JP2000310843A - 像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】大きさが限定された２次元周期的コンタクトホ
ール列のようなパターンに対して、有効光源を最適化す
ることができ、コントラストと深度とを共に向上させる
ことが可能な像投影方法、および該方法を用いたコンタ
クトホールの露光方法を提供すること。 【解決手段】ピッチが２ｋ１（λ／ＮＡ）の縦方向と横
方向に二次元周期的な配列を有する微細な格子状パター
ンを照射し、該微細な格子状パターンで生じる回折光を
投影光学系の瞳に入射させて微細な格子状パターン像を
投影する像投影方法であって、前記ピッチが０．５≦２
ｋ１≦１．０とされた微細な格子状パターンを、瞳の円
と重ねたときに一部が該円からはみ出る矩形の環と該瞳
の円とを重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を瞳
に形成する光で照射するようにした像投影方法、および
該方法を用いたコンタクトホールの露光方法を提供す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、像投影方法、およ
び該方法を用いたコンタクトホールの露光方法に関し、
特に、大きさが限定された２次元周期的コンタクトホー
ル列のようなパターンに対して、有効光源を最適化する
ようにした像投影方法、および該方法を用いたコンタク
トホールの露光方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】コンタクトホールの形成方法に関して
は、既に、ＩＤＥＡＬ露光方式を用いた方法が提案され
ており、そこでは実際のコンタクトホールの配置された
レチクルを用いた通常露光と、縦横に数多く配列した周
期的コンタクトホール列のレチクルを用いた露光との、
二重露光をおこなう方法について述べられている。ま
た、縦方向と横方向に周期的である二次元周期的コンタ
クトホール列の露光に関しても、２光束干渉による露光
方法が提案されている。

【０００３】二次元周期的コンタクトホール列は、図２
に示すようなレチクルによって作成される。図２は、レ
チクル上のパターンを示し、図中黒い部分はガラスなど
の基板にクロムなどの遮光膜により遮光部、黒に囲まれ
た部分はガラスなどの光透過部を示している。図２
（ｂ）は、図２（ａ）の遮光部に対応するところが光透
過部となり、この図２（ａ）の光透過部に対応するとこ
ろが位相が周囲と反転しているようなクロムレスの位相
シフトマスクとなっている。図２（ｃ）には、隣り合う
光透過部の位相が互いに反転している位相シフトマスク
の格子パターンよりなる構成が示されている。また、図
２（ｄ）には、遮光部のない隣り合う光透過部の位相が
互いに反転している位相シフトマスクの格子パターンよ
りなり、１つの格子の長さは図２（ｃ）の２倍になって
いる構成が示されている。

【０００４】図２に示すような周期的コンタクトホール
列を図１に示すような４重極照明を用いて露光すると、
２光束干渉がおこる。図１の図中の斜線部が投影光学系
の瞳（以下瞳と記す。）上の照明光の有効光源分布を示
している。２光束干渉による周期的コンタクトホール列
の解像の様子を、図３から図６を用いて簡単に説明す
る。図３に示すように微細な周期的コンタクトホール列
の格子状パターンをｘ方向から斜めに照明すると０次光
が傾いてマスク上パターンを照明し、０次光と１方の１
次光の２光束の干渉によってＬ／Ｓパターンとして解像
する。またｙ方向から斜めに照明すると同様に０次光と
１方の１次光の２光束の干渉によって前述のものに直交
したＬ／Ｓパターンとして解像する。４重極照明によっ
てマスクの種類により、図２（ａ）（ｂ）のようなパタ
ーンでは前記瞳上に図５右図のような２光束干渉がおこ
り、図２（ｃ）（ｄ）のようなパターンでは瞳上に図６
右図のような２光束干渉がおこる。

【０００５】この時の像は図４に示すようになり、これ
らの直交したＬ／Ｓパターンの重ね合せによってコンタ
クトホール列が形成される。この時の強度分布はＡ断面
上とＢ断面上では図４右のパターンの上に示される分布
となる。Ａ断面のコントラストは最大、 （Ｉｍａｘ−Ｉｍｉｎ）／（Ｉｍａｘ＋Ｉｍｉｎ）＝（２−１）／（ ２＋１）＝０．３３ （Ａ） Ｂ断面のコントラストは最大、 （Ｉｍａｘ−Ｉｍｉｎ）／（Ｉｍａｘ＋Ｉｍｉｎ）＝（１−０）／（ １＋０）＝１．０ （Ｂ） となり、パターンを光透過型としてとらえるとＡ断面、
パターンを光遮光型としてとらえるとＢ断面のコントラ
ストが得られる。

【０００６】つまり、光をあてたところがパターンとし
て形成される場合、光強度の高いＡ断面上にある強度２
の部分が所定の露光量に達したときにパターンが形成さ
れる。この所定の露光量はレジストの物性による。逆に
光のあたらないところがパターンとして形成される場
合、光強度の低いＢ断面上にある強度０の部分のパター
ンが形成される。通常ポジ型レジストを用い、この場合
はコンタクトホールの穴をあけるために、ホールパター
ン位置は光が当たる部分となるのでＡ断面のコントラス
トが像の形成に関連する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】４重極照明では瞳上の
所定の位置にある４点の付近に照明光のエネルギーを集
中させることになる。このような有効光源分布にするた
めに、実際には照明系の投影光学系の瞳と共役な位置に
ある面内で所定の位置の４点付近に照明光の分布を集中
させ、さらに所定の位置の４点を中心とするある大きさ
に絞るために図１のような４重極の開口絞りをいれるこ
とにより、４重極の２次光源を形成する。絞りは図１の
斜線部が開口部分となる。したがって、このような４重
極照明では、この絞りによって照明光の一部の光のみを
露光光として用い、それ以外は不要な光として排除する
ため、照明のエネルギー効率が悪くなる場合がある。

【０００８】そこで、本発明は、大きさが限定された２
次元周期的コンタクトホール列のようなパターンに対し
て、有効光源を最適化することができ、コントラストと
投影光学系の焦点深度とを共に向上させることが可能な
像投影方法、および該方法を用いたコンタクトホールの
露光方法を提供することを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、像投影方法、および該方法を用いたコンタ
クトホールの露光方法を、つぎのように構成したことを
特徴とするものである。すなわち、本発明の像投影方法
は、ピッチが２ｋ１（λ／ＮＡ）の縦方向と横方向に二
次元周期的な配列を有する微細な格子状パターンを照射
し、該微細な格子状パターンで生じる回折光を投影光学
系の瞳に入射させて微細な格子状パターン像を投影する
像投影方法であって、前記ピッチが０．５≦２ｋ１≦
１．０とされた微細な格子状パターンを、瞳の円と重ね
たときに一部が該円からはみ出る矩形の環と該瞳の円と
を重ねた際の交わる領域に対応する有効光源を瞳に形成
する光で照射することを特徴としている。

【００１０】ここで、λは格子状パターンに照射する光
の波長、ＮＡは投影光学系の格子状パターン側（入射
側）の開口数である。また、縦と横のピッチは同じでも
異なっていてもよい。また、前記矩形の縦と横の辺がそ
れぞれ前記縦方向、横方向に延びるものである。また、
本発明の像投影方法は、前記有効光源が、０次回折光と
１次回折光のペアを同時に瞳に入射する有効光源形状と
されていることを特徴としている。また、本発明の像投
影方法は、前記矩形環状の環の中心位置ｓ１が、前記瞳
の半径を１としたとき、ｓ１＝１／２×（２ｋ１）とさ
れていることを特徴としている。また、本発明の像投影
方法は、前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長さを
ｓ２としたとき、ｓ２≦０．２とされていることを特徴
としている。また、本発明の像投影方法は、前記矩形環
状の環の幅が、幅の１／２の長さをｓ２としたとき、ｓ
２≦０．１とされていることを特徴としている。また、
本発明の像投影方法は、瞳の軸上、２ｓ１の点を中心と
する円弧と矩形環状と有効光源の範囲（最大σ値を半径
とする瞳上の円）の交わる領域をとり、瞳のｘ軸、ｙ軸
に対して対称とすることを特徴としている。また、本発
明のコンタクトホールの露光方法は、前記瞳のｘ軸とｙ
軸を、前記微細な格子状パターン列の並びの方向のｘ軸
とｙ軸の方向と一致させたことを特徴としている。ま
た、本発明の像投影方法は、縦横に周期的に配列された
２次元周期的コンタクトホール列からなるパターンによ
って露光するコンタクトホールの露光方法において、前
記２次元周期的コンタクトホール列に対して、上記した
本発明のいずれかの像投影方法を用いてその矩形環状の
有効光源を形成する光で照射し、コンタクトホールを露
光することを特徴としている。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明は、上記した構成によっ
て、大きさが限定された２次元周期的コンタクトホール
列のようなパターンに対して、有効光源を最適化するこ
とができ、コントラストと投影光学系の焦点深度（以
下、深度と記す。）とを共に向上させることを可能とし
たものであるが、それは、本発明者が鋭意研究した結果
によるつぎのような知見に基づくものである。たとえ
ば、照明のエネルギー効率が悪くならないよう４点の付
近に照明光のエネルギーを集中させないように、絞りの
開口の円の半径を大きくすると、ベストフォーカスでの
コントラストと深度が減少する。

【００１２】この様子を図１、図７を用いて説明する。
図１に示すように、瞳の座標系をｋｘ，ｋｙとし、瞳半
径を１に規格化する。４重極の１つの有効光源の中心位
置は、次のようにするとコントラストが得られる。０次
回折光と１次回折光の２光束の干渉で、コントラストが
良好に得られる有効光源の位置ｒｏは、０次回折光と１
次回折光が瞳上で等距離となる位置であるから、ｒｏは
次の様になる。０次回折光と１次回折光とのなす角は１
／（２ｋ１）であるから、 ｒｏ＝１／（２ｋ１）／２＝ １／（４ｋ１） となる。従って有効光源の中心位置は、 （ｋｘ，ｋｙ）＝（ｒｏ，０），（０，ｒｏ），（−ｒ
ｏ，０），（０，−ｒｏ） の４点とする。この４点を中心とし、１つの有効光源の
半径をσとし、σ＝０．０５，０．１，０．１５，０．
２の４通りを比較する。

【００１３】一例として波長２４８ｎｍ， ＮＡ＝０．
６０， ホール幅と間隔が等しく０．１３μｍ（ｋ１＝
０．３１）のホール列について、二次元強度分布を計算
した。 有効光源の中心位置ｒｏ＝１／（４ｋ１）＝０．８ １つの有効光源の半径をσとし、σ＝０．０５，０．
１，０．１５，０．２の４通りを比較した。この二次元
強度分布の前述のＡ断面とＢ断面についてコントラスト
をそれぞれ計算した。Ａ断面は光強度の高いパターンを
光透過型としてとらえており、Ｂ断面は光強度の低いパ
ターンを光遮光型としてとらえたものである。図７の上
段は、Ａ断面のコントラスト、図７の下段は、Ｂ断面の
コントラストデフォーカス特性を示した。図７では、有
効光源の中心位置が同じで、σが４通りの場合に対し
て、デフォーカスを横軸にコントラストを縦軸にして図
示した。図７に示すようにσが大きくなると、つまり絞
りの開口の円の半径を大きくすると、ベストフォーカス
でのコントラストおよびデフォーカス時のコントラスト
が減少する。したがってあるコントラストレベルを定め
たときのデフォーカス幅を深度とすると、絞りの開口の
円の半径を大きくすると深度が減少する。

【００１４】次に周期的コンタクトホール列のコントラ
ストと深度を得るために最適な有効光源位置を示す。有
効光源を点として、ホール幅０．１３μｍ（ｋ１＝０．
３１）の像で各点のコントラストへの寄与を求めた。

【００１５】図８に示したような点状の有効光源１およ
び２について、Ｋｘ，Ｋｙ軸に関して対称にした有効光
源からの二次元強度分布からのＡ断面とＢ断面でのコン
トラストを図９、１０に示す。図９に示すように、有効
光源をＫｙ軸上（Ｋｘ＝０）に動かした場合、コントラ
ストの変化をｄｅｆ＝０とｄｅｆ＝０．６とで示した。
図９よりＫｙ＝１／４ｋ１＝０．８１でｄｅｆ＝０とｄ
ｅｆ＝０．６の両方でコントラストが最大に近い値を取
る。Ｋｙ＝１／４ｋ１のＫｘ，Ｋｙ軸に関して対称な斜
入射は、コントラストおよび深度ともに最大となること
が確認される。次にこのＫｙ＝０．８１としたまま、有
効光源をＫｘ方向に動かした。

【００１６】図１０に示すように有効光源をＫｘ方向
（Ｋｙ＝０．８１）に動かした場合、コントラストの変
化をｄｅｆ＝０とｄｅｆ＝０．６とで示した。Ｋｙ＝１
／４ｋ１（Ｋｘ≠０）のＫｘ，Ｋｙ軸に関して対称な斜
入射は、ｄｅｆ＝０．６でほとんどコントラストが低下
しない。即ち、コントラスト、深度が大きくとれること
が確認される。以上の結果をもとにして、コントラス
ト、深度が大きくとれる有効光源分布は図１１のような
矩形環状になる。

【００１７】ところで、微細な縦横パターンを解像する
ために焦点深度を拡大するために、特開平５−３６５８
５公報において図１２のような矩形環状有効光源が開示
されている。そこには、微細な縦横パターンをこのよう
な矩形環状で照明すると、デフォーカスによる悪化が少
ないことが開示されている。しかしながら、この特開平
５−３６５８５公報のものは、種々の大きさからなる任
意の微細な縦横パターンの解像を目指すものであり、本
発明のように大きさが限定された２次元周期的コンタク
トホール列のような特殊なパターンに対して、有効光源
を最適化したものではない。特に、そこには矩形環状有
効光源の大きさを示すパラメータのｓ１，ｓ２，ｓ３等
による最適化条件について開示されていない。

【００１８】これに対して、本発明は、大きさが限定さ
れたパターンに対して、有効光源を最適化するものであ
り、矩形環状有効光源の大きさを示すパラメータのｓ
１，ｓ２，ｓ３等の条件を最適化して、大きさが限定さ
れた２次元周期的コンタクトホール列のようなパターン
に適用して、コントラストと深度とを共に向上させよう
とするものである。特に、 コンタクトホールはＬ／Ｓ
パターンと露光量が大幅に異なるため、コンタクトホー
ルの露光は他のパターンとは別におこなわれるため、１
回の露光でコンタクトホール列の単純なパターンのみに
限定されている場合が多い。また、ホールの大きさは１
種類であるか、それに近い大きさの数種類に限定されて
いる場合が多い。本発明はこのような代表的な大きさの
二次元周期的コンタクトホール列のようなパターンに対
して、有効光源の最適化を図るものである。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 （実施例１）実施例１は、ピッチが２ｋ１（λ／ＮＡ）
の２次元周期的コンタクトホール列に対して、 ｓ１＝
１／（４ｋ１）とし、また、ｓ２＝０．１以下、少なく
ともｓ２≦０．２ とした例である。矩形環状有効光源
でコンタクトホール列を照明すると、図１２の灰色の丸
で示すように、０次光と１次光のペアが瞳上Ｋｘ，Ｋｙ
軸に関して対称な位置に入射する。このような場合、デ
フォーカスによるコントラストの悪化がない。ピッチが
２ｋ１（λ／ＮＡ）の２次元周期的コンタクトホール列
に対して、 ｓ１＝１／（４ｋ１） ｓ２は図７のコントラストデフォーカス特性に応じて決
められる。例えば必要深度を１μｍとすると、図７より
ｄｅｆ＝±０．５でコントラスト低下は光遮光部（Ｂ断
面）のコントラストで順に０．９５，０．９０，０．８
１，０．７２である。光透過部（Ａ断面）のコントラス
ト低下はこれより若干少ない。必要深度での必要なコン
トラストにより、ｓ２を決定する。

【００２０】言い換えると、ｓ２と同じ半径の円形から
なる図１の４重極照明とほとんど同じコントラストデフ
ォーカス特性が得られるが、有効光源の瞳にしめる面積
の割合は、格段に大きくなる。ｓ２＝０．１以下にする
とデフォーカスによるコントラストの悪化がほとんどな
い。少なくともｓ２≦０．２ とするとよい。この場
合、ｓ３＝ｓ１である。しかし、瞳の半径は１なので、
ｓ１≦１／√２ ２ｋ１≧０．７１ で矩形環状となる。しかしながら、この領域では４光束
干渉をおこなうことができ、この場合特にＡ断面の最大
コントラストが１となり、２光束干渉より４光束干渉の
方がコントラストが得られる。４光束干渉は矩形の１辺
が重なる領域の、図１が４５度回転した４重極照明によ
って得られる。

【００２１】（実施例２）照明系のＮＡが投影系の入射
側ＮＡより小さいとき、照明系の照明範囲は瞳上１より
小さくなる。図１３のような半径１の瞳の内側の円が照
明系の照明範囲であり、矩形環状有効光源は照明範囲内
の内部だけになる。このような場合、矩形環状とほぼ同
様なコントラストデフォーカス特性が得られる。

【００２２】（実施例３）照明系のＮＡが投影系の入射
側ＮＡより小さいとき、照明系の照明範囲は瞳上１より
小さくなる。またはホール列のピッチが、０．５≦２ｋ
１＜０．７１のとき、矩形環状有効光源は瞳からはみ出
してしまう。図１４のような半径１の瞳の内側の円が照
明系の照明範囲であり、照明範囲内の内部で矩形環状有
効光源のｓ１を同じにして１辺ｓ３を短くしてもよい。
このような場合、矩形環状と同様なコントラストデフォ
ーカス特性が得られる。 （実施例４）ホール列のピッチが、２ｋ１が０．７１よ
り小さくなり０．５にちかづくと、矩形環状有効光源は
瞳からはみ出してしまう。このような場合図１５の様に
なるが、若干のコントラスト低下となる。その理由は０
次光と１次光が両方同時に瞳に入射しないからである。
０次光と１次光の一方のみが瞳に入射した場合、像面上
では一様なぼけとなり、像を形成しないからである。図
１５の図中で０次光と１次光を黒丸で示したが、片方が
瞳の外側にはみ出している。この部分の有効光源からの
光による像面強度がコントラストを低下させる。 （実施例５）ホール列のピッチ２ｋ１が、０．７１より
小さくなり０．５にちかづいた場合、０次光と１次光の
ペアを同時に瞳に入射し、コントラストの低下がないよ
うにする。図１６のような斜線部を有効光源とする。こ
の時、ピッチが２ｋ１（λ／ＮＡ）の２次元周期的コン
タクトホール列にたいして、 ｓ１＝１／（４ｋ１） ｓ２＝０．１以下にするとデフォーカスによるコントラ
ストの悪化がほとんどない。少なくともｓ２≦０．２
とするとよい。 ｓ３＝√（１−ｓ１²） 照明範囲を瞳上にとった有効光源領域において、有効光
源領域の瞳上での半径をｓｅとすると、ｋｘ＝０，ｋｙ
＝２ｓ１の点を中心とする半径１の円弧と矩形環状と瞳
の交わる領域をとり、瞳のＫｘ軸、ｋｙ軸にたいして対
称にすると、図１６、図１７のような斜線部となる。有
効光源領域が瞳全面にある場合、即ち、ｓｅ＝１のと
き、図１６、図１７のような有効光源形状となるが、有
効光源領域が瞳より小さな場合、即ち、ｓｅ＜１のとき
は図１８のように、図１６、図１７のような斜線部と中
心が瞳中心と一致した半径ｓｅの円との共通領域とな
る。または、ホール列のピッチ２ｋ１が０．５より大き
くてもこのような有効光源形状にすることによりコント
ラストの低下は最小限度にとどまり、瞳上の有効光源の
面積の占める割合が最大となる。

【００２３】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、ピッチが０．５≦２ｋ１≦１．０とされた微細な格
子状パターンに対して、前記瞳と交わる領域をなす矩形
環状の有効光源を形成する光で照射することにより、有
効光源を最適化することができ、コントラストと深度と
を共に向上させることが可能な像投影方法、および該方
法を用いたコンタクトホールの露光方法を実現すること
ができる。また、特にピッチが０．５付近の微細なもの
や、コントラストの低下が問題となる場合は、０次光と
１次光のペアを同時に瞳に入射するようにして、コント
ラストの低下とデフォーカスによる悪化を殆どなくすこ
とができる。また、このような有効光源形状にすれば、
略同じコントラストデフォーカス特性が得られる円形か
らなる４重極照明と比べて、有効光源分布の瞳にしめる
面積の割合が格段に大きくなり、照明光の絞りによる光
量の損失を少なくすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】４重極照明の概略を示す図である。

【図２】レチクル上の周期的コンタクトホールパターン
を示す図であり、（ａ）はクロムマスク格子パターン、
（ｂ）はクロムレス位相シフト格子パターン、（ｃ）は
位相シフト格子パターン、（ｄ）はクロムレス位相シフ
ト格子パターン、をそれぞれ示す図である。

【図３】斜め入射光による２光束干渉を示す図である。

【図４】２光束干渉重ね合わせの強度分布を示す図であ
る。

【図５】クロムマスク格子パターンに対して４重極斜入
射照明を用いた場合の２光束干渉重ね合わせを示す図で
ある。

【図６】位相シフト格子パターンに対して４重極斜入射
照明を用いた場合の２光束干渉重ね合わせを示す図であ
る。

【図７】Ｒ＝０．８，σ＝０．０５，０．１，０．１
５，０．２、ホール幅０．１３μｍ（ｋ１＝０．３１）
のもとでのコントラストデフォーカス特性を示す図であ
る。

【図８】点状有効光源を示す図である。

【図９】図８に示したような点状の有効光源１および２
について、Ｋｘ，Ｋｙ軸に関して対称にした有効光源か
らの二次元強度分布からのＡ断面とＢ断面でのコントラ
ストを示す図である。

【図１０】図８に示したような点状の有効光源１および
２について、Ｋｘ，Ｋｙ軸に関して対称にした有効光源
からの二次元強度分布からのＡ断面とＢ断面でのコント
ラストを示す図である。

【図１１】本発明における２次元周期的コンタクトホー
ル列のような特殊なパターンに対して、コントラスト、
及び投影光学系の焦点深度がともに大きくとれる矩形環
状有効光源を示す図である。

【図１２】特開平５−３６５８５号公報に示される種々
の大きさからなる任意の微細な縦横パターンに対して、
焦点深度を拡大するための矩形環状有効光源を示す図で
ある。

【図１３】本発明の実施例２における矩形環状有効光源
を示す図である。

【図１４】本発明の実施例３における矩形環状有効光源
を示す図である。

【図１５】本発明の実施例４における矩形環状有効光源
を示す図である。

【図１６】本発明の実施例５における矩形環状有効光源
を示す図である。

【図１７】本発明の実施例５における矩形環状有効光源
を示す図である。

【図１８】本発明の実施例５における矩形環状有効光源
を示す図である。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ピッチが２ｋ１（λ／ＮＡ）の縦方向と横
   方向に周期的な配列を有する微細な格子状パターンを照
   射し、該微細な格子状パターンで生じる回折光を投影光
   学系の瞳に入射させて微細な格子状パターン像を投影す
   る像投影方法であって、 前記ピッチが０．５≦２ｋ１≦１．０とされた微細な格
   子状パターンを、瞳の円と重ねたときに一部が該円から
   はみ出る矩形の環と該瞳の円とを重ねた際の交わる領域
   に対応する有効光源を瞳に形成する光で照射することを
   特徴とする像投影方法。ここで、λは格子状パターンに
   照射する光の波長、ＮＡは投影光学系の格子状パターン
   側（入射側）の開口数である。また、縦と横のピッチは
   同じでも異なっていてもよい。また、前記矩形の縦と横
   の辺がそれぞれ前記縦方向、横方向に延びるものであ
   る。
2. 【請求項２】前記有効光源が、０次回折光と１次回折光
   のペアを同時に瞳に入射する有効光源形状とされている
   ことを特徴とする請求項１に記載の像投影方法。
3. 【請求項３】前記矩形環状の環の中心位置ｓ１が、前記
   瞳の半径を１としたとき、 ｓ１＝１／２×（２ｋ１）とされていることを特徴とす
   る請求項１または請求項２に記載の像投影方法。
4. 【請求項４】前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長
   さをｓ２としたとき、ｓ２≦０．２とされていることを
   特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の像投影
   方法。
5. 【請求項５】前記矩形環状の環の幅が、幅の１／２の長
   さをｓ２としたとき、 ｓ２≦０．１とされていることを特徴とする請求項１〜
   ３のいずれか１項に記載の像投影方法。
6. 【請求項６】瞳の軸上、２ｓ１の点を中心とする円弧と
   矩形環状と有効光源の範囲（最大σ値を半径とする瞳上
   の円）の交わる領域をとり、瞳のｘ軸、ｙ軸に対して対
   称とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項
   に記載の像投影方法。
7. 【請求項７】前記瞳のｘ軸とｙ軸を、前記微細な格子状
   パターン列の並びの方向のｘ軸とｙ軸の方向と一致させ
   たことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載
   の像投影方法。
8. 【請求項８】縦横に周期的に配列された２次元周期的コ
   ンタクトホール列からなるパターンによって露光するコ
   ンタクトホールの露光方法において、前記２次元周期的
   コンタクトホール列に対して、請求項１〜６のいずれか
   １項に記載の像投影方法を用いてその矩形環状の有効光
   源を形成する光で照射し、コンタクトホールを露光する
   ことを特徴とするコンタクトホールの露光方法。