JP2000312708A - 電子ビーム照射装置 - Google Patents

電子ビーム照射装置

Info

Publication number
JP2000312708A
JP2000312708A JP11124109A JP12410999A JP2000312708A JP 2000312708 A JP2000312708 A JP 2000312708A JP 11124109 A JP11124109 A JP 11124109A JP 12410999 A JP12410999 A JP 12410999A JP 2000312708 A JP2000312708 A JP 2000312708A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
irradiation
dose
irradiated
adjuster
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11124109A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Doi
猛 土井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NKK Plant Engineering Corp
Original Assignee
NKK Plant Engineering Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NKK Plant Engineering Corp filed Critical NKK Plant Engineering Corp
Priority to JP11124109A priority Critical patent/JP2000312708A/ja
Publication of JP2000312708A publication Critical patent/JP2000312708A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被滅菌物に対して、その形状に左右されるこ
となく均一に電子ビームを照射することが可能な電子ビ
ーム照射装置を提供する。 【解決手段】 電子ビーム源が発射する電子ビームは、
線量調整器を通過した後に被照射物に照射される。ここ
で、線量調整器は、電子ビームの照射方向と垂直な方向
における被照射物のあらゆる点において、前記電子ビー
ムが通過する際の吸収の割合を示す吸収割合値が一定と
なるように構成されている。よって、被照射物の各点に
おいて、線量調整器により吸収される線量と被照射物に
より吸収される線量との合計が一定となるので、被照射
物にはその形状にかかわらず均一な線量の電子ビームが
照射される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医療用機器、医薬
品、衛生用品、さらには食品等に対して滅菌の目的で電
子ビームを照射する電子ビーム照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、医療用機器、医薬品などの滅
菌は、蒸気加熱処理、エチレンオキサイドガス等による
化学処理、ガンマー線の照射処理、電子ビーム照射処理
等によって行われている。しかし、蒸気加熱処理は、被
滅菌物に対する1回の処理量が少なく非能率的である
上、耐熱性の設備が必要となるという問題がある。エチ
レンオキサイド等による化学処理は、環境衛生上の問題
が大きい。また、ガンマー線照射処理は、極めて大規模
な完璧な遮蔽設備を必要とする上、使用済み照射源の廃
棄処理が問題になる。これに対し、電子ビーム照射処理
は、上述したような問題が少なく、多量の被滅菌物を効
率的に処理できる利点がある。
【0003】電子ビームの照射による滅菌において、被
滅菌物がある程度の厚みを有する形状である場合には、
被滅菌物内で照射した電子ビームの吸収および減衰が生
じる。このため、ある程度の厚みを有する被滅菌物に対
しては、電子ビームを両面から照射して滅菌を行うのが
一般的である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、電子ビーム照
射には、被滅菌物の形状に関する問題が存在する。被滅
菌物が矩形の断面形状を有し、かつ、適切な厚さを持つ
場合には、両面から照射された電子ビームは、電子ビー
ムの照射方向と垂直な方向の異なる位置においてほぼ均
一な線量分布を示す。しかし、例えば被滅菌物の断面が
円形である場合、被照射物内の中心よりの位置と周辺よ
りの位置では照射される電子ビームの線量が大きく異な
る。即ち、中心よりの位置では照射された電子ビームは
被滅菌物を内部を長い距離に渡り通過して円形の中央付
近に到達するため、その間に電子ビームの吸収および減
衰が生じ、中央部に到達する電子ビームの線量は大きく
ならない。これに対し、円形の周辺よりの位置では、照
射された電子ビームが被滅菌物内部を通過する距離が短
いため、電子ビームの吸収および減衰は小さく、その結
果到達する電子ビームの線量は大きくなる。このよう
に、被滅菌物の断面形状が矩形以外である場合には、照
射される電子ビームの線量分布が不均一となる。
【0005】このような場合、照射する電子ビームの強
度を断面形状の厚みが小さい部分(例えば、円形断面の
周辺付近)に最適となるように調整すると、被滅菌物の
中央付近の位置の滅菌が不十分となる。一方、電子ビー
ムの強度を厚みの大きい部分(例えば円形断面の中央付
近)に最適となるように調整すると、被滅菌物の厚みの
小さい部分で照射線量が過大となり、材料の劣化が生じ
るおそれがある。また、部分的に過大な線量の照射を行
うことになるため、電子ビームの照射電力効率も悪化す
る。
【0006】本発明は、以上の点に鑑みてなされたもの
であり、被滅菌物に対して、その形状に左右されること
なく均一に電子ビームを照射することが可能な電子ビー
ム照射装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
よれば、電子ビーム照射装置において、電子ビーム源
と、前記電子ビーム源と被照射物との間に配置される線
量調整器と、を備え、前記線量調整器は、前記電子ビー
ムの照射方向と垂直な方向における前記被照射物のあら
ゆる点において、前記電子ビームが通過する際の吸収の
割合を示す吸収割合値が一定となるように構成され、前
記吸収割合値は、前記線量調整器を構成する材料の平均
密度をP1、前記線量調整器内を前記電子ビームが通過
する距離をX1、前記被照射物を構成する材料の平均密
度をP2、前記被照射物内を前記電子ビームが通過する
距離をX2とすると、P1×X1+P2×X2で示され
ることを特徴とする。
【0008】上記のように構成された発明によれば、電
子ビーム源が発射した電子ビームは線量調整器を通過し
た後に被照射物に照射される。ここで、線量調整器は、
電子ビームの照射方向と垂直な方向における被照射物の
あらゆる点において、前記電子ビームが通過する際の吸
収の割合を示す吸収割合値が一定となるように構成され
ている。これは、前記線量調整器を構成する材料の平均
密度をP1、前記線量調整器内を前記電子ビームが通過
する距離をX1、前記被照射物を構成する材料の平均密
度をP2、前記被照射物内を前記電子ビームが通過する
距離をX2とすると、吸収割合値=P1×X1+P2×
X2=一定(理想値)とすることにより実現される。よ
って、被照射物の各点において、線量調整器により吸収
される線量と被照射物により吸収される線量との合計が
一定となるので、被照射物にはその形状にかかわらず均
一な線量の電子ビームが照射される。
【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の電子ビーム照射装置において、前記線量調整器は前記
電子ビーム源に固定され、前記電子ビーム照射装置は、
さらに前記被照射物を前記線量調整器に対して位置決め
する手段を備えることを特徴とする。これにより、搬送
経路中の被照射物などに対しても線量を均一に調整する
ことができる。
【0010】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載の電子ビーム照射装置において、前記線量調整
器は、冷却媒体の通路を備えることを特徴とする。これ
により、線量調整器の加熱が防止される。
【0011】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3
のいずれかに記載の電子ビーム照射装置において、前記
線量調整器は、前記被照射物の形状に適合した内部形状
を有することを特徴とする。これにより、被照射物に対
する照射線量の調整が容易になる。
【0012】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の電子ビーム照射装置において、前記線量調整器は、前
記被照射物の形状に適合した内部形状を有し、前記被照
射物を内部に収容することを特徴とする。これにより、
被照射物と線量調整期を結合して一体とすることができ
るので、電子ビームの照射の際の位置決め精度の要求を
緩和することができる。
【0013】請求項6に記載の発明は、請求項1に記載
の電子ビーム照射装置において、前記電子ビーム源は、
前記電子ビームを前記被照射物の両面に照射することを
特徴とする。これにより、ある程度の厚さを有する被照
射物に対して効率的かつ確実に電子ビームを照射するこ
とができる。
【0014】
【発明の実施の形態】まず、好適な実施形態の説明に先
立ち、滅菌のために照射する電子ビームの強度と被照射
物(被滅菌物)の形状との関係について考察する。
【0015】図1に、一例として直径6cm、比重1の
物質からなる円筒形状の被照射物の断面を示す。図1の
例では、被照射物に対して左右から電子ビームを照射す
る。照射位置Aは円形断面の直径位置とし、照射位置B
およびCは円形断面の周辺よりに決める。照射位置Bで
は電子ビームが被照射物内を通過する長さは4cmと
し、照射位置Cでは電子ビームが被照射物内を通過する
長さは2cmとする。
【0016】図2に、各照射位置A〜Cにおいて電子ビ
ームを照射した場合の、被照射物内での線量の分布を示
す。図2(A)〜(C)において、縦軸は電子ビームの
相対線量を示し、滅菌の目的で必要とされる線量を10
0%としている。横軸は、比重を1としたため、被照射
物内の位置を示す。電子ビームは図1に示すように左右
から照射されているが、横軸の位置を示す数字は便宜上
左側からの位置のみを示す。図2(A)〜(C)におい
て、波線の特性50、53、56は左側からの電子ビー
ムの線量を示し、波線の特性51、54、57は右側か
らの電子ビームの線量を示す。実線の特性52、55、
58は左右からの電子ビームの総(合計)線量を示す。
【0017】図2(A)〜(C)から分かるように、本
例では電子ビームは被照射物の深さ2〜3cm付近で線
量が最大となる。従って、図2(A)に示す照射位置A
の場合、横方向の幅6cmの被照射物の中央付近位置で
総線量は210%に達する。また、図2(B)に示す照
射位置Bの場合は総線量のピーク値は245%にも達
し、被照射物の端部付近でも総線量は160%に達す
る。さらに、図2(C)に示す照射位置Cの場合には、
ほぼ被照射物の全体で総線量が220%に達する。この
ように、被照射物の形状により、線量分布は大きく異な
る。
【0018】一方、図3は、同一の物質からなる断面形
状が矩形で厚さ8cm(理想値)の被照射物に対して左
右から電子ビームを照射した場合の線量分布を示す。特
性60は右側からの電子ビームの線量、61は左側から
の電子ビームの線量、62は総線量を示す。被照射物の
いずれの位置においても必要線量以上の線量の照射が行
われているので、十分な滅菌効果が得られている。ま
た、総線量の最大値は約126%であり、必要線量の2
0%増程度に抑えられているので被照射物の材料劣化の
問題はほとんど生じず、理想的な線量分布が得られてい
る。
【0019】被照射物内での電子ビームの吸収および減
衰量は、電子ビームが通過する被照射物の密度および通
過する距離の積(以下、「吸収割合値」と呼ぶ。)で評
価される。従って、被照射物に対して均一な線量の照射
を行うには、この吸収割合値が一定となるように被照射
物に対して電子ビーム照射を行う必要がある。上記の例
においては、被照射物の密度が一様であることが前提で
あったので、電子ビームの照射距離(深さ)を均一にす
れば照射線量が均一となった。
【0020】続いて、本発明の好適な実施の形態につい
て説明する。本発明においては、上記の吸収割合値を被
照射物に対して均一となるように調整するための線量調
整器(線量調整器)を導入する。図4(A)は、線量調
整器10と被照射物例としてのダイアライザー15の関
係を示す断面図である。ダイアライザー15は円筒形状
の透析などに使用される医療用器具であり、内部には水
が含まれているものもある。また、線量調整器10は、
中空であり内部の空洞11には冷却媒体としての冷却水
11が入れられる。なお、水以外の冷却媒体も使用可能
である。例えば、被照射物で使用される液体と同一のも
のを冷却媒体として用いることもできる。
【0021】線量調整器10を構成する材料は、電子ビ
ーム照射によって劣化しない強度を有する必要があり、
また被照射物とほぼ等価な密度を有する物質が好まし
い。特に好適な例はアルミニウムである。図4(A)の
例では、薄いアルミニウム板により中空構造を形成し、
内部を冷却媒体により冷却している。
【0022】また、線量調整器10は、ダイアライザー
15と対向する側の面に、ダイアライザーの円筒形状と
適合する円筒壁状のくぼみ12を備える。線量調整器1
0の、ダイアライザー15と逆側から電子ビームを照射
してダイアライザー15の滅菌を行う。線量調整器10
は、前述した電子ビームの吸収割合値がダイアライザー
15の形状にかかわらず均一となるような形状に形成さ
れる。即ち、具体的には、図4(A)に示すように、線
量調整器10を形成する材料の平均密度をP1とし、ダ
イアライザー15の平均密度をP2とし、電子ビームの
照射方向に沿った線量調整器の長さ(厚み)をX1と
し、電子ビームの照射方向に沿ったダイアライザー15
の長さ(厚み)をX2とすると、被照射物の各位置に対
してP1・X1+P2・X2=一定値(理想値)という
関係が維持されるように線量調整器1を形成する。ここ
で一定値は、滅菌のために必要な適切な線量に対応する
吸収割合値であり、具体的な数値は照射する電子ビーム
の強度、被照射物の寸法などに依存する。図4(A)に
示した例では、片側からの照射のみを考えると、上記一
定値=1g/cm3×4cm=4g/cm2である。
【0023】図5に、線量調整器を採用する電子ビーム
照射装置の概略構成を示す。図5において、電子ビーム
管20の下部のウィンドウ21に線量調整器10が取り
付けられる。ウィンドウ21は電子ビームの出口であ
る。線量調整器10の下方にダイアライザー15が配置
される。ダイアライザー15は、図4(A)に示すよう
に、各々が線量調整器10の各くぼみ12に対向するよ
うに正確に位置決めがなされる。また、線量調整器10
の内部の空洞11には冷却媒体が入っている。なお、ダ
イアライザーはコンベアなどの図示しない搬送手段によ
り搬送され、位置決めされる。ダイアライザー15が線
量調整器10のくぼみ12に対して正確に位置決めされ
た状態で、電子ビーム管20が電子ビームを発射する。
発射された電子ビームは線量調整器10内を通過し、ダ
イアライザー15に照射される。この時、前述のように
線量調整器10の形状はダイアライザー15の各位置に
対して吸収割合値が一定となるように形成されているの
で、ダイアライザー15の電子ビームの方向と垂直な方
向の全ての位置において、電子ビームの吸収および減衰
量は等しくなり、均一な線量の照射がなされることにな
る。なお、空気中の通過による電子ビームの吸収および
減衰は零とみなすことができるので、ダイアライザー1
5を線量調整器10の対応するくぼみ12内に収容する
ために図4における上方へ移動する必要はない。これ
は、ダイアライザー15の搬送手段を簡素化し、作業効
率を上昇させる。
【0024】なお、実際には、図5に示す電子ビーム管
20、線量調整器21はダイアライザー15の下方にも
う一組用意され、上下方向から電子ビームを両面照射す
る。
【0025】図4(B)に、線量調整器10の変形例を
示す。本例では、線量調整器10をアルミニウムなどの
材料で中実に構成し、冷却水を通過させるための冷却水
孔13を設ける。この変形例によれば、アルミニウムな
どの材料にくぼみ12と冷却水孔13を設けるだけでよ
く、中空構造を形成する必要が無くなる。
【0026】図6に、線量調整器の他の実施形態を示
す。図6(A)はダイアライザー15を収容した時の線
量調整器10の側面図であり、図6(B)はその斜視図
である。図4および5を参照して説明した電子ビーム照
射装置においては線量調整器10を電子ビーム管20の
ウィンドウ21に取り付け、ダイアライザー15を線量
調整器10の各くぼみ12に対して位置決めしている。
これに対し、図6に示す実施形態では、被照射物の形状
に適合する内部形状を有する線量調整器10を用意し、
ダイアライザー15と予め結合して一体の被照射体を構
成する。こうして得られた被照射体をコンベアなどの搬
送手段により搬送し、途中で上下方向から電子ビームを
照射して滅菌を行う。この方法によれば、ダイアライザ
ーなどの被照射物と正確に適合する線量調整器を形成で
きるので、被照射物に対する照射線量分布をさらに正確
に均一に調整することができる。また、搬送手段上の搬
送方向における被照射体の位置決め精度を、図4および
5に示す実施形態の場合と比べて緩やかにすることがで
きる。
【0027】なお、図6に示す線量調整器10も被照射
物とほぼ同等な密度を有する物質により構成することが
好ましい。例えば、薄いアルミニウムによる中空構造又
は中実アルミニウムとすることができる。中空構造の場
合は、内部に被照射物で用いられている液体と同一の液
体や水を入れることができる。
【0028】なお、上記の実施形態においては、被照射
物が円筒形である場合を例示したが、本発明の適用はこ
れに限られるものではない。即ち、断面形状が4角形以
外の多角形である被照射物や、縦および横方向に複雑な
凹凸を有する形状の被照射物に対しても同様に本発明を
適用することができる。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被照射物の形状、材料の密度などを考慮して作成した線
量調整器を使用することにより、被照射物に与えられる
電子ビームの照射線量を均一にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】被照射物の異なる位置に電子ビームを照射する
例を示す図である。
【図2】図1に示す各照射位置で電子ビームを照射した
場合の、相対線量と被照射物内の位置との関係を示す図
である。
【図3】図1に示す被照射物に対する理想的な相対線量
分布を示す図である。
【図4】本発明の実施形態にかかる線量調整器の例を示
す概略図である。
【図5】線量調整器を使用した電子ビーム照射装置の概
略構成図である。
【図6】線量調整器の他の実施形態を示す図である。
【符号の説明】
10…線量調整器 11…冷却水 12…くぼみ 13…冷却水孔 15…ダイアライザー 20…電子ビーム管 21…ウィンドウ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子ビーム源と、 前記電子ビーム源と被照射物との間に配置される線量調
    整器と、を備え、 前記線量調整器は、電子ビームの照射方向と垂直な方向
    における前記被照射物のあらゆる点において、前記電子
    ビームが通過する際の吸収の割合を示す吸収割合値が一
    定となるように構成され、前記吸収割合値は、前記線量
    調整器を構成する材料の平均密度をP1、前記線量調整
    器内を前記電子ビームが通過する距離をX1、前記被照
    射物を構成する材料の平均密度をP2、前記被照射物内
    を前記電子ビームが通過する距離をX2とすると、P1
    ×X1+P2×X2で示されることを特徴とする電子ビ
    ーム照射装置。
  2. 【請求項2】 前記線量調整器は前記電子ビーム源に固
    定され、前記電子ビーム照射装置は、さらに前記被照射
    物を前記線量調整器に対して位置決めする手段を備える
    ことを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム照射装
    置。
  3. 【請求項3】 前記線量調整器は、冷却媒体の通路を備
    えることを特徴とする請求項1または2に記載の電子ビ
    ーム照射装置。
  4. 【請求項4】 前記線量調整器は、前記被照射物の形状
    に適合した内部形状を有することを特徴とする請求項1
    乃至3のいずれかに記載の電子ビーム照射装置。
  5. 【請求項5】 前記線量調整器は、前記被照射物の形状
    に適合した内部形状を有し、前記被照射物を内部に収容
    することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム照射
    装置。
  6. 【請求項6】 前記電子ビーム源は、前記電子ビームを
    前記被照射物の両面に照射することを特徴とする請求項
    1に記載の電子ビーム照射装置。
JP11124109A 1999-04-30 1999-04-30 電子ビーム照射装置 Pending JP2000312708A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11124109A JP2000312708A (ja) 1999-04-30 1999-04-30 電子ビーム照射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11124109A JP2000312708A (ja) 1999-04-30 1999-04-30 電子ビーム照射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000312708A true JP2000312708A (ja) 2000-11-14

Family

ID=14877152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11124109A Pending JP2000312708A (ja) 1999-04-30 1999-04-30 電子ビーム照射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000312708A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002098471A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-12 Surebeam Corporation System for, and method of, irradiating articles
WO2003009875A1 (en) * 2001-07-24 2003-02-06 Surebeam Corporation Systems for, and methods of, irradiating articles disposed in a container
JP2008237380A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Shibuya Kogyo Co Ltd 電子線殺菌装置
JP2010505453A (ja) * 2006-06-01 2010-02-25 アボット カーディオヴァスキュラー システムズ インコーポレイテッド 医療デバイスの放射線滅菌

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002098471A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-12 Surebeam Corporation System for, and method of, irradiating articles
WO2003009875A1 (en) * 2001-07-24 2003-02-06 Surebeam Corporation Systems for, and methods of, irradiating articles disposed in a container
JP2010505453A (ja) * 2006-06-01 2010-02-25 アボット カーディオヴァスキュラー システムズ インコーポレイテッド 医療デバイスの放射線滅菌
JP2008237380A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Shibuya Kogyo Co Ltd 電子線殺菌装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2001248192B2 (en) Product irradiator for optimizing dose uniformity in products
US7067822B2 (en) Bulk material irradiation system and method
US20070170375A1 (en) Device for outputting high and/or low energy X-rays
AU2001248192A1 (en) Product irradiator for optimizing dose uniformity in products
EP2292515A1 (en) Electron beam irradiation device for aperture vessel
JP2000312708A (ja) 電子ビーム照射装置
JP2000334028A (ja) 医療用品の電子線による滅菌方法
CN116761552A (zh) 辐照设备
WO2018180464A1 (ja) 電子線滅菌装置および電子線滅菌方法
US6475432B2 (en) Carrier and support for work pieces
JP2018503565A (ja) 滅菌対象物に対して相対的に移動する外面滅菌エミッタを有する電子線滅菌システム
JPH10268100A (ja) 電子線照射装置
US7067827B2 (en) Apparatus and method for electron beam irradiation having improved dose uniformity ratio
JP2002078780A (ja) 電子線照射方法とその装置
US20050058246A1 (en) Process and apparatus for irradiating product pallets
CN116830214A (zh) 辐照设备
JP2019085143A (ja) 容器に対する閃光パルス殺菌処理システム
JP3787993B2 (ja) 電子線照射装置
JP2002000705A (ja) 医療機器の電子線照射装置
JP3693072B2 (ja) 電子線照射装置
JP2002221599A (ja) 電子線照射システム及びx線照射システム
US20240066158A1 (en) System and method for irradiating cannabis to mitigate biological contamination
US20050053194A1 (en) Method and apparatus for X-ray irradiation having improved throughput and dose uniformity ratio
JP7071714B2 (ja) 電子線殺菌方法
JPH0716286A (ja) 電子線を用いた殺菌方法