JP2000339778A

JP2000339778A - 光ディスク用原盤およびその製造方法、並びに、光ディスク用原盤の製造装置

Info

Publication number: JP2000339778A
Application number: JP11146723A
Authority: JP
Inventors: Minoru Tazoe; 稔田添; Makoto Ito; 伊藤　　誠
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1999-05-26
Filing date: 1999-05-26
Publication date: 2000-12-08

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】光ディスク用原盤の表面形状を、射出成形さ
れる樹脂に、良好に転写できる光ディスク用原盤の製造
方法の提供。【解決手段】ハンガー９を洗浄槽１の中に入れ、左右
のノズルから洗浄水が均等に当てる。つぎのアルカリ脱
脂の工程では、光ディスク用原盤８を取り付けたハンガ
ー９を、アルカリ脱脂槽５の液中に漬け、アルカリ剤
は、水酸化ナトリウムの水溶液を用いつぎの洗浄の工程
では、上述した洗浄の工程と同様にした。中和工程で
は、光ディスク用原盤８を取り付けたハンガー９を中和
槽６の液中に漬ける。中和剤は、硫酸の水溶液を用い洗
浄工程では、上述の該工程と同様にした。つぎのエッチ
ングの工程では、光ディスク用原盤８を取り付けたハン
ガー９をエッチング槽７の液中に漬け、光ディスク用原
盤８に形成のニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜が溶解され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用原盤
およびその製造方法、並びに、光ディスク用原盤の製造
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク、例えば再生専用型のコンパ
クトディスク（ＣＤ）の製造過程においては、ニッケル
などからなる光ディスク成形用の原盤（以下、「光ディ
スク用原盤」という。）を射出成形機の金型の中に取り
付け、光ディスク用原盤の表面に形成されているピット
を、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）に転写して成形品で
あるディスクを製作している。

【０００３】この転写されたピットを持つディスクを、
つぎのアルミ蒸着などの工程に移すために、光ディスク
用原盤から剥がすと、ディスクの表面に剥離模様が発生
する場合がある。この剥離模様を顕微鏡で観察すると、
ディスク側のピットが欠けたようになっており、光ディ
スク用原盤の表面形状を、射出成形される樹脂に、良好
に転写できていないことがわかる。多くの剥離模様と呼
ばれるものは、ディスクと光ディスク用原盤の離型性が
悪い時に発生すると考えられている。

【０００４】そこで、ディスクと光ディスク用原盤の離
型性を改善する方法として、従来、光ディスク用原盤の
表面に付着している有機物を有機溶剤で除去したり、光
ディスク用原盤の表面に熱を加えたり、薬液や電解を利
用して光ディスク用原盤の表面を酸化させたりして、光
ディスク用原盤側の密着性を変えていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光ディ
スク用原盤についての、表面の有機物の除去、表面の加
熱、または表面の酸化といった方法だけでは、光ディス
ク用原盤の表面形状を、射出成形される樹脂に、良好に
転写できない場合があるという問題があった。

【０００６】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、光ディスク用原盤の表面形状を、射出成
形される樹脂に、良好に転写できる光ディスク用原盤お
よびその製造方法、並びに、光ディスク用原盤の製造装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク用原
盤は、射出成形機の成形用金型の中に取り付けられ、射
出成形される樹脂に、その表面の形状を転写する光ディ
スク用原盤において、光ディスク用原盤の上記表面が、
微少な凹凸を有するものである。

【０００８】また、本発明の光ディスク用原盤の製造方
法は、ガラス板に塗布したレジスト膜に、情報を記録す
る第１の工程と、上記レジスト膜に作られた潜像を、現
像により顕在化する第２の工程と、現像された上記レジ
スト膜の表面を導体化する第３の工程と、導体化された
上記表面に電鋳を行う第４の工程と、上記電鋳により形
成された光ディスク用原盤を剥離した後に、上記レジス
トを除去する第５の工程とを含む光ディスク用原盤の製
造方法において、上記第５の工程の後に、光ディスク用
原盤の表面をエッチングする工程を含むものである。

【０００９】また、本発明の光ディスク用原盤の製造装
置は、（イ）光ディスク用原盤の表面に付着している汚
れを取るアルカリ脱脂槽と、（ロ）光ディスク用原盤の
表面に残存しているアルカリ性の付着物を中和する中和
槽と、（ハ）光ディスク用原盤の表面をエッチングする
エッチング槽とを含むものである。

【００１０】本発明の光ディスク用原盤およびその製造
方法、並びに、光ディスク用原盤の製造装置によれば、
エッチング槽において、光ディスク用原盤の表面をエッ
チングし、光ディスク用原盤の表面に微少な凹凸を形成
することにより、射出成形された樹脂は光ディスク用原
盤から剥離しやすくなる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。まず、光ディスク用原盤の製造装置に係る
発明の実施の形態の一例について図１〜図６を参照しな
がら説明する。

【００１２】図１は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造装置における、光ディスク用原盤のエッチングに必
要な設備とハンガーの一例を示した図である。この光デ
ィスク用原盤の製造装置は、洗浄槽１〜４、アルカリ脱
脂槽５、中和槽６、エッチング槽７、およびハンガー９
から構成されている。

【００１３】図２は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造装置に用いられる、洗浄槽およびその周辺設備を示
す図である。この洗浄槽およびその周辺設備は、光ディ
スク用原盤の表面に付着した汚れや薬液を、シャワーに
より洗い流す機能を有している。図２からわかるよう
に、洗浄槽およびその周辺設備は、洗浄槽１〜４、シャ
ワーノズル１３、配管１０、電磁バルブ１４、およびペ
ダル１５より構成されている。

【００１４】洗浄槽１〜４は、開口部を有する箱型の形
状をしている。また、洗浄槽１〜４は、図示していない
排水口を有している。洗浄槽１〜４は、ポリプロピレン
樹脂（ＰＰ）からなっている。材質としては、このポリ
プロピレン樹脂に限定されるわけではない。その他、例
えば塩化ビニル（ＰＶＣ）などを採用することができ
る。また、ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック（ＦＲ
Ｐ）や金属板にゴムライニングしたものなども採用する
ことができる。

【００１５】また、この洗浄槽１〜４の中には、シャワ
ーノズル１３が取り付けられている。このシャワーノズ
ル１３は、配管と、その配管に一定間隔ごとに取り付け
られた複数のノズルからなっている。このノズルは、配
管に設けられたノズル取付け用ねじ穴に取り付けられて
いる。なお、配管はポリプロピレン樹脂からなり、ノズ
ルはステンレスからなっている。

【００１６】このシャワーノズル１３は、洗浄槽の中の
上下左右の４カ所に、それぞれ１本ずつ合計で４本（３
本は図示していない）配置されている。これらの４本の
シャワーノズル１３のうち、２本ずつが、それぞれのノ
ズルの出口を互いに対向させて取り付けられている。

【００１７】配管１０は、中空パイプの形状をなし、ポ
リプロピレン樹脂からなっている。この配管１０は、洗
浄槽の壁を貫通し、さらに４本のシャワーノズル１３の
配管に接続している

【００１８】配管１０の途中には、電磁バルブ１４が設
置されている。この電磁バルブ１４は、純水に接触する
部分がステンレスから作製されている。電磁バルブ１４
は、電流のオンオフにより、純水を流したり止めたりす
る機能を有する。純水の流量は、電磁バルブ１４につい
ているストロークねじで調整できる。なお、純水の水圧
は、電磁バルブ１４の直前で０．２ＭＰａ程度とした。

【００１９】電磁バルブ１４には、ペダル１５が接続さ
れている。このペダル１５は、電磁バルブ１４のオンオ
フを行う機能を有する。

【００２０】上述した洗浄槽およびその周辺設備を稼働
させるためには、つぎのように操作する。まず、ペダル
１５を足で踏むと、電磁バルブ１４に電流が流れ、電磁
バルブ１４がオープンする。つぎに、シャワーノズル１
３から純水が噴出される。つぎに、光ディスク用原盤の
表面を洗浄する。この洗浄後、廃液は集められて排出さ
れる。

【００２１】図３は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造装置に用いられる、アルカリ脱脂槽およびその周辺
設備を示す図である。このアルカリ脱脂槽およびその周
辺設備は、光ディスク用原盤の表面に付着している油脂
などの汚れを取る機能を有する。図３からわかるよう
に、このアルカリ脱脂槽およびその周辺設備は、アルカ
リ脱脂槽５、配管１０、フィルタ１１、およびポンプ１
２より構成されている。

【００２２】アルカリ脱脂槽５は、開口部を有する箱型
の形状をしている。また、アルカリ脱脂槽５は、ポリプ
ロピレン樹脂からなっている。なお、アルカリ脱脂槽５
の材質はポリプロピレン樹脂に限定されないことは洗浄
槽１〜４で述べたと同様である。アルカリ脱脂槽５は、
アルカリ液をストックできるようになっており、配管１
０、フィルタ１１、およびポンプ１２によって接続され
ている。

【００２３】配管１０は、中空パイプの形状をなし、ポ
リプロピレン樹脂からなっている。配管１０の材質は、
ポリプロピレン樹脂に限定されないのは上述したと同様
である。配管１０は、ポンプ１２、フィルタ１１、およ
びアルカリ脱脂槽５をそれぞれ接続し、薬液を循環でき
るようにする機能を有する。

【００２４】フィルタ設備１１は、円錐台形の形状をな
し、フィルタとフィルタハウジングにより構成されてい
る。また、フィルタ設備１１は、ポンプ１２の吐出側に
接続されている。また、フィルタ設備１１は、ポンプ１
２で送られた薬液を通過させ、薬液中のゴミ等を濾過す
る機能を有する。ここで、フィルタの濾過精度は１μｍ
程度が好ましい。

【００２５】ポンプ１２は、円筒形の形状をなし、マグ
ネットポンプからなっている。ポンプ１２の接液部は、
ポリプロピレン樹脂からなっている。したがって、接液
部が全て樹脂でできているので、液汚染が少ない。ポン
プ１２は、配管１０によって、フィルタ設備１１とアル
カリ脱脂槽５の間に接続されている。ポンプ１２は、ア
ルカリ脱脂槽５に薬液を圧送することにより、アルカリ
脱脂槽５の中の薬液を撹拌する機能を有する。

【００２６】図４は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造装置に用いられる、中和槽およびその周辺設備を示
す図である。中和槽およびその周辺設備は、光ディスク
用原盤の表面に残存しているアルカリ性の付着物を中和
する機能を有する。図４からわかるように、中和槽およ
びその周辺設備は、中和槽６、配管１０、フィルタ設備
１１、およびポンプ１２より構成されている。

【００２７】中和槽６は、酸性液をストックできるよう
になっている。なお、中和槽６の形状、材質、および周
辺設備との接続については、アルカリ脱脂槽５で説明し
たと同様である。また、周辺設備である、配管１０、フ
ィルタ設備１１、およびポンプ１２は、アルカリ脱脂槽
５の周辺設備で説明したと同様である。

【００２８】図５は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造装置に用いられる、エッチング槽およびその周辺設
備を示す図である。エッチング槽およびその周辺設備
は、光ディスク用原盤の表面をエッチングする機能を有
する。すなわち、光ディスク用原盤の表面に形成された
ニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜を溶解させる機能を有す
る。図５からわかるように、エッチング槽およびその周
辺設備は、エッチング槽７、配管１０、フィルタ設備１
１、ポンプ１２、およびヒータ１６より構成されてい
る。なお、ヒータ１６には温度調節器も含まれる。

【００２９】エッチング槽７は、酸性液をストックでき
るようになっている。なお、中和槽６の形状、材質、お
よび周辺設備との接続については、アルカリ脱脂槽５で
説明したと同様である。

【００３０】ヒータ１６は、エッチング槽７の底に固定
されており、その発熱部はセラミックでできている。こ
のヒータ１１で暖められた液は、ポンプ１２の循環液に
よって撹拌される。なお、ヒータ１６は、液の昇温の目
的ならば、ステンレスヒーターでもかまわない。

【００３１】なお、この他の周辺設備である、配管１
０、フィルタ設備１１、およびポンプ１２は、アルカリ
脱脂槽５の周辺設備で説明したと同様である。

【００３２】図６は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造方法に用いられるハンガーを示す図である。このハ
ンガー９は、これに光ディスク用原盤を取り付けて、各
槽の中に浸漬するのに用いられる。このハンガー９の材
質は、後述する駒１９を除き、ステンレス（ＳＵＳ）に
テフロンをコーティングしたものである。したがって、
薬液からの腐食に耐えられるようになっている。

【００３３】図面上、ハンガー９の上の方には、取っ手
１７が取り付けられている。この取っ手１７は、作業者
が各槽で光ディスク用原盤の処理するときに、ハンガー
を持つのに掴みやすいようにしてある。また、取っ手１
７にはローレットが刻んであり滑り止めとなっている。

【００３４】取っ手１７の中央部には、取っ手１７の長
手方向の直角方向に、シャフト１８が取り付けられてい
る。また図面上、シャフト１８の下の方には、駒１９の
土台である棒状の部材が２本溶接されている。

【００３５】これらの取っ手１７、シャフト１８、およ
び駒１９の土台は、全て円筒形にすることにより、液の
次工程への持ち出しを最小限にしている。なお、洗浄を
長くして液の洗浄を完璧にするならば、シャフトは角棒
でも平板状でもかまわない。

【００３６】駒の土台には、それぞれの両端近くに、駒
１９が設けられている。この駒１９は、ポリプロピレン
樹脂からなっている。それぞれの駒１９には溝があり、
この溝に光ディスク用原盤８を置くことができる。これ
により、ハンガー９が前後左右に揺動された際に、光デ
ィスク用原盤が脱落するのを防止できる。なお、図６の
例では、駒１９を４カ所設けたが、この数に限定される
わけではない。この他に例えば、左右に２カ所と、その
下に１カ所との合計３カ所でもかまわない。

【００３７】つぎに、光ディスク用原盤およびその製造
方法に係る発明の実施の形態について図７および図８を
参照しながら説明する。

【００３８】図７は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造方法の工程のうち、ガラス洗浄・研磨の工程からレ
ジスト除去の工程までを示す図である。図７において、
まず、ガラス洗浄・研磨の工程５１では、ガラス板２０
が洗浄され高精度に研磨される。つぎに、レジスト塗布
・乾燥の工程５２では、ガラス板に記録材であるレジス
ト２１を塗布し、乾燥を行い膜を安定化させる。つぎ
に、記録（カッティング）の工程５３では、レーザビー
ム２２を用いて、ガラス板に塗布したレジスト２１膜
に、情報を記録（カッティング）する。

【００３９】つぎに、現像・導体化前処理の工程５４で
は、レジスト膜に作られた潜像を、現像により顕在化す
ることにより、ピット２３を形成する。また、つぎの導
体化のための前処理を行う。つぎに、導体化の工程５５
では、現像されたレジスト２１膜の表面に、無電解メッ
キ法でニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜を形成することに
より、レジスト膜の表面を導体化する。なお、導体化の
方法は、この方法に限定されるわけではない。例えば、
この他の方法としては、無電解メッキ法（ニッケル、銀
など）と真空中での金属被覆法（蒸着、スパッタリング
など）を採用することができる。

【００４０】つぎに、電鋳の工程５６では、導体化され
た表面に電鋳を行う。すなわち、レジスト２１の上に形
成したニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜２４を陰極とし、
ニッケル（Ｎｉ）を陽極側に配して、ニッケルーリン
（Ｎｉ−Ｐ）膜２４の上にニッケル（Ｎｉ）を析出させ
る。つぎに、光ディスク用原盤剥離の工程５７では、電
鋳により形成された光ディスク用原盤をガラス板２０か
ら剥離する。つぎに、光ディスク用原盤レジスト除去の
工程５８では、ガラス板２０から剥離した光ディスク用
原盤に残っているレジストを除去する。

【００４１】図８は、本発明に係る光ディスク用原盤の
製造方法の工程のうち、レジストが除去された光ディス
ク用原盤の洗浄の工程からエッチングされた光ディスク
用原盤の洗浄の工程までを示す図である。

【００４２】図８において、最初の洗浄の工程６１で
は、まずハンガー９に光ディスク用原盤８を取り付け
る。つぎに、このハンガー９を洗浄槽１の中に入れ、左
右のノズルから洗浄水が均等に当たるようにする。つぎ
に、ペダル１５を踏み、洗浄水がノズルから出たら、ハ
ンガー９を円を描くように回し、６０秒間純水を当て
る。

【００４３】つぎに、アルカリ脱脂の工程６２では、光
ディスク用原盤８の洗浄が終了した後に、光ディスク用
原盤８を取り付けたハンガー９を、アルカリ脱脂槽５の
液中に漬ける。つぎに、光ディスク用原盤８を液中に５
分間漬けて、手で揺動する。ここで、アルカリ剤として
は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）の１０％水溶液を用
いた。アルカリ剤は、この水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）に限定されるわけではない。例えば、水酸化カリウ
ム（ＫＯＨ）など通常用いられるアルカリ剤を数％の水
溶液として採用することができる。つぎの洗浄の工程６
３では、上述した洗浄の工程６１と同様にした。

【００４４】つぎに、中和の工程６４では、光ディスク
用原盤８の洗浄が終了した後に、光ディスク用原盤８を
取り付けたハンガー９を中和槽６の液中に漬ける。つぎ
に、光ディスク用原盤８を液中に１分間漬けて、手で揺
動する。ここで、中和剤としては、硫酸の数％水溶液を
用いた。中和剤は、この硫酸水溶液に限定されるわけで
はない。例えば、塩酸（ＨＣｌ）など通常用いられる無
機酸および有機酸を数％の水溶液として採用することが
できる。つぎの洗浄の工程６５では、上述した洗浄の工
程６１と同様にした。

【００４５】なお、上述したアルカリ脱脂の工程６２と
中和の工程６４の目的は、光ディスク用原盤８の表面の
濡れ性を改善することにある。表面の濡れ性が悪いと、
後に行うエッチング工程で、表面にエッチングされる部
分とされない部分が発生する。したがって、アルカリ脱
脂の工程６２と中和の工程６４の目的は、光ディスク用
原盤の表面を、均一なエッチングが行える状態にするこ
とにある。

【００４６】つぎに、エッチングの工程６６では、光デ
ィスク用原盤８の洗浄が終了した後に、光ディスク用原
盤８を取り付けたハンガー９をエッチング槽７の液中に
漬ける。つぎに、光ディスク用原盤８を液中に３分間漬
けて、手で揺動する。これにより、光ディスク用原盤８
に形成されているニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜が溶解
される。なお、ヒータ１６による加熱は行わずに室温で
エッチングした。ここで、エッチング剤としては、過酸
化水素系のソフトエッチング剤を用いた。この過酸化水
素系のソフトエッチング剤は、光ディスク用原盤の表面
に形成されているニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜のみを
溶解し、光ディスク用原盤の本体であるニッケル（Ｎ
ｉ）膜は溶解しない特徴を持っている。

【００４７】過酸化水素系のソフトエッチング剤は以下
の組成により調整した。ニッケル合金剥離溶液２２容積部（商品名：ＦＮ−１００１またはＦＮ−１０１０、ファシリティー社製）過酸化水素水（３０％）５容積部リン酸水溶液（８５％）２容積部純水７１容積部

【００４８】なお、この過酸化水素系のソフトエッチン
グ剤において、ニッケル合金剥離溶液、過酸化水素水、
およびリン酸水溶液の容積部は上述の値に限定されるわ
けではない。例えば、それぞれの値に対して±５％程度
の範囲を採用することができる。また、エッチングの温
度は上述した室温に限定されるわけではない。すなわ
ち、標準温度を４５℃とし、２０〜６０℃の範囲でエッ
チングを行うことができる。

【００４９】つぎの洗浄の工程６７では、上述した洗浄
の工程６１と同様にした。つぎに、洗浄が終了した光デ
ィスク用原盤を、ハンガーに掛けたまま乾燥した。これ
により、光ディスク用原盤の表面のエッチングが終了す
る。

【００５０】つぎに、上述の方法により得られた光ディ
スク用原盤を用いて、光ディスク用のディスクを成形し
た。これについて説明する。。上述の方法によりエッチ
ングして得られた光ディスク用原盤を、射出成形機の成
形用金型の中に取り付け、通常の方法を用いてポリカー
ボネート樹脂によりディスクを射出成形した。

【００５１】このディスクを、光ディスク用原盤から剥
離すると、ディスクの表面に剥離模様の発生は認められ
なかった。このディスクの表面を顕微鏡で観察しても、
ディスク側のピットの欠けは認められなかった。すなわ
ち、光ディスク用原盤の表面形状を、射出成形される樹
脂に、良好に転写できた。

【００５２】ここで、エッチング後の光ディスク用原盤
の表面を、電子顕微鏡（２万倍）で観察した結果、光デ
ィスク用原盤の表面は、微少な凹凸を有することが確認
された。その凹凸の大きさは、８ｎｍ程度であった。

【００５３】このように、エッチング槽において、光デ
ィスク用原盤の表面をエッチングし、光ディスク用原盤
の表面に微少な凹凸を形成することにより、射出成形さ
れた樹脂は光ディスク用原盤から剥離しやすくなる。す
なわち、光ディスク用原盤の表面状態が改善され、離型
性が向上する。

【００５４】上述の例では、光ディスク用原盤の表面の
凹凸は、８ｎｍのオーダであることを説明したが、この
大きさに限定されるわけではない。すなわち、６ｎｍ〜
２０ｎｍの範囲であればかまわない。６ｎｍより小さい
と、成形樹脂と原盤の密着が強くなり、本発明の効果が
得られないという欠点が生じるからであり、２０ｎｍよ
り大きくなると、信号特性が悪化するという欠点が生じ
るからである。

【００５５】つぎに、光ディスク用原盤の製造装置に係
る発明の実施の形態の他の例について、図９を参照しな
がら説明する。図９は、本発明に係る光ディスク用原盤
の製造装置における、光ディスク用原盤のエッチングに
必要な設備の他の例を示した図である。上述した図１〜
図６においては、手動で表面処理を行う場合の基本的装
置を説明したが、このような枚葉式は、図９に示すよう
に、自動化することができる。なお、搬送装置２６によ
り、図面上、上下および左右に、光ディスク用原盤は移
動される。

【００５６】以上のことから、本発明の実施の形態によ
れば、エッチング槽において、光ディスク用原盤の表面
をエッチングし、光ディスク用原盤の表面に微少な凹凸
を形成することにより、光ディスク用原盤の表面形状
を、射出成形される樹脂に、良好に転写できる。すなわ
ち、ニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜を溶かすことにより
ピットおよびランド部が荒れるので、密着性が改善され
剥離模様が無くなる。また、表層を溶かして落すので、
表面に付着している、不純物（汚れ）が落ち、表面が均
一になるので、エラーが少ない高品質のディスクを作る
ことができる。

【００５７】なお、上述の発明の実施の形態では、ニッ
ケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜を全部溶解させる例について
説明したが、この方法に限定されるわけではない。すな
わち、ニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜のうち一部の厚さ
だけを溶解させることによっても、表面に微少な凹凸を
形成することができるので、本発明の目的を達成するこ
とができる。すなわち、エッチング前の表面の凹凸より
も、エッチング後の表面の凹凸の方が大きければよいこ
とになる。

【００５８】また、上述の発明の実施の形態では、ニッ
ケル（Ｎｉ）膜の上にニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）膜を
設けた光ディスク用原盤の例について説明したが、これ
に限定されるわけではない。すなわち、エッチングによ
り微少な凹凸を形成することができる金属の組み合わせ
であれば、その組み合わせの種類を問わない。例えば、
Ｎｉ−Ａｇ、Ｎｉ−Ｎｉなどの組み合わせを採用するこ
とができる。

【００５９】また、上述の発明の実施の形態では、過酸
化水素系のソフトエッチング剤を用いて、光ディスク用
原盤をエッチングする例について説明したが、これに限
定されるわけではない。すなわち、エッチングにより微
少な凹凸を形成することができるものであれば、どのよ
うな方法も採用することができる。例えば、スパッタエ
ッチングなどの乾式のエッチング法、または通常の湿式
のエッチングなどを採用することができる。

【００６０】また、本発明は上述の実施の形態に限らず
本発明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採
り得ることはもちろんである。

【００６１】

【発明の効果】本発明は、以下に記載されるような効果
を奏する。エッチング槽において、光ディスク用原盤の
表面をエッチングし、光ディスク用原盤の表面に微少な
凹凸を形成することにより、光ディスク用原盤の表面形
状を、射出成形される樹脂に、良好に転写できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置にお
ける、光ディスク用原盤のエッチングに必要な設備とハ
ンガーの一例を示した図である。

【図２】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置に用
いられる、アルカリ脱脂槽およびその周辺設備を示す図
である。

【図３】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置に用
いられる、中和槽およびその周辺設備を示す図である。

【図４】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置に用
いられる、洗浄槽およびその周辺設備を示す図である。

【図５】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置に用
いられる、エッチング槽およびその周辺設備を示す図で
ある。

【図６】本発明に係る光ディスク用原盤の製造方法に用
いられるハンガーを示す図である。

【図７】本発明に係る光ディスク用原盤の製造方法の工
程を示す図である（その１）。

【図８】本発明に係る光ディスク用原盤の製造方法の工
程を示す図である（その２）。

【図９】本発明に係る光ディスク用原盤の製造装置にお
ける、光ディスク用原盤のエッチングに必要な設備の他
の例を示した図である。

【符号の説明】

１，２，３，４‥‥洗浄槽、５‥‥アルカリ脱脂槽、６
‥‥中和槽、７‥‥エッチング槽、８‥‥光ディスク用
原盤、９‥‥ハンガー、１０‥‥配管、１１‥‥フィル
タ設備、１２‥‥ポンプ、１３‥‥シャワーノズル、１
４‥‥電磁バルブ、１５‥‥ペダル、１６‥‥ヒータ、
１７‥‥取っ手、１８‥‥シャフト、１９‥‥駒、２０
‥‥ガラス板、２１‥‥レジスト、２２‥‥レーザビー
ム、２３‥‥ピット、２４‥‥Ｎｉ−Ｐ膜、２５‥‥Ｎ
ｉ膜、２６‥‥運搬装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】射出成形機の成形用金型の中に取り付け
られ、射出成形される樹脂に、その表面の形状を転写する光デ
ィスク用原盤において、光ディスク用原盤の上記表面は、微少な凹凸を有するこ
とを特徴とする光ディスク用原盤。
【請求項２】ガラス板に塗布したレジスト膜に、情報
を記録する第１の工程と、上記レジスト膜に作られた潜像を、現像により顕在化す
る第２の工程と、現像された上記レジスト膜の表面を導体化する第３の工
程と、導体化された上記表面に電鋳を行う第４の工程と、上記電鋳により形成された光ディスク用原盤を剥離した
後に、上記レジストを除去する第５の工程とを含む光デ
ィスク用原盤の製造方法において、上記第５の工程の後に、光ディスク用原盤の表面をエッ
チングする工程を含むことを特徴とする光ディスク用原
盤の製造方法。
【請求項３】（イ）光ディスク用原盤の表面に付着して
いる汚れを取るアルカリ脱脂槽と、（ロ）光ディスク用
原盤の表面に残存しているアルカリ性の付着物を中和す
る中和槽と、（ハ）光ディスク用原盤の表面をエッチン
グするエッチング槽とを含むことを特徴とする光ディス
ク用原盤の製造装置。