JP2000332063A - Manufacture of film carrier tape for electronic component mounting and warpage reduction device of the tape - Google Patents

Manufacture of film carrier tape for electronic component mounting and warpage reduction device of the tape

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JP2000332063A
JP2000332063A JP11142302A JP14230299A JP2000332063A JP 2000332063 A JP2000332063 A JP 2000332063A JP 11142302 A JP11142302 A JP 11142302A JP 14230299 A JP14230299 A JP 14230299A JP 2000332063 A JP2000332063 A JP 2000332063A
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JP
Japan
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tape
film carrier
carrier tape
warpage
film
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JP11142302A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihito Nishiyama
西山才人
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce warpage of a film carrier tape by bringing a film carrier tape into contact with a heating roll shape capable of giving reverse wapage and, by quenching it thereafter. SOLUTION: A film carrier tape 1 provided with a solder resist layer as a wiring circuit pattern and a protection insulating layer is fed to a base film tape formed by sticking an adhesive layer to an insulation film, such as a polyimide film at a prescribed velocity from a reel fixed to a feed device 2. The fed film carrier tape 1 is brought into contact with a heating roll 3 shaped capable of giving reverse warpage. It is quenched from this state and is contracted again, and the film carrier tape 1 is made flat. Thereby, warpage of the film carrier tape 1 can be reduced rapidly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体ICやLSI
の実装に使用されている電子部品実装用フィルムキャリ
アテープの製造方法及び該テープの反り低減装置に関
し、特に、絶縁保護層としてソルダーレジストを塗布し
たフィルムキャリアテープの反りを低減できるフィルム
キャリアテープの製造方法及び該テープの反り低減装置
に関する。
The present invention relates to a semiconductor IC and an LSI.
The present invention relates to a method for manufacturing a film carrier tape for mounting electronic components and a device for reducing the warpage of the tape used for mounting the device, and more particularly to manufacturing a film carrier tape capable of reducing the warpage of a film carrier tape coated with a solder resist as an insulating protective layer. The present invention relates to a method and an apparatus for reducing warpage of the tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】TAB(Tape Automated
Bonding)テープ、BGA(Ball Grid
Array)用テープ、CSP(Chip Size P
ackage)用テープはいずれもIC、LSI等を基
板に実装するためのフィルムキャリアテープであり、ポ
リイミドフィルム等の絶縁性フィルム表面に銅などの導
電性材料で配線が施されたものである。配線パターン側
の表面は通常、インナーリード等の端子部分を除いた必
要部分に絶縁保護層として、エポキシ系樹脂等のソルダ
ーレジスト層が施されている。端子部分は通常、スズメ
ッキや金メッキが施されている。
2. Description of the Related Art TAB (Tape Automated)
Bonding) tape, BGA (Ball Grid)
Array tape, CSP (Chip Size P)
Each of the wrapping tapes is a film carrier tape for mounting an IC, an LSI, or the like on a substrate, and is obtained by wiring a conductive material such as copper on the surface of an insulating film such as a polyimide film. Usually, on the surface on the wiring pattern side, a solder resist layer such as an epoxy resin is applied as an insulating protective layer to necessary portions except for terminal portions such as inner leads. The terminal portion is usually plated with tin or gold.

【0003】TAB方式では、上記TABテープのイン
ナーリードと、ICチップ上の対応する電極とを金等の
バンプを介してギャングボンディング接合等の方法(I
nner Lead Bonding)で接続する。IC
チップを接続したTABテープは次にICチップの保護
のためエポキシ系樹脂等でポッティングやトランスファ
モールドにより樹脂封止され、樹脂は加熱硬化される。
一方、TABテープのアウターリードは、異方性導電
膜、ハンダ付け等によりプリント基板に熱圧着または接
続される(Outer Lead Bonding)。
In the TAB method, the inner leads of the TAB tape and the corresponding electrodes on the IC chip are connected to each other on a method such as gang bonding via bumps such as gold.
Nner Lead Bonding). IC
The TAB tape to which the chip is connected is then sealed with an epoxy resin or the like by potting or transfer molding to protect the IC chip, and the resin is cured by heating.
On the other hand, the outer leads of the TAB tape are thermocompression-bonded or connected to a printed board by an anisotropic conductive film, soldering, or the like (Outer Lead Bonding).

【0004】BGA用テープについてはインナーリード
ボンディングから樹脂封止まではTABテープと共通の
場合が多いが、アウターリードボンディングの代わり
に、ICチップのピン数に等しい数のハンダボールをマ
トリックス状に配列し、これらを介してプリント基板と
の接続を行うところが異なっている。ハンダボール接続
のため、ソルダーレジスト層にはピッチ0.5〜2.0
mmで2次元に配列した100〜800μmΦの微小孔
が必要である。配線ピッチはアウターリードボンディン
グよりも粗く、しかも、よりピン数の多いICに対応で
きるため近年急激に採用が増えつつある。
The BGA tape is often the same as the TAB tape from the inner lead bonding to the resin sealing. However, instead of the outer lead bonding, a number of solder balls equal to the number of pins of the IC chip are arranged in a matrix. And the connection to the printed circuit board via these. For solder ball connection, the solder resist layer has a pitch of 0.5 to 2.0.
Micropores of 100 to 800 μmΦ arranged two-dimensionally in mm are required. The wiring pitch is coarser than that of the outer lead bonding, and can be used for an IC having a larger number of pins.

【0005】CSP用テープは、ICの接続はインナー
リードボンディングの他S字リード型接続(USP53
98863)等により行われ、文字どおりICチップの
サイズと同等まで小型化された実装材料であるが、アウ
ターリードボンディングの代わりにハンダボール接続を
行う点はBGAと共通である。
[0005] In the CSP tape, the connection of the IC is performed by inner lead bonding and S-shaped lead type connection (USP53).
98863) and the like, and the mounting material is literally reduced in size to the size of the IC chip, but is similar to the BGA in that solder ball connection is performed instead of outer lead bonding.

【0006】BGA用テープ及びCSP用テープは、従
来のTABテープとほぼ同じ工程、材料により製造する
ことができる。TABテープ、BGA用テープ、CSP
用テープ共、テープ幅は35mm〜96mmが一般的で
あり、テープ厚みとしては、樹脂フィルムは20〜75
μm、銅層厚みは12〜35μmが多く用いられてい
る。
[0006] A BGA tape and a CSP tape can be manufactured by substantially the same steps and materials as a conventional TAB tape. TAB tape, BGA tape, CSP
In general, the tape width is 35 mm to 96 mm, and the thickness of the resin film is 20 to 75 mm.
μm and a copper layer thickness of 12 to 35 μm are often used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの従来
の製造方法によって得られたTABテープ、BGA用テ
ープ等のフィルムキャリアテープは、ポリイミドフィル
ム等の絶縁フィルム、接着剤層、銅箔及びソルダーレジ
スト等の材料の熱膨張率の差や、ソルダーレジストの硬
化収縮に起因して、ソルダーレジスト塗布側に凹状の反
りが生ずる。
However, film carrier tapes such as TAB tapes and BGA tapes obtained by these conventional manufacturing methods include insulating films such as polyimide films, adhesive layers, copper foils and solder resists. Due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the materials such as the above, and the curing shrinkage of the solder resist, a concave warpage occurs on the solder resist application side.

【0008】ここで発生する反りはその後の製品完成ま
で続く工程において除去することができないばかりか、
さらに反りが増す傾向にある。このような製品はTAB
テープにおいてはアウターリードボンディングの際、位
置合わせや作業性に大きく悪影響を与える。また、BG
A用テープにおいてはICのインナーリードボンディン
グから補強等のためのスティフナー接着までの実装段階
においてインナーリードの切れ、封止樹脂の割れ等の支
障が生じる。
[0008] The warpage generated here cannot be removed not only in the subsequent process until the product is completed,
Warpage tends to further increase. Such products are TAB
In the case of the outer lead bonding, the tape greatly affects the positioning and workability. Also, BG
In the tape for A, troubles such as breakage of the inner lead and cracking of the sealing resin occur in the mounting stage from the inner lead bonding of the IC to the stiffener bonding for reinforcement and the like.

【0009】従来、フィルムキャリアテープの反り防止
方法として次のような手段が開示されている。ソルダー
レジストとして、加熱硬化収縮の少ないポリイミド系樹
脂を使用する。TAB用フィルムキャリアのパターン面
をふくらませるようにわん曲して遠赤外炉内を通し、炉
内のヒータで加熱する(特許第2816841号)。
Conventionally, the following means have been disclosed as a method for preventing warpage of a film carrier tape. As the solder resist, a polyimide resin with little heat-curing shrinkage is used. The TAB film carrier is curved so as to inflate the pattern surface thereof, passes through a far-infrared furnace, and is heated by a heater in the furnace (Japanese Patent No. 2816841).

【0010】しかし、上記(1)のポリイミド系樹脂は
銅等の導体表面との密着性が従来のエポキシ系樹脂より
もやや劣るため、ソルダーレジスト塗布パターンの狭幅
化、微小孔形成等には対応が困難である。特許第250
9509号ではポリイミド系樹脂及びエポキシ系樹脂を
フィルムキャリアテープの部分によって使い分けしてお
り、工程が煩雑である。また、上記(2)ではフィルム
キャリアテープの幅方向の反りは低減されるが長尺方向
の反りに対しては効果がない。また、上記(2)は遠赤
外炉中で加熱する必要があるためフィルムキャリアテー
プ自体の温度が必要な温度に達するためにはある程度の
時間を要し、従って装置も充分な長さが必要となる。ま
た、既存の加熱炉を改造するか、新たな加熱炉を従来の
加熱工程以降の適切な部分において設置する必要があ
る。
However, the polyimide resin of the above (1) is slightly inferior to the conventional epoxy resin in adhesion to the conductor surface such as copper. Therefore, the polyimide resin is not suitable for narrowing the solder resist coating pattern and forming micropores. It is difficult to respond. Patent No. 250
In No. 9509, a polyimide resin and an epoxy resin are selectively used depending on the portion of the film carrier tape, and the process is complicated. In the above (2), warpage in the width direction of the film carrier tape is reduced, but there is no effect on warpage in the long direction. In the above (2), since it is necessary to heat in a far-infrared furnace, it takes a certain amount of time for the temperature of the film carrier tape itself to reach a required temperature. Becomes In addition, it is necessary to modify an existing heating furnace or to install a new heating furnace at an appropriate part after the conventional heating step.

【0011】従って、本発明の目的は、ソルダーレジス
トの密着性、ソルダーレジスト層の狭幅化、微小孔等の
ファインパターン適用性を低下させることなく、また、
簡便な装置により、フィルムキャリアテープの反りを低
減し、IC実装組立時にインナーリードの切れ、封止樹
脂の割れ等の支障が生じない、またプリント基板への実
装時に位置合わせ不良等の生じないフィルムキャリアテ
ープの製造方法および該テープの反り低減装置を提供す
ることにある。
[0011] Accordingly, an object of the present invention is to provide a solder resist having good adhesiveness, narrowing of a solder resist layer, applicability of a fine pattern such as a fine hole, and the like.
A simple device that reduces the warpage of the film carrier tape, does not cause problems such as breakage of inner leads and cracks in the sealing resin during IC mounting and assembly, and does not cause misalignment when mounting on a printed circuit board. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a carrier tape and an apparatus for reducing warpage of the tape.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記目的
を達成すべく研究した結果、フィルムキャリアテープ
を、逆反りを付与することのできる形状の加熱ロールに
接触させ、その後急冷することにより該テープの反りを
著しく改善させる方法および該テープの反り低減装置を
見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of research conducted to achieve the above object, the present inventors have found that a film carrier tape is brought into contact with a heating roll having a shape capable of imparting reverse warpage, and then rapidly cooled. As a result, a method for remarkably improving the warpage of the tape and a device for reducing the warpage of the tape have been found, and the present invention has been completed.

【0013】すなわち、本発明のフィルムキャリアテー
プの製造方法は、絶縁フィルム表面に導体配線パターン
が形成され、その配線パターンのうちデバイス等に接続
される端子部分を除く部分にソルダーレジストが塗布さ
れたフィルムキャリアテープを、逆反りを付与すること
のできる形状の加熱ロールに接触させ、その後急冷する
ことにより該テープの反りを低減することを特徴とする
ものである。また、本発明のフィルムキャリアテープの
反り低減装置は、リールに巻回されたフィルムキャリア
テープを送出するための送出装置、該テープに逆反りを
付与しながら加熱するための加熱ロール、冷却装置、及
び巻取装置からなることを特徴とするものである。
That is, in the method for manufacturing a film carrier tape of the present invention, a conductor wiring pattern is formed on the surface of an insulating film, and a solder resist is applied to a portion of the wiring pattern except for a terminal portion connected to a device or the like. The present invention is characterized in that the film carrier tape is brought into contact with a heating roll having a shape capable of imparting reverse warpage, and thereafter, the tape is rapidly cooled to reduce the warpage of the tape. Further, the device for reducing the warpage of the film carrier tape of the present invention is a delivery device for delivering a film carrier tape wound on a reel, a heating roll for applying heat while applying reverse warpage to the tape, a cooling device, And a winding device.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に本発明のフィルムキャリア
テープの製造方法および該テープの反り低減装置を添付
図を用いて詳しく説明する。図1は、フィルムキャリア
テープの反りを低減するための装置を示す。図1におい
て、1はフィルムキャリアテープである。2は前記テー
プがリールに巻かれた送出装置である。3は前記テープ
に逆反りを付与することのできる形状の加熱ロールであ
る。4は加熱処理された前記テープをリールに巻き取る
ための巻取装置である。5は加熱ロールの表面温度を制
御するために電圧または電流を制御する制御装置であ
り、6は加熱ロールに電力を供給する電源である。7
は、前記テープを急速に冷却するための冷却装置であ
る。尚、図には示していないが、送出装置と加熱ロール
の間や加熱ロールと巻取装置との間にガイドロールを取
り付けてフィルムキャリアテープの位置を安定化させる
ようにしても良い。図2はフィルムキャリアテープに逆
反りを付与することのできる形状の加熱ロール3の正面
図を示す。フィルムキャリアテープは加熱ロールに沿っ
て幅方向に逆反りが付与される。また、加熱ロールをフ
ィルムキャリアテープの高さよりも高く設定し、フィル
ムキャリアテープを加熱ロールに沿って移送することに
より長尺方向にも逆反りを付与することもできる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a film carrier tape and an apparatus for reducing the warpage of the tape according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows an apparatus for reducing the warpage of a film carrier tape. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a film carrier tape. Reference numeral 2 denotes a delivery device in which the tape is wound on a reel. Reference numeral 3 denotes a heating roll having a shape capable of imparting reverse warpage to the tape. Reference numeral 4 denotes a winding device for winding the heat-treated tape on a reel. Reference numeral 5 denotes a control device that controls voltage or current to control the surface temperature of the heating roll, and 6 denotes a power supply that supplies power to the heating roll. 7
Is a cooling device for rapidly cooling the tape. Although not shown in the drawings, a guide roll may be attached between the sending device and the heating roll or between the heating roll and the winding device to stabilize the position of the film carrier tape. FIG. 2 shows a front view of a heating roll 3 having a shape capable of imparting reverse warpage to the film carrier tape. The film carrier tape is provided with a reverse warp in the width direction along the heating roll. Further, by setting the heating roll higher than the height of the film carrier tape and transferring the film carrier tape along the heating roll, reverse warpage can also be imparted in the longitudinal direction.

【0015】このような構成を有する反り低減装置は、
例えばソルダーレジスト加熱硬化後、あるいは端子部分
をスズメッキ、金メッキ等のメッキ処理した後等に設け
ることができる。フィルムキャリアテープの反りは主に
ソルダーレジストの加熱硬化後に発生するが、その後の
工程においても反りが増す傾向にあるため、端子部分の
メッキ処理後等の加熱工程が終了した段階でこのような
反り低減装置を設けることが好適である。
The warp reducing device having such a configuration is as follows.
For example, it can be provided after the solder resist is cured by heating, or after the terminal portion is plated with tin plating, gold plating, or the like. The warpage of the film carrier tape mainly occurs after the heat curing of the solder resist, but the warpage tends to increase in the subsequent steps. It is preferred to provide a reduction device.

【0016】次に、本発明のフィルムキャリアテープの
製造方法について説明する。図1において、ポリイミド
フィルム等の絶縁フィルムに接着剤層を貼着したベース
フィルムテープに、配線回路パターンおよび保護絶縁層
としてソルダーレジスト層が設けられたフィルムキャリ
アテープ1を、送出装置2に取り付けられたリールから
所定の速度で送り出す。送り出されたフィルムキャリア
テープ1を、逆反りを付与することのできる形状の加熱
ロール3に接触させる。フィルムキャリアテープ1は加
熱ロール3に接触することにより逆反りが強制的に付与
された状態で加熱されるためソルダーレジスト層が軟化
し、逆反りの状態で伸びるように塑性変形する。そのた
め、この状態から急冷却したときに再び収縮し、フィル
ムキャリアテープがフラットな状態となる。加熱ロール
の例は図2に示されるように、軸方向断面は中央部が高
く、両端が低く湾曲となっている。軸方向断面はフィル
ムキャリアテープ1に幅方向に4〜80度の角度の逆反
りを付与するように設計されている。
Next, a method for producing the film carrier tape of the present invention will be described. In FIG. 1, a film carrier tape 1 provided with a wiring circuit pattern and a solder resist layer as a protective insulating layer is attached to a base film tape in which an adhesive layer is adhered to an insulating film such as a polyimide film, and the film carrier tape is attached to a sending device 2. At a predetermined speed from the reel. The fed film carrier tape 1 is brought into contact with a heating roll 3 having a shape capable of imparting reverse warpage. The film carrier tape 1 is heated in a state in which the reverse warpage is forcibly applied by contacting the heating roll 3, so that the solder resist layer is softened and plastically deforms to extend in the reverse warp state. Therefore, when the film carrier is rapidly cooled from this state, it contracts again, and the film carrier tape becomes flat. As shown in FIG. 2, in the example of the heating roll, the axial section is high at the center and low at both ends and curved. The axial cross section is designed so that the film carrier tape 1 is provided with a reverse warp of 4 to 80 degrees in the width direction.

【0017】加熱ロールの湾曲の曲率半径は、テープ幅
等の条件によって決められ、ソルダーレジスト層厚や塗
布面積等により該テープ反りの程度も異なるためこれら
の条件も勘案して決定され、5〜50cmのRとする。
また、加熱ロールの直径は中心部分で5〜30cm、好
ましくは10〜20cmとする。加熱ロールの直径を変
化させることによりフィルムキャリアテープと加熱ロー
ルとの接触時間を制御することができ、フィルムキャリ
アテープの条件が変わった場合も反り低減効果の大きい
条件を選択することが可能である。
The radius of curvature of the curvature of the heating roll is determined by conditions such as tape width and the like, and the degree of tape warpage varies depending on the thickness of the solder resist layer and the application area, and is determined in consideration of these conditions. Let R be 50 cm.
The diameter of the heating roll is 5 to 30 cm at the central portion, preferably 10 to 20 cm. By changing the diameter of the heating roll, the contact time between the film carrier tape and the heating roll can be controlled, and even when the conditions of the film carrier tape change, it is possible to select a condition with a large warp reduction effect. .

【0018】加熱ロールの温度は通常80〜160℃、
特に100〜140℃とすることが好ましい。加熱ロー
ルの温度が80℃よりも低いと、接触したフィルムキャ
リアテープ1の温度が上がらず、上記の反り低減効果が
十分でない。逆に160℃よりも高いと、フィルムキャ
リアテープ1の接着剤層の接着特性が低下する等、フィ
ルムキャリアテープ1の構成材料に影響を及ぼすことが
あるため好ましくない。加熱ロールは、制御装置5に接
続されており、制御装置5によって、電源6から供給す
る電圧または電流を制御することによって、加熱ロール
表面の温度が制御されている。また、フィルムキャリア
テープ1が加熱ロールを接触通過する速度は、用いたテ
ープの厚みやソルダーレジストの種類若しくは層厚にも
よるが、通常0.5〜10m/分、特に1.3〜2.2
m/分の速度が好ましい。尚、加熱ロールの材質は例え
ばステンレス鋼、チタン等が適用できる。このように加
熱ロールに接触しつつ通過したフィルムキャリアテープ
1を、ファンまたは冷却用ロール等の冷却手段を取り付
けた冷却装置7によって強制冷却した後、巻取装置4の
リールに巻き取る。上記の方法によってフィルムキャリ
アテープの反りを低減することが可能である。
The temperature of the heating roll is usually 80 to 160 ° C.,
Particularly, the temperature is preferably set to 100 to 140 ° C. When the temperature of the heating roll is lower than 80 ° C., the temperature of the contacted film carrier tape 1 does not rise, and the above-described effect of reducing the warpage is not sufficient. Conversely, if the temperature is higher than 160 ° C., the constituent materials of the film carrier tape 1 may be adversely affected, for example, the adhesive properties of the adhesive layer of the film carrier tape 1 may be deteriorated. The heating roll is connected to the control device 5, and the temperature of the surface of the heating roll is controlled by controlling the voltage or current supplied from the power supply 6 by the control device 5. The speed at which the film carrier tape 1 contacts and passes through the heating roll depends on the thickness of the tape used and the type or layer thickness of the solder resist, but is usually 0.5 to 10 m / min, particularly 1.3 to 2. 2
A speed of m / min is preferred. The material of the heating roll can be, for example, stainless steel, titanium, or the like. The film carrier tape 1 that has passed while contacting the heating roll in this way is forcibly cooled by a cooling device 7 equipped with cooling means such as a fan or a cooling roll, and then wound around a reel of a winding device 4. By the above method, it is possible to reduce the warpage of the film carrier tape.

【0019】[0019]

【実施例】本発明を実施例によりさらに具体的に説明す
るが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【実施例1】まず、本発明のフィルムキャリアテープの
製造方法の例を示す。テープ幅48mm、厚さ75μm
のポリイミドフィルム(商品名:ユーピレックスS、宇
部興産(株)製)にシート状のエポキシ系接着剤(商品
名:X、巴川製紙(株)製)を熱圧着により貼り合せたベ
ースフィルムテープに、パンチングによりスプロケット
ホールその他の開口部を形成した。このベースフィルム
テープに厚さ15μm、幅43mmの電解銅箔(商品
名:FQ−VLP、三井金属鉱業(株)製)を積層し、オ
ーブン中で160℃、10時間加熱した。ラミネート後
の前記テープを、定法に従って、感光性フォトレジスト
の塗布、回路パターン露光、現像及び銅エッチングを行
い、銅回路パターンを形成した。
Embodiment 1 First, an example of a method for manufacturing a film carrier tape of the present invention will be described. Tape width 48mm, thickness 75μm
A base film tape obtained by laminating a sheet-like epoxy-based adhesive (trade name: X, manufactured by Hamakawa Paper Co., Ltd.) to a polyimide film (trade name: UPIREX S, manufactured by Ube Industries, Ltd.) by thermocompression bonding. Sprocket holes and other openings were formed by punching. Electrolytic copper foil (trade name: FQ-VLP, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) having a thickness of 15 μm and a width of 43 mm was laminated on this base film tape, and heated in an oven at 160 ° C. for 10 hours. The laminated tape was subjected to application of a photosensitive photoresist, exposure to a circuit pattern, development, and copper etching according to a standard method, to form a copper circuit pattern.

【0020】このように銅回路パターンが形成された上
に、アルカリ現像型ソルダーレジスト(商品名:FOC
US COAT DPR−3FG、(株)アサヒ化学研究所
製)をスクリーン印刷機を使用して、必要な部分に乾燥
厚さ20〜30μmとなるように印刷した。印刷後オー
ブンにてプレキュアを行った後、前記テープに露光機を
用いて紫外線を照射し、露光部と非露光部を形成した。
After the copper circuit pattern is formed as described above, an alkali development type solder resist (trade name: FOC)
US COAT DPR-3FG (manufactured by Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd.) was printed on a required portion to a dry thickness of 20 to 30 μm using a screen printer. After pre-curing in an oven after printing, the tape was irradiated with ultraviolet light using an exposure machine to form an exposed portion and a non-exposed portion.

【0021】次に、露光後のテープを炭酸ソーダ1%溶
液を用いて現像し、得られたテープをオーブン(商品
名:Cleanspec 楠本化成(株)製)にて排気し
ながら150℃で60分間、ポストキュアした。
Next, the exposed tape is developed with a 1% sodium carbonate solution, and the obtained tape is evacuated in an oven (trade name: Cleanspec Kusumoto Kasei Co., Ltd.) at 150 ° C. for 60 minutes while evacuating. , Post cure.

【0022】次に、得られたテープをメッキ層に移行さ
せ、テープのソルダーレジストが塗工されていない露出
した銅箔表面部分に厚さ0.5μmのSnメッキを施し
た。
Next, the resulting tape was transferred to a plating layer, and 0.5 μm thick Sn plating was applied to the exposed copper foil surface portion where the solder resist was not applied.

【0023】このようにして得られたフィルムキャリア
テープ1を送出装置2のリールに巻回し、図1に示され
るフィルムキャリアテープの反りを低減させるための装
置(加熱ロールを含む)を用いて処理を行った。加熱ロ
ール3の湾曲の曲率はRが25であり、直径は5cmで
ある。フィルムキャリアテープ1の送り出し速度は1.
8m/分であり、加熱ロールとの接触長さは6cm、接
触時間は2秒であった。その後フィルムキャリアテープ
を急冷却し、加熱ロールよりも2m進行したところで巻
取装置4によりフィルムキャリアテープ1を巻き取っ
た。
The film carrier tape 1 thus obtained is wound around a reel of a delivery device 2 and processed using a device (including a heating roll) for reducing the warpage of the film carrier tape shown in FIG. Was done. The curvature R of the heating roll 3 is 25, and the diameter is 5 cm. The feeding speed of the film carrier tape 1 is 1.
The contact length with the heating roll was 6 cm, and the contact time was 2 seconds. Thereafter, the film carrier tape was rapidly cooled, and the film carrier tape 1 was wound up by the winding device 4 when the film carrier tape was advanced by 2 m from the heating roll.

【0024】このようにして処理されたテープの反り量
の測定を以下のようにして行った。測定機として寸法測
定機能付き顕微鏡(商品名:Measuring Fi
neScope MF−100(株)ミツトヨ製)を用
い、測定サンプルは実施例1で得られた個片(1回路単
位に切り離したサンプル)を用いた。
The warpage of the thus treated tape was measured as follows. Microscope with dimension measurement function (trade name: Measuring Fi)
NeScope MF-100 (manufactured by Mitutoyo Corporation) was used, and the individual sample obtained in Example 1 (sample cut into one circuit unit) was used as a measurement sample.

【0025】先ず測定サンプルを測定機のテーブル上に
ベースフィルム面を上にして置いた。次に、テーブル面
を基準位置(0mm)にして、デバイスホール部の湾曲
した高さを測定した。
First, the measurement sample was placed on a table of a measuring machine with the base film face up. Next, with the table surface as a reference position (0 mm), the curved height of the device hole was measured.

【0026】反りの高さは寸法測定機能付き顕微鏡によ
り、図3に示されるように、予めテープの長尺方向の4
ヶ所に測定点を定めておき、その測定点に焦点を合わせ
ることにより高さを測定し、得られた高さを反り量とし
た。
As shown in FIG. 3, the height of the warpage is measured in advance in the longitudinal direction of the tape as shown in FIG.
Measurement points were defined at three places, and the height was measured by focusing on the measurement points, and the obtained height was defined as the amount of warpage.

【0027】[0027]

【実施例2】ベースフィルムテープとしてテープ幅48
mm、厚さ75μmのポリイミドフィルム(商品名:ユ
ーピレックスS、宇部興産(株)製)に接着剤を介さずに
厚さ18μmの銅層を形成した積層フィルムテープ(商
品名:S‘PERFLEX、住友金属鉱山(株)製)を使
用した。この積層フィルムテープにパンチングによりス
プロケットホールを形成し、さらにエキシマレーザーに
よりデバイスホールを形成し、ホール内に残存した残渣
をデスミア処理によって除去した。
Example 2 Tape width 48 as base film tape
Multilayer film tape (trade name: S'PERFLEX, Sumitomo) formed by forming an 18 μm thick copper layer on a polyimide film (trade name: Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd.) having a thickness of 75 μm and a thickness of 75 μm without using an adhesive Metal Mining Co., Ltd.) was used. Sprocket holes were formed in this laminated film tape by punching, device holes were formed by excimer laser, and residues remaining in the holes were removed by desmear treatment.

【0028】このようにして得られたテープに定法に従
って銅回路パターンを形成した後、実施例1と全く同様
の手順で、半導体IC用フィルムキャリアテープを作成
した。このようにして得られた半導体IC用フィルムキ
ャリアテープについて実施例1と全く同様にして反り量
を求めた。これらの得られた結果を表1に示す。
After a copper circuit pattern was formed on the thus obtained tape in accordance with a conventional method, a film carrier tape for a semiconductor IC was prepared in exactly the same procedure as in Example 1. The warpage of the film carrier tape for semiconductor IC thus obtained was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the obtained results.

【0029】[0029]

【比較例1】比較として、実施例1と全く同様にして作
製されたフィルムキャリアテープを本発明の反り低減処
理を行わずに、実施例1と全く同様にして反り量を求め
た。これらの得られた結果を表1に併せて示す。
Comparative Example 1 For comparison, the amount of warpage of a film carrier tape produced in exactly the same manner as in Example 1 was determined in the same manner as in Example 1 without performing the warp reduction treatment of the present invention. The results obtained are shown in Table 1.

【0030】[0030]

【比較例2】比較として、接着剤を介さずに銅層を形成
した積層フィルムテープを使用し、実施例2と全く同様
にして反り量を求めた。これらの得られた結果を表1に
併せて示す。
Comparative Example 2 For comparison, the amount of warpage was determined in exactly the same manner as in Example 2 except that a laminated film tape having a copper layer formed without an adhesive was used. The results obtained are shown in Table 1.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明のフィルムキャリアテープの製造
方法によれば、フィルムキャリアテープを加熱ロールで
直接に加熱し、逆反りを付与することができるため簡単
な工程で、極めて迅速に、フィルムキャリアテープの反
りを低減することができる。また、該テープの幅方向の
みならず、長尺方向の反りをも低減することができる。
本発明により、IC実装組立時にインナーリードの切
れ、封止樹脂の割れ等の支障が生じない、また、プリン
ト基板との位置合わせ不良による接続不良が生じないフ
ィルムキャリアテープの製造が可能となる。また、該テ
ープの反り低減装置によれば、極めてコンパクトな装置
によって短時間で効果的にフィルムキャリアテープの反
りを低減することができる。本発明により、IC実装組
立時にインナーリードの切れ、封止樹脂の割れ等の支障
が生じない、また、プリント基板との位置合わせ不良に
よる接続不良が生じないフィルムキャリアテープの製造
が可能となる。
According to the method for producing a film carrier tape of the present invention, the film carrier tape can be directly heated by a heating roll and can be imparted with reverse warpage. The warpage of the tape can be reduced. In addition, it is possible to reduce not only the tape in the width direction but also the warp in the long direction.
According to the present invention, it is possible to manufacture a film carrier tape which does not cause problems such as breakage of inner leads and cracking of a sealing resin at the time of IC mounting and assembly, and does not cause connection failure due to poor alignment with a printed circuit board. Further, according to the tape warpage reducing device, the warpage of the film carrier tape can be effectively reduced in a short time by an extremely compact device. According to the present invention, it is possible to manufacture a film carrier tape which does not cause problems such as breakage of inner leads and cracking of a sealing resin at the time of IC mounting and assembly, and does not cause connection failure due to poor alignment with a printed circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の、フィルムキャリアテープの反りを除
去するための工程を模式的に示した正面図。
FIG. 1 is a front view schematically showing a process for removing warpage of a film carrier tape according to the present invention.

【図2】本発明の、フィルムキャリアテープに逆反りを
付与しながら加熱するためのロール3の正面図。
FIG. 2 is a front view of a roll 3 of the present invention for heating a film carrier tape while imparting reverse warpage.

【図3】フィルムキャリアテープの反りの測定点。FIG. 3 shows measurement points of warpage of the film carrier tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:フィルムキャリアテープ、2:送出装置、3:加熱
ロール、4:巻取装置、5:制御装置、6:電源、7:
冷却装置
1: film carrier tape, 2: feeding device, 3: heating roll, 4: winding device, 5: control device, 6: power supply, 7:
Cooling system

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁フィルム表面に導体配線パターンが形
成され、その配線パターンのうちデバイス等に接続され
る端子部分を除く部分にソルダーレジストが塗布された
フィルムキャリアテープを、逆反りを付与することので
きる形状の加熱ロールに接触させ、その後急冷すること
により該テープの反りを低減することを特徴とする前記
フィルムキャリアテープの製造方法。
1. A film carrier tape in which a conductor wiring pattern is formed on the surface of an insulating film, and a solder resist is applied to a portion of the wiring pattern other than a terminal portion connected to a device or the like, and a reverse warpage is applied to the film carrier tape. The method for producing a film carrier tape according to claim 1, wherein the tape is reduced by contacting with a heating roll having a shape capable of forming the film, followed by rapid cooling.
【請求項2】リールに巻回されたフィルムキャリアテー
プを送出するための送出装置、該テープに逆反りを付与
しながら加熱するための加熱ロール、冷却装置、及び巻
取装置からなることを特徴とする前記フィルムキャリア
テープの反り低減装置。
2. A feeding device for feeding a film carrier tape wound on a reel, a heating roll for heating the tape while applying a reverse warp to the tape, a cooling device, and a winding device. The device for reducing warpage of a film carrier tape described above.
【請求項3】前記送出装置から送出されたテープに逆反
りを付与しながら加熱するための加熱ロールが樽状であ
ることを特徴とする請求項第2項記載の前記フィルムキ
ャリアテープの反り低減装置。
3. The film carrier tape according to claim 2, wherein the heating roll for heating the tape delivered from the delivery device while giving a reverse warp is barrel-shaped. apparatus.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001095386A2 (en) * 2000-06-08 2001-12-13 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for correcting warp of semiconductor carrier tape
US7017636B2 (en) 2002-03-22 2006-03-28 Seiko Epson Corporation Apparatus for manufacturing an electronic device, method of manufacturing an electronic device, and program for manufacturing an electronic device
CN113495438A (en) * 2020-03-19 2021-10-12 卡西欧计算机株式会社 Molding device, method for manufacturing molded article, and transport device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001095386A2 (en) * 2000-06-08 2001-12-13 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for correcting warp of semiconductor carrier tape
WO2001095386A3 (en) * 2000-06-08 2002-04-11 3M Innovative Properties Co Apparatus and method for correcting warp of semiconductor carrier tape
US7017636B2 (en) 2002-03-22 2006-03-28 Seiko Epson Corporation Apparatus for manufacturing an electronic device, method of manufacturing an electronic device, and program for manufacturing an electronic device
US7410826B2 (en) 2002-03-22 2008-08-12 Seiko Epson Corporation Apparatus for manufacturing an electronic device, method of manufacturing an electronic device, and program for manufacturing an electronic device
CN113495438A (en) * 2020-03-19 2021-10-12 卡西欧计算机株式会社 Molding device, method for manufacturing molded article, and transport device

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