JP2000313696A - 酸化物単結晶の作製方法 - Google Patents

酸化物単結晶の作製方法

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JP2000313696A
JP2000313696A JP11119584A JP11958499A JP2000313696A JP 2000313696 A JP2000313696 A JP 2000313696A JP 11119584 A JP11119584 A JP 11119584A JP 11958499 A JP11958499 A JP 11958499A JP 2000313696 A JP2000313696 A JP 2000313696A
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Hiroyuki Kawanaka
博之 川中
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Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属Gaを用いて、安価に作製できる酸化物
単結晶の作製方法を提供する。 【解決手段】 金属Ga及び酸化化合物からなる原料混
合物3を乾式混合した後、この原料混合物3を所定処理
条件で処理し、次に原料混合物3中の金属Gaを全てG
23に変化させて原料酸化物4を作製し、更に原料酸
化物4を白金るつぼ6に入れて溶融した酸化物融液7を
作製し、この酸化物融液7を用いて、酸化物単結晶の成
長を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学材料或いは圧
電材料として用いられる酸化物単結晶の作製方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】セラミックや酸化物単結晶等の酸化物材
料は、電子デバイス分野には、不可欠となっている。セ
ラミックは、パッケージや圧電セラミック等に、酸化物
単結晶は、圧電デバイス、レーザ素子及びその他の光学
応用等といった幅広いエレクトロニクスのキーデバイス
として利用されている。一般的に、前記酸化物単結晶
は、酸素を含む複合酸化物からなり、高品質化や従来と
は性質の異なる新機能化を目ざした研究開発が盛んに行
われている。例えば、Y−Alガーネット(以下、YA
Gという)、Li−Ta−O(以下、LTという)及び
Li−Nb−O(以下、LNという)といった酸化物単
結晶は、その代表的なものである。
【0003】また、「Sov.Phys.Dokl.2
7(6),June 1982,434.B.V.Mi
ll et al」に記載されているように、Ca3
2Ge414と同じ構造を有する多数の置換体材料が見
出され、新機能を有する圧電材料としての応用が期待さ
れる。特に、La3Ga5SiO14やLa3Ta0.5Ga
5.514、La3Nb0.5Ga5.514等のGaを含む酸化
物単結晶は、デジタル応用の通信デバイスとして開発が
急がれている。通常、これらの酸化物単結晶は、La2
3、Ga23、SiO2、Ta25及びNb酸化物が原
料として用いられ、これらの粉末原料を所定の割合で混
合し、焼成、或いは溶融させた後、チョクラルスキー法
による結晶成長を行って作製される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの酸
化物単結晶の作製においては、Ga23を多量に消費す
る。Ga23は、単価が高いので、これらの酸化物単結
晶の製造コストを上昇させるといった問題を生じてい
た。一方、金属Gaは、比較的安価に6N(純度99.
9999%)以上の高純度のものが入手できるため、こ
の金属Gaを酸化させてGa23を作製して酸化物単結
晶を作製すれば、製造コストを低下させることができ
る。
【0005】この金属Gaを用いて、酸化物単結晶を作
製するには、酸化物単結晶の原材料を所定の割合で混合
した後、酸素を含む空気中で熱処理を行って金属Gaを
酸化すると共に、原料酸化物を作製する。次に、前記原
料混合物を白金るつぼ(図示せず)に入れ、溶融した
後、チョクラルスキー法やブリッジマン法等により、結
晶成長を行う。
【0006】しかしながら、熱処理条件を最適化して金
属Gaの酸化を行っても、一部の金属Gaが酸化させず
にそのままの形で残ってしまう。このため、前記白金る
つぼ中で原料酸化物を溶融すると、金属Gaが前記白金
るつぼと反応して、この白金るつぼが溶け、穴や亀裂を
生じ、単結晶の成長ができなくなるといった問題を生じ
ていた。
【0007】そこで、本発明は、上記のような問題点を
解消するためになされたもので、金属Gaを用いて、安
価に作製できる酸化物単結晶の作製方法を提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の酸化物単結晶の
作製方法の第1の発明は、金属Ga及び酸化化合物から
なる原料混合物を乾式混合した後、この原料混合物を所
定処理条件で処理し、次に前記原料混合物中の金属Ga
を全てGa23に変化させて原料酸化物を作製し、更に
前記原料酸化物を白金るつぼに入れて溶融した酸化物融
液を作製し、この酸化物融液を用いて、酸化物単結晶の
成長を行うことを特徴とする。第2の発明は、請求項1
記載の酸化物単結晶の作製方法において、前記所定処理
条件は、空気又は酸素中で熱処理温度範囲500℃〜1
000℃で熱処理を行った後、前記原料混合物を粉砕す
る一連の作業を繰り返して行うことを特徴とする。第3
の発明は、請求項1記載の酸化物単結晶の作製方法にお
いて、前記所定処理条件は、空気又は酸素中で熱処理温
度範囲500℃〜1000℃で熱処理を行った後、前記
原料混合物を粉砕し、更に硝酸処理したことを特徴とす
る。第4の発明は、請求項1記載の酸化物単結晶の作製
方法において、前記所定処理条件は、硝酸処理を行うこ
とを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の一実施形態を説明する。本発明の実施形態では、代表
的な酸化物単結晶であるLa3Ta0.5Ga5.51 4(以
下、LTGという)の作製方法について以下に図1を用
いて説明する。図1は、本発明の実施形態の作製方法を
示す工程図である。まず初めに、図1(A)に示すよう
に、純度4N(99.99%)のLa23粉末、Ta2
5粉末及び純度6N(99.9999%)の金属Ga
粉末(粒径1mm〜5mm)をそれぞれ、14.66
g、3.31g及び11.50gを秤量し、乳鉢1内に
入れ、乳棒2を用いて、金属Gaと共にLa23粉末、
Ta25粉末を乾式混合して原料混合物3を作製する。
【0010】次に、図1(B)に示すように、セラミッ
ク容器5の中に原料混合物3を入れ、所定条件で熱処理
又は硝酸処理を行って、粉末状の原料酸化物4を作製す
る。次に、図1(C)に示すように、白金るつぼ6の中
に原料酸化物4を入れ、略1500℃の熱処理を行い、
溶融した酸化物融液7を作製する。この後、酸化物融液
7が入った白金るつぼ6を図示しないチョクラルスキー
炉に入れて、略1500℃の温度でLTG結晶の成長を
行う。
【0011】ここで、原料酸化物4を作製する際に、処
理条件を変化させた試料1乃至7を作製して金属Gaが
酸化する割合を調べて、酸化物融液7を作製した際に白
金るつぼ6を破損することのない最適条件について調べ
た。処理条件とは、熱処理と硝酸処理及びこれらを組み
合わせたものである。熱処理の際の昇温速度は200℃
/時間、保持時間は2時間である。硝酸処理は、原料混
合物3を100ccの68%硝酸水溶液に入れて、攪拌
しながら1時間放置し、金属Gaを硝酸と反応させてG
a(NO33・xHNO3・yH2O(x及びyは整数)
にした後、ホットプレートで水分を蒸発させ、更に30
0℃に過熱して脱硝酸を行う。
【0012】金属Gaのうち何%の割合でGa23に変
化したかは以下のようにしてわかる。即ち、原料混合物
3中のLa23粉末、Ta25粉末は、熱処理によって
変化しないが、金属GaはGa23に変化するので、原
料混合物3と原料酸化物4との間には重量変化を生じ
る。11.50gの金属Gaが全てGa23に変化する
と、Ga23の重量は、15.45gとなるため、原料
酸化物4の重量は、33.42gとなる。このことか
ら、各試料の秤量を行い、原料混合物3の重量に対する
各試料の重量に対する重量比を調べ、この重量比を基に
金属GaがGa23に変化した割合を換算することによ
り何%の金属GaがGa23に変化したかがわかる。
【0013】なお、実際には、この原料混合物3や原料
酸化物4を秤量する際に2%程度の秤量誤差があるの
で、この秤量誤差を考慮して金属Gaが全てGa23
変化したかどうかを判断した。即ち、金属GaがGa2
3に変化した割合が秤量誤差を含めて98%以上であ
れば、白金るつぼ6の破損がなくなることになる。その
結果を表1に示す。表1は、各試料のGa酸化の割合及
び白金るつぼの破損状態を示す表である。
【0014】
【表1】
【0015】表1中、Ga酸化の割合とは、金属Gaの
うちGa23に変化した割合を%表示で示したものであ
る。試料1は、原料混合物3を空気中で500℃で熱処
理を行った場合であるが、Ga酸化の割合は59%であ
った。このことは、原料混合物3中の金属Gaの表面の
みが酸化され、金属Gaの表面から内部への酸素の侵入
なく、この内部が酸化されていないためと考えられる。
試料2は、原料混合物3を空気中で500℃で熱処理を
行った後、酸素中で1000℃で行った場合であるが、
Ga酸化の割合は90%であった。
【0016】試料3は、原料混合物3を空気中で500
℃で熱処理を行った後、この原料混合物3を細かく粉砕
して粉末状にする一連の作業を3回繰り返した場合であ
るが、Ga酸化の割合は99%であった。試料4は、原
料混合物3を空気中で500℃で熱処理を行った後、酸
素中で1000℃で熱処理を行い、次に原料混合物3を
細かく粉砕して粉末状にする一連の作業を2回繰り返し
た場合であるが、Ga酸化の割合は98%であった。試
料5は、原料混合物3の熱処理を行わず、原料混合物3
を硝酸のみで処理した場合であるが、Ga酸化の割合は
99%であった。
【0017】試料6は、原料混合物3を空気中で500
℃で熱処理を行った後、原料混合物3を細かく粉砕して
粉末状にし、次に、硝酸処理をおこなった場合である
が、Ga酸化の割合は99%であった。試料7は、原料
混合物3を空気中で500℃で熱処理を行った後、酸素
中で1000℃で熱処理を行い、次に原料混合物3を細
かく粉砕して粉末状にし、更に硝酸処理した場合である
が、Ga酸化の割合は100%であった。
【0018】このように、原料混合物3の熱処理を行っ
た後、粉砕する一連の作業を複数回繰り返すか、或いは
原料混合物3を硝酸処理すると、金属Gaを全てGa2
3に変化させた原料酸化物4が得られる。この後、試
料1乃至7を白金ルツボ6に入れて、略1500℃の温
度で熱処理を行ったところ、試料1および2では白金る
つぼ6に穴や亀裂を生じたが、試料3乃至7では、これ
らの発生はなかった。
【0019】以上のように、原料混合物3を500℃〜
1000℃で空気中又は酸素中で熱処理を行い、引き続
いて、原料混合物3を細かく粉砕し粉末状する一連の作
業を繰り返して、原料混合物3中の金属Gaを全てGa
23に変化させて粉末状の原料酸化物4を作製した後、
更にこの原料酸化物4を白金るつぼ6に入れ、溶融した
酸化物融液7を作製し、この酸化物融液7を用いて、L
TG結晶の成長を行うので、白金るつぼ7を破損させず
に安価に、良好なLTG結晶を得ることができる。
【0020】また、原料混合物3を500℃〜1000
℃で空気中又は酸素中で熱処理を行った後、原料混合物
3を細かく粉砕し、引き続いて、硝酸処理を行い、原料
混合物3中の金属Gaを全てGa23に変化させて粉末
状の原料酸化物4を作製した後、更にこの原料酸化物4
を白金るつぼ6に入れ、溶融した酸化物融液7を作製
し、この酸化物融液7を用いて、LTG結晶の成長を行
うので、白金るつぼ7を破損させずに安価に、良好なL
TG結晶を得ることができる。
【0021】更にまた、原料混合物3を硝酸処理し、原
料混合物中の金属Gaを全てGa23に変化させると共
に粉末状の原料酸化物4を作製した後、更にこの原料酸
化物4を白金るつぼ6に入れ、溶融した酸化物融液7を
作製し、この酸化物融液7を用いて、LTGの成長を行
うので、白金るつぼ7を破損させずに安価に、良好なL
TG結晶を得ることができる。
【0022】これと同様にして、金属Ga,CaCO3
及びGeO2を用いてCa3Ga2Ge 414、金属Ga,
La23及びSiO2を用いてLa3Ga5SiO14、金
属Ga,La23及びNb25を用いてLa3Nb0.5
5.514を安価に作製することができる。また、金属
GaとGd23を用いてGd−Gaガーネット(GG
G)や金属Ga,Gd23及びY23を用いてGd−Y
−Gaガーネット(GYGG)のガーネット構造を有す
る結晶を安価に作製することもできる。
【0023】
【発明の効果】本発明の酸化物単結晶の作製方法によれ
ば、金属Ga及び酸化化合物からなる原料混合物を乾式
混合した後、この原料混合物を所定処理条件で処理し、
前記原料混合物中の金属Gaを全てGa23に変化させ
て原料酸化物を作製し、更に前記原料酸化物を白金るつ
ぼに入れて溶融した酸化物融液を作製し、この酸化物融
液を用いて、酸化物単結晶の成長を行うので、白金るつ
ぼを破損させずに安価に、良好な酸化物単結晶を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の製造方法を示す工程図であ
る。
【符号の説明】
1…乳鉢、2…乳棒、3…原料混合物、4…原料酸化
物、5…セラミック容器、6…白金るつぼ、7…酸化物
融液

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属Ga及び酸化化合物からなる原料混合
    物を乾式混合した後、この原料混合物を所定処理条件で
    処理し、次に前記原料混合物中の金属Gaを全てGa2
    3に変化させて原料酸化物を作製し、更に前記原料酸
    化物を白金るつぼに入れて溶融した酸化物融液を作製
    し、この酸化物融液を用いて、酸化物単結晶の成長を行
    うことを特徴とする酸化物単結晶の作製方法。
  2. 【請求項2】前記所定処理条件は、空気又は酸素中で熱
    処理温度範囲500℃〜1000℃で熱処理を行った
    後、前記原料混合物を粉砕する一連の作業を繰り返して
    行うことを特徴とする請求項1記載の酸化物単結晶の作
    製方法。
  3. 【請求項3】前記所定処理条件は、空気又は酸素中で熱
    処理温度範囲500℃〜1000℃で熱処理を行った
    後、前記原料混合物を粉砕し、更に硝酸処理したことを
    特徴とする請求項1記載の酸化物単結晶の作製方法。
  4. 【請求項4】前記所定処理条件は、硝酸処理を行うこと
    を特徴とする請求項1記載の酸化物単結晶の作製方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN107304481A (zh) * 2016-04-21 2017-10-31 国立大学法人信州大学 氧化镓晶体的制造装置和氧化镓晶体的制造方法

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