JP2000292287A - 圧力温度測定装置 - Google Patents

圧力温度測定装置

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JP2000292287A
JP2000292287A JP11104181A JP10418199A JP2000292287A JP 2000292287 A JP2000292287 A JP 2000292287A JP 11104181 A JP11104181 A JP 11104181A JP 10418199 A JP10418199 A JP 10418199A JP 2000292287 A JP2000292287 A JP 2000292287A
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pressure
light
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optical fiber
temperature
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JP11104181A
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Takao Murakoshi
尊雄 村越
Shigeru Nakamura
茂 中村
Keisuke Fukatsu
恵輔 深津
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Tokimec Inc
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Tokimec Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多数の位置の圧力又は温度を同時に測定する
ことができる分布型の圧力温度測定装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 圧力温度測定装置は、光源と、光を切り
換えて出力する光スイッチと、該光スイッチからの光を
伝搬する複数の光ファイバと、該光ファイバの先端に設
けられたセンサ部と、該センサ部からの干渉光を光スイ
ッチを経由して受光する受光器と、該受光器からの信号
よりセンサ部の圧力又は温度を演算する演算部、とを有
し、光ファイバは複数の光ファイバが帯状に束ねられた
フラットケーブルとして構成され、センサ部は所定のピ
ッチにて隔置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバを使用し
た圧力温度測定装置に関し、より詳細には複数の位置の
温度及び圧力を同時に測定することができる分布型の圧
力温度測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4を参照して従来の光ファイバを使用
した分布型の圧力温度測定装置の例を説明する。この圧
力温度測定装置は、光源101と第1のカプラ125と
第2のカプラ126の列と第2のカプラ126の各々に
接続された光ファイバ128と該光ファイバ128の先
端に設けられたセンサ部103と受光器122と信号処
理装置135とを有する。
【0003】光源101からの光は第1のカプラ125
によってN個の光に分岐される。N個の光は、それぞ
れ、N個の第2のカプラ126を経由してN個の光ファ
イバ128を伝播する。N個の光ファイバ128からの
光はN個のセンサ部103に供給され、干渉光が生成さ
れる。N個の干渉光は、それぞれ、第2のカプラ126
を経由して受光器122に供給され電気信号に変換され
る。受光器122からの信号は信号処理装置135に出
力され、圧力及び温度が演算される。
【0004】図5を参照してセンサ部103の構造及び
動作を説明する。センサ部103は、光ファイバ10の
先端の端面に装着されたハーフミラー13と筒状のケー
シング40とケーシング40の端面に装着された円形の
ダイヤフラム42とダイヤフラムの内面に装着されたミ
ラー23とを有する。ケーシング40及びダイヤフラム
42は、光ファイバ10の先端を覆うキャップを構成し
ており、このキャップと光ファイバ10の先端面の間に
密閉室45が形成される。
【0005】光ファイバ10は中心のコア11と外側の
クラッド12からなり、光はコア11に閉じ込められた
状態で、光軸方向に伝播する。コア11を伝播した光の
一部E1 はハーフミラー13を反射し、他の一部E2
ハーフミラー13を通過してミラー23を反射する。
【0006】ハーフミラー13を反射した光E1 とミラ
ー23を反射した光E2 は、光ファイバのコア11にて
合成され干渉光が生成される。干渉光は、図1に示した
ように、受光器122によって検出される。
【0007】干渉光が生成される直前の、ハーフミラー
13を反射した光E1 とミラー23を反射した光E
2 は、次の式のように表される。
【0008】
【数1】E1 =A1 exp{j(ωt+φ1 )} E2 =A1 exp{j(ωt+φ2 )}
【0009】φ1 及びφ2 は、それぞれ、干渉光が生成
される直前の、光E1 及びE2 が有する位相差である。
干渉光の強度Iは次のように表される。
【0010】
【数2】I=|E1 +E2 2 =A1 2+A2 2+2A1
2 ・cos(φ1 −φ2
【0011】この式の右辺の第3項は光強度の変化ΔI
を表す。
【0012】
【数3】ΔI=2A1 ・A2 ・cos(φ1 −φ2
【0013】ここで、光E1 及びE2 の位相差φ1 及び
φ2 を次のように設定する。
【0014】
【数4】φ1 =0 φ2 =2(L−W)(2πn/λ)
【0015】ここに、Lはダイヤフラム42の撓み量が
ゼロの時のハーフミラー13とミラー23の間の距離、
Wはダイヤフラムの撓み量、nは密閉室45の屈折率、
λは光の波長である。この式を数3の式に代入すると、
次のようになる。
【0016】
【数5】ΔI=2A1 ・A2 ・cos{(4πn/λ)
(L−W)}
【0017】ここで、距離Lを次の式が成り立つように
設定する。
【0018】
【数6】4πnL/λ=(N+1/2)π (N=
0,1,2,3,…)
【0019】これを数5の式に代入して変形し、ダイヤ
フラム42の撓み量Wが十分小さいと仮定すると、次の
式が得られる。
【0020】
【数7】 ΔI=±2A1 ・A2 ・sin(4πnW/λ) ≒±2A1 ・A2 ・(4πnW/λ)
【0021】即ち、干渉光の光強度の変化ΔIは、ダイ
ヤフラム42の撓み量Wに比例する。一方、円形のダイ
ヤフラム42の撓み量Wは、材料力学より、次の式によ
って表される。
【0022】
【数8】 W=(Pa4 /64Eh3 )×12(1−ν2
【0023】Wはダイヤフラムの中央の撓み量、Pはダ
イヤフラムに加わる圧力、aはダイヤフラムの半径、E
はヤング率、hはダイヤフラムの厚さ、νはポアソン比
である。この関係より、光強度の変化ΔIは、ダイヤフ
ラムに加わる力Pに比例する。従って受光器22の出力
より光強度の変化ΔIを検出することによってダイヤフ
ラム42に加わる力又は圧力が判る。
【0024】センサ部103を、圧力測定装置としても
温度測定装置としても使用することもできる。センサ部
103を圧力測定装置として使用する場合、密閉室45
を真空排気することによって絶対圧力が得られる。尚、
密閉室45を1気圧の不活性ガスによって充填すること
によってゲージ圧が得られる。
【0025】センサ部103を温度測定装置として使用
する場合、密閉室45に適当な不活性ガスを装填する。
この不活性ガスが周囲の温度によって熱膨張するとダイ
ヤフラム42は撓む。従って、ダイヤフラムの撓み量を
光強度の変化ΔIとして検出すればよい。
【0026】
【発明が解決しようとする課題】図4及び図5を参照し
て説明した従来の光ファイバを使用した分布型圧力温度
測定装置は、複数のセンサ部103に対応して複数のカ
プラ125及びカプラ126の列を必要とし、複数の受
光器122を使用するため、構造が複雑であり、多数の
構成要素を使用する必要があった。
【0027】また、複数のセンサ部はそれぞれ別個の光
ファイバに接続されており、センサ部を所定のピッチに
て広い範囲に設置するのが困難であった。
【0028】本発明はこのような点に鑑み、構造が簡単
で、構成要素がより少ない分布型圧力温度測定装置を提
供することを目的とする。
【0029】本発明はこのような点に鑑み、簡単にセン
サ部を所定のピッチにて配置することができる分布型圧
力温度測定装置を提供することを目的とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】本発明の圧力温度測定装
置は、光源と、カプラと、光を切り換えて出力する光ス
イッチと、該光スイッチからの光を伝搬する複数の光フ
ァイバと、該光ファイバの先端に設けられたセンサ部
と、該センサ部からの干渉光を光スイッチ及びカプラを
経由して受光する受光器と、該受光器からの信号よりセ
ンサ部の圧力又は温度を演算する演算部、とを有し、光
ファイバは複数の光ファイバが帯状に束ねられたフラッ
トケーブルとして構成され、センサ部は所定のピッチに
て隔置されている。
【0031】光スイッチを使用することによって従来の
装置に比べて小型な且つコンパクトな圧力温度装置を提
供することができる。また、センサ部に接続された光フ
ァイバをフラットケーブルとして構成することによっ
て、センサ部及び光ファイバを狭い位置に配置すること
ができる。
【0032】本発明によると、圧力温度測定装置におい
て、上記センサ部は温度センサと圧力センサを交互に含
む。従って、本発明によると、複数の測定地点より温度
及び圧力の両者のデータを得ることができる。
【0033】本発明によると、上記センサ部は、光ファ
イバの切断端面に装着されたハーフミラーと上記光ファ
イバの切断端面を覆う感応部とを有し、該感応部は温度
及び圧力に応答して変位するダイヤフラムを有する。従
って、センサ部を圧力センサとして構成する場合も温度
センサとして構成する場合も、共通の構造を有し、製造
工程を簡略化することができる。また、上記センサ部
は、上記感応部を覆うキャップを有する。それによって
感応部はキャップによって保護される。
【0034】
【発明の実施の形態】図1を参照して本発明による光フ
ァイバを使用した分布型の圧力温度測定装置の例につい
て説明する。本例の分布型の圧力温度測定装置は、光源
101とカプラ105と光スイッチ107と光ファイバ
ケーブル108と光ファイバの先端部に装着された複数
のセンサ部110と受光器102と信号処理装置115
とを有する。
【0035】光ファイバケーブル108は、複数の光フ
ァイバを束ねた光ファイバケーブルバンドより構成さ
れ、好ましくはフラットケーブル型の光ファイバ束であ
る。センサ部110は所定のピッチpにて隔置されてい
る。
【0036】センサ部110は、例えば次のような方法
によって装着されてよい。光ファイバ束に含まれる複数
の光ファイバの先端を順に所定の長さpづつ切断する。
次に、その切断端部に各センサ部110を装着する。セ
ンサ部110のピッチは数十メートル又は数百メートル
であってよい。
【0037】センサ部110の詳細は後に説明するが、
圧力センサ又は温度センサである。センサ部110の全
てが圧力センサ又は温度センサのいずれがであってよい
が、交互に圧力センサと温度センサを配置してもよい。
【0038】光源101からの光は、カプラ105を経
由して光スイッチ107に導かれ、そこで光ファイバケ
ーブル108に含まれるN個の光ファイバの各々に順に
導かれる。各光ファイバを伝播した光は、先端のセンサ
部110に導かれ、干渉光が生成される。干渉光は、光
スイッチ107及びカプラ105を経由して受光器10
2に導かれる。受光器102によって光は電気信号に変
換され、電気信号は信号処理装置115に供給される。
【0039】光スイッチ107は、所定の切り替え周期
にて、カプラ105からの光を、光ファイバケーブル1
08に含まれる光ファイバの各々に、順に、出力する。
従って、受光器102は、光スイッチ107の切り替え
周期と同一の周期にて、各センサ部からの干渉光を入力
する。信号処理装置115は、光スイッチ107の切り
替え周期と同一の周期にて、各センサ部によって検出さ
れた圧力又は温度を演算し出力する。
【0040】図2は本例のセンサ部の第1の例の構造を
示す。本例のセンサ部は、光ファイバ10の先端面に装
着されたハーフミラー13とその上に装着された円盤状
の感応部20と感応部20を覆うキャップ30とを有す
る。こうして光ファイバ10の先端及び感応部20はキ
ャップ30によって保護される。
【0041】感応部20は円盤状のベース部21とこの
ベース部に設けられた凹部24とを有し、この凹部24
の底面がダイヤフラム22を構成している。キャップ3
0は円盤状の感応部20を覆うような形状に形成されて
いるが、そのベース31の内面に凹部34を有する。こ
の凹部34の底面には孔33が形成されている。
【0042】光ファイバ10の先端面に装着されたハー
フミラー13と感応部20の凹部24によって密閉室2
5が形成される。この密閉室25は、真空であってよい
が適当な不活性ガスによって充填されてよい。
【0043】感応部20のダイヤフラム22の外面とキ
ャップ30の凹部34によって空間35が形成される。
この空間35は孔33によって外部に接続された開空間
である。
【0044】このセンサ部は圧力センサとして使用され
る。測定すべき空間にこのセンサ部を配置すると、開空
間35の圧力は測定すべき空間の圧力と同一となる。従
って、測定すべき空間の圧力がダイヤフラム22に加わ
り、ダイヤフラム22は撓む。この撓み量を受光器10
2の出力によって検出し、それを圧力に換算すればよ
い。
【0045】密閉室25を真空にした場合には、開空間
35の圧力を絶対圧力として測定することができるが、
密閉室25を1気圧の適当な不活性ガスによって充填し
た場合には、開空間35の圧力をゲージ圧として測定す
ることができる。尚、このようにゲージ圧を測定する場
合には、密閉室25の温度を所定の温度に保持する必要
があり、密閉室25の温度がこの所定の温度と異なる場
合には、温度補正をする必要がある。
【0046】このセンサ部を温度センサとして使用する
こともできる。この場合、密閉室25を適当な不活性ガ
スによって充填する。測定すべき空間にこのセンサ部を
配置すると、密閉室25の温度は測定すべき空間の温度
と同一となる。従って、密閉室25内の不活性ガスは熱
膨張し、ダイヤフラム22は撓む。この撓み量を受光器
102の出力より検出し、それを温度に換算すればよ
い。密閉室25の圧力と開空間35の圧力に差がある場
合には、圧力補正をする必要がある。
【0047】図3は本例のセンサ部の第2の例の構造を
示す。本例のセンサ部は、図2の例と比較すると、キャ
ップ30の凹部34の底面に孔が設けられていない点が
異なる。従って、感応部20のダイヤフラム22の外面
とキャップ30の凹部34によって形成される空間35
は密閉空間となる。従って、本例では、ダイヤフラム2
2の両側に密閉空間25、35が配置されている。
【0048】このセンサ部は温度センサとして使用され
る。2つの密閉室25、35の一方を真空排気し、他方
を適当な不活性ガスによって充填する。例えば、内側の
密閉室25を真空排気し、外側の密閉室35を不活性ガ
スによって充填する。測定すべき空間にこのセンサ部を
配置すると、外側の密閉室35の温度は測定すべき空間
の温度と同一となる。従って、この密閉室35内の不活
性ガスは熱膨張し、ダイヤフラム22は内側に撓む。こ
の撓み量を受光器102の出力より検出し、それを温度
に換算すればよい。
【0049】尚、内側の密閉室25を不活性ガスによっ
て充填し、外側の密閉室35を真空排気した場合も同様
である。内側の密閉室25内の不活性ガスは熱膨張し、
ダイヤフラム22は外側に撓む。この撓み量を受光器1
02の出力より検出し、それを温度に換算すればよい。
【0050】図2及び図3を参照して説明したセンサ部
の製造方法及び材質について説明する。ハーフミラー1
3及びミラー23はAl、Cr等の金属を蒸着すること
によって形成されてよい。例えば、ハーフミラー13は
厚さが約500Åの蒸着膜によって構成されてよく、ミ
ラー23は厚さが約2000Åの蒸着膜によって構成さ
れてよい。
【0051】感応部20及びキャップ30は石英、ケイ
素等の熱膨張率が小さい材料より形成される。感応部2
0は、好ましくは陽極接合又はレーザ溶接によって光フ
ァイバ10の先端面に接続される。こうして接着剤を使
用しないことによって、従来のセンサ部のように接着剤
の経年変化又は劣化に起因した誤差が回避される。一
方、密閉室25、35に封入される不活性ガスとして、
熱伝導率が高いガス、例えば、ヘリウムが使用される。
【0052】上述のように図2に示した本発明のセンサ
部の第1の例は、図3に示した第2の例と比べて、孔3
3を設ける点のみが異なり、それ以外の構成は同一であ
る。従って、本発明のセンサ部の第1の例と第2の例を
製造する場合、構成要素及び製造工程を共通化すること
ができる。
【0053】以上本発明の実施例について詳細に説明し
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
【0054】
【発明の効果】本発明によると、狭い場所、人が近づけ
ない場所又は危険な場所でも、複数の位置の圧力及び温
度を測定することができる利点がある。
【0055】本発明によると、センサ部は電気を使用し
ないから、近くに発火し易い物質が存在しても、火災、
爆発等の危険性がない利点がある。
【0056】本発明によると、構造が簡単で、構成要素
がより少ない分布型圧力温度測定装置を提供することが
できる利点がある。
【0057】本発明によると、簡単にセンサ部を所定の
ピッチにて配置することができる分布型圧力温度測定装
置を提供することができる利点がある。
【0058】本発明によると、圧力センサと温度センサ
の製造に関して、共通の構成要素及び共通の製造工程を
使用することができるから、製造費を低減することがで
きる利点がある。
【0059】本発明によると、キャップによって光ファ
イバの先端部及び感応部を保護することができるから、
センサ部をどのような過酷な環境下でも使用することが
きる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ファイバを用いた分布型の圧力温度
測定装置の例を示す説明図である。
【図2】本発明の分布型の圧力温度測定装置のセンサ部
の例を示す図である。
【図3】本発明の分布型の圧力温度測定装置のセンサ部
の他の例を示す図である。
【図4】従来の光ファイバを用いた分布型の圧力温度測
定装置の例を示す図である。
【図5】従来の分布型の圧力温度測定装置のセンサ部の
例を示す図である。
【符号の説明】
10…光ファイバ、 11…コア、 12…クラッド、
13…ハーフミラー、20…感応部、 21…ベー
ス、 22…ダイヤフラム、 23…ミラー、24…凹
部、 25…密閉室、 30…キャップ、 31…ベー
ス、 33…孔、 34…凹部、 35…空間、密閉
室、 40…ケーシング、 42…ダイヤフラム、 4
5…密閉室、 101…光源、 102…受光器、 1
05…カプラ、 107…光スイッチ、 108…光フ
ァイバケーブル、 110…センサ部、 115…信号
処理装置、 122…受光器、 125,126…カプ
ラ、128…光ファイバ、 130…センサ部、 13
5…信号処理装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深津 恵輔 東京都大田区南蒲田2丁目16番46号 株式 会社トキメック内 Fターム(参考) 2F055 BB01 BB03 CC02 DD19 EE31 FF41 FF43 GG49 2F056 VF15 VF16 VF20 2F076 BA01 BA14 BD06 BD07 BD11 BE09

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、カプラと、光を切り換えて出力
    する光スイッチと、該光スイッチからの光を伝搬する複
    数の光ファイバと、該光ファイバの先端に設けられたセ
    ンサ部と、該センサ部からの干渉光を上記光スイッチ及
    びカプラを経由して受光する受光器と、該受光器からの
    信号より上記センサ部の圧力又は温度を演算する演算
    部、とを有し、上記光ファイバは複数の光ファイバが帯
    状に束ねられたフラットケーブルとして構成され、上記
    センサ部は所定のピッチにて隔置されていることを特徴
    とする圧力温度測定装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の圧力温度測定装置におい
    て、上記センサ部は温度センサと圧力センサを交互に含
    むことを特徴とする圧力温度測定装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の圧力温度測定装置におい
    て、上記センサ部は、光ファイバの切断端面に装着され
    たハーフミラーと上記光ファイバの切断端面を覆う感応
    部とを有し、該感応部は温度又は圧力に応答して変位す
    るダイヤフラムを有することを特徴とする圧力温度測定
    装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の圧力温度測定装置におい
    て、上記センサ部は、上記感応部を覆うキャップを有す
    ることを特徴とする圧力温度測定装置。
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