性能化、さらには小型軽
量化の技術が進展している。特に、回路を多層化する
際、層間の回路を繋ぐためにスルーホールを通し配線す
るため、より正確なセラミック成形やその位置決めが重
要となる。これはまた、樹脂基板でも同様な性能が求め
られる。[0003] In recent years, such resin sheets, resin coatings, ceramic sheets, and the like have been molded and manufactured using a release film. In particular, applications requiring high performance such as electronic components (such as ceramic electronic components such as capacitors and substrates) and optical components, especially ceramic sheets and resin sheets, are required to have a uniform thickness and high surface properties than ever before. I have. Capacitors are becoming thinner in order to increase their capacitance, and are often stacked in multiple layers, and are becoming ultra-miniaturized in size in order to mount them on many small mobile products such as mobile phones. In. In addition, in the case of ceramic substrates, IC packages and circuit boards have become more complex, and, like multilayer capacitors, technologies for multifunctionality, higher performance, and furthermore, smaller size and lighter weight have been developed. In particular, when a circuit is multilayered, more accurate ceramic molding and positioning thereof are important because wiring is performed through through holes to connect circuits between layers. This also requires similar performance for a resin substrate.
【0004】そのため、このような樹脂シートやセラミ
ックシート等は、均一な厚みで、より平滑な表面であ
り、また正確に加工された成形体であることが必要とな
る。そのようなシートを製造するために、樹脂溶液、粘
着剤やセラミックスラリー等の塗液を塗工する設備に高
精度なものを求めるだけでなく、シートを形成するため
のキャリヤーフィルムとしての離形フィルムにも、それ
らを塗工した際の熱処理後の寸法安定性、さらには所望
のサイズへの打抜き、断裁における優れた加工性が求め
られる。[0004] Therefore, it is necessary that such a resin sheet, a ceramic sheet, and the like have a uniform thickness, a smoother surface, and a precisely processed molded body. In order to manufacture such a sheet, not only high-precision equipment for applying a coating solution such as a resin solution, an adhesive or a ceramic slurry is required, but also release as a carrier film for forming the sheet. Films are also required to have dimensional stability after heat treatment when they are applied, and excellent workability in punching and cutting into desired sizes.
【0005】これらの離形フィルム用の基材フィルムと
して、各種のフィルム、例えばOPP等のオレフィン系
フィルムや二軸配向ポリエチレンテレフタレート(以下
PETと略することがある)フィルム等が使用されてい
る。離形フィルムは樹脂溶液やセラミックスラリーを塗
工した後、溶媒除去のため加熱処理されるが、この加熱
温度は、離形フィルムに用いられる基材フィルムのガラ
ス転移温度(Tg)付近かまたはそれ以上であることが
多く、このため離形フィルムに寸法変化やシワ等の熱変
形が生じ、成形された樹脂シート類の厚みムラや平面性
が悪化し品質が低下する問題がある。特に、樹脂シート
類の生産性を向上させるため、加熱処理時間を短縮する
ため加熱温度を高くすると、前述の問題がより顕在化す
ることが懸念される。このため、少しでも耐熱性に優れ
る基材フィルムが好ましい。As the base film for the release film, various films, for example, an olefin film such as OPP, a biaxially oriented polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PET) film and the like are used. After the release film is coated with a resin solution or a ceramic slurry, it is subjected to a heat treatment to remove the solvent. The heating temperature is close to or near the glass transition temperature (Tg) of the base film used for the release film. In many cases, thermal deformation such as dimensional change and wrinkles occurs in the release film, and there is a problem that the thickness unevenness and flatness of the formed resin sheets are deteriorated and the quality is deteriorated. In particular, when the heating temperature is increased in order to shorten the heat treatment time in order to improve the productivity of the resin sheets, there is a concern that the above-mentioned problem becomes more apparent. For this reason, a base film excellent in heat resistance at least is preferred.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る従来技術の欠点を解消し、各種樹脂シート、樹脂被
膜、セラミックシート等の成形において、加熱処理時で
の熱変形が非常に小さく、その後の裁断、打抜き等の加
工性に優れる離形フィルムを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art, and to minimize the thermal deformation during heat treatment in forming various resin sheets, resin coatings, ceramic sheets, and the like. An object of the present invention is to provide a release film excellent in processability such as subsequent cutting and punching.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、ポリエチレンナフタレートからなるフィルム
を基材フィルムとする離形フィルムであって、該基材フ
ィルムにおいて、厚み方向の屈折率(nz)が1.49
以上1.53以下、面配向係数(NS)が0.23以上
0.27以下、かつフィルムロール巻取り方向およびそ
の垂直方向の引き裂き伝播抵抗の和が4N/mm以下で
あることを特徴とする離形フィルムによって達成され
る。According to the present invention, an object of the present invention is a release film having a base film made of a film made of polyethylene naphthalate. Rate (nz) is 1.49
1.53 or less, the plane orientation coefficient (NS) is 0.23 or more and 0.27 or less, and the sum of the tear propagation resistance in the film roll winding direction and the vertical direction is 4 N / mm or less. This is achieved by a release film.
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける基材フィルムとしては、ポリエチレンナフタレー
トフィルムを用い、それを構成するポリマーとしては、
ナフタレンジカルボン酸を主たる酸成分とし、また、エ
チレングリコールを主たるグリコール成分とし、重縮合
して得られるポリエチレンナフタレート(以下PENと
略することがある)である。このナフタレンジカルボン
酸としては、例えば2,6−ナフタレンジカルボン酸、
2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレン
ジカルボン酸等をあげることができるが、これらの中
2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。主たる酸
成分がナフタレンジカルボン酸でない場合、例えばフィ
ルムに成形し、巻き取った時の巻きぐせが残存し、フィ
ルムの平面性が損なわれるので好ましくない。Hereinafter, the present invention will be described in detail. As the base film in the present invention, a polyethylene naphthalate film is used, and as a polymer constituting the film,
Polyethylene naphthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PEN) obtained by polycondensation using naphthalenedicarboxylic acid as a main acid component and ethylene glycol as a main glycol component. Examples of the naphthalenedicarboxylic acid include 2,6-naphthalenedicarboxylic acid,
Examples thereof include 2,7-naphthalenedicarboxylic acid and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid. Of these, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferred. When the main acid component is not naphthalenedicarboxylic acid, it is not preferable because, for example, the film is formed into a film, and a rolled-up film remains and the flatness of the film is impaired.
【0009】かかるPENポリマーは、離形フィルムの
耐熱変形性を損なわない範囲で、例えば芳香族ジカルボ
ン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエタン
ジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アントラセンジカ
ルボン酸等)、脂肪族ジカルボン酸(アジピン酸、コハ
ク酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等)、脂環族
ジカルボン酸(シクロヘキサン−1,4−ジカルボン
酸、1,3−アダマンタンジカルボン酸等)、脂肪族オ
キシ酸(ヒドロキシ安息香酸オキシ酸、ω−ヒドロキシ
カプロン酸等)などの成分を、全酸成分の総量に対し2
0モル%以下で共重合あるいは結合させることができ
る。Such a PEN polymer may be used, for example, aromatic dicarboxylic acids (terephthalic acid, isophthalic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid) as long as the thermal deformation resistance of the release film is not impaired. , Diphenyl ketone dicarboxylic acid, anthracene dicarboxylic acid, etc.), aliphatic dicarboxylic acid (adipic acid, succinic acid, sebacic acid, dodecane dicarboxylic acid, etc.), alicyclic dicarboxylic acid (cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid, 1,3) Components such as adamantane dicarboxylic acid) and aliphatic oxyacids (hydroxybenzoic acid oxyacid, ω-hydroxycaproic acid, etc.) in an amount of 2 to the total amount of all acid components.
It can be copolymerized or bonded at 0 mol% or less.
【0010】PENフィルムを構成するエチレングリコ
ール以外のグリコール成分としては、脂肪族グリコール
(例えばトリメチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、デカメチレングリコール等の炭素数3〜10
のポリメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノー
ル等)、芳香族ジオール(例えばハイドロキノン、レゾ
ルシン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン等)、ポリ(オキシ)アルキレングリコール(例え
ばポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール等)を例示することができるが、これら他のグリコ
ール成分の割合は、全グリコール成分当り20モル%以
下であることが好ましい。The glycol components other than ethylene glycol constituting the PEN film include aliphatic glycols (for example, those having 3 to 10 carbon atoms such as trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol, and decamethylene glycol).
Polymethylene glycol, cyclohexanedimethanol, etc.), aromatic diols (eg, hydroquinone, resorcin, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, etc.), poly (oxy) alkylene glycols (eg, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol) And the like, but the proportion of these other glycol components is preferably 20 mol% or less based on all glycol components.
【0011】また、PENポリマーには、離形フィルム
の耐熱変形性を損なわない範囲でエチレングリコール以
外のグリコール成分、例えばグリセリン、ペンタエリス
リトール、トリメリット酸、ピロメリット酸等のような
三官能以上を持つ化合物を、実質的に線状のポリマーが
得られる範囲内で、また本発明の効果を損なわない限り
において極小量共重合してもよい。さらに、PENポリ
マーは、その耐加水分解性を向上させるために、例えば
安息香酸、メトキシポリアルキレングリコール等の一官
能性化合物によって末端の水酸基および/またはカルボ
キシル基の一部または全部を封鎖したものであってもよ
い。The PEN polymer may contain a glycol component other than ethylene glycol such as glycerin, pentaerythritol, trimellitic acid, pyromellitic acid or the like, as long as the thermal deformation resistance of the release film is not impaired. The compound having the compound may be copolymerized in an extremely small amount as long as a substantially linear polymer can be obtained and as long as the effects of the present invention are not impaired. Further, in order to improve the hydrolysis resistance, the PEN polymer is obtained by blocking some or all of the terminal hydroxyl groups and / or carboxyl groups with a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. There may be.
【0012】本発明におけるPENフィルムは、従来の
ポリエステルの製造方法によって製造することができる
が、エステル交換反応法、即ちナフタレンジカルボン酸
の低級アルキルエステルとエチレングリコールとを反応
させて製造するのが好ましい。かかるナフタレンジカル
ボン酸の低級アルキルエステルとしては、例えば、ジメ
チルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル
等をあげることができ、特にジメチルエステルが好まし
い。The PEN film of the present invention can be produced by a conventional polyester production method, but is preferably produced by a transesterification method, that is, by reacting a lower alkyl ester of naphthalenedicarboxylic acid with ethylene glycol. . Examples of the lower alkyl ester of naphthalenedicarboxylic acid include, for example, dimethyl ester, diethyl ester, dipropyl ester and the like, with dimethyl ester being particularly preferred.
【0013】本発明に用いる基材フィルムは、o−クロ
ロフェノール溶液中にて25℃で測定した固有粘度が
0.40〜0.90dl/gの範囲であることが好まし
く、特に0.50〜0.85dl/gの範囲にあること
が好ましい。固有粘度が上記範囲であると、結果的に溶
融PENポリマーの押出し性および製膜性が良好とな
り、耐熱性に優れたポリエステルフィルムが得られやす
く、またフィルムを所定の大きさに裁断、打抜きする時
バリ等発生せず、成形性が良くなる。固有粘度が0.4
0dl/g未満であると、フィルムが脆くなりすぎ、フ
ィルムを所定の大きさに裁断する時に端面にバリが発生
し、時にはバリの一部から亀裂が入り、製品の歩留りが
悪くなる。また、基材フィルムの固有粘度が0.90d
l/gを超えると、PENポリマーの固有粘度自体をか
なり高くする必要があり、通常の合成手法では重合に長
時間を要し生産性が悪くなる。また、特別な重合方法
(固相重合等)を行うためには専用の設備が必要となる
ため生産コストが高くなる。The substrate film used in the present invention preferably has an intrinsic viscosity in an o-chlorophenol solution at 25 ° C. of from 0.40 to 0.90 dl / g, particularly from 0.50 to 0.90 dl / g. It is preferably in the range of 0.85 dl / g. When the intrinsic viscosity is in the above range, the extrudability and film-forming properties of the molten PEN polymer are improved, and a polyester film having excellent heat resistance is easily obtained, and the film is cut into a predetermined size and punched. Burrs and the like do not occur, and the moldability is improved. 0.4 intrinsic viscosity
If it is less than 0 dl / g, the film becomes too brittle, burrs are generated on the end face when the film is cut into a predetermined size, and sometimes a part of the burrs is cracked, and the product yield is deteriorated. Further, the intrinsic viscosity of the base film is 0.90 d.
If it exceeds 1 / g, the intrinsic viscosity of the PEN polymer itself must be considerably increased, and the polymerization method requires a long time for polymerization, resulting in poor productivity. In addition, a special polymerization method (such as solid-phase polymerization) requires dedicated equipment, which increases the production cost.
【0014】本発明におけるPENポリマーには、その
効果を損なわない範囲で、滑り性を付与し、フィルムの
巻取り性を良好なものとするため、平均粒径が0.01
〜20μm、好ましくは0.1〜5μmの無機微粒子あ
るいは有機微粒子を添加することができる。かかる微粒
子は、基材フィルム表面の中心線平均粗さ(Ra)が2
〜50nmの範囲になる割合、例えば0.001〜10
重量%含有させることが好ましく、0.01〜3重量%
含有させることが特に好ましい。かかる微粒子の具体例
として、二酸化ケイ素、無水ケイ素、含水ケイ素、酸化
アルミニウム、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、ケイ酸アルミニウム(焼成物、水和物等を含む)、
安息香酸リチウム、硫酸バリウム、これらの化合物の複
塩(水和物を含む)、カーボンブラック、ガラス粉、粘
土(カオリン、ベンナイト、白土等を含む)等の無機微
粒子や、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メ
ラミン樹脂、架橋シリコーン樹脂、ポリアミドイミド樹
脂等の有機微粒子を好ましく挙げることができる。かか
る微粒子は、本発明の効果を維持するためには、相互作
用での性能変化を防ぐため、不活性粒子であることが好
ましい。また、これらの微粒子は1種類であってもよ
く、2種類以上であってもよい。PENポリマーはPE
Tポリマーに比べてその分子鎖が剛直でフィルムのステ
ィフネスが高いため、かかる微粒子の配合量がPETポ
リマーより少なくても滑り性が良く、十分な巻取り性を
得ることができる。また、上記微粒子を含有させる方法
としては、基材フィルムの少なくとも片面にこれらの微
粒子を含有した層を薄く積層する方法も用いることがで
きる。積層方法としては、フィルム製膜時に塗設した
り、また、例えば複数の押出し機並びにフィードブロッ
クやマルチマニフォールドダイによる共押出し法が挙げ
られる。The PEN polymer in the present invention has a mean particle size of 0.01 in order to impart lubricity and improve the winding property of the film as long as the effect is not impaired.
Inorganic fine particles or organic fine particles having a thickness of from 20 to 20 μm, preferably from 0.1 to 5 μm can be added. Such fine particles have a center line average roughness (Ra) of 2 on the substrate film surface.
%, For example, 0.001 to 10
% By weight, preferably 0.01 to 3% by weight
It is particularly preferable to include them. Specific examples of such fine particles include silicon dioxide, anhydrous silicon, hydrated silicon, aluminum oxide, kaolin, calcium carbonate, titanium oxide, aluminum silicate (including calcined products and hydrates),
Inorganic fine particles such as lithium benzoate, barium sulfate, double salts of these compounds (including hydrates), carbon black, glass powder, clay (including kaolin, benite, clay, etc.), crosslinked acrylic resin, crosslinked polystyrene Organic fine particles such as a resin, a melamine resin, a crosslinked silicone resin, and a polyamideimide resin can be preferably exemplified. Such fine particles are preferably inert particles in order to maintain the effects of the present invention and to prevent a change in performance due to interaction. In addition, one kind of these fine particles may be used, or two or more kinds may be used. PEN polymer is PE
Since the molecular chain is rigid and the stiffness of the film is higher than that of the T polymer, even if the blending amount of the fine particles is smaller than that of the PET polymer, the sliding property is good and sufficient winding property can be obtained. As a method for containing the fine particles, a method of thinly laminating a layer containing these fine particles on at least one surface of the base film can also be used. Examples of the laminating method include coating at the time of film formation, and a co-extrusion method using a plurality of extruders and a feed block or a multi-manifold die.
【0015】前記微粒子以外にも、フィルムの表面平坦
性、熱安定性を損なわない範囲で、例えば安定剤、紫外
線吸収剤、着色剤、難燃剤、帯電防止剤、光安定剤、酸
化防止剤等の添加剤をPENポリマーに配合することが
できる。また他の熱可塑性樹脂を少量(例えば20重量
%以下、特に10重量%以下)添加することもできる。In addition to the fine particles, a stabilizer, an ultraviolet absorber, a coloring agent, a flame retardant, an antistatic agent, a light stabilizer, an antioxidant, etc. may be used as long as the surface flatness and thermal stability of the film are not impaired. Can be incorporated into the PEN polymer. Further, other thermoplastic resin may be added in a small amount (for example, 20% by weight or less, particularly 10% by weight or less).
【0016】かかるPENフィルムは、その製造方法に
よって特に制限されるものではなく、公知の方法で製造
することができる。例えば以下に製造方法の例を挙げ
る。本発明における二軸配向PENフィルムは、逐次二
軸延伸法、同時二軸延伸法等の従来から知られている方
法で製造することができる。例えば、逐次二軸延伸法で
は、PENポリマーを十分に乾燥させてからそのTm〜
(Tm+70)℃(Tm;PENポリマーの融点)の温
度で溶融押出し法にて未延伸フィルムを製造し、続いて
該未延伸フィルムを(Tg−10)〜(Tg+50)℃
(Tg;PENポリマーのガラス転移温度)の温度でフ
ィルムロール巻取り方向に2〜6倍延伸し、次いでTg
〜(Tg+50)℃の温度でその垂直方向に2〜6倍延
伸を行ない、さらに(Tg+60)〜(Tg+140)
℃の温度で5秒〜1分間熱固定することにより製造する
ことができる。なお、熱固定は緊張下または制限収縮下
に行なってもよい。溶融押出しの際、静電密着法を使用
することが好ましい。また、巻取り方向およびその垂直
方向での延伸条件は、得られる二軸配向PENフィルム
の物性がその長手方向および幅方向においてほぼ等しく
なるような条件を選択するのが好ましい。該熱固定温度
において、(Tg+70)℃より低いと、フィルムでの
巻取り状で保管した場合、時によっては巻きぐせが残留
したり、フィルム内部で層間剥離が起こることが懸念さ
れる。他方(Tg+140)℃よりも高いと、過度のフ
ィルム結晶化のため白化してしまい、透明や機械強度が
不十分となってしまう。同時二軸延伸の場合も上記逐次
二軸延伸の延伸温度、延伸倍率、熱固定温度等を適用す
ることができる。[0016] Such a PEN film is not particularly limited by its manufacturing method, and can be manufactured by a known method. For example, an example of a manufacturing method will be described below. The biaxially oriented PEN film in the present invention can be manufactured by a conventionally known method such as a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method. For example, in the sequential biaxial stretching method, the PEN polymer is sufficiently dried before its Tm
An unstretched film is produced by a melt extrusion method at a temperature of (Tm + 70) ° C. (Tm; melting point of the PEN polymer), and then the unstretched film is (Tg-10) to (Tg + 50) ° C.
(Tg; glass transition temperature of PEN polymer) at a temperature of 2 to 6 times in the film roll winding direction.
The film is stretched 2 to 6 times in the vertical direction at a temperature of (Tg + 50) ° C., and further (Tg + 60) to (Tg + 140)
It can be manufactured by heat setting at a temperature of 5 ° C. for 5 seconds to 1 minute. The heat setting may be performed under tension or limited shrinkage. At the time of melt extrusion, it is preferable to use an electrostatic adhesion method. The stretching conditions in the winding direction and in the vertical direction are preferably selected so that the physical properties of the obtained biaxially oriented PEN film are substantially equal in the longitudinal direction and the width direction. If the temperature is lower than (Tg + 70) ° C. at the heat setting temperature, there is a concern that when the film is stored in a rolled state with a film, a curl may sometimes remain or delamination may occur inside the film. On the other hand, if the temperature is higher than (Tg + 140) ° C., whitening occurs due to excessive film crystallization, resulting in insufficient transparency and mechanical strength. In the case of simultaneous biaxial stretching, the stretching temperature, stretching ratio, heat setting temperature, and the like of the above sequential biaxial stretching can be applied.
【0017】本発明における基材フィルムは、その厚み
方向の屈折率が、1.49以上1.53以下であり、好
ましくは1.495以上1.520以下である。厚み方
向の屈折率が、1.49未満であると、フィルムのデラ
ミネーションが発生したり、耐屈曲性が悪化したりする
ため、裁断、打抜き、穿孔等の加工性時にケバ立ち等が
発生し問題となりやすい。また、厚み方向の屈折率が
1.53を超えると、フィルムの厚み斑が大きくなり、
フィルム表面にシワが発生し易くなる。The base film of the present invention has a refractive index in the thickness direction of 1.49 or more and 1.53 or less, preferably 1.495 or more and 1.520 or less. If the refractive index in the thickness direction is less than 1.49, delamination of the film occurs or the bending resistance is deteriorated, so that fluffing or the like occurs during processing such as cutting, punching, and punching. Prone to problems. Further, when the refractive index in the thickness direction exceeds 1.53, the thickness unevenness of the film increases,
Wrinkles easily occur on the film surface.
【0018】本発明における基材フィルムの面配向係数
(NS)は、0.23以上0.27以下である。面配向
係数が0.23未満であると、フィルムの厚み斑が悪く
なり、樹脂溶液やセラミックスラリー等を塗布した後得
られる樹脂シートやセラミックシートに厚み斑が生じる
ことが懸念される。また、面配向係数が0.27を超え
るとデラミネーションを起こし易くなり、表面や端部で
引っ掻きにより発生する傷がギザギザ(凹凸)を有する
キズとなり易く、デラミ部分やキズ痕が白く目立つよう
になる。The plane orientation coefficient (NS) of the substrate film in the present invention is from 0.23 to 0.27. When the plane orientation coefficient is less than 0.23, unevenness in thickness of the film becomes worse, and there is a concern that unevenness in thickness occurs in a resin sheet or a ceramic sheet obtained after applying a resin solution or ceramic slurry. Further, when the plane orientation coefficient exceeds 0.27, delamination is apt to occur, and scratches generated by scratching on the surface and edges are liable to become scratches having jaggedness (unevenness), and the delamination portions and scratch marks become white and conspicuous. Become.
【0019】本発明における基材フィルムのフィルムロ
ール巻取り方向およびその垂直方向の引き裂き伝播抵抗
の和が4N/mm以下である。引き裂き伝播抵抗の和が
4N/mmを超えると、フィルムの打抜き性が低下する
ので好ましくない。かかる引き裂き伝播抵抗の和を4N
/mm以下とするには、フィルムの製造条件を選択す
る、特に延伸倍率を前述の範囲で高く設定すればよい。In the present invention, the sum of the tear propagation resistance in the film roll winding direction of the base film and the vertical direction thereof is 4 N / mm or less. If the sum of the tear propagation resistances exceeds 4 N / mm, the punching properties of the film are undesirably reduced. The sum of the tear propagation resistance is 4N
/ Mm or less, the production conditions of the film may be selected, in particular, the stretching ratio may be set high within the above-mentioned range.
【0020】また、本発明における基材フィルムはその
フィルムロールの巻き方向およびその垂直方向とも弾性
率が1.0×1011〜1.7×1011dyne/cm2
の範囲であることが好ましい。弾性率が1.0×1011
dyne/cm2より小さいと断裁等の打抜きにおいて
バリ、反り等が発生し易い。また、1.7×1011dy
ne/cm2より大きいと断裁時必要以上に切り込みが
進み、所定の断裁がし難い。The substrate film of the present invention has an elastic modulus of 1.0 × 10 11 to 1.7 × 10 11 dyne / cm 2 in both the winding direction of the film roll and the vertical direction thereof.
Is preferably within the range. The elastic modulus is 1.0 × 10 11
If it is smaller than dyne / cm 2 , burrs, warpage, and the like are likely to occur in punching such as cutting. 1.7 × 10 11 dy
If it is larger than ne / cm 2 , the cutting proceeds more than necessary at the time of cutting, and it is difficult to perform predetermined cutting.
【0021】本発明における基材フィルムは、フィルム
の密度が1.360〜1.380g/cm3であること
が好ましい。フィルムの密度が1.360g/cm3未
満であると延伸により配向された分子が十分な結晶に成
長しておらず寸法安定性が悪くなる。また、1.380
g/cm3を超えると結晶化によりフィルムが脆くなり
耐衝撃性に劣る。The base film in the present invention preferably has a film density of 1.360 to 1.380 g / cm 3 . When the density of the film is less than 1.360 g / cm 3 , molecules oriented by stretching do not grow into sufficient crystals, resulting in poor dimensional stability. Also, 1.380
If it exceeds g / cm 3 , the film becomes brittle due to crystallization and the impact resistance is poor.
【0022】本発明に用いる基材フィルムの厚みは特に
限定されないが、5〜500μmであることが好まし
く、特に10〜200μmであることが好ましい。The thickness of the substrate film used in the present invention is not particularly limited, but is preferably from 5 to 500 μm, particularly preferably from 10 to 200 μm.
【0023】本発明の離形フィルムは、120℃、15
0gf/mm2の熱時応力下での寸法変化率の絶対値
が、基材フィルムのロール巻取り方向およびその垂直方
向とも0.3%以下であることが好ましい。寸法変化率
の絶対値が0.3%を超えると、セラミックスラリーや
樹脂溶液を離形フィルムに塗工し溶媒を加熱除去する工
程において、離形フィルムが変形して平坦な表面のセラ
ミックシートや樹脂シートが得られない。The release film of the present invention has a temperature of 120.degree.
It is preferable that the absolute value of the dimensional change rate under a thermal stress of 0 gf / mm 2 is 0.3% or less in both the roll winding direction of the base film and the vertical direction thereof. When the absolute value of the dimensional change rate exceeds 0.3%, in the step of applying a ceramic slurry or a resin solution to the release film and removing the solvent by heating, the release film is deformed and the ceramic sheet or the flat surface is removed. A resin sheet cannot be obtained.
【0024】本発明においては、基材フィルムの少なく
とも片面に離形層を設けることが好ましい。離形層を形
成する成分としては、例えばシリコーン樹脂、フッ素樹
脂または脂肪族ワックス等を挙げることができる。ま
た、キャスティングされる樹脂によっては離形層を設け
なくても良い。かかる離形層を形成する成分には、本発
明の目的を妨げない範囲で公知の各種添加剤を配合する
ことができる。この添加剤としては、例えば紫外線吸収
剤、顔料、消泡剤、帯電防止剤等を挙げることができ
る。離形層の塗設は離形層を形成する成分を含む塗液を
基材フィルムに塗布し、加熱乾燥させて塗膜を形成させ
ることにより行なうことができる。加熱条件としては8
0〜160℃で10〜120秒間、特に120〜150
℃で20〜60秒間が好ましい。塗布方法は、任意の公
知の方法が使用でき、例えばロールコーター法、ブレー
ドコーター法等が好ましく挙げられる。In the present invention, it is preferable to provide a release layer on at least one side of the base film. As a component forming the release layer, for example, a silicone resin, a fluororesin or an aliphatic wax can be exemplified. Further, a release layer may not be provided depending on the resin to be cast. Various known additives can be added to the components forming the release layer as long as the object of the present invention is not hindered. Examples of the additive include an ultraviolet absorber, a pigment, an antifoaming agent, and an antistatic agent. The release layer can be applied by applying a coating liquid containing a component forming the release layer to a base film and drying by heating to form a coating film. Heating condition is 8
0-160 ° C for 10-120 seconds, especially 120-150
C. for 20 to 60 seconds is preferred. As the coating method, any known method can be used, and examples thereof include a roll coater method and a blade coater method.
【0025】本発明においては、基材フィルムと離形層
の密着性を高めるために、基材フィルムと離形層の間に
接着層を設けることが好ましい。この接着層を形成する
成分としては、例えば離形層がシリコーン樹脂層の場
合、シランカップリング剤が好ましい。このシランカッ
プリング剤としては一般式Y−Si−X3で表されるも
のがさらに好ましい。ここで、Yは例えばアミノ基、エ
ポキシ基、ビニル基、メタクリル基、メルカプト基等で
代表される官能基、Xはアルコキシ基で代表される加水
分解性の官能基を表す。かかる接着層の厚みは、0.0
1〜5μmの範囲が好ましく、0.02〜2μmの範囲
が特に好ましい。接着層の厚みが上記の範囲であると基
材フィルムと離形層の密着性が良好となり、かつ接着層
を設けた基材フィルムがブロッキングしにくいため、離
形フィルムの取り扱いで問題が生じにくい利点がある。In the present invention, it is preferable to provide an adhesive layer between the base film and the release layer in order to enhance the adhesion between the base film and the release layer. As a component forming the adhesive layer, for example, when the release layer is a silicone resin layer, a silane coupling agent is preferable. Those represented by the general formula Y-Si-X 3 is more preferred as the silane coupling agent. Here, Y represents a functional group represented by, for example, an amino group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryl group, a mercapto group, and X represents a hydrolyzable functional group represented by an alkoxy group. The thickness of the adhesive layer is 0.0
The range is preferably from 1 to 5 μm, and particularly preferably from 0.02 to 2 μm. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, the adhesion between the base film and the release layer becomes good, and the base film provided with the adhesive layer is difficult to block, so that problems in handling the release film are unlikely to occur. There are advantages.
【0026】[0026]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに説明す
る。なお、各特性値は下記の方法で測定した。 1.厚み方向の屈折率(nz)と面配向係数(NS) アッベ屈折計(株式会社アタゴ製)を用い、25℃にて
Na−D線を用いて、フィルム巻取り方向、その垂直方
向、厚み方向の屈折率を求めた。面配向係数は下記式で
表される。 面配向係数(NS)=(nMD+nTD)/2−nz 上記式中、nMDは基材フィルムのフィルム巻取り方向
の屈折率、nTDはその垂直方向の屈折率、nzはフィ
ルムの厚み方向の屈折率を表す。The present invention will be further described below with reference to examples. In addition, each characteristic value was measured by the following method. 1. Refractive index (nz) in the thickness direction and plane orientation coefficient (NS) Using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.), using a Na-D line at 25 ° C., the film winding direction, its vertical direction, and the thickness direction. Was determined. The plane orientation coefficient is represented by the following equation. Plane orientation coefficient (NS) = (nMD + nTD) / 2-nz In the above formula, nMD is the refractive index of the base film in the film winding direction, nTD is the refractive index of the base film in the vertical direction, and nz is the refractive index in the thickness direction of the film. Represents
【0027】2.引き裂き伝播抵抗力 試験機としてエルメンドルフ引き裂き試験機(株式会社
東洋精機製作所製)を用いた。52mm幅(X)×65
mm幅(Y)の長方形のフィルム試料を採取し、Xの辺
の中央にY方向に13mm長さの亀裂を作り、残りの5
2mmに対する引き裂きの力を求めた。この力をフィル
ムの厚みで割り、引き裂き伝播抵抗力とした。また、こ
の測定をフィルム巻取り方向およびその垂直方向に行っ
た。2. Elmendorf tear tester (manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.) was used as a tear propagation resistance tester. 52mm width (X) x 65
A rectangular film sample having a width of (mm) (mm) was taken, and a crack having a length of 13 mm was formed in the center of the X side in the Y direction.
The tearing force for 2 mm was determined. This force was divided by the thickness of the film to give a tear propagation resistance. This measurement was performed in the film winding direction and the direction perpendicular thereto.
【0028】3.耐熱変形性 測定方向に30mm以上、幅4mmで切り出した短冊状
離形フィルムをTMA(熱応力歪測定装置、セイコー電
子工業株式会社製TMA/SS120C)の治具にチャ
ック間が10mmになるように装着し、150gf/m
m2の応力を加え、室温から5℃/分の昇温速度で加熱
し、120℃に到達した時の寸法変化を応力方向および
垂直方向別に測定し、下記式にて計算して求めた。 寸法変化率の絶対値=|寸法変化/チャック間距離|×
1003. Heat-Resistant Deformation A strip-shaped release film cut out at least 30 mm in width and 4 mm in width in the measurement direction is placed on a jig of TMA (thermal stress strain measuring device, TMA / SS120C manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) so that the distance between chucks is 10 mm. Attached, 150gf / m
After applying a stress of m 2 and heating from room temperature at a heating rate of 5 ° C./min, the dimensional change when the temperature reached 120 ° C. was measured separately in the stress direction and the vertical direction, and calculated by the following formula. Absolute value of dimensional change rate = | Dimension change / Distance between chucks | ×
100
【0029】4.加工性 作成した離形フィルムに、モデル塗料として水に溶解さ
せたポリビニルアルコール樹脂を、乾燥後の厚みが30
μmとなるよう塗布し、水を乾燥蒸発させた。その後、
15cm角の金属金型を用い、打抜き後、エッジのバリ
や隅のしなり、亀裂の発生を観察し下記の基準で評価し
た。 ○: バリやしなりが発生しない。 △: 微小なバリが発生、またはフィルムのしなりが発
生し、樹脂膜がやや伸びる。または微小な層間剥離が発
生する。 ×: 離形フィルムに層間剥離やバリ、または亀裂が発
生、または樹脂膜が十分に切断できない状態。4. Processability A polyvinyl alcohol resin dissolved in water as a model paint is dried on the release film having a thickness of 30%.
It was applied to a thickness of μm, and the water was dried and evaporated. afterwards,
Using a 15 cm square metal mold, after punching, the occurrence of burrs, corner bending, and cracks at the edges was observed and evaluated according to the following criteria. :: No burr or bending occurs. Δ: Fine burrs or film bending occur, and the resin film slightly extends. Alternatively, minute delamination occurs. ×: A state in which delamination, burrs, or cracks occur in the release film, or the resin film cannot be cut sufficiently.
【0030】[実施例1〜2、比較例1〜2]平均粒径
0.3μmの真球状シリカ粒子を0.15重量%含有さ
せた表1に示す固有粘度のPENポリマーを押出し機で
溶融し、ダイスから40℃に維持してある回転冷却ドラ
ム上に押出し、静電密着法を用いて溶融ポリマーを回転
冷却ドラムに密着させて急冷し未延伸フィルムとした。
次いでこの未延伸フィルムを表1に示す条件で、まず縦
(機械軸)方向、次いで横(幅)方向の順で逐次二軸延
伸し、さらに表1の温度条件にて熱固定を行ない、厚さ
50μmの二軸配向PENフィルムを得た。Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 PEN polymers having an intrinsic viscosity shown in Table 1 containing 0.15% by weight of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.3 μm were melted by an extruder. Then, the mixture was extruded from a die onto a rotating cooling drum maintained at 40 ° C., and the molten polymer was brought into close contact with the rotating cooling drum using an electrostatic adhesion method to be rapidly cooled to obtain an unstretched film.
Next, the unstretched film was biaxially stretched sequentially in the longitudinal (machine axis) direction and then in the transverse (width) direction in the order shown in Table 1, and then heat-fixed under the temperature conditions in Table 1 to obtain A biaxially oriented PEN film having a thickness of 50 μm was obtained.
【0031】この二軸配向PENフィルムの片面に、下
記に示す方法で調製した塗液を6g/m2(wet)の
塗布量で塗布し、140℃の温度で1分間加熱乾燥およ
び硬化させて離形層の厚さが0.1μmの離形フィルム
を作成した。この離形フィルムの特性を表1に示す。On one surface of the biaxially oriented PEN film, a coating solution prepared by the method described below was applied at a coating amount of 6 g / m 2 (wet), and heated and dried at a temperature of 140 ° C. for 1 minute, followed by curing. A release film having a release layer thickness of 0.1 μm was prepared. Table 1 shows the characteristics of the release film.
【0032】なお、塗液は、ビニル基を有するポリジメ
チルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランからな
る付加反応タイプの硬化型シリコーンをメチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンおよびトルエンの混合溶
媒中に溶解させ、さらにシリコーンレジンを前記硬化型
シリコーンに対し固形分比で10重量%となる量配合
し、全体の固形分濃度が2%の溶液とし、この溶液に白
金触媒を添加して作成した。The coating liquid is prepared by dissolving an addition-reaction-type curable silicone composed of polydimethylsiloxane having a vinyl group and dimethylhydrogensilane in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and toluene, and further adding silicone resin. A solution having a solid content ratio of 2% was added to the curable silicone so as to have a solid content ratio of 10% by weight, and a platinum catalyst was added to this solution to prepare a solution.
【0033】[0033]
【表1】 [Table 1]
【0034】表1より明らかなように、実施例に示した
本発明の離形フィルムは、基材フィルムとしての熱安定
性に優れ、また、離形層を設ける時の加熱処理後の寸法
安定性や平面性に優れ、また加工性が良好なものであっ
た。また、比較例1および2の離形フィルムは、製膜後
のフィルムの熱安定性が劣り、またこれにより平坦性が
劣り、さらには離形フィルムにした時の平面性が悪く、
塗布した樹脂溶液の厚みムラが悪かったり、断裁時に層
間剥離が発生し不十分なものであった。As is clear from Table 1, the release films of the present invention shown in Examples have excellent heat stability as a base film and dimensional stability after heat treatment when a release layer is provided. Excellent in workability and flatness, and good in workability. In addition, the release films of Comparative Examples 1 and 2 have poor thermal stability after film formation, and thus have poor flatness, and further have poor flatness when formed into release films.
The thickness of the applied resin solution was poor, and delamination occurred during cutting, which was insufficient.
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明によれば、熱安定性が良く、また
離形フィルムとしての平面性も優れ、樹脂シート等の成
形時の熱による変形も非常に小さく、また断裁精度等の
加工性に優れるシート類を製造する離形フィルムを提供
することができる。According to the present invention, the thermal stability is good, the flatness as a release film is excellent, the deformation due to heat during molding of a resin sheet is very small, and the workability such as cutting accuracy is high. A release film for producing sheets having excellent properties can be provided.
Claims (5)
ルムを基材フィルムとする離形フィルムであって、該基
材フィルムにおいて、(1)厚み方向の屈折率(nz)
が1.49以上1.53以下、(2)面配向係数(N
S)が0.23以上0.27以下、かつ(3)フィルム
ロール巻取り方向およびその垂直方向の引き裂き伝播抵
抗の和が4N/mm以下であることを特徴とする離形フ
ィルム。1. A release film using a film made of polyethylene naphthalate as a base film, wherein (1) a refractive index (nz) in a thickness direction of the base film.
Is 1.49 or more and 1.53 or less, and the (2) plane orientation coefficient (N
S): 0.23 or more and 0.27 or less, and (3) a release film, wherein the sum of the tear propagation resistance in the film roll winding direction and the vertical direction is 4 N / mm or less.
gf/mm2応力下での寸法変化率の絶対値がフィルム
ロール巻取り方向およびその垂直方向とも0.3%以下
である請求項1記載の離形フィルム。2. The release film at 150 ° C. at 120 ° C.
releasing film of claim 1, wherein gf / mm the absolute value of the dimensional change rate under 2 stress is 0.3% or less with the film roll winding direction and a vertical direction.
/g以上0.90dl/g以下である請求項1記載の離
形フィルム。3. The base film has an intrinsic viscosity of 0.40 dl.
The release film according to claim 1, which is not less than / g and not more than 0.90 dl / g.
μm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の離形フ
ィルム。4. The base film having a thickness of 5 μm or more and 500 or more.
The release film according to any one of claims 1 to 3, which has a thickness of not more than μm.
コーン樹脂、フッ素樹脂および脂肪族ワックスから選ば
れた少なくとも1種を積層してなる請求項1〜4のいず
れかに記載の離形フィルム。5. The release film according to claim 1, wherein at least one selected from a silicone resin, a fluororesin, and an aliphatic wax is laminated on at least one surface of the base film.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11160774A JP2000343663A (en) | 1999-06-08 | 1999-06-08 | Release film |
US09/581,579 US6309730B1 (en) | 1998-10-15 | 1999-10-14 | Releasing film |
KR1020007006489A KR100646147B1 (en) | 1998-10-15 | 1999-10-14 | Release film |
EP19990947901 EP1040915B1 (en) | 1998-10-15 | 1999-10-14 | Release film |
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JP (1) | JP2000343663A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040017023A (en) * | 2002-08-20 | 2004-02-26 | 에스케이씨 주식회사 | Biaxially oriented polyethylenenaphthalate film for an electric insulation and method for the preparation thereof |
KR20100103817A (en) | 2008-01-11 | 2010-09-28 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | Mould release film |
-
1999
- 1999-06-08 JP JP11160774A patent/JP2000343663A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040017023A (en) * | 2002-08-20 | 2004-02-26 | 에스케이씨 주식회사 | Biaxially oriented polyethylenenaphthalate film for an electric insulation and method for the preparation thereof |
KR20100103817A (en) | 2008-01-11 | 2010-09-28 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | Mould release film |
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