JP2000298280A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2000298280A
JP2000298280A JP10536499A JP10536499A JP2000298280A JP 2000298280 A JP2000298280 A JP 2000298280A JP 10536499 A JP10536499 A JP 10536499A JP 10536499 A JP10536499 A JP 10536499A JP 2000298280 A JP2000298280 A JP 2000298280A
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JP
Japan
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liquid crystal
spacer
substrate
crystal display
width
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JP10536499A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Miyashita
崇 宮下
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly determine the gap between substrates with high accuracy by forming columnar spacers projecting to the height corresponding to a prescribed gap between substrates, in such a manner that the top faces of the spacers are in contact with the inner face of the other substrate. SOLUTION: A plurality of columnar spacers 20 for regulating the gap between a pair of substrates are formed as being projected to the height corresponding to the specified gap between substrates with the top faces of the spacers in contact with the inner face of the other substrate. Namely, the inner face of the region (on the face of an alignment film 14), where a gate wiring 10 and a bent part 11a of a data wiring on a TFT substrate 1 is used as a spacer accepting face (A) to be in contact with the end face of the columnar spacer 20, and the columnar spacer 20 is formed projecting on the inner face of the counter substrate 2 as the other substrate corresponding to the spacer accepting face (A). The top face of the columnar spacer 20 is brought into contact with the spacer accepting face (A) of the TFT substrate 1 as the other substrate. Thereby, display failure due to disturbance in the alignment of liquid crystal molecules or production of bright spots or black spot defects are prevented in the effective pixel region.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、能動素子に薄膜
トランジスタ(以下、TFTと記す)を用いたアクティ
ブマトリックス型の液晶表示素子に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT) as an active device.

【0002】[0002]

【従来の技術】能動素子にTFTを用いたアクティブマ
トリックス液晶表示素子は、液晶層をはさんで対向する
第1と第2の一対の透明基板のうち、第1の基板の内面
に、行方向および列方向にマトリックス状に配列する複
数の透明な画素電極と、これらの画素電極にそれぞれ接
続された複数のTFTと、各画素電極行にそれぞれ沿わ
せて形成された複数のゲート配線と、各画素電極列にそ
れぞれ沿わせて形成された複数のデータ配線とが設けら
れ、第2の基板の内面に、前記複数の画素電極に対向す
る対向電極が設けられた構成となっている。
2. Description of the Related Art An active matrix liquid crystal display element using a TFT as an active element is provided with a line direction on an inner surface of a first substrate of a first and a second pair of transparent substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A plurality of transparent pixel electrodes arranged in a matrix in the column direction, a plurality of TFTs respectively connected to these pixel electrodes, a plurality of gate wirings formed along each pixel electrode row, A plurality of data wirings are respectively formed along the pixel electrode rows, and a counter electrode facing the plurality of pixel electrodes is provided on the inner surface of the second substrate.

【0003】なお、前記一対の基板は、枠状のシール材
を介して接合されており、前記液晶層は、前記一対の基
板間の前記枠状シール材で囲まれた領域に液晶を封入し
て形成されている。
[0003] The pair of substrates are joined via a frame-shaped sealing material, and the liquid crystal layer fills a liquid crystal in a region between the pair of substrates and surrounded by the frame-shaped sealing material. It is formed.

【0004】また、前記アクティブマトリックス液晶表
示素子には、白黒画像を表示するものと、フルカラー画
像等の多色カラー画像を表示するものとがあり、カラー
画像を表示する液晶表示素子は、その一方の基板、一般
には前記対向電極が設けられた第2の基板の内面に、前
記複数の画素電極と前記対向電極とが互いに対向する複
数の画素領域にそれぞれ対応させて複数の色、例えば
赤、緑、青の3色のカラーフィルタを設けた構成となっ
ている。
The active matrix liquid crystal display devices include a device for displaying a monochrome image and a device for displaying a multi-color image such as a full-color image. A liquid crystal display device for displaying a color image is one of them. Substrate, generally, on the inner surface of a second substrate provided with the counter electrode, a plurality of colors, for example, red, corresponding to a plurality of pixel regions where the plurality of pixel electrodes and the counter electrode face each other. The configuration is such that three color filters of green and blue are provided.

【0005】ところで、液晶表示素子の表示特性(電気
光学特性)は、液晶の複屈折性Δnと液晶層厚dとの積
Δndによってきまるため、良好な表示特性を得るため
には、一対の基板の間隔、つまり液晶層厚を精度良く設
定する必要がある。
The display characteristics (electro-optical characteristics) of a liquid crystal display element are determined by the product Δnd of the birefringence Δn of the liquid crystal and the thickness d of the liquid crystal layer. , That is, the liquid crystal layer thickness must be set with high accuracy.

【0006】そのため、従来は、前記一対の基板を前記
枠状シール材を介して接合する際に、いずれか一方の基
板上に所定の径のビーズ状スペーサを散布し、このビー
ズ状スペーサにより基板間隔を規制している。
Conventionally, when joining the pair of substrates via the frame-shaped sealing material, a bead-shaped spacer having a predetermined diameter is sprayed on one of the substrates, and the bead-shaped spacer is used to spread the substrate. Regulates the spacing.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のアクテ
ィブマトリックス液晶表示素子は、画素電極とTFTと
ゲート配線およびデータ配線が形成された第1の基板の
内面が、TFT部分や配線部分が盛り上がった凹凸面と
なっており、また散布されたビーズ状スペーサがランダ
ムに分布しているため、均一で精度の良い基板間隔が得
られない。
However, in the conventional active matrix liquid crystal display device, the inner surface of the first substrate on which the pixel electrode, the TFT, the gate wiring, and the data wiring are formed has a raised TFT portion or wiring portion. Due to the uneven surface, and the dispersed bead-like spacers are randomly distributed, a uniform and accurate substrate spacing cannot be obtained.

【0008】しかも、従来のアクティブマトリックス液
晶表示素子は、ビーズ状スペーサが、前記複数の画素電
極と前記対向電極とが互いに対向する複数の画素領域の
うちの光が透過する有効画素領域内にも分布しているた
め、前記有効画素領域内に、スペーサ近傍での液晶分子
の配向の乱れによる表示不良を生じるだけでなく、前記
ビーズ状スペーサが透明スペーサである場合は、前記有
効画素領域内に、暗表示のときのスペーサ分布個所から
の光の漏れによる輝点欠陥が生じ、また前記ビーズ状ス
ペーサが黒色スペーサである場合は、前記有効画素領域
内に、明表示のときのスペーサ分布個所での光の吸収に
よる黒点欠陥が生じる。
Further, in the conventional active matrix liquid crystal display element, the bead-shaped spacer is provided also in an effective pixel area through which light is transmitted among a plurality of pixel areas where the plurality of pixel electrodes and the counter electrode face each other. Due to the distribution, in the effective pixel region, not only a display failure due to disorder of the alignment of liquid crystal molecules near the spacer occurs, but also in a case where the bead-shaped spacer is a transparent spacer, In the case where a bright spot defect occurs due to light leakage from the spacer distribution portion during dark display, and when the bead-shaped spacer is a black spacer, the effective pixel region has a bright spot defect at the spacer distribution portion during bright display. Black spot defect due to the absorption of light.

【0009】そのため、従来のアクティブマトリックス
液晶表示素子は、均一な表示特性が得られず、しかもコ
ントラストの良い良好な画像を表示することができない
という問題をもっている。
Therefore, the conventional active matrix liquid crystal display element has a problem that uniform display characteristics cannot be obtained and a good image with good contrast cannot be displayed.

【0010】この発明は、基板間隔を均一に精度良く設
定するとともに、有効画素領域内に、液晶分子の配向の
乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥を生じるこ
とがないようにした、表示特性が均一で、しかもコント
ラストの良い良好な画像を表示することができるアクテ
ィブマトリックス型の液晶表示素子を提供することを目
的としたものである。
According to the present invention, there is provided a display device in which a distance between substrates is set uniformly and accurately so that a display defect due to a disturbance in the alignment of liquid crystal molecules and a bright spot or a black spot defect do not occur in an effective pixel area. It is an object of the present invention to provide an active matrix type liquid crystal display device capable of displaying a good image with uniform characteristics and good contrast.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は、液晶層をは
さんで対向する第1と第2の一対の基板のうち、第1の
基板の内面に、行方向および列方向にマトリックス状に
配列する複数の画素電極と、これらの画素電極にそれぞ
れ接続された複数のTFT(薄膜トランジスタ)と、各
画素電極行にそれぞれ沿わせて形成された複数のゲート
配線と、各画素電極列にそれぞれ沿わせて形成された複
数のデータ配線とが設けられ、第2の基板の内面に、前
記複数の画素電極に対向する対向電極が設けられたアク
ティブマトリックス型の液晶表示素子において、前記複
数の画素電極と前記対向電極とが互いに対向する複数の
画素領域のうちの光が透過する領域がそれぞれ有効画素
領域となっているとともに、前記一対の基板のうちの少
なくとも一方の基板の内面に、前記複数の有効画素領域
の間の光不透過領域に対応させて、前記一対の基板間の
間隔を規制するための複数の柱状スペーサが、所定の基
板間隔に対応する高さに突設されており、これらの柱状
スペーサが、その頂面において他方の基板の内面に当接
していることを特徴とするものである。
According to the present invention, a first and a second pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween are arranged in a matrix in the row and column directions on the inner surface of the first substrate. A plurality of pixel electrodes to be arranged, a plurality of TFTs (thin film transistors) respectively connected to the pixel electrodes, a plurality of gate wirings formed along each pixel electrode row, and a line along each pixel electrode column. A plurality of data wirings formed in parallel with each other, and an active matrix type liquid crystal display element in which a counter electrode facing the plurality of pixel electrodes is provided on an inner surface of a second substrate. The light-transmitting regions of the plurality of pixel regions where the and the counter electrode face each other are each an effective pixel region, and at least one of the substrates of the pair of substrates. On the inner surface, a plurality of columnar spacers for regulating the interval between the pair of substrates, corresponding to the light opaque region between the plurality of effective pixel regions, have a height corresponding to a predetermined substrate interval. These pillar-shaped spacers are protruded, and their top surfaces are in contact with the inner surface of the other substrate.

【0012】すなわち、この発明の液晶表示素子は、一
対の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面に、複数
の有効画素領域の間の光不透過領域に対応させて、複数
の柱状スペーサを所定の基板間隔に対応する高さに突設
し、これらの柱状スペーサをその頂面において他方の基
板の内面に当接させて前記一対の基板間の間隔を規制し
たものである。
That is, in the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of columnar spacers are provided on the inner surface of at least one of the pair of substrates in correspondence with the light-impermeable region between the plurality of effective pixel regions. The column spacers are projected at a height corresponding to the distance between the substrates, and these columnar spacers are brought into contact with the inner surface of the other substrate at the top surface to regulate the distance between the pair of substrates.

【0013】この液晶表示素子は、複数の柱状スペーサ
を前記基板の内面に突設したものであるため、スペーサ
の位置が決まっており、したがって、これらの柱状スペ
ーサの高さを所定の基板間隔が得られるように設定する
ことにより、均一で精度の良い基板間隔を得ることがで
きる。
In this liquid crystal display device, since a plurality of columnar spacers are protruded from the inner surface of the substrate, the positions of the spacers are determined. Therefore, the height of these columnar spacers is set to a predetermined substrate interval. By setting so that it can be obtained, a uniform and accurate substrate interval can be obtained.

【0014】しかも、この液晶表示素子では、前記複数
の柱状スペーサを、複数の有効画素領域の間の光不透過
領域に対応させて設けているため、前記有効画素領域内
に、液晶分子の配向の乱れによる表示不良や、輝点また
は黒点欠陥を生じることはない。
Further, in this liquid crystal display device, since the plurality of columnar spacers are provided corresponding to the light opaque regions between the plurality of effective pixel regions, the alignment of the liquid crystal molecules is provided in the effective pixel region. Display defects, and no bright spots or black spot defects.

【0015】したがって、この発明の液晶表示素子によ
れば、表示特性が均一で、しかもコントラストの良い良
好な画像を表示することができる。
Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to display a good image with uniform display characteristics and good contrast.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】この発明の液晶表示素子は、上記
のように、一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の
内面に、複数の有効画素領域の間の光不透過領域に対応
させて、複数の柱状スペーサを所定の基板間隔に対応す
る高さに突設し、これらの柱状スペーサをその頂面にお
いて他方の基板の内面に当接させて前記一対の基板間の
間隔を規制することにより、基板間隔を均一に精度良く
設定するとともに、有効画素領域内に、液晶分子の配向
の乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥が生じる
のを防いで、表示特性が均一で、しかもコントラストの
良い良好な画像を表示できるようにしたものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, a liquid crystal display device according to the present invention has an inner surface of at least one of a pair of substrates corresponding to a light opaque region between a plurality of effective pixel regions. A plurality of columnar spacers are projected at a height corresponding to a predetermined substrate interval, and these columnar spacers are brought into contact with the inner surface of the other substrate at the top surface to regulate the interval between the pair of substrates. This enables uniform and accurate setting of the substrate spacing, prevents display defects due to disordered alignment of liquid crystal molecules, and prevents the occurrence of bright spots or black spot defects in the effective pixel area. It is possible to display a good and good image.

【0017】この発明の液晶表示素子において、前記柱
状スペーサは、1つの有効画素領域に対して少なくとも
1つ以上の割合で配置するのが望ましく、このようにす
ることにより、基板間隔をより均一にするとともに、外
部からの加圧力に対する強度を高くしかも均一にするこ
とができる。
In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the columnar spacers are arranged in at least one ratio with respect to one effective pixel region. In this manner, the substrate spacing can be made more uniform. In addition, the strength against external pressure can be made high and uniform.

【0018】また、前記柱状スペーサは、前記TFTに
対応する領域を避けて設け、外部からの加圧力が前記柱
状スペーサを介して前記TFTに加わらないようにする
のが好ましく、このようにすることにより、外部からの
加圧力による前記TFTの破壊を防ぐことができる。
It is preferable that the columnar spacer is provided so as to avoid a region corresponding to the TFT, so that an external pressure is not applied to the TFT via the columnar spacer. Accordingly, the TFT can be prevented from being broken by an external pressure.

【0019】この発明を、前記液晶層が、液晶分子がツ
イスト配向したネマティック液晶層であり、前記第1の
基板の内面に、前記複数の画素電極の縁部に絶縁膜を介
して対向する補償容量電極が設けられているTN(ツイ
ステッドネマティック)方式またはSTN(スーパーツ
イステッドネマティック)方式の液晶表示素子に適用す
る場合、前記柱状スペーサは、前記ゲート配線と前記デ
ータ配線と前記補償容量電極とのうちの少なくとも1つ
に部分的に対応させて設ければよく、このようにするこ
とにより、基板間隔を均一に精度良く設定するととも
に、有効画素領域内に、液晶分子の配向の乱れによる表
示不良や、輝点または黒点欠陥が生じるのを防ぐことが
できる。
According to the present invention, it is preferable that the liquid crystal layer is a nematic liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are twist-aligned, and the liquid crystal layer faces an inner surface of the first substrate with an edge of the plurality of pixel electrodes via an insulating film. When applied to a TN (twisted nematic) type or STN (super twisted nematic) type liquid crystal display element provided with a capacitance electrode, the columnar spacer is formed of the gate wiring, the data wiring, and the compensation capacitance electrode. In this case, the substrate spacing can be set uniformly and accurately, and display defects due to disturbance of the orientation of liquid crystal molecules can be formed in the effective pixel region. , Or a bright spot or a black spot defect can be prevented.

【0020】また、この発明を、前記液晶層が、強誘電
性または反強誘電性液晶層である、補償容量が不要な強
誘電性または反強誘電性液晶表示素子に適用する場合、
前記柱状スペーサは、前記ゲート配線と前記データ配線
とのうちの少なくとも一方に部分的に対応させて設けれ
ばよく、このようにすることにより、基板間隔を均一に
精度良く設定するとともに、有効画素領域内に、液晶分
子の配向の乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥
が生じるのを防ぐことができる。
Further, when the present invention is applied to a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display device in which the liquid crystal layer is a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal layer and does not require a compensation capacitor,
The columnar spacer may be provided so as to partially correspond to at least one of the gate wiring and the data wiring. In this way, the substrate spacing is set uniformly and accurately, and the effective pixel It is possible to prevent a display defect and a bright spot or a black spot defect from being generated in the region due to the disorder of the alignment of the liquid crystal molecules.

【0021】この発明の液晶表示素子において、前記柱
状スペーサは、前記第1の基板上に形成された前記ゲー
ト配線と、前記ゲート配線を覆って設けられた絶縁膜の
上に形成された前記データ配線とが重なる領域に対応さ
せて設けるのが好ましく、このように、前記第1の基板
の内面のうちの前記ゲート配線と前記データ配線とが前
記絶縁膜をはさんで重なっている盛り上がった領域に前
記柱状スペーサを設けることにより、所定の基板間隔を
得るために必要な柱状スペーサの高さを小さくし、前記
柱状スペーサの強度を高くすることができる。
In the liquid crystal display device according to the present invention, the columnar spacer includes the gate wiring formed on the first substrate and the data formed on an insulating film provided over the gate wiring. It is preferable to provide the area corresponding to the area where the wiring overlaps, and thus, the raised area of the inner surface of the first substrate where the gate wiring and the data wiring overlap with the insulating film interposed therebetween. By providing the columnar spacers, the height of the columnar spacers required to obtain a predetermined substrate spacing can be reduced, and the strength of the columnar spacers can be increased.

【0022】その場合、各列の複数の画素電極がそれぞ
れ、各行ごとにほぼ1.5ピッチずつ行方向に交互にず
れて配列し、前記データ配線が、前記ゲート配線上に重
なる屈曲部を有する形状に形成されている液晶表示素子
においては、前記柱状スペーサを、前記ゲート配線と前
記データ配線の前記屈曲部とが重なる領域に対応させて
設けるのが好ましく、このようにすることにより、前記
柱状スペーサを太く形成し、その強度をより高くするこ
とができる。
In this case, a plurality of pixel electrodes in each column are alternately arranged in the row direction by approximately 1.5 pitches for each row, and the data wiring has a bent portion overlapping the gate wiring. In the liquid crystal display element formed in a shape, it is preferable that the columnar spacer is provided so as to correspond to a region where the gate wiring and the bent portion of the data wiring overlap with each other. The spacer can be formed thick, and its strength can be further increased.

【0023】また、各列の複数の画素電極がそれぞれ直
線状に配列し、前記データ配線が直線状に形成されると
ともに、このデータ配線に、前記ゲート配線上に重なる
突出部が形成されている液晶表示素子においては、前記
柱状スペーサを、前記ゲート配線と前記データ配線の前
記突出部とが重なる領域に対応させて設けるのが好まし
く、このようにすることにより、前記柱状スペーサを太
く形成し、その強度をより高くすることができる。
A plurality of pixel electrodes in each column are arranged in a straight line, and the data line is formed in a straight line, and the data line is formed with a projection overlapping the gate line. In the liquid crystal display device, it is preferable that the columnar spacer is provided in correspondence with a region where the gate line and the protruding portion of the data line overlap with each other. In this manner, the columnar spacer is formed thick, Its strength can be higher.

【0024】さらに、前記TFTが、前記第1の基板上
に形成されたゲート電極と、このゲート電極を覆うゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極と
対向させて設けられたi型半導体膜と、このi型半導体
膜のチャンネル領域の上に形成されたブロッキング絶縁
膜と、前記i型半導体膜の両側部の上にn型半導体膜を
介して形成されたソース電極およびドレイン電極とから
なっている場合は、前記TFTのゲート絶縁膜を前記ゲ
ート配線を覆って形成するとともに、前記ゲート絶縁膜
上の前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈曲部また
は前記突出部とが重なる領域に、前記TFTのi型半導
体膜およびブロッキング絶縁膜と同じi型半導体膜とブ
ロッキング絶縁膜とを積層形成し、その上に前記データ
配線の前記屈曲部または前記突出部を形成するのが好ま
しい。
Further, the TFT is provided on a gate electrode formed on the first substrate, a gate insulating film covering the gate electrode, and provided on the gate insulating film so as to face the gate electrode. an i-type semiconductor film, a blocking insulating film formed on a channel region of the i-type semiconductor film, and a source electrode and a drain formed on both sides of the i-type semiconductor film via an n-type semiconductor film In the case of being composed of electrodes, a gate insulating film of the TFT is formed so as to cover the gate wiring, and the gate wiring on the gate insulating film overlaps with the bent portion or the protruding portion of the data wiring. An i-type semiconductor film and a blocking insulating film, which are the same as the i-type semiconductor film and the blocking insulating film of the TFT, are formed in a region, and the bent portion of the data wiring is formed thereon. Others preferred to form the protrusions.

【0025】このような構成によれば、前記第1の基板
の内面の前記柱状スペーサに対応する領域の盛り上がり
をさらに大きくし、所定の基板間隔を得るために必要な
柱状スペーサの高さをより小さくしてその強度をさらに
高くするとともに、前記ゲート配線と前記データ配線の
前記屈曲部または前記突出部との間を、前記ゲート絶縁
膜と前記i型半導体膜と前記ブロッキング絶縁膜とによ
り絶縁し、前記ゲート配線と前記データ配線との間の絶
縁耐圧をより高くすることができる。
According to such a configuration, the height of the region corresponding to the columnar spacer on the inner surface of the first substrate is further increased, and the height of the columnar spacer necessary for obtaining a predetermined substrate interval is further increased. While reducing the strength to further increase the strength, the gate insulating film, the i-type semiconductor film, and the blocking insulating film insulate between the gate wiring and the bent portion or the protruding portion of the data wiring. In addition, the withstand voltage between the gate wiring and the data wiring can be further increased.

【0026】なお、前記ゲート絶縁膜の上に、前記ゲー
ト配線と前記データ配線の前記屈曲部または前記突出部
とが重なる領域に対応させて積層形成する前記i型半導
体膜と前記ブロッキング絶縁膜は、前記TFTの形成工
程を利用して同時に形成することができるため、液晶表
示素子の製造コストが高くなることはない。
The i-type semiconductor film and the blocking insulating film, which are formed on the gate insulating film so as to correspond to a region where the gate wiring and the bent portion or the projecting portion of the data wiring overlap with each other, Since the TFTs can be formed at the same time by utilizing the TFT forming process, the manufacturing cost of the liquid crystal display element does not increase.

【0027】上記のように、前記ゲート配線と前記デー
タ配線の前記屈曲部または前記突出部とが重なる領域に
対応させて前記柱状スペーサを設ける場合は、前記ゲー
ト配線を、列方向に隣り合う画素電極の間隔に近い幅に
形成し、前記データ配線の前記屈曲部または前記突出部
を前記ゲート配線の幅と同程度の幅に形成するのが好ま
しく、このようにすることにより、前記柱状スペーサを
さらに太く形成し、その強度をさらに高くすることがで
きる。
As described above, when the columnar spacer is provided so as to correspond to a region where the bent portion or the protruding portion of the data line overlaps with the bent portion or the protruding portion of the data line, the gate line is connected to a pixel adjacent in the column direction. It is preferable that the columnar spacer is formed to have a width close to the interval between the electrodes, and the bent portion or the protruding portion of the data wiring is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring. It can be formed thicker and its strength can be further increased.

【0028】また、上記のように前記ゲート配線と前記
データ配線の前記屈曲部または前記突出部とが重なる領
域に対応させて前記柱状スペーサを設ける場合は、前記
第1の基板の前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈
曲部または前記突出部とが重なる領域の内面を、前記柱
状スペーサの端面に当接するスペーサ受け面とし、前記
第2の基板の内面に、前記スペーサ受け面に対応させて
前記柱状スペーサを突設するとともに、前記柱状スペー
サの端面と前記スペーサ受け面とをそれぞれ平坦面に形
成するのが好ましく、このようにすることにより、枠状
のシール材を介して接合される一対の基板の合わせ精度
に誤差があっても、前記第2の基板の内面に設けられた
前記柱状スペーサの端面を、前記第1の基板の内面の前
記スペーサ受け面に確実に当接させて、所定の基板間隔
を得ることができる。
In the case where the columnar spacer is provided so as to correspond to the region where the gate line and the bent portion or the protruding portion of the data line overlap, as described above, An inner surface of a region where the bent portion or the protruding portion of the data wiring overlaps is a spacer receiving surface that is in contact with an end surface of the columnar spacer, and the inner surface of the second substrate corresponds to the spacer receiving surface. It is preferable that the columnar spacers are protruded, and the end surfaces of the columnar spacers and the spacer receiving surfaces are respectively formed to be flat surfaces. In this manner, a pair of the paired members that are joined via the frame-shaped sealing material are preferably used. Even if there is an error in the alignment accuracy of the substrate, the end surface of the columnar spacer provided on the inner surface of the second substrate is connected to the spacer receiving surface of the inner surface of the first substrate. By securely contact, it is possible to obtain a predetermined distance between the substrates.

【0029】この場合、前記柱状スペーサの端面の行方
向および列方向の幅と、前記スペーサ受け面の行方向お
よび列方向の幅は、任意に設定すればよく、例えば、前
記柱状スペーサの端面の行方向および列方向の幅をそれ
ぞれ前記スペーサ受け面の行方向および列方向の幅より
も小さくすれば、行方向と列方向のいずれの方向の基板
合わせ誤差に対しても、前記柱状スペーサの端面の面積
に相当するスペーサ当接面積を確保することができる。
In this case, the width of the end face of the columnar spacer in the row and column directions and the width of the spacer receiving face in the row and column directions may be set arbitrarily. If the width in the row direction and the column direction is made smaller than the width in the row direction and the column direction of the spacer receiving surface, respectively, the end face of the columnar spacer can be used for any substrate alignment error in either the row direction or the column direction. Can be secured.

【0030】また、前記柱状スペーサの端面の行方向お
よび列方向の幅をそれぞれ前記スペーサ受け面の行方向
および列方向の幅よりも大きくすれば、行方向と列方向
のいずれの方向の基板合わせ誤差に対しても、前記スペ
ーサ受け面の面積に相当するスペーサ当接面積を確保す
ることができる。
If the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction and the column direction is made larger than the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction, respectively, the substrate alignment in either the row direction or the column direction can be performed. Even for errors, a spacer contact area corresponding to the area of the spacer receiving surface can be ensured.

【0031】また、前記柱状スペーサの端面の行方向の
幅を前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも小さくし、
前記柱状スペーサの端面の列方向の幅を前記スペーサ受
け面の列方向の幅よりも大きくすれば、行方向の基板合
わせ誤差に対しては前記柱状スペーサの行方向の幅に相
当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の基板合わせ
誤差に対しては前記スペーサ受け面の端面の列方向の幅
に相当するスペーサ当接面積を確保することができる。
The width in the row direction of the end face of the columnar spacer is made smaller than the width in the row direction of the spacer receiving surface.
If the width in the column direction of the end face of the columnar spacer is made larger than the width in the column direction of the spacer receiving surface, a spacer contact corresponding to the width of the columnar spacer in the row direction with respect to a substrate alignment error in the row direction. An area can be ensured, and a spacer contact area corresponding to the width in the column direction of the end face of the spacer receiving surface can be ensured against a substrate alignment error in the column direction.

【0032】さらに、前記柱状スペーサの端面の行方向
の幅を前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも大きく
し、前記柱状スペーサの端面の列方向の幅を前記スペー
サ受け面の列方向の幅よりも小さくすれば、行方向の基
板合わせ誤差に対しては前記スペーサ受け面の行方向の
幅に相当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の基板
合わせ誤差に対しては前記柱状スペーサの端面の列方向
の幅に相当するスペーサ当接面積を確保することができ
る。
Further, the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction is made larger than the width of the spacer receiving surface in the row direction, and the width of the end surface of the columnar spacer in the column direction is set to the width of the spacer receiving surface in the column direction. If it is smaller than this, a spacer contact area corresponding to the width of the spacer receiving surface in the row direction is secured for the row-to-board substrate alignment error, and the columnar spacer is A spacer contact area corresponding to the width of the end face in the column direction can be secured.

【0033】また、この発明を、前記第2の基板の内面
に前記複数の画素領域にそれぞれ対応する複数の色のカ
ラーフィルタが設けられた液晶表示素子に適用する場
合、前記カラーフィルタは、前記柱状スペーサが対応す
る領域にわたって形成してもよいが、前記カラーフィル
タを前記柱状スペーサが対応する領域を避けて形成すれ
ば、外部からの加圧力を前記カラーフィルタを介さずに
前記柱状スペーサに受けさせることができるため、外部
からの加圧力に対する強度をより高くすることができ
る。
Further, when the present invention is applied to a liquid crystal display device having a plurality of color filters corresponding to the plurality of pixel regions on the inner surface of the second substrate, the color filter comprises: Although the columnar spacer may be formed over the corresponding region, if the color filter is formed so as to avoid the region corresponding to the columnar spacer, external pressure is applied to the columnar spacer without passing through the color filter. Therefore, the strength against external pressure can be further increased.

【0034】さらに、この発明の液晶表示素子におい
て、前記複数の有効画素領域の間の光不透過領域は、前
記ゲート配線と前記データ配線およびTN方式またはS
TN方式の液晶表示素子において設けられる前記補償容
量電極により形成してもよいが、前記第2の基板の内面
に、前記複数の画素領域の光透過領域を規制するための
遮光膜を設け、この遮光膜が対応する領域内に前記柱状
スペーサを設ければ、前記有効画素領域内に、液晶分子
の配向の乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥が
生じるのを確実に防ぐことができる。
Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the light opaque area between the plurality of effective pixel areas is formed by the gate wiring and the data wiring and the TN type or S-type.
Although it may be formed by the compensation capacitance electrode provided in the TN type liquid crystal display element, a light-shielding film for regulating light transmission regions of the plurality of pixel regions is provided on an inner surface of the second substrate. If the columnar spacers are provided in the region corresponding to the light-shielding film, it is possible to reliably prevent a display defect due to a disorder in the alignment of liquid crystal molecules and a bright spot or a black spot defect in the effective pixel region.

【0035】[0035]

【実施例】図1〜図3はこの発明の第1の実施例を示し
ており、図1は液晶表示素子の一部分の平面図、図2は
図1の一部分の拡大図、図3は図2の III−III 線に沿
った断面図である。
1 to 3 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view of a part of a liquid crystal display element, FIG. 2 is an enlarged view of a part of FIG. 1, and FIG. FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III of FIG.

【0036】この液晶表示素子は、図示しない枠状のシ
ール材を介して接合された第1と第2の一対の透明基板
1,2と、これらの基板1,2間の前記シール材により
囲まれた領域に設けられた液晶層21とからなってい
る。なお、この実施例の液晶表示素子は、TN方式また
はSTN方式のものであり、前記液晶層21は、液晶分
子がツイスト配向したネマティック液晶層である。
This liquid crystal display element is surrounded by a pair of first and second transparent substrates 1 and 2 joined via a frame-shaped sealing material (not shown) and the sealing material between these substrates 1 and 2. And a liquid crystal layer 21 provided in a region that is separated from the liquid crystal layer. The liquid crystal display device of this embodiment is of the TN mode or the STN mode, and the liquid crystal layer 21 is a nematic liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are twist-aligned.

【0037】この液晶表示素子は、能動素子にTFTを
用いたアクティブマトリックス型のものであり、液晶層
21をはさんで対向する一対の基板1,2のうち、図3
において下側の第1の基板(以下、TFT基板という)
1の内面に、行方向(図1および図2において左右方
向)および列方向(図1および図2において上下方向)
にマトリックス状に配列する複数の透明な画素電極3
と、これらの画素電極3にそれぞれ接続された複数のT
FT4と、各画素電極行にそれぞれ沿わせて形成された
複数のゲート配線10と、各画素電極列にそれぞれ沿わ
せて形成された複数のデータ配線11と、前記各画素電
極行ごとに形成され前記複数の画素電極の縁部に絶縁膜
を介して対向する補償容量電極12とが設けられてい
る。
This liquid crystal display element is of an active matrix type using a TFT as an active element. Among the pair of substrates 1 and 2 facing each other with a liquid crystal layer 21 interposed therebetween, FIG.
In the lower first substrate (hereinafter referred to as TFT substrate)
1 has a row direction (horizontal direction in FIGS. 1 and 2) and a column direction (vertical direction in FIGS. 1 and 2).
Transparent pixel electrodes 3 arranged in a matrix
And a plurality of T connected to these pixel electrodes 3 respectively.
FT4, a plurality of gate wirings 10 formed along each pixel electrode row, a plurality of data wirings 11 formed along each pixel electrode column, and a plurality of data wirings 11 formed for each pixel electrode row. A compensating capacitance electrode 12 facing the edge of the plurality of pixel electrodes via an insulating film is provided.

【0038】前記TFT4は、逆スタガー構造のもので
あり、その断面構造は図示しないが、前記TFT基板1
に一体に形成されたゲート電極5と、このゲート電極5
を覆うゲート絶縁膜6と、前記ゲート絶縁膜6の上に前
記ゲート電極5と対向させて設けられたi型半導体膜
と、このi型半導体膜のチャンネル領域の上に形成され
たブロッキング絶縁膜7bと、前記i型半導体膜の両側
部の上にn型半導体膜を介して形成されたソース電極8
およびドレイン電極9とからなっている。
The TFT 4 has an inverted stagger structure, and its cross-sectional structure is not shown.
A gate electrode 5 integrally formed with the gate electrode 5;
A gate insulating film 6 covering the gate insulating film 6, an i-type semiconductor film provided on the gate insulating film 6 so as to face the gate electrode 5, and a blocking insulating film formed on a channel region of the i-type semiconductor film 7b, and a source electrode 8 formed on both sides of the i-type semiconductor film via an n-type semiconductor film
And a drain electrode 9.

【0039】なお、このTFT4は、基板1上に金属膜
の成膜およびそのパターニングによりゲート電極5を形
成した後、前記ゲート絶縁膜6とi型半導体膜とブロッ
キング絶縁膜7bとを順次成膜して、まず前記ブロッキ
ング絶縁膜7bをチャンネル領域の形状にパターニング
し、その後に前記n型半導体膜を成膜し、このn型半導
体膜をパターニングしてソース領域およびドレイン領域
を形成するともに、前記n型半導体膜のパターニングに
際してその上に形成したレジストマスクと前記ブロッキ
ング絶縁膜7bとをマスクとして、前記i型半導体膜を
パターニングし、その後、金属膜の成膜およびそのパタ
ーニングによりソース電極8およびドレイン電極9を形
成する方法で形成されたものであり、前記i型半導体膜
は、前記ブロッキング絶縁膜7bの下から前記ソース領
域およびドレイン領域のn型半導体膜の下にわたって、
これらの輪郭形状と同じ形状に形成されている。
In the TFT 4, after forming a metal film on the substrate 1 and forming a gate electrode 5 by patterning the metal film, the gate insulating film 6, the i-type semiconductor film and the blocking insulating film 7b are sequentially formed. Then, first, the blocking insulating film 7b is patterned into the shape of a channel region, then the n-type semiconductor film is formed, and the n-type semiconductor film is patterned to form a source region and a drain region. When patterning the n-type semiconductor film, the i-type semiconductor film is patterned using the resist mask formed thereon and the blocking insulating film 7b as masks, and thereafter, the source electrode 8 and the drain are formed by forming and patterning a metal film. The i-type semiconductor film is formed by a method of forming an electrode 9, wherein the i-type semiconductor film is Over under the n-type semiconductor film of said source and drain regions from under the grayed insulating film 7b,
It is formed in the same shape as these contour shapes.

【0040】また、前記ゲート配線10と補償容量電極
12は、前記TFT基板1上に形成されており、前記T
FT4のゲート電極5は、前記ゲート配線10に一体に
形成されている。
Further, the gate wiring 10 and the compensation capacitance electrode 12 are formed on the TFT substrate 1,
The gate electrode 5 of the FT 4 is formed integrally with the gate wiring 10.

【0041】このゲート配線10と補償容量電極12
は、アルミニウム系合金等の低抵抗金属膜により形成さ
れており、その表面は、データ配線11との間の絶縁耐
圧を高くするために、端子部(図示せず)を除いて、そ
の表面を陽極酸化処理されている。図3において、10
aは前記ゲート配線10の表面の陽極酸化膜、12aは
前記補償容量電極12の表面の陽極酸化膜である。
The gate wiring 10 and the compensation capacitance electrode 12
Is formed of a low-resistance metal film such as an aluminum-based alloy, and its surface is removed except for a terminal portion (not shown) in order to increase the dielectric strength with respect to the data wiring 11. Anodized. In FIG. 3, 10
a is an anodic oxide film on the surface of the gate wiring 10, and 12a is an anodic oxide film on the surface of the compensation capacitor electrode 12.

【0042】また、前記ゲート配線10および補償容量
電極12は、その端子部を除いて前記TFT4のゲート
絶縁膜(透明膜)6により覆われており、このゲート絶
縁膜6の上に前記データ配線11が形成され、このデー
タ配線11に前記TFT4のドレイン電極9が一体に形
成されている。
The gate wiring 10 and the compensation capacitance electrode 12 are covered with a gate insulating film (transparent film) 6 of the TFT 4 except for the terminal portions. The drain electrode 9 of the TFT 4 is formed integrally with the data wiring 11.

【0043】なお、図3では、前記データ配線11を単
層膜として示しているが、このデータ配線11と前記ド
レイン電極9および前記ソース電極8は、前記n型半導
体膜とのコンタクト性が良いクロム等の金属膜の上にア
ルミニウム系合金等の低抵抗金属膜を積層し、さらにそ
の上にクロム等からなる保護金属膜を形成した積層膜と
されている。
Although the data wiring 11 is shown as a single-layer film in FIG. 3, the data wiring 11 and the drain electrode 9 and the source electrode 8 have good contact with the n-type semiconductor film. This is a laminated film in which a low-resistance metal film such as an aluminum-based alloy is laminated on a metal film such as chromium, and a protective metal film made of chromium or the like is further formed thereon.

【0044】ただし、この実施例では、前記データ配線
11にTFT4のドレイン電極9を一体に形成している
が、前記TFT4を層間絶縁膜で覆ってその上にデータ
配線を形成し、このデータ配線を前記層間絶縁膜に設け
たコンタクト孔においてTFT4のドレイン電極9に接
続してもよい。
However, in this embodiment, the drain electrode 9 of the TFT 4 is formed integrally with the data wiring 11, but the TFT 4 is covered with an interlayer insulating film and a data wiring is formed thereon. May be connected to the drain electrode 9 of the TFT 4 at a contact hole provided in the interlayer insulating film.

【0045】また、前記ゲート絶縁膜6の上には、前記
TFT4および前記データ配線11を覆って透明なオー
バーコート絶縁膜13が設けられており、前記画素電極
3は、前記オーバーコート絶縁膜13の上に形成され、
このオーバーコート絶縁膜13に設けられたコンタクト
孔(図示せず)において前記TFT4のソース電極8に
接続されている。
Further, a transparent overcoat insulating film 13 is provided on the gate insulating film 6 so as to cover the TFT 4 and the data wiring 11, and the pixel electrode 3 is formed on the overcoat insulating film 13. Formed on
A contact hole (not shown) provided in the overcoat insulating film 13 is connected to the source electrode 8 of the TFT 4.

【0046】そして、前記補償容量電極12は、前記画
素電極3の一端側(図1および図2において上端側)の
縁部に沿わせて前記ゲート配線10とほぼ平行に形成さ
れており、この補償容量電極13と、前記画素電極3の
縁部と、その間の前記ゲート絶縁膜6およびオーバーコ
ート絶縁膜13とにより、非選択期間の画素電極3の電
位を保持するための補償容量(ストレージキャパシタ)
が形成されている。
The compensation capacitance electrode 12 is formed substantially in parallel with the gate wiring 10 along the edge of one end (the upper end in FIGS. 1 and 2) of the pixel electrode 3. The compensation capacitor (storage capacitor) for holding the potential of the pixel electrode 3 during the non-selection period is provided by the compensation capacitor electrode 13, the edge of the pixel electrode 3, and the gate insulating film 6 and the overcoat insulating film 13 therebetween. )
Are formed.

【0047】なお、この実施例では、前記補償容量電極
13に、行方向に隣り合う画素電極3の間の領域に延長
され、その両側縁部において前記隣り合う画素電極3の
側縁部に対向する延長電極部を形成し、前記補償容量
を、画素電極3の一端縁部から両側縁部に沿わせて形成
している。
In this embodiment, the compensating capacitance electrode 13 is extended to a region between the pixel electrodes 3 adjacent in the row direction, and opposing the side edges of the adjacent pixel electrodes 3 at both side edges. The compensation capacitor is formed from one edge of the pixel electrode 3 to both edges.

【0048】また、この実施例の液晶表示素子は、一般
にデルタ配列型と呼ばれるものであり、同じデータ配線
11から前記TFT4を介してデータ信号を供給される
各列の複数の画素電極3がそれぞれ、各行ごとにほぼ
1.5ピッチずつ行方向に交互にずれて配列している。
The liquid crystal display element of this embodiment is of a so-called delta arrangement type, in which a plurality of pixel electrodes 3 of each column to which a data signal is supplied from the same data wiring 11 via the TFT 4 are provided. , Each row is alternately shifted by about 1.5 pitches in the row direction.

【0049】そして、前記データ配線11は、ほぼ1.
5ピッチずつ行方向に交互にずれて配列している各列の
複数の画素電極3のうちの図1および図2において左方
向にずれた画素電極3の右側縁に沿う配線部と、右方向
にずれた画素電極の左側縁に沿う配線部と、これらの配
線部をつなぐ、前記データ配線11のピッチのほぼ半分
の長さの屈曲部11aとからなる蛇行配線とされてお
り、前記屈曲部11aは、前記ゲート絶縁膜6を介して
前記ゲート配線10の上に重なっている。
The data lines 11 are substantially 1.
A wiring portion along the right edge of the pixel electrode 3 shifted to the left in FIGS. 1 and 2 among the plurality of pixel electrodes 3 in each column alternately shifted in the row direction by 5 pitches, And a bent portion 11a having a length substantially half the pitch of the data line 11 connecting these wiring portions. Reference numeral 11a overlaps the gate wiring 10 with the gate insulating film 6 interposed therebetween.

【0050】さらに、前記TFT基板1の最も内面、つ
まり前記画素電極3の形成面上には、ポリイミド等から
なる配向膜14が設けられており、この配向膜14は、
その膜面を一方向にラビングすることにより所定方向に
配向処理されている。
Further, an alignment film 14 made of polyimide or the like is provided on the innermost surface of the TFT substrate 1, that is, on the surface on which the pixel electrode 3 is formed.
By rubbing the film surface in one direction, the film is oriented in a predetermined direction.

【0051】一方、図3において上側の第2の基板(以
下、対向基板という)2の内面には、前記複数の画素電
極3に対向する一枚膜状の透明な対向電極15が設けら
れるともに、前記複数の画素電極3と前記対向電極15
とが互いに対向する複数の画素領域にそれぞれ対応させ
て形成された複数の色、例えば赤,緑,青の3色のカラ
ーフィルタ16R,16G,16Gと、前記複数の画素
領域の光透過領域を規制するための遮光膜17とが設け
られている。
On the other hand, on the inner surface of an upper second substrate (hereinafter, referred to as an opposing substrate) 2 in FIG. 3, a single film-shaped transparent opposing electrode 15 facing the plurality of pixel electrodes 3 is provided. , The plurality of pixel electrodes 3 and the counter electrode 15
And color filters 16R, 16G, and 16G of three colors, for example, red, green, and blue, formed corresponding to the plurality of pixel regions facing each other, and the light transmitting regions of the plurality of pixel regions. A light shielding film 17 for regulation is provided.

【0052】前記遮光膜17は対向基板2上に形成さ
れ、前記カラーフィルタ16R,16G,16Gは、前
記基板2上に前記遮光膜17を覆って行方向および列方
向に隙間無く配列形成されており、このカラーフィルタ
16R,16G,16Gの上に、前記対向電極15が形
成されている。
The light-shielding film 17 is formed on the counter substrate 2, and the color filters 16R, 16G, 16G are formed on the substrate 2 so as to cover the light-shielding film 17 and to be arranged without gaps in the row direction and the column direction. The counter electrode 15 is formed on the color filters 16R, 16G, 16G.

【0053】前記遮光膜17は、前記複数の画素領域に
それぞれ対応させて、前記画素電極3の面積よりも僅か
に小さい面積を有する複数の開口部17aを形成した形
状に形成されており、前記複数の画素領域のうちの前記
開口部17aに対応する領域、つまり光が透過する領域
が、それぞれ有効画素領域となっており、前記遮光膜1
7に対応する領域、つまり複数の画素領域の周縁部と各
画素領域の間の領域が、光不透過領域となっている。
The light-shielding film 17 is formed in a shape in which a plurality of openings 17a having an area slightly smaller than the area of the pixel electrode 3 are formed corresponding to the plurality of pixel regions, respectively. A region corresponding to the opening 17a of the plurality of pixel regions, that is, a region through which light is transmitted, is an effective pixel region.
The region corresponding to 7, that is, the region between the periphery of the plurality of pixel regions and each pixel region is a light-impermeable region.

【0054】なお、前記遮光膜17は金属膜からなって
おり、図3では遮光膜17を単層膜として示している
が、この遮光膜13は、前記基板2上に形成された酸化
クロム等の黒色金属膜と、その上に形成されたクロム等
の金属膜との積層膜からなっている。
The light-shielding film 17 is made of a metal film. Although the light-shielding film 17 is shown as a single-layer film in FIG. 3, the light-shielding film 13 is made of chromium oxide or the like formed on the substrate 2. Of a black metal film and a metal film of chromium or the like formed thereon.

【0055】また、前記赤、緑、青のカラーフィルタ1
6R,16G,16Gは、行方向に配列する複数の画素
領域に対して赤色フィルタ16Rと、緑色フィルタ16
Gと青色フィルタ16Bとが交互に対応し、同じデータ
配線11からデータ信号を供給される画素電極3が対応
する画素領域に対して同じ色のフィルタが対応するよう
に、行方向および列方向に互いに隙間無く並べて形成さ
れており、したがって、前記カラーフィルタ16R,1
6G,16Gの上に設けられた対向電極15は、その全
域にわたってほぼ平坦に形成されている。
The red, green and blue color filters 1
6R, 16G, and 16G are provided with a red filter 16R and a green filter 16R for a plurality of pixel regions arranged in the row direction.
G and the blue filter 16B alternately correspond to each other, and a filter of the same color corresponds to a pixel region to which a pixel electrode 3 to which a data signal is supplied from the same data line 11 corresponds corresponds to a row direction and a column direction. The color filters 16R and 1R are formed side by side without any gap.
The counter electrode 15 provided on 6G and 16G is formed almost flat over the entire area.

【0056】さらに、この対向基板2の最も内面、つま
り前記対向電極15の形成面上には、ポリイミド等から
なる配向膜18が設けられており、この配向膜18は、
その膜面を一方向にラビングすることにより所定方向に
配向処理されている。
Further, an alignment film 18 made of polyimide or the like is provided on the innermost surface of the counter substrate 2, that is, on the surface on which the counter electrode 15 is formed.
By rubbing the film surface in one direction, the film is oriented in a predetermined direction.

【0057】また、前記一対の基板1,2のうちの少な
くとも一方の基板、この実施例ではTFT基板1の内面
には、前記遮光膜17の複数の開口部17aにそれぞれ
対応する複数の有効画素領域の間の光不透過領域(遮光
膜17が対応する領域)に対応させて、前記一対の基板
1,2間の間隔、つまり液晶層21の層厚を規制するた
めの複数の柱状スペーサ19が突設されている。
Also, at least one of the pair of substrates 1 and 2, in this embodiment, on the inner surface of the TFT substrate 1, a plurality of effective pixels respectively corresponding to the plurality of openings 17 a of the light shielding film 17. A plurality of columnar spacers 19 for regulating the distance between the pair of substrates 1 and 2, that is, the thickness of the liquid crystal layer 21, corresponding to the light-impermeable area (area corresponding to the light-shielding film 17) between the areas. Is protruding.

【0058】これらの柱状スペーサ19は、感光性樹脂
により所定の基板間隔に対応する高さに形成されてお
り、基板間隔は、前記複数の柱状スペーサ19を、その
頂面において他方の基板である対向基板2の内面(配向
膜18の膜面)に当接させることにより規制されてい
る。
These columnar spacers 19 are formed at a height corresponding to a predetermined substrate interval by a photosensitive resin. The substrate interval is such that the plurality of columnar spacers 19 are the other substrate on the top surface. It is regulated by making contact with the inner surface of the opposing substrate 2 (the film surface of the alignment film 18).

【0059】なお、前記柱状スペーサ19は、前記オー
バーコート絶縁膜13の上に突設されており、TFT基
板1の内面の配向膜14は、前記柱状スペーサ19を覆
って形成されている。
Note that the columnar spacers 19 protrude from the overcoat insulating film 13, and the alignment film 14 on the inner surface of the TFT substrate 1 is formed to cover the columnar spacers 19.

【0060】前記柱状スペーサ19は、1つの有効画素
領域に対して少なくとも1つ以上の割合で配置されてお
り、さらに、この柱状スペーサ19は、前記TFT4に
対応する領域を避けて設けられている。
The columnar spacers 19 are arranged in at least one ratio with respect to one effective pixel region, and the columnar spacers 19 are provided so as to avoid the region corresponding to the TFT 4. .

【0061】この実施例では、図1に示したように、前
記柱状スペーサ19を、1つの有効画素領域の周囲の光
不透過領域のうちの、前記ゲート配線10と前記データ
配線11と前記補償容量電極12とにそれぞれ部分的に
対応させて設けている。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the columnar spacers 19 are connected to the gate wirings 10, the data wirings 11, and the compensation lines in the light-impermeable area around one effective pixel area. It is provided so as to partially correspond to the capacitor electrode 12.

【0062】前記ゲート配線10に対応させて設けられ
た柱状スペーサ19は、図2および図3に示したよう
に、前記ゲート配線10のうちの前記データ配線11の
屈曲部11aが重なる領域に対応させて形成されてお
り、この柱状スペーサ19の高さは、前記ゲート配線1
0とデータ配線11の屈曲部11aとが重なる領域の基
板1内面への盛り上がり高さに応じて、所定の基板間隔
が得られるように設定されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the columnar spacer 19 provided corresponding to the gate wiring 10 corresponds to a region of the gate wiring 10 where the bent portion 11a of the data wiring 11 overlaps. The height of the columnar spacer 19 depends on the gate wiring 1.
The predetermined board interval is set according to the swelling height on the inner surface of the substrate 1 in the area where the 0 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap.

【0063】また、前記データ配線11と前記補償容量
電極12とにそれぞれ対応させて設けられた柱状スペー
サ19はそれぞれ、前記データ配線11のうちの前記有
効画素領域の縦幅方向の中央部に対応する領域と、前記
補償容量電極12の前記有効画素領域の横幅方向の中央
部に対応する領域とに形成されており、これらの柱状ス
ペーサ19の高さはそれぞれ、前記データ配線11部分
の基板1内面への盛り上がり高さと、前記補償容量電極
12部分の基板1内面への盛り上がり高さに応じて、所
定の基板間隔が得られるように設定されている。
The columnar spacers 19 provided corresponding to the data wiring 11 and the compensation capacitance electrode 12 respectively correspond to the center of the data wiring 11 in the vertical width direction of the effective pixel region. And a region corresponding to the central portion of the compensation pixel electrode 12 in the width direction of the effective pixel region. The heights of the columnar spacers 19 are respectively set to the substrate 1 of the data line 11. A predetermined substrate interval is set according to the height of the protrusion on the inner surface and the height of the protrusion of the compensation capacitor electrode 12 on the inner surface of the substrate 1.

【0064】なお、上述したように、対向基板2のカラ
ーフィルタ16R,16G,16G上に設けられた対向
電極15はその全域にわたってほぼ平坦に形成されてお
り、したがって前記対向電極15の内面のスペーサ当接
面(配向膜18の膜面)は対向基板2面と平行な平坦面
であるため、この実施例では、前記ゲート配線10とデ
ータ配線11の屈曲部11aとが重なる領域と、前記デ
ータ配線11部分および前記補償容量電極12部分設け
られた各柱状スペーサ19の高さをそれぞれ、これらの
柱状スペーサ19の頂面が面一になるように設定してい
る。
As described above, the opposing electrode 15 provided on the color filters 16R, 16G, 16G of the opposing substrate 2 is formed almost flat over the entire area thereof, and therefore, the spacer on the inner surface of the opposing electrode 15 is provided. Since the contact surface (the film surface of the alignment film 18) is a flat surface parallel to the surface of the counter substrate 2, in this embodiment, the area where the gate wiring 10 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap and the data The height of each columnar spacer 19 provided on the wiring 11 and the compensation capacitor electrode 12 is set such that the top surfaces of these columnar spacers 19 are flush with each other.

【0065】また、前記液晶層21は、図示しない枠状
のシール材を介して接合された一対の基板1,2間の前
記シール材により囲まれた領域にネマティック液晶を封
入して形成されており、この液晶層21の液晶の分子
は、前記一対の基板1,2の内面に設けられた前記配向
膜14,18によりそれぞれの基板1,2の近傍におけ
る配向方向を規制され、これらの基板1,2間において
所定のツイスト角でツイスト配向している。
The liquid crystal layer 21 is formed by enclosing a nematic liquid crystal in a region surrounded by the sealing material between a pair of substrates 1 and 2 joined via a frame-shaped sealing material (not shown). The alignment direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 21 in the vicinity of the substrates 1 and 2 is regulated by the alignment films 14 and 18 provided on the inner surfaces of the pair of substrates 1 and 2. Twist orientation is performed at a predetermined twist angle between 1 and 2.

【0066】なお、図では省略しているが、この液晶表
示素子は、前記一対の基板1,2の外面にそれぞれ配置
された一対の偏光板を備えており、これらの偏光板は、
それぞれの光学軸(透過軸または吸収軸)を所定の方向
に向けて設けられている。
Although not shown in the figure, the liquid crystal display device includes a pair of polarizing plates disposed on the outer surfaces of the pair of substrates 1 and 2, respectively.
Each optical axis (transmission axis or absorption axis) is provided in a predetermined direction.

【0067】この液晶表示素子は、一対の基板1,2の
うちの少なくとも一方の基板、この実施例ではTFT基
板1の内面に、複数の有効画素領域の間の光不透過領域
に対応させて、複数の柱状スペーサ19を所定の基板間
隔に対応する高さに突設し、これらの柱状スペーサ19
をその頂面において他方の基板である対向基板2の内面
に当接させて前記一対の基板1,2間の間隔を規制した
ものであるため、基板間隔を均一に精度良く設定すると
ともに、有効画素領域内に、液晶分子の配向の乱れによ
る表示不良や、輝点または黒点欠陥が生じるのを防い
で、表示特性が均一で、しかもコントラストの良い良好
な画像を表示することができる。
This liquid crystal display element is provided on at least one of the pair of substrates 1 and 2, in this embodiment, on the inner surface of the TFT substrate 1 so as to correspond to the light-impermeable region between a plurality of effective pixel regions. , A plurality of columnar spacers 19 are protruded at a height corresponding to a predetermined substrate interval, and these columnar spacers 19 are provided.
On the top surface thereof to contact the inner surface of the opposite substrate 2 as the other substrate to regulate the distance between the pair of substrates 1 and 2, so that the distance between the substrates can be set uniformly and accurately and effective. It is possible to display a good image with uniform display characteristics and good contrast by preventing display defects due to disorder in the orientation of liquid crystal molecules and occurrence of bright spots or black spot defects in the pixel region.

【0068】すなわち、この液晶表示素子は、複数の柱
状スペーサ19を前記TFT基板1の内面に突設したも
のであるため、スペーサ19の位置が決まっており、し
たがって、これらの柱状スペーサ19の高さを所定の基
板間隔が得られるように設定することにより、均一で精
度の良い基板間隔を得ることができる。
That is, since this liquid crystal display element has a plurality of columnar spacers 19 protruding from the inner surface of the TFT substrate 1, the positions of the spacers 19 are determined. By setting the distance so that a predetermined substrate interval is obtained, a uniform and accurate substrate interval can be obtained.

【0069】しかも、この液晶表示素子では、前記複数
の柱状スペーサ19を、複数の有効画素領域の間の光不
透過領域に対応させて設けているため、前記有効画素領
域内に、液晶分子の配向の乱れによる表示不良や、輝点
または黒点欠陥を生じることはない。
Further, in this liquid crystal display device, since the plurality of columnar spacers 19 are provided corresponding to the light opaque regions between the plurality of effective pixel regions, liquid crystal molecules are contained in the effective pixel regions. There is no occurrence of display failure or bright spot or black spot defect due to the disorder of the orientation.

【0070】したがって、この液晶表示素子によれば、
表示特性が均一で、しかもコントラストの良い良好な画
像を表示することができる。
Therefore, according to this liquid crystal display device,
A good image with uniform display characteristics and good contrast can be displayed.

【0071】しかも、この実施例では、前記柱状スペー
サ19を、前記TFT4に対応する領域を避けて設けて
いるため、一対の基板1,2を枠状のシール材を対して
接合する際や、電子機器に実装された液晶表示素子の表
示面(対向基板2の外面)が指などで押されたときなど
に、外部からの加圧力が前記柱状スペーサ19を介して
TFT4に加わることはなく、そのため、外部からの加
圧力による前記TFT4の破壊を防ぎ、TFT4の破壊
により表示画素の欠け落ちを無くすことができる。
Further, in this embodiment, since the columnar spacers 19 are provided so as to avoid the region corresponding to the TFT 4, the columnar spacers 19 can be used when joining the pair of substrates 1 and 2 with the frame-shaped sealing material. When the display surface (outer surface of the counter substrate 2) of the liquid crystal display element mounted on the electronic device is pressed with a finger or the like, external pressure is not applied to the TFT 4 via the columnar spacer 19, Therefore, it is possible to prevent the TFT 4 from being broken due to an external pressure and to prevent the display pixel from being chipped off due to the TFT 4 being broken.

【0072】また、上記液晶表示素子は、液晶層21
が、液晶分子がツイスト配向したネマティック液晶層で
あり、前記TFT基板1の内面に、複数の画素電極3と
の間に補償容量を形成するための補償容量電極12が設
けられているTN方式またはSTN方式のものである
が、上記実施例では、前記柱状スペーサ19を、ゲート
配線10とデータ配線11と補償容量電極12とにそれ
ぞれ部分的に対応させて設けているため、外部からの加
圧力を各有効画素領域の周囲の複数個所において前記柱
状スペーサ19に分担させて受けさせることができ、し
たがって、外部からの加圧力に対する液晶表示素子の強
度を高くすることができる。
In addition, the liquid crystal display device has a liquid crystal layer 21.
Is a nematic liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are twist-aligned, and a TN mode in which a compensation capacitance electrode 12 for forming a compensation capacitance between the TFT substrate 1 and a plurality of pixel electrodes 3 is provided. Although the STN type is used, in the above embodiment, since the columnar spacers 19 are provided so as to partially correspond to the gate wiring 10, the data wiring 11, and the compensation capacitance electrode 12, respectively, Can be shared and received by the columnar spacers 19 at a plurality of locations around each effective pixel area, and therefore, the strength of the liquid crystal display element against external pressure can be increased.

【0073】また、上記液晶表示素子は、ゲート配線1
0とデータ配線11の他に補償容量電極12を備えてい
るため、複数の有効画素領域の間の光不透過領域を、前
記ゲート配線10と前記データ配線11および補償容量
電極12により形成することができるが、上記実施例で
は、対向基板2の内面に、前記複数の画素領域の光透過
領域を規制するための遮光膜17を設け、この遮光膜1
7が対応する領域内に前記柱状スペーサ19を設けてい
るため、前記有効画素領域内に、液晶分子の配向の乱れ
による表示不良や、輝点または黒点欠陥が生じるのをさ
らに確実に防ぐことができる。
Further, the liquid crystal display element includes a gate wiring 1
Since a compensation capacitance electrode 12 is provided in addition to the 0 and the data line 11, a light-impermeable region between a plurality of effective pixel regions is formed by the gate line 10, the data line 11, and the compensation capacitance electrode 12. In the above embodiment, a light-shielding film 17 is provided on the inner surface of the counter substrate 2 for regulating the light-transmitting regions of the plurality of pixel regions.
Since the columnar spacers 19 are provided in the area corresponding to 7, it is possible to more reliably prevent a display defect or a bright point or a black point defect from being generated in the effective pixel area due to disorder in the alignment of liquid crystal molecules. it can.

【0074】なお、上記実施例では、前記柱状スペーサ
19を、前記ゲート配線10とデータ配線と補償容量電
極12とに部分的に対応させて設けているが、前記柱状
スペーサ19は、前記ゲート配線10とデータ配線と補
償容量電極12とのうちの少なくとも1つに部分的に対
応させて設ければよく、このようにすることにより、基
板間隔を均一に精度良く設定するとともに、有効画素領
域内に、液晶分子の配向の乱れによる表示不良や、輝点
または黒点欠陥が生じるのを防ぐことができる。
In the above embodiment, the columnar spacer 19 is provided so as to partially correspond to the gate wiring 10, the data wiring, and the compensation capacitor electrode 12. 10, the data line, and the compensation capacitor electrode 12 may be provided so as to partially correspond to each other. In this way, the distance between the substrates can be set uniformly and accurately, and the effective pixel region In addition, it is possible to prevent display defects due to disorder in the alignment of liquid crystal molecules and the occurrence of bright spots or black spot defects.

【0075】ただし、前記柱状スペーサ19は、1つの
有効画素領域に対して少なくとも1つ以上の割合で配置
するのが望ましく、このようにすることにより、基板間
隔をより均一にするとともに、外部からの加圧力に対す
る強度を高くしかも均一にすることができる。
However, it is desirable that the columnar spacers 19 are arranged at least one or more in one effective pixel region. In this way, the substrate spacing can be made more uniform and externally. Can have high and uniform strength with respect to the pressing force.

【0076】その場合、前記柱状スペーサ19は、前記
TFT基板1上に形成されたゲート配線10と、前記ゲ
ート配線10を覆って設けられたゲート絶縁膜6の上に
形成されたデータ配線11とが重なる領域に対応させて
設けるのが好ましく、このように、前記TFT基板1の
内面のうちの前記ゲート配線と前記データ配線とがゲー
ト絶縁膜6をはさんで重なっている盛り上がった領域に
柱状スペーサ19を設けることにより、所定の基板間隔
を得るために必要な柱状スペーサの高さを小さくし、前
記柱状スペーサの強度を高くすることができる。
In this case, the columnar spacer 19 is composed of the gate wiring 10 formed on the TFT substrate 1 and the data wiring 11 formed on the gate insulating film 6 provided over the gate wiring 10. Are preferably provided corresponding to the region where the gate wiring and the data wiring overlap on the inner surface of the TFT substrate 1 in such a manner that the gate wiring and the data wiring overlap with the gate insulating film 6 interposed therebetween. By providing the spacers 19, it is possible to reduce the height of the columnar spacer required to obtain a predetermined substrate interval, and to increase the strength of the columnar spacer.

【0077】さらに、デルタ配列型の液晶表示素子にお
いては、各列の複数の画素電極3がそれぞれ、各行ごと
にほぼ1.5ピッチずつ行方向に交互にずれて配列し、
前記データ配線11が、ゲート配線10上に重なる屈曲
部11aを有する形状に形成されているため、上記実施
例のように、ゲート配線10に対応させて設ける柱状ス
ペーサ19を、前記ゲート配線10とデータ配線11の
屈曲部11aとが重なる領域に対応させて設けるのが好
ましく、このようにすることにより、前記柱状スペーサ
19を太く形成し、その強度をより高くすることができ
る。
Further, in the delta arrangement type liquid crystal display element, a plurality of pixel electrodes 3 in each column are alternately arranged in the row direction by approximately 1.5 pitches for each row.
Since the data wiring 11 is formed in a shape having a bent portion 11 a overlapping the gate wiring 10, a columnar spacer 19 provided corresponding to the gate wiring 10 as in the above embodiment is formed with the gate wiring 10. It is preferable that the columnar spacers 19 are formed thicker, and the strength thereof can be further increased.

【0078】なお、上記実施例では、全ての柱状スペー
サ19をTFT基板1の内面に突設し、これらの柱状ス
ペーサ19の頂面を他方の基板である対向基板2の内面
に当接させているが、これと逆に、全ての柱状スペーサ
19を対向基板2の内面に突設し、これらの柱状スペー
サ19の頂面をTFT基板1の内面に当接させてもよ
く、また、TFT基板1と対向基板2の両方の内面に互
いに位置をずらして複数の柱状スペーサ19に突設し、
これらの柱状スペーサ19の頂面をそれぞれ他方の基板
の内面に当接させてもよい。
In the above embodiment, all the columnar spacers 19 are protruded from the inner surface of the TFT substrate 1, and the top surfaces of these columnar spacers 19 are brought into contact with the inner surface of the opposite substrate 2 as the other substrate. However, conversely, all the columnar spacers 19 may be protruded from the inner surface of the counter substrate 2, and the top surfaces of these columnar spacers 19 may be in contact with the inner surface of the TFT substrate 1. 1 and the opposing substrate 2 are provided on a plurality of columnar spacers 19 with their positions shifted from each other,
The top surfaces of these columnar spacers 19 may be respectively brought into contact with the inner surface of the other substrate.

【0079】図4〜図6はこの発明の第2の実施例を示
しており、図4は液晶表示素子の一部分の平面図、図5
は図4の一部分の拡大図、図6は図5のVI−VI線に沿っ
た断面図である。
FIGS. 4 to 6 show a second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view of a part of a liquid crystal display device, and FIGS.
4 is an enlarged view of a part of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG.

【0080】この実施例は、液晶層21が強誘電性また
は反強誘電性液晶層である、強誘電性液晶または反強誘
電性アクティブマトリックス液晶表示素子を対象とした
ものである。
This embodiment is directed to a ferroelectric liquid crystal or antiferroelectric active matrix liquid crystal display device in which the liquid crystal layer 21 is a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal layer.

【0081】この強誘電性または反強誘電性液晶表示素
子は、前記強誘電性液晶または反強誘電性液晶が、印加
される電界の方向に応じて液晶分子がスメクティック層
構造の法線方向に対して一様に傾き配向し、電界の印加
を断った後のその配向状態を維持するため、非選択期間
の画素電極の電位を保持するための補償容量は備えてい
ない。
In the ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display device, the ferroelectric liquid crystal or the antiferroelectric liquid crystal is such that the liquid crystal molecules are oriented in the normal direction of the smectic layer structure according to the direction of the applied electric field. In order to maintain the alignment state after the application of the electric field is stopped, no compensation capacitance for holding the potential of the pixel electrode during the non-selection period is not provided.

【0082】なお、この実施例の強誘電性または反強誘
電性液晶表示素子は、デルタ配列型のものであり、前記
補償容量を形成するための補償容量電極が無く、また基
板間隔(液晶層厚)がTN型またはSTN型のものに比
べて小さく設定されているとともに、一対の基板1,2
の内面に設けられた配向膜14,18の配向処理方向が
互いにほぼ平行であるが、基本的な素子構造は図1〜図
3に示したTN型またはSTN型の液晶表示素子と同じ
であるから、重複する説明は図に同符号を付して省略す
る。
The ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display element of this embodiment is of a delta arrangement type, has no compensation capacitance electrode for forming the compensation capacitance, and has a substrate spacing (liquid crystal layer). Thickness) is set smaller than that of the TN type or STN type, and
Although the alignment processing directions of the alignment films 14 and 18 provided on the inner surfaces of the liquid crystal display elements are substantially parallel to each other, the basic element structure is the same as that of the TN type or STN type liquid crystal display element shown in FIGS. Therefore, the overlapping description is given the same reference numeral in the figure and omitted.

【0083】この実施例の強誘電性または反強誘電性液
晶表示素子は、基板間隔を規制するための柱状スペーサ
20を、1つの有効画素領域に対して1つの割合で配置
したものであり、この実施例では、前記柱状スペーサ2
0を、ゲート配線10とデータ配線11の屈曲部11a
とがゲート絶縁膜6をはさんで重なる領域に対応させて
設けている。
In the ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display device of this embodiment, the columnar spacers 20 for regulating the distance between the substrates are arranged at one ratio with respect to one effective pixel region. In this embodiment, the columnar spacer 2
0 is the bent portion 11a of the gate wiring 10 and the data wiring 11
Are provided so as to correspond to the region where the gate insulating film 6 is overlapped.

【0084】また、この実施例では、TFT基板1のゲ
ート配線10とデータ配線11の屈曲部11aとが重な
る領域の内面(配向膜14の膜面)を、柱状スペーサ2
0の端面に当接するスペーサ受け面Aとし、他方の基板
である対向基板2の内面に、前記スペーサ受け面Aに対
応させて前記柱状スペーサ20を突設している。
In this embodiment, the inner surface (the film surface of the alignment film 14) of the region where the gate wiring 10 of the TFT substrate 1 and the bent portion 11 a of the data wiring 11 overlap each other is formed by the columnar spacer 2.
The columnar spacer 20 is provided so as to correspond to the spacer receiving surface A on the inner surface of the counter substrate 2 which is the other substrate.

【0085】なお、前記柱状スペーサ20は、カラーフ
ィルタ16R,16G,16Bの上に形成された対向電
極15の上に突設されており、対向基板2の内面の配向
膜18は、前記柱状スペーサ20を覆って形成されてい
る。
The columnar spacers 20 project from the counter electrodes 15 formed on the color filters 16R, 16G, 16B. The alignment film 18 on the inner surface of the counter substrate 2 is formed by the columnar spacers. 20 is formed.

【0086】この強誘電性または反強誘電性液晶表示素
子は、補償容量が不要であり、上記第1の実施例が対象
とするTN型またはSTN型の液晶表示素子のように、
画素電極3を補償容量を形成するために大きく形成しな
くても、充分な開口率を得ることができる。
This ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display element does not require a compensation capacitor, and differs from the TN type or STN type liquid crystal display element of the first embodiment.
A sufficient aperture ratio can be obtained without forming the pixel electrode 3 large in order to form a compensation capacitor.

【0087】そのため、この実施例では、列方向に隣り
合う画素電極3の間隔を、充分な開口率が得られる範囲
で広くするとともに、前記ゲート配線10を、前記列方
向に隣り合う画素電極3の間隔に近い幅に形成し、前記
データ配線11の屈曲部11aを前記ゲート配線10の
幅と同程度の幅に形成している。
For this reason, in this embodiment, the interval between the pixel electrodes 3 adjacent in the column direction is widened as long as a sufficient aperture ratio can be obtained, and the gate wiring 10 is connected to the pixel electrodes 3 adjacent in the column direction. , And the bent portion 11 a of the data wiring 11 is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring 10.

【0088】さらに、この実施例では、前記ゲート絶縁
膜6上のゲート配線10とデータ配線11の屈曲部11
aとが重なる領域に対応させて、TFT4の図示しない
i型半導体膜およびブロッキング絶縁膜7bと同じi型
半導体膜7aとブロッキング絶縁膜7b′とを、前記ゲ
ート配線10の幅よりもある程度広い幅に積層形成して
いる。
Further, in this embodiment, the bent portions 11 of the gate wiring 10 and the data wiring 11 on the gate insulating film 6 are formed.
The i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b ', which are the same as the i-type semiconductor film and the blocking insulating film 7b (not shown) of the TFT 4, are formed to have a width somewhat larger than the width of the gate wiring 10 corresponding to the region where Are laminated.

【0089】前記ゲート配線10とデータ配線11の屈
曲部11aとが重なる領域に設けられたブロッキング絶
縁膜7b′は、TFT4のブロッキング絶縁膜7bをパ
ターニングする際に同時に形成され、その下のi型半導
体膜7aは、前記TFT4のn型半導体膜およびi型半
導体膜をパンターニングする際に同時に形成されたもの
であり、前記i型半導体膜7aは、前記ブロッキング絶
縁膜7b′の下にその全域にわたって残されている。
The blocking insulating film 7b 'provided in a region where the gate wiring 10 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap is formed at the same time as the patterning of the blocking insulating film 7b of the TFT 4 is performed. The semiconductor film 7a is formed simultaneously when the n-type semiconductor film and the i-type semiconductor film of the TFT 4 are pan-turned, and the i-type semiconductor film 7a is entirely formed under the blocking insulating film 7b '. Has been left over.

【0090】また、この実施例では、TFT基板1のゲ
ート配線10とデータ配線11の屈曲部11aとが重な
る領域の内面(配向膜14の膜面)を、前記柱状スペー
サ20の端面に当接するスペーサ受け面Aとし、他方の
基板である対向基板2の内面に、前記スペーサ受け面A
に対応させて前記柱状スペーサ20を突設するととも
に、前記柱状スペーサ20の端面と前記スペーサ受け面
Aとをそれぞれ前記TFT基板1面および対向基板2面
と平行な平坦面に形成している。
In this embodiment, the inner surface (the film surface of the alignment film 14) of the region where the gate wiring 10 of the TFT substrate 1 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap with each other is brought into contact with the end surface of the columnar spacer 20. The spacer receiving surface A is provided on the inner surface of the counter substrate 2 which is the other substrate.
The columnar spacers 20 are protruded so as to correspond to the above, and the end surfaces of the columnar spacers 20 and the spacer receiving surfaces A are formed on flat surfaces parallel to the TFT substrate 1 surface and the counter substrate 2 surface, respectively.

【0091】なお、この実施例では、上記のように、デ
ータ配線11の屈曲部11aをゲート配線10の幅と同
程度の幅に形成するとともに、前記ゲート絶縁膜6上の
ゲート配線10とデータ配線11の屈曲部11aとが重
なる領域に対応させて前記i型半導体膜7aとブロッキ
ング絶縁膜7b′とを前記ゲート配線10の幅よりもあ
る程度広い幅に積層形成しているため、前記スペーサ受
け面Aは、前記ゲート配線10とデータ配線11の屈曲
部11aと前記i型半導体膜7aおよびブロッキング絶
縁膜7b′との全てが重なっている、図5に平行斜線を
施した領域である。
In this embodiment, as described above, the bent portion 11a of the data wiring 11 is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring 10, and the data wiring 11 and the gate wiring 10 on the gate insulating film 6 are connected to each other. Since the i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b 'are formed to have a width somewhat larger than the width of the gate wiring 10 corresponding to a region where the bent portion 11a of the wiring 11 overlaps, the spacer receiving portion is formed. The surface A is a region shaded in parallel with FIG. 5 in which the bent portion 11a of the gate wiring 10 and the data wiring 11, the i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b 'all overlap.

【0092】そして、この実施例では、前記柱状スペー
サ20の端面の行方向および列方向の幅をそれぞれ、前
記スペーサ受け面Aの行方向および列方向の幅よりも小
さく設定している。この柱状スペーサ20の端面の行方
向および列方向の幅と、前記スペーサ受け面Aの行方向
および列方向の幅との差は、一対の基板1,2を枠状の
シール材を介して接合する際の基板合わせ誤差を見込ん
で、少なくともその誤差以上に設定されている。
In this embodiment, the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row and column directions is set smaller than the width of the spacer receiving surface A in the row and column directions, respectively. The difference between the width of the end surface of the columnar spacer 20 in the row direction and the column direction and the width of the spacer receiving surface A in the row direction and the column direction is determined by joining the pair of substrates 1 and 2 via a frame-shaped sealing material. In view of the substrate alignment error at the time of performing, the value is set to at least the error.

【0093】すなわち、この実施例の液晶表示素子は、
柱状スペーサ20を対向基板2の内面に突設し、この柱
状スペーサ20の頂面を、他方の基板であるTFT基板
1のスペーサ受け面Aに当接させることにより基板間隔
を規制したものである。
That is, the liquid crystal display device of this embodiment is
The columnar spacers 20 are projected from the inner surface of the opposing substrate 2, and the top surface of the columnar spacers 20 is brought into contact with the spacer receiving surface A of the other substrate, the TFT substrate 1, thereby regulating the substrate spacing. .

【0094】この実施例の液晶表示素子においても、前
記柱状スペーサ20の位置が決まっているため、これら
の柱状スペーサ20の高さを所定の基板間隔が得られる
ように設定することにより、均一で精度の良い基板間隔
を得ることができ、また、前記柱状スペーサ20を複数
の有効画素領域の間の光不透過領域に対応させて設けて
いるため、前記有効画素領域内に、液晶分子の配向の乱
れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥を生じること
はないから、表示特性が均一で、しかもコントラストの
良い良好な画像を表示することができる。
Also in the liquid crystal display element of this embodiment, since the positions of the columnar spacers 20 are determined, the height of these columnar spacers 20 is set so as to obtain a predetermined substrate interval, so that the uniformity can be obtained. An accurate substrate spacing can be obtained, and the columnar spacers 20 are provided in correspondence with the light opaque regions between the plurality of effective pixel regions. Since no display defects or bright spots or black spot defects are caused by the disturbance of the image, a good image with uniform display characteristics and good contrast can be displayed.

【0095】また、この実施例では、前記柱状スペーサ
19を、ゲート配線10に部分的に対応させて、1つの
有効画素領域に対して1つの割合で配置しているため、
外部からの加圧力を各有効画素領域にそれぞれ対応する
複数の柱状スペーサ20に分担させて受けさせることが
でき、したがって、基板間隔をより均一にするととも
に、外部からの加圧力に対する強度を高くしかも均一に
することができる。
In this embodiment, the columnar spacers 19 are arranged at a ratio of one to the effective pixel region so as to partially correspond to the gate wiring 10.
External pressure can be shared and received by the plurality of columnar spacers 20 corresponding to the respective effective pixel regions. Therefore, the distance between the substrates can be made more uniform, and the strength against the external pressure can be increased. It can be uniform.

【0096】さらに、この実施例では、前記柱状スペー
サ20を、TFT基板1の内面のうちのゲート配線10
とデータ配線11の屈曲部11aとがゲート絶縁膜6を
はさんで重なっている盛り上がった領域に対応させて設
けているため、所定の基板間隔を得るために必要な柱状
スペーサ20の高さを小さくし、前記柱状スペーサ20
の強度を高くすることができる。
Further, in this embodiment, the columnar spacer 20 is connected to the gate wiring 10 on the inner surface of the TFT substrate 1.
And the bent portion 11a of the data wiring 11 are provided so as to correspond to the raised region where the gate insulating film 6 is sandwiched, so that the height of the columnar spacer 20 necessary to obtain a predetermined substrate interval is reduced. The columnar spacer 20
Can be increased in strength.

【0097】しかも、この実施例では、前記ゲート絶縁
膜6上の前記ゲート配線10とデータ配線11の屈曲部
11aとが重なる領域に、前記TFT4の図示しないi
型半導体膜およびブロッキング絶縁膜7bと同じi型半
導体膜7aとブロッキング絶縁膜7b′とを積層形成
し、その上に前記データ配線11の屈曲部11aを形成
しているため、前記TFT基板1の内面の前記柱状スペ
ーサ20に対応する領域の盛り上がりをさらに大きく
し、所定の基板間隔を得るために必要な柱状スペーサ2
0の高さをより小さくしてその強度をさらに高くすると
ともに、前記ゲート配線10とデータ配線11の屈曲部
11aとの間を、ゲート絶縁膜6と前記i型半導体膜7
aと前記ブロッキング絶縁膜7b′とにより絶縁し、前
記ゲート配線10とデータ配線11との間の絶縁耐圧を
より高くすることができる。
Further, in this embodiment, the not-shown i-th TFT (not shown) of the TFT 4 is formed in a region on the gate insulating film 6 where the gate line 10 and the bent portion 11a of the data line 11 overlap.
Since the i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b ', which are the same as the type semiconductor film and the blocking insulating film 7b, are laminated and the bent portion 11a of the data wiring 11 is formed thereon, The bulge in the area corresponding to the columnar spacer 20 on the inner surface is further increased, and the columnar spacer 2 necessary for obtaining a predetermined substrate interval is provided.
The height of the gate insulating film 6 and the i-type semiconductor film 7 between the gate line 10 and the bent portion 11a of the data line 11 are further reduced.
a and the blocking insulating film 7b ', the dielectric strength between the gate wiring 10 and the data wiring 11 can be further increased.

【0098】なお、前記ゲート絶縁膜6の上に、前記ゲ
ート配線10とデータ配線11の屈曲部11aとが重な
る領域に対応させて積層形成する前記i型半導体膜7a
とブロッキング絶縁膜7b′は、前記TFT4の形成工
程を利用して同時に形成することができるため、液晶表
示素子の製造コストが高くなることはない。
The i-type semiconductor film 7a is formed on the gate insulating film 6 so as to correspond to the region where the gate wiring 10 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap.
And the blocking insulating film 7b 'can be formed at the same time by utilizing the step of forming the TFT 4, so that the manufacturing cost of the liquid crystal display element does not increase.

【0099】さらに、この実施例では、上記のように、
前記ゲート配線10を、列方向に隣り合う画素電極3の
間隔に近い幅に形成し、前記データ配線11の屈曲部1
1aを前記ゲート配線10の幅と同程度の幅に形成して
いるため、前記柱状スペーサ20をさらに太く形成し、
その強度をさらに高くすることができる。
Further, in this embodiment, as described above,
The gate line 10 is formed to have a width close to the distance between the pixel electrodes 3 adjacent in the column direction, and the bent portion 1 of the data line 11 is formed.
Since 1a is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring 10, the columnar spacer 20 is formed to be further thicker.
Its strength can be further increased.

【0100】また、この実施例では、前記柱状スペーサ
20を対向基板2の内面に設け、他方の基板であるTF
T基板1のゲート配線10とデータ配線11の屈曲部1
1aとが重なる領域の内面を、前記柱状スペーサ20の
端面に当接するスペーサ受け面Aとするとともに、前記
柱状スペーサ20の端面と前記スペーサ受け面Aとをそ
れぞれ、前記TFT基板1面および対向基板2面と平行
な平坦面に形成しているため、枠状のシール材を介して
接合される一対の基板1,2の合わせ精度に誤差があっ
ても、前記対向基板2の内面に設けられた前記柱状スペ
ーサ20の端面を、前記TFT基板1の内面の前記スペ
ーサ受け面Aに確実に当接させて、所定の基板間隔を得
ることができる。
In this embodiment, the columnar spacer 20 is provided on the inner surface of the counter substrate 2, and the other substrate, TF
Bent portion 1 of gate wiring 10 and data wiring 11 of T substrate 1
1a is defined as a spacer receiving surface A in contact with an end surface of the columnar spacer 20, and the end surface of the columnar spacer 20 and the spacer receiving surface A are respectively defined as the TFT substrate 1 surface and the counter substrate. Since it is formed on a flat surface parallel to the two surfaces, even if there is an error in the alignment accuracy of the pair of substrates 1 and 2 joined via the frame-shaped sealing material, the pair is provided on the inner surface of the counter substrate 2. The end surfaces of the columnar spacers 20 are securely brought into contact with the spacer receiving surface A on the inner surface of the TFT substrate 1 so that a predetermined substrate interval can be obtained.

【0101】すなわち、この実施例では、前記柱状スペ
ーサ20の端面の行方向および列方向の幅をそれぞれ前
記スペーサ受け面Aの行方向および列方向の幅よりも小
さくしているため、行方向と列方向のいずれの方向の基
板合わせ誤差に対しても、前記柱状スペーサ20の端面
の面積に相当するスペーサ当接面積を確保することがで
きる。
That is, in this embodiment, the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row direction and the column direction is smaller than the width of the spacer receiving surface A in the row direction and the column direction, respectively. A spacer contact area corresponding to the area of the end face of the columnar spacer 20 can be ensured for any substrate alignment error in any of the column directions.

【0102】なお、前記柱状スペーサ20の端面の行方
向および列方向の幅と、前記スペーサ受け面Aの行方向
および列方向の幅は、任意に設定すればよい。図7〜図
9はそれぞれ、前記柱状スペーサ20の端面の行方向お
よび列方向の幅と、前記スペーサ受け面Aの行方向およ
び列方向の幅との他の設定例を示している。
The width of the end face of the columnar spacer 20 in the row and column directions and the width of the spacer receiving surface A in the row and column directions may be set arbitrarily. 7 to 9 show other examples of setting the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row and column directions and the width of the spacer receiving surface A in the row and column directions.

【0103】すなわち、図7は、前記柱状スペーサ20
の端面の行方向および列方向の幅をそれぞれ前記スペー
サ受け面Aの行方向および列方向の幅よりも大きく設定
した例を示しており、このようにすれば、行方向と列方
向のいずれの方向の基板合わせ誤差に対しても、前記ス
ペーサ受け面Aの面積に相当するスペーサ当接面積を確
保することができる。
That is, FIG. 7 shows the columnar spacer 20.
In this example, the width of the end face in the row direction and the column direction is set to be larger than the width of the spacer receiving surface A in the row direction and the column direction, respectively. A spacer contact area corresponding to the area of the spacer receiving surface A can be ensured even with respect to the substrate alignment error in the direction.

【0104】また、図8は、前記柱状スペーサ20の端
面の行方向の幅を前記スペーサ受け面Aの行方向の幅よ
りも小さくし、前記柱状スペーサ20の端面の列方向の
幅を前記スペーサ受け面Aの列方向の幅よりも大きく設
定した例を示しており、このようにすれば、行方向の基
板合わせ誤差に対しては前記柱状スペーサ20の行方向
の幅に相当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の基
板合わせ誤差に対しては前記スペーサ受け面Aの端面の
列方向の幅に相当するスペーサ当接面積を確保すること
ができる。
FIG. 8 shows that the width of the end surface of the columnar spacer 20 in the row direction is smaller than the width of the spacer receiving surface A in the row direction, and the width of the end surface of the columnar spacer 20 in the column direction is smaller than that of the spacer. This shows an example in which the width of the receiving surface A is set to be larger than the width in the column direction. In this case, a spacer abutment corresponding to the width of the columnar spacer 20 in the row direction is prevented against the alignment error in the row direction. An area can be ensured, and a spacer contact area corresponding to the width in the column direction of the end face of the spacer receiving surface A can be ensured with respect to a substrate alignment error in the column direction.

【0105】さらに、図9は、前記柱状スペーサ20の
端面の行方向の幅を前記スペーサ受け面Aの行方向の幅
よりも大きくし、前記柱状スペーサ20の端面の列方向
の幅を前記スペーサ受け面Aの列方向の幅よりも小さく
設定した例を示しており、このようにすれば、行方向の
基板合わせ誤差に対しては前記スペーサ受け面Aの行方
向の幅に相当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の
基板合わせ誤差に対しては前記柱状スペーサ20の端面
の列方向の幅に相当するスペーサ当接面積を確保するこ
とができる。
Further, FIG. 9 shows that the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row direction is larger than the width of the spacer receiving surface A in the row direction, and the width of the end face of the columnar spacer 20 in the column direction is larger than that of the spacer. An example is shown in which the width of the receiving surface A in the column direction is set smaller than that of the receiving surface A. In this way, a spacer alignment error corresponding to the width of the spacer receiving surface A in the row direction is prevented against a row-to-board alignment error. A contact area can be secured, and a spacer contact area corresponding to the width in the column direction of the end face of the columnar spacer 20 can be secured against a substrate alignment error in the column direction.

【0106】図10〜図12はこの発明の第3の実施例
を示しており、図10は液晶表示素子の一部分の平面
図、図11は図10の一部分の拡大図、図12は図11
の XII−XII 線に沿った断面図である。
10 to 12 show a third embodiment of the present invention. FIG. 10 is a plan view of a part of a liquid crystal display element, FIG. 11 is an enlarged view of a part of FIG. 10, and FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line XII-XII of FIG.

【0107】この実施例は、各列の複数の画素電極3が
それぞれ直線状に配列し、データ配線11が直線状に形
成されるとともに、赤、緑、青のカラーフィルタ16
R,16G,16Bがストライプ状態に形成された、一
般にストライプ配列型と呼ばれる強誘電性または反強誘
電性アクティブマトリックス液晶表示素子を対象とした
ものである。
In this embodiment, a plurality of pixel electrodes 3 in each column are arranged in a straight line, the data lines 11 are formed in a straight line, and the red, green and blue color filters 16 are formed.
The present invention is directed to a ferroelectric or antiferroelectric active matrix liquid crystal display element generally called a stripe arrangement type in which R, 16G, and 16B are formed in a stripe state.

【0108】なお、この実施例の液晶表示素子は、スト
ライプ配列型のものであり、画素電極3の配列パターン
とデータ配線11の形状およびカラーフィルタ16R,
16G,16Bの形成状態が異なるが、基本的な素子構
造は図4〜図6に示したデルタ配列型の強誘電性または
反強誘電性アクティブマトリックス液晶表示素子と同じ
であるから、重複する説明は図に同符号を付して省略す
る。
The liquid crystal display element of this embodiment is of a stripe arrangement type, in which the arrangement pattern of the pixel electrodes 3, the shape of the data wiring 11, the color filters 16R,
Although the formation states of 16G and 16B are different, the basic element structure is the same as that of the delta array type ferroelectric or antiferroelectric active matrix liquid crystal display element shown in FIGS. Are given the same reference numerals in the figures and are omitted.

【0109】この液晶表示素子は、基板間隔を規制する
ための柱状スペーサ20を、1つの有効画素領域に対し
て1つの割合で配置したものであり、この実施例では、
前記柱状スペーサ20を、ゲート配線10とデータ配線
11とがゲート絶縁膜6をはさんで重なる領域に対応さ
せて設けている。
In this liquid crystal display element, the columnar spacers 20 for regulating the distance between the substrates are arranged at one ratio for one effective pixel region.
The columnar spacer 20 is provided corresponding to a region where the gate wiring 10 and the data wiring 11 overlap with the gate insulating film 6 interposed therebetween.

【0110】ただし、ストライプ配列型の液晶表示素子
では、前記データ配線11が直線状に形成されているた
め、ゲート配線10とデータ配線11はその交差部にお
いて重なるたけであり、したがって、ゲート配線10と
データ配線11との重なり領域の面積が小さい。
However, in the stripe type liquid crystal display element, since the data lines 11 are formed in a straight line, the gate lines 10 and the data lines 11 only overlap at their intersections. And the area of the overlap region between the data wiring 11 and the data wiring 11 is small.

【0111】そのため、この実施例では、前記データ配
線11のゲート配線10と交差する部分に、前記ゲート
配線10上に重なる突出部11bを形成し、前記柱状ス
ペーサ20を、前記ゲート配線10と前記データ配線1
1の前記突出部11bとが重なる領域に対応させて設け
ている。
For this reason, in this embodiment, at the portion of the data wiring 11 intersecting with the gate wiring 10, a protruding portion 11 b overlapping the gate wiring 10 is formed, and the columnar spacer 20 is connected to the gate wiring 10 and the gate wiring 10. Data wiring 1
One of the protrusions 11b is provided so as to correspond to the region where the protrusion 11b overlaps.

【0112】また、この実施例では、上記第2の実施例
と同様に、列方向に隣り合う画素電極3の間隔を、充分
な開口率が得られる範囲で広くするとともに、前記ゲー
ト配線10を、前記列方向に隣り合う画素電極3の間隔
に近い幅に形成し、前記データ配線11の突出部11b
を、前記ゲート配線10の幅と同程度の幅に形成すると
ともに、ゲート絶縁膜6上のゲート配線10とデータ配
線11の突出部11aとが重なる領域に対応させて、T
FT4のi型半導体膜およびブロッキング絶縁膜7bと
同じi型半導体膜7aとブロッキング絶縁膜7b′と
を、前記ゲート配線10の幅よりもある程度広い幅に積
層形成している。
Further, in this embodiment, similarly to the second embodiment, the interval between the pixel electrodes 3 adjacent in the column direction is widened in a range where a sufficient aperture ratio can be obtained, and the gate wiring 10 is formed. A width close to the distance between the pixel electrodes 3 adjacent in the column direction,
Is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring 10, and T T is set corresponding to a region where the gate wiring 10 on the gate insulating film 6 and the protruding portion 11 a of the data wiring 11 overlap.
The i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b ', which are the same as the i-type semiconductor film and the blocking insulating film 7b of the FT 4, are laminated to have a width somewhat larger than the width of the gate wiring 10.

【0113】なお、この実施例の液晶表示素子も、TF
T基板1のゲート配線10とデータ配線11の屈曲部1
1aとが重なる領域の内面(配向膜14の膜面)を、前
記柱状スペーサ20の端面に当接するスペーサ受け面A
とし、他方の基板である対向基板2の内面に、前記スペ
ーサ受け面Aに対応させて前記柱状スペーサ20を突設
したものであり、前記柱状スペーサ20の端面と前記ス
ペーサ受け面Aはそれぞれ、TFT基板1面および対向
基板2面と平行な平坦面に形成されている。
Note that the liquid crystal display device of this embodiment also has a TF
Bent portion 1 of gate wiring 10 and data wiring 11 of T substrate 1
The inner surface (the film surface of the alignment film 14) of the region overlapping with the first spacer 1a is placed on the spacer receiving surface A which is in contact with the end surface of the columnar spacer 20.
The columnar spacer 20 is provided on the inner surface of the counter substrate 2 as the other substrate so as to correspond to the spacer receiving surface A. The end surface of the columnar spacer 20 and the spacer receiving surface A are respectively It is formed on a flat surface parallel to the TFT substrate 1 surface and the counter substrate 2 surface.

【0114】この実施例においても、前記スペーサ受け
面Aは、前記ゲート配線10とデータ配線11の突出部
11bと前記i型半導体膜7aおよびブロッキング絶縁
膜7b′との全てが重なっている、図11に平行斜線を
施した領域である。
Also in this embodiment, the spacer receiving surface A is such that the projections 11b of the gate wirings 10, the data wirings 11, the i-type semiconductor film 7a and the blocking insulating film 7b 'are all overlapped. This is a region where a parallel oblique line is given to 11.

【0115】すなわち、この実施例の液晶表示素子は、
ストライプ配列型のものではあるが、基本的な構成は、
上述した第2の実施例の液晶表示素子と同じであり、し
たがって、前記第2の実施例の液晶表示素子と同様な効
果を得ることができる。
That is, the liquid crystal display device of this embodiment is
Although it is a stripe array type, the basic configuration is
This is the same as the liquid crystal display device of the second embodiment described above, so that the same effects as those of the liquid crystal display device of the second embodiment can be obtained.

【0116】なお、この実施例では、図10〜図12に
示したように、前記柱状スペーサ20の端面の行方向お
よび列方向の幅をそれぞれ前記スペーサ受け面Aの行方
向および列方向の幅よりも小さくすることにより、行方
向と列方向のいずれの方向の基板合わせ誤差に対して
も、前記柱状スペーサ20の端面の面積に相当するスペ
ーサ当接面積を確保することができるようにしている
が、前記柱状スペーサ20の端面の行方向および列方向
の幅と、前記スペーサ受け面Aの行方向および列方向の
幅は、上記図7〜図9に示したように設定してもよい。
In this embodiment, as shown in FIGS. 10 to 12, the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row direction and the column direction is set to the width of the spacer receiving surface A in the row direction and the column direction, respectively. By making it smaller, it is possible to secure a spacer contact area corresponding to the area of the end face of the columnar spacer 20 with respect to the substrate alignment error in any of the row direction and the column direction. However, the width of the end face of the columnar spacer 20 in the row and column directions and the width of the spacer receiving surface A in the row and column directions may be set as shown in FIGS.

【0117】また、上記第1〜第3の実施例では、対向
基板1の内面に設けられた赤、緑、青のカラーフィルタ
16R,16G,16Bを、前記柱状スペーサ19,2
0が対応する領域にわたって形成しているが、前記カラ
ーフィルタ16R,16G,16Bは、前記柱状スペー
サ19,20が対応する領域を避けて形成してもよい。
In the first to third embodiments, the red, green, and blue color filters 16R, 16G, and 16B provided on the inner surface of the counter substrate 1 are combined with the columnar spacers 19 and 2 respectively.
Although the color filters 16R, 16G, and 16B are formed over the region corresponding to 0, the color filters 16R, 16G, and 16B may be formed avoiding the region corresponding to the columnar spacers 19 and 20.

【0118】図13および図14はこの発明の第4の実
施例を示しており、図13は液晶表示素子の一部分の平
面図、図14は前記液晶表示素子のスペーサ配置部分の
拡大断面図である。
FIGS. 13 and 14 show a fourth embodiment of the present invention. FIG. 13 is a plan view of a part of a liquid crystal display element, and FIG. 14 is an enlarged sectional view of a spacer arrangement part of the liquid crystal display element. is there.

【0119】この実施例は、デルタ配列型の強誘電性ま
たは反強誘電性アクティブマトリックス液晶表示素子を
対象としたものであり、対向基板1の内面に設ける赤、
緑、青のカラーフィルタ16R,16G,16Bを、柱
状スペーサ20が対応する領域を避けて形成したもので
ある。なお、他の構成は上述した第2の実施例と同じで
ある。
This embodiment is directed to a delta-array type ferroelectric or antiferroelectric active matrix liquid crystal display device.
The green and blue color filters 16R, 16G, 16B are formed so as to avoid the area corresponding to the columnar spacer 20. The other structure is the same as that of the second embodiment.

【0120】なお、この液晶表示素子は、TFT基板1
のゲート配線10とデータ配線11の屈曲部11aとが
重なる領域の内面(配向膜14の膜面)を、前記柱状ス
ペーサ20の端面に当接するスペーサ受け面Aとし、他
方の基板である対向基板2の内面に、前記スペーサ受け
面Aに対応させて前記柱状スペーサ20を突設したもの
であり、前記カラーフィルタ16R,16G,16Bは
それぞれ、前記スペーサ受け面Aに対応する領域を避け
て形成されている。
The liquid crystal display element is a TFT substrate 1
The inner surface of the region where the gate wiring 10 and the bent portion 11a of the data wiring 11 overlap with each other (the film surface of the alignment film 14) is defined as a spacer receiving surface A that is in contact with the end surface of the columnar spacer 20. 2, the columnar spacers 20 are provided so as to protrude in correspondence with the spacer receiving surface A, and the color filters 16R, 16G, 16B are formed so as to avoid areas corresponding to the spacer receiving surface A, respectively. Have been.

【0121】そして、前記柱状スペーサ20は、前記対
向基板2の内面に、前記カラーフィルタ16R,16
G,16B上からカラーフィルタの無い部分(遮光膜1
7が露出している部分)にわたって形成された対向電極
15上の前記カラーフィルタの無い部分の上に、前記カ
ラーフィルタ16R,16G,16Bの表面よりも所定
の高さに突出するように突設されている。
The columnar spacer 20 is provided on the inner surface of the counter substrate 2 with the color filters 16R, 16R.
G, 16B from above without a color filter (light shielding film 1
7 is formed on the portion of the counter electrode 15 where the color filter is not formed on the counter electrode 15 formed so as to protrude to a predetermined height from the surface of the color filters 16R, 16G, and 16B. Have been.

【0122】すなわち、この実施例は、対向基板2のカ
ラーフィルタ16R,16G,16Bの無い部分に前記
柱状スペーサ20を設けることにより、外部からの加圧
力を前記カラーフィルタ16R,16G,16Bを介さ
ずに前記柱状スペーサ20に受けさせるようにしたもの
である。
That is, in this embodiment, the columnar spacer 20 is provided in a portion of the opposing substrate 2 where the color filters 16R, 16G, 16B are not provided, so that an external pressure is applied through the color filters 16R, 16G, 16B. Instead, they are received by the columnar spacer 20.

【0123】この実施例の液晶表示素子によれば、圧縮
力に対して潰れ変形しやすいカラーフィルタ16R,1
6G,16Bを介さずに基板間隔を規制することができ
るため、外部からの加圧力に対する強度をより高くする
ことができる。
According to the liquid crystal display device of this embodiment, the color filters 16R, 1 which are easily crushed and deformed by the compressive force.
Since the distance between the substrates can be regulated without passing through the 6G and 16B, the strength against the external pressure can be further increased.

【0124】図15はこの発明の第5の実施例を示す液
晶表示素子のスペーサ配置部分の断面図である。
FIG. 15 is a sectional view of a portion of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention, in which a spacer is provided.

【0125】この実施例は、対向基板1の内面に設ける
赤、緑、青のカラーフィルタ16R,16G,16B
を、前記対向基板1の内面に設けられた遮光膜17の形
成領域を除く領域に形成するとともに、前記遮光膜17
を、高い圧縮強度を有する材料により、前記カラーフィ
ルタ16R,16G,16Bとほぼ同じ厚さに形成し、
前記カラーフィルタ16R,16G,16Bおよび遮光
膜17の上に形成した対向電極15の前記遮光膜17上
の部分に柱状スペーサ20を突設したものであり、他の
構成は上述した第2の実施例と同じである。なお、前記
遮光膜17は、例えば、酸化クロム等の黒色金属膜と、
クロム等の金属膜との積層膜である。
In this embodiment, the red, green, and blue color filters 16R, 16G, and 16B provided on the inner surface of the counter substrate 1 are provided.
Is formed in a region excluding the region where the light shielding film 17 provided on the inner surface of the counter substrate 1 is formed, and the light shielding film 17 is formed.
Is formed with a material having a high compressive strength to a thickness substantially equal to that of the color filters 16R, 16G, and 16B.
A columnar spacer 20 is projected from a portion of the opposing electrode 15 formed on the color filters 16R, 16G, 16B and the light-shielding film 17 on the light-shielding film 17, and other configurations are the same as those of the second embodiment. Same as the example. The light-shielding film 17 includes, for example, a black metal film such as chromium oxide,
It is a laminated film with a metal film such as chromium.

【0126】すなわち、この実施例は、カラーフィルタ
16R,16G,16Bを柱状スペーサ20が対応する
領域を避けて設けるとともに、前記柱状スペーサ20を
高い圧縮強度を有する遮光膜17の上に突設することに
より、外部からの加圧力を前記カラーフィルタ16R,
16G,16Bを介さずに前記柱状スペーサ20に受け
させるようにしたものであり、したがって、外部からの
加圧力に対する強度をより高くすることができる。
That is, in this embodiment, the color filters 16R, 16G and 16B are provided so as to avoid the area corresponding to the columnar spacers 20, and the columnar spacers 20 are protruded above the light shielding film 17 having a high compressive strength. Accordingly, the external pressure is applied to the color filter 16R,
The columnar spacer 20 is received without passing through 16G and 16B, and therefore, the strength against external pressure can be further increased.

【0127】しかも、この実施例によれば、前記遮光膜
17をカラーフィルタ16R,16G,16Bとほぼ同
じ厚さに形成し、その上(対向電極15の上)前記柱状
スペーサ20を設けているため、図13および図14に
示した第4の実施例に比べて、所定の基板間隔を得るた
めに必要な柱状スペーサ20の高さを小さくし、前記柱
状スペーサ20の強度を高くすることができる。
Further, according to this embodiment, the light-shielding film 17 is formed to have substantially the same thickness as the color filters 16R, 16G, 16B, and the columnar spacer 20 is provided thereon (on the counter electrode 15). Therefore, compared to the fourth embodiment shown in FIGS. 13 and 14, it is possible to reduce the height of the columnar spacer 20 necessary to obtain a predetermined substrate interval and increase the strength of the columnar spacer 20. it can.

【0128】なお、上記各実施例では、第2の基板であ
る対向基板2の内面に、複数の画素領域の光透過領域を
規制するための遮光膜17を設けいるが、前記複数の有
効画素領域の間の光不透過領域は、前記遮光膜17を設
けずに、ゲート配線10とデータ配線11およびTN方
式またはSTN方式の液晶表示素子において設けられる
補償容量電極12により形成してもよい。
In each of the above embodiments, the light shielding film 17 for regulating the light transmitting area of the plurality of pixel areas is provided on the inner surface of the counter substrate 2 which is the second substrate. The light-impermeable area between the areas may be formed by the gate wiring 10 and the data wiring 11 and the compensation capacitance electrode 12 provided in the TN or STN liquid crystal display element without providing the light-shielding film 17.

【0129】また、上記第1の実施例は、TN方式また
はSTN方式のアクティブマトリックス液晶表示素子を
対象としたものであり、また、上記第2〜第5の実施例
は、補償容量が不要な強誘電性または反強誘電性アクテ
ィブマトリックス液晶表示素子を対象としたものである
が、この発明は、他の方式のアクティブマトリックス液
晶表示素子にも適用することができ、また、カラーフィ
ルタを備えない白黒画像を表示するアクティブマトリッ
クス液晶表示素子にも適用することができる。
The first embodiment is directed to a TN type or STN type active matrix liquid crystal display device. The second to fifth embodiments are not required to provide a compensation capacitor. Although the present invention is directed to a ferroelectric or antiferroelectric active matrix liquid crystal display device, the present invention can be applied to other types of active matrix liquid crystal display devices and does not include a color filter. The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal display device that displays a monochrome image.

【0130】[0130]

【発明の効果】この発明の液晶表示素子は、一対の基板
のうちの少なくとも一方の基板の内面に、複数の有効画
素領域の間の光不透過領域に対応させて、複数の柱状ス
ペーサを所定の基板間隔に対応する高さに突設し、これ
らの柱状スペーサをその頂面において他方の基板の内面
に当接させて前記一対の基板間の間隔を規制したもので
あるから、基板間隔を均一に精度良く設定するととも
に、有効画素領域内に、液晶分子の配向の乱れによる表
示不良や、輝点または黒点欠陥が生じるのを防いで、表
示特性が均一で、しかもコントラストの良い良好な画像
を表示できる。
According to the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of columnar spacers are provided on the inner surface of at least one of the pair of substrates in correspondence with the light opaque region between the plurality of effective pixel regions. Projecting at a height corresponding to the distance between the substrates, and these columnar spacers are brought into contact with the inner surface of the other substrate at the top surface thereof to regulate the distance between the pair of substrates. A good image with uniform display characteristics and good contrast with good uniformity and high accuracy, while preventing display defects and bright spots or black spot defects from being generated in the effective pixel area due to disordered alignment of liquid crystal molecules. Can be displayed.

【0131】この発明の液晶表示素子において、前記柱
状スペーサは、1つの有効画素領域に対して少なくとも
1つ以上の割合で配置するのが望ましく、このようにす
ることにより、基板間隔をより均一にするとともに、外
部からの加圧力に対する強度を高くしかも均一にするこ
とができる。
In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the columnar spacers are arranged in at least one or more ratio with respect to one effective pixel region. In addition, the strength against external pressure can be made high and uniform.

【0132】また、前記柱状スペーサは、前記TFTに
対応する領域を避けて設け、外部からの加圧力が前記柱
状スペーサを介して前記TFTに加わらないようにする
のが好ましく、このようにすることにより、外部からの
加圧力による前記TFTの破壊を防ぐことができる。
It is preferable that the columnar spacer is provided so as to avoid a region corresponding to the TFT, so that an external pressure is not applied to the TFT via the columnar spacer. Accordingly, the TFT can be prevented from being broken by an external pressure.

【0133】この発明を、前記液晶層が、液晶分子がツ
イスト配向したネマティック液晶層であり、前記第1の
基板の内面に、前記複数の画素電極の縁部に絶縁膜を介
して対向する補償容量電極が設けられているTN方式ま
たはSTN方式の液晶表示素子に適用する場合、前記柱
状スペーサは、前記ゲート配線と前記データ配線と前記
補償容量電極とのうちの少なくとも1つに部分的に対応
させて設ければよく、このようにすることにより、基板
間隔を均一に精度良く設定するとともに、有効画素領域
内に、液晶分子の配向の乱れによる表示不良や、輝点ま
たは黒点欠陥が生じるのを防ぐことができる。
The present invention provides a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal layer is a nematic liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are twist-aligned, and the liquid crystal layer faces an inner surface of the first substrate to an edge of the plurality of pixel electrodes via an insulating film. When applied to a TN or STN liquid crystal display element provided with a capacitor electrode, the columnar spacer partially corresponds to at least one of the gate line, the data line, and the compensation capacitor electrode. By doing so, it is possible to uniformly and accurately set the distance between the substrates, and to cause a display defect or a bright spot or a black spot defect in the effective pixel region due to disorder in the alignment of liquid crystal molecules. Can be prevented.

【0134】また、この発明を、前記液晶層が、強誘電
性または反強誘電性液晶層である、補償容量が不要な強
誘電性または反強誘電性液晶表示素子に適用する場合、
前記柱状スペーサは、前記ゲート配線と前記データ配線
とのうちの少なくとも一方に部分的に対応させて設けれ
ばよく、このようにすることにより、基板間隔を均一に
精度良く設定するとともに、有効画素領域内に、液晶分
子の配向の乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥
が生じるのを防ぐことができる。
Further, when the present invention is applied to a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display device which does not require a compensation capacitor, wherein the liquid crystal layer is a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal layer,
The columnar spacer may be provided so as to partially correspond to at least one of the gate wiring and the data wiring. In this way, the substrate spacing is set uniformly and accurately, and the effective pixel It is possible to prevent a display defect and a bright spot or a black spot defect from being generated in the region due to the disorder of the alignment of the liquid crystal molecules.

【0135】この発明の液晶表示素子において、前記柱
状スペーサは、前記第1の基板上に形成された前記ゲー
ト配線と、前記ゲート配線を覆って設けられた絶縁膜の
上に形成された前記データ配線とが重なる領域に対応さ
せて設けるのが好ましく、このように、前記第1の基板
の内面のうちの前記ゲート配線と前記データ配線とが前
記絶縁膜をはさんで重なっている盛り上がった領域に前
記柱状スペーサを設けることにより、所定の基板間隔を
得るために必要な柱状スペーサの高さを小さくし、前記
柱状スペーサの強度を高くすることができる。
In the liquid crystal display device according to the present invention, the columnar spacer includes the gate wiring formed on the first substrate and the data formed on an insulating film provided over the gate wiring. It is preferable to provide the area corresponding to the area where the wiring overlaps, and thus, the raised area of the inner surface of the first substrate where the gate wiring and the data wiring overlap with the insulating film interposed therebetween. By providing the columnar spacers, the height of the columnar spacers required to obtain a predetermined substrate spacing can be reduced, and the strength of the columnar spacers can be increased.

【0136】その場合、各列の複数の画素電極がそれぞ
れ、各行ごとにほぼ1.5ピッチずつ行方向に交互にず
れて配列し、前記データ配線が、前記ゲート配線上に重
なる屈曲部を有する形状に形成されている液晶表示素子
においては、前記柱状スペーサを、前記ゲート配線と前
記データ配線の前記屈曲部とが重なる領域に対応させて
設けるのが好ましく、このようにすることにより、前記
柱状スペーサを太く形成し、その強度をより高くするこ
とができる。
In this case, the plurality of pixel electrodes in each column are alternately arranged in the row direction by approximately 1.5 pitches for each row, and the data wiring has a bent portion overlapping the gate wiring. In the liquid crystal display element formed in a shape, it is preferable that the columnar spacer is provided so as to correspond to a region where the gate wiring and the bent portion of the data wiring overlap with each other. The spacer can be formed thick, and its strength can be further increased.

【0137】また、各列の複数の画素電極がそれぞれ直
線状に配列し、前記データ配線が直線状に形成されると
ともに、このデータ配線に、前記ゲート配線上に重なる
突出部が形成されている液晶表示素子においては、前記
柱状スペーサを、前記ゲート配線と前記データ配線の前
記突出部とが重なる領域に対応させて設けるのが好まし
く、このようにすることにより、前記柱状スペーサを太
く形成し、その強度をより高くすることができる。
A plurality of pixel electrodes in each column are linearly arranged, and the data lines are formed in a straight line, and the data lines are formed with projections overlapping the gate lines. In the liquid crystal display device, it is preferable that the columnar spacer is provided in correspondence with a region where the gate line and the protruding portion of the data line overlap with each other. In this manner, the columnar spacer is formed thick, Its strength can be higher.

【0138】さらに、前記TFTが、前記第1の基板上
に形成されたゲート電極と、このゲート電極を覆うゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極と
対向させて設けられたi型半導体膜と、このi型半導体
膜のチャンネル領域の上に形成されたブロッキング絶縁
膜と、前記i型半導体膜の両側部の上にn型半導体膜を
介して形成されたソース電極およびドレイン電極とから
なっている場合は、前記TFTのゲート絶縁膜を前記ゲ
ート配線を覆って形成するとともに、前記ゲート絶縁膜
上の前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈曲部また
は前記突出部とが重なる領域に、前記TFTのi型半導
体膜およびブロッキング絶縁膜と同じi型半導体膜とブ
ロッキング絶縁膜とを積層形成し、その上に前記データ
配線の前記屈曲部または前記突出部を形成するのが好ま
しく、このようにすることにより、前記第1の基板の内
面の前記柱状スペーサに対応する領域の盛り上がりをさ
らに大きくし、所定の基板間隔を得るために必要な柱状
スペーサの高さをより小さくしてその強度をさらに高く
するとともに、前記ゲート配線と前記データ配線の前記
屈曲部または前記突出部との間を、前記ゲート絶縁膜と
前記i型半導体膜と前記ブロッキング絶縁膜とにより絶
縁し、前記ゲート配線と前記データ配線との間の絶縁耐
圧をより高くすることができる。
Further, the TFT is provided on a gate electrode formed on the first substrate, a gate insulating film covering the gate electrode, and provided on the gate insulating film so as to face the gate electrode. an i-type semiconductor film, a blocking insulating film formed on a channel region of the i-type semiconductor film, and a source electrode and a drain formed on both sides of the i-type semiconductor film via an n-type semiconductor film In the case of being composed of electrodes, a gate insulating film of the TFT is formed so as to cover the gate wiring, and the gate wiring on the gate insulating film overlaps with the bent portion or the protruding portion of the data wiring. An i-type semiconductor film and a blocking insulating film, which are the same as the i-type semiconductor film and the blocking insulating film of the TFT, are formed in a region, and the bent portion of the data wiring is formed thereon. Alternatively, it is preferable to form the protruding portion. By doing so, the bulge of the area corresponding to the columnar spacer on the inner surface of the first substrate is further increased, and it is necessary to obtain a predetermined substrate interval. The height of the columnar spacer is made smaller to further increase its strength, and the space between the gate wiring and the bent portion or the protruding portion of the data wiring is formed between the gate insulating film and the i-type semiconductor film. Insulation is achieved by the blocking insulating film, and the withstand voltage between the gate wiring and the data wiring can be further increased.

【0139】なお、前記ゲート絶縁膜の上に、前記ゲー
ト配線と前記データ配線の前記屈曲部または前記突出部
とが重なる領域に対応させて積層形成する前記i型半導
体膜と前記ブロッキング絶縁膜は、前記TFTの形成工
程を利用して同時に形成することができるため、液晶表
示素子の製造コストが高くなることはない。
The i-type semiconductor film and the blocking insulating film, which are formed on the gate insulating film so as to correspond to a region where the gate wiring and the bent portion or the projecting portion of the data wiring overlap with each other, Since the TFTs can be formed at the same time by utilizing the TFT forming process, the manufacturing cost of the liquid crystal display element does not increase.

【0140】上記のように、前記ゲート配線と前記デー
タ配線の前記屈曲部または前記突出部とが重なる領域に
対応させて前記柱状スペーサを設ける場合は、前記ゲー
ト配線を、列方向に隣り合う画素電極の間隔に近い幅に
形成し、前記データ配線の前記屈曲部または前記突出部
を前記ゲート配線の幅と同程度の幅に形成するのが好ま
しく、このようにすることにより、前記柱状スペーサを
さらに太く形成し、その強度をさらに高くすることがで
きる。
As described above, when the columnar spacer is provided so as to correspond to a region where the bent portion or the protruding portion of the data line overlaps with the data line, the gate line is connected to the adjacent pixel in the column direction. It is preferable that the columnar spacer is formed to have a width close to the interval between the electrodes, and the bent portion or the protruding portion of the data wiring is formed to have a width substantially equal to the width of the gate wiring. It can be formed thicker and its strength can be further increased.

【0141】また、上記のように前記ゲート配線と前記
データ配線の前記屈曲部または前記突出部とが重なる領
域に対応させて前記柱状スペーサを設ける場合は、前記
第1の基板の前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈
曲部または前記突出部とが重なる領域の内面を、前記柱
状スペーサの端面に当接するスペーサ受け面とし、前記
第2の基板の内面に、前記スペーサ受け面に対応させて
前記柱状スペーサを突設するとともに、前記柱状スペー
サの端面と前記スペーサ受け面とをそれぞれ平坦面に形
成するのが好ましく、このようにすることにより、枠状
のシール材を介して接合される一対の基板の合わせ精度
に誤差があっても、前記第2の基板の内面に設けられた
前記柱状スペーサの端面を、前記第1の基板の内面の前
記スペーサ受け面に確実に当接させて、所定の基板間隔
を得ることができる。
In the case where the columnar spacer is provided so as to correspond to the region where the gate line and the bent portion or the projecting portion of the data line overlap, as described above, An inner surface of a region where the bent portion or the protruding portion of the data wiring overlaps is a spacer receiving surface that is in contact with an end surface of the columnar spacer, and the inner surface of the second substrate corresponds to the spacer receiving surface. It is preferable that the columnar spacers are protruded, and the end surfaces of the columnar spacers and the spacer receiving surfaces are respectively formed to be flat surfaces. In this manner, a pair of the paired members that are joined via the frame-shaped sealing material are preferably used. Even if there is an error in the alignment accuracy of the substrate, the end surface of the columnar spacer provided on the inner surface of the second substrate is connected to the spacer receiving surface of the inner surface of the first substrate. By securely contact, it is possible to obtain a predetermined distance between the substrates.

【0142】この場合、前記柱状スペーサの端面の行方
向および列方向の幅と、前記スペーサ受け面の行方向お
よび列方向の幅は、任意に設定すればよく、例えば、前
記柱状スペーサの端面の行方向および列方向の幅をそれ
ぞれ前記スペーサ受け面の行方向および列方向の幅より
も小さくすれば、行方向と列方向のいずれの方向の基板
合わせ誤差に対しても、前記柱状スペーサの端面の面積
に相当するスペーサ当接面積を確保することができる。
In this case, the width of the end surface of the columnar spacer in the row and column directions and the width of the spacer receiving surface in the row and column directions may be arbitrarily set. If the width in the row direction and the column direction is made smaller than the width in the row direction and the column direction of the spacer receiving surface, respectively, the end face of the columnar spacer can be used for any substrate alignment error in either the row direction or the column direction. Can be secured.

【0143】また、前記柱状スペーサの端面の行方向お
よび列方向の幅をそれぞれ前記スペーサ受け面の行方向
および列方向の幅よりも大きくすれば、行方向と列方向
のいずれの方向の基板合わせ誤差に対しても、前記スペ
ーサ受け面の面積に相当するスペーサ当接面積を確保す
ることができる。
If the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction and the column direction is made larger than the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction, respectively, the substrate alignment in either the row direction or the column direction can be performed. Even for errors, a spacer contact area corresponding to the area of the spacer receiving surface can be ensured.

【0144】また、前記柱状スペーサの端面の行方向の
幅を前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも小さくし、
前記柱状スペーサの端面の列方向の幅を前記スペーサ受
け面の列方向の幅よりも大きくすれば、行方向の基板合
わせ誤差に対しては前記柱状スペーサの行方向の幅に相
当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の基板合わせ
誤差に対しては前記スペーサ受け面の端面の列方向の幅
に相当するスペーサ当接面積を確保することができる。
Further, the width of the end face of the columnar spacer in the row direction is made smaller than the width of the spacer receiving face in the row direction,
If the width in the column direction of the end face of the columnar spacer is made larger than the width in the column direction of the spacer receiving surface, a spacer contact corresponding to the width of the columnar spacer in the row direction with respect to a substrate alignment error in the row direction. An area can be ensured, and a spacer contact area corresponding to the width in the column direction of the end face of the spacer receiving surface can be ensured against a substrate alignment error in the column direction.

【0145】さらに、前記柱状スペーサの端面の行方向
の幅を前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも大きく
し、前記柱状スペーサの端面の列方向の幅を前記スペー
サ受け面の列方向の幅よりも小さくすれば、行方向の基
板合わせ誤差に対しては前記スペーサ受け面の行方向の
幅に相当するスペーサ当接面積を確保し、列方向の基板
合わせ誤差に対しては前記柱状スペーサの端面の列方向
の幅に相当するスペーサ当接面積を確保することができ
る。
Further, the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction is made larger than the width of the spacer receiving surface in the row direction, and the width of the end surface of the columnar spacer in the column direction is set to the width of the spacer receiving surface in the column direction. If it is smaller than this, a spacer contact area corresponding to the width of the spacer receiving surface in the row direction is secured for the row-to-board substrate alignment error, and the columnar spacer is A spacer contact area corresponding to the width of the end face in the column direction can be secured.

【0146】また、この発明を、前記第2の基板の内面
に前記複数の画素領域にそれぞれ対応する複数の色のカ
ラーフィルタが設けられた液晶表示素子に適用する場
合、前記カラーフィルタは、前記柱状スペーサが対応す
る領域にわたって形成してもよいが、前記カラーフィル
タを前記柱状スペーサが対応する領域を避けて形成すれ
ば、外部からの加圧力を前記カラーフィルタを介さずに
前記柱状スペーサに受けさせることができるため、外部
からの加圧力に対する強度をより高くすることができ
る。
Further, when the present invention is applied to a liquid crystal display element in which a plurality of color filters corresponding to the plurality of pixel regions are provided on the inner surface of the second substrate, the color filter is Although the columnar spacer may be formed over the corresponding region, if the color filter is formed so as to avoid the region corresponding to the columnar spacer, external pressure is applied to the columnar spacer without passing through the color filter. Therefore, the strength against external pressure can be further increased.

【0147】さらに、この発明の液晶表示素子におい
て、前記複数の有効画素領域の間の光不透過領域は、前
記ゲート配線と前記データ配線およびTN方式またはS
TN方式の液晶表示素子において設けられる前記補償容
量電極により形成してもよいが、前記第2の基板の内面
に、前記複数の画素領域の光透過領域を規制するための
遮光膜を設け、この遮光膜が対応する領域内に前記柱状
スペーサを設ければ、前記有効画素領域内に、液晶分子
の配向の乱れによる表示不良や、輝点または黒点欠陥が
生じるのを確実に防ぐことができる。
Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the light opaque region between the plurality of effective pixel regions is formed by the gate wiring and the data wiring and the TN type or the S type.
Although it may be formed by the compensation capacitance electrode provided in the TN type liquid crystal display element, a light-shielding film for regulating light transmission regions of the plurality of pixel regions is provided on an inner surface of the second substrate. If the columnar spacers are provided in the region corresponding to the light-shielding film, it is possible to reliably prevent a display defect due to a disorder in the alignment of liquid crystal molecules and a bright spot or a black spot defect in the effective pixel region.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施例を示す液晶表示素子の
一部分の平面図。
FIG. 1 is a plan view of a part of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の一部分の拡大図。FIG. 2 is an enlarged view of a part of FIG.

【図3】図2の III−III 線に沿った断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 2;

【図4】この発明の第2の実施例を示す液晶表示素子の
一部分の平面図。
FIG. 4 is a plan view of a part of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4の一部分の拡大図。FIG. 5 is an enlarged view of a part of FIG. 4;

【図6】図5のVI−VI線に沿った断面図。FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5;

【図7】第2の実施例における柱状スペーサの端面の行
方向および列方向の幅と、スペーサ受け面の行方向およ
び列方向の幅との他の設定例を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing another example of setting the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction and the column direction and the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction in the second embodiment.

【図8】第2の実施例における柱状スペーサの端面の行
方向および列方向の幅と、スペーサ受け面の行方向およ
び列方向の幅との他の設定例を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing another example of setting the width of the end face of the columnar spacer in the row direction and the column direction and the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction in the second embodiment.

【図9】第2の実施例における柱状スペーサの端面の行
方向および列方向の幅と、スペーサ受け面の行方向およ
び列方向の幅との他の設定例を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing another example of setting the width of the end surface of the columnar spacer in the row direction and the column direction and the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction in the second embodiment.

【図10】この発明の第3の実施例を示す液晶表示素子
の一部分の平面図。
FIG. 10 is a plan view of a part of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図11】図10の一部分の拡大図。FIG. 11 is an enlarged view of a part of FIG. 10;

【図12】図11の XII−XII 線に沿った断面図。FIG. 12 is a sectional view taken along the line XII-XII of FIG. 11;

【図13】この発明の第4の実施例を示す液晶表示素子
の一部分の平面図。
FIG. 13 is a plan view of a part of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図14】第4の実施例による液晶表示素子のスペーサ
配置部分の拡大断面図。
FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view of a spacer arrangement portion of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

【図15】この発明の第5の実施例を示す液晶表示素子
のスペーサ配置部分の断面図。
FIG. 15 is a sectional view of a spacer arrangement portion of a liquid crystal display element according to a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…TFT基板(第1の基板) 2…対向基板(第2の基板) 3…画素電極 4…TFT(薄膜トランジスタ) 5…ゲート電極 6…ゲート絶縁膜 7a…i型半導体膜 7b,7b′…ブロッキング絶縁膜 8…ソース電極 9…ドレイン電極 10…ゲート配線 11…データ配線 11a…屈曲部 11b…突出部 12…補償容量電極 13…オーバーコート絶縁膜 14…配向膜 15…対向電極 16R,16G,16B…カラーフィルタ 17…遮光膜 18…配向膜 19,20…柱状スペーサ A…スペーサ受け面 21…液晶層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... TFT substrate (1st substrate) 2 ... Counter substrate (2nd substrate) 3 ... Pixel electrode 4 ... TFT (thin film transistor) 5 ... Gate electrode 6 ... Gate insulating film 7a ... i-type semiconductor film 7b, 7b '... Blocking insulating film 8 ... Source electrode 9 ... Drain electrode 10 ... Gate wiring 11 ... Data wiring 11a ... Bend portion 11b ... Protrusion 12 ... Compensation capacitance electrode 13 ... Overcoat insulating film 14 ... Orientation film 15 ... Counter electrode 16R, 16G, 16B: color filter 17: light-shielding film 18: alignment film 19, 20: columnar spacer A: spacer receiving surface 21: liquid crystal layer

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶層をはさんで対向する第1と第2の一
対の基板のうち、第1の基板の内面に、行方向および列
方向にマトリックス状に配列する複数の画素電極と、こ
れらの画素電極にそれぞれ接続された複数の薄膜トラン
ジスタと、各画素電極行にそれぞれ沿わせて形成された
複数のゲート配線と、各画素電極列にそれぞれ沿わせて
形成された複数のデータ配線とが設けられ、第2の基板
の内面に、前記複数の画素電極に対向する対向電極が設
けられたアクティブマトリックス型の液晶表示素子にお
いて、 前記複数の画素電極と前記対向電極とが互いに対向する
複数の画素領域のうちの光が透過する領域がそれぞれ有
効画素領域となっているとともに、前記一対の基板のう
ちの少なくとも一方の基板の内面に、前記複数の有効画
素領域の間の光不透過領域に対応させて、前記一対の基
板間の間隔を規制するための複数の柱状スペーサが、所
定の基板間隔に対応する高さに突設されており、これら
の柱状スペーサが、その頂面において他方の基板の内面
に当接していることを特徴とする液晶表示素子。
1. A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix in a row direction and a column direction on an inner surface of a first substrate among a first and second pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; A plurality of thin film transistors respectively connected to these pixel electrodes, a plurality of gate lines formed along each pixel electrode row, and a plurality of data lines formed along each pixel electrode column are included. A liquid crystal display element of an active matrix type provided with a counter electrode facing the plurality of pixel electrodes on an inner surface of a second substrate, wherein the plurality of pixel electrodes and the counter electrode face each other. The regions of the pixel region through which light passes are the effective pixel regions, respectively, and the inner surface of at least one of the pair of substrates is provided between the plurality of effective pixel regions. In correspondence with the light opaque region, a plurality of columnar spacers for regulating the interval between the pair of substrates are protruded at a height corresponding to a predetermined substrate interval, and these columnar spacers are A liquid crystal display element having a top surface in contact with an inner surface of the other substrate.
【請求項2】前記柱状スペーサは、1つの有効画素領域
に対して少なくとも1つ以上の割合で配置されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said columnar spacers are arranged in at least one ratio with respect to one effective pixel region.
【請求項3】前記柱状スペーサは、前記薄膜トランジス
タに対応する領域を避けて設けられていることを特徴と
する請求項1に記載の液晶表示素子。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the columnar spacer is provided so as to avoid a region corresponding to the thin film transistor.
【請求項4】前記液晶層は、液晶分子がツイスト配向し
たネマティック液晶層であり、前記第1の基板の内面
に、前記複数の画素電極の縁部に絶縁膜を介して対向す
る補償容量電極が設けられ、前記柱状スペーサが、前記
ゲート配線と前記データ配線と前記補償容量電極とのう
ちの少なくとも1つに部分的に対応させて設けられてい
ることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal layer is a nematic liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are twist-aligned, and a compensating capacitance electrode is provided on an inner surface of the first substrate, facing an edge of the plurality of pixel electrodes via an insulating film. The columnar spacer according to claim 1, wherein the columnar spacer is provided so as to partially correspond to at least one of the gate line, the data line, and the compensation capacitance electrode. Liquid crystal display element.
【請求項5】前記液晶層は、強誘電性または反強誘電性
液晶層であり、前記柱状スペーサが、前記ゲート配線と
前記データ配線とのうちの少なくとも一方に部分的に対
応させて設けられていることを特徴とする請求項1に記
載の液晶表示素子。
5. The liquid crystal layer is a ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal layer, and the columnar spacer is provided so as to partially correspond to at least one of the gate wiring and the data wiring. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項6】前記ゲート配線が前記第1の基板上に形成
され、前記データ配線が前記ゲート配線を覆って設けら
れた絶縁膜の上に形成されており、前記ゲート配線と前
記データ配線とが前記絶縁膜をはさんで重なる領域に対
応させて前記柱状スペーサが設けられていることを特徴
とする請求項1に記載の液晶表示素子。
6. The gate wiring is formed on the first substrate, and the data wiring is formed on an insulating film provided so as to cover the gate wiring. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the columnar spacer is provided so as to correspond to a region overlapping the insulating film.
【請求項7】各列の複数の画素電極がそれぞれ、各行ご
とにほぼ1.5ピッチずつ行方向に交互にずれて配列
し、前記データ配線が、前記ゲート配線上に重なる屈曲
部を有する形状に形成されており、前記柱状スペーサ
が、前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈曲部とが
重なる領域に対応させて設けられていることを特徴とす
る請求項6に記載の液晶表示素子。
7. A shape in which a plurality of pixel electrodes in each column are alternately arranged in a row direction by approximately 1.5 pitches for each row, and the data wiring has a bent portion overlapping the gate wiring. 7. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the columnar spacer is provided so as to correspond to a region where the gate line and the bent portion of the data line overlap.
【請求項8】各列の複数の画素電極がそれぞれ直線状に
配列し、前記データ配線が直線状に形成されるととも
に、このデータ配線に、前記ゲート配線上に重なる突出
部が形成されており、前記柱状スペーサが、前記ゲート
配線と前記データ配線の前記突出部とが重なる領域に対
応させて設けられていることを特徴とする請求項6に記
載の液晶表示素子。
8. A plurality of pixel electrodes in each column are arranged in a straight line, and the data line is formed in a straight line, and a protrusion overlapping the gate line is formed in the data line. 7. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein said columnar spacer is provided corresponding to a region where said gate wiring and said projection of said data wiring overlap.
【請求項9】前記薄膜トランジスタは、前記第1の基板
上に形成されたゲート電極と、このゲート電極を覆うゲ
ート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極
と対向させて設けられたi型半導体膜と、このi型半導
体膜のチャンネル領域の上に形成されたブロッキング絶
縁膜と、前記i型半導体膜の両側部の上にn型半導体膜
を介して形成されたソース電極およびドレイン電極とか
らなっており、前記薄膜トランジスタのゲート絶縁膜が
前記ゲート配線を覆って形成されるとともに、前記ゲー
ト絶縁膜上の前記ゲート配線と前記データ配線の前記屈
曲部または前記突出部とが重なる領域に、前記薄膜トラ
ンジスタのi型半導体膜およびブロッキング絶縁膜と同
じi型半導体膜とブロッキング絶縁膜とが積層形成さ
れ、その上に前記データ配線の前記屈曲部または前記突
出部が形成されていることを特徴とする請求項7または
8に記載の液晶表示素子。
9. The thin film transistor is provided on a gate electrode formed on the first substrate, a gate insulating film covering the gate electrode, and provided on the gate insulating film so as to face the gate electrode. an i-type semiconductor film, a blocking insulating film formed on a channel region of the i-type semiconductor film, and a source electrode and a drain formed on both sides of the i-type semiconductor film via an n-type semiconductor film A region in which the gate insulating film of the thin film transistor is formed so as to cover the gate wiring, and the gate wiring and the bent portion or the protruding portion of the data wiring on the gate insulating film overlap each other. Then, an i-type semiconductor film and a blocking insulating film, which are the same as the i-type semiconductor film and the blocking insulating film of the thin film transistor, are formed in layers, and the The liquid crystal display device according to claim 7 or 8, characterized in that the bent portion or the protruding portion of the data wiring is formed.
【請求項10】前記ゲート配線が、列方向に隣り合う画
素電極の間隔に近い幅に形成され、前記データ配線の前
記屈曲部または前記突出部が前記ゲート配線の幅と同程
度の幅に形成されていることを特徴とする請求項7また
は8に記載の液晶表示素子。
10. The gate line is formed to have a width close to a distance between pixel electrodes adjacent in a column direction, and the bent portion or the projecting portion of the data line is formed to have a width substantially equal to the width of the gate line. 9. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein
【請求項11】前記第1の基板の前記ゲート配線と前記
データ配線の前記屈曲部または前記突出部とが重なる領
域の内面が、前記柱状スペーサの端面に当接するスペー
サ受け面となっており、前記第2の基板の内面に、前記
スペーサ受け面に対応させて前記柱状スペーサが突設さ
れているとともに、前記柱状スペーサの端面と前記スペ
ーサ受け面とがそれぞれ平坦面に形成されていることを
特徴とする請求項7または8に記載の液晶表示素子。
11. An inner surface of a region where said gate wiring of said first substrate and said bent portion or said protruding portion of said data wiring overlap serves as a spacer receiving surface which abuts on an end surface of said columnar spacer. On the inner surface of the second substrate, the columnar spacer is provided so as to correspond to the spacer receiving surface, and the end surface of the columnar spacer and the spacer receiving surface are formed as flat surfaces, respectively. The liquid crystal display device according to claim 7 or 8, wherein:
【請求項12】前記柱状スペーサの端面の行方向および
列方向の幅がそれぞれ前記スペーサ受け面の行方向およ
び列方向の幅よりも小さいことを特徴とする請求項11
に記載の液晶表示素子。
12. The width of the end face of the columnar spacer in the row direction and the column direction is smaller than the width of the spacer receiving surface in the row direction and the column direction, respectively.
3. The liquid crystal display device according to item 1.
【請求項13】前記柱状スペーサの端面の行方向および
列方向の幅がそれぞれ前記スペーサ受け面の行方向およ
び列方向の幅よりも大きいことを特徴とする請求項11
に記載の液晶表示素子。
13. A width of an end face of the columnar spacer in a row direction and a column direction is larger than a width of the spacer receiving surface in a row direction and a column direction, respectively.
3. The liquid crystal display device according to item 1.
【請求項14】前記柱状スペーサの端面の行方向の幅が
前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも小さく、前記柱
状スペーサの端面の列方向の幅が前記スペーサ受け面の
列方向の幅よりも大きいことを特徴とする請求項11に
記載の液晶表示素子。
14. The width of the end face of the columnar spacer in the row direction is smaller than the width of the spacer receiving face in the row direction, and the width of the end face of the columnar spacer in the column direction is smaller than the width of the spacer receiving face in the column direction. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein
【請求項15】前記柱状スペーサの端面の行方向の幅が
前記スペーサ受け面の行方向の幅よりも大きく、前記柱
状スペーサの端面の列方向の幅が前記スペーサ受け面の
列方向の幅よりも小さいことを特徴とする請求項11に
記載の液晶表示素子。
15. The width of the end surface of the columnar spacer in the row direction is larger than the width of the spacer receiving surface in the row direction, and the width of the end surface of the columnar spacer in the column direction is larger than the width of the spacer receiving surface in the column direction. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the liquid crystal display element is also small.
【請求項16】前記第2の基板の内面に、前記複数の画
素領域にそれぞれ対応する複数の色のカラーフィルタが
設けられており、これらのカラーフィルタが、前記柱状
スペーサが対応する領域にわたって形成されていること
を特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
16. A plurality of color filters respectively corresponding to the plurality of pixel regions are provided on an inner surface of the second substrate, and these color filters are formed over a region corresponding to the columnar spacer. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein
【請求項17】前記第2の基板の内面に、前記複数の画
素領域にそれぞれ対応する複数の色のカラーフィルタが
設けられており、これらのカラーフィルタが、前記柱状
スペーサが対応する領域を避けて形成されていることを
特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
17. A plurality of color filters respectively corresponding to the plurality of pixel regions are provided on the inner surface of the second substrate, and these color filters avoid the region corresponding to the columnar spacer. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed by:
【請求項18】前記第2の基板の内面に、前記複数の画
素領域の光透過領域を規制するための遮光膜が設けられ
ており、この遮光膜が対応する領域内に前記柱状スペー
サが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の
液晶表示素子。
18. A light-shielding film for regulating light-transmitting regions of the plurality of pixel regions is provided on an inner surface of the second substrate, and the columnar spacer is provided in a region corresponding to the light-shielding film. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
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