JP2000284260A - Production of liquid crystal device - Google Patents

Production of liquid crystal device

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Publication number
JP2000284260A
JP2000284260A JP8695399A JP8695399A JP2000284260A JP 2000284260 A JP2000284260 A JP 2000284260A JP 8695399 A JP8695399 A JP 8695399A JP 8695399 A JP8695399 A JP 8695399A JP 2000284260 A JP2000284260 A JP 2000284260A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
crystal device
manufacturing
substrates
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8695399A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Hosogaya
裕之 細萱
Shinji Fujisawa
信治 藤澤
Yoshiaki Otsuki
芳明 大月
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to suppress the occurrence of the set misalignment of a panel even in the case of the hybrid panel composed of substrates consisting of different materials. SOLUTION: The plastic substrate 11 expands or contracts with respect to its original dimension when the plastic substrate 11 subjected to a heat- treatment is peeled from above a supporting member 30. The pattern dimension AG×BG of an inside surface structure forming part 12z set on the inside surface of the glass substrate 12 is, thereupon, previously formed smaller than the pattern dimension AP×BP of the inside surface structure forming part 11z formed on the inside surface of the plastic substrate 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置の製造方法
に係り、特に、液晶パネルを製造するための製造技術に
関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a manufacturing technique for manufacturing a liquid crystal panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶パネルは二枚の基板をシー
ル材によって貼り合わせて液晶セルを形成し、この液晶
セルの内部にシール材の開口部から液晶を注入し、開口
部を封止材によって封鎖することによって形成される。
二枚の基板の内面にはそれぞれITOなどからなる複数
の透明電極が形成され、この透明電極に接続された電極
配線は基板の外縁部に集められて外部端子群を形成す
る。多くの場合、二枚の基板のうち、一方の基板よりも
他方の基板の方が平面的に大きく形成され、一方の基板
の板面よりも外側にはみ出した他方の基板の張出領域上
に多数の外部端子が配列された外部端子群が形成され
る。この外部端子群にはフレキシブル配線基板の端部が
圧着されることもあり、或いは、外部端子群上に直接に
ドライバICなどが実装されることもある。
2. Description of the Related Art In general, a liquid crystal panel forms a liquid crystal cell by bonding two substrates with a sealing material, injects liquid crystal into the inside of the liquid crystal cell through an opening of the sealing material, and seals the opening with a sealing material. Formed by sealing.
A plurality of transparent electrodes made of ITO or the like are formed on the inner surfaces of the two substrates, respectively, and electrode wires connected to the transparent electrodes are gathered at the outer edge of the substrates to form an external terminal group. In many cases, of the two substrates, the other substrate is formed so as to be planarly larger than the one substrate, and is formed on the overhanging area of the other substrate that protrudes outside the plate surface of the one substrate. An external terminal group in which a number of external terminals are arranged is formed. The end of the flexible wiring board may be crimped to the external terminal group, or a driver IC or the like may be directly mounted on the external terminal group.

【0003】近年、携帯機器の小型化、軽量化が顕著で
あることから、液晶パネルについても薄型化の要求が高
まっている。このため、液晶パネルを構成する基板も薄
くする必要があるが、基板を薄くすると基板が破損しや
すくなったり、その柔軟性によって曲がりが発生したり
するなど、製造工程において基板の取り扱い難くなる。
上記の基板としては一般に厚さ1mm程度のガラス基板
が用いられるが、厚さは0.7mm程度まで薄くなって
きており、今後さらに薄いガラス基板が要求されると従
来製法では製造がきわめて困難になる。一方、用途によ
っては積層樹脂シートなどからなるプラスチック基板が
用いられる場合もある。プラスチック基板は薄型化が可
能であり、しかも基板自体が破損しにくいことからきわ
めて有望な素材であるが、柔軟性に富むことによって湾
曲しやすいことと、基板価格がガラス基板よりも高いの
が難点である。
In recent years, since the size and weight of portable devices have been remarkably reduced, the demand for thinner liquid crystal panels has been increasing. For this reason, it is necessary to make the substrate constituting the liquid crystal panel thinner. However, when the substrate is made thinner, the substrate is more likely to be damaged, and the flexibility causes bending, so that it is difficult to handle the substrate in the manufacturing process.
As the above substrate, a glass substrate having a thickness of about 1 mm is generally used. However, the thickness has been reduced to about 0.7 mm. Become. On the other hand, a plastic substrate made of a laminated resin sheet or the like is used in some cases. A plastic substrate is a very promising material because it can be made thinner and the substrate itself is not easily damaged, but it is difficult to bend due to its high flexibility, and the cost of the substrate is higher than that of a glass substrate. It is.

【0004】そこで、一部では薄いガラス基板やプラス
チック基板を厚いガラス板などからなる支持部材の表面
上に接着した状態で製造工程を流動させる方法が提案さ
れている。この方法では、支持部材上に基板が接着され
ていることから、基板が割れたり、基板が曲がったりす
ることなく種々の処理を施すことができる。
Accordingly, a method has been proposed in which a manufacturing process is flowed in a state where a thin glass substrate or a plastic substrate is partially adhered to the surface of a support member made of a thick glass plate or the like. In this method, since the substrate is bonded to the support member, various processes can be performed without breaking the substrate or bending the substrate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
にガラス基板とプラスチック基板とは互いに利点と欠点
とを持ち合わせているが、両者の特性を生かすために液
晶パネルの一方の基板としてガラス基板を用い、他方の
基板としてプラスチック基板を用いたハイブリッドパネ
ルを形成することが考えられる。このようにすると、液
晶パネルの剛性をガラス基板によって確保し、プラスチ
ック基板を用いることによって液晶パネルの全体の厚さ
を低減することができる。
Although the glass substrate and the plastic substrate have advantages and disadvantages as described above, a glass substrate is used as one substrate of the liquid crystal panel in order to make use of the characteristics of both. It is conceivable to form a hybrid panel using a plastic substrate as the other substrate. In this case, the rigidity of the liquid crystal panel can be secured by the glass substrate, and the overall thickness of the liquid crystal panel can be reduced by using the plastic substrate.

【0006】しかし、ハイブリッドパネルにおいてはガ
ラス基板とプラスチック基板との間に熱膨張率の差が存
在することから、複数の液晶パネルを一度に作り込むた
めに母基板を用いて製造した場合、二枚の母基板を貼り
合わせたときに両基板の内面上に形成された電極パター
ン領域が相互にずれる、所謂組ズレが発生するという問
題点がある。
However, in a hybrid panel, there is a difference in the coefficient of thermal expansion between a glass substrate and a plastic substrate. When two mother substrates are bonded to each other, there is a problem that the electrode pattern regions formed on the inner surfaces of both substrates are shifted from each other, that is, a so-called misalignment occurs.

【0007】特に、プラスチック基板を上述の支持部材
上に接着して内面上の電極パターンなどを形成し、その
後、プラスチック基板を支持部材上から剥離する方法に
よって製造する場合には、プラスチック基板を支持部材
上に貼着するための粘着テープの熱変形によってプラス
チック基板に大きな寸法変化が発生し、液晶セルに組ズ
レが発生しやすい。また、上記のようなハイブリッドパ
ネルにおいては、プラスチック基板とシール剤との間の
接着強度が比較的弱いため、支持部材上にプラスチック
基板を接着した状態でガラス基板と貼り合わせ、液晶セ
ルを形成すると、その後においてプラスチック基板と支
持部材とを剥離させる際にプラスチック基板が収縮する
ことにより、シール剤との密着性が失われてセル内に気
泡が混入したり、電極パターンなどの断線が発生した
り、或いは、セルギャップの均一性が低下して色ムラが
生じたりするという問題点がある。
Particularly, when the plastic substrate is bonded to the above-mentioned support member to form an electrode pattern or the like on the inner surface, and then the plastic substrate is peeled off from the support member, the plastic substrate is supported. A large dimensional change occurs in the plastic substrate due to thermal deformation of the adhesive tape to be adhered on the member, and the liquid crystal cell is likely to be displaced. Further, in the above-described hybrid panel, since the bonding strength between the plastic substrate and the sealant is relatively weak, when the plastic substrate is bonded to the support member and bonded to the glass substrate to form a liquid crystal cell. Then, when the plastic substrate shrinks when the plastic substrate and the support member are separated from each other, the adhesiveness with the sealant is lost, bubbles are mixed in the cell, and disconnection of the electrode pattern or the like occurs. Alternatively, there is a problem that the uniformity of the cell gap is reduced and color unevenness occurs.

【0008】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、異なる素材の基板により構成され
たハイブリッドパネルなどにおいても、パネルの組ズレ
の発生を抑制することのできる液晶装置の製造方法を提
供することにある。
Accordingly, the present invention is to solve the above-mentioned problem, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of suppressing the occurrence of panel misalignment even in a hybrid panel or the like composed of substrates of different materials. It is to provide a manufacturing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置の製造方法は、一方が他方と異なる
熱伸縮率を有した一対の基板間に液晶を封止して成る液
晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記基板の一方の基板と他方の基板のそれぞれを別々に
支持部材の表面に粘着層を介して粘着した一対の積層体
ユニットを構成し、該一対の積層体ユニットのそれぞれ
において前記基板の一方の基板及び他方の基板に対し
て、電極パターンを形成する電極形成工程と加熱処理工
程とを有する液晶装置の製造方法において、前記電極形
成工程において前記加熱処理工程後に生じる前記基板の
他方の基板の熱変形量を考慮して前記一方の基板に前記
電極パターンを正規寸法に対して補正を加えた寸法で形
成することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is directed to a liquid crystal device in which a liquid crystal is sealed between a pair of substrates, one of which has a different thermal expansion ratio from the other. A method for manufacturing a liquid crystal device for manufacturing a device,
One of the substrates and the other substrate each constitute a pair of laminate units separately adhered to the surface of the support member via an adhesive layer, and in each of the pair of laminate units, one of the substrates is formed. In a method for manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step of forming an electrode pattern and a heat treatment step with respect to a substrate and the other substrate, the heat of the other substrate of the substrate generated after the heat treatment step in the electrode formation step The electrode pattern is formed on the one substrate in a size obtained by adding a correction to a normal size in consideration of a deformation amount.

【0010】この発明によれば、加熱処理工程後に生じ
る前記基板の他方の基板の熱変形量を考慮して前記一方
の基板に前記電極パターンを正規寸法に対して補正を加
えた寸法で形成することにより、加熱処理工程後に二枚
の基板が異なる程度に伸縮しても、二枚の基板間の平面
方向の伸縮差を補償することができるので、内面構造の
パターン形状にズレが生じにくくなることから、液晶装
置の組ズレを低減することができ、液晶装置の歩留まり
を向上させ、色ムラの発生を抑制することができる。
[0010] According to the present invention, the electrode pattern is formed on the one substrate in a size obtained by correcting the normal size on the one substrate in consideration of the amount of thermal deformation of the other substrate generated after the heat treatment step. Thereby, even if the two substrates expand and contract to different degrees after the heat treatment process, the difference in expansion and contraction in the planar direction between the two substrates can be compensated, so that the pattern shape of the inner surface structure is less likely to shift. Therefore, the displacement of the liquid crystal device can be reduced, the yield of the liquid crystal device can be improved, and the occurrence of color unevenness can be suppressed.

【0011】また、本発明の液晶装置の製造方法は、
一方が他方と異なる熱伸縮率を有した一対の基板間に液
晶を封止して成る液晶装置を製造するための液晶装置の
製造方法であって、前記基板の一方の基板と他方の基板
のそれぞれを別々に支持部材の表面に粘着層を介して粘
着した一対の積層体ユニットを構成し、該一対の積層体
ユニットのそれぞれにおいて前記基板の一方の基板及び
他方の基板に対して、電極パターンを形成する電極形成
工程と加熱処理工程とを有する液晶装置の製造方法にお
いて、前記電極形成工程では前記他方の基板の前記熱伸
縮率に基づいて前記一方の基板に前記電極パターンを正
規寸法に対して補正を加えた寸法で形成することを特徴
とする。
Further, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention comprises:
A method of manufacturing a liquid crystal device for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having different thermal expansion and contraction rates from one another, wherein one of the substrates and the other A pair of laminate units each of which is separately adhered to the surface of a support member via an adhesive layer is formed, and in each of the pair of laminate units, an electrode pattern is formed on one of the substrates and the other substrate. In the method of manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step and a heat treatment step, the electrode pattern is formed on the one substrate based on the thermal expansion and contraction rate of the other substrate with respect to a regular size. It is characterized in that it is formed with a dimension corrected by the correction.

【0012】この発明によれば、前記電極形成工程では
前記他方の基板の前記熱伸縮率に基づいて前記一方の基
板に前記電極パターンを正規寸法に対して補正を加えた
寸法で形成することにより、加熱処理工程後に二枚の基
板が異なる程度に伸縮しても、二枚の基板間の平面方向
の伸縮差を補償することができるので、内面構造のパタ
ーン形状にズレが生じにくくなることから、液晶装置の
組ズレを低減することができ、液晶装置の歩留まりを向
上させ、色ムラの発生を抑制することができる。
According to the invention, in the electrode forming step, the electrode pattern is formed on the one substrate in a size obtained by correcting a normal size on the one substrate based on the thermal expansion and contraction rate of the other substrate. Even if the two substrates expand and contract to different extents after the heat treatment step, the difference in expansion and contraction in the planar direction between the two substrates can be compensated, so that the pattern shape of the inner surface structure is less likely to shift. In addition, misalignment of the liquid crystal device can be reduced, the yield of the liquid crystal device can be improved, and the occurrence of color unevenness can be suppressed.

【0013】さらに、本発明の液晶装置の製造方法は、
一方が他方と異なる熱伸縮率を有した一対の基板間に液
晶を封止して成る液晶装置を製造するための液晶装置の
製造方法であって、前記基板の一方の基板と他方の基板
のそれぞれを別々に支持部材の表面に粘着層を介して粘
着した一対の積層体ユニットを構成し、該一対の積層体
ユニットのそれぞれにおいて前記基板の一方の基板及び
他方の基板に対して、電極パターンを形成する電極形成
工程と加熱処理工程とを有する液晶装置の製造方法にお
いて、前記電極形成工程では前記一方の基板の前記電極
パターンの寸法を、前記一方の基板と他方の基板との前
記熱伸縮率の違いによる前記基板の寸法変化に対応した
長さで形成することを特徴とする。
Further, the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention comprises:
A method of manufacturing a liquid crystal device for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates having different thermal expansion and contraction rates from one another, wherein one of the substrates and the other A pair of laminate units each of which is separately adhered to the surface of a support member via an adhesive layer is formed, and in each of the pair of laminate units, an electrode pattern is formed on one of the substrates and the other substrate. In the method of manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step of forming a substrate and a heat treatment step, in the electrode forming step, the dimension of the electrode pattern of the one substrate is reduced by the thermal expansion and contraction between the one substrate and the other substrate. It is characterized in that it is formed with a length corresponding to a dimensional change of the substrate due to a difference in rate.

【0014】この発明によれば、前記電極形成工程では
前記一方の基板の前記電極パターンの寸法を、前記一方
の基板と他方の基板との前記熱伸縮率の違いによる前記
基板の寸法変化に対応した長さで形成することにより、
加熱処理工程後に二枚の基板が異なる程度に伸縮して
も、二枚の基板間の平面方向の伸縮差を補償することが
できるので、内面構造のパターン形状にズレが生じにく
くなることから、液晶装置の組ズレを低減することがで
き、液晶装置の歩留まりを向上させ、色ムラの発生を抑
制することができる。
According to the invention, in the electrode forming step, the dimension of the electrode pattern on the one substrate is adjusted to a dimensional change of the substrate due to a difference in the thermal expansion and contraction rate between the one substrate and the other substrate. By forming with a length that is
Even if the two substrates expand and contract to different extents after the heat treatment step, the difference in the expansion and contraction in the planar direction between the two substrates can be compensated, so that the pattern shape of the inner surface structure is less likely to shift, The misalignment of the liquid crystal device can be reduced, the yield of the liquid crystal device can be improved, and the occurrence of color unevenness can be suppressed.

【0015】上記各発明において、前記一方の基板及び
前記他方の基板はそれぞれ複数の液晶パネル分の電極パ
ターンを形成できる大きさを有し、前記一方の基板の前
記電極形成工程では複数の液晶パネル分の電極パターン
間の間隔に正規寸法からの補正が加えられることがあ
る。
In each of the above inventions, the one substrate and the other substrate each have a size capable of forming an electrode pattern for a plurality of liquid crystal panels, and a plurality of liquid crystal panels are formed in the electrode forming step of the one substrate. Correction from the normal size may be added to the interval between the minute electrode patterns.

【0016】上記各発明において、前記電極形成工程は
マスクパターンを通しての露光処理を含むフォトリソグ
ラフィー法を用いて行われ、電極パターンに関する前記
の補正は前記露光処理における露光位置の調整によって
行われることがある。
In each of the above inventions, the electrode forming step is performed using a photolithography method including an exposure process through a mask pattern, and the correction for the electrode pattern is performed by adjusting an exposure position in the exposure process. is there.

【0017】上記各発明において、前記加熱処理工程と
して配向膜焼成工程を含み、前記電極パターンに関する
補正は少なくともこの配向膜焼成工程後における前記他
方の基板の変形を考慮して行われることがある。
In each of the above inventions, the heat treatment step may include an alignment film firing step, and the correction of the electrode pattern may be performed in consideration of at least deformation of the other substrate after the alignment film firing step.

【0018】上記各発明において、前記基板は共に矩形
状の平面形状を備え、前記基板における二組の対向辺に
沿った二つの方向毎に前記熱伸縮差を算定して、前記二
つの方向毎に前記熱伸縮差を補償するように前記一方の
基板に前記電極パターンを正規寸法に対して補正が加え
られることが好ましい。
In each of the above inventions, each of the substrates has a rectangular planar shape, and the difference in thermal expansion and contraction is calculated for each of two directions along two sets of opposing sides of the substrate, and each of the two directions is calculated. Preferably, the electrode pattern is corrected on the one substrate to a regular size so as to compensate for the thermal expansion difference.

【0019】本発明によれば、矩形状の平面形状を備え
た基板を用いる場合においては、特に二組の対向辺に沿
った二方向毎に伸縮差を補償するようにすることによっ
て、より正確な伸縮差の補償を行うことができる。矩形
状の基板は液晶装置の製造工程において常用されてお
り、このような基板を用いて液晶装置を製造する場合、
二組の対向辺に沿った二方向に見て、相互に伸縮率が異
なることが確認されている。この原因は必ずしも定かで
はないが、二組の対向辺が相互に異なる長さを有するこ
と、基板上に形成される内部構造のパターン形状に方向
性が存在することなどが原因であると思われる。
According to the present invention, when a substrate having a rectangular planar shape is used, the difference in expansion and contraction is compensated for in each of two directions, particularly along two sets of opposing sides. It is possible to compensate for a large difference in expansion and contraction. A rectangular substrate is commonly used in a manufacturing process of a liquid crystal device, and when manufacturing a liquid crystal device using such a substrate,
When viewed in two directions along the two opposite sides, it has been confirmed that the expansion ratios are different from each other. Although the cause is not always clear, it seems to be due to the fact that the two sets of opposing sides have different lengths from each other, and the presence of directionality in the pattern shape of the internal structure formed on the substrate. .

【0020】上記各発明において、前記基板の一方の基
板はガラス基板であり、他方の基板はプラスチックフィ
ルム基板であることが好ましい。
In each of the above inventions, it is preferable that one of the substrates is a glass substrate and the other substrate is a plastic film substrate.

【0021】この発明によれば、ガラス基板は剛性が高
いけれども脆性があり、薄くすると破損しやすいのに対
し、プラスチック基板は柔軟で破損しにくいため薄くす
ることができる一方で変形しやすいので、ガラス基板と
プラスチック基板とを貼り合わせて液晶装置を構成する
ことによって、ガラス基板によって剛性を確保し、プラ
スチック基板によって薄型化を図ることができる。この
場合、特にプラスチック基板の柔軟性による変形が問題
となるが、上記のように支持部材上に接着することによ
って確実に製造工程において流動させることができ、ま
た、支持部材上にて基板の貼り合わせを行う場合にはセ
ル構造をより高精度に形成することができる。このよう
にガラス基板とプラスチック基板を用いる場合には、両
基板間において基板素材による加熱処理を起因とする伸
縮差が発生しやすいため、上記手段は特に有効である。
According to the present invention, the glass substrate has high rigidity but is brittle, and is easily broken when it is thin. On the other hand, the plastic substrate is flexible and hard to be broken, so that it can be thinned and easily deformed. By forming a liquid crystal device by bonding a glass substrate and a plastic substrate, rigidity can be ensured by the glass substrate and thinning can be achieved by the plastic substrate. In this case, deformation of the plastic substrate due to the flexibility is a problem. However, by adhering to the support member as described above, the plastic substrate can be made to flow reliably in the manufacturing process. When the alignment is performed, the cell structure can be formed with higher precision. In the case where a glass substrate and a plastic substrate are used as described above, the above-described means is particularly effective because a difference in expansion and contraction due to heat treatment by the substrate material easily occurs between the two substrates.

【0022】上記各発明において、前記基板の内面上に
は、複数の電極と、該電極に接続された複数並列する電
極配線とを形成し、相互に平面的に重なるように配置さ
れた、前記基板の一方における前記電極配線の端子部
と、前記基板の他方における外部端子の内側接続部とが
上下導通体を介して導電接続されるように構成し、前記
端子部と前記内側接続部のうちの一方を他方よりも広幅
に形成することが望ましいこの発明によれば、基板の一
方の電極を基板の他方に形成された外部端子群に含まれ
る外部端子に導電接続するために、上下導通体を介して
基板の一方の端子部と基板の他方の内側接続部とが導電
接続されるように構成する場合、端子部と内側接続部の
うちの一方を他方よりも広幅に形成することによって、
基板間に上記伸縮差が生じても、隣接部に対する短絡の
可能性を抑制しつつコンタクト面積の低下を防止するこ
とができ、確実な上下導通を行うことができる。
In each of the above inventions, a plurality of electrodes and a plurality of parallel electrode wirings connected to the electrodes are formed on the inner surface of the substrate, and are arranged so as to overlap each other in a plane. A terminal portion of the electrode wiring on one side of the substrate and an inner connection portion of an external terminal on the other side of the substrate are configured to be conductively connected via a vertical conductor, and the terminal portion and the inner connection portion According to the present invention, it is desirable to form one of the two electrodes wider than the other, in order to electrically connect one of the electrodes of the substrate to the external terminals included in the external terminal group formed on the other of the substrate. When configured so that one terminal portion of the substrate and the other inside connection portion of the substrate are conductively connected via, by forming one of the terminal portion and the inside connection portion to be wider than the other,
Even if the difference in expansion and contraction occurs between the substrates, it is possible to prevent a decrease in the contact area while suppressing the possibility of a short circuit to an adjacent portion, and to perform reliable vertical conduction.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】[第1実施形態]次に、上述の本
発明に係る第1実施形態について説明する。図1はプラ
スチック基板11が接着シート20を介して支持部材3
0に接着されている状態を示す模式的な概略斜視図であ
る。このプラスチック基板11は多数の電極パターン領
域11xが配列されるように設定された母基板であり、
ガラス板などの高い剛性を備えた支持部材30の平坦な
表面上に接着されている。
[First Embodiment] Next, a first embodiment according to the present invention will be described. FIG. 1 shows that the plastic substrate 11 is supported by the support member 3 via the adhesive sheet 20.
FIG. 2 is a schematic perspective view schematically showing a state where it is adhered to a “0”. The plastic substrate 11 is a mother substrate set so that a large number of electrode pattern regions 11x are arranged.
It is adhered on a flat surface of a support member 30 having high rigidity such as a glass plate.

【0024】接着シート20は表裏両面に粘着層を備え
た所謂両面テープであり、ポリエステルフィルムなどか
らなる基材の表裏に粘着層を形成したものである。後の
剥離作業を考慮すると、接着シート20として紫外線や
電子線などの活性エネルギー線の照射や加熱などの種々
の後処理により粘着力を低下させる性質を備えたものを
用いることが好ましい。特に、基材の図示表面側に形成
される、プラスチック基板11を貼着するための粘着層
としては、加熱処理によって樹脂が発泡して粘着力を失
う熱剥離性の粘着剤を用いることが望ましい。この種の
粘着剤は加熱により粘着力が0.1N/20mm以下と
きわめて低くなるため、後述する基板の貼り合わせ工程
後に基板を搬送用に用いる支持部材から剥離させる場合
でも、剥離時に液晶セルに大きな応力を及ぼす危険性が
少なく、液晶セルの破損や変形を来す可能性を低減でき
るからである。この種の粘着剤の例としては、熱剥離シ
ート「リバアルファ」(日東電工株式会社製、商標)が
ある。
The adhesive sheet 20 is a so-called double-sided tape having an adhesive layer on both sides, and is formed by forming an adhesive layer on the front and back of a base material made of a polyester film or the like. In consideration of the subsequent peeling operation, it is preferable to use an adhesive sheet 20 having a property of reducing the adhesive strength by various post-treatments such as irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams and heating. In particular, it is desirable to use a heat-peelable pressure-sensitive adhesive, which is formed on the illustrated surface side of the base material and adheres to the plastic substrate 11 so that the resin foams by heat treatment and loses its adhesive strength. . Since this kind of adhesive has an extremely low adhesive strength of 0.1 N / 20 mm or less due to heating, even when the substrate is peeled off from the support member used for transport after the substrate bonding step described later, the adhesive is applied to the liquid crystal cell at the time of peeling. This is because there is little danger of applying a large stress, and the possibility that the liquid crystal cell is damaged or deformed can be reduced. As an example of this type of pressure-sensitive adhesive, there is a heat-releasable sheet “Riba Alpha” (trade name, manufactured by Nitto Denko Corporation).

【0025】プラスチック基板11は合成樹脂を含む種
々のものを用いることができるが、特に、少なくとも1
層の耐透気性層と、少なくとも1層の架橋性樹脂硬化物
層とを有するものであることが好ましい。耐透気性層と
しては、ビニルアルコール系樹脂(特にエチレン−ビニ
ルアルコール共重合体)、アクリロニトリル系樹脂、塩
化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂などの樹脂層
や、SiO、SiO(1<x<2)、Al
Fe、MgCO、CeO、ZnO、Ti
、ZrO、ITO、BaTiO、LiNb
、KTaO、PbO、アルミン酸カルシウム、ガ
ラスなど、或いはこれらの混合物などの透明無機物層な
どが挙げられる。
Various materials including a synthetic resin can be used for the plastic substrate 11, but in particular, at least one
It is preferable that the layer has at least one air-permeable layer and at least one crosslinked resin cured material layer. Examples of the air-permeable layer include resin layers of vinyl alcohol-based resin (particularly, ethylene-vinyl alcohol copolymer), acrylonitrile-based resin, vinylidene chloride-based resin, polyamide-based resin, and SiO 2 , SiO x (1 <x < 2), Al 2 O 3 ,
Fe 2 O 3 , MgCO 3 , CeO 2 , ZnO, Ti
O 2 , ZrO 2 , ITO, BaTiO 3 , LiNb
A transparent inorganic material layer such as O 3 , KTaO 3 , PbO, calcium aluminate, glass, or a mixture thereof may be used.

【0026】また、架橋性樹脂硬化物層としては、フェ
ノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル
樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、ウレタン樹脂などの加熱硬化型樹脂があり、特
に、フェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。こ
の場合、イソシアネート基、カルボキシル基、メルカブ
ト基など活性水素と反応し得る架橋剤を配合することが
望ましい。また、架橋性樹脂硬化物層としては活性エネ
ルギー線硬化型樹脂もあり、たとえば紫外線硬化型樹脂
としては、光重合性を有するプレポリマー及び/又はモ
ノマーに、必要に応じ他の単官能又は多官能性モノマ
ー、各種ポリマー、光重合開始剤(アセトフェノン類、
ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾ
イン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール類、チオ
キサントン類など)、増感剤(アミン類、ジエチルアミ
ノエチルメタクリレートなど)などを配合した樹脂組成
物が用いられる。ポリエステルアクリレート、ポリエス
テルウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リオールアクリレートなどが例示される。
As the crosslinked resin cured material layer, there are heat-curable resins such as phenoxy ether type crosslinkable resin, epoxy resin, acrylic resin, acrylic epoxy resin, melamine resin, phenol resin and urethane resin. Phenoxy ether type crosslinkable resins are important. In this case, it is desirable to add a crosslinking agent capable of reacting with active hydrogen such as an isocyanate group, a carboxyl group, and a mercapto group. There is also an active energy ray-curable resin as the crosslinked resin cured material layer. For example, as the ultraviolet-curable resin, a photopolymerizable prepolymer and / or a monomer may be added, if necessary, to another monofunctional or polyfunctional resin. Monomer, various polymers, photopolymerization initiator (acetophenones,
A resin composition containing benzophenones, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyl ketals, thioxanthones, and the like, and a sensitizer (amines, diethylaminoethyl methacrylate, and the like) is used. Examples thereof include polyester acrylate, polyester urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyol acrylate.

【0027】図5は、本実施形態における概略の製造工
程を示すものである。上述のように図5(a)に示す支
持部材30上に接着された状態で、プラスチック基板1
1には種々の処理が施される。プラスチック基板11の
表面上にITOなどからなる透明導電膜などの導電層を
形成し、この導電層をパターニングして電極(例えば一
般にセグメント電極、コモン電極のいずれか一方、或い
は、画素電極、対向電極のいずれか一方)を形成する電
極形成工程、電極上にさらに樹脂を形成してから焼成
し、ポリイミド樹脂などの配向膜を形成する配向膜形成
工程、配向膜上にラビング処理などを施す配向処理工程
などである。これらの工程はいずれもプラスチック基板
11の内面上に内面構造を形成するための諸工程であ
る。
FIG. 5 shows a schematic manufacturing process in this embodiment. As described above, the plastic substrate 1 is bonded to the support member 30 shown in FIG.
Various processes are performed on 1. A conductive layer such as a transparent conductive film made of ITO or the like is formed on the surface of the plastic substrate 11, and the conductive layer is patterned to form an electrode (eg, generally one of a segment electrode and a common electrode, or a pixel electrode, a counter electrode, etc.). Electrode forming step for forming an alignment film, forming an alignment film such as a polyimide resin after baking after forming a resin on the electrode, and alignment processing for performing a rubbing process or the like on the alignment film. Process. These steps are all steps for forming an inner surface structure on the inner surface of the plastic substrate 11.

【0028】なお、接着シート20の耐熱温度が電極を
構成するための(透明)導電層の形成温度と同等か或い
はそれよりも低い場合には、プラスチック基板11を支
持部材30上に接着するよりも前にプラスチック基板1
1の表面上に導電層を形成する。
When the heat-resistant temperature of the adhesive sheet 20 is equal to or lower than the formation temperature of the (transparent) conductive layer for forming the electrode, the plastic substrate 11 is not bonded to the support member 30. Plastic substrate 1
A conductive layer is formed on the surface of the substrate;

【0029】また、図示しないガラス基板12において
も、上記と同様に電極や配向膜などの内面構造の形成工
程を実施する。ガラス基板12として通常の0.7〜
1.2mm程度の厚さのガラスを用いる場合には支持部
材30上に接着する必要はなく、通常の製造工程と同様
に流動させることができる。
Also on the glass substrate 12 (not shown), a step of forming an inner surface structure such as an electrode and an alignment film is performed in the same manner as described above. 0.7 to 0.7
When glass having a thickness of about 1.2 mm is used, it is not necessary to adhere to the support member 30 and the glass can be flowed in the same manner as in a normal manufacturing process.

【0030】次に、上記工程が終了した後にプラスチッ
ク基板11を支持部材30上から剥離する場合もある
が、そのまま次の工程に進む場合もある。ここでは、プ
ラスチック基板をそのまま支持部材上に接着させた状態
で次の工程に進む場合について説明する。
Next, the plastic substrate 11 may be peeled off from the support member 30 after the above steps are completed, but the process may proceed to the next step as it is. Here, a case will be described where the process proceeds to the next step in a state where the plastic substrate is directly adhered to the support member.

【0031】上記のように、透明導電体などからなる電
極及び配向膜や絶縁膜を形成し、配向処理したガラス基
板12の内面上の所定位置に、所定領域の周囲を取り巻
くような態様で後述するシール材を配置し、スペーサを
散布する。そして、図5(b)に示すように、このガラ
ス基板12の内面上に支持部材30上のプラスチック基
板11の表面を対向させる。そして、両基板をカメラ3
1,32及び図示しない機構などからなる位置決め手段
によって位置決めして、シール材を介してプラスチック
基板11とガラス基板12とを貼り合わせる。ここで、
図5(c)は本実施形態におけるプラスチック基板11
とガラス基板12の貼り合わせ工程において両基板を重
ねた状態を示すものである。双方の母基板にはそれぞれ
二つ以上の位置決めマーク11y,12yが予め形成さ
れており、この位置決めマーク11yと12yとをカメ
ラ31,32によって観察しながら重ね合わせることに
よって両基板の相対的な位置決めを行う。その後、シー
ル材を加熱処理、光照射などによって硬化させて液晶セ
ルを完成させた後に、プラスチック基板11を支持部材
30上から剥離する。
As described above, an electrode made of a transparent conductor or the like and an alignment film or an insulating film are formed, and are formed at predetermined positions on the inner surface of the glass substrate 12 which has been subjected to the alignment treatment so as to surround a predetermined region. The sealing material to be used is arranged, and the spacers are sprayed. Then, as shown in FIG. 5B, the surface of the plastic substrate 11 on the support member 30 is opposed to the inner surface of the glass substrate 12. Then, both boards are connected to camera 3
The plastic substrate 11 and the glass substrate 12 are bonded to each other via a sealing material by positioning them by positioning means including the components 1 and 32 and a mechanism (not shown). here,
FIG. 5C shows the plastic substrate 11 in the present embodiment.
2 shows a state in which both substrates are overlapped in a bonding step of the glass substrate 12 and the glass substrate 12. At least two positioning marks 11y and 12y are formed in advance on both mother boards, respectively, and the positioning marks 11y and 12y are superimposed while observing them with the cameras 31 and 32 so that the relative positioning of the two boards is performed. I do. After that, the sealing material is cured by heat treatment, light irradiation, or the like to complete the liquid crystal cell, and then the plastic substrate 11 is separated from the support member 30.

【0032】もちろん、上記の製造工程は本発明の一例
に過ぎないものであり、プラスチック基板11の支持部
材30からの剥離工程を、内面構造を形成した後であっ
て、ガラス基板12と貼り合わせる前に行ってもよい。
Of course, the above manufacturing process is merely an example of the present invention, and the step of peeling the plastic substrate 11 from the support member 30 is performed after the inner surface structure is formed, and the plastic substrate 11 is bonded to the glass substrate 12. You may go before.

【0033】次に、公知のように、プラスチック基板1
1の一部を除去して上記の液晶セルにシール材の開口部
から液晶を注入し、シール材の開口部を封止し、各電極
パターン領域を個々に切断して分離させることによって
図2及び図3に示す液晶パネル10が形成される。な
お、図2及び図3に示す液晶パネル10は上記の母基板
から個々に分離された後であって偏光板などを貼着する
前の状態を示すものであり、実際には上述の液晶セルを
完成させ、各電極パターン領域間を分離する前の時点で
は、図2に一点鎖線で示す如く大判のプラスチック基板
11と大判のガラス基板12とが貼り合わせられた状態
となっている。
Next, as is well known, the plastic substrate 1
1 is removed, liquid crystal is injected into the liquid crystal cell from the opening of the sealing material, the opening of the sealing material is sealed, and each electrode pattern region is individually cut and separated as shown in FIG. And the liquid crystal panel 10 shown in FIG. 3 is formed. The liquid crystal panel 10 shown in FIG. 2 and FIG. 3 shows a state after being separated from the mother substrate and before attaching a polarizing plate or the like. Is completed, and before separating the electrode pattern regions, a large-sized plastic substrate 11 and a large-sized glass substrate 12 are bonded to each other as shown by a chain line in FIG.

【0034】この液晶パネル10においては、プラスチ
ック基板11を一方の基板とするパネル基板11’とガ
ラス基板12を他方の基板とするパネル基板12’がシ
ール材13によって対向して接着されており、シール材
13によって囲まれた領域(液晶封入領域10A)の基
板間に液晶が注入されている。パネル基板11’の内面
(対向面)上には電極14及び配向膜16が積層され、
パネル基板12’の内面(対向面)上には電極15及び
配向膜17が積層されている。パネル基板11’の電極
14は電極配線として液晶封入領域10Aからシール材
13の接着部分まで、或いは接着部分を通過して外部へ
と導出され、その先端部に後述する端子部が設けられて
いる。
In this liquid crystal panel 10, a panel substrate 11 ′ having a plastic substrate 11 as one substrate and a panel substrate 12 ′ having a glass substrate 12 as the other substrate are adhered to each other by a sealing material 13. Liquid crystal is injected between the substrates in a region surrounded by the sealing material 13 (liquid crystal sealing region 10A). An electrode 14 and an alignment film 16 are stacked on the inner surface (opposing surface) of the panel substrate 11 ',
The electrode 15 and the alignment film 17 are stacked on the inner surface (opposing surface) of the panel substrate 12 '. The electrode 14 of the panel substrate 11 ′ is led out as an electrode wiring from the liquid crystal enclosing area 10 A to the bonding portion of the sealing material 13 or through the bonding portion to the outside, and a terminal portion described later is provided at a tip portion thereof. .

【0035】パネル基板12’はパネル基板11’より
も大きなパネル領域を備え、パネル基板11’の板面
(外形)よりも外側に張り出した張出領域12’aを備
えている。このパネル基板12’の張出領域12’aの
表面上には、上記電極配線に接続された複数の外部端子
からなる外部端子群19が形成されている。パネル基板
12’の電極15も電極配線として液晶封入領域からシ
ール材13の接着部分を通過して外部へと導出され、そ
の先端部はそのまま外部端子群19の各外部端子に接続
されている。
The panel substrate 12 'has a panel area larger than the panel substrate 11', and has an extended area 12'a which extends outside the plate surface (outer shape) of the panel substrate 11 '. An external terminal group 19 composed of a plurality of external terminals connected to the electrode wiring is formed on the surface of the overhang region 12'a of the panel substrate 12 '. The electrodes 15 of the panel substrate 12 ′ are also led out of the liquid crystal sealing region as electrode wirings through the adhesive portion of the sealing material 13, and their leading ends are directly connected to the external terminals of the external terminal group 19.

【0036】パネル基板11’の電極14に接続された
電極配線の端子部は、上記外部端子群19における一部
の外部端子における後述する内側接続部に平面的に重な
るように配置されており、端子部と外部端子の内側接続
部とは導電ペーストや異方性導電膜などによって形成さ
れる上下導通体130を介して相互に導電接続されてい
る。
The terminal portion of the electrode wiring connected to the electrode 14 of the panel substrate 11 ′ is arranged so as to planarly overlap with an inner connecting portion, which will be described later, of some of the external terminals in the external terminal group 19. The terminal portion and the inside connection portion of the external terminal are conductively connected to each other via a vertical conductor 130 formed of a conductive paste, an anisotropic conductive film, or the like.

【0037】以上説明した本実施形態においては、図4
(a)に示すように、支持部材30上のプラスチック基
板11の内面上に設定された液晶パネルに対応する電極
パターン領域11xを配列させてなる内面構造(電極パ
ターン)形成部11zにおいて電極、絶縁膜、電極配
線、配向膜などが所定のパターン形状で順次形成され
る。一方、ガラス基板12の内面上においても同様に、
電極パターン領域12xを多数配列させてなる内面構造
形成部12zにおいて電極、絶縁膜、電極配線、配向膜
などが所定のパターン形状で順次形成される。
In the embodiment described above, FIG.
As shown in (a), the electrode and the insulation are formed in an inner surface structure (electrode pattern) forming portion 11z in which electrode pattern regions 11x corresponding to the liquid crystal panel set on the inner surface of the plastic substrate 11 on the support member 30 are arranged. A film, an electrode wiring, an alignment film and the like are sequentially formed in a predetermined pattern shape. On the other hand, also on the inner surface of the glass substrate 12,
Electrodes, insulating films, electrode wiring, alignment films and the like are sequentially formed in a predetermined pattern shape in the inner surface structure forming portion 12z in which a large number of electrode pattern regions 12x are arranged.

【0038】これらの電極パターン領域11x,12x
は、図3に一点鎖線で示すように一つの液晶パネル10
毎における各パネル基板11’,12’の内面上に形成
した電極14,15及び配線構造のパターンが形成され
ている母基板11,12の領域を言う。したがって、電
極パターン領域一つについて一つの液晶パネルが対応し
ている。また、母基板であるプラスチック基板11及び
ガラス基板12の内面構造形成部11z,12z内に
は、各電極パターン領域11x,12xの間に電極1
4,15や配線の形成されていない間隔部分が存在す
る。なお、この電極パターン領域は以下の説明のために
便宜上定めたものである。
These electrode pattern areas 11x, 12x
Represents one liquid crystal panel 10 as shown by a dashed line in FIG.
Each region refers to a region of the mother substrates 11, 12 in which the electrodes 14, 15 formed on the inner surface of each of the panel substrates 11 ', 12' and the wiring structure pattern are formed. Therefore, one liquid crystal panel corresponds to one electrode pattern region. In the inner surface structure forming portions 11z and 12z of the plastic substrate 11 and the glass substrate 12, which are the mother substrates, the electrode 1 is located between the electrode pattern regions 11x and 12x.
There are gaps 4 and 15 and intervals where no wiring is formed. The electrode pattern region is defined for convenience in the following description.

【0039】上記の製造工程においては、透明電極の成
膜時や配向膜の焼成時などにおいてプラスチック基板1
1がたとえば100〜150℃程度に加熱される場合が
ある。例えば、上記のプラスチック基板11には、支持
部材30上に接着された状態で、電極14の表面上に配
向膜16が形成される。配向膜16の焼成温度及び焼成
時間は例えば約120℃、2時間である。同様に他方の
基板であるガラス基板12にも同様に対向電極15、配
向膜17が形成され、このガラス基板12に対しても配
向膜17の焼成が行われる。その後、プラスチック基板
11を支持部材30上から剥離させると、上記の配向膜
16の焼成時の加熱を受けたプラスチック基板11は支
持部材30による支えを失って収縮する。なお、上記の
説明は配向膜の焼成時の加熱処理工程に関するものであ
るが、同様に、支持部材30上で透明導電体により電極
14を成膜する場合には、この成膜時にもプラスチック
基板11は加熱を受ける。ITO(インジウム錫酸化
物)などの透明導電体は蒸着やスパッタリング法によっ
て成膜されるが、一般に100〜150℃程度に加熱し
ないと充分に抵抗値が低下しない。
In the above-described manufacturing process, the plastic substrate 1 may be used for forming a transparent electrode or firing an alignment film.
1 may be heated to, for example, about 100 to 150 ° C. For example, the alignment film 16 is formed on the surface of the electrode 14 on the plastic substrate 11 in a state where the alignment film 16 is bonded to the support member 30. The firing temperature and the firing time of the alignment film 16 are, for example, about 120 ° C. and 2 hours. Similarly, the counter electrode 15 and the alignment film 17 are similarly formed on the other substrate, the glass substrate 12, and the alignment film 17 is also baked on the glass substrate 12. Thereafter, when the plastic substrate 11 is separated from the support member 30, the plastic substrate 11 that has been heated at the time of firing the alignment film 16 loses the support of the support member 30 and contracts. Note that the above description relates to the heat treatment step at the time of firing the alignment film. Similarly, when the electrode 14 is formed by a transparent conductor on the support member 30, the plastic substrate is also formed at the time of this film formation. 11 is heated. Transparent conductors such as ITO (indium tin oxide) are formed by vapor deposition or sputtering, but generally the resistance does not decrease sufficiently unless heated to about 100 to 150 ° C.

【0040】上記のように、プラスチック基板11の材
質にも依るが、通常は加熱によってプラスチック基板1
1は或る程度収縮するのに対して、ガラス基板12は加
熱によってはほとんど収縮することはないので、プラス
チック基板11の内面上に形成された内面構造パターン
と、ガラス基板12の内面上に形成された内面構造パタ
ーンとの間にパターンズレが発生する可能性がある。本
実施形態では特にプラスチック基板11が支持部材30
に接着された状態で加熱処理を受けるため、図1に示す
接着シート20の粘着層が強く収縮し、プラスチック基
板11の収縮を増長させ、支持部材30上においてプラ
スチック基板11の内部応力を高める。このため、加熱
処理を経たプラスチック基板11を支持部材30上から
剥離させたときにプラスチック基板11は元の寸法(正
規寸法)に対して伸縮する。
As described above, although depending on the material of the plastic substrate 11, the plastic substrate 1 is usually heated.
1 shrinks to some extent, while the glass substrate 12 hardly shrinks by heating, so that the inner surface structure pattern formed on the inner surface of the plastic substrate 11 and the inner surface pattern formed on the inner surface of the glass substrate 12 There is a possibility that pattern misalignment may occur with the inner surface structure pattern that has been set. In this embodiment, in particular, the plastic substrate 11 is
Since the adhesive layer of the adhesive sheet 20 shown in FIG. 1 is subjected to a heat treatment in a state where it is adhered, the adhesive layer of the adhesive sheet 20 shown in FIG. For this reason, when the plastic substrate 11 that has undergone the heat treatment is peeled off from the support member 30, the plastic substrate 11 expands and contracts to its original size (regular size).

【0041】そこで本実施形態では、ガラス基板12の
内面上に設定される内面構造形成部12zのパターン寸
法AG×BGを、プラスチック基板11の熱収縮を考慮
してあらかじめ補正をかけ内面上に形成する内面構造形
成部11zのパターン寸法AP×BPに対して予め小さ
く形成しておく。この場合、当初設計時のパターン寸
法、すなわち、正規寸法に対して内面構造形成部12z
を小さくしてもよく、逆に内面構造形成部11zを大き
く形成しておいてもよい。また、内面構造形成部内面構
造形成部11z,12zのいずれか一方のみを寸法変化
させてもよく、或いは、双方を共に寸法変化させてもよ
い。
Therefore, in this embodiment, the pattern dimension AG × BG of the inner surface structure forming portion 12z set on the inner surface of the glass substrate 12 is formed on the inner surface by correcting in advance in consideration of the heat shrinkage of the plastic substrate 11. It is previously formed smaller than the pattern dimension AP × BP of the inner surface structure forming portion 11z to be formed. In this case, the inner surface structure forming portion 12z has a pattern dimension at the time of the initial design, that is, a regular dimension.
May be reduced, and conversely, the inner surface structure forming portion 11z may be formed larger. Further, only one of the inner surface structure forming portions 11z and 12z may be changed in size, or both may be changed in size.

【0042】特に、パターン寸法AG×BGとAP×B
Pとの関係については、たとえば、製造工程を経る前に
プラスチック基板11の内面構造形成部11zとガラス
基板12の内面構造形成部12zとが同一寸法である場
合には、加熱処理などがなされた製造後の両構造部の熱
収縮による寸法差を多数計測し、その計測データ群の統
計的処理によって算出される収縮度合いの標準値から図
示縦方向の伸縮比P=(AG−AP)/AGと、図示横
方向の伸縮比T=(BG−BP)/BGとを別々に求め
る。このようにして得られた統計的標準値に基づいて、
製造工程前のガラス基板12の内面構造形成部12zを
縦方向と横方向とについて別々に(1−P)倍、(1−
T)倍した倍率で寸法設定する。このことによってプラ
スチック基板11とガラス基板12の熱に起因する伸縮
差を補償することができ、支持部材30から剥離した後
のプラスチック基板11の収縮による液晶パネルの組ズ
レを低減することができる。
In particular, the pattern dimensions AG × BG and AP × B
Regarding the relationship with P, for example, when the inner surface structure forming portion 11z of the plastic substrate 11 and the inner surface structure forming portion 12z of the glass substrate 12 have the same dimensions before the manufacturing process, a heat treatment or the like is performed. A large number of dimensional differences due to thermal shrinkage of both structural parts after manufacturing are measured, and a standard expansion / shrinkage ratio P = (AG−AP) / AG in the drawing is calculated from a standard value of the degree of shrinkage calculated by statistical processing of the measurement data group. And the expansion / contraction ratio T = (BG−BP) / BG in the illustrated horizontal direction are separately obtained. Based on the statistical standard obtained in this way,
The inner surface structure forming portion 12z of the glass substrate 12 before the manufacturing process is separately (1-P) times and (1-P) in the vertical direction and the horizontal direction.
T) Set the dimensions at the multiplied magnification. This makes it possible to compensate for a difference in expansion and contraction caused by heat between the plastic substrate 11 and the glass substrate 12, and to reduce misalignment of the liquid crystal panel due to shrinkage of the plastic substrate 11 after being separated from the support member 30.

【0043】特に、上記のように、矩形状の基板を用い
る場合に縦方向と横方向の伸縮度をそれぞれ求め、縦横
別々にパターン寸法を予め調整しておくことにより、後
述するようにパターンズレに起因する製品不良或いは性
能低下をさらに低減できる。
In particular, as described above, when a rectangular substrate is used, the degree of expansion and contraction in the vertical direction and the horizontal direction are obtained, and the pattern dimensions are adjusted separately in the vertical and horizontal directions. The product failure or performance degradation due to the above can be further reduced.

【0044】本実施形態の場合にはガラス基板12の熱
による伸縮は通常無視できるので、プラスチック基板1
1自体の伸縮度P=(1−AP)/AP(AP
は製造工程前のプラスチック基板の寸法、APは製造
工程後のプラスチック基板の寸法)及びT=(1−B
)/BP(BPは製造工程前のプラスチック基
板の寸法、BPは製造工程後のプラスチック基板の寸
法)にのみ基づいて、内面構造形成部11zのパターン
寸法及び/又は内面構造形成部12zのパターン寸法を
変えて補償する。例えば、内面構造形成部12zのみを
変える場合には、元のパターン寸法にそれぞれ(1−P
)倍、(1−T)倍した寸法として内部構造を形成
してプラスチック基板11の収縮に対する補償を行う。
In this embodiment, since the expansion and contraction of the glass substrate 12 due to heat can be generally ignored, the plastic substrate 1
1 itself stretch degree P 0 = (1−AP 1 ) / AP 0 (AP 0
The dimensions of the plastic substrate prior to the manufacturing process, the dimensions of the plastic substrate after AP 1 manufacturing process) and T 0 = (1-B
Only based on P 1 ) / BP 0 (BP 0 is the size of the plastic substrate before the manufacturing process, BP 1 is the size of the plastic substrate after the manufacturing process), the pattern size of the inner surface structure forming portion 11z and / or the inner surface structure formation The compensation is performed by changing the pattern size of the portion 12z. For example, when only the inner surface structure forming portion 12z is changed, the original pattern size is changed to (1-P
The internal structure is formed to have a size multiplied by ( 0 ) times and (1-T 0 ) to compensate for shrinkage of the plastic substrate 11.

【0045】本発明者が実際に図示縦方向の長さが約2
00mm、横方向の長さが約300mm、厚さが0.1
mmの大判のプラスチック基板11を、図示縦方向の長
さが約220mm、横方向の長さが約336mmのガラ
ス板からなる支持部材30上に接着シートを介して接着
し、その内面上に配向膜を形成する加熱処理工程(焼成
工程)を含む製造工程の一部を実施した後、ガラス基板
12に貼り合わせる前に支持部材30から剥離させた。
焼成温度及び焼成時間は上述と同様の120℃、2時間
である。このとき、プラスチック基板11は当初よりも
収縮し、その収縮率は、図示縦方向については通常、約
0.03〜0.05%の範囲でばらついていた。一方、
図示横方向については通常、約0.05〜0.07%の
範囲でばらついた。実際に重大な組ズレが生ずるのはプ
ラスチック基板11が0.1%以上収縮した場合である
が、上記の範囲内の収縮であっても、プラスチック基板
11を支持部材30上に接着させたままガラス基板12
に対して貼り合わせた後に、プラスチック基板11を支
持部材30上から剥離させると、プラスチック基板11
の収縮によってシール材13との密着性が一部失われて
液晶封止後にセル内に気泡が混入したり、セル厚のばら
つきが発生して色ムラが生じたりする可能性がある。
The present inventor has shown that the length in the illustrated vertical direction is about 2
00mm, horizontal length about 300mm, thickness 0.1
The large-sized plastic substrate 11 having a length of about 20 mm is adhered on a supporting member 30 made of a glass plate having a length of about 220 mm in the vertical direction in the figure and a length of about 336 mm in the horizontal direction via an adhesive sheet, and is oriented on the inner surface thereof. After performing a part of the manufacturing process including a heat treatment process (firing process) for forming a film, the film was separated from the support member 30 before being bonded to the glass substrate 12.
The firing temperature and firing time are the same as those described above at 120 ° C. for 2 hours. At this time, the plastic substrate 11 shrinks from the beginning, and the shrinkage ratio usually fluctuates in a range of about 0.03 to 0.05% in the vertical direction in the drawing. on the other hand,
In the illustrated lateral direction, the variation usually ranges from about 0.05 to 0.07%. A serious misalignment actually occurs when the plastic substrate 11 shrinks by 0.1% or more. However, even if the plastic substrate 11 shrinks within the above range, the plastic substrate 11 remains adhered to the support member 30. Glass substrate 12
After the plastic substrate 11 is peeled off from the support member 30 after being bonded to the
, The adhesiveness to the sealing material 13 may be partially lost, so that bubbles may be mixed into the cells after the liquid crystal is sealed, or the thickness of the cells may vary, resulting in color unevenness.

【0046】本実施形態では、収縮率の上記ばらつき範
囲を考慮し、そのばらつきの統計的な標準値、すなわ
ち、平均値や中央値などに基づいてプラスチック基板1
1の収縮を補償した。例えば、ガラス基板12上の内面
構造形成部12zのパターン寸法を予め図示縦方向には
0.04%小さくし、図示横方向には0.06%小さく
して形成し、このガラス基板12をプラスチック基板1
1と貼り合わせて液晶セルを構成した。この方法によっ
て、完成された液晶パネルの色ムラ発生率及びセル不良
の発生率は大きく低下した。
In this embodiment, the plastic substrate 1 is determined based on a statistical standard value of the variation, that is, an average value, a median value, or the like, in consideration of the above-described variation range of the shrinkage ratio.
A contraction of 1 was compensated. For example, the pattern size of the inner surface structure forming portion 12z on the glass substrate 12 is reduced by 0.04% in the vertical direction in the drawing and 0.06% in the horizontal direction in the drawing to form the glass substrate 12. Substrate 1
1 to form a liquid crystal cell. By this method, the color unevenness occurrence rate and the cell failure occurrence rate of the completed liquid crystal panel were greatly reduced.

【0047】本実施形態では、図6に示すように、プラ
スチック基板11とガラス基板12の貼り合わせ後、各
電極パターン領域を分離させて構成した液晶パネルにお
いては、パネル基板11’の電極14から引き出された
電極配線14aの先端部に形成された端子部14bが、
パネル基板12’の張出領域12’a上に形成された外
部端子群19にある外部端子192の内側接続部192
aに対して平面的に重なり、両者間を上下導通体130
が導電接続している。また、パネル基板11’の電極1
5から引き出された電極配線15aは外部端子191に
接続されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 6, in a liquid crystal panel constituted by separating each electrode pattern region after bonding the plastic substrate 11 and the glass substrate 12, the electrodes 14 on the panel substrate 11 ' The terminal portion 14b formed at the tip of the extracted electrode wiring 14a is
The inside connection portion 192 of the external terminal 192 in the external terminal group 19 formed on the overhang region 12'a of the panel substrate 12 '
a and a vertical conductor 130
Are conductively connected. Also, the electrode 1 of the panel substrate 11 ′
The electrode wiring 15a drawn out of 5 is connected to the external terminal 191.

【0048】ここで、端子部14bは対向する内側接続
部192aよりも幅広に形成されている。このため、プ
ラスチック基板11の一部であるパネル基板11’とガ
ラス基板12の一部であるパネル基板12’との間に加
熱処理に起因する伸縮度合の相違があっても、端子部1
4bと内側接続部192aとの平面方向の位置ズレに起
因する導通面積の低下を抑制することができる。なお、
上記とは逆に、内側接続部192aを端子部14bの幅
よりも幅広に形成してもよい。このように端子部と内側
接続部との幅とが異なるように形成することにより、基
板間に伸縮差が生じても、隣接部への短絡の危険性を抑
制しつつ、導通面積を一定に保持して上下導通を確実に
行うことができる。
Here, the terminal portion 14b is formed wider than the opposing inner connection portion 192a. For this reason, even if there is a difference in the degree of expansion and contraction caused by the heat treatment between the panel substrate 11 'which is a part of the plastic substrate 11 and the panel substrate 12' which is a part of the glass substrate 12, the terminal portion 1
It is possible to suppress a decrease in the conductive area due to a positional shift between the inner connection portion 192a and the inner connection portion 192a in the planar direction. In addition,
Conversely, the inner connection portion 192a may be formed wider than the width of the terminal portion 14b. By forming the terminal portion and the inner connection portion to have different widths as described above, even if a difference in expansion and contraction occurs between the substrates, the conductive area can be kept constant while suppressing the risk of a short circuit to an adjacent portion. By holding, vertical conduction can be reliably performed.

【0049】[第2実施形態]次に、図7を参照して本
発明の第2実施形態について説明する。この実施形態で
は、基本的に液晶パネル10の構成、母基板であるプラ
スチック基板11、ガラス基板12の構成は全て先の上
記第1実施形態と同一であるので、同一部分には同一符
号を付し、その説明は省略する。この実施形態では、ガ
ラス基板12の内面上に設定される内面構造形成部12
z内の各電極パターン領域12xのパターン間隔AG
S,BGSを、プラスチック基板11の熱収縮を考慮し
てあらかじめ補正をかけ内面上に形成する内面構造形成
部11z内の各電極パターン領域11xのパターン間隔
APS,BPSに対して予め小さく形成しておく。この
場合、当初設計時のパターン間隔に対して、すなわち、
間隔に対する正規寸法に対して内面構造形成部12zの
パターン間隔を小さくしてもよく、逆に内面構造形成部
11zのパターン間隔を大きく形成しておいてもよい。
また、内面構造形成部11z,12zのいずれか一方の
みを寸法変化させてもよく、或いは、双方を共に寸法変
化させてもよい。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, since the configuration of the liquid crystal panel 10 and the configurations of the plastic substrate 11 and the glass substrate 12 which are the mother substrates are all the same as those of the above-described first embodiment, the same portions are denoted by the same reference numerals. The description is omitted. In this embodiment, the inner surface structure forming unit 12 set on the inner surface of the glass substrate 12
The pattern interval AG of each electrode pattern region 12x in z
S and BGS are previously corrected in consideration of the thermal shrinkage of the plastic substrate 11 and are made smaller in advance with respect to the pattern intervals APS and BPS of the electrode pattern regions 11x in the inner surface structure forming portion 11z formed on the inner surface. deep. In this case, with respect to the pattern interval at the time of the initial design,
The pattern interval of the inner surface structure forming portion 12z may be made smaller than the regular size for the interval, or the pattern interval of the inner surface structure forming portion 11z may be made larger.
Further, only one of the inner surface structure forming portions 11z and 12z may be changed in size, or both may be changed in size.

【0050】特に、パターン間隔AGS,BGSとAP
S,BPSとの関係については、たとえば、上記の第1
実施形態にて説明した内面構造形成部11z,12zの
縦方向と横方向の寸法における伸縮比P,Sを用いて、
縦と横の電極パターン領域11x、12xの間隔につい
て別々に(1−P)倍、(1−T)倍した倍率で内面構
造形成部12z内の間隔を寸法設定すればよい。
In particular, the pattern intervals AGS, BGS and AP
Regarding the relationship with S and BPS, for example,
Using the expansion and contraction ratios P and S in the vertical and horizontal dimensions of the inner surface structure forming portions 11z and 12z described in the embodiment,
The size of the space in the inner surface structure forming portion 12z may be set at a magnification of (1-P) times and (1-T) times separately for the space between the vertical and horizontal electrode pattern regions 11x and 12x.

【0051】また、電極パターン領域11x、12xの
間隔設定における別の方法として、各電極パターン領域
の間隔の伸縮度合を測定し、その測定値若しくは統計的
標準値に基づいて電極パターン領域の間隔を寸法設定し
てもよい。すなわち、製造工程を経る前にプラスチック
基板11の内面構造形成部11z内の各電極パターン領
域11x間の間隔とガラス基板12の内面構造形成部1
2z内の各電極パターン領域12x間の間隔とが同一寸
法である場合には、加熱処理などがなされた製造後の両
構造部の熱収縮による間隔差を多数計測し、その計測デ
ータ群の統計的処理によって算出される収縮度合いの標
準値から図示縦方向の間隔の伸縮比PS=(AGS−A
PS)/AGSと、図示横方向の間隔の伸縮比TS=
(BGS−BPS)/BGSとを別々に求める。このよ
うにして得られた統計的標準値に基づいて、製造工程前
のガラス基板12の内面構造形成部12z内の各電極パ
ターン領域12xの間隔AGS,BGSを縦方向と横方
向とについて別々に(1−PS)倍、(1−TS)倍し
た倍率で寸法設定する。このことによってプラスチック
基板11とガラス基板12の熱に起因する伸縮差を補償
することができ、支持部材30から剥離した後のプラス
チック基板11の収縮による液晶パネルの組ズレを低減
することができる。
As another method for setting the distance between the electrode pattern areas 11x and 12x, the degree of expansion / contraction of the distance between the electrode pattern areas is measured, and the distance between the electrode pattern areas is determined based on the measured value or a statistical standard value. The dimensions may be set. That is, the distance between the electrode pattern regions 11x in the inner structure forming portion 11z of the plastic substrate 11 and the inner structure forming portion 1 of the glass substrate 12 before the manufacturing process.
If the distance between the electrode pattern regions 12x in 2z is the same size, a large number of distance differences due to heat shrinkage of both structural parts after the heat treatment or the like are measured, and the statistics of the measurement data group are measured. From the standard value of the degree of contraction calculated by the dynamic processing, the expansion ratio PS = (AGS-A)
PS) / AGS, and the expansion / contraction ratio TS in the horizontal direction in the figure.
(BGS-BPS) / BGS are separately obtained. Based on the statistical standard values thus obtained, the intervals AGS and BGS of the respective electrode pattern regions 12x in the inner surface structure forming portion 12z of the glass substrate 12 before the manufacturing process are separately set in the vertical direction and the horizontal direction. The dimensions are set at a magnification of (1-PS) times and (1-TS) times. This makes it possible to compensate for a difference in expansion and contraction caused by heat between the plastic substrate 11 and the glass substrate 12, and to reduce misalignment of the liquid crystal panel due to shrinkage of the plastic substrate 11 after being separated from the support member 30.

【0052】特に、上記のように、矩形状の基板を用い
る場合に縦方向と横方向の電極パターン領域11x,1
2xの間隔の伸縮度をそれぞれ求め、縦横別々にパター
ン寸法を予め調整しておくことにより、後述するように
パターンズレに起因する製品不良或いは性能低下をさら
に低減できる。
In particular, as described above, when a rectangular substrate is used, the electrode pattern regions 11x, 1
By obtaining the degree of expansion and contraction at intervals of 2 × and adjusting the pattern dimensions separately in the vertical and horizontal directions in advance, it is possible to further reduce product defects or performance degradation due to pattern deviation as described later.

【0053】本実施形態の場合にはガラス基板12の熱
による伸縮は通常無視できるので、プラスチック基板1
1自体の電極パターン領域11x間の間隔の伸縮度P
=(1−APS)/APS(APSは製造工程前
のプラスチック基板における電極パターン領域11xの
図示縦方向の間隔、APSは製造工程後のプラスチッ
ク基板における電極パターン領域11xの図示縦方向の
間隔)及びTS=(1−BPS)/BPS(BP
は製造工程前のプラスチック基板における電極パタ
ーン領域11xの図示横方向の間隔、BPSは製造工
程後のプラスチック基板における電極パターン領域11
xの図示横方向の間隔)にのみ基づいて、内面構造形成
部11zの電極パターン領域11xのパターン間隔及び
/又は内面構造形成部12zの電極パターン領域12x
のパターン間隔を変えて補償する。例えば、内面構造形
成部12zのみを変える場合には、元のパターン間隔に
それぞれ(1−PS)倍、(1−TS)倍した寸法
として内部構造を形成してプラスチック基板11の収縮
に対する補償を行う。
In the case of this embodiment, since the expansion and contraction of the glass substrate 12 due to heat can be usually ignored, the plastic substrate 1
The degree of expansion P 0 of the interval between the electrode pattern regions 11x of the device 1 itself.
= (1−APS 1 ) / APS 0 (APS 0 is the illustrated vertical distance of the electrode pattern region 11x on the plastic substrate before the manufacturing process, and APS 1 is the illustrated vertical direction of the electrode pattern region 11x on the plastic substrate after the manufacturing process. Interval) and TS 0 = (1−BPS 1 ) / BPS 0 (BP
S 0 is the horizontal space between the electrode pattern regions 11 x on the plastic substrate before the manufacturing process, and BPS 1 is the electrode pattern region 11 on the plastic substrate after the manufacturing process.
x only in the illustrated horizontal direction) and the pattern interval of the electrode pattern region 11x of the inner surface structure forming portion 11z and / or the electrode pattern region 12x of the inner surface structure forming portion 12z.
Is compensated by changing the pattern interval. For example, when only the inner surface structure forming portion 12z is changed, the internal structure is formed to have dimensions that are (1-PS 0 ) times and (1-TS 0 ) times the original pattern interval, respectively, to prevent shrinkage of the plastic substrate 11. Make compensation.

【0054】なお、上記各実施形態では、液晶パネル1
0を構成する一方の基板をガラス基板とし、他方の基板
をプラスチック基板とした例について説明したが、本発
明はこのような場合に限定されるものではなく、液晶パ
ネルを構成する一対の基板が相互に異なる熱伸縮率を備
えたものであれば、上記と同様に効果を奏するものであ
る。
In each of the above embodiments, the liquid crystal panel 1
Although an example was described in which one of the substrates constituting the glass substrate 0 was a glass substrate and the other was a plastic substrate, the present invention is not limited to such a case, and a pair of substrates constituting a liquid crystal panel is As long as they have mutually different thermal expansion and contraction rates, the same effects as above can be obtained.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、製
造工程中の処理に起因する二枚の基板間の平面方向の伸
縮差を補償するように、予め二枚の基板の内面上に形成
される電極パターンの少なくとも一方を補正することに
より、製造工程中において異なる素材にて構成された二
枚の基板が異なる程度に伸縮しても、内面構造の電極パ
ターン形状にズレが生じにくくなるため、液晶装置の組
ズレを低減することができ、液晶装置の歩留まりを向上
させ、色ムラの発生を抑制することができる。
As described above, according to the present invention, the inner surfaces of the two substrates are previously adjusted so as to compensate for the difference in expansion and contraction in the planar direction between the two substrates due to the processing during the manufacturing process. By correcting at least one of the formed electrode patterns, even if two substrates made of different materials expand and contract to different degrees during the manufacturing process, the electrode pattern shape of the inner surface structure is less likely to shift. Therefore, misalignment of the liquid crystal device can be reduced, the yield of the liquid crystal device can be improved, and the occurrence of color unevenness can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の製造方法の第1実施形
態において用いるプラスチック基板の支持構造を示す模
式的な概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a support structure of a plastic substrate used in a first embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図2】第1実施形態により製造された液晶パネルの概
略構造を示す模式的な概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a schematic structure of a liquid crystal panel manufactured according to the first embodiment.

【図3】第1実施形態により製造された液晶パネルの概
略構造を示す模式的な概略平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view showing a schematic structure of a liquid crystal panel manufactured according to the first embodiment.

【図4】第1実施形態におけるプラスチック基板の概略
平面図(a)及びガラス基板の概略平面図(b)であ
る。
FIG. 4 is a schematic plan view (a) of a plastic substrate and a schematic plan view (b) of a glass substrate in the first embodiment.

【図5】第1実施形態の製造工程における状態を示す模
式説明図(a)〜(c)である。
FIGS. 5A to 5C are schematic explanatory views illustrating a state in a manufacturing process according to the first embodiment.

【図6】第1実施形態により製造された液晶パネルの部
分拡大平面図である。
FIG. 6 is a partially enlarged plan view of the liquid crystal panel manufactured according to the first embodiment.

【図7】本発明に係る液晶装置の製造方法の第2実施形
態におけるプラスチック基板の概略平面図(a)及びガ
ラス基板の概略平面図(b)である。
FIG. 7 is a schematic plan view (a) of a plastic substrate and a schematic plan view (b) of a glass substrate in a second embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 液晶パネル 11 プラスチック基板 11x,12x 電極パターン領域 11z,12z 内面構造形成部 11’,12’ パネル基板 12 ガラス基板 13 シール材 14,15 電極 14a 電極配線 14b 端子部 16,17 配向膜 19 外部端子群 130 上下導通体 191,192 外部端子 192a 内側接続部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal panel 11 Plastic substrate 11x, 12x Electrode pattern area 11z, 12z Inner-surface structure forming part 11 ', 12' Panel substrate 12 Glass substrate 13 Seal material 14, 15 Electrode 14a Electrode wiring 14b Terminal part 16, 17 Alignment film 19 External terminal Group 130 Upper and lower conductors 191, 192 External terminal 192a Inner connection portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大月 芳明 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JA06 JA09 JB03 JC02 JC08 JC12 JD11 JD13 JD18 LA01 5G435 AA04 AA17 BB12 EE33 FF00 FF01 HH02 HH12 KK05 LL07 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiaki Otsuki 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture Seiko Epson Corporation F-term (reference) 2H090 JA06 JA09 JB03 JC02 JC08 JC12 JD11 JD13 JD18 LA01 5G435 AA04 AA17 BB12 EE33 FF00 FF01 HH02 HH12 KK05 LL07

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方が他方と異なる熱伸縮率を有した一
対の基板間に液晶を封止して成る液晶装置を製造するた
めの液晶装置の製造方法であって、 前記基板の一方の基板と他方の基板のそれぞれを別々に
支持部材の表面に粘着層を介して粘着した一対の積層体
ユニットを構成し、該一対の積層体ユニットのそれぞれ
において前記基板の一方の基板及び他方の基板に対し
て、電極パターンを形成する電極形成工程と加熱処理工
程とを有する液晶装置の製造方法において、 前記電極形成工程において前記加熱処理工程後に生じる
前記基板の他方の基板の熱変形量を考慮して前記一方の
基板に前記電極パターンを正規寸法に対して補正を加え
た寸法で形成することを特徴とする液晶装置の製造方
法。
1. A method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sealed between a pair of substrates having different thermal expansion and contraction rates from one another, wherein one of the substrates is provided. And a pair of laminated units separately adhered to the surface of the support member via an adhesive layer, respectively, of the other substrate, and in each of the pair of laminated units, one of the substrates and the other substrate On the other hand, in a method of manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step of forming an electrode pattern and a heat treatment step, in the electrode forming step, the amount of thermal deformation of the other of the substrates that occurs after the heat treatment step is taken into consideration. A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the electrode pattern is formed on the one substrate with a size obtained by correcting a normal size.
【請求項2】 一方が他方と異なる熱伸縮率を有した一
対の基板間に液晶を封止して成る液晶装置を製造するた
めの液晶装置の製造方法であって、 前記基板の一方の基板と他方の基板のそれぞれを別々に
支持部材の表面に粘着層を介して粘着した一対の積層体
ユニットを構成し、該一対の積層体ユニットのそれぞれ
において前記基板の一方の基板及び他方の基板に対し
て、電極パターンを形成する電極形成工程と加熱処理工
程とを有する液晶装置の製造方法において、 前記電極形成工程では前記他方の基板の前記熱伸縮率に
基づいて前記一方の基板に前記電極パターンを正規寸法
に対して補正を加えた寸法で形成することを特徴とする
液晶装置の製造方法。
2. A liquid crystal device manufacturing method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sealed between a pair of substrates, one of which has a different thermal expansion ratio from the other, wherein one of the substrates is provided. And a pair of laminated units separately adhered to the surface of the support member via an adhesive layer, respectively, of the other substrate, and in each of the pair of laminated units, one of the substrates and the other substrate On the other hand, in a method of manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step of forming an electrode pattern and a heat treatment step, the electrode forming step includes forming the electrode pattern on the one substrate based on the thermal expansion and contraction rate of the other substrate. Is formed in a size obtained by adding a correction to a regular size.
【請求項3】 一方が他方と異なる熱伸縮率を有した一
対の基板間に液晶を封止して成る液晶装置を製造するた
めの液晶装置の製造方法であって、 前記基板の一方の基板と他方の基板のそれぞれを別々に
支持部材の表面に粘着層を介して粘着した一対の積層体
ユニットを構成し、該一対の積層体ユニットのそれぞれ
において前記基板の一方の基板及び他方の基板に対し
て、電極パターンを形成する電極形成工程と加熱処理工
程とを有する液晶装置の製造方法において、 前記電極形成工程では前記一方の基板の前記電極パター
ンの寸法を、前記一方の基板と他方の基板との前記熱伸
縮率の違いによる前記基板の寸法変化に対応した長さで
形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
3. A liquid crystal device manufacturing method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sealed between a pair of substrates, one of which has a different thermal expansion ratio from the other, wherein one of the substrates is one of the substrates. And a pair of laminated units separately adhered to the surface of the support member via an adhesive layer, respectively, of the other substrate, and in each of the pair of laminated units, one of the substrates and the other substrate On the other hand, in a method of manufacturing a liquid crystal device having an electrode forming step of forming an electrode pattern and a heat treatment step, in the electrode forming step, the dimensions of the electrode pattern of the one substrate are changed to the one substrate and the other substrate. Forming a liquid crystal device having a length corresponding to a dimensional change of the substrate due to a difference in the thermal expansion ratio between the substrate and the substrate.
【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に
記載した液晶装置の製造方法において、前記一方の基板
及び前記他方の基板はそれぞれ複数の液晶パネル分の電
極パターンを形成できる大きさを有し、前記一方の基板
の前記電極形成工程では複数の液晶パネル分の電極パタ
ーン間の間隔に正規寸法からの補正が加えられることを
特徴とする液晶装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the one substrate and the other substrate each have a size capable of forming an electrode pattern for a plurality of liquid crystal panels. A method of manufacturing a liquid crystal device, the method comprising: in the electrode forming step of the one substrate, correcting a distance between electrode patterns of a plurality of liquid crystal panels from a regular dimension.
【請求項5】 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に
記載した液晶装置の製造方法において、前記電極形成工
程はマスクパターンを通しての露光処理を含むフォトリ
ソグラフィー法を用いて行われ、電極パターンに関する
前記の補正は前記露光処理における露光位置の調整によ
って行われることを特徴とする液晶装置の製造方法。
5. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the electrode forming step is performed by using a photolithography method including an exposure process through a mask pattern. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the correction of the pattern is performed by adjusting an exposure position in the exposure processing.
【請求項6】 請求項1乃至請求項5の少なくともいず
れか1つにおいて、前記加熱処理工程として配向膜焼成
工程を含み、前記電極パターンに関する補正は少なくと
もこの配向膜焼成工程後における前記他方の基板の変形
を考慮して行われることを特徴とする液晶装置の製造方
法。
6. The method according to claim 1, wherein the heat treatment step includes a step of firing an alignment film, and the correction of the electrode pattern is performed at least after the step of firing the alignment film. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein the method is performed in consideration of deformation of the liquid crystal device.
【請求項7】 請求項1から請求項6までのいずれか1
項において、前記基板は共に矩形状の平面形状を備え、
前記基板における二組の対向辺に沿った二つの方向毎に
前記熱伸縮差を算定して、前記二つの方向毎に前記熱伸
縮差を補償するように前記一方の基板に前記電極パター
ンを正規寸法に対して補正が加えられることを特徴とす
る液晶装置の製造方法。
7. One of claims 1 to 6
In the paragraph, both of the substrates have a rectangular planar shape,
The thermal expansion difference is calculated for each of two directions along two opposing sides of the substrate, and the electrode pattern is normalized on the one substrate so as to compensate for the thermal expansion difference for each of the two directions. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein a dimension is corrected.
【請求項8】 請求項1乃至請求項6の少なくともいず
れか1つにおいて、前記基板の一方の基板はガラス基板
であり、他方の基板はプラスチックフィルム基板である
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
8. The liquid crystal device according to claim 1, wherein one of the substrates is a glass substrate, and the other substrate is a plastic film substrate. Method.
【請求項9】 請求項1から請求項8までのいずれか1
項において、前記基板の内面上には、複数の電極と、該
電極に接続された複数並列する電極配線とを形成し、相
互に平面的に重なるように配置された、前記基板の一方
における前記電極配線の端子部と、前記基板の他方にお
ける外部端子の内側接続部とが上下導通体を介して導電
接続されるように構成し、前記端子部と前記内側接続部
のうちの一方を他方よりも広幅に形成することを特徴と
する液晶装置の製造方法。
9. Any one of claims 1 to 8
In the paragraph, on the inner surface of the substrate, a plurality of electrodes and a plurality of parallel electrode wirings connected to the electrodes are formed, and are arranged so as to overlap each other two-dimensionally. The terminal portion of the electrode wiring and the inside connection portion of the external terminal on the other side of the substrate are configured to be conductively connected via a vertical conductor, and one of the terminal portion and the inside connection portion is connected to the other side. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein a liquid crystal device is also formed to have a wide width.
JP8695399A 1999-03-29 1999-03-29 Production of liquid crystal device Withdrawn JP2000284260A (en)

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