JP2000331386A - 光ディスク基板の変形検査方法 - Google Patents
光ディスク基板の変形検査方法Info
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/268—Post-production operations, e.g. initialising phase-change recording layers, checking for defects
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ディスク基板の変形を検査することができ
る変形検査方法を提供する。 【解決手段】 光ディスク基板２の変形検査方法に関す
る。光ディスク基板２にストライプフィルタ４の像を投
影し、光ディスク基板２からの反射像を目盛り５ａ付き
の検査板５を通して目視することにより光ディスク基板
２の変形を検査することを特徴とする。
る変形検査方法を提供する。 【解決手段】 光ディスク基板２の変形検査方法に関す
る。光ディスク基板２にストライプフィルタ４の像を投
影し、光ディスク基板２からの反射像を目盛り５ａ付き
の検査板５を通して目視することにより光ディスク基板
２の変形を検査することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＤ、ＤＶＤ等の
光ディスクを製造する際の成形直後の透明基板等の光デ
ィスク基板の変形検査方法に関する。
光ディスクを製造する際の成形直後の透明基板等の光デ
ィスク基板の変形検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＣＤ、ＤＶＤ等の光ディスクの変
形は、チルト測定装置等を用いて光ディスクの反射膜か
らの反射光を用いて、検査していた。
形は、チルト測定装置等を用いて光ディスクの反射膜か
らの反射光を用いて、検査していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の方法では、ディスク回転用のスピンドルが必
要であるため、スピンドル近傍の検査が困難であるとい
う問題があった。
うな従来の方法では、ディスク回転用のスピンドルが必
要であるため、スピンドル近傍の検査が困難であるとい
う問題があった。
【０００４】また、従来の方法では、反射膜からの反射
光を用いて測定するので、成形直後の透明基板の変形を
測定することができなかった。
光を用いて測定するので、成形直後の透明基板の変形を
測定することができなかった。
【０００５】また、反射膜を蒸着した後に、測定するの
で、光ディスクの透明基板を成形した後の蒸着工程等の
工程が無駄になるという問題もあった。
で、光ディスクの透明基板を成形した後の蒸着工程等の
工程が無駄になるという問題もあった。
【０００６】そこで、本発明は、光ディスク基板の変形
を検査することができる変形検査方法を提供することを
その目的とする。
を検査することができる変形検査方法を提供することを
その目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１の発明は、光ディスク基板の変形検査方法に
おいて、前記光ディスク基板に所定パターンのチャート
の像を投影し、光ディスク基板からの反射像を検査板を
通して目視することにより光ディスク基板の変形を検査
することを特徴とする光ディスク基板の変形検査方法で
ある。この構成では、光ディスク基板の変形を光ディス
クを回転させることなく検査することができるので、デ
ィスク回転用のスピンドルが不要であり、スピンドル近
傍の検査も可能であるという利点がある。
に請求項１の発明は、光ディスク基板の変形検査方法に
おいて、前記光ディスク基板に所定パターンのチャート
の像を投影し、光ディスク基板からの反射像を検査板を
通して目視することにより光ディスク基板の変形を検査
することを特徴とする光ディスク基板の変形検査方法で
ある。この構成では、光ディスク基板の変形を光ディス
クを回転させることなく検査することができるので、デ
ィスク回転用のスピンドルが不要であり、スピンドル近
傍の検査も可能であるという利点がある。
【０００８】また、光ディスク基板の表面にチャート像
を投影し、光ディスク基板表面からの反射光により検査
するので、反射膜からの反射光を用いる必要がなく、成
形直後の光ディスク基板の変形を検査することができ
る。
を投影し、光ディスク基板表面からの反射光により検査
するので、反射膜からの反射光を用いる必要がなく、成
形直後の光ディスク基板の変形を検査することができ
る。
【０００９】また、成形直後の光ディスク基板の変形を
検査することができるので、変形の大きい光ディスク基
板を除去することができ、変形の大きい光ディスク基板
に後工程を行うことを防止でき、生産効率が向上すると
いう利点がある。
検査することができるので、変形の大きい光ディスク基
板を除去することができ、変形の大きい光ディスク基板
に後工程を行うことを防止でき、生産効率が向上すると
いう利点がある。
【００１０】また、請求項２の発明は、請求項１に記載
の光ディスク基板の変形検査方法において、前記光ディ
スク基板は、成形直後の光ディスク基板であることを特
徴としている。
の光ディスク基板の変形検査方法において、前記光ディ
スク基板は、成形直後の光ディスク基板であることを特
徴としている。
【００１１】また、請求項３の発明は、請求項１又は２
に記載の光ディスク基板の変形検査方法において、前記
チャートはストライプフィルターであることを特徴とし
ている。
に記載の光ディスク基板の変形検査方法において、前記
チャートはストライプフィルターであることを特徴とし
ている。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係わ
る光ディスク基板の変形検査方法を説明するための図で
ある。
を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態に係わ
る光ディスク基板の変形検査方法を説明するための図で
ある。
【００１３】図１に示すように、コンベア等の搬送手段
１上を搬送されてくる光ディスク基板、本実施形態では
成形直後のＤＶＤの片側ディスク基板としての光ディス
ク基板２上に平行光源３で照射されたチャートであるス
トライプフィルタ４の透過像を投影し、光ディスク基板
２上面で反射された反射像を目盛り５ａが付いた検査板
５を通して目視することにより、変形パターンと変形と
を検査することができる。
１上を搬送されてくる光ディスク基板、本実施形態では
成形直後のＤＶＤの片側ディスク基板としての光ディス
ク基板２上に平行光源３で照射されたチャートであるス
トライプフィルタ４の透過像を投影し、光ディスク基板
２上面で反射された反射像を目盛り５ａが付いた検査板
５を通して目視することにより、変形パターンと変形と
を検査することができる。
【００１４】図２はストライプフィルタを用いた場合に
おける光ディスク基板の変形パターンを説明するための
図であり、（Ａ）は完全平面の場合の光ディスク基板上
のパターンを示す図、（Ｂ）は（Ａ）のパターンに対応
する光ディスク基板断面図、（Ｃ）は凸おわん形変形の
場合の光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｄ）は
（Ｃ）のパターンに対応する光ディスク基板断面図、
（Ｅ）は凹おわん形変形の場合の光ディスク基板上のパ
ターンを示す図、（Ｆ）は（Ｅ）のパターンに対応する
光ディスク基板断面図、（Ｇ）はねじれ形変形の場合の
光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｈ）は（Ｇ）
のパターンに対応する光ディスク基板断面図、（Ｉ）は
部分変形の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図
である。
おける光ディスク基板の変形パターンを説明するための
図であり、（Ａ）は完全平面の場合の光ディスク基板上
のパターンを示す図、（Ｂ）は（Ａ）のパターンに対応
する光ディスク基板断面図、（Ｃ）は凸おわん形変形の
場合の光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｄ）は
（Ｃ）のパターンに対応する光ディスク基板断面図、
（Ｅ）は凹おわん形変形の場合の光ディスク基板上のパ
ターンを示す図、（Ｆ）は（Ｅ）のパターンに対応する
光ディスク基板断面図、（Ｇ）はねじれ形変形の場合の
光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｈ）は（Ｇ）
のパターンに対応する光ディスク基板断面図、（Ｉ）は
部分変形の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図
である。
【００１５】図２（Ａ），（Ｂ）に示すように、光ディ
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
平行の場合には光ディスク基板２が完全平面となる。
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
平行の場合には光ディスク基板２が完全平面となる。
【００１６】図２（Ｃ），（Ｄ）に示すように、光ディ
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど広がっている場合には光ディスク基板２
が凸おわん形変形となる。
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど広がっている場合には光ディスク基板２
が凸おわん形変形となる。
【００１７】図２（Ｅ），（Ｆ）に示すように、光ディ
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど狭まっている場合には光ディスク基板２
が凹おわん形変形となる。
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど狭まっている場合には光ディスク基板２
が凹おわん形変形となる。
【００１８】図２（Ｇ），（Ｈ）に示すように、光ディ
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど広がり、且つ左右非対称の場合には光デ
ィスク基板がねじれ形変形となる。
スク基板２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが
周辺にいくほど広がり、且つ左右非対称の場合には光デ
ィスク基板がねじれ形変形となる。
【００１９】図２（Ｉ）に示すように、光ディスク基板
２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが、その周
辺部が平行で中央部の間隔が異なっている場合には部分
変形となる。この部分変形は、光ディスク基板２のスタ
ックリングの位置における反りにより発生することが多
い。
２からのストライプフィルタ４の反射像４ａが、その周
辺部が平行で中央部の間隔が異なっている場合には部分
変形となる。この部分変形は、光ディスク基板２のスタ
ックリングの位置における反りにより発生することが多
い。
【００２０】このように、光ディスク基板２上の反射像
４ａを観察することにより、光ディスク基板２の変形パ
ターンを直感的に把握することができる。また、光ディ
スク基板２上面で反射された反射像４ａを目盛り５ａが
付いた検査板５を通して目視し、目盛り５ａを読むこと
により、変形を検査することができる。また、限度見本
を作製し、限度見本を搬送手段１上にセットして、限度
見本によるストライプフィルタ４の反射像を検査板５に
マーキングし、マーキングした後に光ディスク基板２を
搬送手段１上にセットして、光ディスク基板２によるス
トライプフィルタ４の反射像と限度見本による反射像と
を比較することにより光ディスク基板２の良否を検査す
ることが出来る。
４ａを観察することにより、光ディスク基板２の変形パ
ターンを直感的に把握することができる。また、光ディ
スク基板２上面で反射された反射像４ａを目盛り５ａが
付いた検査板５を通して目視し、目盛り５ａを読むこと
により、変形を検査することができる。また、限度見本
を作製し、限度見本を搬送手段１上にセットして、限度
見本によるストライプフィルタ４の反射像を検査板５に
マーキングし、マーキングした後に光ディスク基板２を
搬送手段１上にセットして、光ディスク基板２によるス
トライプフィルタ４の反射像と限度見本による反射像と
を比較することにより光ディスク基板２の良否を検査す
ることが出来る。
【００２１】以上のように、成形直後の光ディスク基板
２の変形を検査することができるので、ディスク回転用
のスピンドルが不要であり、スピンドル近傍の検査も可
能であり、変形し易いディスク中心孔近傍を含む光ディ
スク基板２の全面の変形を検査できるという利点があ
る。
２の変形を検査することができるので、ディスク回転用
のスピンドルが不要であり、スピンドル近傍の検査も可
能であり、変形し易いディスク中心孔近傍を含む光ディ
スク基板２の全面の変形を検査できるという利点があ
る。
【００２２】また、光ディスク基板２の表面にチャート
像を投影し、光ディスク基板２表面からの反射光により
検査するので、反射膜からの反射光を用いる必要がな
く、成形直後の光ディスク基板２の変形を検査すること
ができる。
像を投影し、光ディスク基板２表面からの反射光により
検査するので、反射膜からの反射光を用いる必要がな
く、成形直後の光ディスク基板２の変形を検査すること
ができる。
【００２３】また、成形直後の光ディスク基板２の変形
を検査することができるので、変形の大きい光ディスク
基板を除去することができ、変形の大きい光ディスク基
板に蒸着工程等の後工程を行うことを防止でき、生産効
率が向上するという利点がある。
を検査することができるので、変形の大きい光ディスク
基板を除去することができ、変形の大きい光ディスク基
板に蒸着工程等の後工程を行うことを防止でき、生産効
率が向上するという利点がある。
【００２４】上記実施形態ではチャートしてストライプ
フィルタを用いたがストライプフィルタの代わりにメッ
シュフィルタでもよい。
フィルタを用いたがストライプフィルタの代わりにメッ
シュフィルタでもよい。
【００２５】また、上記実施形態ではＤＶＤの片側ディ
スク基板としての光ディスク基板２を検査する場合につ
いて説明したが、ＣＤ等の他の光ディスク基板を検査す
ることもでき、また、光ディスク基板以外の透明板等の
変形検査にも用いることが出来る。
スク基板としての光ディスク基板２を検査する場合につ
いて説明したが、ＣＤ等の他の光ディスク基板を検査す
ることもでき、また、光ディスク基板以外の透明板等の
変形検査にも用いることが出来る。
【００２６】また、どのようなディスク保持にも応用が
可能なため、生産ラインに結合することが容易である。
さらに、検査時間は比較的短く量産等に好適である。そ
の上、どのようなディスクにも応用が可能である。な
お、本発明は上記実施例に限定されるものではない。即
ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
可能なため、生産ラインに結合することが容易である。
さらに、検査時間は比較的短く量産等に好適である。そ
の上、どのようなディスクにも応用が可能である。な
お、本発明は上記実施例に限定されるものではない。即
ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
【００２７】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の光ディ
スク基板の変形検査方法によれば、光ディスク基板の変
形検査方法において、前記光ディスク基板に所定パター
ンのチャートの像を投影し、光ディスク基板からの反射
像を目盛り付きの検査板を通して目視することにより光
ディスク基板の変形を検査するので、光ディスク基板の
変形を検査することができ、光ディスク基板全面の検査
が可能であり、また、反射膜からの反射光を用いる必要
がなく、成形直後の光ディスク基板の変形を検査するこ
とができ、変形の大きい光ディスク基板を除去すること
ができ、変形の大きい光ディスク基板に後工程を行うこ
とを防止でき、生産効率が向上するという利点がある。
スク基板の変形検査方法によれば、光ディスク基板の変
形検査方法において、前記光ディスク基板に所定パター
ンのチャートの像を投影し、光ディスク基板からの反射
像を目盛り付きの検査板を通して目視することにより光
ディスク基板の変形を検査するので、光ディスク基板の
変形を検査することができ、光ディスク基板全面の検査
が可能であり、また、反射膜からの反射光を用いる必要
がなく、成形直後の光ディスク基板の変形を検査するこ
とができ、変形の大きい光ディスク基板を除去すること
ができ、変形の大きい光ディスク基板に後工程を行うこ
とを防止でき、生産効率が向上するという利点がある。
【００２８】また、光ディスク基板の変形を光ディスク
を回転させることなく検査することができるので、ディ
スク回転用のスピンドルが不要であり、スピンドル近傍
の検査も可能であるという利点がある。
を回転させることなく検査することができるので、ディ
スク回転用のスピンドルが不要であり、スピンドル近傍
の検査も可能であるという利点がある。
【図１】本発明の一実施形態に係わる光ディスク基板の
変形検査方法を説明するための図である。
変形検査方法を説明するための図である。
【図２】ストライプフィルタを用いた場合における光デ
ィスクの光ディスク基板の変形パターンを説明するため
の図であり、（Ａ）は完全平面の場合の光ディスク基板
上のパターンを示す図、（Ｂ）は（Ａ）のパターンに対
応する光ディスク基板断面図、（Ｃ）は凸おわん形変形
の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｄ）
は（Ｃ）のパターンに対応する光ディスク基板断面図、
（Ｅ）は凹おわん形変形の場合の光ディスク基板上のパ
ターンを示す図、（Ｆ）は（Ｅ）のパターンに対応する
光ディスク基板断面図、（Ｇ）はねじれ形変形の場合の
光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｈ）は（Ｇ）
のパターンに対応する光ディスク基板断面図、（Ｉ）は
部分変形の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図
である。
ィスクの光ディスク基板の変形パターンを説明するため
の図であり、（Ａ）は完全平面の場合の光ディスク基板
上のパターンを示す図、（Ｂ）は（Ａ）のパターンに対
応する光ディスク基板断面図、（Ｃ）は凸おわん形変形
の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｄ）
は（Ｃ）のパターンに対応する光ディスク基板断面図、
（Ｅ）は凹おわん形変形の場合の光ディスク基板上のパ
ターンを示す図、（Ｆ）は（Ｅ）のパターンに対応する
光ディスク基板断面図、（Ｇ）はねじれ形変形の場合の
光ディスク基板上のパターンを示す図、（Ｈ）は（Ｇ）
のパターンに対応する光ディスク基板断面図、（Ｉ）は
部分変形の場合の光ディスク基板上のパターンを示す図
である。
２ 光ディスク基板 ３ 平行光源 ４ ストライプフィルタ ５ 検査板
Claims (3)
- 【請求項１】 光ディスク基板の変形検査方法におい
て、前記光ディスク基板に所定パターンのチャートの像
を投影し、光ディスク基板からの反射像を検査板を通し
て目視することにより光ディスク基板の変形を検査する
ことを特徴とする光ディスク基板の変形検査方法。 - 【請求項２】 前記光ディスク基板は、成形直後の光デ
ィスク基板であることを特徴とする請求項１に記載の光
ディスク基板の変形検査方法。 - 【請求項３】 前記チャートはストライプフィルターで
あることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ディス
ク基板の変形検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136986A JP2000331386A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 光ディスク基板の変形検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136986A JP2000331386A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 光ディスク基板の変形検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000331386A true JP2000331386A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=15188116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11136986A Withdrawn JP2000331386A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 光ディスク基板の変形検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000331386A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011053025A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Nissan Motor Co Ltd | 距離計測装置および距離計測方法 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP11136986A patent/JP2000331386A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011053025A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Nissan Motor Co Ltd | 距離計測装置および距離計測方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |