JP2000277550A - Semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Semiconductor device and its manufacture

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JP2000277550A
JP2000277550A JP8201499A JP8201499A JP2000277550A JP 2000277550 A JP2000277550 A JP 2000277550A JP 8201499 A JP8201499 A JP 8201499A JP 8201499 A JP8201499 A JP 8201499A JP 2000277550 A JP2000277550 A JP 2000277550A
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JP
Japan
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substrate
transfer mold
cut
mold resin
semiconductor device
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JP8201499A
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Japanese (ja)
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Toshie Noguchi
淑恵 野口
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent cut-off semiconductor devices from coming apart, by breaking a transfer mold resin left without being cut off into pieces of substrates to be processed. SOLUTION: A plurality of chips 2 are arranged at pitch P intervals on a continuous substrate 3a and are connected to the substrate 3a with wires 1. Thereafter, the plurality of chips 2 arranged on the substrate 3a are sealed by one operation with a transfer mold resin 4a. Next, the substrate 3a is turned over and the surface of the transfer mold resin 4 which is a reverse side is pressed against and placed on the upper surface of an adhesive tape 6. A laser beam is applied to a region 7 from the direction of the substrate 3a side to cut off the substrate 3a into pieces of substrates 3, and then to cut off the major portion of thickness of the transfer mold resin 4 which is left without being cut off.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
その製造方法に関し、さらに詳しくは、1 枚の基板上に
作り付けられた複数個のCSP(Chip Scale Package)
などの小型の半導体装置の製造方法と、半導体装置の構
造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a plurality of CSPs (Chip Scale Packages) formed on a single substrate.
The present invention relates to a method for manufacturing a small semiconductor device such as a semiconductor device, and a structure of the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】LSIパッケージの小型化、薄膜化を狙
いとして、LSIのベア・チップとほとんど同じ外形サ
イズにまでパッケージを小型化したCSPが、LSIメ
ーカ各社で各種タイプ開発されている。特に、基板にチ
ップをワイヤボンディングやフリップチップボンディン
グ等で接続し、チップを樹脂封止した後、チップ間を切
り離し、個片化するCSPの製造方法が良く知られてい
る。
2. Description of the Related Art Various types of CSPs have been developed by LSI manufacturers in order to reduce the size and thickness of LSI packages, and to reduce the size of packages to almost the same outer size as the bare chip of the LSI. In particular, a method of manufacturing a CSP in which a chip is connected to a substrate by wire bonding, flip chip bonding, or the like, the chip is sealed with a resin, and then the chips are separated and separated into individual pieces is well known.

【0003】樹脂封止後、チップ間を切り離すことで個
片化する場合、基板上のチップ間ピッチと製品外形サイ
ズを同じにすることが、最も効率的な基板の使用法とな
る。また、基板毎に一括して樹脂封止するために、製品
毎に必要であったトランスファーモールド用金型やポッ
ティング用ダムは不要となり、製造コストの低減にもつ
ながる。
When individual chips are separated by separating the chips after resin encapsulation, the most efficient use of the substrate is to make the chip pitch on the substrate equal to the product outer size. In addition, since resin sealing is performed for each substrate, a mold for transfer molding and a dam for potting, which are necessary for each product, are not required, which leads to a reduction in manufacturing cost.

【0004】例えば、特開平9−36151号公報に見
られるように、基板上に搭載した複数個のチップをワイ
ヤで配線パターンと接続し、基板および複数個のチップ
上面全体に一様にポッティング樹脂を充填して樹脂封止
した後、ダイシングソーまたはレーザービームにより各
製品毎に切り出し、切り出された外表面を研削すること
により、コストを低く抑えたCPS製造方法を提供して
いた。
For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-36151, a plurality of chips mounted on a substrate are connected to a wiring pattern by wires, and a potting resin is uniformly applied over the entire surface of the substrate and the plurality of chips. After sealing with resin, the product is cut out for each product by a dicing saw or a laser beam, and the cut out outer surface is ground to provide a CPS manufacturing method with low cost.

【0005】しかしながら、ポッティング樹脂は高流動
特性を確保するために含有材質が限定されており、高流
動特性が不要であるトランスファーモールド樹脂に比べ
て、信頼性の向上が難しいことが、一般に知られてい
る。ところが、トランスファーモールド樹脂は、ポッテ
ィング樹脂に比べてシリカ(SiO2 )の含有率が高い
ため、ダイシングソーによる切断を行った場合、刃の磨
耗がより短時間で発生するという問題があった。
However, it is generally known that the potting resin is limited in the material contained therein in order to ensure high flow characteristics, and it is difficult to improve the reliability as compared with a transfer mold resin which does not require high flow characteristics. ing. However, since the transfer mold resin has a higher silica (SiO 2 ) content than the potting resin, there is a problem in that when cutting with a dicing saw, blade wear occurs in a shorter time.

【0006】また、被切断物に接触することなく切断す
ることができるレーザービームで樹脂封止がなされた被
処理基板を切断した場合は、部品の磨耗等は発生しない
が、切断によって切り離された製品がばらばらに散乱す
るために、ピックアップ、パレタイジングなどの処理で
の安定したハンドリングが困難であった。さらに、切断
によって切り出された半導体装置の外形表面を製品毎に
研削するのは、ハンドリングも困難であり、かつ、処理
時間も長くかかってしまうという問題があった。
Further, when a substrate to be resin-sealed is cut with a laser beam that can be cut without coming into contact with an object to be cut, the parts are not worn out, but the parts are separated by cutting. Since the products are scattered apart, stable handling in processes such as pickup and palletizing has been difficult. Further, there is a problem that it is difficult to handle and grind the processing time to grind the outer surface of the semiconductor device cut by cutting for each product.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この発明は、信頼性を
より確保しやすいトランスファーモールド樹脂を用いて
チップを樹脂封止するタイプの半導体装置を得る際に、
レーザを用いて半導体装置の個片化を行ったとしても、
切り出された半導体装置がばらばらに散乱することがな
く、チップを搭載する基板面積を有効利用でき、低コス
トで安定な技術を得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to provide a semiconductor device of a type in which a chip is resin-encapsulated by using a transfer mold resin which can easily secure reliability.
Even if a semiconductor device is singulated using a laser,
It is an object of the present invention to obtain a low-cost and stable technique, in which a cut-out semiconductor device is not scattered separately, a substrate area for mounting a chip can be effectively used, and a low-cost and stable technique can be obtained.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明による半導体装
置の製造方法は、基板上に半導体基板の製品外形寸法に
相当するピッチで複数個のチップを搭載する工程、上記
チップが搭載された被処理基板上にトランスファーモー
ルド樹脂を導入し、上記チップを一括して樹脂封止する
工程、上記被処理基板の上記トランスファーモールド樹
脂側の表面に粘着シートを貼り付ける工程、上記被処理
基板の製品外形の外周に相当する領域に対し、上記トラ
ンスファーモールド樹脂に吸収されやすいレーザビーム
を、上記基板側から照射し、上記基板と上記トランスフ
ァーモールド樹脂の大部分の厚みを切断する工程、上記
レーザビームの照射による上記被処理基板の切断におい
て、切断されずに残された上記トランスファーモールド
樹脂をブレイクして、上記被処理基板を個片化する工程
を含むものである。
A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of mounting a plurality of chips on a substrate at a pitch corresponding to a product outer dimension of a semiconductor substrate; A step of introducing a transfer mold resin onto the substrate and encapsulating the chip in a lump; a step of attaching an adhesive sheet to the surface of the substrate to be processed on the side of the transfer mold resin; A region corresponding to the outer periphery is irradiated with a laser beam which is easily absorbed by the transfer mold resin from the substrate side, and a step of cutting the thickness of the substrate and the transfer mold resin to a large extent, by the laser beam irradiation In cutting the substrate to be processed, the transfer mold resin left uncut is broken. It is intended to include the step of singulating the substrate to be processed.

【0009】また、この発明による半導体装置の製造方
法は、上記の製造方法において、レーザビームによる被
処理基板の切断の後、切断されずに残った製品外形の外
周に相当する領域のトランスファーモールド樹脂の膜厚
は、ブレイクによって切断可能な膜厚とするものであ
る。
Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, in the above-described manufacturing method, the transfer mold resin in a region corresponding to the outer periphery of the outer shape of the product which remains uncut after cutting the substrate to be processed by the laser beam. Is a film thickness that can be cut by a break.

【0010】さらに、この発明による半導体装置に製造
方法は、上記の製造方法において、レーザビームによる
被処理基板の切断の後、切断されずに残った製品外形の
外周に相当する領域のトランスファーモールド樹脂をダ
イシングソーを用いて切断するものである。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, in the above-described manufacturing method, the transfer mold resin in a region corresponding to the outer periphery of a product outer shape which is not cut after cutting the substrate to be processed by the laser beam. Is cut using a dicing saw.

【0011】また、この発明による半導体装置の製造方
法は、上記の製造方法において、レーザービームによる
被処理基板の切断の後、個片化するまでに、上記レーザ
ービームによる加工面に化学研磨処理を施すものであ
る。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, in the above-mentioned manufacturing method, after the substrate to be processed is cut by the laser beam, the surface to be processed by the laser beam is subjected to chemical polishing before cutting into individual pieces. It is something to give.

【0012】さらに、この発明による半導体装置は、基
板上に1つのチップが搭載され、トランスファーモール
ド樹脂により樹脂封止された半導体装置において、上記
基板の平面寸法よりも上記トランスファーモールド樹脂
の平面寸法の方が大きく形成されているものである。
Further, in the semiconductor device according to the present invention, in a semiconductor device in which one chip is mounted on a substrate and resin-sealed with a transfer mold resin, the plane size of the transfer mold resin is smaller than the plane size of the substrate. The larger one is formed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】実施の形態1.この発明の実施の
形態1について図1〜図2を用いて説明する。図1は、
この発明による個片化された半導体装置の断面図であ
り、基板3上に1つのチップ2を搭載してワイヤ1によ
って両者を接続し、チップをトランスファーモールド樹
脂4によって樹脂封止されたものを示している。さら
に、基板1のチップ2が搭載されていない側の面には、
はんだボール5が配置形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a singulated semiconductor device according to the present invention, in which one chip 2 is mounted on a substrate 3, both are connected by a wire 1, and the chip is resin-sealed with a transfer mold resin 4. Is shown. Further, on the surface of the substrate 1 on which the chip 2 is not mounted,
Solder balls 5 are arranged and formed.

【0014】さらに、図1に示すように、個片化された
半導体装置の外形の平面寸法は、トランスファーモール
ド樹脂4の基板3と接着されていない側の寸法でL1と
なっているとすると、基板3の外形寸法はL1よりも小
さな値のL2となっており、同じ半導体装置を異なる断
面から見た場合においても、同様の関係が成り立ってい
る。このように、1つの半導体装置の樹脂面と基板面と
でその寸法に差が生じるのは、その製造方法に関係して
おり、トランスファーモールド樹脂4によってチップ2
を樹脂封止した後で、基板3側からこの製造過程にある
被処理基板に対してレーザビームを用いて、その厚みの
大部分を切断することに起因している。
Further, as shown in FIG. 1, if the planar dimension of the external shape of the individualized semiconductor device is L1 on the side of the transfer mold resin 4 not bonded to the substrate 3, The outer dimensions of the substrate 3 are L2 smaller than L1, and the same relationship holds when the same semiconductor device is viewed from different cross sections. The difference in size between the resin surface and the substrate surface of one semiconductor device is related to the manufacturing method thereof.
After resin sealing, most of the thickness of the substrate to be processed in the manufacturing process is cut from the substrate 3 side using a laser beam.

【0015】次に、図1に示すようなトランスファーモ
ールド樹脂4を用いて樹脂封止した半導体装置の製造方
法について、図2を用いて説明する。まず、図2(a)
に示すように、一続きの基板3a上に複数個のチップ2
を、外形寸法L1に相当するピッチPの間隔をおいて配
置し、ワイヤ1によって基板3aとの接続を行う。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device encapsulated with a transfer molding resin 4 as shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. First, FIG.
As shown in the figure, a plurality of chips 2 are arranged on a continuous substrate 3a.
Are arranged at intervals of a pitch P corresponding to the outer dimension L1, and are connected to the substrate 3a by the wires 1.

【0016】その後、図2(b)に示すように、トラン
スファーモールド樹脂4を用いて、基板3a上に配置さ
れた複数個のチップ2を一括して樹脂封止する。この樹
脂封止工程において、含有材質が樹脂封止に適している
トランスファーモールド樹脂を用いることによって、ポ
ッティング樹脂を用いたの場合よりも、信頼性を向上さ
せることができる。
Thereafter, as shown in FIG. 2B, a plurality of chips 2 arranged on the substrate 3a are collectively resin-sealed using the transfer mold resin 4. In the resin sealing step, by using a transfer mold resin whose material is suitable for resin sealing, reliability can be improved as compared with the case where a potting resin is used.

【0017】次に、図2(c)に示すように、製造過程
にある被処理基板の表裏が反対となるようにひっくり返
し、裏側となるトランスファーモールド樹脂4の表面を
粘着テープ6の上面に押し付け、貼り付ける。この粘着
テープ6は、通常のダイシングテープを用いる。なお、
図2(b)に示す製造工程までは、チップ2が搭載され
る基板3aの面を上側として図示したが、この図2
(c)以降の工程では、粘着テープ6との貼り付けの作
業容易性等、接着安定性を考慮して、基板3aのチップ
が搭載されていない面を上側として図示する。
Next, as shown in FIG. 2C, the substrate to be processed in the manufacturing process is turned upside down so that the surface of the transfer mold resin 4 on the back side is placed on the upper surface of the adhesive tape 6. Press and paste. As the adhesive tape 6, a normal dicing tape is used. In addition,
Until the manufacturing process shown in FIG. 2B, the surface of the substrate 3a on which the chip 2 is mounted is illustrated as being on the upper side.
(C) In the subsequent steps, the surface of the substrate 3a on which the chips are not mounted is shown as the upper side in consideration of the adhesive stability such as the workability of attaching to the adhesive tape 6.

【0018】その後、図2(d)の図中に示す点線領
域、つまり1つの半導体装置の外形寸法の外周に相当す
る領域に対して、基板3a側の方向からレーザビームを
照射し、基板3aを切断して個片化された基板3とし、
続いてさらにトランスファーモールド樹脂4に対してレ
ーザビームによる切断を行い、その大部分の厚みを切断
する。図中の矢印を示す符号7は、レーザビーム照射方
向を示しており、符号7aはレーザ切断溝を示してい
る。
Thereafter, a laser beam is irradiated from the direction of the substrate 3a to the dotted line area shown in FIG. 2D, that is, the area corresponding to the outer periphery of the external dimensions of one semiconductor device. Is cut into individualized substrates 3,
Subsequently, the transfer mold resin 4 is further cut by a laser beam to cut most of the thickness. Reference numeral 7 indicating an arrow in the drawing indicates a laser beam irradiation direction, and reference numeral 7a indicates a laser cutting groove.

【0019】切断に用いるレーザビームは、トランスフ
ァーモールド樹脂に対する吸収の大きなものが適してお
り、加工速度を確保するためには出力の大きなものが好
ましい。例えば、炭酸ガスレーザが適している。ただ
し、トランスファーモールド樹脂に吸収されやすい波長
は、粘着テープ6をも加工しやすいため、レーザビーム
による切断では、トランスファーモールド樹脂4の大部
分の厚さを切断するにとどめ、わずかに切断されずに残
った厚みについては、その後のブレイク等の方法によっ
て切断を行う。レーザによって切断せずに残すトランス
ファーモールド樹脂の厚みは、ブレイクによって製品に
ダメージを加えることなく切断できる厚みとする。
As the laser beam used for cutting, a laser beam having a large absorption to the transfer mold resin is suitable, and a laser beam having a large output is preferable in order to secure a processing speed. For example, a carbon dioxide laser is suitable. However, since the wavelength easily absorbed by the transfer mold resin can easily process the adhesive tape 6, the cutting by the laser beam only cuts most of the thickness of the transfer mold resin 4, and is not cut slightly. The remaining thickness is cut by a method such as a subsequent break. The thickness of the transfer mold resin that is left without being cut by the laser is a thickness that can be cut without damaging the product due to the break.

【0020】言うまでもないが、レーザビームによる切
断において、高精度な制御が可能である場合、粘着テー
プ6にダメージを与えずに、トランスファーモールド樹
脂4を完全に切断することができれば、その後のブレイ
ク等による切断工程は省略することができる。
Needless to say, when high precision control is possible in the cutting by the laser beam, if the transfer mold resin 4 can be completely cut without damaging the adhesive tape 6, a subsequent break or the like will occur. Can be omitted.

【0021】次に、図2(e)に示すように、被処理基
板のレーザ切断によって半導体装置外形寸法の外周に相
当する領域に形成された溝の下側から押し上げるように
力を加える。つまり、粘着テープ6の裏面側の図中の矢
印8a〜8cで示すブレイク方向に沿ってレーザ切断溝
7aを押し上げるよう力を加え、レーザ加工によっては
切断されずに残っているトランスファーモールド樹脂4
の厚みをブレイクし、半導体装置を個片化する。なお、
ブレイクは、例えば、8a、8b、8cの順に複数回に
分けて行うことも可能であり、また、複数の個所に対し
て同時に力を加えて行うことも可能である。
Next, as shown in FIG. 2E, a force is applied by laser cutting the substrate to be processed so as to push up from below a groove formed in a region corresponding to the outer periphery of the external dimensions of the semiconductor device. That is, a force is applied to push up the laser cutting groove 7a along the breaking direction indicated by arrows 8a to 8c in the figure on the back side of the adhesive tape 6, and the transfer mold resin 4 remaining without being cut by the laser processing is applied.
Is broken to separate the semiconductor device. In addition,
The break can be performed a plurality of times in the order of, for example, 8a, 8b, and 8c, and the break can be performed by simultaneously applying a force to a plurality of locations.

【0022】その後、図2(f)に示すように、粘着テ
ープ6を周囲に引き伸ばして広げ、個片化された半導体
装置間の間隔を広げ、ピックアップ、パレタイジングな
どの処理を行う。図中において、符号9は粘着テープ引
き伸ばし方向を示している。このように、ブレイクによ
って半導体装置の個片化を行った後においても、半導体
装置が粘着テープ6によって接着された状態であり、ば
らばらに散乱してしまうことを抑制でき、安定に保持す
ることが可能となる。
Thereafter, as shown in FIG. 2 (f), the adhesive tape 6 is stretched and spread around, to increase the interval between the individualized semiconductor devices, and to perform processes such as pickup and palletizing. In the drawing, reference numeral 9 indicates the direction in which the adhesive tape is stretched. As described above, even after the semiconductor device is singulated by breaking, the semiconductor device is in a state of being adhered by the adhesive tape 6, and it is possible to prevent the semiconductor device from being scattered separately and to stably hold the semiconductor device. It becomes possible.

【0023】また、このような製造方法に従って、半導
体装置を製造した場合、一続きの基板3aの捨てしろを
極力小さくでき、基板3aを効率良く使用することが可
能となる。さらに、樹脂封止に用いるモールド金型の共
有化ができることもあり、製造コストを下げることがで
きる。また、粘着テープ6に付着した状態で個片化後の
製品を保持できるため、個片化後の工程のハンドリング
を安定に行うことができる。
Further, when a semiconductor device is manufactured according to such a manufacturing method, a margin for discarding the continuous substrate 3a can be made as small as possible, and the substrate 3a can be used efficiently. Furthermore, the mold used for resin sealing may be shared, and the manufacturing cost may be reduced. Further, since the product after singulation can be held in a state of being attached to the adhesive tape 6, handling in the process after singulation can be stably performed.

【0024】さらに、レーザ照射時、レーザ加工面に対
してエアー、例えば窒素などの基体や、水などの液体を
噴き付けて、レーザ加工によって生じる加工ススを除去
しながら加工しても良いことは言うまでもない。図2に
おいては、図中にはんだボール5の記載を省略している
が、はんだボール5が所定位置に配置形成されていて
も、同様の処理によって個片化することが可能である。
Further, at the time of laser irradiation, a substrate such as air, for example, nitrogen, or a liquid such as water may be sprayed onto the laser processing surface to perform processing while removing processing soot generated by laser processing. Needless to say. Although the illustration of the solder balls 5 is omitted in FIG. 2, even if the solder balls 5 are arranged and formed at predetermined positions, it is possible to singulate by the same processing.

【0025】なお、図2(c)に示す工程において、被
処理基板のトランスファーモールド樹脂4の表面と粘着
テープ6とを貼り付ける工程では、樹脂面を下側にし
て、粘着テープ6の上面に載せるように貼り付ける例を
示したが、被処理基板の重さと粘着テープ6の粘着力と
を勘案し、被処理基板の重さに対して粘着力が十分な大
きさになる場合は、被処理基板の樹脂面を上にしたまま
で、粘着テープ6の粘着面を上側から押しつけるように
被せて、両者を接着し、その後の個片化工程に移行する
ことも可能である。
In the step of attaching the surface of the transfer mold resin 4 of the substrate to be processed and the adhesive tape 6 in the step shown in FIG. Although the example in which the adhesive is applied so as to be placed is shown, in consideration of the weight of the substrate to be processed and the adhesive strength of the adhesive tape 6, if the adhesive strength becomes sufficiently large with respect to the weight of the substrate to be processed, With the resin surface of the processing substrate facing upward, the adhesive surface of the adhesive tape 6 may be covered by pressing it from above, and the two may be adhered to each other, and the process may be shifted to a subsequent singulation process.

【0026】実施の形態2.次に、この発明の実施の形
態2について図3を用いて説明する。図3(a)は、実
施の形態1での、レーザビームによる被処理基板の切断
を行った際の、レーザ切断溝7aを中心とする拡大断面
図である。この図に示すように、レーザビームによっ
て、一続きの基板3aを切断して外形寸法L2に相当す
る平面寸法の基板3aとし、さらにトランスファーモー
ルド樹脂4aに対しても切断を行って、レーザ切断溝7
aを形成した場合、切断面には炭化物10が付着し、レ
ーザ加工面を汚染した状態となっている。
Embodiment 2 Next, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3A is an enlarged cross-sectional view centered on the laser cutting groove 7a when the substrate to be processed is cut by the laser beam in the first embodiment. As shown in this figure, a continuous substrate 3a is cut by a laser beam into a substrate 3a having a plane dimension corresponding to the external dimension L2, and further, the transfer mold resin 4a is also cut to form a laser cutting groove. 7
When a is formed, the carbide 10 adheres to the cut surface, and the laser processing surface is contaminated.

【0027】そこで、レーザビームによる切断を行った
後、図3(b)に示すように、被処理基板のレーザ切断
溝7aにエッチング液などの化学研磨液11を注入して
加工面に付着した炭化物10および加工面を化学研磨す
る。その後、洗浄することによって、図3(c)に示す
ように、レーザ加工を施した箇所は、外形表面の汚染物
が除去され、清浄な状態となる。
Then, after cutting by a laser beam, as shown in FIG. 3B, a chemical polishing liquid 11 such as an etching liquid is injected into a laser cutting groove 7a of a substrate to be processed and adheres to a processed surface. The carbide 10 and the processing surface are chemically polished. After that, by cleaning, the contaminants on the outer surface of the portion subjected to the laser processing are removed as shown in FIG.

【0028】化学研磨液11は、レーザ切断溝7aのみ
に接触するように注入されるため、製品その他の場所に
は何ら影響を与えることは無く、また必要な研磨液も少
量ですむ。なお、図3では、粘着テープ6の記載を省略
している。このように、製品をばらばらにしていない状
態で、一括してレーザ加工面の研磨を行うことができ、
容易に低コストで、外形表面を清浄にすることが可能と
なる。
Since the chemical polishing liquid 11 is injected so as to be in contact only with the laser cutting groove 7a, it does not affect the product and other places at all, and requires a small amount of polishing liquid. In FIG. 3, the description of the adhesive tape 6 is omitted. In this way, the laser-processed surface can be polished in a lump in a state where the products are not separated,
The outer surface can be easily cleaned at low cost.

【0029】また、化学研磨後に、粘着シート6に被処
理基板を貼り付け、レーザ加工によって切断されずに残
ったトランスファーモールド樹脂の厚みをブレイクして
から洗浄するという方法を採ることも可能である。
It is also possible to adopt a method in which the substrate to be processed is attached to the adhesive sheet 6 after the chemical polishing, and the thickness of the transfer mold resin remaining without being cut by the laser processing is broken and then washed. .

【0030】実施の形態3.実施の形態1および実施の
形態2においては、被処理基板を構成する一続きの基板
3a側からレーザビームを照射することによって、トラ
ンスファーモールド樹脂4aのわずかな厚みを残してそ
のほとんどの厚みを切断し、その後、ブレイクによっ
て、残された厚みを切断するという方法を示した。しか
し、ブレイク以外に、ダイシングソーを用いて、トラン
スファーモールド樹脂4aのわずかな厚みを切断して個
片化することも可能である。
Third Embodiment In the first and second embodiments, a slight thickness of the transfer mold resin 4a is reduced by irradiating a laser beam from a continuous substrate 3a constituting a substrate to be processed. A method was shown in which most of the remaining thickness was cut, and then the remaining thickness was cut by breaking. However, other than the break, it is also possible to use a dicing saw to cut a small thickness of the transfer mold resin 4a into individual pieces.

【0031】従来の技術において説明したように、トラ
ンスファーモールド樹脂はポッティング樹脂よりもシリ
カが多く含有されているため、すべての厚みをダイシン
グソーによって切断しようとした場合に、刃の磨耗が大
きいという問題があったが、レーザビームによる被処理
基板の切断後に、残されたわずかなトランスファーモー
ルド樹脂4aの厚みを切断する程度であれば、刃の磨耗
は少なく、刃の交換サイクルを長期間に設定することが
可能であり、この問題は解決することが可能である。
As described in the prior art, since the transfer mold resin contains more silica than the potting resin, there is a problem that the blade is greatly worn when all thicknesses are cut by a dicing saw. However, if the remaining transfer mold resin 4a is cut to a small thickness after cutting the substrate to be processed by the laser beam, the wear of the blade is small and the blade replacement cycle is set for a long time. And this problem can be solved.

【0032】ダイシングソーを用いて個片化した半導体
装置を得た場合においても、粘着テープによって接着さ
れているために製品の散乱を抑制することができ、安定
したハンドリング操作が可能となる。また、先述の実施
の形態と同様に、基板3aの捨てしろを少なくできると
いう効果があることも言うまでもない。
Even when individual semiconductor devices are obtained by using a dicing saw, scattering of products can be suppressed because the semiconductor devices are adhered by the adhesive tape, and a stable handling operation can be performed. It goes without saying that, similarly to the above-described embodiment, the effect of reducing the amount of discarding of the substrate 3a can be obtained.

【0033】[0033]

【発明の効果】この発明による半導体装置の製造方法に
よれば、トランスファーモールド樹脂を用いて樹脂封止
した小型の半導体装置を低コストで製造できる。また、
樹脂封止にトランスファーモールド樹脂を用いているた
め、ポッティング樹脂を用いた場合よりも、その材質の
相違のために信頼性を確保することができる。
According to the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a small-sized semiconductor device sealed with a resin using a transfer mold resin can be manufactured at low cost. Also,
Since the transfer molding resin is used for the resin encapsulation, reliability can be ensured due to the difference in the material, as compared with the case where the potting resin is used.

【0034】さらに、一続きの基板上に配置された複数
個のチップに対して一括に樹脂封止を行った後、樹脂表
面を粘着テープに貼り付けた後に、レーザビームによる
切断と、ブレイク、ダイシングソーのいずれかによる切
断とを組み合わせて個片化を行うため、個片化後の半導
体装置がばらばらに散乱せずに粘着テープに接着された
状態となる。従って、個片化後も安定したハンドリング
処理を行うことができるとともに、基板の捨てしろを極
力小さく抑制できる。
Further, after a plurality of chips arranged on a continuous substrate are collectively sealed with a resin, the resin surface is attached to an adhesive tape, and then cut by a laser beam, Since singulation is performed in combination with cutting with any of the dicing saws, the semiconductor device after singulation is adhered to the adhesive tape without being scattered separately. Therefore, a stable handling process can be performed even after the singulation, and the discarding amount of the substrate can be suppressed as small as possible.

【0035】また、この発明による半導体装置の製造方
法は、被処理基板に対して、レーザビームによる切断を
行った後、この加工処理によって生じた炭化物を化学研
磨処理によって除去する工程を含んでおり、レーザ加工
面を清浄にすることが可能となる。
Further, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of cutting a substrate to be processed by a laser beam and then removing a carbide generated by the processing by a chemical polishing process. Thus, the laser processing surface can be cleaned.

【0036】さらに、この発明による半導体装置は、上
記のようにトランスファーモールド樹脂によって封止を
行った被処理基板に対して、基板側からレーザビームに
よる切断と、ブレイク、ダイシングソーのいずれかによ
る切断とを組み合わせて個片化を行うという製造方法に
よって製造されるため、基板の平面寸法よりも上記トラ
ンスファーモールド樹脂の平面寸法の方が大きく形成さ
れた状態となる。よって、基板の効率的な利用が可能と
なるため、低コストな製造が可能である。また、ポッテ
ィング樹脂を用いた場合よりも、製品の信頼性を向上さ
せることができる。
Further, in the semiconductor device according to the present invention, the substrate to be processed, which has been sealed with the transfer mold resin as described above, is cut from the substrate side by a laser beam, and is cut by a break or a dicing saw. In this case, the transfer molding resin is formed so as to have a larger planar dimension than the planar dimension of the substrate. Therefore, efficient use of the substrate is possible, and low-cost manufacturing is possible. Further, the reliability of the product can be improved as compared with the case where a potting resin is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による個片化された
半導体装置の断面を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a cross section of an individualized semiconductor device according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 この発明の実施の形態1による半導体装置の
製造方法を工程順に示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

【図3】 この発明の実施の形態2による半導体装置の
製造方法を工程順に示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a method of manufacturing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1. ワイヤ、 2. チップ、 3、3a. 基板、4、4
a. トランスファーモールド樹脂、 5. はんだボー
ル、6. 粘着テープ、7. レーザビーム照射方向、 7
a. レーザ切断溝、8a〜8c. ブレイク方向、9. 粘
着テープ引き伸ばし方向、10. 炭化物、 11. 化学
研磨液。
1. wire, 2. chip, 3, 3a. Substrate, 4, 4
a. Transfer molding resin, 5. Solder ball, 6. Adhesive tape, 7. Laser beam irradiation direction, 7
a. Laser cutting groove, 8a-8c. Break direction, 9. Adhesive tape stretching direction, 10. Carbide, 11. Chemical polishing liquid.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に半導体装置の製品外形寸法に相
当するピッチで複数個のチップを搭載する工程、上記チ
ップが搭載された被処理基板上にトランスファーモール
ド樹脂を導入し、上記チップを一括して樹脂封止する工
程、上記被処理基板の上記トランスファーモールド樹脂
側の表面に粘着シートを貼り付ける工程、上記被処理基
板の製品外形の外周に相当する領域に対し、上記トラン
スファーモールド樹脂に吸収されやすいレーザビーム
を、上記基板側から照射し、上記基板と上記トランスフ
ァーモールド樹脂の大部分の厚みを切断する工程、上記
レーザビームの照射による上記被処理基板の切断におい
て、切断されずに残された上記トランスファーモールド
樹脂をブレイクして、上記被処理基板を個片化する工程
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A step of mounting a plurality of chips on a substrate at a pitch corresponding to the external dimensions of a semiconductor device; introducing a transfer mold resin onto a substrate to be processed on which the chips are mounted; Encapsulating the resin, attaching an adhesive sheet to the surface of the substrate to be processed on the side of the transfer mold resin, absorbing the transfer mold resin into a region corresponding to the outer periphery of the product outer shape of the substrate to be processed. A step of irradiating a laser beam that is likely to be emitted from the substrate side and cutting the thickness of the substrate and the transfer mold resin, and cutting the substrate to be processed by the irradiation of the laser beam, is left uncut. Breaking the transfer mold resin to singulate the substrate to be processed. Semiconductor device manufacturing method.
【請求項2】 レーザビームによる被処理基板の切断の
後、切断されずに残った製品外形の外周に相当する領域
のトランスファーモールド樹脂の膜厚は、ブレイクによ
って切断可能な膜厚とすることを特徴とする請求項1記
載の半導体装置の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the thickness of the transfer mold resin in a region corresponding to the outer periphery of the outer shape of the product which has not been cut after cutting the substrate to be processed by the laser beam is set to a thickness that can be cut by a break. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 レーザビームによる被処理基板の切断の
後、切断されずに残った製品外形の外周に相当する領域
のトランスファーモールド樹脂をダイシングソーを用い
て切断することを特徴とする請求項1記載の半導体装置
の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein, after the substrate to be processed is cut by the laser beam, the transfer mold resin in an area corresponding to the outer periphery of the product outer shape that has not been cut is cut using a dicing saw. The manufacturing method of the semiconductor device described in the above.
【請求項4】 レーザービームによる被処理基板の切断
の後、個片化するまでに、上記レーザービームによる加
工面に化学研磨処理を施すことを特徴とする請求項1記
載の半導体装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein after the substrate to be processed is cut by the laser beam, the surface to be processed by the laser beam is subjected to a chemical polishing treatment before the substrate is separated. .
【請求項5】 基板上に1つのチップが搭載され、トラ
ンスファーモールド樹脂により樹脂封止された半導体装
置において、上記基板の平面寸法よりも上記トランスフ
ァーモールド樹脂の平面寸法の方が大きく形成されてい
ることを特徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device having one chip mounted on a substrate and resin-sealed with a transfer mold resin, wherein the transfer mold resin has a larger planar dimension than the substrate. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
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