JP6206165B2 - Film for transfer foil - Google Patents

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JP6206165B2 JP2013265142A JP2013265142A JP6206165B2 JP 6206165 B2 JP6206165 B2 JP 6206165B2 JP 2013265142 A JP2013265142 A JP 2013265142A JP 2013265142 A JP2013265142 A JP 2013265142A JP 6206165 B2 JP6206165 B2 JP 6206165B2
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Description

本発明は、転写箔用フィルムに関し、具体的には非転写面による被写体への表面欠陥を無くし、製造工程や加工工程による易滑性を満足する転写箔用フィルムに関するものである。   The present invention relates to a film for transfer foil, and more specifically to a film for transfer foil that eliminates surface defects on a subject due to a non-transfer surface and satisfies the slipperiness by a manufacturing process or a processing process.

一般的に転写箔は、基材となるフィルム(転写箔用フィルム)の片面に、易接着層、離型層、印刷層および接着層などを積層して構成される。これら転写箔の転写方法としては、転写装置を用いて加熱ロールで被転写物に転写する、いわゆるホットスタンピング方法や、射出成形機やブロー成形機の金型に接着層が成形樹脂と接するように転写材をセッティングした後、成形樹脂を射出またはブローし、成形と同時に転写し、冷却後金型より成形品を取り出す、インモールド成形に代表される、いわゆる成形同時転写方法などが一般的に知られている。上記の転写方法においては、転写箔用フィルムの転写面側は被転写物に接触するため、転写面側の表面特性(表面粗さや突起高さなど)が問題となる場合がある。そのため、転写箔用フィルムの転写面側の表面構成を一定のものとすべくいくつかの提案がなされている。特に、近年は、生産効率の向上や、より高い意匠性を実現するためのさらに高度な改良が求められている。例えば、転写工程において転写箔が静電気を帯びると、印刷工程でヒゲが発生したり埃が付着したりしてトラブルの原因となる。また例えば、金属代替品や建築材料用途などでは、転写後の成形品(被転写物)表面に高光沢度を要求されているため、転写面の平滑化が要求されている。   Generally, a transfer foil is configured by laminating an easy-adhesion layer, a release layer, a printing layer, an adhesive layer, and the like on one surface of a film (transfer foil film) serving as a base material. As a transfer method of these transfer foils, a transfer device is used to transfer to a transfer object with a heating roll, or a so-called hot stamping method, or an adhesive layer is in contact with a mold resin of an injection molding machine or a blow molding machine. After setting the transfer material, injection molding or blowing of molding resin, transfer at the same time as molding, take out the molded product from the mold after cooling, generally known as so-called molding simultaneous transfer method represented by in-mold molding, etc. It has been. In the above transfer method, since the transfer surface side of the transfer foil film is in contact with the material to be transferred, the surface characteristics (surface roughness, protrusion height, etc.) on the transfer surface side may be a problem. Therefore, some proposals have been made to make the surface configuration of the transfer foil film on the transfer surface side constant. In particular, in recent years, there has been a demand for further improvement in order to improve production efficiency and achieve higher designability. For example, if the transfer foil is charged with static electricity during the transfer process, whiskering or dust may adhere during the printing process, causing trouble. In addition, for example, in metal substitutes and building material applications, since the surface of a molded product (transfer object) after transfer is required to have high gloss, smoothing of the transfer surface is required.

例えば、表面粗さや突起高さを規定したポリエチレンテレフタレート二軸配向フィルムを基材として用いることが提案されており、この提案によれば、より平滑な表面のフィルムを製造出来るとしている(特許文献1参照。)。   For example, it has been proposed to use a polyethylene terephthalate biaxially oriented film with a specified surface roughness and protrusion height as a base material. According to this proposal, a smoother surface film can be produced (Patent Document 1). reference.).

また別に、中心線平均表面粗さを規定し、不活性粒子の含有量を規定することによって、加工性に優れたフィルムとすることが提案されている(特許文献2参照。)。さらに、転写面の突起個数を制御することによってより、意匠性に優れた転写箔とする提案がされている(特許文献3参照。)。   Separately, it has been proposed that the film has excellent workability by defining the center line average surface roughness and the content of inert particles (see Patent Document 2). Furthermore, a proposal has been made for a transfer foil that is more excellent in design by controlling the number of protrusions on the transfer surface (see Patent Document 3).

しかしながら、これらの提案では、非転写面の突起が転写面側に押出されて、被転写物に転写され、被転写物の表面欠陥としての指摘がなされるようになってきている。これは、最近の光沢性を帯びる意匠性の要望が高くなったために、転写面側の表面構成が光沢性を帯びる技術が適用されるため、平滑になってきたことに伴うものであり、易滑性を付与させながら、なおかつ被転写物の表面光沢性や欠陥レスを両立させることができないという課題があった。   However, in these proposals, protrusions on the non-transfer surface are pushed out to the transfer surface side, transferred to the transfer object, and pointed out as surface defects of the transfer object. This is due to the fact that the surface design on the transfer surface side has become glossy due to the recent increase in demand for glossy design, which has become smoother and easier. There was a problem that it was impossible to achieve both surface gloss and defect-freeness of the transferred material while imparting lubricity.

また、フィルムの製造においては、フィルムの易滑性が必要とされ、また、フィルムの製造工程のみだけでなく、加工時における搬送性も必要なため、易滑性を満足させるために、フィルムに多量の粒子か、少量の粒子であっても大粒径の粒子を添加させなければならず、転写面側に影響を与えない非転写面側に添加されることが一般的となっている。   In addition, in film production, the film needs to be easily slippery, and not only the film manufacturing process but also transportability during processing is necessary. Even if it is a large amount of particles or a small amount of particles, particles having a large particle size must be added, and it is generally added to the non-transfer surface side that does not affect the transfer surface side.

特開2011−212857号公報JP 2011-212857 A 特開2008−18628号公報JP 2008-18628 A 特開2006−264135号公報JP 2006-264135 A

そこで光沢性を出すためには、転写面側の表面粗さを平滑にするだけではなく、非転写面側の表面粗さも平滑することが必要であるが、平滑なだけの表面では製造工程のみだけではなく、加工時における搬送性も悪化するために、これまで両立が困難であった。   Therefore, in order to achieve glossiness, it is necessary not only to smooth the surface roughness on the transfer surface side, but also to smooth the surface roughness on the non-transfer surface side. In addition to this, the transportability at the time of processing deteriorates, so that it has been difficult to achieve both.

本発明の目的は、上記した従来技術の課題を解消せんとすることにあり、すなわち、転写面と非転写面を平滑にしつつ、生産性と加工性に優れ、より光沢性が高い転写箔用フィルムを提供することにある。   The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned problems of the prior art, that is, for transfer foils that are smoother on the transfer surface and non-transfer surface, have excellent productivity and workability, and have higher gloss. To provide a film.

本発明の転写箔用フィルムは転写箔に用いられるフィルムであって、該フィルムは、転写面に用いられる面を有する層(転写層)と、非転写面を有する層(非転写層)を積層してなるフィルムであり、転写面に用いられる面とは反対側の非転写面表面を下記条件にて測定を行ったとき、各々の走査において観測されるピークの高さを求め、求められた各々のピークの高さについて0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求め、2nm刻みのあるピークの高さをaとして、(a−2)〜anmの刻み幅のピーク数をP(a)としてaに対してP(a)をプロットし、最大のP(a)を与えるaをβnm、前記βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いaをγnmとするとき、下記式(1)を満足し、前記非転写層の層厚みが、0.1μm以上1.5μm以下であり、前記非転写層が粒子を含有し、その含有量が非転写層を構成する樹脂に対して0.20質量%以上1.00質量%以下であり、前記粒子が粒子径0.1μm以上0.5μm以下の粒子と、粒子径0.6μm以上1.5μm以下の粒子を併用してなることを特徴とする転写箔用フィルム。
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm
ピーク高さを0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求めるとは、0nmを超えて2nm以下、2nmを超えて4nm以下、・・・観測される最大高さの範囲まで、2nm毎の範囲に観測されるピークの数を求めることをあらわす。
The film for transfer foil of the present invention is a film used for transfer foil, and the film is a laminate of a layer having a surface used as a transfer surface (transfer layer) and a layer having a non-transfer surface (non-transfer layer). When the surface of the non-transfer surface opposite to the surface used for the transfer surface was measured under the following conditions, the height of the peak observed in each scan was obtained and found. Obtain the frequency (number of peaks) (number) in increments of 0 nm to 2 nm for the height of each peak, and let a be the height of the peak in increments of 2 nm, and calculate the number of peaks in increments of (a-2) to anm. P (a) is plotted against a as P (a), a giving the maximum P (a) is expressed in a range higher than βnm, βnm, and P (β) / 2 or less When the closest a to βnm shown is γnm, the following formula (1) The layer thickness of the non-transfer layer is 0.1 μm or more and 1.5 μm or less, the non-transfer layer contains particles, and the content of the non-transfer layer is 0. 0 relative to the resin constituting the non-transfer layer. is 20 wt% to 1.00 wt% or less, and said particles of less 0.5μm or more particle size 0.1μm particles, the Rukoto such a combination of particles below 1.5μm or more particle size 0.6μm Characteristic transfer foil film.
P (β + n (γ−β)) / 3 ≦ P (β + (n + 1) × (γ−β)) ≦ P (β + n (γ−β)) / 1.5 Formula (1)
(Where n is an integer from 0 to 3)
Measurement condition:
The surface opposite to the side where the transfer layer of the film is provided is measured under the following conditions using a high-precision fine shape measuring instrument (three-dimensional surface roughness meter) (manufactured by Kosaka Laboratory, ET-4000A). From the measurement data, the frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm is obtained using a three-dimensional surface roughness analysis program (manufactured by Kosaka Laboratory, TDA-22).
-Stylus: radius of tip 0.5 (μmR), diameter 2.0 (μm), made of diamond ・ Measuring force (needle pressure): 100 (μN)
・ Measurement direction: film longitudinal direction ・ X measurement length: 0.5 (mm)
-X feed speed (measurement speed): 0.1 (mm / s)
・ Y feed pitch (measurement interval): 5 (μm)
-Number of Y lines (number of measurement): 81 (number)
・ Z magnification (vertical magnification): 50000 (times)
・ Low-frequency cut-off (swell cut-off value): 0.25 (mm)
・ High frequency cut-off (roughness cut-off value): R + W (mm)
(Here, the cut-off value R + W means not cut off.)
-Phase characteristics (filter method): 2CR normal type-Maximum number of sample points: 90601 (points)
・ Polarity: Normal ・ X pitch lower limit: 1 (μm)
・ Leveling (tilt correction): None ・ Reference area: 0.2 (mm 2 )
The frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm from 0 nm to peak height is obtained by exceeding 0 nm to 2 nm or less, exceeding 2 nm to 4 nm or less, up to the maximum height range observed, This represents obtaining the number of peaks observed in the range of every 2 nm.

後述する図1のX軸(横軸)はベースフィルム面からの高さ(nm)、Y軸(縦軸)はその高さ範囲に観測されるピーク数(個)を意味する。図1は、各ピーク数を直線で結んだ折れ線グラフである。高さ範囲100nmまでが示されており、高さ100nm以上はこの延長線上にある。図1に記載の符号1は、限定されるものではなく、本発明の測定方法にて測定器で求められる最大の高さ(nm)であり、つまり、最大を与えるP(a)の高さ範囲である。   The X axis (horizontal axis) in FIG. 1 described later means the height (nm) from the base film surface, and the Y axis (vertical axis) means the number of peaks observed in the height range. FIG. 1 is a line graph connecting the numbers of peaks with straight lines. A height range up to 100 nm is shown, with a height of 100 nm or more being on this extension. Reference numeral 1 shown in FIG. 1 is not limited, and is the maximum height (nm) obtained by the measuring instrument in the measurement method of the present invention, that is, the height of P (a) that gives the maximum. It is a range.

本発明の転写箔用フィルムの好ましい態様によれば、前記非転写面のピーク数P(200)が5個以下であることが好ましい。   According to a preferable aspect of the film for transfer foil of the present invention, it is preferable that the number of peaks P (200) of the non-transfer surface is 5 or less.

本発明の転写箔用フィルムの好ましい態様によれば、前記非転写面のピーク数P(β)が100個以上であることが好ましい。   According to a preferable aspect of the film for transfer foil of the present invention, it is preferable that the number of peaks P (β) of the non-transfer surface is 100 or more.

本発明の転写箔用フィルムの好ましい態様によれば、非転写面のピーク数P(100)が10個以下である。   According to the preferable aspect of the film for transfer foils of the present invention, the peak number P (100) of the non-transfer surface is 10 or less.

本発明によれば、非転写面側の表面構造を規定することによって、易滑性を満足させながら、被転写物の光沢性と表面欠点レスを達成することができる転写箔用フィルムが得られる。   According to the present invention, by defining the surface structure on the non-transfer surface side, it is possible to obtain a film for transfer foil that can achieve glossiness of the transfer object and less surface defects while satisfying the slipperiness. .

また、走行性を維持したまま、表面転写跡を軽減させることができ、特に転写箔用途に用いた際の光沢性の向上、転写欠陥レスの両立を可能とする転写箔用フィルムが得られる。   Moreover, the surface transfer trace can be reduced while maintaining the running property, and a transfer foil film that can improve both glossiness and transfer defect-free particularly when used in transfer foil applications can be obtained.

図1は、本発明の転写箔用フィルムの高さごとの2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を例示する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm for each height of the film for transfer foil of the present invention.

次に、本発明の転写箔用フィルムについて、詳細に説明する。   Next, the film for transfer foil of the present invention will be described in detail.

本発明の転写箔用フィルムは転写箔に用いられるフィルムであって、該フィルムは、転写面に用いられる面を有する層(転写層)と、非転写面を有する層(非転写層)を積層してなるフィルムであり、転写面に用いられる面とは反対側の非転写面表面を下記条件にて測定を行ったとき、各々の走査において観測されるピークの高さを求め、求められた各々のピークの高さについて0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求め、2nm刻みのあるピークの高さをaとして、(a−2)〜anmの刻み幅のピーク数をP(a)としてaに対してP(a)をプロットし、最大のP(a)を与えるaをβnm、前記βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いaをγnmとするとき、下記式(1)を満足し、前記非転写層の層厚みが、0.1μm以上1.5μm以下であり、前記非転写層が粒子を含有し、その含有量が非転写層を構成する樹脂に対して0.20質量%以上1.00質量%以下であり、前記粒子が粒子径0.1μm以上0.5μm以下の粒子と、粒子径0.6μm以上1.5μm以下の粒子を併用してなることを特徴とする転写箔用フィルム。
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm
本発明の転写箔用フィルムは、P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 の式を満たしている。P(β+(n+1)×(γ−β))がP(β+n(γ−β))/3未満では、表面高さが急に低くなってしまい、表面高さが低い部分が多く、転写された際に表面欠陥が目立ってしまう。また、P(β+(n+1)×(γ−β))がP(β+n(γ−β))/1.5よりも大きくなると、表面高さが高い点が多く、光沢性が低下してしまう。
The film for transfer foil of the present invention is a film used for transfer foil, and the film is a laminate of a layer having a surface used as a transfer surface (transfer layer) and a layer having a non-transfer surface (non-transfer layer). When the surface of the non-transfer surface opposite to the surface used for the transfer surface was measured under the following conditions, the height of the peak observed in each scan was obtained and found. Obtain the frequency (number of peaks) (number) in increments of 0 nm to 2 nm for the height of each peak, and let a be the height of the peak in increments of 2 nm, and calculate the number of peaks in increments of (a-2) to anm. P (a) is plotted against a as P (a), a giving the maximum P (a) is expressed in a range higher than βnm, βnm, and P (β) / 2 or less When the closest a to βnm shown is γnm, the following formula (1) The layer thickness of the non-transfer layer is 0.1 μm or more and 1.5 μm or less, the non-transfer layer contains particles, and the content of the non-transfer layer is 0. 0 relative to the resin constituting the non-transfer layer. is 20 wt% to 1.00 wt% or less, and said particles of less 0.5μm or more particle size 0.1μm particles, the Rukoto such a combination of particles below 1.5μm or more particle size 0.6μm Characteristic transfer foil film.
P (β + n (γ−β)) / 3 ≦ P (β + (n + 1) × (γ−β)) ≦ P (β + n (γ−β)) / 1.5 Formula (1)
(Where n is an integer from 0 to 3)
Measurement condition:
The surface opposite to the side where the transfer layer of the film is provided is measured under the following conditions using a high-precision fine shape measuring instrument (three-dimensional surface roughness meter) (manufactured by Kosaka Laboratory, ET-4000A). From the measurement data, the frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm is obtained using a three-dimensional surface roughness analysis program (manufactured by Kosaka Laboratory, TDA-22).
-Stylus: radius of tip 0.5 (μmR), diameter 2.0 (μm), made of diamond ・ Measuring force (needle pressure): 100 (μN)
・ Measurement direction: film longitudinal direction ・ X measurement length: 0.5 (mm)
-X feed speed (measurement speed): 0.1 (mm / s)
・ Y feed pitch (measurement interval): 5 (μm)
-Number of Y lines (number of measurement): 81 (number)
・ Z magnification (vertical magnification): 50000 (times)
・ Low-frequency cut-off (swell cut-off value): 0.25 (mm)
・ High frequency cut-off (roughness cut-off value): R + W (mm)
(Here, the cut-off value R + W means not cut off.)
-Phase characteristics (filter method): 2CR normal type-Maximum number of sample points: 90601 (points)
・ Polarity: Normal ・ X pitch lower limit: 1 (μm)
・ Leveling (tilt correction): None ・ Reference area: 0.2 (mm 2 )
The film for transfer foil of the present invention has the following formula: P (β + n (γ−β)) / 3 ≦ P (β + (n + 1) × (γ−β)) ≦ P (β + n (γ−β)) / 1.5 Meet. When P (β + (n + 1) × (γ−β)) is less than P (β + n (γ−β)) / 3, the surface height is suddenly lowered, and there are many portions with a low surface height, and transfer is performed. Surface defects become noticeable. Further, when P (β + (n + 1) × (γ−β)) is larger than P (β + n (γ−β)) / 1.5, there are many points with high surface height, and glossiness is lowered. .

上記の表面状態を達成するための方法としては、特定の粒子径と粒度分布を有する有機または/および無機の粒子を、非転写面側のポリエステルフィルム層を構成するポリエステル中、もしくは非転写面側のポリエステルフィルム層上の塗膜層中に含有させる方法等が挙げられる。   As a method for achieving the above surface condition, organic or / and inorganic particles having a specific particle size and particle size distribution are used in the polyester constituting the polyester film layer on the non-transfer surface side, or on the non-transfer surface side. The method of making it contain in the coating-film layer on the polyester film layer of this is mentioned.

上記の方法で用いられる有機粒子としては、スチレン、シリコーン、アクリル酸類、メタクリル酸類、ポリエステル類、ジビニル化合物、無機粒子としては、凝集シリカ、球状シリカ、コロイダルシリカ、ケイ酸アルミ、酸化チタン、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミ、マイカ、カオリンおよびクレーなどを構成成分とする粒子を使用することができる。なかでも、スチレン、シリコーン、アクリル酸、メタクリル酸、ポリエステルおよびジビニルベンゼンなどの有機粒子、凝集シリカ、球状シリカ、コロダイルシリカおよびアルミナなどの無機粒子などを構成成分とする粒子を使用することが好ましい。さらに、これらの無機粒子および有機粒子は、二種以上を併用してもよい。   The organic particles used in the above method are styrene, silicone, acrylic acid, methacrylic acid, polyesters, divinyl compounds, and inorganic particles are aggregated silica, spherical silica, colloidal silica, aluminum silicate, titanium oxide, calcium carbonate. , Particles containing calcium phosphate, barium sulfate, aluminum oxide, mica, kaolin, clay and the like as constituent components can be used. Among them, it is preferable to use particles containing organic particles such as styrene, silicone, acrylic acid, methacrylic acid, polyester and divinylbenzene, and inorganic particles such as agglomerated silica, spherical silica, colloidal silica and alumina. . Furthermore, these inorganic particles and organic particles may be used in combination of two or more.

本発明において、ピーク数が、上記式(1)を満たす方法としては、粒子径0.1μm以上1.5μm以下の粒子を、非転写面の層を構成する樹脂に対して0.01質量%以上2.00質量%以下含有させることが好ましい態様である。なお、ここでいう粒子径とは、後述する測定方法により求められる算術平均粒子径のことをいう。   In the present invention, as a method of satisfying the above formula (1), the number of peaks is 0.01% by mass of particles having a particle diameter of 0.1 μm or more and 1.5 μm or less based on the resin constituting the layer of the non-transfer surface. It is a preferable aspect to contain 2.00 mass% or less. In addition, a particle diameter here means the arithmetic mean particle diameter calculated | required by the measuring method mentioned later.

粒子径が0.1μm未満では平滑になりすぎて、易滑性を満足することが出来ないことがある。また、粒子径が1.5μmよりも大きいと表面欠陥が大きくて目立ってしまい、意匠性が損なわれる傾向がある。粒子のより好ましい粒子径の範囲は、0.2μm〜1.3μmである。   If the particle size is less than 0.1 μm, the surface becomes too smooth and the slipperiness may not be satisfied. On the other hand, if the particle diameter is larger than 1.5 μm, surface defects are large and conspicuous, and the design property tends to be impaired. A more preferable particle diameter range of the particles is 0.2 μm to 1.3 μm.

また、粒子の含有量が0.20質量%未満では、十分な易滑性を付与することが難しく、また、粒子の含有量が1.00質量%よりも多くすると、表面の凹凸が多く光沢性が低下してしまうことがある。粒子の含有量は、0.20質量%以上1.00質量%以下である。 Further, if the content of the particles is less than 0.20 % by mass, it is difficult to impart sufficient slipperiness, and if the content of the particles is more than 1.00 % by mass, the surface is uneven and glossy. May deteriorate. The content of the particles is 0 . It is 20 mass% or more and 1.00 mass% or less.

加えて、粒子径0.1μm以上0.5μm以下の粒子と、粒子径0.6μm以上1.5μm以下の粒子を併用することにより、フィルムをロール状に巻いたときの層間の空気を抜くために適度に高い突起を有しながら、小さい突起で滑り性を発現することが出来る。さらに好ましい組み合わせは、好ましくは0.2μm以上0.4μm以下の粒子と、好ましくは0.6μm以上1.3μm以下の粒子を併用することである。 In addition, the combined use with smaller particles 0.5μm or more particle child size 0.1 [mu] m, particles below a particle element size 0.6 [mu] m or more 1.5 [mu] m, the interlayer when the wound film into a roll air The slipperiness can be expressed with small protrusions while having moderately high protrusions for removing the gap. A more preferable combination is that particles having a size of 0.2 μm or more and 0.4 μm or less are preferably used in combination with particles having a size of 0.6 μm or more and 1.3 μm or less.

本発明の転写箔用フィルムは、少なくとも2層からなる積層フィルムであり、非転写面側の層厚みの好ましい範囲は、0.1μm以上1.5μm以下であり、好ましくは0.3μm以上1.3μm以下である。非転写面側の層厚みが0.1μm未満の場合には、含有させる粒子径が小さすぎるため、易滑性が付与されにくい。層厚みが1.5μmを超えると、層厚みが厚すぎるために小さい粒子を入れても、表面の高さ制御が出来ず、表面が均一になりにくいことに加え、大きい粒子を入れてしまうと、被転写物への表面欠陥が発生しやすい。 Transfer foil film of the present invention is a laminated film comprising two layers even without less, the preferable range of the layer thickness of the non-transfer surface side state, and are more 1.5μm or less 0.1 [mu] m, the good Mashiku 0 .3 μm or more and 1.3 μm or less. When the layer thickness on the non-transfer surface side is less than 0.1 μm, the particle diameter to be contained is too small, so that it is difficult to impart easy slipperiness. If the layer thickness exceeds 1.5 μm, even if small particles are added because the layer thickness is too thick, the height of the surface cannot be controlled and the surface is difficult to be uniform. , Surface defects are likely to occur on the transfer object.

本発明の転写箔用フィルムは、P(200)が、5個以下であることが好ましい。198nmから200nmの高さ範囲に観測されるピーク数が5個よりも多いと、表面の高い突起と周囲の高さの高低差が特に顕著となってしまうことと、転写された転写跡が大きく、転写された欠陥が目立ってしまい、意匠性が損なわれてしまうことがある。ここでの高さ範囲は、既述のように、図1のX軸(横軸)の高さnmを意味する。P(200)のピーク数は、より好ましくは3個以下であり、理想は0個である。本発明のように、ピーク数が5個以下であると、光沢度と意匠性が向上する。   In the film for transfer foil of the present invention, P (200) is preferably 5 or less. If the number of peaks observed in the height range from 198 nm to 200 nm is more than 5, the difference in height between the protrusions on the surface and the surrounding height becomes particularly significant, and the transferred transfer marks are large. The transferred defect may become conspicuous and the design properties may be impaired. The height range here means the height nm of the X axis (horizontal axis) in FIG. 1 as described above. The number of peaks of P (200) is more preferably 3 or less, and ideally 0. As in the present invention, when the number of peaks is 5 or less, glossiness and design properties are improved.

本発明においては、1.3μm以下の粒子の含有量を1.0質量%以下とすることによって、198nmから200nm高さ範囲に観測されるピーク数を5個以下にすることが出来る。   In the present invention, by setting the content of particles of 1.3 μm or less to 1.0 mass% or less, the number of peaks observed in the height range from 198 nm to 200 nm can be reduced to 5 or less.

本発明の転写箔用フィルムの好ましい全厚みは、ハンドリング性や転写後の剥離性の観点から、好ましくは1〜50μmであり、より好ましくは2〜40μmであり、さらに好ましくは3〜20μmである。   The preferable total thickness of the film for transfer foil of the present invention is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 40 μm, and further preferably 3 to 20 μm from the viewpoints of handling properties and peelability after transfer. .

また、転写面側の層厚みの好ましい範囲は、3μm以上30μm以下であり、さらに好ましくは5μm以上20μm以下である。転写面側の層厚みが3μm未満の場合には、非転写面側の突起が加工の際に転写され表面欠陥が発生しやすい。また、転写面側の層厚みが30μmを超える場合には、加工時のハンドリングが悪く生産性が悪化してしまうことがある。   Moreover, the preferable range of the layer thickness on the transfer surface side is 3 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. When the layer thickness on the transfer surface side is less than 3 μm, the protrusions on the non-transfer surface side are transferred during processing and surface defects are likely to occur. On the other hand, when the layer thickness on the transfer surface side exceeds 30 μm, handling during processing is poor and productivity may be deteriorated.

本発明の転写箔用フィルムの非転写面側の中心線表面粗さSRaは、5nm〜20nmであることが好ましい。中心線表面粗さSRaが5nmより低い場合には、易滑性が損なわれてしまうことがある。また、中心線表面粗さSRaが20nmよりも大きくなると表面突起が多すぎて、転写面側における転写跡や被転写物への転写跡が多くなってしまうため、光沢性が低下してしまうことがある。非転写面側の中心線表面粗さSRaのより好ましい範囲は、8nm〜18nmである。   The center line surface roughness SRa on the non-transfer surface side of the film for transfer foil of the present invention is preferably 5 nm to 20 nm. When the center line surface roughness SRa is lower than 5 nm, the slipperiness may be impaired. Further, when the center line surface roughness SRa is larger than 20 nm, there are too many surface protrusions, and the transfer trace on the transfer surface side and the transfer trace to the transfer object increase, resulting in a decrease in glossiness. There is. A more preferable range of the center line surface roughness SRa on the non-transfer surface side is 8 nm to 18 nm.

また、転写面側の中心線表面粗さSRaは、10nm以下であることが好ましい。転写面側は、被転写物が設けられるため、転写面側の表面影響を極力及ぼさないためである。転写面側の中心線表面粗さSRaは、より好ましくは8nm以下であり、理想としては全く凹凸の無い面である。   Further, the center line surface roughness SRa on the transfer surface side is preferably 10 nm or less. This is because the transfer surface side is provided with a transfer object, and therefore does not exert the surface influence on the transfer surface side as much as possible. The center line surface roughness SRa on the transfer surface side is more preferably 8 nm or less, and ideally a surface having no unevenness.

本発明の転写箔用フィルムの熱処理温度は、180℃〜230℃の範囲であることが好ましい。熱処理温度が180℃よりも低いと熱収縮が大きくなりすぎてしまい、加工時のハンドリングが悪化してしまうことがある。また、熱処理温度が230℃を超えると、フィルム強度が低くなってしまい、転写箔を剥離する際に剥がれにくく、ハンドリング性の悪化や金型汚れを引き起こすことに加えて、表面の突起隆起が顕著となってしまい、転写が起こりやすくなってしまう。熱処理温度のより好ましい範囲は、190℃〜210℃である。   It is preferable that the heat processing temperature of the film for transfer foils of this invention is the range of 180 to 230 degreeC. When the heat treatment temperature is lower than 180 ° C., the heat shrinkage becomes too large, and handling during processing may be deteriorated. In addition, when the heat treatment temperature exceeds 230 ° C., the film strength becomes low, and it is difficult to peel off when the transfer foil is peeled off. In addition to causing deterioration of handling properties and mold contamination, the protrusions on the surface are remarkable. As a result, transfer tends to occur. A more preferable range of the heat treatment temperature is 190 ° C to 210 ° C.

本発明の転写箔用フィルムにおいては、P(β)が、100個以上であることが好ましく、より好ましくは160個以上である。(β−2)nmからβnmの高さ範囲に観測されるピーク数が100個未満では、表面形状に均一性がないため、転写された際に被転写物の表面に凹凸が反映されてしまい、被転写物の表面で乱反射が多く起こってしまうため、光沢度が低下してしまい、意匠性が損なわれてしまう傾向がある。   In the film for transfer foil of the present invention, P (β) is preferably 100 or more, more preferably 160 or more. When the number of peaks observed in the height range from (β-2) nm to β nm is less than 100, the surface shape is not uniform, so that irregularities are reflected on the surface of the transferred object when transferred. Since many irregular reflections occur on the surface of the transfer object, the glossiness tends to decrease and the design properties tend to be impaired.

本発明のように、(β−2)nmからβnmの高さ範囲に観測されるピーク数が100個以上であると、表面形状の均一性が高くなり、そのため転写する際に面が均一になりやすく、被転写体の凹凸が少なくなり、結果的に光沢性が上昇する。   As in the present invention, when the number of peaks observed in the height range from (β-2) nm to β nm is 100 or more, the uniformity of the surface shape becomes high, so that the surface becomes uniform during transfer. As a result, the unevenness of the transferred material is reduced, resulting in an increase in gloss.

本発明においては、非転写面のフィルム層の厚みと粒子径の差が±0.5μm以内の大きさの複数の粒子を添加し、非転写面の層を構成する樹脂に対して、複数の粒子を合計して0.1質量%以上添加することにより、P(β)を100個以上とすることが出来る。   In the present invention, a plurality of particles having a difference between the thickness of the film layer on the non-transfer surface and the particle diameter within ± 0.5 μm are added, and a plurality of the resins constituting the layer on the non-transfer surface are added. By adding 0.1% by mass or more of particles in total, P (β) can be increased to 100 or more.

本発明において、P(100)が10個以下であることが好ましい。98nmから100nmの高さ範囲に観測されるピーク数が10個よりも多いと、表面の高い突起と周囲の高さの高低差が顕著となってしまうため、転写された欠陥が目立ってしまい、意匠性が損なわれてしまうことがある。ここでの高さ範囲は、既述のように、図1のX軸(横軸)の高さnmを意味する。98nmから100nmの高さ範囲に観測されるピーク数は、より好ましくは5個以下であり、理想は0個である。本発明のように、ピーク数が10個以下であると、意匠性が大きく向上する。   In the present invention, P (100) is preferably 10 or less. When the number of peaks observed in the height range of 98 nm to 100 nm is more than 10, the difference in height between the protrusions on the surface and the surrounding height becomes conspicuous, and the transferred defect becomes noticeable. Designability may be impaired. The height range here means the height nm of the X axis (horizontal axis) in FIG. 1 as described above. The number of peaks observed in the height range of 98 nm to 100 nm is more preferably 5 or less, and ideally 0. When the number of peaks is 10 or less as in the present invention, the design properties are greatly improved.

本発明においては、1.5μm以下の粒子の添加量を2.0質量%以下とすることによって、転写面に用いられる面とは反対側の非転写面表面のP(100)を10個以下にすることが出来る。   In the present invention, by adding the amount of particles of 1.5 μm or less to 2.0% by mass or less, P (100) on the surface of the non-transfer surface opposite to the surface used for the transfer surface is 10 or less. Can be made.

本発明の転写箔用フィルムに用いられる樹脂としては、ポリエステルなどの熱可塑性樹脂を構成成分とするものが好ましく用いられる。具体的に、熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリイミド樹脂およびポリエーテルイミド樹脂などを用いることができる。   As resin used for the film for transfer foils of this invention, what uses thermoplastic resins, such as polyester, as a structural component is used preferably. Specifically, a polyester resin, a polyamide resin, a polyolefin resin, a polyphenylene sulfide resin, a polyimide resin, a polyetherimide resin, or the like can be used as the thermoplastic resin.

ポリエステルとは、ジオールとジカルボン酸とから縮合重合によって得られるポリマーである。さらに、ジカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸およびセバシン酸等で代表されるものであり、またジオールは、エチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコールおよびシクロヘキサンジメタノール等で代表されるものである。   Polyester is a polymer obtained by condensation polymerization from diol and dicarboxylic acid. Further, dicarboxylic acids are typified by terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid, adipic acid and sebacic acid, and diols are ethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol and cyclohexane dicarboxylic acid. It is represented by methanol or the like.

このようなポリエステルの具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−p−オキシベンゾエート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレートおよびポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(ポリエチレン−2,6−ナフタレート)等を使用することができる。   Specific examples of such polyester include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene-p-oxybenzoate, poly-1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate (polyethylene-2,6). -Naphthalate) and the like can be used.

これらのポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであってもよく、コポリエステルの共重合成分としては、例えば、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコールおよびポリアルキレングリコール等のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸および5−ナトリウムスルホイソフタル酸等のジカルボン酸成分を用いることもできる。   These polyesters may be homopolyesters or copolyesters. Examples of copolyester copolymer components include diol components such as diethylene glycol, neopentyl glycol and polyalkylene glycol, adipic acid, and sebacic acid. Dicarboxylic acid components such as phthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid can also be used.

また、強度、耐熱性、耐水性および耐薬品性等の観点から、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−2,6−ナフタレートが、特に好ましく用いられる。   From the viewpoints of strength, heat resistance, water resistance and chemical resistance, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are particularly preferably used.

次に、本発明の転写箔用フィルムを構成するポリエステルフィルムの製造方法の一例を説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the polyester film which comprises the film for transfer foils of this invention is demonstrated.

本発明で用いられるポリエステル原料は、通常用いられる種々のエステル化反応、エステル交換反応およびそれに引き続く重縮合反応により製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートは、通常テレフタル酸またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル化またはエステル交換せしめ、しかる後減圧下に重縮合せしめる方法で製造できる。ここで、触媒として、例えば、マンガン、マグネシウム、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、アンチモンおよびコバルトなどの元素を含む化合物やリン化合物などを使用することができる。また、安定剤、顔料、染料、核剤および充填剤などを使用してもよい。   The polyester raw material used in the present invention can be produced by various commonly used esterification reactions, transesterification reactions, and subsequent polycondensation reactions. For example, polyethylene terephthalate can be usually produced by a method in which terephthalic acid or dimethyl terephthalate and ethylene glycol are esterified or transesterified, and then polycondensed under reduced pressure. Here, as the catalyst, for example, a compound containing an element such as manganese, magnesium, calcium, titanium, germanium, antimony, and cobalt, a phosphorus compound, or the like can be used. In addition, stabilizers, pigments, dyes, nucleating agents and fillers may be used.

このようにして得られたポリエステルを、シートカット法やストランドカット法などにより、粒子状(チップ形状)に成形する。チップの形状は任意でよいが、あまりに小さすぎて微粉末状となったものは熱処理工程やその後の成形工程(特に押出工程)でのトラブルの原因となる。また、チップの形状が大きい場合には、環状化合物を減少させる意味では特に問題にはならないが、操作性の点からは問題が生じやすい。これらの観点から、ポリエステルチップの大きさは、等価球直径で1mm〜50mmが好ましく、より好ましくは2mm〜20mmである。ここで等価球直径とは、粒子と同じ体積を有する球の直径である。   The polyester thus obtained is formed into particles (chip shape) by a sheet cutting method or a strand cutting method. The shape of the chip may be arbitrary, but if it is too small and becomes a fine powder, it causes troubles in the heat treatment process and the subsequent molding process (especially the extrusion process). Further, when the shape of the chip is large, there is no particular problem in terms of reducing the cyclic compound, but a problem is likely to occur from the viewpoint of operability. From these viewpoints, the size of the polyester chip is preferably 1 mm to 50 mm, more preferably 2 mm to 20 mm in terms of equivalent sphere diameter. Here, the equivalent sphere diameter is the diameter of a sphere having the same volume as the particle.

磁性層加工面側の基材層形成のため、乾燥したポリエステルのチップを押出機Aに供給し、走行面側のボイド層形成のため、ポリエステルのチップと好ましくは平均粒子径300nm以上1,500nm未満の不活性粒子を好ましくは0.01質量%〜2.00質量%となるように混合したものを押出機Bに供給し、溶融してTダイ複合口金内に導入して口金内で基材層/ボイド層の2層に積層されるよう合流せしめた後、シート状に共押出して溶融積層シートとする。   For forming the base material layer on the magnetic layer processed surface side, the dried polyester chip is supplied to the extruder A, and for forming the void layer on the running surface side, the polyester chip and preferably the average particle diameter is 300 nm to 1,500 nm. A mixture of less than 6 inert particles, preferably 0.01% by mass to 2.00% by mass, is supplied to the extruder B, melted and introduced into the T-die composite die, and the base is formed in the die. After merging so as to be laminated in two layers of material layer / void layer, it is coextruded into a sheet shape to obtain a melt laminated sheet.

このようにして得られた溶融積層シートを、好ましくは表面温度10〜60℃に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸フィルムを作製する。得られた未延伸フィルムを、好ましくは70〜120℃の温度に加熱したロール群に導き、長手方向(縦方向、すなわちフィルムの進行方向)に好ましくは3〜8倍延伸し、好ましくは20〜30℃のロール群で冷却する。   The melt-laminated sheet thus obtained is preferably cooled and solidified by static electricity on a drum cooled to a surface temperature of 10 to 60 ° C. to produce an unstretched film. The obtained unstretched film is preferably led to a group of rolls heated to a temperature of 70 to 120 ° C., and is preferably stretched 3 to 8 times in the longitudinal direction (longitudinal direction, that is, the traveling direction of the film), preferably 20 to Cool in a roll group at 30 ° C.

続いて、フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、好ましくは90〜150℃の温度に加熱した雰囲気中で長手方向に垂直な方向(横方向)に好ましくは3〜6倍に延伸し、二軸延伸フィルムを得る。   Subsequently, the film is guided to a tenter while holding both ends of the film with clips, and preferably stretched 3 to 6 times in a direction perpendicular to the longitudinal direction (lateral direction) in an atmosphere heated to a temperature of 90 to 150 ° C. A biaxially stretched film is obtained.

延伸倍率は、縦横それぞれ3〜6倍とすることが好ましいが、その面積倍率(縦延伸倍率×横延伸倍率)は、15〜30倍であることが好ましい。面積倍率が15倍未満では、得られるフィルム強度が不十分となり、逆に面積倍率が30倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。   The stretching ratio is preferably 3 to 6 times each in the longitudinal and lateral directions, but the area ratio (longitudinal stretching ratio x lateral stretching ratio) is preferably 15 to 30 times. If the area magnification is less than 15 times, the obtained film strength is insufficient, and conversely if the area magnification exceeds 30 times, the film tends to be broken during stretching.

このようにして得られた二軸延伸フィルムの結晶配向を完了させて、平面性と寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内で好ましくは150〜230℃の温度で1〜30秒間の熱処理を行ない、均一に徐冷後、室温(25℃)まで冷却して巻き取ることにより、ポリエステルフィルムを得ることができる。   In order to complete the crystal orientation of the biaxially stretched film thus obtained and to impart flatness and dimensional stability, the heat treatment is preferably continued at a temperature of 150 to 230 ° C. for 1 to 30 seconds in the tenter. The polyester film can be obtained by gradually cooling and uniformly cooling to room temperature (25 ° C.) and winding.

上記の熱処理工程中では、必要に応じて横方向あるいは縦方向に1〜12%程度の弛緩処理(リラックス)を施してもよい。また、二軸延伸は、上述の逐次延伸の他に同時二軸延伸でもよく、同時二軸延伸の場合のインラインコートは、溶融シートをドラム上に密着冷却固化した未延伸フィルム表面に必要に応じてコロナ放電処理を施した後、易滑層形成塗液を塗布し、延伸すればよい。また、二軸延伸後に、縦と横いずれかの方向に再延伸してもよい。   During the heat treatment step, a relaxation treatment (relaxation) of about 1 to 12% may be performed in the horizontal direction or the vertical direction as necessary. The biaxial stretching may be simultaneous biaxial stretching in addition to the above-described sequential stretching, and in-line coating in the case of simultaneous biaxial stretching is performed on the surface of an unstretched film obtained by tightly cooling and solidifying a molten sheet on a drum as necessary. After applying the corona discharge treatment, an easy-sliding layer forming coating solution may be applied and stretched. Further, after biaxial stretching, the film may be re-stretched in either the vertical or horizontal direction.

このようにして得られた本発明のポリエステルフィルムは、中間製品として、スリッターを用いて製品幅にスリットし巻き返しながらフィルムロールを得ることができる。フィルムロールのフィルム幅は、500〜1,500mmが好ましく、巻き長さは5,000〜50,000mが好ましい。   The polyester film of the present invention thus obtained can be used as an intermediate product to obtain a film roll while being slit and rolled back to the product width using a slitter. The film width of the film roll is preferably 500 to 1,500 mm, and the winding length is preferably 5,000 to 50,000 m.

本発明においては、上記のようにして得られたポリエステルフィルムを、好適には例えば、次のようにして転写箔用フィルムとして適用することができる。   In the present invention, the polyester film obtained as described above can be suitably applied as a film for transfer foil, for example, as follows.

ポリエステルフィルムの転写面側に、ブチル化尿素メラミン樹脂とパラトルエンスルホン酸の混合液をグラビアコート法で塗布し、80℃の温度で硬化させ、離型層を形成した。次に、離型層上に、アクリル系樹脂を用いてグラビアコート法で剥離層を形成し、その上に図柄層として、ビニル樹脂系インキによるメタリック色(アルミニウム顔料20質量%含有)のベタパターンと、黒色(カーボンブラック15質量%含有)の文字パターンをグラビア印刷で形成し、次いで、40℃の温水で洗浄、乾燥し、最後にアクリル系樹脂の接着層をグラビアコート法で形成し転写材を得た。   On the transfer surface side of the polyester film, a mixed solution of butylated urea melamine resin and paratoluenesulfonic acid was applied by a gravure coating method and cured at a temperature of 80 ° C. to form a release layer. Next, a release layer is formed on the release layer by gravure coating using an acrylic resin, and a metallic pattern (containing 20% by mass of an aluminum pigment) with a vinyl resin ink is used as a pattern layer on the release layer. Then, a black character pattern (containing 15% by mass of carbon black) is formed by gravure printing, then washed with hot water at 40 ° C. and dried, and finally an adhesive layer of acrylic resin is formed by a gravure coating method. Got.

得られた転写材を、温度25℃、相対湿度30%の雰囲気下で、50mm×50mm最大深さ8mmの金型を用い、金型温度220℃で金型内で真空成形したのち型締めを行い、その後アクリル樹脂を成形樹脂として25MPaの射出圧力条件で成形同時転写加工を行った。   The obtained transfer material is vacuum-molded in a mold at a mold temperature of 220 ° C. in a mold of 50 mm × 50 mm and a maximum depth of 8 mm in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 30%, and then clamped. Thereafter, simultaneous molding and transfer processing was performed under an injection pressure condition of 25 MPa using acrylic resin as a molding resin.

図1は、本発明の転写箔用フィルムの高さごとの2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を例示する図である。X軸(横軸)にベースフィルム面からの高さ(nm)、Y軸(縦軸)はその高さ範囲に観測されるピーク数(個)を意味する。図1に記載の符号1は、限定されるものではなく、本発明の測定方法にて測定器で求められる最大の高さ(nm)であり、つまり、最大を与えるP(a)の高さ範囲である。得られた転写箔用フィルムの表面粗さを、後述する高精度微細形状測定器により測定し、各々の走査において観測されるピークの高さを求め、求められた各々のピーク高さについて0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求め、2nm刻みのあるピークの高さをaとして(a−2)〜anmの刻み幅のピーク数をP(a)としてaに対してP(a)をプロットする。プロットした点を直線で繋ぎ、図1のように、折れ線グラフを作成する。このようして得られたグラフの最大のP(a)を与えるaをβnm(符号2)とし、前記βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いaをγnm(符号3)とした。符号5は、グラフの最大のP(a)、符号6は、βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いP(a)であり、そのaを本発明ではγと称するので、符号6は、P(γ)とも言える。さらに、符号7および符号8は、符号6の点の高さから、(γ−β)毎(符号4)に高さ方向にn数を加算したP(a)である。式(1)において、
例えば、n=0とする場合は、
P(β)/3 ≦ P(β+(γ−β))≦ P(β)/1.5となり、
例えば、n=1とする場合は、
P(β+(γ−β))/3 ≦ P(β+2×(γ−β))≦ P(β+(γ−β))/1.5 となる。
FIG. 1 is a diagram illustrating the frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm for each height of the film for transfer foil of the present invention. The X axis (horizontal axis) represents the height (nm) from the base film surface, and the Y axis (vertical axis) represents the number of peaks observed in the height range. Reference numeral 1 shown in FIG. 1 is not limited, and is the maximum height (nm) obtained by the measuring instrument in the measurement method of the present invention, that is, the height of P (a) that gives the maximum. It is a range. The surface roughness of the obtained film for transfer foil was measured with a high-precision fine shape measuring instrument to be described later, the peak height observed in each scan was determined, and the obtained peak height was measured from 0 nm. The frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm is obtained, and the height of a peak in increments of 2 nm is defined as a, and the number of peaks in increments of (a-2) to an nm is defined as P (a) and P with respect to a Plot (a). The plotted points are connected by straight lines, and a line graph is created as shown in FIG. In the graph thus obtained, a giving the maximum P (a) is βnm (symbol 2), and the most βnm that appears in a range higher than the βnm and shows a value of P (β) / 2 or less. A closest to γ was defined as γnm (symbol 3). Reference numeral 5 is the maximum P (a) of the graph, and reference numeral 6 is P (a) that appears in a range higher than βnm and is closest to βnm and exhibits a value of P (β) / 2 or less. Since a is referred to as γ in the present invention, reference numeral 6 can also be referred to as P (γ). Further, reference numerals 7 and 8 are P (a) obtained by adding n in the height direction every (γ−β) (reference numeral 4) from the height of the point of reference numeral 6. In equation (1),
For example, when n = 0,
P (β) / 3 ≦ P (β + (γ−β)) ≦ P (β) /1.5,
For example, if n = 1,
P (β + (γ−β)) / 3 ≦ P (β + 2 × (γ−β)) ≦ P (β + (γ−β)) / 1.5.

また、本発明の好ましい態様として、上述したn=3のP(a)とP(200)を直線で結んだ際に、すべてのaにおける突起がその直線よりも低い位置に存在することが好ましい。   Further, as a preferred embodiment of the present invention, when the above-mentioned n = 3 P (a) and P (200) are connected by a straight line, it is preferable that all the protrusions at a are present at positions lower than the straight line. .

[測定方法]
下記の測定については10点測定し、その平均値を測定値とした。
[Measuring method]
About the following measurement, 10 points | pieces were measured and the average value was made into the measured value.

(1)中心面面粗さ(SRa)と2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、SRaと2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求めた。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm)。
(1) Center plane roughness (SRa) and frequency in 2 nm increments (number of peaks) (pieces)
The surface opposite to the side where the transfer layer of the film is provided is measured under the following conditions using a high-precision fine shape measuring instrument (three-dimensional surface roughness meter) (manufactured by Kosaka Laboratory, ET-4000A). From the measurement data, a three-dimensional surface roughness analysis program (manufactured by Kosaka Laboratory, TDA-22) was used to determine the frequency (number of peaks) (pieces) in increments of 2 nm.
-Stylus: radius of tip 0.5 (μmR), diameter 2.0 (μm), made of diamond ・ Measuring force (needle pressure): 100 (μN)
・ Measurement direction: film longitudinal direction ・ X measurement length: 0.5 (mm)
-X feed speed (measurement speed): 0.1 (mm / s)
・ Y feed pitch (measurement interval): 5 (μm)
-Number of Y lines (number of measurement): 81 (number)
・ Z magnification (vertical magnification): 50000 (times)
・ Low-frequency cut-off (swell cut-off value): 0.25 (mm)
・ High frequency cut-off (roughness cut-off value): R + W (mm)
(Here, the cut-off value R + W means not cut off.)
-Phase characteristics (filter method): 2CR normal type-Maximum number of sample points: 90601 (points)
・ Polarity: Normal ・ X pitch lower limit: 1 (μm)
Leveling (inclination correction): None - reference area: 0.2 (mm 2).

(2)フィルム厚み
マイクロメーター(商品名:μ−mate、ソニー株式会社製)を用い、二軸配向ポリエステルフィルムの厚みを10箇所測定し、平均値を求めた。
(2) Using a film thickness micrometer (trade name: μ-mate, manufactured by Sony Corporation), the thickness of the biaxially oriented polyester film was measured at 10 locations, and the average value was determined.

(3)表面光沢度の評価
フィルムの転写面側に、ブチル化尿素メラミン樹脂とパラトルエンスルホン酸の混合液をグラビアコート法にて塗布し、80℃の温度で硬化させ、離型層を形成した。次に、離型層上に、アクリル系樹脂を用いてグラビアコート法で剥離層を形成し、その上に図柄層として、ビニル樹脂系インキによるメタリック色(アルミニウム顔料20質量%含有)のベタパターンと、黒色(カーボンブラック15質量%含有)の文字パターンをグラビア印刷で形成し、次いで、40℃の温水で洗浄、乾燥し、最後にアクリル系樹脂の接着層をグラビアコート法で形成し転写材を得た。
(3) Evaluation of surface glossiness A mixed liquid of butylated urea melamine resin and paratoluenesulfonic acid is applied to the transfer surface side of the film by a gravure coating method and cured at a temperature of 80 ° C. to form a release layer. did. Next, a release layer is formed on the release layer by gravure coating using an acrylic resin, and a metallic pattern (containing 20% by mass of an aluminum pigment) with a vinyl resin ink is used as a pattern layer on the release layer. Then, a black character pattern (containing 15% by mass of carbon black) is formed by gravure printing, then washed with hot water at 40 ° C. and dried, and finally an adhesive layer of acrylic resin is formed by a gravure coating method. Got.

得られた転写材を、温度25℃、相対湿度30%の雰囲気下で、50mm×50mm最大深さ8mmの金型を用い、金型温度220℃で金型内で真空成型した後、型締めを行い、その後アクリル樹脂を成型樹脂として25MPaの射出圧力条件で成型同時転写加工を行った。得られた成形品に対し、日本工業規格(JIS)Z−8741(2004年)における60°反射の表面光沢度を測定した。成形品の表面光沢度をGFとし、標準金属試料の表面光沢度をGMとしたとき、次の判定に従った。○と△が合格である。
○:GF≧GM
△:GM−20≦GF<GM
×:GF<GM−20。
The obtained transfer material was vacuum-molded in a mold at a mold temperature of 220 ° C. in a mold of 50 mm × 50 mm and a maximum depth of 8 mm in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 30%, and then clamped Thereafter, molding and simultaneous transfer processing were performed under an injection pressure condition of 25 MPa using an acrylic resin as a molding resin. The surface glossiness of 60 ° reflection in Japanese Industrial Standard (JIS) Z-8741 (2004) was measured for the obtained molded product. When the surface glossiness of the molded product was GF and the surface glossiness of the standard metal sample was GM, the following judgment was followed. ○ and △ are acceptable.
○: GF ≧ GM
Δ: GM-20 ≦ GF <GM
X: GF <GM-20.

(4)転写欠陥の評価
(3)の評価方法で得られた転写材から、それぞれA4サイズで5枚ずつサンプリングを行う。転写跡欠点は、ZYGO(ZYGO社、型式NV200)で0.352mm×0.264mmの範囲で2値化を行い、10点の平均を取った。◎と○が合格である。
◎・・・転写跡欠点 4個未満
○・・・転写跡欠点 4個以上、6個未満
△・・・転写跡欠点 6個以上、11個未満
×・・・転写跡欠点 11個以上。
(4) Evaluation of Transfer Defects Sampling is performed for five sheets each at A4 size from the transfer material obtained by the evaluation method of (3). The transfer mark defect was binarized in a range of 0.352 mm × 0.264 mm with ZYGO (ZYGO, model NV200), and an average of 10 points was taken. ◎ and ○ are acceptable.
◎ ・ ・ ・ Transfer trace defect Less than 4 ○ ・ ・ ・ Transfer trace defect 4 or more, less than 6 Δ ・ ・ ・ Transfer trace defect 6 or more, less than 11 ×× Transfer trace defect 11 or more.

(5) 易滑性の評価
フィルムを幅1000mm、長さ10000mのロールに巻き上げ(スリット速度150m/分)、そのロールのたてしわ、よこしわおよび端面ずれの発生状態を詳細に検査し、次のとおり判定した。○と△が実用上問題ないレベルである。また、巻特性が良レベル以上のものは走行性・ハンドリング性も良好であり、よく相関がある。
○・・・たてしわ、よこしわおよび端面ずれが全くない。
△・・・端面ずれが1mm以内、たてしわ、よこしわはない。
×・・・たてしわあるいはよこしわが、ロール巻き上げ直後または10時間以内に認められるか、端面ずれが1mmを超えるもの。
(5) Evaluation of slipperiness The film is wound up on a roll having a width of 1000 mm and a length of 10,000 m (slit speed 150 m / min), and the state of warp, crease and end face deviation of the roll is inspected in detail. Judgment was made as follows. ○ and △ are levels that are not problematic for practical use. Also, winding properties with good level or higher have good running and handling properties and are well correlated.
○: No vertical wrinkles, no wrinkles, and no end face deviation.
Δ: End face deviation is within 1 mm, there is no warp or wrinkle.
X: Wrinkles or wrinkles are observed immediately after roll-up or within 10 hours, or the end face deviation exceeds 1 mm.

(6)粒子の平均粒子径
JIS−H7804(2005)に従い走査電子顕微鏡(SEM)で倍率50000倍にて、樹脂(フィルム)に添加する前の各粒子について、100個ずつ任意に粒子径の測定をし、平均粒子径を求めた値をいう。(粒子が球状でない場合には、最も形状の近い楕円に近似させ、その楕円の(長径+短径)/2にて求める)。
(6) Average particle diameter of particles For each particle before being added to the resin (film) at a magnification of 50000 times with a scanning electron microscope (SEM) according to JIS-H7804 (2005), 100 particle diameters are arbitrarily measured. The average particle size is determined. (If the particles are not spherical, approximate the ellipse with the closest shape and obtain the ellipse by (major axis + minor axis) / 2).

[実施例1]
ジカルボン酸成分として、テレフタル酸ジメチル82.5質量部とイソフタル酸ジメチル17.5質量部、グリコール成分としてエチレングリコールを100質量部、触媒として酢酸マグネシウム0.05質量部を反応容器に仕込み、エステル交換反応を行った。続いて、これに反応生成物に三酸化アンチモン0.03質量部とトリメチルフォスフェート0.05質量部を加え、280℃の温度で4時間、反応系を徐々に0.5mmHgまで減圧し重縮合反応を行い、ポリエチレンテレフタレート原料Aを得た。
[Example 1]
As a dicarboxylic acid component, 82.5 parts by mass of dimethyl terephthalate and 17.5 parts by mass of dimethyl isophthalate, 100 parts by mass of ethylene glycol as a glycol component, and 0.05 parts by mass of magnesium acetate as a catalyst are charged into a reaction vessel, and transesterification is performed. Reaction was performed. Subsequently, 0.03 part by weight of antimony trioxide and 0.05 part by weight of trimethyl phosphate were added to the reaction product, and the reaction system was gradually depressurized to 0.5 mmHg at a temperature of 280 ° C. for polycondensation. Reaction was performed to obtain polyethylene terephthalate raw material A.

転写面(以下、A層という。)の原料(原料A)として、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート原料A(固有粘度IV0.66)に、平均粒子径70nmの球状シリカを0.05質量%含有させた原料Aと、非転写面(以下、B層という。)として、同一のポリエチレンテレフタレート原料Aに平均粒子径300nmの球状シリカを0.26質量%、平均粒子径800nmの球状シリカを0.01質量%含有させた原料Bを準備し、A層とB層との厚み比が6.1:0.4の割合となるよう共押出しした。原料AとB合計の吐出量は、ポリエステルフィルムの全体の厚みが表1の全体厚みとなるように調整した。   As a raw material (raw material A) for the transfer surface (hereinafter referred to as A layer), spherical silica having an average particle diameter of 70 nm is added to a polyethylene terephthalate raw material A (inherent viscosity IV0.66) substantially free of inert particles. The raw material A contained in an amount of 05% by mass and the non-transfer surface (hereinafter referred to as B layer) are 0.26% by mass of spherical silica having an average particle size of 300 nm and the spherical shape having an average particle size of 800 nm in the same polyethylene terephthalate raw material A. A raw material B containing 0.01% by mass of silica was prepared, and coextruded so that the thickness ratio of the A layer and the B layer was 6.1: 0.4. The total discharge amount of the raw materials A and B was adjusted so that the total thickness of the polyester film was the total thickness shown in Table 1.

これをキャスティングドラム上で冷却固化し未延伸フィルムを得た後、105℃の温度で4.2倍に長手方向に延伸した。次いで、テンターを用いて98℃の温度で幅方向に5.0倍に延伸し、205℃の温度で熱処理し、ポリエステルフィルムを得、巻き取りながらポリエステルフィルムロールを得た。特性等を表1と表2、製膜条件等を表3に示した。   This was cooled and solidified on a casting drum to obtain an unstretched film, and then stretched 4.2 times in the longitudinal direction at a temperature of 105 ° C. Next, the film was stretched 5.0 times in the width direction at a temperature of 98 ° C. using a tenter, heat-treated at a temperature of 205 ° C. to obtain a polyester film, and a polyester film roll was obtained while winding. Tables 1 and 2 show characteristics and the like, and Table 3 shows film forming conditions and the like.

[実施例2〜4、参考例1、比較例1〜4]
表1に記載されていること以外は、実施例1と同様にして、ポリエステルフィルムを得た。その後、実施例1と同様にしてポリエステルフィルムロールを得た。これらの特性等を、表1と表2、製膜条件等を表3に示す。
[Examples 2 to 4, Reference Example 1 , Comparative Examples 1 to 4]
Except as described in Table 1, a polyester film was obtained in the same manner as in Example 1. Thereafter, a polyester film roll was obtained in the same manner as in Example 1. These characteristics and the like are shown in Tables 1 and 2 , and the film forming conditions and the like are shown in Table 3.

1 最大を与えるP(a)の高さ範囲a(nm)
2 最大のP(a)を与えるa:β(nm)
3 βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに近いa:γ(nm)
4 (γ−β)(nm)
5 最大のP(a)であり、P(β)である。
6 βnmよりも高い範囲に現れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いP(a)
7、8 γから、(γ−β)毎(符号4)を高さ方向にn=2、n=3とした高さに対応するP(a)
1 P (a) height range giving the maximum a (nm)
2 Gives maximum P (a) a: β (nm)
3: Appearing in a range higher than β nm and showing a value of P (β) / 2 or less, closest to β nm, a: γ (nm)
4 (γ-β) (nm)
5 is the maximum P (a) and P (β).
P (a) that appears in a range higher than 6 βnm and is closest to βnm and exhibits a value of P (β) / 2 or less
7, 8 P (a) corresponding to the height where (γ−β) (reference numeral 4) is set to n = 2 and n = 3 in the height direction from γ.

Claims (5)

転写箔に用いられるフィルムであって、
該フィルムは、転写面に用いられる面を有する層(転写層)と、非転写面を有する層(非転写層)を積層してなるフィルムであり、
転写面に用いられる面とは反対側の非転写面表面を下記条件にて測定を行ったとき、
各々の走査において観測されるピークの高さを求め、
求められた各々のピークの高さについて0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求め、
2nm刻みのあるピークの高さをaとして、(a−2)〜anmの刻み幅のピーク数をP(a)としてaに対してP(a)をプロットし、
最大のP(a)を与えるaをβnm、
前記βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いaをγnmとするとき、下記式(1)を満足し、
前記非転写層の層厚みが、0.1μm以上1.5μm以下であり、
前記非転写層が粒子を含有し、その含有量が非転写層を構成する樹脂に対して0.20質量%以上1.00質量%以下であり、
前記粒子が粒子径0.1μm以上0.5μm以下の粒子と、粒子径0.6μm以上1.5μm以下の粒子を併用してなることを特徴とする転写箔用フィルム。
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm
A film used for transfer foil,
The film is a film formed by laminating a layer having a surface used as a transfer surface (transfer layer) and a layer having a non-transfer surface (non-transfer layer),
When measuring the non-transfer surface opposite to the surface used for the transfer surface under the following conditions:
Find the peak heights observed in each scan,
Obtain the frequency (number of peaks) (number) in increments of 0 nm to 2 nm for each obtained peak height,
P (a) is plotted against a, where a is the height of the peak with 2 nm steps, and P (a) is the number of peaks with step widths of (a-2) to anm.
A giving the maximum P (a) is β nm,
When a that appears in a range higher than βnm and that is closest to βnm and exhibits a value of P (β) / 2 or less is γnm, the following formula (1) is satisfied :
The layer thickness of the non-transfer layer is 0.1 μm or more and 1.5 μm or less,
The non-transfer layer contains particles, and the content thereof is 0.20% by mass or more and 1.00% by mass or less based on the resin constituting the non-transfer layer,
Transfer foil film that the particles are characterized with the following particle 0.5μm or more particle size 0.1 [mu] m, the Rukoto such a combination of particles below 1.5μm or more particle size 0.6 .mu.m.
P (β + n (γ−β)) / 3 ≦ P (β + (n + 1) × (γ−β)) ≦ P (β + n (γ−β)) / 1.5 Formula (1)
(Where n is an integer from 0 to 3)
Measurement condition:
The surface opposite to the side where the transfer layer of the film is provided is measured under the following conditions using a high-precision fine shape measuring instrument (three-dimensional surface roughness meter) (manufactured by Kosaka Laboratory, ET-4000A). From the measurement data, the frequency (number of peaks) (number) in increments of 2 nm is obtained using a three-dimensional surface roughness analysis program (manufactured by Kosaka Laboratory, TDA-22).
-Stylus: radius of tip 0.5 (μmR), diameter 2.0 (μm), made of diamond ・ Measuring force (needle pressure): 100 (μN)
・ Measurement direction: film longitudinal direction ・ X measurement length: 0.5 (mm)
-X feed speed (measurement speed): 0.1 (mm / s)
・ Y feed pitch (measurement interval): 5 (μm)
-Number of Y lines (number of measurement): 81 (number)
・ Z magnification (vertical magnification): 50000 (times)
・ Low-frequency cut-off (swell cut-off value): 0.25 (mm)
・ High frequency cut-off (roughness cut-off value): R + W (mm)
(Here, the cut-off value R + W means not cut off.)
-Phase characteristics (filter method): 2CR normal type-Maximum number of sample points: 90601 (points)
・ Polarity: Normal ・ X pitch lower limit: 1 (μm)
・ Leveling (tilt correction): None ・ Reference area: 0.2 (mm 2 )
非転写面表面の中心線表面粗さSRaが、5nm〜20nmであることを特徴とする請求項1記載の転写箔用フィルム。The film for transfer foil according to claim 1, wherein the surface roughness SRa of the non-transfer surface is 5 nm to 20 nm. P(200)が、5個以下であることを特徴とする請求項1または2記載の転写箔用フィルム。 The film for transfer foil according to claim 1 or 2 , wherein P (200) is 5 or less. P(β)が、100個以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の転写箔用フィルム。 The film for transfer foil according to any one of claims 1 to 3, wherein P (β) is 100 or more. P(100)が10個以下であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の転写箔用フィルム。 The film for transfer foil according to any one of claims 1 to 4 , wherein P (100) is 10 or less.
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