JP2000276707A

JP2000276707A - 記録再生分離型磁気ヘッド

Info

Publication number: JP2000276707A
Application number: JP11081964A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Mima; 宏行美馬; Satoshi Meguro; 怜目黒; Hiroshi Fukui; 宏福井; Zenzo Torii; 善三鳥居; Shitsuichi Ikeuchi; 執一池内
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Proterial Ltd
Priority date: 1999-03-25
Filing date: 1999-03-25
Publication date: 2000-10-06

Abstract

(57)【要約】【課題】狭トラック幅、ギャップ深さの制御、上部磁
極の組成変動や膜厚の抑制等により記録再生分離型磁気
ヘッドを小型化し、高容量化する。【解決手段】上部磁極を磁極部と磁極柱とヨーク部に
分離した構成とすると共に、コイル層やヨーク部を形成
する前段階の、磁極部を形成する面が平坦な状態で記録
ヘッド部分の磁極部を形成することによって、下部磁極
上に積層したコイルや絶縁層によってギャップ層との間
に生じる段差により生じる障害を解決し、記録再生分離
型磁気ヘッドを小型化し、高容量化する。上部磁極はそ
れぞれ分離した磁極部と磁極柱とヨーク部とを備え、磁
極部は磁気記録面側においてギャップ層上及び該ギャッ
プ層上に形成されたギャップ深さ規定用絶縁層上に形成
し、ヨーク部は磁極部の上部面と磁極柱の上部面におい
て同一高さで磁気的に接続する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録再生分離型の
磁気ヘッドに関し、特に基板上に下部磁極層，磁気ギャ
ップ層および上部磁極層を形成してなる磁気抵抗効果型
磁気ヘッドの記録ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】記録再生分離型磁気ヘッドは、記録ヘッ
ド部と再生ヘッド部とを分離して備える磁気ヘッドであ
り、ＭＲヘッドやＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッド等が知ら
れている。

【０００３】記録ヘッド部の一構成として、膜状の下部
磁極と上部磁極の間にギャップ層を設け、上部磁極と下
部磁極とを磁気的に接続し、上部磁極と下部磁極の接続
部周囲にコイル層を設け、上部磁極を保護層で覆う薄膜
磁気ヘッドが知られている。

【０００４】図８，９は記録再生分離型磁気ヘッドの一
構成例の概略図及び断面図である。図８，９において、
記録再生分離型磁気ヘッドは記録ヘッド部１００と再生
ヘッド部１２０とを備える。記録ヘッド部１００は、下
部磁極１０２と上部磁極１０５とをギャップ層１０３を
挟んで対面して配置させて構成している。また、再生ヘ
ッド部１２０は、上部シールド１０２（下部磁極１０２
と兼用する）と下部シールドとの間に再生素子１２１を
配置して構成している。また、記録ヘッド及び再生ヘッ
ドと外部との間は引き出し端子１１３及び端子１１４を
介して接続している。

【０００５】なお、以下の説明では、記録ヘッド部分の
み示し、再生ヘッド部分については省略する。また、記
録再生分離型磁気ヘッドは単に磁気ヘッドとして説明す
る。

【０００６】磁気媒体に対する記録は、磁気ヘッドのギ
ャップ層の先端面を磁気媒体に対向させ、下部磁極，磁
気媒体，上部磁極によって磁気回路を形成し、この磁気
回路に生じる磁気変化を利用して行っている。

【０００７】従来より、磁気ヘッドの記録ヘッド部の磁
極の形成には、下部磁極と上部磁極をマスクを利用して
スパッタで形成する方法、下部磁極と上部磁極を成膜し
た後、イオンミリングで所定寸法に加工する方法、下部
磁極と上部磁極をめっきで成膜した後、ケミカルエッチ
ングで所定寸法にエッチングする方法等の種々の方法が
用いられている。

【０００８】また、トラック幅分だけ間隔を開けて一対
のレジスト部を設け、このレジスト部間に下部磁極とギ
ャップ層と上部磁極を、金属材料によるめっきで形成す
る薄膜磁気ヘッド（特開平６−２８６２６号公報）も知
られている。

【０００９】図１０は従来の磁気ヘッドの記録ヘッド部
の一形成工程例を示す図である。なお、図１０では、左
方に磁気記録面（浮上面（ＡＢＳ））側から見た図を示
し、右方に磁気記録面（浮上面（ＡＢＳ））側から奥行
き方向への断面図を示している。なお、磁気ヘッドをス
ライダーに適用した場合には、磁気記録面は浮上面（Ａ
ＢＳ）となる。

【００１０】図１０に示す磁気ヘッドの記録ヘッド部
は、基板上に下部磁極１０１，１０２を形成し、下部磁
極１０２上に非磁性体をスパッタしてギャップ層１０３
を形成し、ギャップ層１０３の一部をエッチングしてバ
ックスルーホール１１５を形成した後、ギャップ層１０
３上に絶縁層１０４を形成する（図１０（ａ））。

【００１１】絶縁層１０４上にコイル１１０を形成した
後（図１０（ｂ））、絶縁層１１１を形成し、さらにコ
イル１１０’及び絶縁層１１１を形成して多層コイルを
形成する（図１０（ｃ））。さらに、露出しているギャ
ップ層１０３、絶縁層１１１、及びバックスルーホール
１１５上に上部磁極１０５をめっきで形成する（図１０
（ｄ））。

【００１２】上部磁極１０５を形成した後、イオンリン
グによって絶縁層１０３及び下部磁極１０２，１０１を
トリムして、上部磁極１０５と下部磁極１０２，１０１
の幅をトラック幅にそろえる（図１０（ｅ））。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドの小型化や
磁気ヘッドを用いた磁気記録装置の高容量化に伴って、
より狭いトラック幅で高精度の磁気ヘッドが求められて
いる。現在の磁気ヘッドでは、トラック幅は０．９μｍ
が限界であるが、１０Ｇｂの大容量の磁気ヘッドでは
０．６μｍのトラック幅が必要となる。

【００１４】しかしながら、従来の磁気ヘッドの記録ヘ
ッド部の構成では、狭トラック幅化や高精度化に限界が
生じている。発明者は、この磁気ヘッドの狭トラック幅
化や高精度化の障害となっている一要因に素子の段差が
あることを見い出した。

【００１５】従来の磁気ヘッドの記録ヘッド部では、下
部磁極上に積層したコイルや絶縁層によってギャップ層
との間に段差が生じる。この段差は、狭トラック幅化を
困難とし、ギャップ深さの制御を困難とし、また、上部
磁極の場所による組成変動や膜厚の不均一を起こし、磁
気特性の制御を困難としている。

【００１６】図１１は従来の磁気ヘッドの記録ヘッド部
の問題点を説明するための図である。図１１（ａ）は段
差がトラック幅の形成におよぼす影響を説明する図であ
る。上部磁極１０５を形成するには、下部磁極１００及
び絶縁層１０３上にコイル１１０及び絶縁層１１１を形
成した後、レジスト１３１を形成し、このレジスト１３
１にトラック幅Ｔｗの幅の溝１３３を形成する。この溝
１３３内にメッキを行うことによって、上部磁極１０５
の磁気記録面側のトラック幅を所定の幅に形成する。

【００１７】上部磁極１０５は、トラック幅を形成する
側及びコイル１１０側に形成する必要があるため、形成
されるレジスト１３１の膜厚Ａはコイル１１０及び絶縁
層１１１で形成される段差に応じて高くなり、１０μｍ
以上が必要である。しかしながら、狭いスリットを深く
形成することには限界があり、１０μｍ以上の膜厚にた
とえば０．６μｍ程の狭いスリットを形成して、絶縁層
１０３まで到達する溝１３３を形成することは困難であ
るという問題がある。溝１３３の底が絶縁層１０３の面
まで届かない場合には、磁気ヘッドの磁極ギャップの幅
を所定値とすることができない。

【００１８】図１２は上部磁極を形成するためのレジス
トを説明するための概略斜視図である。レジスト１３１
はコイルや絶縁層１１１よりも高い膜厚で形成される
（図１２（ａ））。溝１３３は、狭いトラック幅Ｔｗ
で、レジスト１３１の上面から形成されるが、形成でき
る深さには限界あるため、膜厚Ａが厚い場合にはギャッ
プ層を構成する絶縁層１０３まで到達することができな
い。

【００１９】図１１（ｂ），（ｃ）は段差がギャップ深
さの制御におよぼす影響を説明する図である。

【００２０】磁気ヘッドの磁気記録特性を定める一パラ
メータとしてギャップ深さＧｄ（あるいはスロートハイ
トとも云う）がある。このギャップ深さＧｄは磁気記録
面から上部磁極の後端までの距離であり、絶縁層の磁気
記録面側の先端の位置によって定めることができる。図
１１（ｂ）は、後工程で形成する絶縁層１１１によって
ギャップ深さＧｄを定める場合を示している。

【００２１】膜厚Ａが厚い場合には後工程で形成する絶
縁層１１１は、積層したコイル等の厚さによって絶縁層
１０３との段差によって膜厚Ａが大きいため、その絶縁
層の磁気記録面側の先端位置Ｂを精度良く制御すること
が困難である。絶縁層の先端位置Ｂのずれはギャップ深
さＧｄのずれとなるため、段差が大きい場合にはギャッ
プ深さＧｄを高精度に制御することができないという問
題がある。

【００２２】図１１（ｂ）に対して、図１１（ｃ）は先
の工程で形成する絶縁層１０４によってギャップ深さＧ
ｄを定める場合を示している。この絶縁層１０４によれ
ば、段差に係わらずに先端位置Ｃを定めることができ
る。しかしながら、絶縁層１０４を形成した後の工程に
よって、絶縁層１０４の先端位置Ｃは図中の矢印のよう
に位置Ｄに後退する。したがって、先の工程で形成する
絶縁層１０４を用いた場合にも、ギャップ深さＧｄを高
精度に制御することができないという問題がある。

【００２３】また、図１１（ｄ）は段差が上部磁極の組
成や膜厚におよぼす影響を説明する図である。上部磁極
等の磁気回路の磁路構成部分をめっきで形成する場合、
めっき形成面に段差があると膜厚や組成が場所によって
異なり、磁路構成部分の膜厚や組成を均一とすることが
できないという問題がある。この磁路構成部分における
膜厚や組成の不均一性は、磁気ヘッドの磁気特性に影響
を与え、所望とする記録再生特性を得ることができない
場合がある。組成や膜厚の不均一性は、特にＮｉＦｅめ
っきにおいてＦｅ成分が多い組成（４５ＮｉＦｅ（Ｎｉ
４５ｗｔ％Ｆｅ５５ｗｔ％））の場合に顕著となる。

【００２４】上部磁極１０５をめっき形成すると、浮上
面側及びバックスルーホール側とこの両者の中間部分と
の間に段差が生じる。上部磁極の浮上面側Ｆとバックス
ルーホール側Ｇとの中間部分Ｅを基準とすると、８３Ｎ
ｉＦｅ（Ｎｉ８３ｗｔ％Ｆｅ１７ｗｔ％）では磁気記録
面側Ｆとバックスルーホール側Ｇにおいて膜厚が２％増
加し、Ｎｉ組成がほぼ１（ｗｔ％）増加する。また、４
５ＮｉＦｅでは浮上面側Ｆとバックスルーホール側Ｇに
おいて膜厚が１０％減少し、Ｎｉ組成がほぼ２（ｗｔ
％）増加する。

【００２５】磁気記録面側Ｆは磁気記録媒体に近接する
個所であり、浮上面側Ｆの上部磁極の膜厚が薄い場合に
は、薄膜磁気ヘッドのＯ／Ｗ（オーバーライト）特性が
悪化することになる。また、ギャップ深さＧｄを設定す
るために、磁気記録面を切削して絶縁層１０４の先端位
置ＡＰＥＸとの距離を定める際、磁気記録面側Ｆの高さ
（厚さ）Ｈが位置によって変動している場合には、切削
位置によってその高さ（厚さ）Ｈが変動することにもな
る。

【００２６】この組成および膜厚の変動は、金属析出と
同時に水素が発生し、特に微細パターン部分では共析水
素および水素イオンの蓄積によって、析出界面のＰＨが
めっき面の近傍で変動し、その結果ＰＨに依存した組成
変動が起こりやすくなるためと考えられ、また、特にＦ
ｅを含む合金めっきでは、標準酸化還元電位（イオン化
傾向）が卑な金属（イオン化し易い金属）が優先的に析
出する“変則共析”という現象が起きるため、微細パタ
ーン部分での水素および水素イオンの界面蓄積により界
面ＰＨが変動し、組成変動や膜厚変動が起こりやすくな
るためと考えられる。

【００２７】上記のように、従来の磁気ヘッドの記録ヘ
ッド部では、下部磁極上に積層したコイルや絶縁層によ
ってギャップ層との間に生じる段差によって、トラック
幅の狭幅化、ギャップ深さの制御、上部磁極の組成変動
や膜厚の不均一等による磁気特性制御等の点で問題があ
り、磁気ヘッドを小型化、高容量化する上で障害となっ
ている。

【００２８】そこで、本発明は前記した従来の問題点を
解決して、磁気ヘッドを小型化、高容量化することを目
的とする。さらに詳細には、下部磁極上に積層したコイ
ルや絶縁層によってギャップ層との間に生じる段差によ
る問題点を解決し、狭いトラック幅を備える記録再生分
離型磁気ヘッドを提供することを目的とし、ギャップ深
さの容易な制御が容易な記録再生分離型磁気ヘッドを提
供することを目的とし、上部磁極の組成変動や膜厚の不
均一を抑制し、磁気特性の制御を容易とすることができ
る記録再生分離型磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。

【００２９】

【課題を解決するための手段】本発明は、上部磁極を磁
極部と磁極柱とヨーク部に分離した構成とすると共に、
コイル層やヨーク部を形成する前段階の、磁極部を形成
する面が平坦な状態において磁極部を形成することによ
って、下部磁極上に積層したコイルや絶縁層によってギ
ャップ層との間に生じる段差により生じる障害を解決す
るものである。

【００３０】本発明によれば、磁極部の形成に用いるレ
ジストの高さ（厚さ）を低くすることができるため、狭
いトラック幅を形成することができる。また、磁極部は
後工程の影響を受けないため、ギャップ深さや磁極部の
高さ（厚さ）の制御を容易とすることができる。また、
磁極部と磁極柱とヨーク部の組成を個別に制御すること
ができるため、上部磁極の組成変動や膜厚の不均一を抑
制することができる。

【００３１】図１は本発明の記録再生分離型磁気ヘッド
を説明するための概略図である。なお、図１は記録再生
分離型磁気ヘッドの記録ヘッド部分の一部を示しており
主に磁極部の断面部分を示している。図１（ａ）は本発
明による狭トラック幅の形成を説明するための図であ
り、図１（ｂ）は本発明によるギャップ深さの制御の容
易さを説明するための図であり、図１（ｃ）は本発明に
よる磁極部の高さ（厚さ）の制御の容易さを説明するた
めの図であり、図１（ｄ）は本発明による上部磁極の組
成変動や膜厚の抑制等を説明するための図である。

【００３２】なお、以下の各図の説明において、磁気ヘ
ッドにおいて磁気記録面を前方向として磁気記録面から
磁気ヘッドの後端方向への位置及び距離を深さで表し、
下部磁極側を下方向として下部磁極から上方向に向かう
位置及び距離をそれぞれ高さ及び厚さで表すこととす
る。また、以下の説明では、記録ヘッド部分のみ示し、
記録再生分離型磁気ヘッドは磁気ヘッドで表している。

【００３３】はじめに、狭トラック幅の形成について説
明する。図１（ａ）において、下部磁極２上にはギャッ
プ層３が形成され、ギャップ層３の一部にはギャップ深
さ規定用絶縁層４が形成される。磁極部５はギャップ層
３上及びギャップ深さ規定用絶縁層４上に、レジスト３
１によって形成される。レジスト３１の高さ（厚さ）
は、コイルやヨーク部（図示していない）と無関係に磁
極部５の高さ（厚さ）で定めることができるため、従来
よりも低く（薄く）形成することができる。レジスト３
１の高さ（厚さ）を低く（薄く）することによって、磁
極部５のトラック幅Ｔｗを狭く形成することができる。
レジスト膜厚を一例として４μｍ程度とすることによっ
て、トラック幅Ｔｗを０．５μｍ程度まで狭めることが
できる。

【００３４】次に、ギャップ深さの制御の容易さについ
て説明する。図１（ｂ）において、磁極部５をレジスト
３１を用いてめっき等で形成した後、イオンミリング等
によって磁極部５の部分のギャップ層３及び下部磁極２
をトリムし、ギャップ層３及び下部磁極２の幅を磁極部
５のトラック幅Ｔｗの整形する。磁極部５の磁気記録面
側には、ギャップ深さ規定用絶縁層４の厚さによって切
り欠き部９が形成され、この切り欠き部９は非磁性体で
埋設される。

【００３５】したがって、磁極部５のギャップ深さＧｄ
は、ギャップ深さ規定用絶縁層４の先端部分（ＡＰＥ
Ｘ）で定まり、この位置は磁気記録面側の切削工程やヨ
ーク部の形成工程等の後工程に影響されないため、高精
度に制御することができる。

【００３６】次に、磁極部の高さ（厚さ）の制御の容易
さについて説明する。図１（ｃ）において、前記図１
（ｂ）で示したように、磁極部５のギャップ深さの区間
において、磁極部５はギャップ層３の平らな面上に形成
され、また、ミリングでトリムされた後には、磁極部５
の上面部分は切り欠き部９の非磁性体で覆われるため
る。そのため、ギャップ深さの区間では磁極部５の厚さ
は一定となる。したがって、磁気記録面側の切削工程で
深さ方向に切削しても、磁極部５の厚さは、ミリング時
に定めた一定の厚さとなる。

【００３７】次に、上部磁極の組成変動や膜厚の抑制等
について説明する。図１（ｄ）において、磁極部５を形
成した後、該磁極部５に磁気的に接続するようにヨーク
部１２を形成する。磁極部５とヨーク部１２とを分離
し、別工程で形成することにより、各部分の組成及び膜
厚を任意に制御することができる。

【００３８】また、磁気記録面において、磁極部５及び
切り欠き部９の側部は非磁極性材で埋設し、磁極部５及
び切り欠き部９の上面と同一高さにする。これによっ
て、磁極部５上に形成するヨーク部１２の幅を大きくと
ることができ、磁極部５とヨーク部１２との位置合わせ
を容易とすることができる効果、及び磁極部５とヨーク
部１２の接合個所付近におけるすの発生を防止すること
ができる効果がある。

【００３９】上記したように、狭いトラック幅の形成、
ギャップ深さの容易な制御、上部磁極の組成変動や膜厚
の不均一の抑制等によって、磁気ヘッドを小型化し、ま
た高容量化することができる。

【００４０】上記した本発明の磁気ヘッドは、以下の各
形態によって構成することができる。本発明の第１の形
態は、少なくとも磁気記録面側においてギャップ層を挟
んで対峙させて磁気回路を構成する下部磁極と上部磁極
を備えた磁気ヘッドにおいて、上部磁極はそれぞれ分離
した磁極部と磁極柱とヨーク部とを備え、磁極部は磁気
記録面側においてギャップ層上及び該ギャップ層上に形
成されたギャップ深さ規定用絶縁層上に形成し、ヨーク
部は磁極部の上部面と磁極柱の上部面において同一高さ
で磁気的に接続する構成である。

【００４１】この構成によって、上部磁極を磁極部と磁
極柱とヨーク部に分離した構成とし、また、磁極部をコ
イル層やヨーク部を形成する前段階の、磁極部を形成す
る面が平坦な状態において磁極部を形成する。

【００４２】第１の形態において、磁極部はヨーク部の
形成前に独立して形成し、また、磁極部の厚さは、磁極
柱の厚さより少なくともギャップ深さ規定用絶縁層の厚
さ分だけ薄い構成とする。これによって、ギャップ深さ
の制御及び磁極部の高さ（厚さ）を高精度に制御するこ
とができる。

【００４３】また、第１の形態において、同一のミリン
グによって、磁極部の下方のギャップ層及び下部磁極の
トラック幅への整形と、磁極部及び磁極柱の高さ調整と
を同時に行うことができ、工程を簡略化することができ
る。

【００４４】第１の形態において、磁極部とヨーク部と
の関係において以下の構成とすることができる。上記関
係の第１の構成は、磁極部と磁極柱とは同一高さにおい
てヨーク部と接触する構成である。上記関係の第２の構
成は、磁極部とヨーク部の接触部分の深さ方向の長さ
を、磁極部の厚さよりも大とする構成であり、この構成
によって磁気特性を向上させることができる。上記関係
の第３の構成は、磁極部と接触するヨーク部の磁極柱側
の端部を、磁極部の後端と同位置あるいは後方とする構
成であり、この構成によってヨーク部形成時における位
置ずれを吸収することができる。上記関係の第４の構成
は、磁極柱と接触する側のヨーク部の深さ方向の長さを
磁極柱の深さ方向の長さより長くする構成であり、この
構成によってヨーク部形成時における位置ずれを吸収す
ることができる。上記関係の第５の構成は、磁極柱と接
触する側のヨーク部の面積は磁極柱の面積より大とする
構成であり、この構成によってヨーク部形成時における
位置ずれを吸収することができる。上記関係の第６の構
成は、磁極柱と接触する側のヨーク部の後端を磁極柱の
後端より前方とする構成であり、この構成によってヨー
ク部形成工程を容易なものとすることができる。

【００４５】また、第１の形態について、ギャップ深さ
規定用絶縁層の磁気記録面側の端部をギャップ深さを規
定する端部とすることができ、この構成によってギャッ
プ深さの制御を容易とすることができる。

【００４６】さらに、第１の形態において、磁極部は以
下の構成とすることができる。磁極部は、磁極部のギャ
ップ層上に形成される上部面をギャップ深さ規定用絶縁
層上に形成される磁極部の上部面より低くする切り欠き
部を備え、切り欠き部の上部面は、ギャップ深さ規定用
絶縁層上に形成される磁極部の上部面と同一高さである
構成である。切り欠き部は、磁極部の高さを定める基準
となる。

【００４７】上記磁極部の構成が備える切り欠き部にお
いて、以下の構成とすることができる。切り欠き部にお
ける第１の構成は、切り欠き部の厚さをギャップ深さ規
定用絶縁層の厚さより低い構成である。切り欠き部にお
ける第２の構成は、切り欠き部の後端とギャップ深さ規
定用絶縁層の前端を、磁気記録面からほぼ同一の深さと
する構成とする。これは、ギャップ深さ規定用絶縁層の
前端によってギャップ深さが定まり、少なくともこのギ
ャップ深さの区間において磁極部の高さを一定とするた
めである。

【００４８】切り欠き部における第３の構成は、磁極部
と接触するヨーク部の磁気記録面側の端部を、切り欠き
部の後端と同位置あるいは後方とする構成とする。これ
は、ヨーク部は少なくとも磁極部と磁気的に接続するた
めである。切り欠き部における第４の構成は、切り欠き
部内及び磁極部と磁極柱の間の凹部を非磁性材で埋設
し、磁極部と非磁性材と磁極柱の各上部面を同一の平面
とする構成とする。この非磁性材は熱伝導性が良い絶縁
材とし、これによって、コイルから発生する熱の放熱を
良好に行うことができる。

【００４９】また、上記切り欠き部における第５の構成
において、磁極部と磁極柱の間の凹部に埋設された非磁
性材の平面上にコイルを形成し、また、該平面をケミカ
ルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）により形成する。平
面とすることによりコイルの形成を容易とすることがで
きる。また、ケミカルメカニカルポリシングによる機械
的な切削によって平坦性及び寸法の制御を容易とするこ
とができる。

【００５０】第１の形態において、ギャップ層上に形成
される磁極部の上部面の高さを、ギャップ深さの区間に
おいて同一高さとし、これによって磁極部の高さ（厚
さ）を高精度に制御することができる。

【００５１】また、第１の形態において、磁極部と磁極
柱とヨーク部の組成を同一組成あるいは異なる組成に任
意に形成することができる。同一組成とする場合には、
磁極部とヨーク部の組成のばらつきを一例として従来の
３ｗｔ％から０．５ｗｔ％に改善することができる。

【００５２】異なる組成とする場合において、磁極部の
飽和磁束密度をヨーク部の飽和磁束密度より大とする構
成によって、大きな記録磁界を得ることができ、大きな
Ｏ／Ｗ（オーバーライト）を得ることができる。また、
磁極部の比抵抗をヨーク部の比抵抗より小とする構成に
よって、渦電流損を低減し、高い周波数に対応すること
ができる。

【００５３】また、第１の形態において、ヨーク部の厚
さを磁極部の厚さより薄く形成し、インダクタンスを低
減してＮＬＴＳ（非線形性）を改善させることができ
る。

【００５４】本発明の第２の形態は、少なくとも磁気記
録面側においてギャップ層を挟んで対峙させて磁気回路
を構成する下部磁極と上部磁極を備えた磁気ヘッドにお
いて、磁気記録面は下部磁極、ギャップ層、上部磁極、
非磁性層、及びオーバーコート部の積層面を露出して備
える構成である。

【００５５】第２の形態によれば、上部磁極の上方に位
置する非磁性層の存在によって、上部磁極の厚さはギャ
ップ深さによって影響されず、形成時のばらつきを抑制
することができる。

【００５６】また、本発明の第３の形態は、少なくとも
磁気記録面側においてギャップ層を挟んで対峙させて磁
気回路を構成する下部磁極と上部磁極を備えた磁気ヘッ
ドにおいて、上部磁極はそれぞれ分離した磁極部と磁極
柱とヨーク部とを備え、上部磁極は、下部磁極、ギャッ
プ層、ギャップ深さ規定用絶縁層、上部磁極及び磁極柱
を順に積層して形成した後、上部磁極と該上部磁極が形
成されるギャップ層及び下部磁極のミリングにより形成
し、磁極柱は、上部磁極の形成の後に非磁極性材を積層
し、上部磁極の一部を共に露出させて同一高さの平面と
し、ヨーク部は平面及びコイルの上方に形成する構成で
ある。

【００５７】第３の形態によれば、上部磁極を磁極部と
磁極柱とヨーク部に分離した構成に形成し、また、磁極
部をコイル層やヨーク部を形成する前段階の、磁極部を
形成する面が平坦な状態において磁極部を形成する。

【００５８】また、上記した本発明の第１〜３の形態に
おいて、磁気記録面を浮上面として、磁気ヘッドをスラ
イダーとする磁気記録装置を構成することができる。本
発明による磁気ヘッドをスライダーとする磁気記録装置
によれば、磁気ヘッドの磁極のトラック幅Ｔｗを狭める
ことができるため、高密度記録及び高容量記録を行うこ
とができる。また、磁気ヘッドの磁極部及びヨーク部の
組成や厚さの制御が容易となるため、オーバーライト比
や線形性や高周波特性が良好な磁気記録装置を得ること
ができる。

【００５９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。なお、以下の各図の説明
において、磁気ヘッド（記録再生分離型磁気ヘッド）に
おいて磁気記録面を前方向として磁気記録面から磁気ヘ
ッドの後端方向への位置及び距離を深さで表し、下部磁
極側を下方向として下部磁極から上方向に向かう位置及
び距離をそれぞれ高さ及び厚さで表すこととする。ま
た、各図において、再生ヘッド部分を省略し、記録ヘッ
ド部分のみ示している。

【００６０】図２は本発明の磁気ヘッドの概略図であ
り、図２（ａ）は上部磁極側から見た平面図であり、図
２（ｂ）は磁極部を通る断面図である。図２（ｂ）の断
面図において、磁気ヘッド１は下部磁極２上に、ギャッ
プ層３、ギャップ深さ規定用絶縁層４、磁極部５、磁極
柱６、コイル層１０、絶縁層１１、ヨーク部１２、及び
オーバーコート部１３等を積層して備え、磁極部５とヨ
ーク部１２と磁極柱６により上部磁極を構成し、この上
部磁極とギャップ層３と下部磁極２とによって磁気回路
を構成する。

【００６１】磁気記録面２１において、磁極部５とギャ
ップ層３と下部磁極２の積層部分が露出し、磁極部５と
下部磁極との間の磁束によって磁気情報の書き込みある
いは読み出しを行う。なお、磁気ヘッド１をスライダー
とする場合には、磁気記録面２１は浮上面ＡＢＳ（エア
ーベアリングサーフェス）を構成する。

【００６２】ギャップ層３は、下部磁極２上において、
磁極柱６を形成するためのバックスルーホール１５を除
いて形成する。ギャップ深さ規定用絶縁層４は、磁極部
５のギャップ深さＧｄ（あるいはスロートハイトとも云
う）を定めるものであり、磁気記録面２１側の先端部分
ＡＰＥＸがギャップ深さＧｄの後端位置となる。したが
って、ギャップ深さ規定用絶縁層４は、磁気記録面２１
からギャップ深さＧｄの位置から後方に向かってレジス
トにより形成され、厚さは例えば１μｍ程度とすること
ができる。

【００６３】磁極部５は、磁気記録面２１側のギャップ
層３からギャップ深さ規定用絶縁層４の一部にかけて形
成する。磁極部５は段差を有した構造であり、ギャップ
層３上に形成される磁極部５の高さはギャップ深さ規定
用絶縁層４上に形成し磁極部５の高さより低く形成す
る。ギャップ層３上にある磁極部５の上部には、アルミ
ナ等の非磁性材によって切り欠き部９を形成する。

【００６４】磁極柱６は、下部磁極２上のギャップ層３
が設けられていないバックスルーホール１５部分に形成
する。磁極部５と磁極柱６との間の空間部分は、埋め込
まれて埋設部８を構成している。埋設部８の素材は、熱
伝導性が良い絶縁体を用いることができ、アルミナ等の
非磁性材を使用することができる。

【００６５】切り欠き部9と磁極部５の一部と磁極柱６
と埋設部８の上部面は、同一の高さであり同一面２０を
形成している。埋設部８の平面２０上にはコイル層１０
及び絶縁層１１が形成される。このコイル層と絶縁層は
多層とすることができ、コイル層１０及び絶縁層１１の
上方にコイル層１０’及び絶縁層１１’を積層すること
ができる。

【００６６】コイル層１０及び絶縁層１１の上方には、
両端において磁極部５及び磁極柱６と接続するヨーク部
１２を形成する。ヨーク部１２は平面２０上において磁
極部５と接続する。該磁極部５との接続部分において、
ヨーク部１２の磁気記録面側の端部２４は、切り欠き部
９の立ち上がり端部２３と同位置、あるいは端部２３か
ら後方の位置とする。また、該接続位置において、ヨー
ク部１２の磁気記録面２１側の後端２６は、磁極部５の
後端２５と同位置、あるいは後端２５から後方の位置と
する。

【００６７】また、ヨーク部１２は平面２０上において
磁極柱６と接続する。該磁極柱６との接続部分におい
て、ヨーク部１２の磁気記録面側の端部２７は、磁極柱
６の磁気記録面側の端部より前方とし、後方の端部２８
は、磁極柱６の後方の端部より前方とする。

【００６８】切り欠き部９、磁極部５の一部、ヨーク部
１２、磁極柱６の一部の上方はアルミナ等の非磁性材に
よって覆い、オーバーコート部１３を形成する。図2
（ａ）はオーバーコート部１３を上方から見た図であ
り、オーバーコート部１３は磁極部５や磁極柱６と比較
して十分広い面積を備える。

【００６９】なお、図２において、Ｌｙ１はＡＰＥＸと
切り欠き部９の立ち上がり上端との距離を示し、Ｌｙ２
は切り欠き部９の立ち上がり上端とヨーク部１２の広が
り変化点（角度δ２）までの距離（距離の一例として６
μｍ）を示し、Ｌｙ３は切り欠き部９の立ち上がり上端
とヨーク部１２の先端２４との距離を示している。ま
た、ヨーク部１２の先端２４と磁極部５の後端２５との
距離は、一例として３μｍとする。また、ヨーク部１２
の先端２４から前記変化点（角度２）までの広がり角度
は角度δ１である。

【００７０】また、ＡＰＥＸから磁極柱６の先端までの
距離はＬｍで示し、ヨーク部１２の磁気記録面２１側の
後端２６からコイル層１０の先端までの距離はＬｍｆで
示し、コイル層１０の後端から磁極柱６の先端までの距
離はＬｍｂで示し、コイル層１０の先端と後端と間の距
離はＬｍｃで示している。また、磁極柱６の深さ方向の
長さはＬｂｇ（一例として１０μｍ）を示し、磁極柱６
の先端から下部磁極２の後端までの距離はＬｕｐｂで示
し、磁極柱６の後端から下部磁極２の後端までの距離の
一例は３μｍである。

【００７１】また、図２（ａ）において、磁極部５のト
ラック幅はＴｗで示し、磁極柱６の幅はＷｂｇで示し、
ヨーク部１２の幅はＷ１で示し、下部磁極２の幅はＷｍ
ｉｄで示している。

【００７２】次に、本発明の磁気ヘッドを形成する手順
について、図３のフローチャート、図４，５の手順を示
した断面図、図６，７の手順を示した斜視図を用いて説
明する。なお、フローチャート中の（ａ）〜（ｉ）は、
図４，５の図番符号（ａ）〜（ｉ）と対応させて示して
いる。なお、図４，５の断面図において、断面図の左方
に示す図は磁気記録面の図である。

【００７３】はじめに、再生ヘッド部１２０を形成す
る。図８，９に示すように、再生ヘッド部１２０は下部
シールド１２２上に再生素子１２１を形成し、該再生素
子１２１上に上部シールドを形成して構成する。記録ヘ
ッド部１００を再生ヘッド部１２０上に形成する。この
とき、再生ヘッド部１２０の上部シールドは記録ヘッド
部１００の下部磁極１０２を兼ねている。

【００７４】図４（ａ）において、下部磁極２を形成し
（ステップＳ１）、該下部磁極２上のバックスルーホー
ル１５を除いた部分に絶縁層を設けてギャップ層３を形
成する。ギャップ層３の厚さの一例として０．２μｍ程
度とする（ステップＳ２）。さらに、ギャップ層３の上
に、レジストによってギャップ深さ規定用絶縁層４を形
成する。ギャップ深さ規定用絶縁層４の厚さの一例とし
て１μｍ程度とする（ステップＳ３）。

【００７５】次に、図４（ｂ）において、磁極部５を形
成するためのレジスト３１を形成する。レジスト３１
は、磁極部５の厚さを形成するに足りる厚さであればよ
く、コイル層や絶縁層の厚さに対応した従来のレジスト
より薄く形成することができる。図６（ａ）はレジスト
３１を形成した状態を示している。

【００７６】図４（ｃ）において、レジスト３１を形成
した後、磁極部５を形成する部分、埋設部８となる部
分、及び磁極柱６となる部分のレジストを除去して、溝
３３を形成する。図６（ｂ）はレジスト３１に溝３３を
形成した状態を示している。

【００７７】磁極部５を形成する部分は、レジスト３１
にトラック幅Ｔｗの溝３３を上面からギャップ層３まで
形成する。レジスト３１の厚さを５μｍとした場合に
は、アスペクト比１０とすれば０．５ μｍのトラック
幅を形成することができる。

【００７８】図４（ｄ）において、レジスト３１に形成
した溝３３を用いて、パーマロイ等をめっきして磁極部
５で形成する。パーマロイの組成は、磁極部５に対応し
て設定することができる。また、磁極柱６についても、
磁極部５の形成と共にパーマロイ等のめっきで形成す
る。図６（ｃ）は、溝３３内に磁極部５を形成した状態
を示している。

【００７９】磁極部５及び磁極柱６を形成した後、レジ
スト３１を除去する。磁極部５は、磁気記録面からギャ
ップ深さまでのギャップ層３の部分と、ギャップ深さ規
定用絶縁層４の一部にかけて形成する。このため、形成
された磁極部５の高さは、ギャップ深さ規定用絶縁層４
上に形成された部分は、ギャップ層３上に形成された部
分よりも、ギャップ深さ規定用絶縁層４の厚さだけ高く
なる。

【００８０】また、図７（ｄ）に示すように、磁極部５
と磁極柱６との高さの関係は以下のようになる。磁極５
はギャップ層３上及びギャップ深さ規定用絶縁層４上に
形成されているのに対して、磁極柱６は下部磁極２上に
形成されている。そのため、ギャップ層３上に形成され
た磁極５は、磁極柱６よりもギャップ層３の厚さだけ高
くなる。また、ギャップ深さ規定用絶縁層４上に形成さ
れた磁極５は、ギャップ層３の厚さとギャップ深さ規定
用絶縁層４の厚さとを加算した厚さだけ高くなる（ステ
ップＳ４）。

【００８１】次に、磁極５のミリングを行う。この磁極
５のミリングは、磁極部５の厚みを調整すると共に、磁
極部５の下方にある絶縁層３及び下部磁極２の幅をトラ
ック幅Ｔｗに合わせ整形の作用と、ステップＳ４の工程
で形成された磁極部５と磁極柱６との高さの段差を無く
して同等の高さとする作用との２つの作用を含む。

【００８２】図７（ｅ）に示すように、ミリングは、磁
気記録面に露出する上部磁極部５を切削すると共に、絶
縁層３及び下部磁極２を切削してミリング部１４を形成
する。この切削によって、絶縁層３と下部磁極２の幅を
同一のトラック幅Ｔｗに整形される。絶縁層３を挟んで
下部磁極２と磁極部５の幅をトラック幅Ｔｗの合わせる
ことによって、磁気記録に寄与しない方向への磁束の広
がりを抑制する。

【００８３】また、磁極部５と磁極柱６との高さの段差
を無くして同等の高さとする作用は、後工程でコイル層
やヨーク部を形成する場合に、これらの形成面を平面と
する。

【００８４】この工程は、図４（ｅ）において、磁極部
５を除いてレジスト３２を形成し磁極柱６を覆い、磁極
部５をミリングする（ステップＳ５）。

【００８５】磁極部５と磁極柱６との高さの段差をほぼ
無くした後、図４（ｆ）に示すように、レジスト３２を
除去し、磁極部５及び磁極柱６の上面、切り欠き部９
内、及び磁極部５と磁極柱６とで挟まれる凹部（埋設部
８）内に、熱伝導性が良い絶縁材７を積層し覆う。該絶
縁材の一例としては、アルミナ等の非磁性材を用いるこ
とができ、アルミナスパッタリングにより行うことがで
きる（ステップＳ６）。

【００８６】次に、積層した絶縁材７をＣＭＰ（ケミカ
ルメカニカルポリシング）によって研削する。図５
（ｇ）において、ギャップ深さ規定用絶縁層４上に形成
されている磁極部５の一部分と、磁極柱６とが露出する
まで絶縁材７を研削する。このＣＭＰラップによる研削
によって、切り欠き部９と磁極部５の一部と埋設部８と
磁極柱６の各上面を同一の高さに平坦化する。この研削
によって、前記ミリング工程でほぼ同一高さにそろえら
れた磁極部５の一部と磁極柱６とは同一高さとなる。ま
た、切り欠き部９及び埋設部８の埋め込まれた絶縁材の
面も同一高さとなる。この同一高さの面は、図７（ｆ）
において面２０で示している。

【００８７】このとき、磁気記録面側の磁極部５の上面
は、その上側は切り欠き部９の絶縁層で覆われているた
め、研削によっても高さは変化せず一定となる。磁極部
５の高さは、ステップＳ４のめっき処理とステップＳ５
のミリング処理によって定めることができ、この平坦化
の処理では変化しない。切り欠き部９の部分は、磁気ヘ
ッドを磁気記録面側から見たとき、磁極部５上に形成さ
れた絶縁材によって確認することができる（ステップＳ
７）。

【００８８】次に、図５（ｈ）において、平坦化した埋
設部８の上面にコイル用レジストを形成し（ステップＳ
８）、コイル層１０を形成する（ステップＳ９）。この
コイル層１０を絶縁層１１で覆って平面を形成した後、
該平面上に再度コイル用レジストを形成し（ステップＳ
１０）、次のコイル層１１を形成する（ステップＳ１
１）。これを繰り返すことによって、コイル層を積層す
ることができる。

【００８９】コイル層を形成した後、図７（ｆ）に示す
ように、絶縁層１１の上部にヨーク部１２を形成する。
ヨーク部１２の両端は、磁極部５の露出面上及び磁極柱
６の露出面上に形成し、磁極部５とヨーク部１２と磁極
柱６とを磁気的に接続し、これによって上部磁極を構成
する。このとき、ヨーク部１２を形成するパーマロイ等
の磁性材の組成は、磁極部５や磁極柱６と同じとするこ
とも、あるいは異なるものとすることもできる（ステッ
プＳ１２）。

【００９０】ヨーク部１２を形成した後、記録ヘッド部
と外部とを接続する引き出し端子（図８中で１１３で示
す）を形成した後（ステップＳ１３）、図５（ｉ）に示
すように、上部を非磁性材で覆い、オーバーコート部１
３を形成する（ステップＳ１４）。

【００９１】オーバーコート部１３の上面を機械加工に
より引き出し端子１１３の端面を露出させ（ステップＳ
１５）、該引き出し端子１１３の端面に端子１１４をめ
っきで形成する（ステップＳ１６）。

【００９２】機械加工によってスライダーに加工すると
共に、磁気記録面を深さ方向に研削して、ギャップ深さ
を設定する。ギャップ深さの間では磁極部５上に切り欠
き部９があるため、磁気記録面を深さ方向に研削して
も、磁極部５の厚さは変化しない。磁気ヘッドを磁気記
録面側から見たとき、磁極部５、磁極部５上に形成され
た切り欠き部９の絶縁材、及びオーバーコート部１３の
絶縁材は確認することができる。

【００９３】なお、図５（ｉ）中には、一点鎖線は磁極
部を磁気記録面方向から見た断面（一点鎖線の位置）を
示している。この位置では、切り欠き部９は存在しない
ため、ヨーク部１２は絶縁材を介することなく層磁極部
５上に直接接触している（ステップＳ１７）。

【００９４】本発明の磁気ヘッドの実施形態によれば、
以下の（ａ）〜（ｊ）の各効果を奏することができる。

【００９５】（ａ）磁極部上に切り欠き部を備えること
によって、磁極部の高さ（厚さ）はギャップ深さによる
影響を受けず、高さ制御が容易となる。ギャップ深さの
ばらつきは、従来の０．５μｍからほぼ０とすることが
できる。

【００９６】（ｂ）磁極部と磁極柱の形成において、磁
極部の高さを磁極柱より低く形成することによって、Ｃ
ＭＰによる平坦化の精度を高めることができる。磁極柱
の高さのばらつきは、従来の０．４μｍから０．２μｍ
とすることができる。

【００９７】（ｃ）ギャップ深さを磁極部の作成時に定
めることができるため、磁極部の高さとギャップ深さの
差のばらつきを減少させることができ、磁気特性のばら
つきを減少させることができる。磁極部の高さとギャッ
プ深さの差のばらつきは、従来の０．３μｍから０．１
μｍとすることができる。

【００９８】（ｄ）磁極部とヨーク部とを個別に形成す
ることによって、磁極部のトラック幅を狭くすることが
できる。アスペクト比１０で、０．５μｍのトラック幅
を得ることができる。

【００９９】（ｅ）磁極部とヨーク部とを個別に形成す
ることによって、めっきによる形成においても組成変動
を減少させることができる。磁極部とヨーク部との組成
変動のばらつきは、３ｗｔ％から０．５ｗｔ％に改善す
ることができる。

【０１００】（ｆ）磁極部とヨーク部とを個別に形成に
より磁極部の飽和磁束密度Ｂｓを高めることによって、
記録磁界を高め、Ｏ／Ｗを改善することができる。

【０１０１】（ｇ）磁極部とヨーク部とを個別に形成に
よりヨーク部の厚さを磁極部より薄くすることによっ
て、ヨーク部のインダクタンスを低減して、ＮＬＴＳ
（線形性）を改善することができる。

【０１０２】（ｈ）磁極部とヨーク部とを個別に形成に
よりヨーク部を磁極部より高抵抗とすることによって、
渦電流損を低減し、高周波特性を高めることができる。（ｉ）磁極部、磁極柱及び埋設部を平坦化することによ
って、埋設部上にコイルを直接に配置することができ、
コイルの配置ピッチを狭めることができる。また、埋設
部をアルミナ等の熱伝導性の高い絶縁材とすることによ
って、コイルによる発熱の放熱性を高めることができ
る。

【０１０３】コイルピッチは、１．５μｍとすることが
できる。また、温度上昇を抑えることが出きるため、温
度上昇によるコイル抵抗の上昇を抑制することができ
る。

【０１０４】（ｊ）磁極部、磁極柱及び埋設部を平坦化
において、ＣＭＰによって磁極部及び埋設部を切削する
ことによって、良好な平坦性と寸法精度を得ることがで
きる。

【０１０５】本発明の磁気ヘッドにおいて、磁気記録面
を浮上面とするスライダーとすることによって、磁気記
録装置をことができる。

【０１０６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
狭いトラック幅を備えることができ、ギャップ深さの容
易な制御が容易とすることができ、また、上部磁極の組
成変動や膜厚の不均一を抑制し、磁気特性の制御を容易
とすることができる。

【０１０７】これによって、磁気記録分離型磁気ヘッド
を小型化し、高容量化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを説明する
ための概略図である。

【図２】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドの概略図で
ある。

【図３】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを形成する
手順を説明するためのフローチャートである。

【図４】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを形成する
手順を説明するための断面図である。

【図５】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを形成する
手順を説明するための断面図である。

【図６】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを形成する
手順を説明するための斜視図である。

【図７】本発明の磁気記録分離型磁気ヘッドを形成する
手順を説明するための斜視図である。

【図８】記録再生分離型磁気ヘッドの一構成例の概略図
である。

【図９】記録再生分離型磁気ヘッドの一構成例の断面図
である。

【図１０】従来の磁気ヘッドの一形成工程例を示す図で
ある。

【図１１】従来の磁気ヘッドの問題点を説明するための
図である。

【図１２】従来の上部磁極を形成するためのレジストを
説明するための概略斜視図である。

【符号の説明】１磁気ヘッド２，１０１下部磁極３，１０３ギャップ層４，１０４ギャップ深さ規定用絶縁層５，１０５磁極部６磁極柱７非磁性層８埋設部９切り欠き部１０，１０’，１１０，１１０’ コイル層１１，１１’，１１１絶縁層１２，１１２ヨーク部１３オーバーコート部１４ミリング部１５，１１５バックスルーホール２０平面２１磁気記録面２２先端位置（ＡＰＥＸ）２３，２４，２７，２８端部２５，２６後端３１，３２，１３１レジスト３３，１３３溝Ｔｗトラック幅Ｇｄギャップ深さ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者目黒怜栃木県真岡市松山町18番地日立金属株式会社電子部品事業部内 (72)発明者福井宏埼玉県熊谷市三ヶ尻5200番地日立金属株式会社磁性材料研究所内 (72)発明者鳥居善三栃木県真岡市松山町18番地日立金属株式会社電子部品事業部内 (72)発明者池内執一栃木県真岡市鬼怒ヶ丘13番地日立金属株式会社真岡工場内Ｆターム(参考） 5D033 BA07 BB43 DA02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも磁気記録面側においてギャッ
プ層を挟んで対峙させて磁気回路を構成する下部磁極と
上部磁極を備えた記録再生分離型磁気ヘッドにおいて、
上部磁極はそれぞれ分離した磁極部と磁極柱とヨーク部
とを備え、前記磁極部は磁気記録面側においてギャップ
層上及び該ギャップ層上に形成されたギャップ深さ規定
用絶縁層上に形成され、前記ヨーク部は磁極部の上部面
と磁極柱の上部面において同一高さで磁気的に接続する
ことを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１記載の記録再生分離型磁気ヘッ
ドにおいて、磁極部はヨーク部の形成前に独立して形成
することを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項３】請求項１記載の記録再生分離型磁気ヘッ
ドにおいて、磁極部の厚さは、磁極柱の厚さより少なく
ともギャップ深さ規定用絶縁層の厚さ分だけ薄いことを
特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項４】請求項１，３記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部の下方のギャップ層及び下部磁
極のトラック幅への整形と、磁極部及び磁極柱の高さ調
整とは、同一のミリングによって同時に形成されるもの
であることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項５】請求項１，３記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部と磁極柱とは同一高さにおいて
ヨーク部と接触することを特徴とする記録再生分離型磁
気ヘッド。
【請求項６】請求項１，３，５記載の記録再生分離型
磁気ヘッドにおいて、磁極部とヨーク部の接触部分の深
さ方向の長さは、磁極部の厚さよりも大きいことを特徴
とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項７】請求項１，３〜６記載の記録再生分離型
磁気ヘッドにおいて、磁極部と接触するヨーク部の磁極
柱側の端部は、磁極部の後端と同位置あるいは後方であ
ることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項８】請求項１，３〜７記載の記録再生分離型
磁気ヘッドにおいて、磁極柱と接触する側のヨーク部の
深さ方向の長さは磁極柱の深さ方向の長さより長いこと
を特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項９】請求項１，３〜８記載の記録再生分離型
磁気ヘッドにおいて、磁極柱と接触する側のヨーク部の
面積は磁極柱の面積より大きいことを特徴とする記録再
生分離型磁気ヘッド。
【請求項１０】請求項１，３〜９記載の記録再生分離
型磁気ヘッドにおいて、磁極柱と接触する側のヨーク部
の後端は磁極柱の後端より前方にあることを特徴とする
記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１１】請求項１記載の記録再生分離型磁気ヘ
ッドにおいて、ギャップ深さ規定用絶縁層の磁気記録面
側の端部をギャップ深さを規定する端部とすることを特
徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１２】請求項１記載の記録再生分離型磁気ヘ
ッドにおいて、磁極部は、磁極部のギャップ層上に形成
される上部面をギャップ深さ規定用絶縁層上に形成され
る磁極部の上部面より低くする切り欠き部を備え、該切
り欠き部の上部面は、ギャップ深さ規定用絶縁層上に形
成される磁極部の上部面と同一高さであることを特徴と
する記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１３】請求項１２記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、切り欠き部の厚さは、ギャップ深さ規
定用絶縁層の厚さより低いことを特徴とする記録再生分
離型磁気ヘッド。
【請求項１４】請求項１２記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、切り欠き部の後端とギャップ深さ規定
用絶縁層の前端は、磁気記録面からほぼ同一の深さにあ
ることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１５】請求項１２記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部と接触するヨーク部の磁気記録
面側の端部は、切り欠き部の後端と同位置あるいは後方
であることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１６】請求項１２記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、切り欠き部内及び磁極部と磁極柱の間
の凹部は、非磁性材で埋設され、磁極部と非磁性材と磁
極柱の各上部面は同一の平面を形成することを特徴とす
る記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１７】請求項１６記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部と磁極柱の間の凹部に埋設され
た非磁性材の平面上にコイルを形成することを特徴とす
る記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１８】請求項１６記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、前記平面はケミカルメカニカルポリシ
ング（ＣＭＰ）により形成されることを特徴とする記録
再生分離型磁気ヘッド。
【請求項１９】請求項１〜１８記載のいずれかの記録
再生分離型磁気ヘッドにおいて、ギャップ層上に形成さ
れる磁極部の上部面の高さは、ギャップ深さの区間にお
いて同一高さであることを特徴とする記録再生分離型磁
気ヘッド。
【請求項２０】請求項１〜１８記載のいずれかの記録
再生分離型磁気ヘッドにおいて、磁極部と磁極柱とヨー
ク部は同一組成であることを特徴とする記録再生分離型
磁気ヘッド。
【請求項２１】請求項１〜１８記載のいずれかの記録
再生分離型磁気ヘッドにおいて、磁極部と磁極柱とヨー
ク部は異なる組成であることを特徴とする記録再生分離
型磁気ヘッド。
【請求項２２】請求項２１記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部の飽和磁束密度はヨーク部の飽
和磁束密度より大きいことを特徴とする記録再生分離型
磁気ヘッド。
【請求項２３】請求項２１記載の記録再生分離型磁気
ヘッドにおいて、磁極部の比抵抗はヨーク部の比抵抗よ
り小さいことを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項２４】請求項２０〜２３記載の記録再生分離
型磁気ヘッドにおいて、ヨーク部の厚さは磁極部の厚さ
より薄いことを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項２５】少なくとも磁気記録面側においてギャ
ップ層を挟んで対峙させて磁気回路を構成する下部磁極
と上部磁極を備えた記録再生分離型磁気ヘッドにおい
て、前記磁気記録面は、下部磁極、ギャップ層、上部磁
極、非磁性層、及びオーバーコート部の積層面を露出し
て備えることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項２６】少なくとも磁気記録面側においてギャ
ップ層を挟んで対峙させて磁気回路を構成する下部磁極
と上部磁極を備えた記録再生分離型磁気ヘッドにおい
て、上部磁極はそれぞれ分離した磁極部と磁極柱とヨー
ク部とを備え、前記上部磁極は、下部磁極、ギャップ
層、ギャップ深さ規定用絶縁層、上部磁極及び磁極柱を
順に積層して形成した後、上部磁極と該上部磁極が形成
されるギャップ層及び下部磁極のミリングにより形成
し、前記磁極柱は、上部磁極の形成の後に非磁極性材を
積層し、上部磁極の一部を共に露出させて同一高さの平
面とし、前記ヨーク部は平面及びコイルの上方に形成さ
れることを特徴とする記録再生分離型磁気ヘッド。
【請求項２７】請求項１〜２６記載のいずれかにおい
て、記録再生分離型磁気ヘッドをスライダーとし、磁気
記録面を浮上面とする磁気記録装置。