JP2000290739A - Ｉｒ合金製るつぼ - Google Patents
Ｉｒ合金製るつぼInfo
- Publication number
- JP2000290739A JP2000290739A JP11098446A JP9844699A JP2000290739A JP 2000290739 A JP2000290739 A JP 2000290739A JP 11098446 A JP11098446 A JP 11098446A JP 9844699 A JP9844699 A JP 9844699A JP 2000290739 A JP2000290739 A JP 2000290739A
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- JP
- Japan
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- crucible
- alloy
- board
- air
- balance
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- Pending
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高温強度が高く、1400℃〜2200℃でも使用で
き、且つ大気中でも酸化することなく使用できる単結晶
育成用のIr合金製るつぼを提供する。 【解決手段】 Irに、Rh又はPtを 0.5〜40wt％添加して
成るIr合金製るつぼ。
き、且つ大気中でも酸化することなく使用できる単結晶
育成用のIr合金製るつぼを提供する。 【解決手段】 Irに、Rh又はPtを 0.5〜40wt％添加して
成るIr合金製るつぼ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、単結晶育成用のIr
合金製るつぼに関する。
合金製るつぼに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より単結晶育成用るつぼは、Pt製る
つぼやIrるつぼが用いられている。Pt製るつぼは、高温
強度が低く、変形などが生じる為、1400℃程度までしか
使用できない。Ir製るつぼは、高温強度が高いので、14
00℃〜2200℃でも使用できるが、大気中では酸化して揮
発する為、還元性雰囲気や不活性雰囲気で使用しなけれ
ばならなかった。従って、設備コスト高となるばかりで
はなく、手間暇がかかるものであった。
つぼやIrるつぼが用いられている。Pt製るつぼは、高温
強度が低く、変形などが生じる為、1400℃程度までしか
使用できない。Ir製るつぼは、高温強度が高いので、14
00℃〜2200℃でも使用できるが、大気中では酸化して揮
発する為、還元性雰囲気や不活性雰囲気で使用しなけれ
ばならなかった。従って、設備コスト高となるばかりで
はなく、手間暇がかかるものであった。
【０００３】そこで本発明は、高温強度が高く、1400℃
〜2200℃でも使用でき、且つ大気中でも酸化揮発するこ
となく使用できる単結晶育成用のIr合金製るつぼを提供
しようとするものである。
〜2200℃でも使用でき、且つ大気中でも酸化揮発するこ
となく使用できる単結晶育成用のIr合金製るつぼを提供
しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のIr合金製るつぼの１つは、Rh 0.5〜40wt％、
残部Irより成るものである。他の１つは、Pt 0.5〜40wt
％、残部Irより成るものである。
の本発明のIr合金製るつぼの１つは、Rh 0.5〜40wt％、
残部Irより成るものである。他の１つは、Pt 0.5〜40wt
％、残部Irより成るものである。
【０００５】上記のように本発明のIr合金製るつぼは、
IrにRhやPtが 0.5〜40wt％添加されているので、Irの酸
化揮発が抑えられ、大気中で1400℃〜2200℃の高温に加
熱してもIrの酸化揮発が殆んど起こらない。IrにRhやPt
を 0.5〜40wt％添加する理由は、 0.5wt％未満ではIrの
酸化揮発を抑えられず、40wt％を超えると、Irの高温強
度が低下し、1400℃〜2200℃の高温に加熱することがで
きなくなるからである。
IrにRhやPtが 0.5〜40wt％添加されているので、Irの酸
化揮発が抑えられ、大気中で1400℃〜2200℃の高温に加
熱してもIrの酸化揮発が殆んど起こらない。IrにRhやPt
を 0.5〜40wt％添加する理由は、 0.5wt％未満ではIrの
酸化揮発を抑えられず、40wt％を超えると、Irの高温強
度が低下し、1400℃〜2200℃の高温に加熱することがで
きなくなるからである。
【０００６】本発明のIr合金製るつぼの実施形態を説明
する。IrにRh 5wt％添加し、溶解した上、鋳造してIr-R
h 5wt％合金のインゴットを作った。また、IrにPtを10w
t％添加し、溶解した上、鋳造してIr-Pt10wt％合金のイ
ンゴットを作った。これらインゴットを、それぞれ鍛
造、圧延し、厚さ 2mmの平板に加工した。これらの平板
からそれぞれ48l × 150w × 2t の角板と50φ× 2t の
円板とを切り出し、角板はそれぞれ丸めて端部を溶接し
て円筒を作り、これら円筒の底に同じ材料の前記円板を
溶接し、その後溶接部を整形して、2 種類のIr合金製る
つぼを完成させた。
する。IrにRh 5wt％添加し、溶解した上、鋳造してIr-R
h 5wt％合金のインゴットを作った。また、IrにPtを10w
t％添加し、溶解した上、鋳造してIr-Pt10wt％合金のイ
ンゴットを作った。これらインゴットを、それぞれ鍛
造、圧延し、厚さ 2mmの平板に加工した。これらの平板
からそれぞれ48l × 150w × 2t の角板と50φ× 2t の
円板とを切り出し、角板はそれぞれ丸めて端部を溶接し
て円筒を作り、これら円筒の底に同じ材料の前記円板を
溶接し、その後溶接部を整形して、2 種類のIr合金製る
つぼを完成させた。
【０００７】一方、従来例としてIr 100％を溶解した
上、鋳造してIrインゴットを作った。このIrインゴット
を鍛造、圧延し、厚さ 2mmの平板に加工した。以後上記
と全く同様の工程を経てIr製るつぼを完成させた。
上、鋳造してIrインゴットを作った。このIrインゴット
を鍛造、圧延し、厚さ 2mmの平板に加工した。以後上記
と全く同様の工程を経てIr製るつぼを完成させた。
【０００８】然して、実施形態の２種類のIr合金製るつ
ぼと、従来のIr製るつぼとを1700℃、20時間、大気中で
加熱した後、徐冷した処、従来のIr製るつぼは、外観上
黒く酸化してしまったが、実施形態の２種類のIr合金製
るつぼは、外観上全く変化がなく、酸化しておらず、ま
た、変形も無かった。
ぼと、従来のIr製るつぼとを1700℃、20時間、大気中で
加熱した後、徐冷した処、従来のIr製るつぼは、外観上
黒く酸化してしまったが、実施形態の２種類のIr合金製
るつぼは、外観上全く変化がなく、酸化しておらず、ま
た、変形も無かった。
【０００９】
【発明の効果】以上の通り本発明のIr合金製るつぼは、
高温強度を保ちながら大気中で1400℃〜2200℃の高温で
も酸化することなく且つ変形することなく使用できる。
高温強度を保ちながら大気中で1400℃〜2200℃の高温で
も酸化することなく且つ変形することなく使用できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 Rh 0.5〜40wt％、残部Irより成るIr合金
製るつぼ。 - 【請求項２】 Pt 0.5〜40wt％、残部Irより成るIr合金
製るつぼ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11098446A JP2000290739A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | Ｉｒ合金製るつぼ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11098446A JP2000290739A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | Ｉｒ合金製るつぼ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290739A true JP2000290739A (ja) | 2000-10-17 |
Family
ID=14219976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11098446A Pending JP2000290739A (ja) | 1999-04-06 | 1999-04-06 | Ｉｒ合金製るつぼ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000290739A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005007589A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Engelhard Corporation | Tank for melting solder glass |
| JP2006205200A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | イリジウム又はイリジウム合金るつぼの製造方法 |
| US7481971B2 (en) | 2002-07-13 | 2009-01-27 | Johnson Matthey Public Limited Company | Iridium alloy |
| USD771167S1 (en) | 2013-08-21 | 2016-11-08 | A.L.M.T. Corp. | Crucible |
| JPWO2015064505A1 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-03-09 | 株式会社アライドマテリアル | 坩堝 |
| JP2020059633A (ja) * | 2018-10-11 | 2020-04-16 | 国立大学法人信州大学 | 酸化ガリウム結晶の製造装置及び酸化ガリウム結晶の製造方法並びにこれらに用いる酸化ガリウム結晶育成用のるつぼ |
| CN114318503A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-12 | 陕西旭光晶体科技有限公司 | 氧化嫁晶体用的铂铱合金坩埚以及制备方法 |
| RU2776470C2 (ru) * | 2018-10-11 | 2022-07-21 | Синсу Юниверсити | Устройство для изготовления кристалла оксида галлия, способ изготовления кристалла оксида галлия и тигель для выращивания кристалла оксида галлия, используемый для этого |
-
1999
- 1999-04-06 JP JP11098446A patent/JP2000290739A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7481971B2 (en) | 2002-07-13 | 2009-01-27 | Johnson Matthey Public Limited Company | Iridium alloy |
| WO2005007589A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Engelhard Corporation | Tank for melting solder glass |
| JP2006205200A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | イリジウム又はイリジウム合金るつぼの製造方法 |
| USD771167S1 (en) | 2013-08-21 | 2016-11-08 | A.L.M.T. Corp. | Crucible |
| USD839444S1 (en) | 2013-08-21 | 2019-01-29 | A.L.M.T. Corp. | Crucible |
| USD872872S1 (en) | 2013-08-21 | 2020-01-14 | A.L.M.T. Corp. | Crucible |
| JPWO2015064505A1 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-03-09 | 株式会社アライドマテリアル | 坩堝 |
| JP2020059633A (ja) * | 2018-10-11 | 2020-04-16 | 国立大学法人信州大学 | 酸化ガリウム結晶の製造装置及び酸化ガリウム結晶の製造方法並びにこれらに用いる酸化ガリウム結晶育成用のるつぼ |
| RU2776470C2 (ru) * | 2018-10-11 | 2022-07-21 | Синсу Юниверсити | Устройство для изготовления кристалла оксида галлия, способ изготовления кристалла оксида галлия и тигель для выращивания кристалла оксида галлия, используемый для этого |
| CN114318503A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-12 | 陕西旭光晶体科技有限公司 | 氧化嫁晶体用的铂铱合金坩埚以及制备方法 |
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