JP2000294982A - Electromagnetic wave shielding adhesive film, electromagnetic wave shielding structure and display using the film - Google Patents
Electromagnetic wave shielding adhesive film, electromagnetic wave shielding structure and display using the filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮
蔽構成体及びディスプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding adhesive film having a shielding property of an electromagnetic wave generated from the front surface of a display such as a CRT, PDP (plasma), liquid crystal, EL, etc. and an infrared shielding property, and an electromagnetic wave shielding using the same. It relates to a structure and a display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in the use of various types of electrical equipment and electronic equipment, electromagnetic noise interference has been increasing steadily. Noise can be broadly divided into conducted noise and radiated noise.
There is a method using a noise filter or the like. On the other hand, as a countermeasure against radiation noise, it is necessary to electromagnetically insulate the space, so make the housing a metal body or a highly conductive body, insert a metal plate between circuit boards, Is wrapped with metal foil. With these methods, an electromagnetic wave shielding effect of a circuit or a power supply block can be expected, but it cannot be applied to an electromagnetic wave shielding generated from the front of a display such as a CRT or PDP because it is opaque.
【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。As a method for achieving both the electromagnetic wave shielding property and the transparency, a method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or metal oxide on a transparent substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 27880/1990).
No. 0, JP-A-5-323101). On the other hand, an electromagnetic wave shielding material in which a good conductive fiber is embedded in a transparent substrate (JP-A-5-327274,
JP-A-5-269912) or an electromagnetic wave shielding material in which a conductive resin containing metal powder or the like is directly printed on a transparent substrate (JP-A-62-57297, JP-A-2-5-5).
Further, an electromagnetic wave shielding material in which a transparent resin layer is formed on a transparent substrate such as polycarbonate having a thickness of about 2 mm and a copper mesh pattern is formed thereon by an electroless plating method (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-2838
No. 89) has been proposed.
【０００４】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−
３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属
または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法
は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２，
０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ
るため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以
上のシールド効果が要求されるところ、２０ｄＢ以下と
不十分となる。As methods for achieving both electromagnetic wave shielding and transparency, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-278800 and 5-
No. 323101 discloses a method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or metal oxide on a transparent base material.
000 °), the surface resistance of the conductive layer becomes too large, so that a shielding effect of 30 dB or more required at 30 MHz to 1 GHz is required, but the shielding effect is insufficient at 20 dB or less.
【０００５】良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁
波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平
５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ
の電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きい
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るためには、繊維径を３５μｍ以上の太さにせざるを得
ず、繊維が肉眼で見えるようになる（以後視認性とい
う）ので、ディスプレイ用途には適したものではなかっ
た。[0005] In an electromagnetic wave shielding material in which a good conductive fiber is embedded in a transparent substrate (JP-A-5-327274 and JP-A-5-269912), 30 MHz to 1 GHz is used.
Although the electromagnetic wave shielding effect is sufficiently large as 40 to 50 dB, in order to arrange conductive fibers regularly so as not to leak electromagnetic waves, the fiber diameter must be 35 μm or more, so that the fibers are visible to the naked eye. (Hereinafter referred to as visibility), which is not suitable for display applications.
【０００６】また、特開昭６２−５７２９７号公報、特
開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹
脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場
合も同様に、印刷精度の限界からライン幅の最小幅は、
１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したもの
ではなかった。In the case of an electromagnetic wave shielding material in which a conductive resin containing a metal powder or the like disclosed in JP-A-62-57297 and JP-A-2-52499 is directly printed on a transparent substrate, the printing accuracy is similarly reduced. From the limit, the minimum width of the line width is
It was about 100 μm, which was not suitable because visibility was developed.
【０００７】さらに特開平５−２８３８８９号公報に記
載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板
上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法によ
り銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、
無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表
面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般に
クロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用
しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂で
は、満足できる粗化を行うことは困難となる。また、こ
の方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できた
としても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、
フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透
明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができ
ないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また、
この方法では、製造面において、シールド材料を巻物等
にすることができないため嵩高くなることや自動化に適
していないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。Further, a shield described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-283889, in which a transparent resin layer is formed on a transparent substrate such as polycarbonate having a thickness of about 2 mm and a copper mesh pattern is formed thereon by electroless plating. In the material,
In order to secure the adhesion of electroless plating, it is necessary to roughen the surface of the transparent substrate. Generally, a highly toxic oxidizing agent such as chromic acid or permanganic acid must be used as the roughening means. With this method, it is difficult to perform satisfactory roughening with a resin other than ABS. In addition, even if electromagnetic shielding and transparency can be achieved by this method, it is difficult to reduce the thickness of the transparent substrate,
It was not suitable as a film forming method. Furthermore, if the transparent substrate is thick, it cannot be brought into close contact with the display, so that leakage of electromagnetic waves therefrom increases. Also,
In this method, there are disadvantages in that, in terms of production, the shielding material cannot be made into a scroll or the like, so that it becomes bulky, and is not suitable for automation, so that the production cost increases. Regarding the shielding property of the electromagnetic wave generated from the front of the display, in addition to the electromagnetic wave shielding function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz, good visible light transmittance,
In addition to the high visible light transmittance, it is necessary to have adhesiveness that can be stuck to the display surface in order to prevent leakage of electromagnetic waves, and non-visibility that is a property that the presence of shielding material can not be confirmed with the naked eye. Is done.
【０００８】シールド材の接着性についてはガラスや汎
用プラスチック板に対し比較的低温で容易に貼付き、長
期間にわたって良好な密着性を有することが必要であ
る。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性
・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フ
ィルムとしては、これまで満足なものは得られていなか
った。[0008] Regarding the adhesiveness of the shielding material, it is necessary that the shielding material is easily adhered to glass or a general-purpose plastic plate at a relatively low temperature and has good adhesion over a long period of time. However, no satisfactory adhesive film has been obtained so far that simultaneously satisfies the characteristics such as electromagnetic wave shielding property, infrared ray shielding property, transparency / invisibility, and adhesiveness.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と、透明性非視認性および良好な
接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルム、これ
を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイを得ること
を課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the foregoing, the present invention provides an electromagnetic wave shielding adhesive film having an electromagnetic wave shielding property, transparency and non-visibility, and good adhesive properties, an electromagnetic wave shielding structure and a display using the same. The task is to obtain
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は次のものに関す
る。 （１） 導電性金属により描かれた幾何学図形を有する
電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金属面側
を、貯蔵弾性率（Ｇ’）が２５℃で５×１０5Ｐａ以上
かつ８０℃で５×１０4Ｐａ以下の接着剤で被覆した電
磁波シールド性接着フィルム。 （２） 接着剤の屈折率が１．４５〜１．７０の範囲に
ある（１）記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （３） 接着剤が重量平均分子量５万〜１００万の範囲
のアクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１０，０
００の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである
（１）または（２）記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （４） 重量平均分子量５万〜１００万の範囲のアクリ
ル系重合体と重量平均分子量１００〜１万の範囲のアク
リル系重合体とのブレンド比が、重量比で９０／１０〜
１０／９０である（３）の記載の電磁波シールド性接着
フィルム。 （５） 被覆した接着剤の厚さが導電性金属の厚さ以上
であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 （６） 接着剤が、接着剤付きプラスチックフィルムで
ある（１）〜（５）のいずれかに記載の電磁波シールド
性接着フィルム。 （７） 接着剤付きプラスチックフィルムのプラスチッ
クフィルムが剥離できることを特徴とする（６）記載の
電磁波シールド性接着フィルム。 （８） 被覆した接着剤付きプラスチックフィルムのプ
ラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して
被着体に容易に接着することができることを特徴とする
（７）記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （９） 導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が
４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚
さが４０μｍ以下である（１）〜（８）のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１０） 電磁波シールドフィルムの導電性金属が、厚
さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケル
である（１）〜（９）のいずれかに記載の電磁波シール
ド性接着フィルム。 （１１） 電磁波シールドフィルムのプラスチックフィ
ルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリ
カーボネートフィルムである（１）〜（１０）のいずれ
かに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１２） 導電性金属が銅であり、少なくともその表面
が黒化処理されていることを特徴とする（１）〜（１
１）のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１３） 導電性金属が常磁性金属である（１）〜（１
１）のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１４） 導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率が
５０％以上であることを特徴とする（１）〜（１３）の
いずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１５） 幾何学図形の形成方法が、マイクロリソグラ
フ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印刷法を
利用する方法である（１）〜（１４）のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルム。 （１６） マイクロリソグラフ法がケミカルエッチング
法である（１５）記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１７） （１）〜（１６）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしくはガ
ラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。 （１８） （１）〜（１７）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしくはガ
ラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波遮蔽
構成体。 （１９） （１）〜（１６）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。 （２０） （１７）〜（１９）のいずれかに記載の電磁
波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。The present invention relates to the following. (1) In an electromagnetic wave shielding film having a geometrical figure drawn by a conductive metal, the conductive metal surface side is determined to have a storage elastic modulus (G ′) of 5 × 10 5 Pa or more at 25 ° C. and 5 ° C. at 80 ° C. An electromagnetic wave shielding adhesive film coated with an adhesive of × 10 4 Pa or less. (2) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (1), wherein the adhesive has a refractive index in the range of 1.45 to 1.70. (3) The adhesive is an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and a weight average molecular weight of 100 to 10,000.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (1) or (2), which is a blend with an acrylic polymer in the range of 00. (4) The blend ratio of an acrylic polymer having a weight average molecular weight in the range of 50,000 to 1,000,000 and an acrylic polymer having a weight average molecular weight in the range of 100 to 10,000 is 90/10 to 90% by weight.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (3), which is 10/90. (5) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (4), wherein the thickness of the coated adhesive is not less than the thickness of the conductive metal. (6) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (5), wherein the adhesive is a plastic film with an adhesive. (7) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (6), wherein the plastic film of the plastic film with an adhesive can be peeled off. (8) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (7), wherein the plastic film of the coated plastic film with an adhesive can be peeled off and easily adhered to an adherend via an exposed adhesive. (9) The electromagnetic wave shielding properties according to any one of (1) to (8), wherein the geometric figure drawn with the conductive metal has a line width of 40 μm or less, a line interval of 100 μm or more, and a line thickness of 40 μm or less. Adhesive film. (10) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (9), wherein the conductive metal of the electromagnetic wave shielding film is copper, aluminum or nickel having a thickness of 0.5 to 40 μm. (11) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (10), wherein the plastic film of the electromagnetic wave shielding film is a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film. (12) The conductive metal is copper, and at least its surface is blackened.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any of 1). (13) The conductive metal is a paramagnetic metal (1) to (1).
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any of 1). (14) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (13), wherein an aperture ratio of a geometrical figure drawn with a conductive metal is 50% or more. (15) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (14), wherein the geometric figure is formed by a method using a microlithography method, a screen printing method, or an intaglio offset printing method. (16) The electromagnetic wave shielding adhesive film according to (15), wherein the microlithography method is a chemical etching method. (17) An electromagnetic wave shielding structure composed of the electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (16) and a plastic substrate or a glass plate. (18) An electromagnetic wave shielding structure obtained by bonding the electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (17) to at least one surface of a plastic substrate or a glass plate. (19) A display using the electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of (1) to (16). (20) A display using the electromagnetic wave shielding component according to any one of (17) to (19).
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で用いる導電性金属で描かれた幾何学図形を有した
電磁波シールドフィルムは、プラスチックフィルムの片
面に接着剤を介して幾何学図形を配置した構成もしくは
プラスチックフィルムの片面に直接幾何学図形を配置し
たいずれの構成でももちいることができる。導電性金属
面側を被覆する接着剤は、２５℃での貯蔵弾性率
（Ｇ’）が５×１０5Ｐａ以上かつ８０℃でのＧ’が５
×１０4Ｐａ以下と良好な高温流動性を示す組成物であ
るとが好ましく、電磁波シールド性接着フィルムを被着
体であるディスプレイ、ガラス板、プラスチック板に接
着剤を介して容易に接着することができる。この接着剤
は、上述した電磁波シールドフィルムを被覆すると同時
に導電性金属で描かれた幾何学図形の開口に流動し凹凸
を充填することで散乱が防止でき高い透明性が得られ
る。上記の導電性金属面側を被覆する接着剤は、電磁波
シールド性接着フィルムの導電性金属面側を被覆する層
として形成されているが、この層は、接着剤溶液を塗布
して乾燥することにより、また、接着剤を溶融塗布する
ことにより、作製することができる。また、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤層側と電磁波シールドフ
ィルムの導電性金属面側を併せるようにして接着し、プ
ラスチックフィルムを剥離することにより、上記の電磁
波シールド性接着フィルムを作製することができる。電
磁波シールド性接着フィルムは、その接着剤を介して被
着体と接着させられる。この接着剤は、前記したとお
り、貯蔵弾性率Ｇ’が５×１０5Ｐａ以上、好ましくは
１×１０6Ｐａ以上であり、使用環境下ではタックフリ
ーとなるため、被着体の上に置いた電磁波シールド性接
着フィルムを自由に位置合わせするこができる。さら
に、上記の接着剤は、接着温度例えば８０℃では５×１
０4Ｐａ以下、好ましくは１×１０3Ｐａ以下であり、流
動性が良好であるため、電磁波シールド性接着フィルム
を被着体にラミネートやプレス成形により、また曲面、
複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができ
る。本発明に記載された接着剤の貯蔵弾性率はＧ’は、
厚み０.５ｍｍ程度の接着剤皮膜を作製し、粘弾性測定
装置で測定して得られた値とする。粘弾性測定装置とし
ては、レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・
イー社製の商品名ＡＲＥＳ−２ＫＳＴＤ等を使用するこ
とができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The electromagnetic wave shielding film having a geometric figure drawn with a conductive metal used in the present invention has a configuration in which a geometric figure is arranged on one side of a plastic film via an adhesive or a geometric figure is directly formed on one side of a plastic film. Any arrangement can be used. The adhesive covering the conductive metal surface side has a storage elastic modulus (G ′) at 25 ° C. of at least 5 × 10 5 Pa and a G ′ at 80 ° C. of 5
The composition is preferably a composition exhibiting good high-temperature fluidity of × 10 4 Pa or less, and easily adheres the electromagnetic wave shielding adhesive film to an adherend, a display, a glass plate, and a plastic plate via an adhesive. Can be. The adhesive flows into the opening of the geometrical figure drawn with the conductive metal at the same time as covering the above-mentioned electromagnetic wave shielding film, and by filling the unevenness, scattering can be prevented and high transparency can be obtained. The adhesive for covering the conductive metal surface side is formed as a layer for covering the conductive metal surface side of the electromagnetic wave shielding adhesive film, and this layer is applied with an adhesive solution and dried. And by melting and applying an adhesive. In addition, the above-mentioned electromagnetic wave shielding adhesive film can be produced by bonding such that the adhesive layer side of the plastic film with the adhesive and the conductive metal surface side of the electromagnetic wave shielding film are joined together and peeling off the plastic film. it can. The electromagnetic wave shielding adhesive film is adhered to the adherend via the adhesive. As described above, this adhesive has a storage elastic modulus G ′ of 5 × 10 5 Pa or more, preferably 1 × 10 6 Pa or more, and is tack-free in a use environment. The electromagnetic wave shielding adhesive film can be positioned freely. Further, the above-mentioned adhesive has a bonding temperature of 5 × 1 at 80 ° C.
0 4 Pa or less, preferably 1 × 10 3 Pa or less, and the fluidity is good, so that the electromagnetic wave shielding adhesive film is laminated or press-formed on the adherend,
It can be easily bonded to an adherend having a complicated shape. The storage modulus of the adhesive described in the present invention is G ′,
An adhesive film having a thickness of about 0.5 mm is prepared, and the value obtained is measured by a viscoelasticity measuring device. Rheometric Scientific F.F.
ARES-2KSTD (trade name, manufactured by E Corporation) can be used.
【００１２】前記接着剤としては、長期使用に対して黄
変しにくい耐候性良好なアクリル系重合体が好適に用い
られる。アクリル系重合体とは、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルア
クリレート、ジエチルプロピルアクリレート、エチルヘ
キシルアクリレート、ドデシルアクリレート、テトラデ
シルアクリレート等の炭素数１〜２４アルキル基を有す
るアルキルアクリレート、２−ニトロ−２−メチルプロ
ピルアクリレート等のニトロアルキルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、トリメチルシクロヘキシル
アクリレート等のシクロアルキルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等のヒドロキシアルキルアクリレート、エトキシプ
ロピルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アクリル酸、アクリルア
ミド、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ジエ
チルプロピルメタクリレート、エチルヘキシルメタクリ
レート、デシルメタクリレート、テトラデシルメタクリ
レート、ジエチルプロピルメタクリレート等の炭素数１
〜２４アルキル基を有するアルキルメタクリレート、２
−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート等のニト
ロアルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、トリメチルシクロヘキシルメタクリレート等のシ
クロアルキルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタク
リレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒド
ロキシアルキルメタクリレート、エトキシプロピルメタ
クリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、メタクリル酸、メタクリルア
ミドなどのアクリルモノマを単独または２種以上組み合
わせて得られるポリマーである。例えば単独重合体とし
ては、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチル
アクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルア
クリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート
(n=1.464)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート
(n=1.465)、ポリ（オキシカルボニルテトラメチレン）
(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.48
0)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリ
ドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシル
メタクリレート(n=1.475)、ポリ−ｎ−プロピルメタク
リレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシ
クロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメ
タクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチ
ルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−１，１−
ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチ
ルメタクリレート(n=1.489)などがあげられる。共重合
体としては、上述の(メタ)アクリルモノマを２種以上組
み合わせたブロック共重合(n=1.48〜1.49)体またはラン
ダム共重合体(n=1.48〜1.49)があげられる。接着剤の官
能基モノマとしては、グリシジルメタクリレート（グリ
シジル基）、アクリル酸（カルボキシル基）、ヒドロキ
シエチルメタクリレート及びヒドロキシエチルアクリレ
ート（水酸基）、アクリルアミド（アミノ基）等を使用
することができ、それ以外の材料を用いてもよい。なお
上記において、かっこ内のｎは屈折率を示し、以下にお
いても同様である。As the adhesive, an acrylic polymer which is resistant to yellowing over a long term and has good weather resistance is suitably used. Acrylic polymer is methyl acrylate,
Ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, diethylpropyl acrylate, ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, tetradecyl acrylate, etc., alkyl acrylates having 1 to 24 carbon atoms, nitroalkyl acrylates such as 2-nitro-2-methylpropyl acrylate , Cyclohexyl acrylate, cycloalkyl acrylate such as trimethylcyclohexyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyalkyl acrylate such as hydroxypropyl acrylate, alkoxyalkyl acrylate such as ethoxypropyl acrylate, glycidyl acrylate, acrylic acid, acrylamide, methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
1 carbon atoms such as propyl methacrylate, butyl methacrylate, diethyl propyl methacrylate, ethylhexyl methacrylate, decyl methacrylate, tetradecyl methacrylate, diethyl propyl methacrylate, etc.
Alkyl methacrylate having an alkyl group of 2 to 24, 2
-Nitroalkyl methacrylates such as nitro-2-methylpropyl methacrylate, cycloalkyl methacrylates such as cyclohexyl methacrylate, trimethylcyclohexyl methacrylate, hydroxyalkyl methacrylates such as hydroxyethyl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate, alkoxyalkyl methacrylates such as ethoxypropyl methacrylate, and glycidyl methacrylate And polymers obtained by combining acrylic monomers such as methacrylic acid and methacrylamide alone or in combination of two or more. For example, as a homopolymer, polyethyl acrylate (n = 1.469), polybutyl acrylate (n = 1.466), poly-2-ethylhexyl acrylate (n = 1.463), poly-t-butyl acrylate
(n = 1.464), poly-3-ethoxypropyl acrylate
(n = 1.465), poly (oxycarbonyltetramethylene)
(n = 1.465), polymethyl acrylate (n = 1.472-1.48)
0), polyisopropyl methacrylate (n = 1.473), polydodecyl methacrylate (n = 1.474), polytetradecyl methacrylate (n = 1.475), poly-n-propyl methacrylate (n = 1.484), poly-3, 3, 5 Trimethylcyclohexyl methacrylate (n = 1.484), polyethyl methacrylate (n = 1.485), poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate (n = 1.487), poly-1,1-
Examples thereof include diethylpropyl methacrylate (n = 1.489) and polymethyl methacrylate (n = 1.489). Examples of the copolymer include a block copolymer (n = 1.48 to 1.49) or a random copolymer (n = 1.48 to 1.49) obtained by combining two or more of the above (meth) acrylic monomers. As the functional group monomer of the adhesive, glycidyl methacrylate (glycidyl group), acrylic acid (carboxyl group), hydroxyethyl methacrylate and hydroxyethyl acrylate (hydroxyl group), acrylamide (amino group) and the like can be used. Materials may be used. In the above, n in parentheses indicates a refractive index, and the same applies to the following.
【００１３】上述した貯蔵弾性率にするための接着剤組
成としては、重量平均分子量５万〜１００万の範囲のア
クリル共重合体と重量平均分子量１００〜１０，０００
の範囲のアクリル共重合体とをブレンドし、その比が重
量部で９０／１０〜１０／９０であることが好ましい。
これらの範囲から外れると、貯蔵弾性率が所定の値から
大きく異なり、透明性もしくは被着体への接着性の低下
を招く。本発明の電磁波シールドフィルムに用いる接着
剤としては、被覆する接着剤との相溶性、透明性の点か
ら、屈折率が同じアクリル系重合体が好適であるが、以
下の材料についても使用することができる。天然ゴム
(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−
１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505
〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−
１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−
１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジ
エン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレ
ン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビ
ニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエ
ーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)
などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.46
7)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエ
ステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロー
ス(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリア
クリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=
1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.
6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)。本発明で使用する接
着剤には必要に応じて、架橋剤、希釈剤、可塑剤、酸化
防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤な
どの添加剤を配合してもよい。The adhesive composition for obtaining the above-mentioned storage modulus includes an acrylic copolymer having a weight average molecular weight in the range of 50,000 to 1,000,000 and a weight average molecular weight of 100 to 10,000.
And the ratio is preferably 90/10 to 10/90 in parts by weight.
If the ratio is outside these ranges, the storage elastic modulus greatly differs from a predetermined value, resulting in a decrease in transparency or adhesion to an adherend. As the adhesive used for the electromagnetic wave shielding film of the present invention, an acrylic polymer having the same refractive index is preferable from the viewpoint of compatibility with the adhesive to be coated and transparency, but the following materials may also be used. Can be. Natural rubber
(Refractive index n = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), poly-
1,2-butadiene (n = 1.50), polyisobutene (n = 1.505)
1.51), polybutene (n = 1.513), poly-2-heptyl-
1,3-butadiene (n = 1.50), poly-2-t-butyl-
(Di) enes such as 1,3-butadiene (n = 1.506), poly-1,3-butadiene (n = 1.515), polyoxyethylene (n = 1.456), polyoxypropylene (n = 1.450), polyvinyl Ethyl ether (n = 1.454), polyvinyl hexyl ether (n = 1.459), polyvinyl butyl ether (n = 1.456)
Polyethers such as polyvinyl acetate (n = 1.46
7), polyesters such as polyvinyl propionate (n = 1.467), polyurethane (n = 1.5 to 1.6), ethyl cellulose (n = 1.479), polyvinyl chloride (n = 1.54 to 1.55), polyacrylonitrile (n = 1.52) ), Polymethacrylonitrile (n =
1.52), polysulfone (n = 1.633), polysulfide (n = 1.63)
6), phenoxy resin (n = 1.5-1.6). The adhesive used in the present invention may optionally contain additives such as a crosslinking agent, a diluent, a plasticizer, an antioxidant, a filler, a coloring agent, an ultraviolet absorber and a tackifier. .
【００１４】本発明に用いる接着剤付プラスチックフィ
ルムにおいて、剥離可能なプラスチックフィルムである
ことが好ましい。プラスチックフィルムを剥離後露出し
た接着剤により被着体に接着することができるようにす
るためであり、一般的な離型フィルムが使用できる。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンー酢酸
ビニル等のポリオレフィンフィルム、シリコーン離型フ
ィルム、フッ素フィルム、ポリメチルペンテンフィルム
などが好適に用いられる。またこれらを積層した多層フ
ィルムの形態でもよい。上記接着剤付プラスチックフィ
ルムとして、剥離できないか普通では剥離が困難なプラ
スチックフィルムに接着剤を積層したものを使用しても
よいが、この場合には、さらに別に接着剤を介して、被
着体に接着することになる。本発明で用いる電磁波シー
ルドフィルムの導電性金属面側を被覆するための接着剤
の屈折率は１．４５〜１．７０のものを使用するのが好
ましい。特に、電磁波シールドフィルムのプラスチック
フィルム及びプラスチックフィルムと導電性金属とを接
着するために使用した接着剤及び被着体の屈折率がそれ
ぞれ、１．４５〜１．７０であることが好ましい。この
場合に、界面での散乱が少なく、可視光透過率が低下し
にくくなる。本発明で用いる被覆する接着剤の厚さは、
導電性金属の厚さ以上が必要であり、それを下回ると導
電性金属が完全に接着剤で被覆できず、被着体への接着
阻害及び気泡の残存を生じる。接着剤の厚さは、５００
μｍ以下が好ましい。これを超えると電磁波シールド性
接着フィルムの総厚みが厚くなり被着体への接着阻害が
生じる。The plastic film with adhesive used in the present invention is preferably a peelable plastic film. This is so that the plastic film can be bonded to the adherend with the adhesive exposed after peeling, and a general release film can be used. For example, polyethylene, polypropylene, polyolefin films such as ethylene-vinyl acetate, silicone release films, fluorine films, and polymethylpentene films are preferably used. Further, they may be in the form of a multilayer film in which these are laminated. As the plastic film with an adhesive, a plastic film which cannot be peeled or which is normally difficult to peel may be used in which an adhesive is laminated, but in this case, the adherend is further separated via an adhesive. Will be adhered to. The adhesive for covering the conductive metal surface side of the electromagnetic wave shielding film used in the present invention preferably has a refractive index of 1.45 to 1.70. In particular, it is preferable that the refractive index of the plastic film of the electromagnetic wave shielding film and the adhesive used for bonding the plastic film to the conductive metal and the refractive index of the adherend are 1.45 to 1.70, respectively. In this case, scattering at the interface is small, and the visible light transmittance is not easily reduced. The thickness of the adhesive used in the present invention is,
The thickness of the conductive metal is required to be greater than or equal to the thickness. If the thickness is less than the required value, the conductive metal cannot be completely covered with the adhesive, resulting in inhibition of adhesion to the adherend and remaining bubbles. The thickness of the adhesive is 500
μm or less is preferred. If it exceeds this, the total thickness of the electromagnetic wave shielding adhesive film becomes too large, and adhesion to the adherend is inhibited.
【００１５】本発明の接着剤付きプラスチックフィルム
を電磁波シールト゛フィルムの導電性金属面に被覆する方
法として、プレス法、ロールラミネート法、真空加圧式
ラミネート法、真空加熱パック法、オートクレーブ法が
あげられるがそれ以外の方法または組み合わせでもよ
い。また、被着体に接着する方法として、まずプラスチ
ックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して上述し
た設備により被着体に接着させる。本発明の接着剤は流
動性が非常に良好であり、ロールラミネート法、真空加
圧式ラミネート法を利用して接着することが好ましく、
また、接着時の温度は３０〜１００℃が好ましい。接着
時の温度がこの範囲外であると接着剤の浸み出し量が多
くなり外観が不良となったり、被着体との接着性が低下
する傾向がある。The method of coating the conductive metal surface of the electromagnetically sealed film with the plastic film with an adhesive of the present invention includes a press method, a roll laminating method, a vacuum pressurizing laminating method, a vacuum heating pack method, and an autoclave method. Other methods or combinations may be used. In addition, as a method of bonding to the adherend, first, the plastic film is peeled off, and the plastic film is adhered to the adherend with the above-described facility via the exposed adhesive. The adhesive of the present invention has a very good fluidity, and it is preferable that the adhesive is bonded by using a roll laminating method or a vacuum pressing laminating method,
The temperature at the time of bonding is preferably 30 to 100 ° C. If the temperature at the time of bonding is out of this range, the amount of the exuded adhesive will increase, resulting in poor appearance or poor adhesion to the adherend.
【００１６】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の２種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、金属箔、めっき
金属、蒸着などの真空下で形成される金属等が使われ
る。厚さは、０．５〜４０μｍが好ましい。厚さが４０
μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難であった
り、視野角が狭くなる。また厚さが０．５μｍ未満で
は、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣る
傾向にある。As the conductive metal of the present invention, use is made of a metal such as copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium, titanium, or an alloy combining two or more of these metals. Can be. Copper, aluminum or nickel is suitable from the viewpoint of conductivity, circuit processing easiness, and price, and metal foil, plated metal, metal formed under vacuum such as vapor deposition, and the like are used. The thickness is preferably 0.5 to 40 μm. Thickness 40
If it exceeds μm, it is difficult to form a fine line width or the viewing angle becomes narrow. If the thickness is less than 0.5 μm, the surface resistance tends to be large, and the electromagnetic wave shielding effect tends to be poor.
【００１７】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また、導電性金属が経時的に酸化され退
色することを防止することもできる。黒化処理とは、導
電性金属の表面を黒くすることであるが、この黒化処理
は、幾何学図形の形成前又は形成後に行えばよいが、通
常形成後において、プリント配線板分野で行われている
方法を用いて行うことができる。黒化処理の方法として
は導電性金属の表面を酸化して酸化銅とする方法、例え
ば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリ
ウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）
の水溶液中、９５℃で２分間処理する方法がある。ま
た、黒化処理の方法としては導電性金属上に無電解ニッ
ケルメッキを施す方法がある。導電性金属が、常磁性金
属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。
常磁性金属としては、ニッケル、鉄、ステンレス、チタ
ン等がある。It is preferable that the conductive metal be copper and at least the surface thereof has been subjected to a blackening treatment because the contrast is high. In addition, it is possible to prevent the conductive metal from being oxidized with time and discolored. The blackening treatment is to blacken the surface of the conductive metal. This blackening treatment may be performed before or after the formation of the geometrical figure, but is usually performed in the printed wiring board field after the formation. This can be done using known methods. As a method of the blackening treatment, a method of oxidizing the surface of the conductive metal to obtain copper oxide, for example, sodium chlorite (31 g / l), sodium hydroxide (15 g / l), trisodium phosphate (12 g / l) )
In an aqueous solution of 95 ° C. for 2 minutes. As a method of the blackening treatment, there is a method of performing electroless nickel plating on a conductive metal. It is preferable that the conductive metal is a paramagnetic metal because of excellent magnetic field shielding properties.
Examples of the paramagnetic metal include nickel, iron, stainless steel, and titanium.
【００１８】かかる導電性金属まず、上記プラスチック
フィルムの片面の全面又はほぼ全面にその層を形成し、
それから、所望の幾何学的図形に加工するのが一般的で
ある。導電性金属の層をプラスチックフィルムに密着さ
せる方法としては、電磁波シールドフィルムの導電性金
属面側を被覆するための接着剤と同系の前記したアクリ
ル系重合体からなる接着剤を介してプラスチックフィル
ムと導電性金属のフィルム又は箔を貼合せるのが最も簡
便である。導電性金属の導電層の厚みを小さくする必要
がある場合は、プラスチックフィルムに、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無
電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１の方
法によりまたは２以上の方法を組み合わせることにより
導電性金属の層を形成することにより達成できる。導電
性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、厚
みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シー
ルド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることがさ
らに好ましい。The conductive metal is first formed on the entire surface or almost the entire surface of one side of the plastic film,
Then, it is common to process it into a desired geometrical figure. As a method of bringing the conductive metal layer into close contact with the plastic film, the plastic film via an adhesive made of the same acrylic polymer as the adhesive for covering the conductive metal surface side of the electromagnetic wave shielding film and It is most convenient to bond a conductive metal film or foil. When it is necessary to reduce the thickness of the conductive layer of the conductive metal, a vacuum evaporation method,
It can be achieved by forming a layer of a conductive metal by one of thin film forming techniques such as a sputtering method, an ion plate method, a chemical vapor deposition method, and an electroless / electroplating method, or by combining two or more methods. . The thickness of the conductive metal is preferably 40 μm or less, and the thinner the thickness, the wider the viewing angle of the display is, which is preferable as an electromagnetic wave shielding material, and more preferably, 18 μm or less.
【００１９】本発明の電磁波シールドフィルムに使用す
るプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチッ
クからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上で厚
さが１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使う
こともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルム
として使用してもよい。前記プラスチックフィルムのう
ち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トフィルムが好ましい。プラスチックフィルム厚さは、
５〜５００μｍが好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性
が悪くなり、５００μｍを超えると可視光の透過率が低
下してくる。１０〜２００μｍとすることがより好まし
い。Examples of the plastic film used for the electromagnetic wave shielding film of the present invention include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and EVA, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride. It is preferable to use a film made of a plastic such as vinyl resin, polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, acrylic resin or the like having a total visible light transmittance of 70% or more and a thickness of 1 mm or less. These can be used as a single layer, or may be used as a multilayer film combining two or more layers. Among the plastic films, a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film is preferable in terms of transparency, heat resistance, ease of handling, and price. Plastic film thickness is
5 to 500 μm is preferred. If it is less than 5 μm, the handleability becomes poor, and if it exceeds 500 μm, the transmittance of visible light decreases. More preferably, the thickness is 10 to 200 μm.
【００２０】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整
数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。The geometric figures drawn with the conductive metal of the present invention include triangles such as equilateral triangles, isosceles triangles and right triangles, squares such as rectangles, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, and (positive) hexagons. It is a pattern combining (positive) n-gons (n is a positive integer) such as square, (positive) octagon, (positive) dodecagon, (positive) octagon, etc., circle, ellipse, star, etc. ,
These units can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of electromagnetic wave shielding, a triangle is most effective, but from the viewpoint of visible light transmission, if the number of (positive) n-gons is larger, the numerical aperture increases as the number of n increases. From the viewpoint, the aperture ratio is required to be 50% or more. The aperture ratio is more preferably 60% or more. The aperture ratio is a percentage of the ratio of the area obtained by subtracting the area of the conductive metal of the geometric figure drawn with the conductive metal from the effective area to the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film. When the area of the display screen is defined as the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film, the display screen is a visible ratio.
【００２１】前記した導電性金属の層から幾何学図形を
形成する方法としては、マイクロリソグラフ法、スクリ
ーン印刷法、凹版オフセット印刷法等を利用する方法を
もちいることができる。なかでもマイクロリソグラフ法
を利用する方法が回路加工の精度の点から有効である。
マイクロリソグラフ法を利用する方法は、プラスチック
フィルム上に形成された導電性金属の層に活性電磁波の
照射により感光する感光層を設け、この感光層に像様露
光し、現像してレジスト像を形成し、ついで、導電性金
属をエッチングして導電性金属の幾何学的模様を形成
し、最後にレジストを剥離する方法である。上記のマイ
クロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソ
グラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラ
フ法などがる。これらの中でも、ケミカルエッチング法
を使用したフォトリソグラフ法は、その簡便性、経済
性、回路加工精度などの点から最も好ましい。フォトリ
ソグラフ法の中ではケミカルエッチング法の他にも無電
解めっきや電気めっきによる方法、または無電解めっき
や電気めっきとケミカルエッチング法を組み合わせて幾
何学図形を形成することも可能である。スクリーン印刷
法又は凹版オフセット印刷法については、プラスチック
フィルム上に導電性インクを直接印刷する方法があり、
また、プラスチックフィルム、接着剤、導電性金属箔か
ら構成されるＭＣＦの導電性金属箔面にエッチングレジ
ストインクを印刷し、硬化させた後エッチング処理によ
り導電性金属の幾何学図形を形成し、この後レジストを
剥離する方法がある。As a method of forming a geometric figure from the conductive metal layer, a method utilizing microlithography, screen printing, intaglio offset printing, or the like can be used. Among them, a method using a microlithography method is effective from the viewpoint of circuit processing accuracy.
The method using microlithography is to provide a conductive layer formed on a plastic film with a photosensitive layer that is exposed to irradiation of active electromagnetic waves, exposing the photosensitive layer imagewise and developing it to form a resist image. Then, the conductive metal is etched to form a geometric pattern of the conductive metal, and finally, the resist is removed. Examples of the microlithography include photolithography, X-ray lithography, electron beam lithography, and ion beam lithography. Among these, a photolithographic method using a chemical etching method is most preferable in terms of its simplicity, economy, circuit processing accuracy, and the like. Among the photolithographic methods, in addition to the chemical etching method, it is also possible to form a geometric figure by a method using electroless plating or electroplating, or a combination of electroless plating or electroplating and chemical etching. For screen printing or intaglio offset printing, there is a method of printing conductive ink directly on a plastic film,
Also, an etching resist ink is printed on the conductive metal foil surface of the MCF composed of a plastic film, an adhesive, and a conductive metal foil, and after curing, a geometric pattern of the conductive metal is formed by an etching process. There is a method of removing the resist later.
【００２２】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μ
ｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４
０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ
以上が好ましく、さらに１μｍ以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以
上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎる
と、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０
００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ラ
イン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、
繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に
換算してその一辺の長さをライン間隔とする。The line width of such a geometric figure is 40 μm.
m or less, line spacing is 100 μm or more, line thickness is 4
It is preferable that the thickness be in the range of 0 μm or less. Further, from the viewpoint of invisibility of the geometric figure, the line width is more preferably 25 μm or less, and the line interval is more preferably 120 μm or more and the line thickness is 18 μm or less from the viewpoint of visible light transmittance. Line width is 40μ
m or less, preferably 25 μm or less, and if it is too small and thin, the surface resistance becomes too large and the shielding effect is inferior. Line thickness is 4
0 μm or less is preferable. If the thickness is too small, the surface resistance becomes too large and the shielding effect is inferior.
Or more, more preferably 1 μm or more.
The aperture ratio increases as the line interval increases, and the visible light transmittance increases. When used on the front surface of the display as described above, the aperture ratio needs to be 50% or more, but is more preferably 60% or more. If the line spacing is too large, the electromagnetic wave shielding performance is reduced, so that the line width is 10
It is preferably not more than 00 μm (1 mm). If the line spacing is complicated by the combination of geometric figures, etc.,
Based on the repeating unit, the area is converted to the area of a square, and the length of one side is defined as the line interval.
【００２３】本発明で使用する被着体はガラス板もしく
はプラスチック板が好適である。プラスチック板とは、
プラスチックからなる板であり、具体的には、ポリスチ
レン樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチル
メタクリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n
=1.58)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリ
デン樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、
ポリプロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.5
2)、ポリアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミ
ド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポ
リアリレート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n
=1.5〜1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.5
7)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱
可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.4
9)、フッ素樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.6
3)、ポリエーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメ
チルペンテン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=
1.45〜1.6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)など
の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの
中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹
脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。
またガラス板としては、ケイ酸塩ガラス（ケイ酸ガラ
ス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石
灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラ
ス）、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス等が好適であ
る。上記のプラスチック基板又はガラス板は、ディスプ
レイの画面そのものであってもよい。プラスチック基板
又はガラス板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍであること
がディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。The adherend used in the present invention is preferably a glass plate or a plastic plate. What is a plastic plate?
A plate made of plastic, specifically, polystyrene resin (n = 1.59), acrylic resin (n = 1.49), polymethyl methacrylate resin (n = 1.49), polycarbonate resin (n
= 1.58), polyvinyl chloride resin (n = 1.54), polyvinylidene chloride resin (n = 1.6 to 1.63), polyethylene resin (n = 1.51),
Polypropylene resin (n = 1.50), polyamide resin (n = 1.5
2), polyamide imide resin (n = 1.5), polyether imide resin (n = 1.5), polyether ketone resin (n = 1.45), polyarylate resin (n = 1.5 to 1.6), polyacetal resin (n
= 1.5 to 1.6), polybutylene terephthalate resin (n = 1.5
7), a thermoplastic polyester resin such as a polyethylene terephthalate resin (n = 1.58), a cellulose acetate resin (n = 1.4
9), fluororesin (n = 1.4 to 1.5), polysulfone resin (n = 1.6
3), polyether sulfone resin (n = 1.45-1.6), polymethylpentene resin (n = 1.45-1.6), polyurethane resin (n =
Thermoplastic resins and thermosetting resins such as 1.45 to 1.6) and diallyl phthalate resin (n = 1.45 to 1.6). Among these, a polystyrene resin, an acrylic resin, a polymethyl methacrylate resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl chloride resin, a polyethylene terephthalate resin, and a polymethyl pentene resin having excellent transparency are preferably used.
Examples of the glass plate include silicate glass (silicate glass, alkali silicate glass, soda-lime glass, potassium lime glass, lead glass, barium glass, borosilicate glass), phosphate glass, borate glass, and the like. It is suitable. The above-mentioned plastic substrate or glass plate may be a display screen itself. The thickness of the plastic substrate or the glass plate is preferably 0.5 mm to 5 mm from the viewpoint of protection, strength and handling of the display.
【００２４】本発明の電磁波遮蔽構成体は、電磁波シー
ルド性接着フィルムとガラス板もしくはプラスチック板
から構成され、その組合せは多数有る。図１は本発明の
電磁波シールド性接着フィルムの断面図であり、接着剤
１と導電性金属で描かれた幾何学図形２とプラスチック
フィルム３、接着剤４とプラスチックフィルム５から電
磁波シールド性接着フィルム６が構成される。この電磁
波シールド性接着フィルム６は、図２（ａ）に示すよう
にディスプレイの画面７（表示デバイスの前面ガラス基
板）に直接形成しても良いし、図２（ｂ）に示すように
ガラス板もしくはプラスチック板８の片面に形成し、ど
ちらかの面をディスプレイ画面に接着剤又は取付治具を
介してディスプレイ画面に設ける。図２（ｃ）は、電磁
波シールド性接着フィルム６のプラスチックフィルム面
側に接着剤４を形成し、２枚のガラス板もしくはプラス
チック板８で挟み込んだ電磁波遮蔽構成体９である。電
磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体のいず
れかの面には、赤外線遮蔽性を有する層、反射防止処理
を有する層、防眩処理を有する層、表面硬度の高い耐擦
性を有する層を形成することができる。これらは例示で
あり、この他の形態で使用することができる。ガラス板
の片面に電磁波シールド性接着フィルムを接着し、この
ガラス板をディスプレイ前面に取り付けガラス面がディ
スプレイ装置の外側になるようにしてもよい。また、接
着剤１をなくして、プラスチックフィルム３に直接導電
性金属で描かれた幾何学図形を形成した構成にしてもよ
いThe electromagnetic wave shielding structure of the present invention comprises an electromagnetic wave shielding adhesive film and a glass plate or a plastic plate, and there are many combinations thereof. FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention. The electromagnetic wave shielding adhesive film is composed of an adhesive 1, a geometrical figure 2 drawn with a conductive metal and a plastic film 3, an adhesive 4 and a plastic film 5. 6 are configured. The electromagnetic wave shielding adhesive film 6 may be formed directly on the screen 7 of the display (front glass substrate of the display device) as shown in FIG. 2A, or may be formed on a glass plate as shown in FIG. Alternatively, it is formed on one side of the plastic plate 8, and either side is provided on the display screen via an adhesive or a mounting jig. FIG. 2C shows an electromagnetic wave shielding structure 9 in which an adhesive 4 is formed on the plastic film surface side of the electromagnetic wave shielding adhesive film 6 and is sandwiched between two glass plates or plastic plates 8. On either side of the electromagnetic wave shielding adhesive film or the electromagnetic wave shielding structure, a layer having an infrared shielding property, a layer having an antireflection treatment, a layer having an antiglare treatment, and a layer having a high surface hardness and abrasion resistance are provided. Can be formed. These are examples and can be used in other forms. An electromagnetic wave shielding adhesive film may be adhered to one surface of the glass plate, and this glass plate may be attached to the front surface of the display so that the glass surface is outside the display device. Further, a configuration in which a geometrical figure drawn with a conductive metal directly on the plastic film 3 may be formed without the adhesive 1 is used.
【００２５】本発明の電磁波シールド性接着フィルム
は、接着剤、幾何学図形を有する導電性金属及びプラス
チックフィルムもしくは幾何学図形を有する導電性金属
及びプラスチックフィルムからからなる電磁波シールド
フィルムと、それを被覆するための接着剤付きプラスチ
ックフィルムから基本的に構成される。得られた電磁波
シールド性接着フィルムの構成材料の中で、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤に特徴を有する。すなわ
ち、導電性金属は金属箔の使用が好ましく、この場合接
着性向上のため金属箔の面を粗化形状にすることが多
く、幾何学図形を形成すると、除去された金属部分は、
接着層にその粗化形状を転写して金属と接している接着
剤の部分に粗化形状が転写されてしまい可視光線がそこ
で散乱されてしまうので光線透過率が低下し透明性が損
なわれる。このため、電磁波シールドフィルム自体は半
透明あるは不透明となってしまう。そこで、本発明の接
着剤付きプラスチックフィルムにより粗化形状の転写に
より形成された接着剤の凹凸面を接着剤で完全にしかも
容易に充填することにより散乱の防止が図れ、さらにプ
ラスチックフィルムと接着剤との屈折率が近い材料を用
いているため、本来の透明性が発現するようになると考
えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料
で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいた
め肉眼で視認されない。またライン間隔も十分に大きい
ため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮
蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間
隔は十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考え
られる。The electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention is an electromagnetic wave shielding film comprising an adhesive, a conductive metal and a plastic film having a geometrical figure, or a conductive metal and a plastic film having a geometrical figure, and coating the same. It is basically composed of a plastic film with an adhesive for the purpose. Among the constituent materials of the obtained electromagnetic wave shielding adhesive film, the present invention is characterized by an adhesive of a plastic film with an adhesive. That is, the conductive metal is preferably a metal foil.In this case, the surface of the metal foil is often roughened in order to improve adhesion, and when a geometrical figure is formed, the removed metal portion is
The roughened shape is transferred to the adhesive layer, and the roughened shape is transferred to the portion of the adhesive in contact with the metal, and the visible light is scattered there, so that the light transmittance is reduced and the transparency is impaired. For this reason, the electromagnetic wave shielding film itself becomes translucent or opaque. Therefore, scattering can be prevented by completely and easily filling the uneven surface of the adhesive formed by the transfer of the roughened shape with the plastic film with the adhesive of the present invention with the adhesive. Since a material having a refractive index close to the above is used, it is considered that the original transparency is developed. Further, a geometric figure formed of a conductive material on a plastic film is not visually recognized due to a very small line width. In addition, it is considered that the line spacing is sufficiently large so that apparent transparency is exhibited. On the other hand, compared to the wavelength of the electromagnetic wave to be shielded, the line spacing of the geometrical figure is sufficiently small, and it is considered that excellent shielding properties are exhibited.
【００２６】[0026]
【作用】本発明における接着剤は、加温することにより
貯蔵安定性が顕著に低下し、液状化することで電磁波シ
ールドフィルムの凹凸面に容易に流動し、充填すること
ができる。また、ガラス等の被着体に対して接着剤を介
して張り付けることができるので、別個に背着剤が不要
になり、また、ロール貼りすることが可能であるので量
産性の点で優れている。The adhesive of the present invention has a remarkably reduced storage stability when heated, and can easily flow and fill the uneven surface of the electromagnetic wave shielding film by being liquefied. In addition, since it can be adhered to an adherend such as glass via an adhesive, a separate backing agent is not required, and since it can be roll-applied, it is excellent in mass productivity. ing.
【００２７】[0027]
【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会
社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=１．５７５）を
用い、その片面に下記作製例で作製の接着剤１を室温で
アプリケータを用いて２０μｍの乾燥塗布厚になるよう
に塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着
剤１を介して導電性金属である厚さ１２μｍの電解銅箔
を、その粗化面が接着剤側になるようにして、１８０
℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ、０.５ｍ/分の条件で加熱ラミネ
ートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅
箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔付きＰＥＴ
フィルムにケミカルエッチング法を使用したフォトリソ
グラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケ
ミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ラ
イン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格子パター
ンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シールドフィル
ム１を得た。この電磁波シールドフィルム１の可視光透
過率は２０％以下であった。この電磁波シールドフィル
ムに、下記作製例で作製の接着剤２を乾燥後の厚みが２
０μｍとなるように塗布した５０μｍの離型ＰＥＴフィ
ルム（帝人株式会社製、商品名Ｇ１Ｗ）を接着剤２と導
電性金属とが接するようにロールラミネータ（大成ラミ
ネータ株式会社製、商品名ＶＡ−７００）により８０
℃、１０ｋｇｆ／ｃｍ、０.５ｍ/分の条件で貼合せて電
磁波シールド性接着フィルムを得た。得られた電磁波シ
ールド性接着フィルムの離型ＰＥＴフィルムを剥離し、
ガラス板（日本板硝子株式会社製、厚み３ｍｍ）に露出
した接着剤が接するようにして８０℃、１０ｋｇｆ／ｃ
ｍ、０.５ｍ/分の条件でロールラミネータにより貼合せ
て電磁波遮蔽構成体１を得た。EXAMPLES Next, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 A 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name A-4100, refractive index n = 1.575) was used as a plastic film, and the adhesive was produced on one surface by the following production example. Agent 1 was applied at room temperature using an applicator to a dry coating thickness of 20 μm, and dried by heating at 90 ° C. for 20 minutes. An electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm, which is a conductive metal, is placed through the adhesive 1 such that the roughened surface is on the adhesive side, and
Heat lamination was performed at 30 ° C., 30 kgf / cm, and 0.5 m / min to obtain a PET film with a copper foil, which is a plastic film with a conductive metal. The PET with copper foil obtained
Through a photolithographic process (resist film sticking-exposure-development-chemical etching-resist film peeling) using a chemical etching method on the film, a copper grid pattern with a line width of 25 μm and a line interval of 250 μm is formed on the PET film, A shield film 1 was obtained. The visible light transmittance of this electromagnetic wave shielding film 1 was 20% or less. The adhesive 2 produced in the following production example is dried on the electromagnetic wave shielding film to a thickness of 2
A 50 μm release PET film (manufactured by Teijin Limited, trade name: G1W) coated to be 0 μm is roll-laminated so that the adhesive 2 and the conductive metal are in contact with each other (VA-700, trade name, manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd.). ) By 80
Attachment was performed at a temperature of 10 kgf / cm at 0.5 m / min to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film. Peeling off the release PET film of the obtained electromagnetic wave shielding adhesive film,
80 ° C., 10 kgf / c so that the exposed adhesive is in contact with the glass plate (manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., thickness 3 mm).
The electromagnetic wave shielding structure 1 was obtained by laminating with a roll laminator under the conditions of m and 0.5 m / min.
【００２８】＜接着剤１の作製例＞５００ｃｍ3の温度
計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにトル
エン２００ｃｍ3、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５０
g、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５g、グリシジルメタ
クリレート（ＧＭＡ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、
窒素でバブリングさせながら１００℃で３時間、還流中
で攪拌を行った。その後、メタノールで再沈殿させ、得
られたポリマーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸
エステルを得た。これをポリアクリル酸エステルＡとす
る。この収率は７５重量％であった。これを接着剤１と
した。 ポリアクリル酸エステルＡの特性 組成：MMA／EMA／GMA=57／38／5（重量比） 重量平均分子量Mw：70万〔ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）により測定した標準ポリスチレ
ン換算値、以下同じ。〕 ガラス転移温度Tg：20℃〔ディファレンシャルスキャニ
ングカロリーメーター（ＤＳＣ）により測定。以下同
じ。〕 上記の接着剤１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４
８であった。 ＜接着剤２の作成例＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルを合成した。これをポリアクリル酸エステ
ルＢとする。 ポリアクリル酸エステルＢの特性 組成：MMA／EMA／GMA=66／29／5（重量比） Mw=7000 Tg=40℃） 接着剤組成物を接着剤２とした。 ポリアクリル酸エステルＡ ３０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＢ ７０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤２とした。
接着剤２の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。<Production Example of Adhesive 1> In a three-necked flask equipped with a 500 cm 3 thermometer, a cooling tube, and a nitrogen inlet tube, 200 cm 3 of toluene and 50% of methyl methacrylate (MMA) were placed.
g, ethyl methacrylate (EMA) 5 g, glycidyl methacrylate (GMA) 2 g, AIBN 250 mg,
The mixture was stirred at 100 ° C. for 3 hours under reflux while bubbling with nitrogen. Thereafter, the precipitate was reprecipitated with methanol, and the obtained polymer was filtered and dried under reduced pressure to obtain a polyacrylate. This is designated as polyacrylate A. The yield was 75% by weight. This was used as Adhesive 1. Characteristics of polyacrylic acid ester A Composition: MMA / EMA / GMA = 57/38/5 (weight ratio) Weight average molecular weight Mw: 700,000 [standard polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC); . Glass transition temperature Tg: 20 ° C. [measured by differential scanning calorimeter (DSC). same as below. ] The refractive index of the composition of the adhesive 1 after drying the solvent is 1.4.
It was 8. <Preparation Example of Adhesive 2> A polyacrylate was synthesized in the same manner as in Adhesive 1. This is designated as polyacrylic ester B. Characteristics of polyacrylate B Composition: MMA / EMA / GMA = 66/29/5 (weight ratio) Mw = 7000 Tg = 40 ° C.) The adhesive composition was used as adhesive 2. The adhesive 2 was produced by mixing 30 parts by weight of polyacrylate A and 70 parts by weight of polyacrylate B.
The refractive index of the adhesive 2 after drying the solvent was 1.49.
【００２９】実施例２ 接着剤２を下記作製例で作製した接着剤３に変更したこ
と以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤３の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＣ及びＤを合成した。 ポリアクリル酸エステルＣの特性 組成：MMA／EA／AA=9／86／5（重量比） Mw=35万 Tg=-40℃） ポリアクリル酸エステルＤ 組成：MMA／EA／AA=85／10／5 Mw=4000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルＣ ２０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＤ ８０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤３とした。
接着剤３の溶媒乾燥後の屈折率は１.４８であった。Example 2 Same as Example 1 except that the adhesive 2 was changed to the adhesive 3 prepared in the following preparation example. <Composition of Adhesive 3> Polyacrylates C and D were synthesized in the same manner as in Adhesive 1. Characteristics of polyacrylic ester C Composition: MMA / EA / AA = 9/86/5 (weight ratio) Mw = 350,000 Tg = -40 ° C.) Polyacrylic ester D Composition: MMA / EA / AA = 85/10 / 5 Mw = 4000 Tg = 80 ° C. An adhesive composition was prepared by mixing 20 parts by weight of polyacrylate C and 80 parts by weight of polyacrylate D. This was used as adhesive 3.
The refractive index of the adhesive 3 after the solvent was dried was 1.48.
【００３０】実施例３ 接着剤２を下記作製例で作製した接着剤４に変更したこ
と以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤４の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＥ及びＦを合成した。 ポリアクリル酸エステルＥ 組成：MMA／EA／HEMA=66／29／5（重量比） Mw=20万 Tg=-40℃） ポリアクリル酸エステルＦ 組成：MMA／EA／HEMA=85／10／5（重量比） Mw=5000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルＥ ４０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＦ ６０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤４とした。
接着剤４の溶媒乾燥後の屈折率は１.４８であった。Example 3 The same as Example 1 except that the adhesive 2 was changed to the adhesive 4 produced in the following production example. <Composition of Adhesive 4> Polyacrylates E and F were synthesized in the same manner as in Adhesive 1. Polyacrylate E composition: MMA / EA / HEMA = 66/29/5 (weight ratio) Mw = 200,000 Tg = -40 ° C.) Polyacrylate F Composition: MMA / EA / HEMA = 85/10/5 (Weight ratio) Mw = 5000 Tg = 80 ° C. An adhesive composition was prepared by mixing 40 parts by weight of polyacrylate E and 60 parts by weight of polyacrylate F, and this was used as adhesive 4.
The refractive index of the adhesive 4 after drying the solvent was 1.48.
【００３１】実施例４ ガラス板をアクリル板（株式会社クラレ製、商品名コモ
グラス、厚み３ｍｍ）に変更したこと以外は実施例１と
同じ。Example 4 The same as Example 1 except that the glass plate was changed to an acrylic plate (Komoray Co., Ltd., trade name: Como Glass, thickness 3 mm).
【００３２】実施例５ プラスチックフィルムをＰＥＴ（５０μｍ）からポリカ
ーボネートフィルム（５０μｍ、ｎ＝１．５８）に、接
着剤２の厚みを２０μｍから４０μｍにした以外は実施
例１と同じ。Example 5 Same as Example 1 except that the plastic film was changed from PET (50 μm) to a polycarbonate film (50 μm, n = 1.58) and the thickness of the adhesive 2 was changed from 20 μm to 40 μm.
【００３３】実施例６ ライン幅を２５μｍから３０μｍに、ライン間隔を２５
０μｍから５００μｍに、接着剤の厚みを２０μｍから
３０μｍにした以外は実施例１と同じ。Example 6 The line width was changed from 25 μm to 30 μm, and the line interval was set to 25.
Same as Example 1 except that the thickness was changed from 0 μm to 500 μm and the thickness of the adhesive was changed from 20 μm to 30 μm.
【００３４】実施例７ フォトリソグラフ工程を経てＰＥＴフィルム上に形成し
た銅格子パターンに黒化処理を施したこと以外は実施例
１と同様にして電磁波遮蔽構成体７を得た。Example 7 An electromagnetic wave shielding component 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the copper grid pattern formed on the PET film through the photolithography process was subjected to a blackening treatment.
【００３５】実施例８ 銅箔付きＰＥＴフィルムの銅箔表面にスクリーン印刷法
を用いてエッチングレジスト（日立化成工業株式会社
製、商品名ＲＡＹＣＡＳＴ）を格子パターン（ライン幅
２５μｍ、ライン間隔２５０μｍ）状に形成し、９０℃
１５分間プレベークした後、高圧水銀ランプで紫外線
を９０ｍＪ／ｃｍ２照射した。その後、エッチングレジ
ストで覆われていない銅箔をエッチングにより除去し、
エッチングレジストを剥離する工程を経て電磁波シール
ドフィルムを得た以外は実施例１と同様にして電磁波遮
蔽構成体８を得た。Example 8 An etching resist (trade name: RAYCAST, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was formed in a lattice pattern (line width 25 μm, line interval 250 μm) on the copper foil surface of the copper foil-coated PET film by screen printing. Formed, 90 ° C
After pre-baking for 15 minutes, irradiation with ultraviolet rays was performed at 90 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. After that, the copper foil not covered with the etching resist is removed by etching,
An electromagnetic wave shielding component 8 was obtained in the same manner as in Example 1, except that an electromagnetic wave shielding film was obtained through a step of removing the etching resist.
【００３６】比較例１ 下記組成を接着剤５の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤５の組成物＞ ポリアクリル酸エステルＡ ９５重量部 及び ポリアクリル酸エステルＢ ５重量部 接着剤５の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。Comparative Example 1 The same as Example 1 except that the following composition was used as the composition of the adhesive 5, and this was used instead of the adhesive 2. <Composition of Adhesive 5> 95 parts by weight of polyacrylate A and 5 parts by weight of polyacrylate B The refractive index of adhesive 5 after drying the solvent was 1.49.
【００３７】比較例２ 下記組成を接着剤６の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤６の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＧを合成した。 ポリアクリル酸エステルＧの特性 組成：MMA／EMA／GMA=27／68／5（重量比） Mw=70万 Tg=-20℃ 接着剤６の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。Comparative Example 2 The same as Example 1 except that the following composition was used as the composition of the adhesive 6, and this was used instead of the adhesive 2. <Composition of Adhesive 6> Polyacrylic acid ester G was synthesized in the same manner as in Adhesive 1. Characteristics of polyacrylate G Composition: MMA / EMA / GMA = 27/68/5 (weight ratio) Mw = 700,000 Tg = −20 ° C. The refractive index of adhesive 6 after solvent drying was 1.49. .
【００３８】比較例３ 下記組成を接着剤７の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤７の組成物＞飽和ポリエステル樹脂（東洋紡績
株式会社製、商品名バイロンＵＲ−１４００、Ｍｗ＝５
万、軟化点８０℃） 接着剤７の溶媒乾燥後の屈折率は１．６５であった。Comparative Example 3 The same as Example 1 except that the following composition was used as the composition of the adhesive 7, and this was used instead of the adhesive 2. <Composition of Adhesive 7> Saturated polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name Byron UR-1400, Mw = 5)
(The softening point is 80 ° C.) The refractive index of the adhesive 7 after drying the solvent was 1.65.
【００３９】比較例４ 下記組成を接着剤８の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤８の組成物＞フェノールーホルムアルデヒド樹
脂（Ｍｗ＝５万、軟化点８５℃） 接着剤８の溶媒乾燥後の屈折率は１．７３であった。Comparative Example 4 The same composition as in Example 1 except that the following composition was used as the composition of the adhesive 8, and this was used instead of the adhesive 2. <Composition of Adhesive 8> Phenol-formaldehyde resin (Mw = 50,000, softening point 85 ° C.) The refractive index of the adhesive 8 after drying the solvent was 1.73.
【００４０】比較例５ 導電材料として０．１μｍ（１、０００Å）全面蒸着さ
せたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しない
で、直接接着剤２の組成物を塗布した以外は実施例１と
同じ。Comparative Example 5 The same as Example 1 except that the composition of the adhesive 2 was directly applied without using a pattern and using an ITO-deposited PET deposited on the entire surface as 0.1 μm (1,000 °) as the conductive material. .
【００４１】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形
の開口率、接着剤の屈折率、接着剤の弾性率、電磁波シ
ールド性、可視光透過率、非視認性、接着力、色差を測
定した。結果を表１、２及び３に示した。The aperture ratio of a geometrical figure drawn with a conductive metal material of the electromagnetic wave shielding adhesive film obtained as described above, the refractive index of the adhesive, the elastic modulus of the adhesive, the electromagnetic wave shielding property, the visible light The transmittance, invisibility, adhesive strength, and color difference were measured. The results are shown in Tables 1, 2 and 3.
【００４２】なお、電磁波シールドフィルムに被覆する
接着剤組成物の屈折率は、屈折計（株式会社アタゴ光学
機械製作所製、アッベ屈折計）により２５℃の条件で測
定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は顕
微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールドフィルムに
被覆する接着剤の弾性率は、０.５ｍｍ程度の接着剤皮
膜を作製し、粘弾性測定装置（レオメトリック・サイエ
ンティフィック・エフ・イー社製、商品名ＡＲＥＳ−２
ＫＳＴＤ、せん断モード）で測定した。電磁波遮蔽構成
体の電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（日本高周
波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−０２４）のフランジ間に試
料を挿入し、スペクトラムアナライザー（ＹＨＰ製、８
５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー）を用い、
周波数３０ＭＨz〜１ＧＨｚで測定した。可視光透過率
の測定は、ダブルビーム分光光度計（株式会社日立製作
所製、２００−１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍ
の透過率の平均値を用いた。非視認性は、ガラス板に電
磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電磁波遮蔽構
成体を０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金属で形
成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認
識できないものを良好とし、認識できるものをＮＧとし
た。接着力は、電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接
着フィルムと被着体との接着性をレオメータ（不動工業
株式会社製、商品名ＮＲＭ−３００２Ｄ−Ｈ）により剥
離速度５０ｍｍ/分、剥離角度９０°、剥離温度２５℃
の条件で測定した。色差は、電磁波遮蔽構成体をサンシ
ャインウェザーメータ（スガ試験機株式会社製、商品名
ＳＵＶ−Ｗ１１）により降雨１２ｍｉｎ/ｈ ２００ｈ
の耐候性処理を行った前後の色相変化を分光測色計（ミ
ノルタ株式会社、商品名ＣＭ−５０８Ｄ）で測定した。The refractive index of the adhesive composition coated on the electromagnetic wave shielding film was measured at 25 ° C. with a refractometer (Abago Refractometer, manufactured by Atago Optical Machine Works). The aperture ratio of a geometric figure drawn with a conductive metal was measured based on a micrograph. The modulus of elasticity of the adhesive covering the electromagnetic wave shielding film is about 0.5 mm. An adhesive film is prepared, and a viscoelasticity measuring device (ARES-2, manufactured by Rheometric Scientific F.E.)
KSTD, shear mode). The electromagnetic wave shielding property of the electromagnetic wave shielding structure is measured by inserting a sample between flanges of a coaxial waveguide converter (manufactured by Japan High Frequency Corporation, TWC-S-024) and using a spectrum analyzer (manufactured by YHP, 8).
510B vector network analyzer)
The measurement was performed at a frequency of 30 MHz to 1 GHz. Visible light transmittance was measured using a double beam spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., Model 200-10) at 400 to 700 nm.
The average value of transmittance was used. The non-visibility is evaluated by observing the electromagnetic wave shielding component obtained by attaching the electromagnetic wave shielding adhesive film to the glass plate from a place 0.5 m away, and by recognizing the geometric figure formed of the conductive metal. Those that could not be recognized were evaluated as good, and those that could be recognized were evaluated as NG. The adhesive strength was measured by using a rheometer (manufactured by Fudo Industry Co., Ltd., trade name: NRM-3002D-H) to measure the adhesiveness between the electromagnetic wave shielding adhesive film of the electromagnetic wave shielding component and the adherend at a peeling speed of 50 mm / min and a peeling angle of 90 °. , Peeling temperature 25 ° C
It measured on condition of. The color difference was measured using a sunshine weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., trade name: SUV-W11) with a rainfall of 12 min / h 200 h.
Was measured with a spectrophotometer (trade name CM-508D, manufactured by Minolta Co., Ltd.).
【００４３】[0043]
【表１】 [Table 1]
【００４４】[0044]
【表２】 [Table 2]
【００４５】[0045]
【表３】 [Table 3]
【００４６】比較例１〜４では、接着剤５〜８の８０℃
での貯蔵弾性が、それぞれ５×１０４Ｐａを超えている
ため接着剤の流動性が低く、電磁波シールドフィルムの
接着剤の凹凸面への充填が不完全なため、可視光透過率
に劣った。また、上記接着剤はぬれにくく被着体に十分
に密着しないので接着性に劣った。さらに、比較例３及
び４において使用している接着剤は飽和ポリエステル、
フェノールーホルムアルデヒド樹脂であるため、紫外線
で黄変し、色差が大幅に増加した。比較例４は、接着剤
８の屈折率が１．７３と高く接着剤とプラスチックフィ
ルムとの界面での散乱が大きく、さらに可視光透過率の
低下を招いた。本発明の実施例で示した、導電性金属で
描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上
で、接着剤に２種のアクリル共重合体のブレンド組成物
で、貯蔵弾性率が５×１０6Ｐａ以上（２５℃）かつ５
×１０4Ｐａ以下（８０℃）で、屈折率が１．４５〜
１．７０の範囲にあり、接着剤の厚みが導電性金属の厚
さ以上の接着剤がいずれも好ましい値を示した。また、
導電性金属で描かれたライン幅が、４０μｍ以下、ライ
ン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下の
導電性金属が好ましい値を示した。また、実施例７で示
した銅を黒化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラス
トが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。In Comparative Examples 1 to 4, the adhesives 5 to 8 were heated at 80 ° C.
In each case, the storage elasticity was more than 5 × 104 Pa, so that the fluidity of the adhesive was low, and the filling of the adhesive of the electromagnetic wave shielding film into the uneven surface was incomplete, so that the visible light transmittance was poor. In addition, the adhesive was inferior in wettability and did not adhere sufficiently to the adherend, so that the adhesiveness was poor. Further, the adhesive used in Comparative Examples 3 and 4 is a saturated polyester,
Since it is a phenol-formaldehyde resin, it yellowed by ultraviolet rays, and the color difference greatly increased. In Comparative Example 4, the refractive index of the adhesive 8 was as high as 1.73, the scattering at the interface between the adhesive and the plastic film was large, and the visible light transmittance was further reduced. It has a geometrical figure drawn by a conductive metal, has an opening ratio of 50% or more, is a blend composition of two acrylic copolymers in an adhesive, and has a storage elasticity shown in Examples of the present invention. Rate is 5 × 10 6 Pa or more (25 ° C.) and 5
X 10 4 Pa or less (80 ° C), the refractive index is 1.45 to
In the range of 1.70, any adhesive having a thickness of the adhesive equal to or more than the thickness of the conductive metal showed a preferable value. Also,
A conductive metal having a line width drawn with a conductive metal of 40 μm or less, a line interval of 100 μm or more, and a line thickness of 40 μm or less showed preferable values. In addition, the electromagnetic wave shielding structure in which copper was blackened as described in Example 7 was able to comfortably appreciate a clear image with a large contrast.
【００４７】被覆した接着剤付きプラスチックフィルム
のプラスチックフィルムを剥離することにより、被着体
にロールラミネータ等により容易に貼付けて使用でき、
しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなくシール
ド機能が特に良好である。また、By peeling off the plastic film of the coated plastic film with an adhesive, it can be easily attached to an adherend with a roll laminator or the like, and used.
Moreover, since the adhesiveness is excellent, there is no electromagnetic wave leakage, and the shielding function is particularly good. Also,
【００４８】[0048]
【発明の効果】請求項１における電磁波シールド性接着
フィルムは、貯蔵弾性率Ｇ’が２５℃で５×１０5Ｐａ
以上かつ８０℃で５×１０4Ｐａ以下である接着剤で被
覆することにより可視光透過率、非視認性などの光学的
特性が良好で、しかも長時間にわたって高温および高温
多湿での接着特性に変化が少なく良好であり、優れた電
磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。
さらに、紫外線で黄変・劣化しにくいので、屋外での長
期使用ができる。請求項２における電磁波シールド性接
着フィルムは、接着剤の屈折率を１．４５〜１．７０と
することにより、さらに透明性、像鮮明性に優れる。請
求項３における電磁波シールド性接着フィルムは、接着
剤の材料を重量平均分子量５万〜１００万の範囲のアク
リル共重合体と重量平均分子量１００〜１０，０００の
範囲のアクリル共重合体とのブレンドとすることによ
り、さらに、透明性、接着性にる。請求項４における電
磁波シールド性接着フィルムは、接着剤の材料として特
定の分子量のものブレンド比を重量比で９０／１０〜１
０／９０とすることにより、さらに透明性、接着性に優
れる。請求項５における電磁波シールド性接着フィルム
は、接着剤の厚さを導電性金属の厚さ以上にすることに
より、さらに透明性、接着性に優れる。請求項６におけ
る電磁波シールド性接着フィルムは、可視光透過率、非
視認性などの光学的特性が良好であるものとして容易に
作製することができる。請求項７ににおける電磁波シー
ルド接着フィルム記載は、接着剤付きプラスチックフィ
ルムのプラスチックフィルムを剥離可能とすることによ
り、被着体への接着作業が容易になる請求項８における
電磁波シールド性接着フィルムは、ロールラミネータ等
の使用で被着体に接着するとすることにより、被着体へ
の接着作業性、その量産性に優れる。請求項９における
電磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれ
た幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を
１００μｍ以上、ライン厚みを４０μｍ以下とすること
により、電磁波シールド性と透明性及び広視野角を得る
ことができる。請求項１０における電磁波シールド性接
着フィルムは、導電性金属付きプラスチックフィルムの
導電性金属を、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウ
ムまたはニッケルとすることにより、電磁波シールド性
及び加工性に優れ、安価になる。請求項１１における電
磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属付きプラス
チックフィルムのプラスチックフィルムをポリエチレン
テレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィル
ムとすることにより、安価で透明性、耐熱性に優れる。
請求項１２における電磁波シールド性接着フィルムは、
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理
されていることにより、コントラストと電磁波シールド
性に優れる。請求項１３における電磁波シールド性接着
フィルムは、導電性金属を常磁性金属とすることによ
り、磁場シールド性に優れる。請求項１４における電磁
波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれた幾
何学図形の開口率を５０％以上にすることにより、可視
光透過率に優れる。請求項１５における電磁波シールド
性接着フィルムは、幾何学図形の形成方法がマイクロリ
ソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷
法を利用する方法であるので、安価で量産性に優れ、ま
た、透明性に優れるとともに簡便な接着性を有する。請
求項１６における電磁波シールド性接着フィルムは、ケ
ミカルエッチング法により導電性金属を描画することに
より、安価で可視光透過率に優れる。According to the first aspect of the present invention, the adhesive film for shielding electromagnetic waves has a storage elastic modulus G ′ of 5 × 10 5 Pa at 25 ° C.
By coating with an adhesive having a temperature of 5 × 10 4 Pa or less at 80 ° C., the optical characteristics such as visible light transmittance and invisibility are good, and the adhesive characteristics at high temperature and high temperature and high humidity for a long time can be obtained. It is possible to provide an excellent electromagnetic wave shielding adhesive film which is good with little change.
Furthermore, since it is hardly yellowed or deteriorated by ultraviolet rays, it can be used for a long time outdoors. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 2 is further excellent in transparency and image clarity by setting the refractive index of the adhesive to 1.45 to 1.70. 4. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 3, wherein the adhesive material is a blend of an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 100 to 10,000. By doing so, transparency and adhesion are further improved. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 4, wherein a blend ratio of a specific molecular weight as a material of the adhesive is 90/10 to 1 by weight.
By setting the ratio to 0/90, transparency and adhesion are further improved. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 5 is further excellent in transparency and adhesiveness by setting the thickness of the adhesive to the thickness of the conductive metal or more. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 6 can be easily produced as having good optical characteristics such as visible light transmittance and invisibility. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 7 is such that the plastic film of the plastic film with an adhesive can be peeled off, thereby facilitating the work of bonding to an adherend. By using a roll laminator or the like to adhere to the adherend, the workability of bonding to the adherend and its mass productivity are excellent. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to the ninth aspect of the present invention provides an electromagnetic wave shielding and transparency by setting a line width of a geometric figure drawn by a conductive metal to 40 μm or less, a line interval to 100 μm or more, and a line thickness to 40 μm or less. And a wide viewing angle can be obtained. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 10, wherein the conductive metal of the plastic film with a conductive metal is made of copper, aluminum, or nickel having a thickness of 0.5 to 40 µm, and is excellent in electromagnetic wave shielding properties and workability. Become cheap. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 11 is inexpensive and excellent in transparency and heat resistance by using a plastic film of a plastic film with a conductive metal as a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 12,
Since the conductive metal is copper and at least its surface is blackened, the contrast and the electromagnetic wave shielding property are excellent. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 13 is excellent in magnetic field shielding properties by using a conductive metal as a paramagnetic metal. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 14 is excellent in visible light transmittance by setting the aperture ratio of a geometric figure drawn by a conductive metal to 50% or more. Since the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 15 is a method using a microlithography method, a screen printing method or an intaglio offset printing method for forming a geometric figure, it is inexpensive, excellent in mass productivity, and has excellent transparency. Excellent and easy adhesion. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 16 is inexpensive and has excellent visible light transmittance by drawing a conductive metal by a chemical etching method.
【００４９】請求項１７における電磁波遮蔽構成体は、
電磁波シールド性接着フィルム及びガラス板もしくはプ
ラスチック板で構成されるので、透明性を有する電磁波
シールド性に優れた基板とすることができ、ディスプレ
イに提供することができる。請求項１８における電磁波
遮蔽構成体は、電磁波シールド性接着フィルムをガラス
板もしくはプラスチック板の少なくとも片面に貼合せる
ことにより、透明性を有する電磁波シールド性に優れた
基板とすることができ、取扱性が容易で、ディスプレイ
に提供することができる。請求項１９におけるディスプ
レイは、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シー
ルド性接着フィルムを用いることにより、軽量、コンパ
クトで透明性に優れ電磁波漏洩が少ない。請求項２０に
おけるディスプレイは、電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体を用いることにより、軽量、コン
パクトで電磁波漏洩が少なくディスプレイ保護板を兼用
したディスプレイとして提供することができる。このデ
ィスプレイは、可視光透過率が大きく、非視認性が良好
であるのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の
状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞する
ことができる。本発明の電磁波シールド性接着フィルム
及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に
優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生した
り、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や
製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求さ
れる窓のような部位に設けて使用することができる。The electromagnetic wave shielding structure according to claim 17 is:
Since the electromagnetic wave shielding adhesive film and the glass plate or the plastic plate are used, the substrate can be made transparent and excellent in electromagnetic wave shielding, and can be provided for a display. The electromagnetic wave shielding structure according to claim 18 can be a substrate having excellent electromagnetic wave shielding property having transparency by laminating an electromagnetic wave shielding adhesive film on at least one surface of a glass plate or a plastic plate, and has excellent handleability. Easy and can be provided on the display. The display according to the nineteenth aspect uses an electromagnetic wave shielding adhesive film having electromagnetic wave shielding properties and transparency, so that it is lightweight, compact, excellent in transparency, and has little electromagnetic wave leakage. The display according to claim 20 can be provided as a display which is lightweight, compact, has little electromagnetic wave leakage and also serves as a display protection plate by using an electromagnetic wave shielding member having electromagnetic wave shielding properties and transparency. This display has a large visible light transmittance and good invisibility, so that a clear image can be comfortably viewed under almost the same conditions as in a normal state without increasing the luminance of the display. Since the electromagnetic wave shielding adhesive film and the electromagnetic wave shielding structure of the present invention are excellent in electromagnetic wave shielding properties and transparency, in addition to a display, a measuring device, a measuring device, and a manufacturing device for generating or protecting from electromagnetic waves It can be used by providing it in windows and housings, especially windows such as windows where transparency is required.
【図１】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムの断
面図である。FIG. 1 is a sectional view of an electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention.
【図２】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムのデ
ィスプレイ使用例（ａ）及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック基板もしくはガラス板から構成され
る電磁波遮蔽構成体（（ｂ）〜（ｆ））の例。FIG. 2 shows an example (a) of a display using the electromagnetic wave shielding adhesive film of the present invention and an example of an electromagnetic wave shielding structure ((b) to (f)) composed of the electromagnetic wave shielding adhesive film and a plastic substrate or a glass plate. .
１．接着剤 ２．導電性金属で描かれた幾何学図形 ３．プラスチックフィルム ４．接着剤 ５．プラスチックフィルム ６．電磁波シールド性接着フィルムス板 ７．ディスプレイの画面（表示デバイスの前面ガラス基
板） ８．ガラス板もしくはプラスチック板 ９．電磁波遮蔽構成体1. Adhesive 2. 2. Geometric figures drawn with conductive metal Plastic film4. Adhesive 5. Plastic film 6. 6. Electromagnetic wave shielding adhesive film plate 7. Display screen (front glass substrate of display device) 8. Glass plate or plastic plate Electromagnetic wave shielding structure
フロントページの続き (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 野村 宏 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社五所宮工場内 Ｆターム(参考） 5E321 AA04 BB21 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA12 AA14 AA16 AA17 BB02 BB05 BB06 BB12 FF01 GG33 HH02 HH12 KK07 Continued on the front page (72) Inventor Minoru Tosaka 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Prefecture Inside the Shimodate Research Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd. In-house (72) Inventor Hiroshi Nomura 1150 Goshomiya, Shimodate-shi, Ibaraki Pref. HH02 HH12 KK07
Claims (20)
有する電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金
属面側を、貯蔵弾性率（Ｇ’）が２５℃で５×１０5Ｐ
ａ以上かつ８０℃で５×１０4Ｐａ以下の接着剤で被覆
した電磁波シールド性接着フィルム。1. An electromagnetic wave shielding film having a geometrical figure drawn by a conductive metal, wherein the conductive metal surface side has a storage elastic modulus (G ′) of 5 × 10 5 P at 25 ° C.
an electromagnetic wave shielding adhesive film coated with an adhesive of not less than a and not more than 5 × 10 4 Pa at 80 ° C.
範囲にある請求項１記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。2. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the refractive index of the adhesive is in the range of 1.45 to 1.70.
の範囲のアクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１
万の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである請求項
１または２記載の電磁波シールド性接着フィルム。3. An adhesive comprising an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and a weight average molecular weight of 100 to 1
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1 or 2, which is a blend with an acrylic polymer in a range of 10,000.
アクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１０，００
０の範囲のアクリル系重合体とのブレンド比が、重量比
で９０／１０〜１０／９０である請求項３の記載の電磁
波シールド性接着フィルム。4. An acrylic polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and a weight average molecular weight of 100 to 10,000.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 3, wherein the blend ratio with the acrylic polymer in the range of 0 is 90/10 to 10/90 by weight.
さ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルム。5. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the thickness of the coated adhesive is not less than the thickness of the conductive metal.
ルムである請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波シー
ルド性接着フィルム。6. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive is a plastic film with an adhesive.
スチックフィルムが剥離できることを特徴とする請求項
６記載の電磁波シールド性接着フィルム。7. The adhesive film according to claim 6, wherein the plastic film of the plastic film with an adhesive can be peeled off.
ムのプラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を
介して被着体に容易に接着することができることを特徴
とする請求項７記載の電磁波シールド性接着フィルム。8. The electromagnetic wave shielding adhesive according to claim 7, wherein the plastic film of the coated plastic film with an adhesive can be peeled off and easily adhered to an adherend via the exposed adhesive. the film.
ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
イン厚さが４０μｍ以下である請求項１〜８のいずれか
に記載の電磁波シールド性接着フィルム。9. The electromagnetic wave shielding property according to claim 1, wherein a line width of the geometric figure drawn by the conductive metal is 40 μm or less, a line interval is 100 μm or more, and a line thickness is 40 μm or less. Adhesive film.
が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニ
ッケルである請求項１〜９のいずれかに記載の電磁波シ
ールド性接着フィルム。10. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the conductive metal of the electromagnetic wave shielding film is copper, aluminum or nickel having a thickness of 0.5 to 40 μm.
クフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまた
はポリカーボネートフィルムである請求項１〜１０のい
ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。11. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the plastic film of the electromagnetic wave shielding film is a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film.
の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。12. The method according to claim 1, wherein the conductive metal is copper, and at least its surface is blackened.
12. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of items 1 to 11.
１〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィ
ルム。13. The adhesive film according to claim 1, wherein the conductive metal is a paramagnetic metal.
口率が５０％以上であることを特徴とする請求項１〜１
３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。14. The geometric figure drawn with a conductive metal has an aperture ratio of 50% or more.
3. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of 3.
ソグラフ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印
刷法を利用する方法である請求項１〜１４のいずれかに
記載の電磁波シールド性接着フィルム。15. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the method of forming a geometric figure is a method utilizing a microlithography method, a screen printing method, or an intaglio offset printing method.
チング法である請求項１５記載の電磁波シールド性接着
フィルム。16. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 15, wherein the microlithography method is a chemical etching method.
磁波シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしく
はガラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。17. An electromagnetic wave shielding structure comprising the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1 and a plastic substrate or a glass plate.
磁波シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしく
はガラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波
遮蔽構成体。18. An electromagnetic wave shielding structure obtained by bonding the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1 to at least one surface of a plastic substrate or a glass plate.
磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。19. A display using the electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of claims 1 to 16.
電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。20. A display using the electromagnetic wave shielding structure according to claim 17.
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