JP2000313981A - フッ素電解用炭素電極 - Google Patents
フッ素電解用炭素電極Info
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- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電解時に高電流密度で使用が可能であり、長
寿命で電極特性に優れたフッ素電解用炭素電極を提供す
る。 【解決手段】 フッ素電解用炭素電極の電極として用い
られる炭素質材を嵩密度１．２５〜１．７５ｇ／ｃ
ｍ3 、平均気孔半径１．５μｍ以下である等方性炭素質
材の通電可能な支持部材５との接合部に電解メッキ法に
より金属被覆膜を、前記接合部の全周及び支持部材側の
端面に形成する。
寿命で電極特性に優れたフッ素電解用炭素電極を提供す
る。 【解決手段】 フッ素電解用炭素電極の電極として用い
られる炭素質材を嵩密度１．２５〜１．７５ｇ／ｃ
ｍ3 、平均気孔半径１．５μｍ以下である等方性炭素質
材の通電可能な支持部材５との接合部に電解メッキ法に
より金属被覆膜を、前記接合部の全周及び支持部材側の
端面に形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素発生用電解
浴の等方性炭素質材からなる電極に関する。
浴の等方性炭素質材からなる電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】フッ素の工業的製造法としては、一般に
フッ化水素（以下「HF」と略記する）含有溶融塩の電気
分解法が採用されている。またその電気分解もほとんど
の場合、約90℃に保たれたフッ化カリウム（以下「KF」
と略記）とHFの混合溶融塩中で行ういわゆる中温法が用
いられている。この中温法を実施するためのフッ素電解
槽の電極の陽極には専ら炭素材が用いられ、陰極及び槽
本体には一般に鉄等の金属が、また隔壁にはモネル等が
用いられている。電気分解は通常、電流密度1 〜10A/dm
2 、浴電圧5 〜15V の条件の下で(1) 式の総括反応式に
従って進行し、隔壁で仕切られた陽極側でフッ素が、陰
極側で水素が得られる。 2HF → F2＋ H2 (1)
フッ化水素（以下「HF」と略記する）含有溶融塩の電気
分解法が採用されている。またその電気分解もほとんど
の場合、約90℃に保たれたフッ化カリウム（以下「KF」
と略記）とHFの混合溶融塩中で行ういわゆる中温法が用
いられている。この中温法を実施するためのフッ素電解
槽の電極の陽極には専ら炭素材が用いられ、陰極及び槽
本体には一般に鉄等の金属が、また隔壁にはモネル等が
用いられている。電気分解は通常、電流密度1 〜10A/dm
2 、浴電圧5 〜15V の条件の下で(1) 式の総括反応式に
従って進行し、隔壁で仕切られた陽極側でフッ素が、陰
極側で水素が得られる。 2HF → F2＋ H2 (1)
【０００３】このような電気分解の円滑操業を確保する
ために陽極用炭素材に対しては、基本的に以下〜の
要求電極特性を満たすものであることが好ましい。 いわゆる陽極効果の発生、つまり分極がある程度進行
した後に電圧が突然急上昇し、通電不能になるという事
態の発生を回避できるものであること。 フッ素の増産を図るには、印加電流密度を増加すれば
よい。しかし、通常は印加電流密度の増加に比例して陽
極の分極が急速に進行する。これにより、陽極効果の発
生も早まり、電極（陽極）の取替え回数が増え、生産効
率が低下する。そこで、印加電流密度を増加しても、陽
極効果を抑制し得るものであること。 電解中に、陽極たる炭素材自体が部分的に破壊、崩
壊、剥落等することによって通電不能となったり、生じ
た炭素粉が回収中のフッ素に混じって、その純度を低下
させるという事態が起こらないように、陽極たる炭素材
自体が相当の強度を有していること。
ために陽極用炭素材に対しては、基本的に以下〜の
要求電極特性を満たすものであることが好ましい。 いわゆる陽極効果の発生、つまり分極がある程度進行
した後に電圧が突然急上昇し、通電不能になるという事
態の発生を回避できるものであること。 フッ素の増産を図るには、印加電流密度を増加すれば
よい。しかし、通常は印加電流密度の増加に比例して陽
極の分極が急速に進行する。これにより、陽極効果の発
生も早まり、電極（陽極）の取替え回数が増え、生産効
率が低下する。そこで、印加電流密度を増加しても、陽
極効果を抑制し得るものであること。 電解中に、陽極たる炭素材自体が部分的に破壊、崩
壊、剥落等することによって通電不能となったり、生じ
た炭素粉が回収中のフッ素に混じって、その純度を低下
させるという事態が起こらないように、陽極たる炭素材
自体が相当の強度を有していること。
【０００４】これまで、フッ素の製造用の陽極として用
いられてきた炭素材としては、例えば、「Industrial E
lectrochemical Processes, Ed. by A. Kuhn, pp.22, 1
970,Elsevior 」に紹介されているように気孔半径が5
μm 以上のものであった。しかしながら、これらは、陽
極効果を防止するための材料的な考慮がされておらず、
気孔が大きいため、機械強度もそれに伴い低く、自己破
損防止能力が低いために、前記要求事項の〜を満足
しうるものではなかった。
いられてきた炭素材としては、例えば、「Industrial E
lectrochemical Processes, Ed. by A. Kuhn, pp.22, 1
970,Elsevior 」に紹介されているように気孔半径が5
μm 以上のものであった。しかしながら、これらは、陽
極効果を防止するための材料的な考慮がされておらず、
気孔が大きいため、機械強度もそれに伴い低く、自己破
損防止能力が低いために、前記要求事項の〜を満足
しうるものではなかった。
【０００５】本発明者らは、前記問題点を解消でき、前
記の要求電極特性を満足し得る有効な陽極用炭素材とし
て、十分な強度を有しかつ分極しにくいもの、つまり陽
極効果の抑制に有効で最大電流密度を高め得るような、
固有抵抗の縦、横方向の異方比が1.2 以下である炭素質
ブロック（等方性炭素質ブロック）の開発に成功し、既
に「フッ素の製造方法」として特許を取得している（特
公昭61-12994号公報、特許第1347346 号）。かかる十分
な強度（高密度で高強度）を有する等方性炭素質ブロッ
クの開発により、それ以前には陽極効果の発生を防ぐた
めにせいぜい6〜8A/dm2程度の最大電流密度でしかフッ
素の電解製造を行えなかったものが、10A/dm2 程度以上
の最大電流密度でも電解を安定して継続できるようにな
った。この結果、フッ素電解効率つまりフッ素生産性が
大幅に向上した。
記の要求電極特性を満足し得る有効な陽極用炭素材とし
て、十分な強度を有しかつ分極しにくいもの、つまり陽
極効果の抑制に有効で最大電流密度を高め得るような、
固有抵抗の縦、横方向の異方比が1.2 以下である炭素質
ブロック（等方性炭素質ブロック）の開発に成功し、既
に「フッ素の製造方法」として特許を取得している（特
公昭61-12994号公報、特許第1347346 号）。かかる十分
な強度（高密度で高強度）を有する等方性炭素質ブロッ
クの開発により、それ以前には陽極効果の発生を防ぐた
めにせいぜい6〜8A/dm2程度の最大電流密度でしかフッ
素の電解製造を行えなかったものが、10A/dm2 程度以上
の最大電流密度でも電解を安定して継続できるようにな
った。この結果、フッ素電解効率つまりフッ素生産性が
大幅に向上した。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述してきたような炭
素質材を陽極材料として用いる中温法によるフッ素の製
造法においては、銅等からなる支持部材と炭素材を機械
的に接続しなければならない。しかしながら、陽極気相
部は、反応性の激しいフッ素の雰囲気に晒されているた
め、電解中に炭素材と接合している金属がフッ素と反応
し、金属表面が腐食し、このため接触抵抗の増加をきた
し、ジュール熱により接触部の温度が上昇し、炭素材の
膨張が発生する。電極は通常ボルトで支持部材に固定さ
れており、炭素材が膨張しようとするとこの部分で応力
が発生する。この応力が炭素質材の機械強度を越える
と、炭素材に割れ等の欠陥が発生し、電解処理の継続が
不可能になるといった問題が生じる。
素質材を陽極材料として用いる中温法によるフッ素の製
造法においては、銅等からなる支持部材と炭素材を機械
的に接続しなければならない。しかしながら、陽極気相
部は、反応性の激しいフッ素の雰囲気に晒されているた
め、電解中に炭素材と接合している金属がフッ素と反応
し、金属表面が腐食し、このため接触抵抗の増加をきた
し、ジュール熱により接触部の温度が上昇し、炭素材の
膨張が発生する。電極は通常ボルトで支持部材に固定さ
れており、炭素材が膨張しようとするとこの部分で応力
が発生する。この応力が炭素質材の機械強度を越える
と、炭素材に割れ等の欠陥が発生し、電解処理の継続が
不可能になるといった問題が生じる。
【０００７】この炭素質材と支持部材との接触抵抗の増
加を抑制する手段として、炭素質材の支持部材との接触
面にフッ素に対して耐性を有する金属層を形成させるこ
とが効果的であることが知られている。
加を抑制する手段として、炭素質材の支持部材との接触
面にフッ素に対して耐性を有する金属層を形成させるこ
とが効果的であることが知られている。
【０００８】この金属層を形成する方法としては、溶射
法によるものが一般的である。しかしながら、溶射法に
より金属被覆膜を形成する際には、まず、その処理面を
ブラスト処理するなどして荒らす必要がある。また、溶
射法では、加熱によって被覆する金属を溶融させ、その
溶融させた金属を被覆させたい面にアルゴンガス等のガ
スを使用して吹きつけることから、その被覆面はどうし
ても荒くなる。また、製膜作業時に加熱冷却を繰り返す
ために、溶射膜と炭素基材の線膨張係数の差によって発
生した応力が、溶射膜と炭素基材の界面に残留してしま
う。さらに、その被覆面の面積が増えるに従って、被覆
面形成時間及びコストが掛かってくる。
法によるものが一般的である。しかしながら、溶射法に
より金属被覆膜を形成する際には、まず、その処理面を
ブラスト処理するなどして荒らす必要がある。また、溶
射法では、加熱によって被覆する金属を溶融させ、その
溶融させた金属を被覆させたい面にアルゴンガス等のガ
スを使用して吹きつけることから、その被覆面はどうし
ても荒くなる。また、製膜作業時に加熱冷却を繰り返す
ために、溶射膜と炭素基材の線膨張係数の差によって発
生した応力が、溶射膜と炭素基材の界面に残留してしま
う。さらに、その被覆面の面積が増えるに従って、被覆
面形成時間及びコストが掛かってくる。
【０００９】前述したように、炭素電極と支持部材との
接触抵抗の増加が、炭素電極の割れ等の原因となるジュ
ール熱を発生する原因となる。即ち、炭素電極の支持部
材との接触面が荒ければその分接触面積が大きくなり、
必然的に接触抵抗が大きくなってしまう。したがって、
溶射により形成された金属被覆膜は、支持部材との接合
面にあたる面を平滑に機械加工することによって、支持
部材との接触抵抗を下げる方が好ましい。そのため、溶
射により形成する金属被覆膜は、機械加工しろを考えて
厚めに形成する必要があった。また、溶射による金属被
覆面は、前述したように膜と基材の界面に応力が残るた
めに、密着力がそれほど高くなく、また、その製法上多
くの気孔がある。
接触抵抗の増加が、炭素電極の割れ等の原因となるジュ
ール熱を発生する原因となる。即ち、炭素電極の支持部
材との接触面が荒ければその分接触面積が大きくなり、
必然的に接触抵抗が大きくなってしまう。したがって、
溶射により形成された金属被覆膜は、支持部材との接合
面にあたる面を平滑に機械加工することによって、支持
部材との接触抵抗を下げる方が好ましい。そのため、溶
射により形成する金属被覆膜は、機械加工しろを考えて
厚めに形成する必要があった。また、溶射による金属被
覆面は、前述したように膜と基材の界面に応力が残るた
めに、密着力がそれほど高くなく、また、その製法上多
くの気孔がある。
【００１０】ところが、最近になり、電解時の電流密度
が高くなり、発生するフッ素量が増加してきたことによ
り、電解されて発生するフッ素が支持部材と炭素電極の
隙間に浸透する量も増加し、それらフッ素が金属被覆膜
の気孔及び炭素電極の気孔を通じ炭素電極と金属被覆膜
の界面に浸透し、それによって、金属被覆膜が腐食さ
れ、欠落してしまうという問題が発生するようになって
きた。
が高くなり、発生するフッ素量が増加してきたことによ
り、電解されて発生するフッ素が支持部材と炭素電極の
隙間に浸透する量も増加し、それらフッ素が金属被覆膜
の気孔及び炭素電極の気孔を通じ炭素電極と金属被覆膜
の界面に浸透し、それによって、金属被覆膜が腐食さ
れ、欠落してしまうという問題が発生するようになって
きた。
【００１１】そこで、本発明は、上記事情に鑑みなされ
たものであり、その目的は、電解時に高電流密度で使用
が可能な、支持部材との接合部に金属被覆膜を有するフ
ッ素電解用炭素電極を提供することである。
たものであり、その目的は、電解時に高電流密度で使用
が可能な、支持部材との接合部に金属被覆膜を有するフ
ッ素電解用炭素電極を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の請求項１記載のフッ素電解用炭素電極は、フ
ッ素発生用電解浴の陽極として用いられる等方性炭素質
材からなる電極であって、前記等方性炭素質材の通電可
能な支持部材との接合部にメッキによる金属被覆膜が形
成されてなることを特徴とする。
の本発明の請求項１記載のフッ素電解用炭素電極は、フ
ッ素発生用電解浴の陽極として用いられる等方性炭素質
材からなる電極であって、前記等方性炭素質材の通電可
能な支持部材との接合部にメッキによる金属被覆膜が形
成されてなることを特徴とする。
【００１３】また、請求項２記載のフッ素電解用炭素電
極は、請求項１の発明に記載の前記等方性炭素質材が、
嵩密度1.25〜1.75g/cm3 、平均気孔半径が1.5 μm 以下
であることを特徴とする。
極は、請求項１の発明に記載の前記等方性炭素質材が、
嵩密度1.25〜1.75g/cm3 、平均気孔半径が1.5 μm 以下
であることを特徴とする。
【００１４】ここで、金属被覆膜を形成するメッキは、
電解メッキ法、無電解メッキ法の何れの方法でもよい
が、好ましいのは、電解メッキ法である。これにより、
表面を被覆するのみでなく、気孔内部にまで金属を含浸
させることができる。このメッキ法では、メッキ液に浸
漬した部分すべての面を被覆することができる。即ち、
全周にわたって金属被覆膜を形成することができる。ま
た、メッキ液が気孔内部にまで浸透するため、見掛け以
上に被覆面積を増加させることによって金属被覆膜はよ
り強固に密着される。そして、その被覆面の表面の面粗
さは、基材の面粗さに依存し、基材の面粗さを小さくす
ることによって、被覆面の面粗さを小さくすることが可
能となる。これにより被覆面の機械加工も省略できる。
電解メッキ法、無電解メッキ法の何れの方法でもよい
が、好ましいのは、電解メッキ法である。これにより、
表面を被覆するのみでなく、気孔内部にまで金属を含浸
させることができる。このメッキ法では、メッキ液に浸
漬した部分すべての面を被覆することができる。即ち、
全周にわたって金属被覆膜を形成することができる。ま
た、メッキ液が気孔内部にまで浸透するため、見掛け以
上に被覆面積を増加させることによって金属被覆膜はよ
り強固に密着される。そして、その被覆面の表面の面粗
さは、基材の面粗さに依存し、基材の面粗さを小さくす
ることによって、被覆面の面粗さを小さくすることが可
能となる。これにより被覆面の機械加工も省略できる。
【００１５】また、表面に被覆する金属は、フッ素若し
くはフッ酸に対して耐性及び導電性を有する金属であれ
ば良く、錫、鉛、亜鉛、銅、銀、金、黄銅、青銅、アル
ミニウム、洋銀、ニッケル、鉄、ステンレス、鋼、モネ
ル等の各種金属が挙げられ、中でもニッケル、銅が最も
好ましい。
くはフッ酸に対して耐性及び導電性を有する金属であれ
ば良く、錫、鉛、亜鉛、銅、銀、金、黄銅、青銅、アル
ミニウム、洋銀、ニッケル、鉄、ステンレス、鋼、モネ
ル等の各種金属が挙げられ、中でもニッケル、銅が最も
好ましい。
【００１６】また、等方性炭素質材の嵩密度は1.25〜1.
75g/cm3 、好ましくは1.30〜1.50g/cm3 、平均気孔半径
は1.5 μm 以下、好ましくは0.1 〜1.5 μm 、さらに好
ましくは0.5 〜1.4 μm である。嵩密度が1.25g/cm3 未
満の場合は電解時に自己破損してしまうため好ましくな
く、また、1.75g/cm3 を越える場合は、浴との濡れ性が
悪くなるため好ましくない。また、平均気孔半径が0.1
μm 未満の場合、浴との濡れ性が悪くなり、1.5 μm を
越える場合は、自己破損してしまうため好ましくない。
ここで、平均気孔半径は、水銀圧入法による測定値（水
銀と試料との接触角141.3 °、最大圧力1000kg/cm3のと
きの累積気孔容積の半分の値）を採用した。
75g/cm3 、好ましくは1.30〜1.50g/cm3 、平均気孔半径
は1.5 μm 以下、好ましくは0.1 〜1.5 μm 、さらに好
ましくは0.5 〜1.4 μm である。嵩密度が1.25g/cm3 未
満の場合は電解時に自己破損してしまうため好ましくな
く、また、1.75g/cm3 を越える場合は、浴との濡れ性が
悪くなるため好ましくない。また、平均気孔半径が0.1
μm 未満の場合、浴との濡れ性が悪くなり、1.5 μm を
越える場合は、自己破損してしまうため好ましくない。
ここで、平均気孔半径は、水銀圧入法による測定値（水
銀と試料との接触角141.3 °、最大圧力1000kg/cm3のと
きの累積気孔容積の半分の値）を採用した。
【００１７】このような等方性炭素質材からなる電極で
あれば、自己破損防止能力は十分な実用的レベルを維持
し、その上で限界電流密度を10A/dm2 又はそれを越える
ものとすることができる。また、浴との濡れ性も良く、
陽極効果を抑制することも可能となる。さらに、このよ
うな優れた電極特性を有する等方性炭素質材を陽極に使
用し、その支持部材との接触面に金属をメッキ法で平均
面粗さを基材の表面粗さに習って10μm 以下、好ましく
は6 μm 以下として、また厚み10〜1000μm で被覆する
ことで接触抵抗を下げることができ、更には炭素質材の
表面の気孔内部にまで金属を含浸することができるた
め、金属被覆層の厚みを従来の溶射法によるものよりも
薄くしても同等以上の効果が得られる。
あれば、自己破損防止能力は十分な実用的レベルを維持
し、その上で限界電流密度を10A/dm2 又はそれを越える
ものとすることができる。また、浴との濡れ性も良く、
陽極効果を抑制することも可能となる。さらに、このよ
うな優れた電極特性を有する等方性炭素質材を陽極に使
用し、その支持部材との接触面に金属をメッキ法で平均
面粗さを基材の表面粗さに習って10μm 以下、好ましく
は6 μm 以下として、また厚み10〜1000μm で被覆する
ことで接触抵抗を下げることができ、更には炭素質材の
表面の気孔内部にまで金属を含浸することができるた
め、金属被覆層の厚みを従来の溶射法によるものよりも
薄くしても同等以上の効果が得られる。
【００１８】本発明にかかるフッ素電解用炭素電極用の
等方性炭素質材は、一般的な等方性炭素質材の製造方法
でよく、例えば、微粉状骨材コークスにほぼ等重量又は
それ以上のピッチバインダーを加えた材料を用いるか、
又は微小モザイク組織のコークスや生コークスのように
熱処理段階で大きい収縮を示す骨材を用い炭素材の必要
な緻密化を図るか、あるいは変質ピッチやメソカーボン
マイクロビーズのような骨材と結合材が一体的に構成さ
れた一元系材料を用いることにより達成することができ
る。
等方性炭素質材は、一般的な等方性炭素質材の製造方法
でよく、例えば、微粉状骨材コークスにほぼ等重量又は
それ以上のピッチバインダーを加えた材料を用いるか、
又は微小モザイク組織のコークスや生コークスのように
熱処理段階で大きい収縮を示す骨材を用い炭素材の必要
な緻密化を図るか、あるいは変質ピッチやメソカーボン
マイクロビーズのような骨材と結合材が一体的に構成さ
れた一元系材料を用いることにより達成することができ
る。
【００１９】ここで「微小モザイク組織」とは、ピッチ
を加熱してメソフェーズ小球体が生成する過程でそのサ
イズが10μｍ以下のものがモザイク様に等方性マトリッ
クス中に一様に分散しているものをいう。このような構
造をもつ炭素材を加熱すると、モザイク部分は大きく収
縮して所望の高密度材料が得られやすくなるからであ
る。
を加熱してメソフェーズ小球体が生成する過程でそのサ
イズが10μｍ以下のものがモザイク様に等方性マトリッ
クス中に一様に分散しているものをいう。このような構
造をもつ炭素材を加熱すると、モザイク部分は大きく収
縮して所望の高密度材料が得られやすくなるからであ
る。
【００２０】また、上記のように、ピッチから生成した
メソフェーズ小球体を分離して得られる、いわゆるメソ
カーボンマイクロビーズは、そのままで一元系材料とし
て本発明の炭素電極の原料として有利に用いることがで
きる。ピッチを乾留する際に雰囲気制御を行うと空気中
では非黒鉛化炭素材、窒素ガス中では易黒鉛化炭素材の
前駆体が得られ、これらを変質ピッチと言い、やはり一
元系材料として本発明の炭素電極の製造に用いることが
できるものである。
メソフェーズ小球体を分離して得られる、いわゆるメソ
カーボンマイクロビーズは、そのままで一元系材料とし
て本発明の炭素電極の原料として有利に用いることがで
きる。ピッチを乾留する際に雰囲気制御を行うと空気中
では非黒鉛化炭素材、窒素ガス中では易黒鉛化炭素材の
前駆体が得られ、これらを変質ピッチと言い、やはり一
元系材料として本発明の炭素電極の製造に用いることが
できるものである。
【００２１】即ち、本発明の陽極用炭素質材は、例え
ば、粒径が3 〜20μｍの微粉状の仮焼骨材コークス100
重量部にコールタールピッチ、石油ピッチのようなピッ
チバインダー約80〜130 重量部を配合した2 元系材料、
又は変質ピッチやメソカーボンマイクロビーズのような
一元系材料を約150 〜250 ℃で混捏した後冷却し、粉砕
して粒度調整を行ったものを成形し、最終的に熱処理す
ることにより製造することができる。成形は、CIP 成形
や金型成形により10〜90MPa 程度、好ましくは10〜30MP
a 程度の低加圧下で等方性ブロック体に成形する。また
熱処理温度は、通常1000℃〜1500℃、好ましくは1000℃
〜1200℃である。このようにして得られた等方性炭素質
材は、いわゆる押出成形によりブロック化された炭素材
に比べるとはるかに緻密質でありながらも適度に多孔質
であるという特徴ある構造体となっている。また、変質
ピッチやメソカーボンマイクロビーズのような原料が球
状に近い形状の一元系材料を用いることにより、金型成
形であっても前述したように固有抵抗の縦方向、横方向
の異方比が1.2 以下の等方性を有することができる。
ば、粒径が3 〜20μｍの微粉状の仮焼骨材コークス100
重量部にコールタールピッチ、石油ピッチのようなピッ
チバインダー約80〜130 重量部を配合した2 元系材料、
又は変質ピッチやメソカーボンマイクロビーズのような
一元系材料を約150 〜250 ℃で混捏した後冷却し、粉砕
して粒度調整を行ったものを成形し、最終的に熱処理す
ることにより製造することができる。成形は、CIP 成形
や金型成形により10〜90MPa 程度、好ましくは10〜30MP
a 程度の低加圧下で等方性ブロック体に成形する。また
熱処理温度は、通常1000℃〜1500℃、好ましくは1000℃
〜1200℃である。このようにして得られた等方性炭素質
材は、いわゆる押出成形によりブロック化された炭素材
に比べるとはるかに緻密質でありながらも適度に多孔質
であるという特徴ある構造体となっている。また、変質
ピッチやメソカーボンマイクロビーズのような原料が球
状に近い形状の一元系材料を用いることにより、金型成
形であっても前述したように固有抵抗の縦方向、横方向
の異方比が1.2 以下の等方性を有することができる。
【００２２】このような構造体からなる本発明のフッ素
電解槽の陽極用等方性炭素質材の特性は、上記したよう
に、少なくとも嵩密度にして1.25〜1.75g/cm3 、より好
ましくは嵩密度が1.30〜1.50g/cm3 で、平均気孔半径が
0.1 〜1.5 μm 、より好ましくは0.5 〜1.4 μm であ
る。このような特性の陽極用等方性炭素質材であれば、
陽極効果抑制がさらに向上して電極特性のより優れたも
のとすることができる。
電解槽の陽極用等方性炭素質材の特性は、上記したよう
に、少なくとも嵩密度にして1.25〜1.75g/cm3 、より好
ましくは嵩密度が1.30〜1.50g/cm3 で、平均気孔半径が
0.1 〜1.5 μm 、より好ましくは0.5 〜1.4 μm であ
る。このような特性の陽極用等方性炭素質材であれば、
陽極効果抑制がさらに向上して電極特性のより優れたも
のとすることができる。
【００２３】メッキ法では、前述したように、メッキ液
に被覆させたい部分を浸漬することによりその表面に気
孔のない緻密な金属被覆膜を形成することが可能とな
る。そして、10〜1000μｍの範囲内で任意の厚みとする
ことができる。すなわち、電極の支持部材との接合面を
含む全周と、支持部材側の端面を被覆することが可能と
なる。これによって、被覆膜が各面相互間で補強しあい
被覆膜としての形状保持の能力を向上させ、結果として
膜の剥離を防止する。そして、前述したように本発明に
おける等方性炭素質材は、適度に気孔を有しており、そ
のため、メッキ液に浸漬すると、毛細管現象によりその
気孔内にメッキ液が浸透していく。これにより、表面の
被覆は勿論ではあるが、気孔内部にまで金属が含浸した
構造とすることができ、これによって見掛け以上に被覆
面積を増加させることで密着力15MPa 以上の高い膜を形
成することが可能となる。そして、メッキ法による金属
被覆膜の表面粗さは、炭素質材の表面粗さに依存する。
そのため、炭素質材の表面の面粗さを調整することによ
り、被覆膜の表面の平均面粗さを基材加工面と同等にす
ることが可能である。これによって、金属被覆膜面を機
械加工せずに直接支持部材と接合しても両者間の接触抵
抗を低く抑えることができる。なお、ここで平均面粗さ
は、JIS B0601-1994によるRaを平均面粗さとした。
に被覆させたい部分を浸漬することによりその表面に気
孔のない緻密な金属被覆膜を形成することが可能とな
る。そして、10〜1000μｍの範囲内で任意の厚みとする
ことができる。すなわち、電極の支持部材との接合面を
含む全周と、支持部材側の端面を被覆することが可能と
なる。これによって、被覆膜が各面相互間で補強しあい
被覆膜としての形状保持の能力を向上させ、結果として
膜の剥離を防止する。そして、前述したように本発明に
おける等方性炭素質材は、適度に気孔を有しており、そ
のため、メッキ液に浸漬すると、毛細管現象によりその
気孔内にメッキ液が浸透していく。これにより、表面の
被覆は勿論ではあるが、気孔内部にまで金属が含浸した
構造とすることができ、これによって見掛け以上に被覆
面積を増加させることで密着力15MPa 以上の高い膜を形
成することが可能となる。そして、メッキ法による金属
被覆膜の表面粗さは、炭素質材の表面粗さに依存する。
そのため、炭素質材の表面の面粗さを調整することによ
り、被覆膜の表面の平均面粗さを基材加工面と同等にす
ることが可能である。これによって、金属被覆膜面を機
械加工せずに直接支持部材と接合しても両者間の接触抵
抗を低く抑えることができる。なお、ここで平均面粗さ
は、JIS B0601-1994によるRaを平均面粗さとした。
【００２４】また、従来は、電解浴面上で発生したフッ
素は、炭素質材の気孔及び金属被覆膜の気孔を通じて、
金属被覆膜と炭素質材の界面や、支持部材との接合部を
腐食させていたが、本発明におけるメッキ法による金属
被覆膜は、前述したように電極の接合面の全周及び支持
部材側の端面を被覆すると同時に内部の気孔内にも含浸
した構造となることから、電解浴面上で発生したフッ素
が炭素質材内部に浸透する量を抑制することができる。
また、膜が緻密で気孔がないことから、膜表面から浸透
するフッ素も抑制することができ、支持部材等を腐食さ
せる速度を遅くすることができ、支持部材と炭素質材か
らなる電極の寿命を伸ばすことが可能となる。炭素質材
を支持部材に取り付けるボルトのボルト穴もメッキ膜に
よって被覆され、この部分にもフッ素等の腐食性ガスの
浸透が抑制され、ボルトの腐食防止の効果もある。
素は、炭素質材の気孔及び金属被覆膜の気孔を通じて、
金属被覆膜と炭素質材の界面や、支持部材との接合部を
腐食させていたが、本発明におけるメッキ法による金属
被覆膜は、前述したように電極の接合面の全周及び支持
部材側の端面を被覆すると同時に内部の気孔内にも含浸
した構造となることから、電解浴面上で発生したフッ素
が炭素質材内部に浸透する量を抑制することができる。
また、膜が緻密で気孔がないことから、膜表面から浸透
するフッ素も抑制することができ、支持部材等を腐食さ
せる速度を遅くすることができ、支持部材と炭素質材か
らなる電極の寿命を伸ばすことが可能となる。炭素質材
を支持部材に取り付けるボルトのボルト穴もメッキ膜に
よって被覆され、この部分にもフッ素等の腐食性ガスの
浸透が抑制され、ボルトの腐食防止の効果もある。
【００２５】このように、優れた電極特性を有する等方
性炭素質材に、前述のような密着力が大きく、気密性に
優れ、支持部材との接触抵抗を抑制することができる金
属被覆膜を形成することが可能であることから、メッキ
法による金属被覆膜は、従来の金属被覆膜に比べて、薄
くしても長寿命な膜とすることが可能となる。
性炭素質材に、前述のような密着力が大きく、気密性に
優れ、支持部材との接触抵抗を抑制することができる金
属被覆膜を形成することが可能であることから、メッキ
法による金属被覆膜は、従来の金属被覆膜に比べて、薄
くしても長寿命な膜とすることが可能となる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、図１を参照しつつ本発明に
おけるフッ素電解用炭素電極を使用して、フッ素を得る
ことのできる一般的な電解装置に含まれる電解槽につい
て説明する。図１において一般的な電解装置に含まれる
電解槽は、混合溶融塩（KF・2HF ）を用いて電解浴１ａ
を形成する電解槽本体１と、混合溶融塩に浸漬されてい
る等方性炭素質材からなる陽極２と、一般に金属からな
る陰極３と、陽極２側と陰極３側とを仕切る隔壁４とを
備えている。ここで、図中符号の５はブスバー、６は絶
縁材、７は金属で作製された電解槽蓋、８は陰極ガス出
口、９は陽極ガス出口、１０は陽極２の取り付け用ボル
ト、１１は押さえ板、１２は金属被覆面を示す。
おけるフッ素電解用炭素電極を使用して、フッ素を得る
ことのできる一般的な電解装置に含まれる電解槽につい
て説明する。図１において一般的な電解装置に含まれる
電解槽は、混合溶融塩（KF・2HF ）を用いて電解浴１ａ
を形成する電解槽本体１と、混合溶融塩に浸漬されてい
る等方性炭素質材からなる陽極２と、一般に金属からな
る陰極３と、陽極２側と陰極３側とを仕切る隔壁４とを
備えている。ここで、図中符号の５はブスバー、６は絶
縁材、７は金属で作製された電解槽蓋、８は陰極ガス出
口、９は陽極ガス出口、１０は陽極２の取り付け用ボル
ト、１１は押さえ板、１２は金属被覆面を示す。
【００２７】炭素質材からなる陽極２は、金属からなる
Ｌ字型のブスバー５と押さえ板１１とボルト１０等の通
電可能な支持部材を介して装置本体に接続されている。
Ｌ字型のブスバー５と押さえ板１１とボルト１０等の通
電可能な支持部材を介して装置本体に接続されている。
【００２８】また、金属と比べて、炭素材の固有抵抗は
大きいことが良く知られている。電解実施中には、ブス
バー５や押さえ板１１と陽極２の間に、混合溶融塩（KF
・2HF ）や、発生ガス（F2）の侵入がある。この時に、
混合溶融塩（KF・2HF ）や、発生ガス（F2）が固化した
り、あるいは炭素材からなる陽極２と反応、腐食によっ
て、部分的に接触面の導通が阻害される。これが酷くな
ると、発熱や、極端な場合、放電を起こして電極が破損
し、電解不能の状態になってしまう。この現象を抑制す
るために、炭素質ブロックからなる陽極２の、ブスバー
５と押さえ板１１と接する面１２には、電解メッキ法に
より、ニッケル若しくは銅等の金属が被覆されている。
炭素材と金属の接触よりも、金属と金属との接触の方が
接触抵抗が低く抑えられるためである。これにより、長
期間安定した通電状態を維持でき、電極の割れを防止す
ることが可能となる。
大きいことが良く知られている。電解実施中には、ブス
バー５や押さえ板１１と陽極２の間に、混合溶融塩（KF
・2HF ）や、発生ガス（F2）の侵入がある。この時に、
混合溶融塩（KF・2HF ）や、発生ガス（F2）が固化した
り、あるいは炭素材からなる陽極２と反応、腐食によっ
て、部分的に接触面の導通が阻害される。これが酷くな
ると、発熱や、極端な場合、放電を起こして電極が破損
し、電解不能の状態になってしまう。この現象を抑制す
るために、炭素質ブロックからなる陽極２の、ブスバー
５と押さえ板１１と接する面１２には、電解メッキ法に
より、ニッケル若しくは銅等の金属が被覆されている。
炭素材と金属の接触よりも、金属と金属との接触の方が
接触抵抗が低く抑えられるためである。これにより、長
期間安定した通電状態を維持でき、電極の割れを防止す
ることが可能となる。
【００２９】また、電解メッキ法による金属被覆面の平
均面粗さは基材の表面粗さに影響されるが、基材を切削
加工で通常の仕上げを行えばその表面粗さは10μm 以下
であり、溶射法等による金属被覆面の平均面粗さの約20
μｍに比較すると大幅に小さくすることが可能となる。
これによって、支持部材との接触抵抗を小さくすること
が可能となり、安定した電極特性を得ることができる。
さらに、電解メッキ法の場合、溶射法とは異なり、必要
な部位の全周に渡り気孔のない緻密な金属を被覆するこ
とが可能となる。これらのことから、支持部材とこの接
触面との隙間が小さくなり、この隙間に入り込むフッ素
の量を少なくするとともに、全周に渡り被覆されている
ことから、炭素材の気孔から浸透するフッ素量をも少な
くすることができる。
均面粗さは基材の表面粗さに影響されるが、基材を切削
加工で通常の仕上げを行えばその表面粗さは10μm 以下
であり、溶射法等による金属被覆面の平均面粗さの約20
μｍに比較すると大幅に小さくすることが可能となる。
これによって、支持部材との接触抵抗を小さくすること
が可能となり、安定した電極特性を得ることができる。
さらに、電解メッキ法の場合、溶射法とは異なり、必要
な部位の全周に渡り気孔のない緻密な金属を被覆するこ
とが可能となる。これらのことから、支持部材とこの接
触面との隙間が小さくなり、この隙間に入り込むフッ素
の量を少なくするとともに、全周に渡り被覆されている
ことから、炭素材の気孔から浸透するフッ素量をも少な
くすることができる。
【００３０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００３１】（実施例１）325 メッシュ（Tyler ）以下
に粉砕した仮焼石油コークス粉100 重量部に対して90重
量部のコールタールピッチを加え、約150 〜250 ℃、好
ましくは約180 〜220 ℃における加熱下で長時間混捏す
ると共に揮発分を調整し、常温まで冷却した。その後、
再度粉砕して100 メッシュ（Tyler ）以下の粉砕品を分
級・回収し、サンプル用炭素質ブロックの原料とした。
次に、得られた原料をCIP 成形により、圧力10MPa で、
100 ×300 ×600mm の寸法品となるように成形し、得ら
れた成形体を1000℃で焼成することにより210 ×80×20
mmの陽極用炭素質材を製作した。この炭素質材の支持部
材となるブスバー５との接触面にあたる一端の端面から
20mmの範囲を、電解メッキ法によりニッケルを端面を含
む全周にわたり厚さ150 μｍの被覆膜を形成した。試料
表面の平均面粗さは基材加工後3 μｍ、メッキ膜形成後
で4 μｍであった。
に粉砕した仮焼石油コークス粉100 重量部に対して90重
量部のコールタールピッチを加え、約150 〜250 ℃、好
ましくは約180 〜220 ℃における加熱下で長時間混捏す
ると共に揮発分を調整し、常温まで冷却した。その後、
再度粉砕して100 メッシュ（Tyler ）以下の粉砕品を分
級・回収し、サンプル用炭素質ブロックの原料とした。
次に、得られた原料をCIP 成形により、圧力10MPa で、
100 ×300 ×600mm の寸法品となるように成形し、得ら
れた成形体を1000℃で焼成することにより210 ×80×20
mmの陽極用炭素質材を製作した。この炭素質材の支持部
材となるブスバー５との接触面にあたる一端の端面から
20mmの範囲を、電解メッキ法によりニッケルを端面を含
む全周にわたり厚さ150 μｍの被覆膜を形成した。試料
表面の平均面粗さは基材加工後3 μｍ、メッキ膜形成後
で4 μｍであった。
【００３２】被覆膜形成後、150 ℃で真空乾燥後、フッ
素電解用の電解槽に装着し、電解処理をおこなった。な
お、被覆膜の表面の平均面粗さは4 μｍで、炭素質材と
の密着力は15MPa であった。ここで、密着力の測定は、
実施例１と同様にして作製された炭素質材をφ25×10mm
の大きさに加工し、その一面に実施例１と同条件でニッ
ケルを電解メッキし供試体とした。この供試体を、φ25
×80mmの炭素鋼（SS400 ）２本のそれぞれの端面部に熱
硬化性のエポキシ樹脂を塗布し、これを金属メッキ被覆
部とその反対側の炭素試験母材部に圧着させ、150 ℃で
90分の加熱によって樹脂を焼付け固化させた。そして、
その両端を万能試験機に装着し引張試験を行うことによ
り接着部が剥がれた時の荷重を密着力とした。
素電解用の電解槽に装着し、電解処理をおこなった。な
お、被覆膜の表面の平均面粗さは4 μｍで、炭素質材と
の密着力は15MPa であった。ここで、密着力の測定は、
実施例１と同様にして作製された炭素質材をφ25×10mm
の大きさに加工し、その一面に実施例１と同条件でニッ
ケルを電解メッキし供試体とした。この供試体を、φ25
×80mmの炭素鋼（SS400 ）２本のそれぞれの端面部に熱
硬化性のエポキシ樹脂を塗布し、これを金属メッキ被覆
部とその反対側の炭素試験母材部に圧着させ、150 ℃で
90分の加熱によって樹脂を焼付け固化させた。そして、
その両端を万能試験機に装着し引張試験を行うことによ
り接着部が剥がれた時の荷重を密着力とした。
【００３３】（比較例１）実施例１と同様の炭素質材を
用い、ブスバー５との接触面にのみ溶射法により金属被
覆膜を形成した。溶射の際は、まず、溶射する面に予め
残留応力を緩和する目的で中間層を50μm 大気プラズマ
溶射法により形成し、その上にニッケルを大気プラズマ
溶射法により100 μm 被覆し、炭素質材表面に合計150
μm の金属被覆膜を形成した。その後、その表面を機械
加工し平滑な面とし、ブスバー５に接合し、実施例１と
同様、フッ素電解用の電解槽に装着し、電解処理をおこ
なった。なお、試料表面の平均面粗さは、基材加工後3
μｍ、溶射膜施工後で20μmであった。炭素質材との密
着力は2.5MPaであった。
用い、ブスバー５との接触面にのみ溶射法により金属被
覆膜を形成した。溶射の際は、まず、溶射する面に予め
残留応力を緩和する目的で中間層を50μm 大気プラズマ
溶射法により形成し、その上にニッケルを大気プラズマ
溶射法により100 μm 被覆し、炭素質材表面に合計150
μm の金属被覆膜を形成した。その後、その表面を機械
加工し平滑な面とし、ブスバー５に接合し、実施例１と
同様、フッ素電解用の電解槽に装着し、電解処理をおこ
なった。なお、試料表面の平均面粗さは、基材加工後3
μｍ、溶射膜施工後で20μmであった。炭素質材との密
着力は2.5MPaであった。
【００３４】（電解条件）実施例１及び比較例１による
電極を図１に示す電解槽に装着した。電解槽は50A 電解
槽を用い、電解浴組成はKF・1.9 〜2.3HF の範囲で電解
を行った。そして、電流密度を最高28A/dm2 とし、電解
処理を行った。
電極を図１に示す電解槽に装着した。電解槽は50A 電解
槽を用い、電解浴組成はKF・1.9 〜2.3HF の範囲で電解
を行った。そして、電流密度を最高28A/dm2 とし、電解
処理を行った。
【００３５】表１に実施例１及び比較例１の電極の各特
性をまとめて示す。
性をまとめて示す。
【００３６】
【表１】
【００３７】比較例１の電極では、半月使用しただけ
で、電極にクラックが発生した。これは、主として中間
層が消耗していたことから、表面に被覆したニケッル膜
及び炭素質材の気孔よりフッ素が浸透し、表面のニッケ
ル膜が炭素質材表面から浮いたような状態となり、溶射
膜と炭素質材間の接触抵抗が大きくなり、ジュール熱の
発生により炭素質材にクラックが発生したものと考えら
れる。一方、表面にメッキを施した実施例１の電極は、
従来の、支持部材との接触面に金属を溶射した電極に比
較して５倍以上使用した段階でも特に問題が発生しなか
った。
で、電極にクラックが発生した。これは、主として中間
層が消耗していたことから、表面に被覆したニケッル膜
及び炭素質材の気孔よりフッ素が浸透し、表面のニッケ
ル膜が炭素質材表面から浮いたような状態となり、溶射
膜と炭素質材間の接触抵抗が大きくなり、ジュール熱の
発生により炭素質材にクラックが発生したものと考えら
れる。一方、表面にメッキを施した実施例１の電極は、
従来の、支持部材との接触面に金属を溶射した電極に比
較して５倍以上使用した段階でも特に問題が発生しなか
った。
【００３８】
【発明の効果】嵩密度1.25〜1.75g/cm3 、平均気孔半径
1.5 μｍ以下の等方性炭素質材を使用し、通電可能な支
持部材との接合部に電解メッキ法により金属被覆膜を形
成することにより、表面を滑らかな面とすることがで
き、両者間の接触抵抗を小さくでき、長期間に渡り、安
定した電極特性を維持することが可能となる。これらに
よって、限界電流密度を10A/dm2 を越える高い電流密度
とすることが可能となり、長寿命で、生産効率の高いフ
ッ素電解用電極とすることができる。
1.5 μｍ以下の等方性炭素質材を使用し、通電可能な支
持部材との接合部に電解メッキ法により金属被覆膜を形
成することにより、表面を滑らかな面とすることがで
き、両者間の接触抵抗を小さくでき、長期間に渡り、安
定した電極特性を維持することが可能となる。これらに
よって、限界電流密度を10A/dm2 を越える高い電流密度
とすることが可能となり、長寿命で、生産効率の高いフ
ッ素電解用電極とすることができる。
【図１】一般的な電解装置に含まれる電解槽の断面概略
図である。
図である。
１ 電解槽本体 １ａ 電解浴 ２ 陽極 ３ 陰極 ４ 隔壁 ５ ブスバー ６ 絶縁材 ７ 金属で作製された電解槽蓋 ８ 陰極ガス出口 ９ 陽極ガス出口 １０ 陽極２の取り付け用ボルト １１ 押さえ板 １２ 金属被覆面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｂ 9/00 Ｆ
Claims (2)
- 【請求項１】 フッ素発生用電解浴の陽極として用いら
れる等方性炭素質材からなる電極であって、前記等方性
炭素質材の通電可能な支持部材との接合部にメッキによ
る金属被覆膜が形成されてなるフッ素電解用炭素電極。 - 【請求項２】 前記等方性炭素質材が、嵩密度1.25〜1.
75g/cm3 、平均気孔半径が1.5 μm 以下である請求項１
記載のフッ素電解用炭素電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11119483A JP2000313981A (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | フッ素電解用炭素電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11119483A JP2000313981A (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | フッ素電解用炭素電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000313981A true JP2000313981A (ja) | 2000-11-14 |
Family
ID=14762409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11119483A Pending JP2000313981A (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | フッ素電解用炭素電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000313981A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001077412A1 (fr) | 2000-04-07 | 2001-10-18 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Appareil pour la production de fluor gazeux |
| WO2003052167A1 (fr) * | 2001-12-17 | 2003-06-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Appareil et procede de production d'un gaz f2 et gaz f2 ainsi obtenu |
| EP2006417A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | Permelec Electrode Ltd. | Conductive diamond electrode structure and method for electrolytic synthesis of fluorine-containing material |
| KR101170042B1 (ko) | 2005-12-22 | 2012-08-03 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 금속표면에 탄소질을 코팅하는 방법 |
| CN109208023A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-01-15 | 核工业第八研究所 | 一种延长碳阳极使用寿命的桥接板组合机构 |
| WO2020026854A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2020-02-06 | 昭和電工株式会社 | 電解合成用陽極、及び、フッ素ガス又は含フッ素化合物の製造方法 |
-
1999
- 1999-04-27 JP JP11119483A patent/JP2000313981A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6818105B2 (en) | 2000-04-07 | 2004-11-16 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Apparatus for generating fluorine gas |
| WO2001077412A1 (fr) | 2000-04-07 | 2001-10-18 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Appareil pour la production de fluor gazeux |
| WO2003052167A1 (fr) * | 2001-12-17 | 2003-06-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Appareil et procede de production d'un gaz f2 et gaz f2 ainsi obtenu |
| KR100712345B1 (ko) * | 2001-12-17 | 2007-05-02 | 도요탄소 가부시키가이샤 | Ｆ2 가스발생장치, ｆ2 가스발생방법 및 ｆ2 가스 |
| KR101170042B1 (ko) | 2005-12-22 | 2012-08-03 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 금속표면에 탄소질을 코팅하는 방법 |
| US8349164B2 (en) | 2007-06-22 | 2013-01-08 | Permelec Electrode Ltd. | Conductive diamond electrode structure and method for electrolytic synthesis of fluorine-containing material |
| EP2006417A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | Permelec Electrode Ltd. | Conductive diamond electrode structure and method for electrolytic synthesis of fluorine-containing material |
| WO2020026854A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2020-02-06 | 昭和電工株式会社 | 電解合成用陽極、及び、フッ素ガス又は含フッ素化合物の製造方法 |
| TWI720556B (zh) * | 2018-08-03 | 2021-03-01 | 日商昭和電工股份有限公司 | 電解合成用陽極，及，氟氣或含氟化合物之製造方法 |
| KR20210024110A (ko) * | 2018-08-03 | 2021-03-04 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 전해 합성용 양극 및 불소 가스 또는 함불소 화합물의 제조 방법 |
| CN112513333A (zh) * | 2018-08-03 | 2021-03-16 | 昭和电工株式会社 | 电解合成用阳极、以及氟气或含氟化合物的制造方法 |
| JPWO2020026854A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2021-08-05 | 昭和電工株式会社 | 電解合成用陽極、及び、フッ素ガス又は含フッ素化合物の製造方法 |
| KR102617579B1 (ko) * | 2018-08-03 | 2023-12-27 | 가부시끼가이샤 레조낙 | 전해 합성용 양극 및 불소 가스 또는 함불소 화합물의 제조 방법 |
| JP7428126B2 (ja) | 2018-08-03 | 2024-02-06 | 株式会社レゾナック | 電解合成用陽極、及び、フッ素ガス又は含フッ素化合物の製造方法 |
| CN109208023A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-01-15 | 核工业第八研究所 | 一种延长碳阳极使用寿命的桥接板组合机构 |
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