JP2000275671A - Liquid crystal device, production of liquid crystal device and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device, production of liquid crystal device and electronic apparatus

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JP2000275671A
JP2000275671A JP8032899A JP8032899A JP2000275671A JP 2000275671 A JP2000275671 A JP 2000275671A JP 8032899 A JP8032899 A JP 8032899A JP 8032899 A JP8032899 A JP 8032899A JP 2000275671 A JP2000275671 A JP 2000275671A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
insulating layer
crystal device
electrode
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Japanese (ja)
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Keiichi Suehiro
桂一 末廣
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Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent irregularities in liquid crystal display due to exposure of an overcoat layer in a liquid crystal device, having such a structure that an insulating layer is formed in an extended part of a substrate by using an overcoat layer and an alignment film, formed in the liquid crystal region of the substrate, and that electrolytic corrosion in an extended part of an electrode present in this region is prevented. SOLUTION: While an overcoat layer 8a and an alignment film 9a are formed in the liquid crystal region of a substrate 3a, a first insulating layer 14a and a second insulating layer 14b are formed at a same time on the surface of an extended part H of the substrate to cover an extended part 7c of electrodes 7a, 7b, so as to prevent electrolytic corrosion in the extended part 7c of the electrode. Although the first insulating layer 14a is normally made of a material which is easily damaged by rubbing, the first insulating layer 14a is completely covered with the second insulating layer 14b, so that the production of scratch chips can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に封
止した液晶の配向を制御することによって文字、数字、
絵柄等といった情報を表示する液晶装置に関する。また
本発明は、その液晶装置を製造するための製造方法に関
する。また本発明は、その液晶装置を用いて構成される
電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for controlling characters or numerals,
The present invention relates to a liquid crystal device that displays information such as a picture. Further, the present invention relates to a manufacturing method for manufacturing the liquid crystal device. The present invention also relates to an electronic device including the liquid crystal device.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、携帯電話機、携帯情報端末機等と
いった電子機器において液晶装置が広く用いられてい
る。多くの場合は文字、数字、絵柄等といった情報を表
示するためにその液晶装置が用いられている。
2. Description of the Related Art At present, liquid crystal devices are widely used in electronic devices such as portable telephones and portable information terminals. In many cases, the liquid crystal device is used to display information such as characters, numbers, and patterns.

【0003】この液晶装置は、一般に、一方の基板に形
成した走査電極と他方の基板に形成した選択電極とをド
ットマトリクス状の複数の点で交差させることによって
画素を形成し、それらの画素に印加する電圧を選択的に
変化させることによって当該画素に含まれる液晶を通過
する光を変調し、もって、文字等といった像を表示す
る。
In this liquid crystal device, pixels are generally formed by intersecting a scanning electrode formed on one substrate with a selection electrode formed on the other substrate at a plurality of points in a dot matrix. By selectively changing the applied voltage, light passing through the liquid crystal included in the pixel is modulated, and an image such as a character is displayed.

【0004】この液晶装置において、少なくとも一方の
基板は液晶領域部分の外側へ張り出す基板張出し部を備
えており、走査電極及び選択(データ)電極は液晶領域
部分から基板張出し部へと延び出る延在部分を有するの
が一般的である。そして、液晶駆動用ICその他液晶装
置に付加的に接続される外部回路は、基板張出し部にお
いて走査電極及び選択電極の延在部分に接続される。
In this liquid crystal device, at least one of the substrates has a substrate overhang extending outside the liquid crystal region, and the scanning electrodes and selection (data) electrodes extend from the liquid crystal region to the substrate overhang. It is common to have a resident portion. The liquid crystal driving IC and other external circuits additionally connected to the liquid crystal device are connected to the extending portions of the scanning electrode and the selection electrode at the substrate overhang.

【0005】このような構造の液晶装置に関しては、従
来から、基板張出し部に位置する各電極の延在部分に電
食が発生するという問題があった。この電食は、基板張
出し部に存在する塩基、電極間の電位差及び空気中の水
蒸気等といった各要素が相互に作用し合うことによって
電極が腐食して減損することであり、この電食が生じる
と電極切れによるライン状非点灯等といった問題が生じ
る。
[0005] In the liquid crystal device having such a structure, there has been a problem that electric erosion is generated in the extending portion of each electrode located at the substrate overhang portion. This electrolytic corrosion is a phenomenon in which the electrodes are corroded and depleted due to the interaction of the base, the potential difference between the electrodes, the water vapor in the air, and the like existing in the substrate overhang, and this electrolytic corrosion occurs. In addition, problems such as line-shaped non-lighting due to electrode disconnection occur.

【0006】このような電食を防止するため、従来、S
i(シリコン)等といったモールド材を基板張出し部の
表面に塗布等によって付着させて電極の延在部分を覆う
ことにより、空気中の水蒸気からの影響を排除するとい
う構造が知られている。しかしながら、このようなモー
ルド材を付着させる方法では、モールド材自身の性質の
ため及びモールド材の付着のさせ方の難しさのために、
電食を完全に防止することが難しかった。
In order to prevent such electrolytic corrosion, conventionally, S
There is known a structure in which a mold material such as i (silicon) is applied to the surface of the substrate overhang by coating or the like to cover the extended portions of the electrodes, thereby eliminating the influence of water vapor in the air. However, in such a method of attaching a mold material, due to the properties of the mold material itself and the difficulty of attaching the mold material,
It was difficult to completely prevent electrolytic corrosion.

【0007】また従来、基板の液晶領域部分に絶縁層を
形成する際に基板張出し部の表面にも同じ材料によって
絶縁層を形成し、これによって、基板張出し部上の電極
に電食が発生することを防止するようにした液晶装置
が、例えば特開昭64−038726号公報に開示され
ている。特にこの液晶装置では、液晶領域部分において
電極の上に形成するオーバーコート層及び配向膜の2層
を利用して、基板張出し部の表面に絶縁層を形成してい
る。
Conventionally, when an insulating layer is formed on a liquid crystal region of a substrate, the same material is used to form an insulating layer on the surface of the substrate overhanging portion, thereby causing electrolytic corrosion on the electrodes on the substrate overhanging portion. A liquid crystal device for preventing such a situation is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-38726. In particular, in this liquid crystal device, an insulating layer is formed on the surface of the substrate extension using two layers of an overcoat layer and an alignment film formed on the electrode in the liquid crystal region.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
64−038726号公報に開示された液晶装置では、
オーバーコート層の表面全部が配向膜によって被覆され
ておらず、オーバーコート層が部分的に配向膜の外部に
露出する個所があった。このような従来の液晶装置にお
いては、配向膜に配向特性を付与するために行われるラ
ビング処理の際、外部に露出するオーバーコート層がそ
のラビング処理の際に削り取られ、その削り取られた除
去片のために液晶領域部分の配向膜にスジ状の汚れや傷
が残り、その結果、液晶装置を駆動したときに表示ムラ
が発生するという問題があった。
However, in the liquid crystal device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-38726,
The entire surface of the overcoat layer was not covered with the alignment film, and there were places where the overcoat layer was partially exposed to the outside of the alignment film. In such a conventional liquid crystal device, during a rubbing process performed to impart an alignment property to an alignment film, an overcoat layer exposed to the outside is scraped off during the rubbing process, and the stripped removal pieces are removed. As a result, streak-like dirt and scratches remain on the alignment film in the liquid crystal region, and as a result, there is a problem that display unevenness occurs when the liquid crystal device is driven.

【0009】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、基板の液晶領域部分に形成するオーバー
コート層及び配向膜を利用して基板張出し部に絶縁層を
形成することによって該部に存在する電極延在部分の電
食を防止するようにした液晶装置に関して、オーバーコ
ート層の剥き出しに起因して液晶表示ムラが発生するこ
とを防止することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has an object to form an insulating layer on a substrate overhang using an overcoat layer and an alignment film formed in a liquid crystal region of a substrate. It is an object of the present invention to prevent liquid crystal display unevenness due to stripping of an overcoat layer from occurring in a liquid crystal device in which electrolytic corrosion of an electrode extending portion existing in the portion is prevented.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するため、本発明に係る液晶装置は、液晶を挟んで互
いに対向すると共に対向面に電極を備えた一対の基板
と、前記電極上に形成されるオーバーコート層と、前記
オーバーコート層の上に形成される配向膜とを有し、前
記一対の基板の少なくとも一方の基板は他方の基板の外
側へ張り出す基板張出し部を有し、前記電極は前記基板
張出し部へ延びる延在部分を有する液晶装置において、
前記基板張出し部上には前記オーバーコート層を形成す
るのと同時に形成される第1絶縁層が前記電極の延在部
分を被覆するように設けられ、その第1絶縁層の上には
前記配向膜を形成するのと同時に形成される第2絶縁層
が設けられ、そして前記第1絶縁層はその表面全部が前
記第2絶縁層によって覆われることを特徴とする。
(1) In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention comprises a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween and provided with electrodes on opposed surfaces; An overcoat layer formed thereon, and an alignment film formed on the overcoat layer, wherein at least one of the pair of substrates has a substrate overhanging portion extending outside the other substrate. Wherein the electrode has a portion extending to the substrate overhang portion,
A first insulating layer formed simultaneously with the formation of the overcoat layer is provided on the substrate overhanging portion so as to cover the extended portion of the electrode, and the first insulating layer has the orientation on the first insulating layer. A second insulating layer is provided which is formed simultaneously with the formation of the film, and the first insulating layer is entirely covered by the second insulating layer.

【0011】この構成の液晶装置によれば、基板の液晶
領域部分に形成するオーバーコート層及び配向膜を利用
して基板の張出し部に絶縁層を形成するので、液晶パネ
ルが形成された後に基板張出し部にSi等といったモー
ルド材を付着させる場合に比べて、基板張出し部に存在
する電極延在部分の電食を確実に防止できる。
According to the liquid crystal device having this structure, the insulating layer is formed on the overhanging portion of the substrate by using the overcoat layer and the alignment film formed in the liquid crystal region of the substrate. As compared with the case where a molding material such as Si or the like is attached to the overhang portion, electrolytic corrosion of the electrode extension portion existing at the substrate overhang portion can be reliably prevented.

【0012】また、オーバーコート層を利用して形成さ
れる第1絶縁層の表面全部を配向膜を利用して形成され
る第2絶縁層によって覆うようにしたので、オーバーコ
ート層と同質な第1絶縁層が外部に剥き出しになる部分
が無くなり、それ故、第2絶縁層と同質な配向膜に対し
てラビング処理が行われる際、第1絶縁層がそのラビン
グ処理によって損傷することが無くなる。そのため、配
向膜に汚れが発生することを防止でき、その結果、液晶
表示ムラが発生することを防止できる。
Further, since the entire surface of the first insulating layer formed using the overcoat layer is covered with the second insulating layer formed using the alignment film, the first insulating layer formed of the same quality as the overcoat layer is covered. There is no portion where the first insulating layer is exposed to the outside, and therefore, when the rubbing process is performed on the alignment film having the same quality as the second insulating layer, the first insulating layer is not damaged by the rubbing process. Therefore, it is possible to prevent the alignment film from being stained, and as a result, to prevent the liquid crystal display from becoming uneven.

【0013】(2) 上記の目的を達成するため、本発
明に係る液晶装置は、液晶を挟んで互いに対向すると共
に対向面に電極を備えた一対の基板と、前記電極上に形
成されるオーバーコート層と、前記オーバーコート層の
上に形成される配向膜とを有し、前記一対の基板の少な
くとも一方の基板は他方の基板の外側へ張り出す基板張
出し部を有し、前記電極は前記基板張出し部へ延びる延
在部分を有する液晶装置において、前記電極は前記対向
面及び前記基板張出し部上の両方において共に前記オー
バーコート層で覆われる領域を有し、該領域の全てが前
記配向膜によって覆われていることを特徴とする。
(2) In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention comprises a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween and having electrodes on opposed surfaces, and an over-layer formed on the electrodes. A coating layer, and an alignment film formed on the overcoat layer, at least one of the pair of substrates has a substrate overhanging portion that extends outside the other substrate, and the electrode is In a liquid crystal device having an extending portion extending to a substrate overhang, the electrode has a region covered with the overcoat layer on both the opposing surface and the substrate overhang, and all of the region is the alignment film. Characterized by being covered by

【0014】この構成の液晶装置によれば、基板の対向
面及び基板張出し部上の両方において共に電極を覆うオ
ーバーコート層の領域が存在し、その領域全部が配向膜
で覆われているので、オーバーコート層が外部にさらさ
れて剥き出しになる表面が無く、配向膜に対してラビン
グ処理を行う際、ラビング処理によってラビングに用い
られる布等がオーバーコート層に直接触れて摩擦を生じ
させることがないので、オーバーコート層が削られてそ
の削られた粉末(粉塵)によって配向膜に損傷を及ぼす
ことが無くなる。そのため、配向膜に汚れや傷の発生を
防止でき、その結果、液晶表示ムラが発生することを防
止できる。
According to the liquid crystal device having this configuration, the overcoat layer region covering the electrode is present on both the opposing surface of the substrate and the overhanging portion of the substrate, and the entire region is covered with the alignment film. When the overcoat layer is exposed to the outside and has no exposed surface, and the rubbing treatment is performed on the alignment film, the rubbing treatment may cause the cloth or the like used for rubbing to directly contact the overcoat layer and cause friction. Since there is no overcoat layer, the alignment film is not damaged by the shaved powder (dust). Therefore, generation of dirt and scratches on the alignment film can be prevented, and as a result, non-uniformity of liquid crystal display can be prevented.

【0015】(3) 上記構成の液晶装置において、前
記オーバーコート層及び前記第1絶縁層は酸化珪素又は
酸化チタン又は少なくともどちらか片方を含む混合物に
よって形成でき、前記配向膜及び前記第2絶縁層はポリ
イミド系樹脂によって形成できる。
(3) In the liquid crystal device having the above structure, the overcoat layer and the first insulating layer can be formed of silicon oxide or titanium oxide or a mixture containing at least one of the above, and the alignment film and the second insulating layer Can be formed of a polyimide resin.

【0016】(4) 次に、本発明に係る液晶装置の製
造方法は、少なくとも一方の基板が他方の基板の外側へ
張り出す張出し部を有して対向する一対の基板のそれぞ
れの表面上に電極を形成する電極形成工程と、前記張出
し部を有する基板の対向面にオーバーコート層を形成す
ると共に前記張出し部上に第1絶縁層を形成する第1絶
縁層形成工程と、前記張出し部を有する基板の対向面の
オーバーコート層の上に配向膜を形成すると共にその張
出し部上に第2絶縁層を形成する第2絶縁層形成工程と
を有し、前記第2絶縁層形成工程では、前記第1絶縁層
の表面全部を被覆するように前記第2絶縁層が形成され
ることを特徴とする。
(4) Next, in the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, at least one of the substrates has an overhanging portion projecting to the outside of the other substrate. An electrode forming step of forming an electrode, a first insulating layer forming step of forming a first insulating layer on the overhang layer while forming an overcoat layer on a facing surface of the substrate having the overhang section, Forming an alignment film on the overcoat layer on the opposing surface of the substrate and forming a second insulating layer on the overhanging portion, wherein the second insulating layer forming step includes: The second insulating layer is formed so as to cover the entire surface of the first insulating layer.

【0017】(5) 次に、本発明に係る電子機器は、
液晶装置と、その液晶装置を収容する筐体とを有する電
子機器において、前記液晶装置は上記(1)から(3)
に記載の液晶装置によって構成されることを特徴とす
る。
(5) Next, the electronic device according to the present invention
In an electronic apparatus having a liquid crystal device and a housing for accommodating the liquid crystal device, the liquid crystal device may be any of the above (1) to (3)
And a liquid crystal device described in (1).

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1及び図2
は、本発明に係る液晶装置の一実施形態を示している。
この液晶装置1は、シール材2によって周囲が互いに接
着された一対の基板3a及び3bを有する。これらの基
板3a及び3bは、例えば、ガラス等といった材料や、
プラスチック等といった可撓性を有するフィルム材料等
によって形成された基板素材5a及び5bに各種の要素
を形成することによって作られる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) FIGS. 1 and 2
Shows an embodiment of the liquid crystal device according to the present invention.
The liquid crystal device 1 has a pair of substrates 3a and 3b whose periphery is bonded to each other by a sealing material 2. These substrates 3a and 3b are made of, for example, a material such as glass,
It is formed by forming various elements on substrate materials 5a and 5b formed of a flexible film material such as plastic.

【0019】これらの基板3a及び3bの間に形成され
る間隙、いわゆるセルギャップは複数のスペーサ4によ
ってその寸法が均一な値、例えば約5μmに規制され、
シール材2によって囲まれたセルギャップ内に液晶6が
封入される。図1に符号2aで示すものがシール材2の
一部分に形成された液晶注入口であり、液晶6はこの液
晶注入口2aを通してセルギャップ内に注入され、その
注入の完了後、液晶注入口2aが樹脂等によって封止さ
れる。
A gap formed between these substrates 3a and 3b, a so-called cell gap, is regulated by a plurality of spacers 4 to a uniform value, for example, about 5 μm.
The liquid crystal 6 is sealed in the cell gap surrounded by the sealing material 2. In FIG. 1, reference numeral 2a denotes a liquid crystal injection port formed in a part of the sealing material 2, and the liquid crystal 6 is injected into the cell gap through the liquid crystal injection port 2a. Is sealed with a resin or the like.

【0020】第1基板3aの液晶側表面には第1電極7
aが形成され、その上にオーバーコート層8aが形成さ
れ、さらにその上に配向膜9aが形成される。また、第
1基板3aに対向する第2基板3bの液晶側表面には第
2電極7bが形成され、その上にオーバーコート層8b
が形成され、さらにその上に配向膜9bが形成される。
また、各基板3a及び3bの外側表面には、ぞれぞれ、
偏光板23a及び23bが貼着される。
A first electrode 7 is provided on the liquid crystal side surface of the first substrate 3a.
is formed, an overcoat layer 8a is formed thereon, and an alignment film 9a is further formed thereon. A second electrode 7b is formed on the liquid crystal side surface of the second substrate 3b facing the first substrate 3a, and an overcoat layer 8b is formed thereon.
Is formed, and an alignment film 9b is further formed thereon.
Also, on the outer surface of each of the substrates 3a and 3b,
The polarizing plates 23a and 23b are attached.

【0021】第1電極7a及び第2電極7bは例えばI
TO(Indium Tin Oxide)によって500〜1500オ
ングストローム程度の厚さに形成され、オーバーコート
層8a及び8bは例えば酸化珪素や酸化チタン、或いは
これらの混合物等によって600オングストローム程度
の厚さに形成され、そして配向膜9a及び9bは例えば
ポリイミド系樹脂によって300オングストローム程度
の厚さに形成される。
The first electrode 7a and the second electrode 7b are, for example, I
TO (Indium Tin Oxide) is formed to a thickness of about 500 to 1500 Å, and the overcoat layers 8a and 8b are formed to a thickness of about 600 Å by using, for example, silicon oxide, titanium oxide, or a mixture thereof. The alignment films 9a and 9b are formed of, for example, a polyimide resin to a thickness of about 300 angstroms.

【0022】第1電極7aは複数の直線パターンを互い
に平行に配列することによって形成され、一方、第2電
極7bは上記第1電極7aに直交するように互いに平行
に配列された複数の直線パターンによって形成される。
これらの電極7aと電極7bとがドットマトリクス状に
交差する複数の点が、像を表示するための画素を形成す
る。
The first electrode 7a is formed by arranging a plurality of linear patterns parallel to each other, while the second electrode 7b is formed by arranging a plurality of linear patterns parallel to each other so as to be orthogonal to the first electrode 7a. Formed by
A plurality of points where the electrodes 7a and the electrodes 7b intersect in a dot matrix form pixels for displaying an image.

【0023】第1基板3aは液晶6が封入される液晶領
域部分Eの外側へ張り出す、すなわち他方の基板の外側
へ張り出す張出し部Hを有する。第1基板3a上の第1
電極7aはその基板張出し部Hへそのまま延び出して配
線形成されている。また、第2基板3b上の第2電極7
bは、シール材2の内部に分散した導通材11(図2)
を介して第1基板3a上の電極と導通が図られ基板張出
し部Hへ延び出て配線形成されている。
The first substrate 3a has a projecting portion H that projects outside the liquid crystal region portion E in which the liquid crystal 6 is sealed, ie, projects outside the other substrate. The first on the first substrate 3a
The electrode 7a extends as it is to the substrate overhang portion H and is formed as a wiring. Also, the second electrode 7 on the second substrate 3b
b is a conductive material 11 dispersed in the sealing material 2 (FIG. 2)
The connection with the electrode on the first substrate 3a is achieved through the substrate, and the wiring extends to the substrate overhang H.

【0024】本実施形態では、第1基板3aの張出し部
Hに上記の両基板から導通が図られて配線形成された各
電極を電極延在部分7cとして示すことにする。また、
第1基板3aの張出し部Hの辺端部には、外部回路との
間で接続をとるための入力端子12が形成される。
In the present embodiment, each electrode which is electrically connected to the overhang portion H of the first substrate 3a from both of the above-described substrates and is formed as a wiring is shown as an electrode extension portion 7c. Also,
An input terminal 12 for making a connection with an external circuit is formed at an edge of the overhang portion H of the first substrate 3a.

【0025】なお、図1及びこれ以降に説明する図にお
いて、各電極7a及び7b並びに電極延在部分7cは実
際には極めて狭い間隔で多数本がそれぞれの基板3a及
び3bの断面を含む表面全域に形成されるが、図1等で
は構造を分かり易く示すために実際の間隔よりも広い間
隔でそれらの電極を模式的に図示し、さらに一部分の電
極の図示は省略してある。また、液晶領域部分E内の電
極7a及び7bは、直線状に形成されることに限られ
ず、適宜のパターン状に形成されることもある。
In FIG. 1 and the drawings described hereafter, a large number of electrodes 7a and 7b and an electrode extending portion 7c are actually formed over the entire surface including the cross sections of the substrates 3a and 3b at extremely small intervals. In FIG. 1 and the like, these electrodes are schematically illustrated at intervals wider than the actual intervals in order to clearly show the structure, and some of the electrodes are not shown. Further, the electrodes 7a and 7b in the liquid crystal region portion E are not limited to being formed linearly, but may be formed in an appropriate pattern.

【0026】また、入力端子12は実際には狭い一定間
隔で基板3aの張出し部Hの辺端部に形成されるが、図
1では構造を分かり易く示すために実際の間隔よりも広
い間隔でそれらを模式的に示し、さらに一部分の端子の
図示は省略してある。
Although the input terminals 12 are actually formed on the side edges of the protruding portion H of the substrate 3a at a narrow fixed interval, in FIG. 1, in order to clearly show the structure, the input terminals 12 are formed at a wider interval than the actual interval. These are schematically shown, and further illustration of some terminals is omitted.

【0027】基板張出し部Hの適所には、導電接着剤と
してのACF(Anisotropic conductive Film )18に
よって液晶駆動用IC13が接着すなわち実装される。
このACF18は、周知の通り、一対の端子間を異方性
を持たせて電気的に一括接続するために用いられる導電
性のある高分子フィルムであって、例えば熱可塑性又は
熱硬化性の樹脂フィルム19の中に多数の導電粒子21
を分散させることによって形成される。このACF18
を挟んで基板張出し部Hと液晶駆動用IC13とを熱圧
着することにより、液晶駆動用IC13のバンプ22と
電極延在部分7cとの間及びバンプ22と入力端子12
との間において単一方向の導電性を持つ接続を実現す
る。
A liquid crystal driving IC 13 is bonded or mounted at an appropriate position of the substrate overhang H by an ACF (Anisotropic conductive Film) 18 as a conductive adhesive.
As is well known, the ACF 18 is a conductive polymer film used for electrically connecting the pair of terminals anisotropically and collectively connecting the terminals, such as a thermoplastic or thermosetting resin. A large number of conductive particles 21 in the film 19
Is formed by dispersing. This ACF18
The substrate overhang portion H and the liquid crystal driving IC 13 are thermocompression-bonded to each other so that the bump 22 and the electrode extension portion 7c of the liquid crystal driving IC 13 and the bump 22 and the input terminal 12
To realize a connection having a unidirectional conductivity.

【0028】液晶駆動用IC13によって、第1電極7
a又は第2電極7bのいずれか一方に行ごとに走査電圧
を印加し、さらにそれらの電極の他方に対して表示画像
に基づくデータ電圧を画素ごとに印加することにより、
選択された各画素部分を通過する光を変調し、もって基
板3a又は3bの外側に文字、数字等といった像を表示
する。
The first electrode 7 is controlled by the liquid crystal driving IC 13.
a or a second electrode 7b, by applying a scanning voltage for each row, and further applying a data voltage based on a display image to each of the other electrodes for each pixel.
The light passing through each of the selected pixel portions is modulated, and an image such as a character or a number is displayed outside the substrate 3a or 3b.

【0029】図3(a)は、一方の基板3aを構成する
基板素材5aの表面に電極7a、電極延在部分7c及び
入力端子12を形成した状態を示している。ここに示す
基板3aの仕掛品に関して、その基板張出し部Hの表面
には、図4に示すように電極延在部分7cの全てを被覆
するように絶縁層14が形成される。この絶縁層14
は、第1基板3aの液晶領域部分Eにおいてオーバーコ
ート層8aを形成する際に同時に形成される第1絶縁層
14aと、液晶領域部分Eにおいて配向膜9aを形成す
る際に同時に形成される第2絶縁層14bとによって形
成される。このように絶縁層14によって基板張出し部
H上の電極延在部7cが外部へ露出するのを防止するこ
とにより、その電極延在部7cに電食が発生することを
防止する。また、同様に図3(b)は、他方の基板3b
を構成する基板素材5bの表面に電極7bを形成した状
態を示している。ここに示す基板3bにおいては、一方
の基板3aと重なる領域である液晶領域部分Eに形成さ
れた電極7bを被覆するようにオーバーコート層8bが
形成される。
FIG. 3A shows a state in which an electrode 7a, an electrode extending portion 7c and an input terminal 12 are formed on the surface of a substrate material 5a constituting one substrate 3a. Regarding the in-process product of the substrate 3a shown here, an insulating layer 14 is formed on the surface of the substrate overhang portion H so as to cover the entire electrode extension portion 7c as shown in FIG. This insulating layer 14
The first insulating layer 14a formed simultaneously when the overcoat layer 8a is formed in the liquid crystal region E of the first substrate 3a and the second insulating layer 14a formed simultaneously when the alignment film 9a is formed in the liquid crystal region E. It is formed by the two insulating layers 14b. By preventing the electrode extension 7c on the substrate overhang H from being exposed to the outside by the insulating layer 14, the occurrence of electrolytic corrosion in the electrode extension 7c is prevented. Similarly, FIG. 3B shows the other substrate 3b
2 shows a state in which an electrode 7b is formed on the surface of a substrate material 5b constituting the above. In the substrate 3b shown here, an overcoat layer 8b is formed so as to cover an electrode 7b formed in a liquid crystal region portion E which is a region overlapping with one substrate 3a.

【0030】一般に、オーバーコート層8aは酸化珪素
や酸化チタン等といった配向膜9aを構成するポリイミ
ドより硬い材料によって形成されることが多く、これは
配向膜9aに対して行われるラビング処理時における外
力によって削り取られる場合がある。このため、基板張
出し部Hにおいてオーバーコート層8aと同質な第1絶
縁層14aが第2絶縁層14bによって被覆されていな
い部分が残っていると、ラビング処理の際にその第1絶
縁層14aが削り取られ、その削り屑が液晶領域部分E
内の配向膜9aにスジ状に付着して汚れとなったり不必
要な傷を付け、この結果、液晶表示品質が低下するおそ
れがある。
Generally, the overcoat layer 8a is often formed of a material such as silicon oxide or titanium oxide that is harder than the polyimide constituting the alignment film 9a, and this is due to an external force during the rubbing process performed on the alignment film 9a. May be scraped off. For this reason, if a portion where the first insulating layer 14a of the same quality as the overcoat layer 8a is not covered with the second insulating layer 14b remains in the substrate overhang portion H, the first insulating layer 14a is And the shavings are removed from the liquid crystal area E
There is a possibility that the alignment film 9a in the inside may be streaked and become dirty or unnecessarily damaged, and as a result, the liquid crystal display quality may be deteriorated.

【0031】このことに関し、本実施形態では、オーバ
ーコート層8aと同質な第1絶縁層14aは配向膜9a
と同質な第2絶縁層14bによってその表面全部が覆わ
れている。特に、図2に示すように、第1絶縁層14a
の端辺部も第2絶縁層14bが下方(断面)へ回り込む
ことによって完全に覆われて包み込まれている。このよ
うに第1絶縁層14aの表面全部を第2絶縁層14bに
よって完全に覆うことにより、ラビング処理時における
第1絶縁層14aの損傷を確実に防止でき、それ故、液
晶表示品質の低下を確実に防止できる。
In this regard, in the present embodiment, the first insulating layer 14a of the same quality as the overcoat layer 8a is formed of the alignment film 9a.
The entire surface is covered with a second insulating layer 14b having the same quality as that of the second insulating layer 14b. In particular, as shown in FIG.
Is completely covered and wrapped by the second insulating layer 14b going down (cross section). By completely covering the entire surface of the first insulating layer 14a with the second insulating layer 14b in this manner, it is possible to reliably prevent the first insulating layer 14a from being damaged at the time of the rubbing process, and therefore to prevent the deterioration of the liquid crystal display quality. It can be reliably prevented.

【0032】なお、第1基板3aと第2基板3bとを接
合するためのシール材2は、例えば図5に示すように、
第1基板3aにおいてオーバーコート層8a及び配向膜
9aを取り囲むと共に、それらと絶縁層14とを区分け
するようにスクリーン印刷等によって形成される。
The sealing material 2 for joining the first substrate 3a and the second substrate 3b is, for example, as shown in FIG.
The first substrate 3a is formed by screen printing or the like so as to surround the overcoat layer 8a and the alignment film 9a and to separate them from the insulating layer 14.

【0033】以上のように、本実施形態によれば、第1
基板3aの液晶領域部分Eに形成する絶縁層、すなわち
オーバーコート層8a及び配向膜9aを利用して基板3
aの張出し部Hにも絶縁層14を形成するので、液晶パ
ネルが形成された後に基板張出し部Hの全域をSi(シ
リコン)等といったモールド材によって被覆する場合に
比べて、基板張出し部Hに存在する電極延在部分7cを
より確実に外部から遮蔽でき、よって、電極延在部分7
cの電食をより一層確実に防止できる。
As described above, according to the present embodiment, the first
An insulating layer formed in the liquid crystal region portion E of the substrate 3a, that is, the overcoat layer 8a and the alignment film 9a are used to make the substrate 3
Since the insulating layer 14 is also formed on the overhang portion H of FIG. 1A, the entire area of the overhang portion H is covered with a mold material such as Si (silicon) after the liquid crystal panel is formed. The existing electrode extension portion 7c can be more reliably shielded from the outside, and thus the electrode extension portion 7c can be shielded.
The electrolytic corrosion of c can be more reliably prevented.

【0034】また、第1絶縁層14aの表面全部を第2
絶縁層14bによって完全に覆うことにより、ラビング
処理時における第1絶縁層14aの損傷を確実に防止し
て、液晶表示品質の低下を確実に防止できる。
Further, the entire surface of the first insulating layer 14a is
When the first insulating layer 14a is completely covered with the insulating layer 14b, the first insulating layer 14a can be reliably prevented from being damaged during the rubbing process, so that the quality of the liquid crystal display can be reliably prevented from lowering.

【0035】図6は、図1に示した液晶装置1を製造す
るための液晶装置の製造方法の一実施形態を示してい
る。この製造方法において、第1基板3aは工程P1〜
工程P4を経て、図3(a)に示すように形成される。
具体的には、ガラス、プラスチック等から成る基板素材
5aに第1電極7a及び電極延在部分7c並びに入力端
子12をITOを材料として周知のパターニング法、例
えばフォトリソグラフィー法を用いて形成する(工程P
1)。
FIG. 6 shows an embodiment of a method of manufacturing the liquid crystal device for manufacturing the liquid crystal device 1 shown in FIG. In this manufacturing method, the first substrate 3a includes the steps P1 to P1.
Through the process P4, a structure is formed as shown in FIG.
Specifically, the first electrode 7a, the electrode extension portion 7c, and the input terminal 12 are formed on a substrate material 5a made of glass, plastic, or the like by using a known patterning method such as a photolithography method using ITO as a material (step). P
1).

【0036】次に、図4に示すように、液晶領域部分E
において第1電極7aの上に例えばオフセット印刷によ
ってオーバーコート層8aを形成し、同時に張出し部H
において入力端子12の領域及びIC実装領域Jを除い
て絶縁層14の第1絶縁層14aを形成する(工程P
2)。そしてさらに、オーバーコート層8aの上に例え
ばオフセット印刷によって配向膜9aを形成し、同時に
絶縁層の第1絶縁層14aの上に第2絶縁層14bを形
成する(工程P3)。この場合、第2絶縁層14bは第
1絶縁層14aの表面全部をその端辺部も含めて完全に
覆うように形成される。
Next, as shown in FIG.
In the above, an overcoat layer 8a is formed on the first electrode 7a by, for example, offset printing, and at the same time, the overhang portion H
In the first step, the first insulating layer 14a of the insulating layer 14 is formed except for the area of the input terminal 12 and the IC mounting area J.
2). Further, an alignment film 9a is formed on the overcoat layer 8a by, for example, offset printing, and at the same time, a second insulating layer 14b is formed on the first insulating layer 14a of the insulating layer (step P3). In this case, the second insulating layer 14b is formed so as to completely cover the entire surface of the first insulating layer 14a including its edges.

【0037】次に、図5に示すように、基板素材5aの
周辺部に例えばスクリーン印刷によってシール材2を形
成して液晶領域部分Eを区画形成する。なお、符号2a
はシール材2の一部分に形成された液晶注入口を示して
いる。
Next, as shown in FIG. 5, the sealing material 2 is formed on the peripheral portion of the substrate material 5a by, for example, screen printing to partition and form the liquid crystal region portion E. Note that reference numeral 2a
Denotes a liquid crystal injection port formed in a part of the sealing material 2.

【0038】他方、第2基板3bに関しては、図3
(b)に示すようにガラス、プラスチック等から成る基
板素材5bにITOを材料として第2電極7bを周知の
パターニング法、例えばフォトリソグラフィー法を用い
て形成し(図6の工程P5)、次にその上に例えばオフ
セット印刷によってオーバーコート層8bを形成し(工
程P6)、次にその上に例えばオフセット印刷によって
配向膜9bを形成し、これにより第2基板3bが形成さ
れる。
On the other hand, regarding the second substrate 3b, FIG.
As shown in (b), a second electrode 7b is formed on a substrate material 5b made of glass, plastic or the like by using a known patterning method, for example, a photolithography method using ITO as a material (step P5 in FIG. 6). The overcoat layer 8b is formed thereon by, for example, offset printing (Step P6), and then the alignment film 9b is formed thereon by, for example, offset printing, whereby the second substrate 3b is formed.

【0039】なお、以上のようにして形成される第1基
板3a及び第2基板3bは、一般的には、それぞれが大
面積の基板母材上に複数個分が同時に形成される。そし
て、それらの基板母材の状態において第1基板3aと第
2基板3bとがアライメントすなわち位置合わせされた
状態で互いに貼り合わされて、シール材2(図1参照)
によって互いに接合される(工程P8)。
The first substrate 3a and the second substrate 3b formed as described above are generally simultaneously formed on a large-area substrate base material. Then, the first substrate 3a and the second substrate 3b are adhered to each other in a state where they are aligned, that is, aligned in the state of the substrate base material, and the sealing material 2 (see FIG. 1).
(Step P8).

【0040】次に、大面積の基板母材を1次ブレイクし
てシール材2の一部に形成されている液晶注入口2a
(図1参照)を外部へ露出させ(工程P9)、さらにそ
の液晶注入口2aを通して液晶領域部分Eの中に液晶を
注入し、その注入の完了後に液晶注入口2aを樹脂によ
って封止する(工程P10)。その後、2次ブレイクを
行うことにより、図1に示す液晶装置1であって液晶駆
動用IC13が実装されていないものが形成される(工
程P11)。
Next, a large-area substrate base material is subjected to a primary break to form a liquid crystal injection port 2 a formed in a part of the sealing material 2.
(See FIG. 1) is exposed to the outside (step P9), and liquid crystal is injected into the liquid crystal region E through the liquid crystal injection port 2a, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port 2a is sealed with a resin (FIG. 1). Step P10). Thereafter, a secondary break is performed to form the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 in which the liquid crystal driving IC 13 is not mounted (step P11).

【0041】次に、IC実装領域JにACF18(図1
参照)を貼着し、さらにその上に液晶駆動用IC13を
アライメントした状態で仮実装し、さらに加圧及び加熱
することにより熱圧着し、これにより液晶駆動用IC1
3を基板3a上の所定位置に実装する(工程P12)。
さらに各基板3a及び3bの外側表面に偏光板23a及
び23bを貼着し(工程P13)、これにより図1に示
す液晶装置1が完成する。入力端子12には、その後の
適宜のタイミングにおいて外部配線基板16が接続され
る。
Next, the ACF 18 (FIG. 1) is placed in the IC mounting area J.
), And the liquid crystal driving IC 13 is temporarily mounted thereon in an aligned state, and then thermocompression-bonded by applying pressure and heating, thereby forming the liquid crystal driving IC 1.
3 is mounted at a predetermined position on the substrate 3a (Step P12).
Further, polarizing plates 23a and 23b are attached to the outer surfaces of the substrates 3a and 3b (step P13), whereby the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 is completed. The external wiring board 16 is connected to the input terminal 12 at an appropriate timing thereafter.

【0042】(第2実施形態)図7は、本発明に係る電
子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。こ
こに示す携帯電話機30は、アンテナ31、スピーカ3
2、液晶装置40、キースイッチ33、マイクロホン3
4等といった各種構成要素を、筐体としての外装ケース
36に格納することによって構成される。また、外装ケ
ース36の内部には、上記の各構成要素の動作を制御す
るための制御回路を搭載した制御回路基板37が設けら
れる。液晶装置40は図1に示した液晶装置1を用いる
ことができる。
(Second Embodiment) FIG. 7 shows a mobile phone as one embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. The mobile phone 30 shown here has an antenna 31, a speaker 3
2, liquid crystal device 40, key switch 33, microphone 3
4 is stored in an outer case 36 as a housing. Further, inside the outer case 36, a control circuit board 37 on which a control circuit for controlling the operation of each of the above-described components is mounted is provided. As the liquid crystal device 40, the liquid crystal device 1 shown in FIG. 1 can be used.

【0043】この携帯電話機30では、キースイッチ3
3及びマイクロホン34を通して入力される信号や、ア
ンテナ31によって受信した受信データ等が制御回路基
板37上の制御回路へ入力される。そしてその制御回路
は、入力した各種データに基づいて液晶装置40の表示
面内に数字、文字、絵柄等といった像を表示し、さらに
アンテナ31から送信データを送信する。
In this portable telephone 30, the key switch 3
Signals input through the microphone 3 and the microphone 34, received data received by the antenna 31, and the like are input to the control circuit on the control circuit board 37. Then, the control circuit displays an image such as a number, a character, or a picture on the display surface of the liquid crystal device 40 based on the various input data, and transmits transmission data from the antenna 31.

【0044】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications may be made within the scope of the invention described in the claims. Can be modified.

【0045】例えば、図1に示す液晶装置はCOG(Ch
ip On Glass)方式の液晶装置、すなわち基板上に液晶
駆動用ICを直接に実装する構造の液晶装置であるが、
本発明は液晶駆動用ICを基板上に直接に実装する方式
ではない液晶装置に対しても適用できる。また、図1で
は単純マトリクス方式の液晶装置を考えたが、これに代
えてアクティブマトリクス方式の液晶装置を用いること
もできる。
For example, the liquid crystal device shown in FIG.
ip On Glass) type liquid crystal device, that is, a liquid crystal device with a structure in which a liquid crystal driving IC is directly mounted on a substrate.
The present invention can be applied to a liquid crystal device that does not directly mount a liquid crystal driving IC on a substrate. Although a simple matrix type liquid crystal device is considered in FIG. 1, an active matrix type liquid crystal device can be used instead.

【0046】また、図1の実施形態では基板3a及び3
bの一方だけに液晶駆動用ICを実装する構造、すなわ
ち電極延在部分7cが1つの基板だけに形成される構造
の液晶装置に対して本発明を適用したが、本発明はこれ
以外の構造の液晶装置、例えば基板3a,3bの両方に
液晶駆動用ICが実装される構造の液晶装置にも適用で
きる。
In the embodiment shown in FIG. 1, the substrates 3a and 3
The present invention is applied to a liquid crystal device having a structure in which a liquid crystal driving IC is mounted on only one of the substrates b, that is, a structure in which the electrode extension portion 7c is formed on only one substrate. , For example, a liquid crystal device having a structure in which a liquid crystal driving IC is mounted on both substrates 3a and 3b.

【0047】また、図7の実施形態では、電子機器とし
ての携帯電話機に本発明の液晶装置を用いる場合を例示
したが、本発明の液晶装置はそれ以外の任意の電子機
器、例えば携帯情報端末機、電子手帳、ビデオカメラの
ファインダー等に適用することもできる。
Further, in the embodiment of FIG. 7, the case where the liquid crystal device of the present invention is used in a portable telephone as an electronic device is exemplified. However, the liquid crystal device of the present invention is applicable to any other electronic device, for example, a portable information terminal. It can also be applied to a device, an electronic organizer, a finder of a video camera, and the like.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明に係る液晶装置、液晶装置の製造
方法及び電子機器によれば、基板の液晶領域部分に形成
するオーバーコート層及び配向膜を利用して基板の張出
し部に絶縁層を形成するので、液晶パネルが形成された
後に基板張出し部にSi等といったモールド材を付着さ
せる場合に比べて、基板張出し部に存在する電極延在部
分の電食を確実に防止できる。
According to the liquid crystal device, the method of manufacturing the liquid crystal device, and the electronic apparatus of the present invention, the insulating layer is formed on the overhang portion of the substrate by using the overcoat layer and the alignment film formed in the liquid crystal region of the substrate. Since it is formed, it is possible to reliably prevent electrolytic corrosion of the electrode extension portion existing in the substrate overhang portion, as compared with a case where a mold material such as Si is attached to the substrate overhang portion after the liquid crystal panel is formed.

【0049】また、オーバーコート層を利用して形成さ
れる第1絶縁層の表面全部を配向膜を利用して形成され
る第2絶縁層によって覆うようにしたので、オーバーコ
ート層と同質な第1絶縁層が外部に剥き出しになる部分
が無くなり、それ故、第2絶縁層と同質な配向膜に対し
てラビング処理が行われる際、第1絶縁層がそのラビン
グ処理によって損傷することが無くなる。そのため、配
向膜に汚れが発生することを防止でき、その結果、液晶
装置に表示ムラが発生することを防止できる。
Further, since the entire surface of the first insulating layer formed by using the overcoat layer is covered by the second insulating layer formed by using the alignment film, the first insulating layer is formed of the same quality as the overcoat layer. There is no portion where the first insulating layer is exposed to the outside, and therefore, when the rubbing process is performed on the alignment film having the same quality as the second insulating layer, the first insulating layer is not damaged by the rubbing process. Therefore, it is possible to prevent the alignment film from being stained, and as a result, to prevent display unevenness from occurring in the liquid crystal device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断
して示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention, partially cut away.

【図2】図1の液晶装置の主要部の断面構造を示す側面
断面図である。
FIG. 2 is a side sectional view showing a sectional structure of a main part of the liquid crystal device of FIG.

【図3】(a)は図1に示す液晶装置を構成する一方の
基板に形成される電極の形状の一例を示す平面図であ
る。(b)は(a)に対向して液晶装置を構成している
他方の基板に形成される電極の形状の一例を示す平面図
である。
FIG. 3A is a plan view illustrating an example of a shape of an electrode formed on one substrate included in the liquid crystal device illustrated in FIG. (B) is a plan view showing an example of the shape of an electrode formed on the other substrate constituting the liquid crystal device facing (a).

【図4】図3に示す基板仕掛品の表面に絶縁層を形成し
た状態を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a state in which an insulating layer is formed on the surface of the workpiece in process shown in FIG. 3;

【図5】図4に示す基板仕掛品の表面にシール材を形成
した状態を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a state in which a sealing material is formed on the surface of the substrate work-in-progress shown in FIG. 4;

【図6】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態
を示す工程図である。
FIG. 6 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図7】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜視
図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an embodiment of an electronic device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶装置 2 シール材 3a 第1基板 3b 第2基板 5a,5b 基板素材 6 液晶 7a 第1電極 7b 第2電極 8a,8b オーバーコート層 9a,9b 配向膜 14 絶縁層 14a 第1絶縁層 14b 第2絶縁層 E 液晶領域部分 H 基板張出し部 J IC実装領域 Reference Signs List 1 liquid crystal device 2 sealing material 3a first substrate 3b second substrate 5a, 5b substrate material 6 liquid crystal 7a first electrode 7b second electrode 8a, 8b overcoat layer 9a, 9b alignment film 14 insulating layer 14a first insulating layer 14b first 2 Insulation layer E Liquid crystal area H Substrate overhang J IC mounting area

フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 HA03 HB03X HB06X HC01 HC10 HC17 HC18 HC19 HD05 HD14 JB02 JC17 JD14 KA05 MA04 MB03 2H092 GA05 GA35 GA43 GA60 HA25 HA28 MA32 MA35 MA37 NA01 NA15 NA17 NA25 NA27 NA30 PA02 QA07 5C094 AA03 AA42 AA43 AA48 BA43 CA19 DA09 DA15 DB01 EA04 EA05 EB02 ED20 FA01 FA02 FB01 FB02 FB15 GB10 Continued on the front page F term (reference) 2H090 HA03 HB03X HB06X HC01 HC10 HC17 HC18 HC19 HD05 HD14 JB02 JC17 JD14 KA05 MA04 MB03 2H092 GA05 GA35 GA43 GA60 HA25 HA28 MA32 MA35 MA37 NA01 NA15 NA17 NA25 NA27 NA30 PA02 QA07 AA4A CA19 DA09 DA15 DB01 EA04 EA05 EB02 ED20 FA01 FA02 FB01 FB02 FB15 GB10

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を挟んで互いに対向すると共に対向
面に電極を備えた一対の基板と、前記電極上に形成され
るオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上に形
成される配向膜とを有し、 前記一対の基板の少なくとも一方の基板は他方の基板の
外側へ張り出す基板張出し部を有し、 前記電極は前記基板張出し部へ延びる延在部分を有する
液晶装置において、 前記基板張出し部上には前記オーバーコート層を形成す
るのと同時に形成される第1絶縁層が前記電極の延在部
分を被覆するように設けられ、 その第1絶縁層の上には前記配向膜を形成するのと同時
に形成される第2絶縁層が設けられ、そして前記第1絶
縁層はその表面全部が前記第2絶縁層によって覆われる
ことを特徴とする液晶装置。
1. A pair of substrates facing each other with a liquid crystal interposed therebetween and having electrodes on opposite surfaces, an overcoat layer formed on the electrodes, and an alignment film formed on the overcoat layer. A liquid crystal device having at least one substrate of the pair of substrates having a substrate overhang extending outside the other substrate; and the electrode having an extending portion extending to the substrate overhang. A first insulating layer formed simultaneously with the formation of the overcoat layer so as to cover the extended portion of the electrode; and forming the alignment film on the first insulating layer. A second insulating layer formed at the same time as the first insulating layer is provided, and the entire surface of the first insulating layer is covered by the second insulating layer.
【請求項2】 液晶を挟んで互いに対向すると共に対向
面に電極を備えた一対の基板と、前記電極上に形成され
るオーバーコート層と、前記オーバーコート層の上に形
成される配向膜とを有し、 前記一対の基板の少なくとも一方の基板は他方の基板の
外側へ張り出す基板張出し部を有し、 前記電極は前記基板張出し部へ延びる延在部分を有する
液晶装置において、 前記電極は前記対向面及び前記基板張出し部上の両方に
おいて共に前記オーバーコート層で覆われる領域を有
し、該領域の全てが前記配向膜によって覆われているこ
とを特徴とする液晶装置。
2. A pair of substrates facing each other with a liquid crystal interposed therebetween and having electrodes on opposite surfaces, an overcoat layer formed on the electrodes, and an alignment film formed on the overcoat layer. Wherein at least one of the pair of substrates has a substrate overhang extending outside the other substrate, and the electrode has an extending portion extending to the substrate overhang. A liquid crystal device having a region both covered with the overcoat layer on both the opposing surface and the substrate overhang, and the entire region is covered with the alignment film.
【請求項3】 請求項1または請求項2において、前記
オーバーコート層及び前記第1絶縁層は酸化珪素又は酸
化チタン又は少なくともどちらか片方を含む混合物によ
って形成され、前記配向膜及び前記第2絶縁層はポリイ
ミド系樹脂によって形成されることを特徴とする液晶装
置。
3. The overcoat layer and the first insulating layer according to claim 1, wherein the overcoat layer and the first insulating layer are formed of silicon oxide or titanium oxide or a mixture containing at least one of the silicon oxide and the titanium oxide. A liquid crystal device, wherein the layer is formed of a polyimide resin.
【請求項4】 少なくとも一方の基板が他方の基板の外
側へ張り出す張出し部を有して対向する一対の基板のそ
れぞれの表面上に電極を形成する電極形成工程と、 前記張出し部を有する基板の対向面にオーバーコート層
を形成すると共に前記張出し部上に第1絶縁層を形成す
る第1絶縁層形成工程と、 前記張出し部を有する基板の対向面のオーバーコート層
上に配向膜を形成すると共にその張出し部上に第2絶縁
層を形成する第2絶縁層形成工程とを有し、 前記第2絶縁層形成工程では、前記第1絶縁層の表面全
部を被覆するように前記第2絶縁層が形成されることを
特徴とする液晶装置の製造方法。
4. An electrode forming step of forming electrodes on respective surfaces of a pair of substrates facing each other with at least one substrate having an overhanging portion overhanging the other substrate; and a substrate having the overhanging portion. Forming an overcoat layer on the opposite surface of the substrate and forming a first insulating layer on the overhang portion; and forming an alignment film on the overcoat layer on the opposite surface of the substrate having the overhang portion. And a second insulating layer forming step of forming a second insulating layer on the overhanging portion. In the second insulating layer forming step, the second insulating layer is formed so as to cover the entire surface of the first insulating layer. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein an insulating layer is formed.
【請求項5】 液晶装置と、その液晶装置を収容する筐
体とを有する電子機器において、前記液晶装置は請求項
1から請求項3に記載の液晶装置によって構成されるこ
とを特徴とする電子機器。
5. An electronic apparatus comprising a liquid crystal device and a housing for accommodating the liquid crystal device, wherein the liquid crystal device is constituted by the liquid crystal device according to claim 1. machine.
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