JP2000006349A - Release film - Google Patents

Release film

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JP2000006349A
JP2000006349A JP17573998A JP17573998A JP2000006349A JP 2000006349 A JP2000006349 A JP 2000006349A JP 17573998 A JP17573998 A JP 17573998A JP 17573998 A JP17573998 A JP 17573998A JP 2000006349 A JP2000006349 A JP 2000006349A
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JP
Japan
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film
acid component
release film
acid
antimony
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JP17573998A
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Hiroyuki Sumi
洋幸 角
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Teijin Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release film capable of obtaining a uniform and flat surface in the molding of various resin sheets, resin coating films or ceramic sheets and extremely reduced in thermal deformation at the time of heat treatment. SOLUTION: This film contains naphthalene dicarboxylic acid as a main acid component and ethylene glycol as a main glycol component and also contains manganese, phosphorus and antimony elements originating from compds. of those elements in a ratio satisfying formulae: 0.7<=Mn<=1.6, 0.5<=Mn/P<=1.2 and 0.7<=Sb<=2.2 (wherein Mn is a molar number of a manganese element per an acid component 106 g, P is a molar ratio of a phosphorus element per an acid component 106 g and Sb is a molar ratio of an antimony element per an acid component 106 g.). Polyethylene naphthalate obtained by polycondensation is used as a base material film and the center line average roughness (Ra) of the surface thereof is set to 2-50 nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は離形フィルムに関
し、さらに詳しくは樹脂溶液から成形される樹脂シート
や樹脂被膜等の製造用キャリヤーフィルム、セラミック
スラリーから成形されるセラミックシート等の成形用キ
ャリヤーフィルム、あるいは粘着テープ等の粘着剤層の
保護フィルムに有用な、熱安定性、平面性および平坦性
に優れる離形フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a release film, and more particularly to a carrier film for producing a resin sheet or a resin coating formed from a resin solution, and a carrier film for forming a ceramic sheet formed from a ceramic slurry. The present invention relates to a release film having excellent thermal stability, flatness, and flatness, which is useful as a protective film for an adhesive layer such as an adhesive tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】離形フィルムは、樹脂シート、樹脂被膜
あるいはセラミックシート等を成形する際のキャリヤー
フィルムとして用いられる。
2. Description of the Related Art A release film is used as a carrier film when forming a resin sheet, a resin coating, a ceramic sheet or the like.

【0003】樹脂シートは、例えば塩化ビニル等からな
る樹脂溶液をキャリヤーフィルム上に塗工(流延)した
後、溶媒を加熱除去し、キャリヤーフィルムを剥離分離
することにより成形され、マーキングシート等の用途に
使用される。
[0003] A resin sheet is formed by coating (casting) a resin solution made of, for example, vinyl chloride on a carrier film, removing the solvent by heating, and separating and separating the carrier film. Used for applications.

【0004】樹脂被膜は、例えば粘着剤となる樹脂を溶
媒に溶解した塗液をキャリヤーフィルムの表面に塗布し
た後、加熱して溶媒を除去することにより製造される。
[0004] A resin film is produced, for example, by applying a coating solution obtained by dissolving a resin serving as an adhesive in a solvent to the surface of a carrier film and then heating to remove the solvent.

【0005】セラミックシートは、例えばセラミック粉
体とバインダー剤等を溶媒に分散させたスラリーをキャ
リヤーフィルムの表面に塗工した後、溶媒を加熱除去
し、キャリヤーフィルムを剥離除去することにより成形
される。
A ceramic sheet is formed by, for example, applying a slurry in which a ceramic powder and a binder agent or the like are dispersed in a solvent to the surface of a carrier film, removing the solvent by heating, and peeling off the carrier film. .

【0006】近年、離形フィルムを使用してこのような
樹脂シート、樹脂被膜やセラミックシート等を成形して
製造することが多くなってきた。中でも電子部品や光学
用部品等の高性能を要する用途、特にセラミックシート
や樹脂シートにおいては、従来にもまして均一な厚みと
高い表面性が求められている。特に、セラミックシート
は、コンデンサ等のセラミック電子部品を製造する際に
積層されることが多く、コンデンサの静電容量を増すた
めに厚みを薄くし、さらに多層積層することが多くなっ
てきている。
[0006] In recent years, such resin sheets, resin coatings, ceramic sheets, and the like have been increasingly formed and manufactured using a release film. Above all, in applications requiring high performance such as electronic components and optical components, particularly in ceramic sheets and resin sheets, more uniform thickness and higher surface properties are required than ever before. In particular, ceramic sheets are often laminated when manufacturing a ceramic electronic component such as a capacitor. In order to increase the capacitance of the capacitor, the thickness of the ceramic sheet is reduced, and moreover, the number of laminated ceramic sheets is increasing.

【0007】そのため、このような樹脂シートやセラミ
ックシート等は、均一な厚みで、精度よく、しかもより
平滑な表面であることが必要となる。そのようなシート
を製造するために、樹脂溶液、粘着剤やセラミックスラ
リー等の塗液を塗工する設備に高精度なものを求めるだ
けでなく、シートを形成するためのキャリヤーフィルム
にも、剥離後に得られた樹脂シート等のシート面の平滑
性、たるみやロール巻きぐせのない平面性、熱処理後の
寸法安定性、さらには打抜き、断裁等での加工性が求め
られる。
[0007] Therefore, such a resin sheet, ceramic sheet, and the like must have a uniform thickness, a high precision, and a smoother surface. In order to manufacture such a sheet, not only the equipment for applying a coating solution such as a resin solution, an adhesive or a ceramic slurry requires a high-precision one, but also a carrier film for forming the sheet, a peeling method. Smoothness of the sheet surface of a resin sheet or the like obtained later, flatness without sagging or roll winding, dimensional stability after heat treatment, and workability in punching, cutting, and the like are required.

【0008】これらのキャリヤーフィルム用の基材フィ
ルムには、各種のフィルム、例えばOPP等のオレフィ
ン系フィルムや二軸配向ポリエチレンテレフタレート
(以下PETと略することがある)フィルム等が使用さ
れている。例えば、PETフィルムはほとんどの場合、
巻取り性向上の目的でフィラー等を添加し表面を粗面化
している。したがって、フィラーが添加された特に粗い
表面を有するPETフィルムをキャリヤーフィルムとし
て使用した場合、成形された樹脂シートやセラミックシ
ート等は、樹脂溶液等を塗布した時に、場合によっては
ピンホールが発生し、均一な薄層のシートが得られなく
なり、製品に不具合を生ずる。また、成形されたシート
を積層する場合、積層界面に空隙が入りやすい等の問題
が発生することがある。
As the base film for the carrier film, various films such as an olefin film such as OPP and a biaxially oriented polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PET) film are used. For example, PET films are almost always
The surface is roughened by adding a filler or the like for the purpose of improving the winding property. Therefore, when a PET film having a particularly rough surface to which a filler is added is used as a carrier film, a molded resin sheet, a ceramic sheet, and the like, when a resin solution or the like is applied, pinholes are generated in some cases, A sheet with a uniform thin layer cannot be obtained, resulting in a product defect. Further, when laminating the formed sheets, there may be a problem that a void easily enters the lamination interface.

【0009】しかし、フィラー等の大きさ、量を制限し
すぎると、基材フィルムの表面粗さが小さくなり過ぎ、
巻取りロールにおいてフィルム同士の接触面積が大きく
なり、ブロッキングにより剥離異常等が発生したり、ま
た滑りが悪くなり、工程で使用する時、搬送性に問題が
発生することがある。
However, if the size and amount of the filler and the like are too limited, the surface roughness of the base film becomes too small,
In the take-up roll, the contact area between the films is increased, and peeling abnormality or the like occurs due to blocking, and the slippage is deteriorated. When the film is used in a process, a problem in transportability may occur.

【0010】さらに、離形フィルムは樹脂溶液やセラミ
ックスラリーを塗工した後、溶媒除去のため加熱処理さ
れるが、この加熱温度は、離形フィルムに用いられる基
材フィルムのガラス転移温度(Tg)付近かまたはそれ
以上であることが多く、このため離形フィルムに寸法変
化やシワ等の熱変形が生じ、成形された樹脂シート類の
厚みムラや平面性が悪化し品質が低下する問題がある。
特に、樹脂シート類の生産性を向上させるため、加熱処
理時間を短縮するため加熱温度を高くすると、前述の問
題がより顕在化することが懸念される。
Further, after the release film is coated with a resin solution or a ceramic slurry, it is subjected to a heat treatment for removing the solvent. The heating temperature is controlled by the glass transition temperature (Tg) of the base film used for the release film. ) Is often near or above, which causes thermal deformation such as dimensional changes and wrinkles in the release film, resulting in a problem that thickness unevenness and flatness of molded resin sheets are deteriorated and quality is deteriorated. is there.
In particular, when the heating temperature is increased in order to shorten the heat treatment time in order to improve the productivity of the resin sheets, there is a concern that the above-mentioned problem becomes more apparent.

【0011】また、離形フィルムは樹脂溶液やセラミッ
クスラリーを塗工する前は、ロール状に巻かれているこ
とが多いが、それらを塗工するために巻きほぐす時に時
としてたるみや巻きぐせが発生することがある。これに
より、塗工された樹脂シートの平面性が損なわれること
が懸念される。さらに製膜条件によっては製造された基
材フィルムの中に、内部応力が残留し樹脂溶液等を塗工
した際、それらが急激に緩和され局所的にたるみが発生
し、塗工して得られる樹脂シートの平面性が損なわれる
問題がある。
In addition, the release film is often wound into a roll shape before applying the resin solution or the ceramic slurry. May occur. Thereby, there is a concern that the flatness of the coated resin sheet is impaired. Furthermore, depending on the film forming conditions, in the manufactured base film, internal stress remains, and when a resin solution or the like is applied, they are suddenly relaxed and locally sagging occurs, which is obtained by coating. There is a problem that the flatness of the resin sheet is impaired.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る従来技術の欠点を解消し、各種樹脂シート、樹脂被
膜、セラミックシート等の成形において、均一で平坦な
表面を得ることができ、加熱処理時での熱変形が非常に
小さい離形フィルムを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to overcome the disadvantages of the prior art and to obtain a uniform and flat surface in molding various resin sheets, resin coatings, ceramic sheets and the like. It is an object of the present invention to provide a release film having a very small thermal deformation during processing.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、ポリエチレンナフタレートからなるフィルム
を基材フィルムとする離形フィルムであって、該ポリエ
チレンナフタレートがナフタレンジカルボン酸を主たる
酸成分とし、エチレングリコールを主たるグリコール成
分とし、マンガン化合物、リン化合物およびアンチモン
化合物に由来するマンガン、リンおよびアンチモン元素
を下記式(1)〜(3)を同時に満足する割合で含有
し、重縮合して得られるものであり、かつ該基材フィル
ム表面の中心線平均粗さ(Ra)が2〜50nmである
ことを特徴とする離形フィルムによって達成される。 0.7≦Mn≦1.6 ・・・(1) 0.5≦Mn/P≦1.2 ・・・(2) 0.7≦Sb≦2.2 ・・・(3) (上記式中、Mnは酸成分106g当りのマンガン元素
のモル数、Pは酸成分106g当りのリン元素のモル
数、Sbは酸成分106g当りのアンチモン元素のモル
数を表わす。)
According to the present invention, an object of the present invention is to provide a release film comprising a film comprising polyethylene naphthalate as a base film, wherein the polyethylene naphthalate is mainly composed of naphthalenedicarboxylic acid. As an acid component, ethylene glycol is used as a main glycol component, and manganese, phosphorus and antimony elements derived from a manganese compound, a phosphorus compound and an antimony compound are contained in proportions simultaneously satisfying the following formulas (1) to (3), and polycondensation is carried out. And a center film having a center line average roughness (Ra) of 2 to 50 nm. 0.7 ≦ Mn ≦ 1.6 (1) 0.5 ≦ Mn / P ≦ 1.2 (2) 0.7 ≦ Sb ≦ 2.2 (3) Where Mn is the number of moles of manganese element per 10 6 g of acid component, P is the number of moles of phosphorus element per 10 6 g of acid component, and Sb is the number of moles of antimony element per 10 6 g of acid component.)

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける基材フィルムとしては、ポリエチレンナフタレー
トフィルムを用い、それを構成するポリマーとしては、
ナフタレンジカルボン酸を主たる酸成分とし、また、エ
チレングリコールを主たるグリコール成分とし、重縮合
して得られるポリエチレンナフタレート(以下PENと
略することがある)である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. As the base film in the present invention, a polyethylene naphthalate film is used, and as a polymer constituting the film,
Polyethylene naphthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PEN) obtained by polycondensation using naphthalenedicarboxylic acid as a main acid component and ethylene glycol as a main glycol component.

【0015】このナフタレンジカルボン酸としては、例
えば2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタ
レンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸等
をあげることができるが、これらの中2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸が好ましい。
Examples of the naphthalenedicarboxylic acid include 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid. Dicarboxylic acids are preferred.

【0016】主たる酸成分がナフタレンジカルボン酸で
ない場合、例えばフィルムに成形し、巻き取った時の巻
きぐせが残存し、フィルムの平面性が損なわれ好ましく
ない。
If the main acid component is not naphthalenedicarboxylic acid, for example, it is unfavorably formed into a film, and the resulting curl remains, and the flatness of the film is impaired.

【0017】かかるPENポリマーは、離形フィルムの
耐熱変形性を損なわない範囲で、例えば芳香族ジカルボ
ン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエタン
ジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アントラセンジカ
ルボン酸等)、脂肪族ジカルボン酸(アジピン酸、コハ
ク酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等)、脂環族
ジカルボン酸(シクロヘキサン−1,4−ジカルボン
酸、1,3−アダマンタンジカルボン酸等)、脂肪族オ
キシ酸(ヒドロキシ安息香酸オキシ酸、ω−ヒドロキシ
カプロン酸等)などの成分を、全酸成分の総量に対し2
0モル%以下で共重合あるいは結合させることができ
る。
Such a PEN polymer can be used, for example, in the range of not impairing the heat deformation resistance of the release film, for example, aromatic dicarboxylic acids (terephthalic acid, isophthalic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid). , Diphenyl ketone dicarboxylic acid, anthracene dicarboxylic acid, etc.), aliphatic dicarboxylic acid (adipic acid, succinic acid, sebacic acid, dodecane dicarboxylic acid, etc.), alicyclic dicarboxylic acid (cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid, 1,3) Components such as adamantane dicarboxylic acid) and aliphatic oxyacids (hydroxybenzoic acid oxyacid, ω-hydroxycaproic acid, etc.) in an amount of 2 to the total amount of all acid components.
It can be copolymerized or bonded at 0 mol% or less.

【0018】PENフィルムを構成するエチレングリコ
ール以外のグリコール成分としては、脂肪族グリコール
(例えばトリメチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、デカメチレングリコール等の炭素数3〜10
のポリメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノー
ル等)、芳香族ジオール(例えばハイドロキノン、レゾ
ルシン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン等)、ポリ(オキシ)アルキレングリコール(例え
ばポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール等)を例示することができるが、これら他のグリコ
ール成分の割合は、全グリコール成分当り20モル%以
下であることが好ましい。
As glycol components other than ethylene glycol constituting the PEN film, aliphatic glycols (for example, those having 3 to 10 carbon atoms such as trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol, and decamethylene glycol) are used.
Polymethylene glycol, cyclohexanedimethanol, etc.), aromatic diols (eg, hydroquinone, resorcin, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, etc.), poly (oxy) alkylene glycols (eg, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol) Etc.), but the proportion of these other glycol components is preferably 20 mol% or less based on the total glycol components.

【0019】また、PENポリマーには、離形フィルム
の耐熱変形性を損なわない範囲でエチレングリコール以
外のグリコール成分、例えばグリセリン、ペンタエリス
リトール、トリメリット酸、ピロメリット酸等のような
三官能以上を持つ化合物を、実質的に線状のポリマーが
得られる範囲内で、また本発明の効果を損なわない限り
において極小量共重合してもよい。
The PEN polymer may contain a glycol component other than ethylene glycol such as glycerin, pentaerythritol, trimellitic acid, pyromellitic acid or the like, as long as the thermal deformation resistance of the release film is not impaired. The compound having the compound may be copolymerized in an extremely small amount as long as a substantially linear polymer can be obtained and as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0020】さらに、PENポリマーは、その耐加水分
解性を向上させるために、例えば安息香酸、メトキシポ
リアルキレングリコール等の一官能性化合物によって末
端の水酸基および/またはカルボキシル基の一部または
全部を封鎖したものであってもよい。
Further, in order to improve the hydrolysis resistance of the PEN polymer, part or all of the terminal hydroxyl groups and / or carboxyl groups are blocked with a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. May be done.

【0021】本発明におけるPENフィルムは、従来の
ポリエステルの製造方法によって製造することができる
が、エステル交換反応法、即ちナフタレンジカルボン酸
の低級アルキルエステルとエチレングリコールとを反応
させて製造するのが好ましい。かかるナフタレンジカル
ボン酸の低級アルキルエステルとしては、例えば、ジメ
チルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル
等をあげることができ、特にジメチルエステルが好まし
い。
The PEN film in the present invention can be produced by a conventional polyester production method, but is preferably produced by a transesterification method, that is, by reacting a lower alkyl ester of naphthalenedicarboxylic acid with ethylene glycol. . Examples of the lower alkyl ester of naphthalenedicarboxylic acid include, for example, dimethyl ester, diethyl ester, dipropyl ester and the like, with dimethyl ester being particularly preferred.

【0022】本発明に用いるPENポリマーは、o−ク
ロロフェノール溶液中にて35℃で測定した固有粘度が
0.40〜0.90dl/gの範囲であることが好まし
く、特に0.50〜0.85dl/gの範囲にあること
が好ましい。固有粘度が上記範囲であると、耐熱性に優
れたポリエステルフィルムが得られやすく、また溶融P
ENポリマーの押出し性および製膜性が良好となる。
The PEN polymer used in the present invention preferably has an intrinsic viscosity of 0.40 to 0.90 dl / g measured at 35 ° C. in an o-chlorophenol solution, particularly preferably 0.50 to 0.90 dl / g. It is preferably in the range of 0.85 dl / g. When the intrinsic viscosity is within the above range, a polyester film having excellent heat resistance can be easily obtained, and the molten P
The extrudability and film-forming properties of the EN polymer are improved.

【0023】なお、本発明のPENポリマーには、その
効果を損なわない範囲で、滑り性を付与し、フィルムの
巻取り性を良好なものとするため、平均粒径が0.01
〜20μm、好ましくは0.1〜5μmの無機微粒子あ
るいは有機微粒子を添加することができる。
The PEN polymer of the present invention has a mean particle size of 0.01 in order to impart slipperiness and improve film winding property within a range not impairing its effect.
Inorganic fine particles or organic fine particles having a thickness of from 20 to 20 μm, preferably from 0.1 to 5 μm can be added.

【0024】かかる微粒子は、基材フィルム表面の中心
線平均粗さ(Ra)が2〜50nmの範囲になる割合、
例えば0.001〜10重量%含有させることが好まし
く、特に好ましくは0.01〜3重量%含有させること
が好ましい。
The ratio of the fine particles is such that the center line average roughness (Ra) of the substrate film surface is in the range of 2 to 50 nm,
For example, the content is preferably 0.001 to 10% by weight, particularly preferably 0.01 to 3% by weight.

【0025】かかる微粒子の具体例として、二酸化ケイ
素、無水ケイ素、含水ケイ素、酸化アルミニウム、カオ
リン、炭酸カルシウム、酸化チタン、ケイ酸アルミニウ
ム(焼成物、水和物等を含む)、安息香酸リチウム、硫
酸バリウム、これらの化合物の複塩(水和物を含む)、
カーボンブラック、ガラス粉、粘土(カオリン、ベンナ
イト、白土等を含む)等の無機微粒子や、架橋アクリル
樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、架橋シリ
コーン樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の有機微粒子を好
ましく挙げることができる。
Specific examples of such fine particles include silicon dioxide, anhydrous silicon, hydrated silicon, aluminum oxide, kaolin, calcium carbonate, titanium oxide, aluminum silicate (including calcined products and hydrates), lithium benzoate, and sulfuric acid. Barium, double salts of these compounds (including hydrates),
Preferred examples include inorganic fine particles such as carbon black, glass powder, and clay (including kaolin, benite, and clay), and organic fine particles such as a crosslinked acrylic resin, a crosslinked polystyrene resin, a melamine resin, a crosslinked silicone resin, and a polyamideimide resin. it can.

【0026】本発明の効果を維持するためには、相互作
用での性能変化を防ぐため、不活性粒子であることが好
ましい。また、これらの微粒子は1種類であってもよ
く、2種類以上であってもよい。PENポリマーはPE
Tポリマーに比べてその分子鎖が剛直でフィルムのステ
ィフネスが高いため、かかる微粒子の配合量がPETポ
リマーより少なくても滑り性が良く、十分な巻取り性を
得ることができる。
In order to maintain the effects of the present invention, it is preferable to use inert particles in order to prevent a change in performance due to interaction. In addition, one kind of these fine particles may be used, or two or more kinds may be used. PEN polymer is PE
Since the molecular chain is rigid and the stiffness of the film is higher than that of the T polymer, even if the blending amount of the fine particles is smaller than that of the PET polymer, the sliding property is good and sufficient winding property can be obtained.

【0027】また、上記微粒子を含有させる方法として
は、基材フィルムの少なくとも片面にこれらの微粒子を
含有した層を薄く積層する方法も用いることができる。
積層方法としては、フィルム製膜時に塗設したり、ま
た、例えば複数の押出し機並びにフィードブロックやマ
ルチマニフォールドダイによる共押出し法が挙げられ
る。
As a method for containing the fine particles, a method of thinly laminating a layer containing these fine particles on at least one surface of the substrate film can also be used.
Examples of the laminating method include coating at the time of film formation, and a co-extrusion method using a plurality of extruders and a feed block or a multi-manifold die.

【0028】前記微粒子以外にも、フィルムの表面平坦
性、熱安定性を損なわない範囲で、例えば安定剤、紫外
線吸収剤、着色剤、難燃剤、帯電防止剤、光安定剤、酸
化防止剤等の添加剤をPENポリマーに配合することが
できる。また他の熱可塑性樹脂を少量(例えば20重量
%以下、特に10重量%以下)添加することもできる。
In addition to the fine particles, a stabilizer, an ultraviolet absorber, a coloring agent, a flame retardant, an antistatic agent, a light stabilizer, an antioxidant, etc. may be used as long as the surface flatness and thermal stability of the film are not impaired. Can be incorporated into the PEN polymer. Further, other thermoplastic resin may be added in a small amount (for example, 20% by weight or less, particularly 10% by weight or less).

【0029】本発明におけるPENポリマーの製造にお
いては、ナフタレンジカルボン酸、好ましくはその低級
アルキルエステルとエチレングリコールに、エステル交
換反応触媒としてマンガン化合物、好ましくは反応系に
可溶なマンガン化合物を加えてエステル交換反応を行
う。
In the production of the PEN polymer of the present invention, a manganese compound, preferably a manganese compound soluble in the reaction system, is added to naphthalene dicarboxylic acid, preferably a lower alkyl ester thereof, and ethylene glycol as a transesterification catalyst to form an ester. Perform an exchange reaction.

【0030】マンガン化合物は、全酸成分106gに対
してマンガンの元素量が0.7〜1.6モル(以下、添
加量の単位をモル元素/トンと略する)となる量添加す
る。かかる添加量は1.0〜1.5モル元素/トンの範
囲が好ましい。
The manganese compound is added in such an amount that the manganese element amount becomes 0.7 to 1.6 mol (hereinafter, the unit of the addition amount is abbreviated to mol element / ton) based on 10 6 g of the total acid component. . Such an addition amount is preferably in the range of 1.0 to 1.5 mol element / ton.

【0031】マンガン化合物の添加量が1.6モル元素
/トンを超えると、触媒残渣による析出粒子の影響で、
フィルムを成形した場合に表面平坦性が悪化し、その結
果フィルムの透明性が不良となることがあり、またその
フィルムの上に離形層を設ける場合、特に付加反応型シ
リコーン樹脂等を塗布する場合、シリコーンの硬化に対
して触媒毒となり、シリコーンの硬化が不十分になるこ
とがある。他方、該添加量が0.7モル元素/トン未満
では、エステル交換反応が不十分となるばかりか、その
後の重合反応も遅くなり好ましくない。
If the addition amount of the manganese compound exceeds 1.6 mol element / ton, the catalyst residue may affect the precipitated particles,
When the film is formed, the surface flatness is deteriorated, and as a result, the transparency of the film may be poor. Also, when a release layer is provided on the film, particularly, an addition-reaction type silicone resin is applied. In this case, the catalyst becomes a poison for the curing of the silicone, and the curing of the silicone may be insufficient. On the other hand, when the addition amount is less than 0.7 mol element / ton, not only the transesterification reaction becomes insufficient, but also the subsequent polymerization reaction becomes slow, which is not preferable.

【0032】本発明に用いるマンガン化合物は、特に限
定されないが、酸化物、塩化物、炭酸塩、カルボン酸塩
等が好ましく、特に酢酸塩、即ち酢酸マンガンが好まし
い。
The manganese compound used in the present invention is not particularly limited, but is preferably an oxide, chloride, carbonate, carboxylate or the like, and particularly preferably an acetate, that is, manganese acetate.

【0033】本発明におけるPENポリマーの製造にお
いては、上記エステル交換反応が実質的に完結した時
に、エステル交換反応触媒の一部を失活させるためにリ
ン化合物を添加する。
In the production of the PEN polymer of the present invention, when the transesterification is substantially completed, a phosphorus compound is added to deactivate a part of the transesterification catalyst.

【0034】このリン化合物に対するエステル交換反応
触媒、即ちマンガン化合物の添加量のモル比(Mn/
P)は0.5〜1.2である必要があり、好ましくは
0.6〜1.1である。このモル比が0.5に満たない
場合には、触媒残渣による析出粒子の影響でフィルムを
成形した場合に表面平坦性が悪化し、また、そのフィル
ムの上に離形層を設ける場合、特に付加反応型シリコー
ン樹脂等を塗布する場合、シリコーンの硬化に対して触
媒毒となり、シリコーンの硬化が不十分になることが懸
念される。他方モル比が1.2を超える場合には、リン
化合物により十分に失活されないマンガン化合物の活性
により、PENポリマーの熱安定性等が悪化し、フィル
ムに成形した場合に色相が悪くなったり、平坦性が悪く
なったりして好ましくない。
The molar ratio (Mn / Mn) of the amount of the transesterification catalyst, ie, the manganese compound, added to the phosphorus compound.
P) needs to be 0.5 to 1.2, preferably 0.6 to 1.1. When the molar ratio is less than 0.5, the surface flatness is deteriorated when a film is formed due to the influence of precipitated particles due to catalyst residues, and when a release layer is provided on the film, particularly, When an addition reaction type silicone resin or the like is applied, it becomes a catalyst poison for the curing of silicone, and there is a concern that the curing of silicone becomes insufficient. On the other hand, when the molar ratio exceeds 1.2, the thermal stability of the PEN polymer deteriorates due to the activity of the manganese compound that is not sufficiently deactivated by the phosphorus compound, and the hue becomes poor when formed into a film, It is not preferable because the flatness deteriorates.

【0035】本発明に用いるリン化合物としては、トリ
メチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−
n−ブチルホスフェート、リン酸等が挙げられる。特に
好ましくはトリメチルホスフェートである。
The phosphorus compounds used in the present invention include trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tri-
n-butyl phosphate, phosphoric acid and the like. Particularly preferred is trimethyl phosphate.

【0036】本発明におけるPENポリマーの製造にお
いては、リン化合物を添加後、反応生成物を重縮合反応
させてPENポリマーとする。
In the production of the PEN polymer according to the present invention, after adding the phosphorus compound, the reaction product is subjected to a polycondensation reaction to obtain a PEN polymer.

【0037】その際、反応生成物に重縮合反応の主たる
触媒としてアンチモン化合物を添加する。なお、アンチ
モン化合物は、エステル交換反応開始前に添加しても良
い。
At this time, an antimony compound is added to the reaction product as a main catalyst of the polycondensation reaction. The antimony compound may be added before the start of the transesterification reaction.

【0038】アンチモン化合物の添加量は、0.7〜
2.2モル元素/トンの範囲であることが必要である。
この添加量が0.7モル元素/トン未満であると、重縮
合反応性が劣り生産性不良となり好ましくない。他方、
添加量が2.2モル元素/トンより多くなると、長時間
のフィルム成形を行った場合、アンチモン化合物に基因
する析出物が生じフィルム欠点となったり、また、フィ
ルム上に離形層を設ける場合、特に付加反応型シリコー
ン樹脂等を塗布する場合、シリコーンの硬化に対して触
媒毒となり、シリコーンの硬化が不十分になるので好ま
しくない。
The amount of the antimony compound added is 0.7 to
It must be in the range of 2.2 mole elements / ton.
If the addition amount is less than 0.7 mol element / ton, the polycondensation reactivity becomes poor and the productivity becomes poor, which is not preferable. On the other hand,
When the addition amount is more than 2.2 mol element / ton, when the film is formed for a long time, a precipitate originating in the antimony compound is generated to cause a film defect, or when a release layer is provided on the film. In particular, when an addition reaction type silicone resin or the like is applied, it becomes a catalyst poison for the curing of the silicone, and the curing of the silicone becomes insufficient.

【0039】本発明で用いるアンチモン化合物は、酸化
物、塩化物、炭酸塩、カルボン酸塩等が好ましく、特に
酢酸塩、即ち酢酸アンチモンを用いた時、他の化合物に
比べポリマー中の析出粒子が少なく、フィルム透明性が
向上するので好ましい。
The antimony compound used in the present invention is preferably an oxide, chloride, carbonate, carboxylate or the like. In particular, when acetate, ie, antimony acetate, is used, the precipitated particles in the polymer are smaller than those of other compounds. This is preferable because the film transparency is improved.

【0040】かかるPENポリマーフィルムは、その製
造方法によって特に制限されるものではなく、公知の方
法で製造することができる。例えば以下に製造方法の例
を挙げる。
Such a PEN polymer film is not particularly limited by its manufacturing method, and can be manufactured by a known method. For example, an example of a manufacturing method will be described below.

【0041】本発明における二軸配向PENフィルム
は、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法等の従来から知ら
れている方法で製造することができる。例えば、逐次二
軸延伸法では、PENポリマーを十分に乾燥させてから
そのTm〜(Tm+70)℃(Tm;PENポリマーの
融点)の温度で溶融押出し法にて未延伸フィルムを製造
し、続いて該未延伸フィルムを(Tg−10)〜(Tg
+50)℃(Tg;PENポリマーのガラス転移温度)
の温度でフィルムロール巻取り方向に2〜6倍延伸し、
次いでTg〜(Tg+50)℃の温度でその垂直方向に
2〜6倍延伸を行ない、さらに(Tg+60)〜(Tg
+140)℃の温度で5秒〜1分間熱固定することによ
り製造することができる。なお、熱固定は緊張下または
制限収縮下に行なってもよい。溶融押出しの際、静電密
着法を使用することが好ましい。また、巻取り方向およ
びその垂直方向での延伸条件は、得られる二軸配向PE
Nフィルムの物性がその長手方向および幅方向において
ほぼ等しくなるような条件を選択するのが好ましい。
The biaxially oriented PEN film in the present invention can be produced by a conventionally known method such as a sequential biaxial stretching method or a simultaneous biaxial stretching method. For example, in the sequential biaxial stretching method, a PEN polymer is sufficiently dried, and then an unstretched film is produced by a melt extrusion method at a temperature of Tm to (Tm + 70) ° C. (Tm; melting point of the PEN polymer). The unstretched film is treated with (Tg-10) to (Tg
+50) ° C (Tg; glass transition temperature of PEN polymer)
At a temperature of 2 to 6 times in the film roll winding direction,
Next, stretching is performed 2 to 6 times in the vertical direction at a temperature of Tg to (Tg + 50) ° C., and further, (Tg + 60) to (Tg).
(+140) ° C. for 5 seconds to 1 minute. The heat setting may be performed under tension or limited shrinkage. At the time of melt extrusion, it is preferable to use an electrostatic adhesion method. Further, the stretching conditions in the winding direction and the vertical direction are determined by the biaxially oriented PE obtained.
It is preferable to select conditions so that the physical properties of the N film are substantially equal in the longitudinal direction and the width direction.

【0042】該熱固定温度において、(Tg+60)℃
より低いと、フィルムでの巻取り状で保管した場合、時
によっては巻きぐせが残留したり、フィルム内部で層間
剥離が起こることが懸念される。他方(Tg+140)
℃よりも高いと、過度のフィルム結晶化のため白化して
しまい、透明や機械強度が不十分となってしまう。
At the heat setting temperature, (Tg + 60) ° C.
If it is lower than this, there is a concern that, when stored in a rolled state with a film, a curl may sometimes remain or delamination may occur inside the film. On the other hand (Tg + 140)
If the temperature is higher than ℃, whitening occurs due to excessive film crystallization, resulting in insufficient transparency and mechanical strength.

【0043】同時二軸延伸の場合も上記逐次二軸延伸の
延伸温度、延伸倍率、熱固定温度等を適用することがで
きる。
In the case of simultaneous biaxial stretching, the stretching temperature, stretching ratio, heat setting temperature and the like of the above sequential biaxial stretching can be applied.

【0044】また、基材フィルムはそのフィルムロール
の巻き方向およびその垂直方向とも弾性率が1.0×1
11〜1.7×1011dyne/cm2の範囲であるこ
とが好ましい。弾性率が1.0×1011dyne/cm
2より小さいと断裁等の打抜きにおいてバリ、反り等が
発生し易い。また、1.7×1011dyne/cm2
り大きいと断裁時必要以上に切り込みが進み、所定の断
裁がし難い。
The base film has an elastic modulus of 1.0 × 1 in both the winding direction of the film roll and the vertical direction.
It is preferably in the range of 0 11 to 1.7 × 10 11 dyne / cm 2 . The elastic modulus is 1.0 × 10 11 dyne / cm
If it is smaller than 2 , burrs, warpage, and the like are likely to occur in punching such as cutting. If it is larger than 1.7 × 10 11 dyne / cm 2 , the cutting proceeds more than necessary at the time of cutting, and it is difficult to perform predetermined cutting.

【0045】本発明の基材フィルムは、フィルムの密度
が1.360〜1.370g/cm3であることが好ま
しい。フィルムの密度が1.360g/cm3未満であ
ると延伸により配向された分子が十分な結晶に成長して
おらず寸法安定性に劣り、200℃自由長さにおいて、
10分処理後の熱収縮率の絶対値が少なくとも片方向は
1.0%を超えてしまい良くない。また、1.370g
/cm3を超えると結晶化によりフィルムが脆くなり耐
衝撃性に劣る。
The base film of the present invention preferably has a film density of 1.360 to 1.370 g / cm 3 . When the density of the film is less than 1.360 g / cm 3 , molecules oriented by stretching do not grow into sufficient crystals and are inferior in dimensional stability.
The absolute value of the heat shrinkage after the treatment for 10 minutes exceeds 1.0% in at least one direction, which is not good. In addition, 1.370 g
If it exceeds / cm 3 , the film becomes brittle due to crystallization, and the impact resistance is poor.

【0046】さらに、本発明の基材フィルムは、フィル
ム表面の中心線平均粗さ(Ra)が2〜50nmもので
あり、特に6〜40nmが好ましい。中心線平均粗さ
(Ra)が2nm未満ではフィルムの滑り性が悪化し巻
取り性が悪くなり、50nmを超えるとフィルム表面の
粗さが大きくなり過ぎ、このフィルムを離形フィルムと
して使用した時、その上にキャストして成形された樹脂
シート等の表面が粗くなり、平滑な面が得られなくな
る。
Further, the base film of the present invention has a center line average roughness (Ra) of the film surface of 2 to 50 nm, particularly preferably 6 to 40 nm. When the center line average roughness (Ra) is less than 2 nm, the slipperiness of the film is deteriorated and the winding property is deteriorated. When it exceeds 50 nm, the surface roughness of the film becomes too large. The surface of a resin sheet or the like cast and formed thereon becomes rough, and a smooth surface cannot be obtained.

【0047】本発明に用いる基材フィルムの厚みは特に
限定されないが、5〜500μmであることが好まし
く、特に10〜200μmであることが好ましい。
The thickness of the substrate film used in the present invention is not particularly limited, but is preferably from 5 to 500 μm, particularly preferably from 10 to 200 μm.

【0048】本発明においては、基材フィルムの少なく
とも片面に離形層を設けることが好ましい。離形層を形
成する成分としては、例えばシリコーン樹脂、フッ素樹
脂および脂肪族等ワックス等を挙げることができる。ま
た、キャスティングされる樹脂によっては離形層を設け
なくても良い。
In the present invention, it is preferable to provide a release layer on at least one side of the base film. Examples of the components that form the release layer include silicone resins, fluororesins, and waxes such as aliphatics. Further, a release layer may not be provided depending on the resin to be cast.

【0049】かかる離形層を形成する成分には、本発明
の目的を妨げない範囲で公知の各種添加剤を配合するこ
とができる。この添加剤としては、例えば紫外線吸収
剤、顔料、消泡剤、帯電防止剤等を挙げることができ
る。
The components forming such a release layer may be blended with various known additives within a range not to impair the object of the present invention. Examples of the additive include an ultraviolet absorber, a pigment, an antifoaming agent, and an antistatic agent.

【0050】離形層の塗設は離形層を形成する成分を含
む塗液を基材フィルムに塗布し、加熱乾燥させて塗膜を
形成させることにより行なうことができる。加熱条件と
しては80〜160℃で10〜120秒間、特に120
〜150℃で20〜60秒間が好ましい。塗布方法は、
任意の公知の方法が使用でき、例えばロールコーター
法、ブレードコーター法等が好ましく挙げられる。
The release layer can be applied by applying a coating liquid containing a component forming the release layer to a base film and drying by heating to form a coating film. The heating conditions are 80 to 160 ° C. for 10 to 120 seconds, particularly 120
It is preferably at a temperature of 150 ° C. for 20 to 60 seconds. The application method is
Any known method can be used, and examples thereof include a roll coater method and a blade coater method.

【0051】本発明においては、基材フィルムと離形層
の密着性を高めるために、基材フィルムと離形層の間に
接着層を設けることが好ましい。この接着層を形成する
成分としては、例えば離形層がシリコーン樹脂層の場
合、シランカップリング剤が好ましい。このシランカッ
プリング剤としては一般式Y−Si−X3で表されるも
のがさらに好ましい。ここで、Yは例えばアミノ基、エ
ポキシ基、ビニル基、メタクリル基、メルカプト基等で
代表される官能基、Xはアルコキシ基で代表される加水
分解性の官能基を表す。かかる接着層の厚みは、0.0
1〜5μmの範囲が好ましく、0.02〜2μmの範囲
が特に好ましい。接着層の厚みが上記の範囲であると基
材フィルムと離形層の密着性が良好となり、かつ接着層
を設けた基材フィルムがブロッキングしにくいため、離
形フィルムの取り扱いで問題が生じにくい利点がある。
In the present invention, it is preferable to provide an adhesive layer between the base film and the release layer in order to enhance the adhesion between the base film and the release layer. As a component forming the adhesive layer, for example, when the release layer is a silicone resin layer, a silane coupling agent is preferable. Those represented by the general formula Y-Si-X 3 is more preferred as the silane coupling agent. Here, Y represents a functional group represented by, for example, an amino group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryl group, a mercapto group, and X represents a hydrolyzable functional group represented by an alkoxy group. The thickness of the adhesive layer is 0.0
The range is preferably from 1 to 5 μm, and particularly preferably from 0.02 to 2 μm. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, the adhesion between the base film and the release layer becomes good, and the base film provided with the adhesive layer is difficult to block, so that problems in handling the release film are unlikely to occur. There are advantages.

【0052】[0052]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに説明す
る。なお、各特性値は下記の方法で測定した。 1.ガラス転移温度(Tg) 示差熱測定装置(Du Pont製DSC2100型)
を用い、20℃/分の昇温速度でガラス転移ピーク温度
を求める。
The present invention will be further described below with reference to examples. In addition, each characteristic value was measured by the following method. 1. Glass transition temperature (Tg) Differential calorimeter (Du Pont DSC2100)
The glass transition peak temperature is determined at a heating rate of 20 ° C./min.

【0053】2.中心線平均粗さ(Ra) 触針式表面粗さ計(小坂研究所(株)製、サーフコーダ
30C)を用いて針の半径2μm、触針圧30mgの条
件下でフィルム表面をスキャンし、フィルム表面の変位
を測定し、表面粗さ曲線を記録した。なおカットオフ値
は80μmである。この表面粗さ曲線から、その中心線
の方向に測定長さ(L)を抜き取り、X軸をスキャン距
離、Y軸を表面変位としたときの表面粗さ曲線(Y=f
(x))から下記式で計算した。
2. Center line average roughness (Ra) Using a stylus type surface roughness meter (Surfcoder 30C, manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.), the film surface is scanned under the conditions of a needle radius of 2 μm and a stylus pressure of 30 mg, The displacement of the film surface was measured and the surface roughness curve was recorded. The cut-off value is 80 μm. From this surface roughness curve, the measured length (L) is extracted in the direction of the center line, and the surface roughness curve (Y = f) when the X axis is the scan distance and the Y axis is the surface displacement
(X)) was calculated by the following equation.

【0054】[0054]

【数1】 (Equation 1)

【0055】3.固有粘度 o−クロロフェノール溶液中にて35℃で測定した。3. Intrinsic viscosity Measured in an o-chlorophenol solution at 35 ° C.

【0056】4.基材フィルムの熱安定性 基材フィルム作成前後のポリマーの固有粘度より下記式
を用いて熱劣化指数を求め、PENポリマーの熱安定性
を評価した。 熱劣化指数=([ηo]/[ηx])−1 但し、[ηo]:フィルム作成前のポリマーの固有粘度 [ηx]:フィルム作成後のフィルムのポリマーの固有
粘度 <熱安定性の判定基準> ○: 熱劣化指数≦0.05 △: 0.05<熱劣化指数≦0.10 ×: 0.10<熱劣化指数
4. Thermal Stability of Base Film The thermal degradation index was determined from the intrinsic viscosity of the polymer before and after the preparation of the base film using the following equation, and the thermal stability of the PEN polymer was evaluated. Thermal degradation index = ([ηo] / [ηx])-1 where [ηo]: intrinsic viscosity of polymer before film formation [ηx]: intrinsic viscosity of polymer of film after film formation <criterion for determining thermal stability > ○: Thermal degradation index ≦ 0.05 △: 0.05 <Thermal degradation index ≦ 0.10 ×: 0.10 <Thermal degradation index

【0057】5.離形フィルムの平面性 基材フィルムに離形層として付加反応型シリコーンを塗
布して140℃で1分の加熱処理した後のフィルムにお
いて、10cm×20cmのサイズに切り取り、自由長
で平らな床面に置き、そのフィルムの10cm×10c
mの部分を金属板でカバーし、カバーしていないフィル
ムのエッジの浮きを観察し、下記の基準で評価した。 <判定基準> ○: エッジの浮きの高さが2mm未満 △: エッジの浮きの高さが2mm以上8mm未満 ×: エッジの浮きの高さが8mm以上
5. Flatness of release film The addition reaction type silicone is applied as a release layer to the base film, and the film is heated at 140 ° C. for 1 minute. The film is cut into a size of 10 cm × 20 cm, and is a free-length flat floor. Place on the surface, 10cm × 10c of the film
The portion m was covered with a metal plate, and the lifting of the edge of the uncovered film was observed and evaluated according to the following criteria. <Judgment Criteria> :: Height of edge floating is less than 2 mm Δ: Height of edge floating is 2 mm or more and less than 8 mm ×: Height of edge floating is 8 mm or more

【0058】6.加工性 作成した離形フィルムに、モデル塗料として水に溶解さ
せたポリビニルアルコール樹脂を、乾燥後の厚みが30
μmとなるよう塗布し、水を乾燥蒸発させた。その後、
15cm角の金属金型を用い、打抜きエッジのバリや隅
のしなり、亀裂の発生を観察し下記の基準で評価した。 ○: バリやしなりが発生しない。 △: 微小なバリが発生、またはフィルムのしなりが発
生し、樹脂膜がや や伸びる。または微小な層間剥離が発生する。 ×: 離形フィルムに層間剥離やバリ、または亀裂が発
生、または樹脂膜が十分に切断できない状態。
6. Processability A polyvinyl alcohol resin dissolved in water as a model paint is dried on the release film having a thickness of 30%.
It was applied to a thickness of μm, and the water was dried and evaporated. afterwards,
Using a metal mold of 15 cm square, the occurrence of burrs and corners of punched edges and the occurrence of cracks were observed, and evaluated according to the following criteria. :: No burr or bending occurs. Δ: Fine burrs are generated or the film is bent, and the resin film is slightly elongated. Alternatively, minute delamination occurs. ×: A state in which delamination, burrs, or cracks occur in the release film, or the resin film cannot be cut sufficiently.

【0059】[実施例1]2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチルエステル100重量部およびエチレングリ
コール60重量部に、エステル交換触媒として酢酸マン
ガン4水塩を表1に示す量添加し、エステル交換反応さ
せた後、トリメチルフォスフェートを表1に示す量添加
し、エステル交換反応を終了させた。さらに三酸化アン
チモンを表1に示す量添加後、引き続き高温高真空下で
重縮合反応を行い、固有粘度0.62のPENポリマー
を得た。
Example 1 To 100 parts by weight of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dimethyl ester and 60 parts by weight of ethylene glycol, manganese acetate tetrahydrate was added as a transesterification catalyst in an amount shown in Table 1, and transesterification was carried out. After that, trimethyl phosphate was added in the amount shown in Table 1 to terminate the transesterification reaction. Further, after adding antimony trioxide in the amount shown in Table 1, a polycondensation reaction was subsequently performed under a high temperature and a high vacuum to obtain a PEN polymer having an intrinsic viscosity of 0.62.

【0060】次に平均粒径0.3μmの真球状シリカ粒
子を0.15重量%含有させて先のPENポリマーを押
出し機で溶融し、ダイスから40℃に維持してある回転
冷却ドラム上に押出し、静電密着法を用いて溶融ポリマ
ーを回転冷却ドラムに密着させて急冷し未延伸フィルム
とした。次いで、この未延伸フィルムを縦方向に3.6
倍、引き続き横方向に3.6倍延伸し、さらに230℃
にて熱固定を行なって厚さ50μmの二軸配向PENフ
ィルムを得た。
Next, the PEN polymer was melted by an extruder containing 0.15% by weight of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.3 μm, and was placed on a rotary cooling drum maintained at 40 ° C. from a die. The molten polymer was extruded and brought into close contact with a rotary cooling drum using an electrostatic adhesion method, and was rapidly cooled to obtain an unstretched film. Next, the unstretched film is moved in the longitudinal direction by 3.6.
And then stretched 3.6 times in the transverse direction, and then 230 ° C.
To obtain a biaxially oriented PEN film having a thickness of 50 μm.

【0061】この二軸配向PENフィルムの片面に、下
記に示す方法で調製した塗液を6g/m2(wet)の
塗布量で塗布し、140℃の温度で1分間加熱乾燥およ
び硬化させて離形層の厚さが0.1μmの離形フィルム
を作成した。この離形フィルムの特性を表1に示す。
On one surface of the biaxially oriented PEN film, a coating solution prepared by the method described below was applied at a coating amount of 6 g / m 2 (wet), and heated and dried at a temperature of 140 ° C. for 1 minute, followed by curing. A release film having a release layer thickness of 0.1 μm was prepared. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0062】なお、塗液は、ビニル基を有するポリジメ
チルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランからな
る付加反応タイプの硬化型シリコーンをメチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンおよびトルエンの混合溶
媒中に溶解させ、さらにシリコーンレジンを前記硬化型
シリコーンに対し固形分比で10重量%となる量配合
し、全体の固形分濃度が2%の溶液とし、この溶液に白
金触媒を添加して作成した。
The coating liquid is prepared by dissolving an addition-reaction-type curable silicone composed of polydimethylsiloxane having a vinyl group and dimethylhydrogensilane in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and toluene, and further dissolving the silicone resin. A solution having a solid content ratio of 2% was added to the curable silicone so as to have a solid content ratio of 10% by weight, and a platinum catalyst was added to this solution to prepare a solution.

【0063】[実施例2、比較例1〜2]酢酸マンガ
ン、トリメチルフォスフェートおよび三酸化アンチモン
の添加量を表1に示す通り変更し、さらに真球状シリカ
粒子の含有量を0.40重量%に変更する以外は実施例
1と同じ方法で離形フィルムを得た。この離形フィルム
の特性を表1に示す。
Example 2, Comparative Examples 1-2 The amounts of manganese acetate, trimethyl phosphate and antimony trioxide were changed as shown in Table 1, and the content of spherical silica particles was further reduced to 0.40% by weight. A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except for changing to. Table 1 shows the characteristics of the release film.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】表1より明らかなように、実施例に示した
本発明の離形フィルムは、基材フィルムとしての熱安定
性に優れ、また、離形層を設ける時の加熱処理後の寸法
安定性や平面性に優れ、また加工性が良好なものであっ
た。また、比較例1および2の離形フィルムは、製膜後
のフィルムの熱安定性が劣り、またこれにより平坦性や
透明性が劣り、さらには離形フィルムにした時の平面性
が悪く、塗布した樹脂溶液の厚みムラが悪かったり、断
裁時に層間剥離が発生し不十分なものであった。
As is clear from Table 1, the release films of the present invention shown in the examples have excellent heat stability as a base film, and have dimensional stability after heat treatment when a release layer is provided. Excellent in workability and flatness, and good in workability. In addition, the release films of Comparative Examples 1 and 2 are inferior in thermal stability of the formed film, and thus have poor flatness and transparency, and further have poor flatness when formed into a release film. The thickness of the applied resin solution was poor, and delamination occurred during cutting, which was insufficient.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明によれば、熱安定性が良く、また
離形フィルムとしての平面性も優れ、樹脂シート等の成
形時の熱による変形も非常に小さく、また断裁精度等の
加工性に優れるシート類を製造する離形フィルムを提供
することができる。
According to the present invention, the thermal stability is good, the flatness as a release film is excellent, the deformation due to heat during molding of a resin sheet is very small, and the workability such as cutting accuracy is high. A release film for producing sheets having excellent properties can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA45 AB05 AB06 AB26 AD02 AF19 AF27 AF45 AG28 AH19 BA01 BB06 BB08 BC01 BC02 BC10 BC16 4F100 AA20H AJ11B AJ11C AK17B AK17C AK41A AK52B AK52C BA02 BA03 BA06 BA10A BA10B BA10C BA16 CA23A CC00 DD07A DE01H EJ38A GB90 JB12B JB12C JJ03 JK15 JL01 4J002 BD122 CF081 CP032 DD076 DD078 DE096 DE128 DE246 DE248 EG056 EG058 EW047 GF00  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F071 AA45 AB05 AB06 AB26 AD02 AF19 AF27 AF45 AG28 AH19 BA01 BB06 BB08 BC01 BC02 BC10 BC16 4F100 AA20H AJ11B AJ11C AK17B AK17C AK41A AK52B AK52CBA02 BA03 BA01 BA10 BA01 BA10 EJ38A GB90 JB12B JB12C JJ03 JK15 JL01 4J002 BD122 CF081 CP032 DD076 DD078 DE096 DE128 DE246 DE248 EG056 EG058 EW047 GF00

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリエチレンナフタレートからなるフィ
ルムを基材フィルムとする離形フィルムであって、該ポ
リエチレンナフタレートがナフタレンジカルボン酸を主
たる酸成分とし、エチレングリコールを主たるグリコー
ル成分とし、マンガン化合物、リン化合物およびアンチ
モン化合物に由来するマンガン、リンおよびアンチモン
元素を下記式(1)〜(3)を同時に満足する割合で含
有し、重縮合して得られるものであり、かつ該基材フィ
ルム表面の中心線平均粗さ(Ra)が2〜50nmであ
ることを特徴とする離形フィルム。 0.7≦Mn≦1.6 ・・・(1) 0.5≦Mn/P≦1.2 ・・・(2) 0.7≦Sb≦2.2 ・・・(3) (上記式中、Mnは酸成分106g当りのマンガン元素
のモル数、Pは酸成分106g当りのリン元素のモル
数、Sbは酸成分106g当りのアンチモン元素のモル
数を表わす。)
1. A release film comprising a film made of polyethylene naphthalate as a base film, wherein said polyethylene naphthalate contains naphthalenedicarboxylic acid as a main acid component, ethylene glycol as a main glycol component, a manganese compound, phosphorus It contains manganese, phosphorus and antimony elements derived from a compound and an antimony compound at a ratio satisfying the following formulas (1) to (3) at the same time, and is obtained by polycondensation. A release film having a linear average roughness (Ra) of 2 to 50 nm. 0.7 ≦ Mn ≦ 1.6 (1) 0.5 ≦ Mn / P ≦ 1.2 (2) 0.7 ≦ Sb ≦ 2.2 (3) Where Mn is the number of moles of manganese element per 10 6 g of acid component, P is the number of moles of phosphorus element per 10 6 g of acid component, and Sb is the number of moles of antimony element per 10 6 g of acid component.)
【請求項2】 ポリエチレンナフタレートがエステル交
換反応法で製造されたポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートである請求項1記載の離形フィルム。
2. The release film according to claim 1, wherein the polyethylene naphthalate is polyethylene-2,6-naphthalate produced by a transesterification method.
【請求項3】 基材フィルムが二軸延伸後の熱固定を
(Tg+60)〜(Tg+140)℃(ここで、Tgは
ポリエチレンナフタレートのガラス転移温度を表わす)
の温度で行ったフィルムである請求項1または2記載の
離形フィルム。
3. The heat setting of the substrate film after the biaxial stretching is performed at (Tg + 60) to (Tg + 140) ° C. (where Tg represents the glass transition temperature of polyethylene naphthalate).
The release film according to claim 1, wherein the release film is a film performed at a temperature of 3.
【請求項4】 基材フィルムの少なくとも片面に、シリ
コーン樹脂、フッ素樹脂および脂肪族ワックスから選ば
れた少なくとも1種を積層してなる請求項1〜3のいず
れかに記載の離形フィルム。
4. The release film according to claim 1, wherein at least one selected from a silicone resin, a fluororesin and an aliphatic wax is laminated on at least one surface of the base film.
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