JP2000334264A - 排ガス処理方法及び装置 - Google Patents
排ガス処理方法及び装置Info
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- JP2000334264A JP2000334264A JP11152313A JP15231399A JP2000334264A JP 2000334264 A JP2000334264 A JP 2000334264A JP 11152313 A JP11152313 A JP 11152313A JP 15231399 A JP15231399 A JP 15231399A JP 2000334264 A JP2000334264 A JP 2000334264A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応後の吸着剤をガラス原料として使用し、
廃棄物ゼロ化、排ガスの圧力損失の低減を可能とする。 【解決手段】 吸着剤４としてガラス原料を使用し、排
ガスを該吸着剤４に処理槽１内で接触させ、排ガスに含
まれている塩化水素と吸着剤４とを化学反応させ、ガラ
ス原料となる塩素含有物質を生成させる。吸着剤４を充
填する空間４ａを処理室１ｄ内に千鳥掛状に配置された
入口側棚板２と出口側棚板３とで構成した。
廃棄物ゼロ化、排ガスの圧力損失の低減を可能とする。 【解決手段】 吸着剤４としてガラス原料を使用し、排
ガスを該吸着剤４に処理槽１内で接触させ、排ガスに含
まれている塩化水素と吸着剤４とを化学反応させ、ガラ
ス原料となる塩素含有物質を生成させる。吸着剤４を充
填する空間４ａを処理室１ｄ内に千鳥掛状に配置された
入口側棚板２と出口側棚板３とで構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、乾式処理法に属す
る排ガス処理方法及び装置に関する。
る排ガス処理方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、耐熱ガラス製品等を製造
するために、ガラス溶融炉でガラス原料を溶融する過程
で発生する排ガスは、その成分中に有害な塩化水素（Ｈ
Ｃｌ）が含まれているため、これをそのまま大気中に放
出することができず、塩化水素（ＨＣｌ）を除去した後
に排出されている。
するために、ガラス溶融炉でガラス原料を溶融する過程
で発生する排ガスは、その成分中に有害な塩化水素（Ｈ
Ｃｌ）が含まれているため、これをそのまま大気中に放
出することができず、塩化水素（ＨＣｌ）を除去した後
に排出されている。
【０００３】排ガスの処理方法の一に乾式処理法があ
り、さらに、乾式処理法には、排ガス中に吸着剤を噴霧
するか、あるいは吸着剤の中に排ガスを吹き込むかのい
ずれかにより、排ガス中の特定の成分を吸着剤と反応さ
せて除去する方法が主であった。
り、さらに、乾式処理法には、排ガス中に吸着剤を噴霧
するか、あるいは吸着剤の中に排ガスを吹き込むかのい
ずれかにより、排ガス中の特定の成分を吸着剤と反応さ
せて除去する方法が主であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記、従来の排ガス中
に含まれる特定の成分を吸着剤を用いて除去する方法
（乾式処理法）では、排ガスと吸着剤との反応による生
成物は、通常、廃棄処分されていた。例えば、ある種の
ガラス製品の製造において、ガラス溶融炉で発生する排
ガスには塩化水素（ＨＣｌ）が含まれており、塩化水素
（ＨＣｌ）を乾式処理法で除去する場合、反応後の吸着
剤は廃棄されることが前提となっている。一部では、吸
着剤を再生して使用することも行われているが、くり返
し使用されるうちに吸着剤が次第に微粉化して再生が困
難となり、最終的には廃棄されている。
に含まれる特定の成分を吸着剤を用いて除去する方法
（乾式処理法）では、排ガスと吸着剤との反応による生
成物は、通常、廃棄処分されていた。例えば、ある種の
ガラス製品の製造において、ガラス溶融炉で発生する排
ガスには塩化水素（ＨＣｌ）が含まれており、塩化水素
（ＨＣｌ）を乾式処理法で除去する場合、反応後の吸着
剤は廃棄されることが前提となっている。一部では、吸
着剤を再生して使用することも行われているが、くり返
し使用されるうちに吸着剤が次第に微粉化して再生が困
難となり、最終的には廃棄されている。
【０００５】従来の乾式処理法のうち、排ガス中に吸着
剤を噴霧する方法は、排ガスと吸着剤との接触が不完全
となり易いため、処理効率が低く、信頼性に乏しい点で
問題があった。一方、吸着剤の中に排ガスを吹き込む方
法は、吸着剤を配置する領域の前後に、吸着剤の粒径よ
りも目が細かく、通気性を有する濾布や金網等を設置し
て吸着剤が流出しないように担持させているため、排ガ
スの圧力損失が大きいという問題があった。また、排ガ
スと吸着剤との反応が飽和状態に達すると、濾布や金網
等に目詰まりが起き、導入される排ガスの流動性が低下
して処理槽内で排ガスの圧力損失が発生するという問題
があった。この方法では、排ガス処理系統の上流側に排
ガスの圧力損失の影響が及び、ガラス溶融炉の炉内圧に
変動を来たすため、排ガス処理を中断して、飽和状態の
吸着剤を交換する必要があり、排ガスの処理効率を低下
させていた。
剤を噴霧する方法は、排ガスと吸着剤との接触が不完全
となり易いため、処理効率が低く、信頼性に乏しい点で
問題があった。一方、吸着剤の中に排ガスを吹き込む方
法は、吸着剤を配置する領域の前後に、吸着剤の粒径よ
りも目が細かく、通気性を有する濾布や金網等を設置し
て吸着剤が流出しないように担持させているため、排ガ
スの圧力損失が大きいという問題があった。また、排ガ
スと吸着剤との反応が飽和状態に達すると、濾布や金網
等に目詰まりが起き、導入される排ガスの流動性が低下
して処理槽内で排ガスの圧力損失が発生するという問題
があった。この方法では、排ガス処理系統の上流側に排
ガスの圧力損失の影響が及び、ガラス溶融炉の炉内圧に
変動を来たすため、排ガス処理を中断して、飽和状態の
吸着剤を交換する必要があり、排ガスの処理効率を低下
させていた。
【０００６】本発明は、上記従来技術の問題に鑑みて提
案されたものであって、その目的とするところは、排ガ
スと反応した後の吸着剤をガラス原料として使用して、
廃棄物のゼロ化を図り、かつ、排ガスの圧力損失の低減
を可能とする排ガス処理方法及び排ガス処理装置を提供
することにある。
案されたものであって、その目的とするところは、排ガ
スと反応した後の吸着剤をガラス原料として使用して、
廃棄物のゼロ化を図り、かつ、排ガスの圧力損失の低減
を可能とする排ガス処理方法及び排ガス処理装置を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の排ガス処理方法
は、ガラス溶融炉から排出される排ガスに含まれる塩化
水素（ＨＣｌ）を吸着剤で排ガス中から分離除去する排
ガス処理方法において、吸着剤としてガラス原料を使用
し、排ガスを吸着剤に接触させ、排ガス中の塩化水素
（ＨＣｌ）と吸着剤とを化学反応させてガラス原料とな
る塩素含有物質を生成させることを特徴とするものであ
る。この方法によれば、排ガスと反応後の吸着剤をガラ
ス原料として使用することができ、廃棄物ゼロ化を図る
ことができる。
は、ガラス溶融炉から排出される排ガスに含まれる塩化
水素（ＨＣｌ）を吸着剤で排ガス中から分離除去する排
ガス処理方法において、吸着剤としてガラス原料を使用
し、排ガスを吸着剤に接触させ、排ガス中の塩化水素
（ＨＣｌ）と吸着剤とを化学反応させてガラス原料とな
る塩素含有物質を生成させることを特徴とするものであ
る。この方法によれば、排ガスと反応後の吸着剤をガラ
ス原料として使用することができ、廃棄物ゼロ化を図る
ことができる。
【０００８】また、本発明の排ガス処理方法は、吸着剤
として炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ 3 ）を使用したこと
を特徴とする。この方法によれば、排ガス中に含まれる
塩化水素（ＨＣｌ）を吸着剤に接触させて、ＨＣｌ＋Ｎ
ａ2 ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏの化学反応に
より、塩素（Ｃｌ）を含有するガラス原料である塩化ナ
トリウム（ＮａＣｌ）を生成させ、他の生成物は電気集
塵機等により容易に除去あるいは無害化処理することが
できる。
として炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ 3 ）を使用したこと
を特徴とする。この方法によれば、排ガス中に含まれる
塩化水素（ＨＣｌ）を吸着剤に接触させて、ＨＣｌ＋Ｎ
ａ2 ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏの化学反応に
より、塩素（Ｃｌ）を含有するガラス原料である塩化ナ
トリウム（ＮａＣｌ）を生成させ、他の生成物は電気集
塵機等により容易に除去あるいは無害化処理することが
できる。
【０００９】また、本発明の排ガス処理装置は、排ガス
を導入する入口と、排ガスを排出する出口とを有し、排
ガスの入口側に、排ガスの通過間隙を隔てて上下方向に
多段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かっ
て下向きに傾斜した入口側棚板と、排ガスの出口側に、
入口側棚板と対向して排ガスの通過間隙を隔てて上下方
向に多段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向
かって上向きに傾斜した出口側棚板と、入口側棚板と出
口側棚板とによって内部を仕切られ、外部から導入した
排ガスを入口側棚板の排ガスの通過間隙から出口側棚板
の排ガスの通過間隙を通過させて外部へ排出する処理槽
と、処理槽内で入口側棚板と出口側棚板との間に形成さ
れる空間に充填された吸着剤とを備え、入口側棚板と出
口側棚板とを上下方向に位置をずらせて千鳥掛状に配置
したことを特徴とする。この構成によれば、吸着剤がジ
グザグ運動をしながら流下するため、排ガスと吸着剤と
の接触域を大きくすることができ、吸着剤の吸着性能を
十分に発揮させることができる。
を導入する入口と、排ガスを排出する出口とを有し、排
ガスの入口側に、排ガスの通過間隙を隔てて上下方向に
多段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かっ
て下向きに傾斜した入口側棚板と、排ガスの出口側に、
入口側棚板と対向して排ガスの通過間隙を隔てて上下方
向に多段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向
かって上向きに傾斜した出口側棚板と、入口側棚板と出
口側棚板とによって内部を仕切られ、外部から導入した
排ガスを入口側棚板の排ガスの通過間隙から出口側棚板
の排ガスの通過間隙を通過させて外部へ排出する処理槽
と、処理槽内で入口側棚板と出口側棚板との間に形成さ
れる空間に充填された吸着剤とを備え、入口側棚板と出
口側棚板とを上下方向に位置をずらせて千鳥掛状に配置
したことを特徴とする。この構成によれば、吸着剤がジ
グザグ運動をしながら流下するため、排ガスと吸着剤と
の接触域を大きくすることができ、吸着剤の吸着性能を
十分に発揮させることができる。
【００１０】さらに、本発明の排ガス処理装置は、入口
側棚板と出口側棚板とで形成される空間の下部から吸着
剤を一定量ずつ取出す吸着剤取出し手段と、前記空間の
上部から吸着剤を供給する吸着剤供給手段とを備えてい
ることを特徴とする。この構成により、吸着剤を一定時
間毎に一定量ずつ交換して吸着性能を保持するので、排
ガス処理装置の長期間連続運転を可能とすることができ
る。
側棚板と出口側棚板とで形成される空間の下部から吸着
剤を一定量ずつ取出す吸着剤取出し手段と、前記空間の
上部から吸着剤を供給する吸着剤供給手段とを備えてい
ることを特徴とする。この構成により、吸着剤を一定時
間毎に一定量ずつ交換して吸着性能を保持するので、排
ガス処理装置の長期間連続運転を可能とすることができ
る。
【００１１】また、本発明の排ガス処理装置は、吸着剤
取出し手段によって取出された吸着剤を再生して吸着剤
供給手段に供給する吸着剤循環手段を備えていることを
特徴とする。この構成によって、吸着剤の反復使用が可
能となり、処理コストの低減が図れる。
取出し手段によって取出された吸着剤を再生して吸着剤
供給手段に供給する吸着剤循環手段を備えていることを
特徴とする。この構成によって、吸着剤の反復使用が可
能となり、処理コストの低減が図れる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面を参
照して詳細に説明する。
照して詳細に説明する。
【００１３】図１は本発明の排ガス処理装置の概略図で
あって、１は処理槽、２は入口側棚板、３は出口側棚
板、４は吸着剤、５は吸着剤取出し手段、６は吸着剤供
給手段、７は吸着剤循環手段、８は微粒子分離手段をそ
れぞれ示している。
あって、１は処理槽、２は入口側棚板、３は出口側棚
板、４は吸着剤、５は吸着剤取出し手段、６は吸着剤供
給手段、７は吸着剤循環手段、８は微粒子分離手段をそ
れぞれ示している。
【００１４】処理槽１は、角筒状をなし、上端が天板１
ａで閉じられ、下部に角錐状の排出ホッパー部１ｂが連
設され、中間底板１ｃで内部が上下に仕切られて複数の
空間が形成されている。天板１ａと中間底板１ｃとの間
の空間を処理室１ｄとし、処理室１ｄの入口側に排ガス
導入管１ｅが、出口側に排ガス排出管１ｆがそれぞれ接
続されている。
ａで閉じられ、下部に角錐状の排出ホッパー部１ｂが連
設され、中間底板１ｃで内部が上下に仕切られて複数の
空間が形成されている。天板１ａと中間底板１ｃとの間
の空間を処理室１ｄとし、処理室１ｄの入口側に排ガス
導入管１ｅが、出口側に排ガス排出管１ｆがそれぞれ接
続されている。
【００１５】入口側棚板２と出口側棚板３は、処理槽１
の処理室１ｄ内を入口側と出口側とに仕切るように対向
して設置されており、入口側棚板２と出口側棚板３との
間に吸着剤４を充填する空間４ａが形成されている。
の処理室１ｄ内を入口側と出口側とに仕切るように対向
して設置されており、入口側棚板２と出口側棚板３との
間に吸着剤４を充填する空間４ａが形成されている。
【００１６】図１及び図２（Ｂ）に示すように、入口側
棚板２は、排ガスの通過間隙ｇ1 を隔てて上下方向に多
段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かって
下向きに傾斜した状態で取付けられている。
棚板２は、排ガスの通過間隙ｇ1 を隔てて上下方向に多
段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かって
下向きに傾斜した状態で取付けられている。
【００１７】出口側棚板３は、入口側棚板２に対向して
配置され、排ガスの通過間隙ｇ2 を隔てて上下方向に多
段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かって
上向きに傾斜した状態で取付けられている。そして、入
口側棚板２と出口側棚板３とは、上下方向に位置をずら
せて千鳥掛状に配置されている。入口側棚板２の排ガス
通過間隙ｇ1 と、出口側棚板３の排ガス通過間隙ｇ2 と
は、同一でもよく、異ならせてもよい。出口側棚板３の
排ガスの流動方向下流側の端部には吸着剤４の外部流出
を防止するために、通気性を有する濾布や金網等からな
る吸着剤流出防止手段９が張設されている。
配置され、排ガスの通過間隙ｇ2 を隔てて上下方向に多
段配置され、各段が排ガスの流動方向下流側に向かって
上向きに傾斜した状態で取付けられている。そして、入
口側棚板２と出口側棚板３とは、上下方向に位置をずら
せて千鳥掛状に配置されている。入口側棚板２の排ガス
通過間隙ｇ1 と、出口側棚板３の排ガス通過間隙ｇ2 と
は、同一でもよく、異ならせてもよい。出口側棚板３の
排ガスの流動方向下流側の端部には吸着剤４の外部流出
を防止するために、通気性を有する濾布や金網等からな
る吸着剤流出防止手段９が張設されている。
【００１８】吸着剤４は、所定の粒径を有するガラス原
料であって、入口側棚板２と出口側棚板３との間に形成
される空間４ａに充填される。本発明で使用する吸着剤
４は、排ガス中の塩化水素（ＨＣｌ）と反応し、塩素
（Ｃｌ）を含有するガラス原料を生成させるものであれ
ばよく、例えば、ソーダ灰とも称される炭酸ナトリウム
（Ｎａ2 ＣＯ3 ）が使用できる。
料であって、入口側棚板２と出口側棚板３との間に形成
される空間４ａに充填される。本発明で使用する吸着剤
４は、排ガス中の塩化水素（ＨＣｌ）と反応し、塩素
（Ｃｌ）を含有するガラス原料を生成させるものであれ
ばよく、例えば、ソーダ灰とも称される炭酸ナトリウム
（Ｎａ2 ＣＯ3 ）が使用できる。
【００１９】吸着剤取出し手段５は、処理槽１内の中間
底板１ｃの下部に設置され、処理室１ｄ内の入口側棚板
２と出口側棚板３との間に形成される空間４ａの下部に
取付けられたロータリーバルブ５ａと、排出ホッパー部
１ｂの下部出口に取付けられた排出バルブ５ｂとで構成
されている。ロータリーバルブ５ａは、図２（Ａ）に示
すように、外周に、シール面５ａ0 と、適当数（図は２
個の場合を例示）の計量凹部５ａ1 とが形成された円柱
形回転部材５ａ2 と、図２（Ｂ）に示すように、円筒形
のバルブケーシング５ａ3 とを備えている。バルブケー
シング５ａ3 は、上部に空間４ａの下部に連通する入口
開口５ａ4 を、下部に出口開口５ａ5 をそれぞれ備えて
おり、バルブケーシング５ａ3 内に円柱形回転部材５ａ
2 が回転可能に挿入され、バルブケーシング５ａ3 の入
口開口５ａ4 から計量凹部５ａ1に流入した吸着剤４
を、円柱形回転部材５ａ2 をモータ等のアクチュエータ
（図示省略）で一定時間毎に回転させて、出口開口５ａ
5 から排出ホッパー部１ｂに取出すように制御される。
また、図１に示す排出バルブ５ｂは、ロータリーバルブ
５ａと同様の構成からなり、処理室１ｄからの排ガスの
漏洩を防止するため、ロータリーバルブ５ａとは異なる
時点で開閉し、排出ホッパー部１ｂに取出された吸着剤
４を下方に排出するものである。
底板１ｃの下部に設置され、処理室１ｄ内の入口側棚板
２と出口側棚板３との間に形成される空間４ａの下部に
取付けられたロータリーバルブ５ａと、排出ホッパー部
１ｂの下部出口に取付けられた排出バルブ５ｂとで構成
されている。ロータリーバルブ５ａは、図２（Ａ）に示
すように、外周に、シール面５ａ0 と、適当数（図は２
個の場合を例示）の計量凹部５ａ1 とが形成された円柱
形回転部材５ａ2 と、図２（Ｂ）に示すように、円筒形
のバルブケーシング５ａ3 とを備えている。バルブケー
シング５ａ3 は、上部に空間４ａの下部に連通する入口
開口５ａ4 を、下部に出口開口５ａ5 をそれぞれ備えて
おり、バルブケーシング５ａ3 内に円柱形回転部材５ａ
2 が回転可能に挿入され、バルブケーシング５ａ3 の入
口開口５ａ4 から計量凹部５ａ1に流入した吸着剤４
を、円柱形回転部材５ａ2 をモータ等のアクチュエータ
（図示省略）で一定時間毎に回転させて、出口開口５ａ
5 から排出ホッパー部１ｂに取出すように制御される。
また、図１に示す排出バルブ５ｂは、ロータリーバルブ
５ａと同様の構成からなり、処理室１ｄからの排ガスの
漏洩を防止するため、ロータリーバルブ５ａとは異なる
時点で開閉し、排出ホッパー部１ｂに取出された吸着剤
４を下方に排出するものである。
【００２０】吸着剤供給手段６は、処理槽１の上部に設
置され、処理槽１内の入口側棚板２と出口側棚板３との
間に形成される空間４ａの上部から吸着剤４を供給する
ためのもので、図１では、上下方向のシュート６ａと供
給バルブ６ｂとで構成した場合を示している。
置され、処理槽１内の入口側棚板２と出口側棚板３との
間に形成される空間４ａの上部から吸着剤４を供給する
ためのもので、図１では、上下方向のシュート６ａと供
給バルブ６ｂとで構成した場合を示している。
【００２１】吸着剤循環手段７は、排出ホッパー部１ｂ
から取出した吸着剤４を吸着剤供給手段６に輸送するた
めのものであって、図１では、排出ホッパー部１ｂの下
部に設置した吸着剤受け容器７ａと、吸着剤受け容器７
ａから吸着剤供給手段６に向けて吸着剤４を輸送する空
気輸送管７ｂとで構成した場合を示している。
から取出した吸着剤４を吸着剤供給手段６に輸送するた
めのものであって、図１では、排出ホッパー部１ｂの下
部に設置した吸着剤受け容器７ａと、吸着剤受け容器７
ａから吸着剤供給手段６に向けて吸着剤４を輸送する空
気輸送管７ｂとで構成した場合を示している。
【００２２】微粒子分離手段８は、吸着剤循環手段７に
よって吸着剤供給手段６に輸送される吸着剤４の中から
微粒子化した吸着剤４を分離するためのものであって、
図１では、吸着剤供給手段６のシュート６ａの上部に設
置されたサイクロン８ａと、サイクロン８ａの中心上部
から微粒子吸引管８ｂを介して微粒子化した吸着剤４を
吸引するブロワー８ｃとで構成した場合を示しており、
吸着剤循環手段７の空気輸送管７ｂの先端を、微粒子分
離手段８のサイクロン８ａに接線方向から吸着剤４を流
入させるように接続している。また、ブロワー８ｃの排
出管８ｄは、処理槽１の排ガス排出管１ｆに合流させ
て、微粒子化した吸着剤４を排ガスと共に後続の電気集
塵機等により集塵浄化処理させるようにしている。
よって吸着剤供給手段６に輸送される吸着剤４の中から
微粒子化した吸着剤４を分離するためのものであって、
図１では、吸着剤供給手段６のシュート６ａの上部に設
置されたサイクロン８ａと、サイクロン８ａの中心上部
から微粒子吸引管８ｂを介して微粒子化した吸着剤４を
吸引するブロワー８ｃとで構成した場合を示しており、
吸着剤循環手段７の空気輸送管７ｂの先端を、微粒子分
離手段８のサイクロン８ａに接線方向から吸着剤４を流
入させるように接続している。また、ブロワー８ｃの排
出管８ｄは、処理槽１の排ガス排出管１ｆに合流させ
て、微粒子化した吸着剤４を排ガスと共に後続の電気集
塵機等により集塵浄化処理させるようにしている。
【００２３】本発明の排ガス処理装置は以上の構成から
なり、次にその動作を説明する。例えば、ガラス溶融炉
で発生する排ガスは、煙道を通り送風機等（図示省略）
によって排ガス導入管１ｅを経て処理槽１内へ導入され
る。処理槽１内に導入された排ガスは、処理室１ｄ内に
設けられた入口側棚板２の排ガス通過間隙ｇ1 から空間
４ａに流入した後、排ガス中に含まれる塩化水素（ＨＣ
ｌ）が吸着剤４と接触して化学反応し、一部の成分はガ
ラス原料となる塩素（Ｃｌ）を含有する物質となり、他
の成分は出口側棚板３の排ガス通過間隙ｇ2 から排ガス
排出管１ｆを経て外部に排出される。吸着剤取出し手段
５は、吸着剤４の吸着性能が飽和状態に達する前に吸着
剤４の交換を行うため、一定時間毎にロータリーバルブ
５ａが回転するように制御され、これにより、空間４ａ
内に充填された吸着剤４が下部から一定量ずつ排出ホッ
パー部１ｂに取出される。この古い吸着剤４の取出しと
同時に、吸着剤供給手段６のシュート６ａから新しい吸
着剤４が空間４ａの上部から補充される。吸着剤取出し
手段５の取出しに連動して、微粒子分離手段８のブロワ
ー８ｃが駆動され、サイクロン８ａ内を減圧する。これ
により、吸着剤循環手段７の空気輸送管７ｂを通じて吸
着剤受け容器７ａ内の吸着剤４が吸引空気流により輸送
され、サイクロン８ａ内に接線方向から吸入されて旋回
運動する。サイクロン８ａ内では、比重の大きい、即
ち、粒径の大きい吸着剤４はサイクロン８ａの外周側に
遠心分離されてサイクロン８ａ内に滞留し、比重の小さ
い、即ち、微粒子化した吸着剤４はサイクロン８ａの中
心付近を旋回し、中心上部の微粒子吸引管８ｂから吸引
されてブロワー８ｃの排出管８ｄを経て処理槽１の排ガ
ス排出管１ｆ内の排ガスと合流し、後続の電気集塵機等
により捕集され、回収される。吸着剤４は、吸着剤循環
手段７の空気輸送管７ｂでサイクロン８ａに輸送される
際に、吸着剤４同士の衝突や摩擦によって、表面の吸着
成分が分離される。そして、吸着剤４から分離された成
分は、サイクロン８ａ内でサイクロン８ａの中心上部の
微粒子吸引管８ｂから微粒子化された吸着剤４と共に吸
引されて回収される。微粒子分離手段８のブロワー８ｃ
の駆動は、吸着剤供給手段６のシュート６ａ内の吸着剤
４の滞留量によって、例えば、吸着剤４が一定レベルに
なるように供給バルブ６ｂの開閉と併行して行われる。
また、吸着剤取出し手段５の排出バルブ５ｂは、排出ホ
ッパー部１ｂ内の吸着剤４の滞留量によって開閉制御さ
れる。
なり、次にその動作を説明する。例えば、ガラス溶融炉
で発生する排ガスは、煙道を通り送風機等（図示省略）
によって排ガス導入管１ｅを経て処理槽１内へ導入され
る。処理槽１内に導入された排ガスは、処理室１ｄ内に
設けられた入口側棚板２の排ガス通過間隙ｇ1 から空間
４ａに流入した後、排ガス中に含まれる塩化水素（ＨＣ
ｌ）が吸着剤４と接触して化学反応し、一部の成分はガ
ラス原料となる塩素（Ｃｌ）を含有する物質となり、他
の成分は出口側棚板３の排ガス通過間隙ｇ2 から排ガス
排出管１ｆを経て外部に排出される。吸着剤取出し手段
５は、吸着剤４の吸着性能が飽和状態に達する前に吸着
剤４の交換を行うため、一定時間毎にロータリーバルブ
５ａが回転するように制御され、これにより、空間４ａ
内に充填された吸着剤４が下部から一定量ずつ排出ホッ
パー部１ｂに取出される。この古い吸着剤４の取出しと
同時に、吸着剤供給手段６のシュート６ａから新しい吸
着剤４が空間４ａの上部から補充される。吸着剤取出し
手段５の取出しに連動して、微粒子分離手段８のブロワ
ー８ｃが駆動され、サイクロン８ａ内を減圧する。これ
により、吸着剤循環手段７の空気輸送管７ｂを通じて吸
着剤受け容器７ａ内の吸着剤４が吸引空気流により輸送
され、サイクロン８ａ内に接線方向から吸入されて旋回
運動する。サイクロン８ａ内では、比重の大きい、即
ち、粒径の大きい吸着剤４はサイクロン８ａの外周側に
遠心分離されてサイクロン８ａ内に滞留し、比重の小さ
い、即ち、微粒子化した吸着剤４はサイクロン８ａの中
心付近を旋回し、中心上部の微粒子吸引管８ｂから吸引
されてブロワー８ｃの排出管８ｄを経て処理槽１の排ガ
ス排出管１ｆ内の排ガスと合流し、後続の電気集塵機等
により捕集され、回収される。吸着剤４は、吸着剤循環
手段７の空気輸送管７ｂでサイクロン８ａに輸送される
際に、吸着剤４同士の衝突や摩擦によって、表面の吸着
成分が分離される。そして、吸着剤４から分離された成
分は、サイクロン８ａ内でサイクロン８ａの中心上部の
微粒子吸引管８ｂから微粒子化された吸着剤４と共に吸
引されて回収される。微粒子分離手段８のブロワー８ｃ
の駆動は、吸着剤供給手段６のシュート６ａ内の吸着剤
４の滞留量によって、例えば、吸着剤４が一定レベルに
なるように供給バルブ６ｂの開閉と併行して行われる。
また、吸着剤取出し手段５の排出バルブ５ｂは、排出ホ
ッパー部１ｂ内の吸着剤４の滞留量によって開閉制御さ
れる。
【００２４】吸着剤４として炭酸ナトリウム（Ｎａ2 Ｃ
Ｏ3 ）を使用した場合は、処理槽１内では、ＨＣｌ＋Ｎ
ａ2 ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏの化学反応に
より、排ガスに含まれる塩化水素（ＨＣｌ）を、塩素
（Ｃｌ）を含有するガラス原料である塩化ナトリウム
（ＮａＣｌ）として分離することができ、他の生成物
は、排ガスと共に後続の電気集塵機等により容易に除去
あるいは無害化処理することができる。
Ｏ3 ）を使用した場合は、処理槽１内では、ＨＣｌ＋Ｎ
ａ2 ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏの化学反応に
より、排ガスに含まれる塩化水素（ＨＣｌ）を、塩素
（Ｃｌ）を含有するガラス原料である塩化ナトリウム
（ＮａＣｌ）として分離することができ、他の生成物
は、排ガスと共に後続の電気集塵機等により容易に除去
あるいは無害化処理することができる。
【００２５】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、排ガス中の成
分と吸着剤との反応により生じた生成物をガラス原料と
して使用することができ、廃棄物ゼロ化を図ることがで
きる。
分と吸着剤との反応により生じた生成物をガラス原料と
して使用することができ、廃棄物ゼロ化を図ることがで
きる。
【００２６】請求項２の発明によれば、ＨＣｌ＋Ｎａ2
ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2Ｏの化学反応によ
り、塩化水素（ＨＣｌ）をガラス原料である塩化ナトリ
ウム（ＮａＣｌ）として分離することができ、他の生成
物は、排ガスと共に電気集塵機等により容易に除去ある
いは無害化処理することができる。
ＣＯ3 →２ＮａＣｌ＋ＣＯ2 ＋Ｈ2Ｏの化学反応によ
り、塩化水素（ＨＣｌ）をガラス原料である塩化ナトリ
ウム（ＮａＣｌ）として分離することができ、他の生成
物は、排ガスと共に電気集塵機等により容易に除去ある
いは無害化処理することができる。
【００２７】請求項３の発明によれば、吸着剤のブリッ
ジ現象による目詰まりを防止して、吸着剤をスムーズに
流下させることができるため、吸着剤が反応熱で団塊状
にならず、排ガスの通気妨害を排除することができる。
この結果、排ガスの圧力損失を低減することができ、ガ
ラス溶融炉の操業条件に変動を来すことがない。
ジ現象による目詰まりを防止して、吸着剤をスムーズに
流下させることができるため、吸着剤が反応熱で団塊状
にならず、排ガスの通気妨害を排除することができる。
この結果、排ガスの圧力損失を低減することができ、ガ
ラス溶融炉の操業条件に変動を来すことがない。
【００２８】請求項４の発明によれば、吸着剤を一定時
間毎に一定量ずつ交換するため、排ガスと吸着剤との反
応が促進され、排ガス処理装置を長期間連続して運転す
ることが可能となる。
間毎に一定量ずつ交換するため、排ガスと吸着剤との反
応が促進され、排ガス処理装置を長期間連続して運転す
ることが可能となる。
【００２９】請求項５の発明によれば、吸着剤の反復使
用が可能となり、排ガス処理コストの低減が図れる。特
に、吸着剤として炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ3 ）を使
用すると、排ガスと吸着剤との反応により生成する物質
は塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）であり、塩化ナトリウム
（ＮａＣｌ）は、吸着剤取出し手段で取出して自然放冷
させるだけで微粒子状に晶出し、サイクロン等によって
吸着剤から容易に分離され、微粒子化した吸着剤と共に
回収することができるため、特別な吸着剤再生手段が不
要である。
用が可能となり、排ガス処理コストの低減が図れる。特
に、吸着剤として炭酸ナトリウム（Ｎａ2 ＣＯ3 ）を使
用すると、排ガスと吸着剤との反応により生成する物質
は塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）であり、塩化ナトリウム
（ＮａＣｌ）は、吸着剤取出し手段で取出して自然放冷
させるだけで微粒子状に晶出し、サイクロン等によって
吸着剤から容易に分離され、微粒子化した吸着剤と共に
回収することができるため、特別な吸着剤再生手段が不
要である。
【図１】本発明の実施例を示す排ガス処理装置の概略
図。
図。
【図２】（Ａ）はロータリーバルブを構成する回転部材
の側面図、（Ｂ）は入口側棚板と出口側棚板の配置状態
及びロータリーバルブのバルブケーシングとの関係を示
す側面説明図。
の側面図、（Ｂ）は入口側棚板と出口側棚板の配置状態
及びロータリーバルブのバルブケーシングとの関係を示
す側面説明図。
１ 処理槽 １ａ 天板 １ｂ 排出ホッパー部 １ｃ 中間底板 １ｄ 処理室 １ｅ 排ガス導入管 １ｆ 排ガス排出管 ２ 入口側棚板 ３ 出口側棚板 ４ 吸着剤 ４ａ 空間 ５ 吸着剤取出し手段 ５ａ ロータリーバルブ ５ｂ 排出バルブ ６ 吸着剤供給手段 ６ａ シュート ７ 吸着剤循環手段 ７ａ 吸着剤受け容器 ７ｂ 空気輸送管 ８ 微粒子分離手段 ８ａ サイクロン ８ｂ 微粒子吸引管 ８ｃ ブロワー ８ｄ 排出管 ９ 吸着剤流出防止手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 米生 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 (72)発明者 田中 義郎 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA19 AC10 BA03 BA04 BA14 CA08 CA20 DA02 DA16 FA04 GA02 GA03 GB04 GB06 GB20 HA10
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス溶融炉から排出される排ガスに含
まれる塩化水素を吸着剤で吸着して排ガス中から分離除
去する排ガス処理方法において、 吸着剤としてガラス原料を使用し、前記排ガスを該吸着
剤に接触させ、前記排ガス中の塩化水素と吸着剤とを化
学反応させてガラス原料となる塩素含有物質を生成させ
ることを特徴とする排ガス処理方法。 - 【請求項２】 吸着剤として炭酸ナトリウムを使用した
ことを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法。 - 【請求項３】 排ガスを導入する入口と、排ガスを排出
する出口とを有し、排ガスの入口側に、排ガスの通過間
隙を隔てて上下方向に多段配置され、各段が排ガスの流
動方向下流側に向かって下向きに傾斜した入口側棚板
と、排ガスの出口側に、前記入口側棚板と対向して排ガ
スの通過間隙を隔てて上下方向に多段配置され、各段が
排ガスの流動方向下流側に向かって上向きに傾斜した出
口側棚板と、前記入口側棚板と出口側棚板とによって内
部を仕切られ、外部から導入した排ガスを前記入口側棚
板の排ガスの通過間隙から前記出口側棚板の排ガスの通
過間隙を通過させて外部へ排出する処理槽と、該処理槽
内で前記入口側棚板と前記出口側棚板との間に形成され
る空間に充填された吸着剤とを備え、前記入口側棚板と
前記出口側棚板とを上下方向に位置をずらせて千鳥掛状
に配置したことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項４】 入口側棚板と出口側棚板とで形成される
空間の下部から吸着剤を一定量ずつ取出す吸着剤取出し
手段と、前記空間の上部から吸着剤を供給する吸着剤供
給手段とを備えていることを特徴とする請求項３に記載
の排ガス処理装置。 - 【請求項５】 吸着剤取出し手段によって取出された吸
着剤を再生して吸着剤供給手段に供給する吸着剤循環手
段を備えていることを特徴とする請求項４に記載の排ガ
ス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11152313A JP2000334264A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 排ガス処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11152313A JP2000334264A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 排ガス処理方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000334264A true JP2000334264A (ja) | 2000-12-05 |
Family
ID=15537803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11152313A Withdrawn JP2000334264A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 排ガス処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000334264A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051948A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Mitsui Chemical Analysis & Consulting Service Inc | 気体の分析方法および容器 |
| KR20220118112A (ko) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | 주식회사 엔바이온 | 유동층 흡착 장치 |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP11152313A patent/JP2000334264A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051948A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Mitsui Chemical Analysis & Consulting Service Inc | 気体の分析方法および容器 |
| KR20220118112A (ko) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | 주식회사 엔바이온 | 유동층 흡착 장치 |
| WO2022177065A1 (ko) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | 주식회사 엔바이온 | 유동층 흡착 장치 |
| KR102484059B1 (ko) * | 2021-02-18 | 2023-01-04 | 주식회사 엔바이온 | 유동층 흡착 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |