JP2000265119A - Die attach paste - Google Patents

Die attach paste

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JP2000265119A
JP2000265119A JP6951199A JP6951199A JP2000265119A JP 2000265119 A JP2000265119 A JP 2000265119A JP 6951199 A JP6951199 A JP 6951199A JP 6951199 A JP6951199 A JP 6951199A JP 2000265119 A JP2000265119 A JP 2000265119A
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JP
Japan
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paste
die attach
general formula
represented
isocyanuric acid
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JP6951199A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomohiro Kagimoto
奉広 鍵本
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject paste maintaining conventional die attach paste characteristics, curable even in an extremely short time, useful for bonding a semiconductor by making the paste include a specific isocyanuric acid EO modified diacrylate, etc. SOLUTION: This paste comprises (A) an isocyanuric acid EO modified diacrylate or triacrylate of formula I (A is CH2=CHCO or H), (B) a monoacrylate and/or a monomethacrylate of formula II (R1 is CH3 or H; R2 is an alicyclic and/or aromatic >=10C substituent group), (C) an organic peroxide (e.g. cumylperoxy neodecanoate and/or an azo compound (e.g. 2,2'- azobisisobutylnitrile, etc.), (D) an inorganic filler (e.g. silver powder, etc.). The weight ratio of the component A to the component B is preferably 80/20 to 20/80.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着性、速硬化性
及び信頼性に優れた半導体接着用ペーストに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor bonding paste which is excellent in adhesiveness, rapid curing property and reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年半導体パッケージの生産量は増加の
一歩をたどっており、これに伴い製造コストの削減は重
要な課題となっている。半導体パッケージ組立の中でダ
イアタッチペーストで半導体とリードフレームを接着す
る工程が有るが、この工程に関しては時間短縮、及び低
温硬化がキーポイントになっている。硬化の過程はバッ
チ式オーブン法、インラインで硬化させる方法に大別さ
れるが、インラインで用いられる速硬化性ペーストを用
いた通常のダイマウントは、150℃から200℃で3
0秒から60秒の間で行われる。しかし、今後より低
温、短時間硬化可能なペーストの開発が望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, the production volume of semiconductor packages has been on an increasing trend, and accordingly, reduction of manufacturing costs has become an important issue. In the process of assembling a semiconductor package, there is a step of bonding a semiconductor and a lead frame with a die attach paste, and in this step, time reduction and low-temperature curing are key points. The curing process is roughly classified into a batch-type oven method and an in-line curing method, and a normal die mount using a fast-curing paste used in-line is usually 3 to 150 ° C. to 200 ° C.
This is performed between 0 and 60 seconds. However, development of a paste that can be cured at a lower temperature for a shorter time is desired in the future.

【0003】一方、パッケージとしての信頼性は、特に
耐半田クラック性が重要であるが、ダイアタッチペース
トとしてはさらにシリコンチップとリードフレームとの
線膨張の差を緩和するために低応力性が重要である。ダ
イアタッチペーストのベースレジンはエポキシ樹脂、シ
アネート樹脂、ビスマレイミド樹脂系等が知られている
が、例えば30秒以内に硬化が可能であり、それぞれの
用途に適した特性(接着性、低応力性等)を維持する材
料は全く見いだされていなかった。又、特性を満足した
としても常温での粘度上昇が激しすぎ、使用に適さない
材料しかなかった。
[0003] On the other hand, the reliability of the package is particularly important in terms of solder crack resistance, but the die attach paste is also required to have low stress in order to reduce the difference in linear expansion between the silicon chip and the lead frame. It is. Epoxy resin, cyanate resin, bismaleimide resin, and the like are known as the base resin of the die attach paste. For example, the resin can be cured within 30 seconds and has properties (adhesiveness, low stress property) suitable for each application. ) Were not found at all. Further, even if the properties are satisfied, the viscosity at room temperature increases too much, and there are only materials that are not suitable for use.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のダイ
アタッチペーストの特性を維持し、且つ非常に短時間で
も硬化が可能なダイアタッチペーストを見いだすべく鋭
意検討した結果完成させるに至ったものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been completed as a result of intensive studies to find a die attach paste which can maintain the characteristics of a conventional die attach paste and can be cured even in a very short time. It is.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)一般式
(1)で示されるイソシアヌル酸EO変性ジアクリレー
ト又はトリアクリレート、(B)一般式(2)で示され
るモノアクリレート又はモノメタクリレート、(C)有
機過酸化物及び/又はアゾ化合物、(D)無機フィラー
を必須成分とするダイアタッチペーストである。
The present invention provides (A) an isocyanuric acid EO-modified diacrylate or triacrylate represented by the general formula (1), and (B) a monoacrylate or monomethacrylate represented by the general formula (2). , (C) an organic peroxide and / or an azo compound, and (D) an inorganic filler as a die attach paste.

【0006】[0006]

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【0007】更に好ましい形態としては、該(A)一般
式(1)で示されるイソシアヌル酸EO変性ジアクリレ
ート又はトリアクリレートと該(B)一般式(2)で示
されるモノアクリレート及び/又はモノメタクリレート
との重量比が80/20から20/80であるダイアタ
ッチペーストである。
In a more preferred embodiment, (A) isocyanuric acid EO-modified diacrylate or triacrylate represented by the general formula (1) and (B) monoacrylate and / or monomethacrylate represented by the general formula (2) Is a die attach paste having a weight ratio of 80/20 to 20/80.

【0008】本発明に用いられるアクリレート樹脂は一
般式(1)で示されるイソシアヌル酸EO変性ジアクリ
レート又はトリアクリレートと一般式(2)で示される
モノアクリレート及び/又はモノメタクリレートの重量
比が80/20〜20/80である事が好ましい。80
/20より高いとペースト粘度が高すぎ塗布作業性が著
しく悪くなる。一方、20/80より小さいと接着性、
耐熱性が悪くなる。
The acrylate resin used in the present invention has a weight ratio of the isocyanuric acid EO-modified diacrylate or triacrylate represented by the general formula (1) and the monoacrylate and / or monomethacrylate represented by the general formula (2) of 80/80. It is preferably 20 to 20/80. 80
If it is higher than / 20, the paste viscosity is too high, and the coating workability is significantly deteriorated. On the other hand, if the ratio is smaller than 20/80, the adhesiveness,
Heat resistance deteriorates.

【0009】一般式(1)で示されるアクリレート樹脂
は粘度が高いため反応性希釈剤として(メタ)アクリル
基を一つ含むモノ(メタ)アクリレートを添加する。更
に本発明に使用されるモノ(メタ)アクリレートは式
(2)で示され、さらには置換基R2が脂環族、及び/
又は芳香族基を含み、置換基R2中の全炭素数が10個
以上であることが重要である。この条件を満たす事によ
り希釈剤としての効果だけでなく、嵩高い置換基を有す
るため硬化中の収縮を押さえることができ、界面の接着
信頼性を高めることができる。脂環族、芳香族基を含ま
ず炭素数が10個以上の置換基の場合は硬化収縮に関し
ては低減できるが脂肪族炭化水素の特性により接着性が
低下してしまうので好ましくない。
Since the acrylate resin represented by the general formula (1) has a high viscosity, a mono (meth) acrylate containing one (meth) acryl group is added as a reactive diluent. Further, the mono (meth) acrylate used in the present invention is represented by the formula (2), and further, the substituent R 2 is alicyclic, and / or
Alternatively, it is important that the substituent R 2 contains an aromatic group and the total number of carbon atoms in the substituent R 2 is 10 or more. By satisfying this condition, not only the effect as a diluent, but also shrinkage during curing can be suppressed due to the presence of a bulky substituent, and the adhesion reliability at the interface can be enhanced. In the case of a substituent having 10 or more carbon atoms which does not contain an alicyclic or aromatic group, curing shrinkage can be reduced, but the adhesiveness is undesirably reduced due to the characteristics of the aliphatic hydrocarbon.

【0010】モノ(メタ)アクリレートの例としては、Examples of mono (meth) acrylates include:

【化3】 等が挙げられ、これらの内の1種類あるいは複数種と併
用可能である。
Embedded image And the like, and one or more of these can be used in combination.

【0011】また、本発明においては他のアクリレート
樹脂を混合して用いてもよい。上記アクリレート樹脂と
混合する場合の他のアクリレート樹脂としては、例えば
ヒドロキシアルキルアクリル酸、ポリアルキレングリコ
ールおよびジイソシアネートの反応により得られるウレ
タンアクリレート、ポリエステルアクリレート等があ
る。
In the present invention, other acrylate resins may be mixed and used. Other acrylate resins when mixed with the acrylate resin include, for example, urethane acrylates and polyester acrylates obtained by the reaction of hydroxyalkylacrylic acid, polyalkylene glycol and diisocyanate.

【0012】次に、重合開始剤の例としては、有機過酸
化物やアゾ化合物等がある。有機過酸化物は、急速加熱
試験(資料1gを電熱板の上にのせ、4℃/分で昇温し
たときの分解開始温度)における分解温度が40℃から
140℃であることが好ましい。分解温度が40℃に満
たない場合は、常温における保存性が悪くなり、140
℃を越えると硬化時間が極端に長くなるためである。
Next, examples of the polymerization initiator include organic peroxides and azo compounds. The decomposition temperature of the organic peroxide in a rapid heating test (decomposition start temperature when 1 g of a sample is placed on an electric heating plate and heated at a rate of 4 ° C./min) is preferably from 40 ° C. to 140 ° C. When the decomposition temperature is lower than 40 ° C., the storage stability at room temperature becomes poor,
When the temperature exceeds ℃, the curing time becomes extremely long.

【0013】本発明で用いられる有機過酸化物の例とし
ては、キュミルパーオキシネオデカネート、t−ブチル
パーオキシネオデカネート、1−シクロヘキシル−1−
メチルエチルパーオキシネオデカネート、1,1,3,
3−テトラメチルパーオキシネオデカネート、1,1,
3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘ
キサネート、ビス(4−ブチルシクロヘキシル)パーオ
キシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピ
ルモノカーボネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオ
キシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−
ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ
3,5,5−トリメチルヘキサネート、t−ブチルパー
オキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘ
キシルパーオキシ−2−エチルヘキサネート等がある。
アゾ化合物の例としては、2,2’−アゾビスイソブチ
ルニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1
−フェニルエタン)等がある。
Examples of the organic peroxide used in the present invention include cumylperoxyneodecanate, t-butylperoxyneodecanate, 1-cyclohexyl-1-
Methyl ethyl peroxy neodecaneate, 1,1,3
3-tetramethyl peroxyneodecane, 1,1,
3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, bis (4-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, 1,1-bis (t-butylperoxy)- 3,3,5-trimethylcyclohexane, t-
Butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxy 3,5,5-trimethyl hexanate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxy-2-ethyl hexanate and the like.
Examples of the azo compound include 2,2′-azobisisobutylnitrile and 1,1′-azobis (1-acetoxy-1
-Phenylethane).

【0014】これら有機過酸化物、アゾ化合物は単独あ
るいは硬化性をコントロールするため2種類以上を混合
して用いることもできる。さらに、樹脂の保存性を向上
するために各種重合禁止剤を予め添加しておくことも可
能である。
These organic peroxides and azo compounds can be used alone or in combination of two or more to control curability. Further, various polymerization inhibitors can be added in advance in order to improve the storage stability of the resin.

【0015】これら有機過酸化物、アゾ化合物の添加量
は、成分(A)+成分(B)の総重量に対して、0.1
重量%から5重量%であることが好ましい。5重量%よ
り多いとペーストのライフ(粘度経時変化)が大きく作
業性に問題が生じる。0.1重量%より少ないと硬化性
が著しく低下するので好ましくない。
The addition amount of these organic peroxides and azo compounds is 0.1% based on the total weight of component (A) + component (B).
Preferably it is between 5% and 5% by weight. If the amount is more than 5% by weight, the life of the paste (viscosity change with time) is large, which causes a problem in workability. If the amount is less than 0.1% by weight, the curability is remarkably reduced, which is not preferable.

【0016】本発明に用いる無機フィラーとしては、銀
粉、金粉、ニッケル粉、銅粉等の導電性フィラー、窒化
アルミニウム、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ等の
絶縁フィラーが挙げられる。
Examples of the inorganic filler used in the present invention include conductive fillers such as silver powder, gold powder, nickel powder, and copper powder, and insulating fillers such as aluminum nitride, calcium carbonate, silica, and alumina.

【0017】銀粉は導電性を付与するために用いられ、
ハロゲンイオン、アルカリ金属イオン等のイオン性不純
物の含有量は10ppm以下であることが好ましい。ま
た、銀粉の形状としては、フレーク状、樹枝状、球状等
が用いられる。必要とするペーストの粘度により、使用
する銀粉の粒径は異なるが、通常平均粒径は2〜10μ
m、最大粒径は50μm程度のものが好ましい。また、
比較的粗い銀粉と細かい銀粉とを混合して用いることも
でき、形状についても各種のものを便宜混合してもよ
い。
Silver powder is used for imparting conductivity,
The content of ionic impurities such as halogen ions and alkali metal ions is preferably 10 ppm or less. In addition, as the shape of the silver powder, a flake shape, a tree shape, a spherical shape, or the like is used. The particle size of the silver powder to be used varies depending on the viscosity of the paste required, but the average particle size is usually 2 to 10 μm.
m, the maximum particle size is preferably about 50 μm. Also,
A mixture of relatively coarse silver powder and fine silver powder can be used, and various shapes may be conveniently mixed.

【0018】次に、絶縁フィラーの一つであるシリカフ
ィラーは平均粒径1〜20μmで最大粒径50μm以下
のものが好ましい。平均粒径が1μm未満だと粘度が高
くなり、20μmを越えると塗布または硬化時に樹脂分
が流出するのでブリードが発生するため好ましくない。
また、最大粒径が50μmを越えるとディスペンサーで
ペーストを塗布するときに、ニードル詰まりを起こすた
め好ましくない。更に、比較的粗いシリカフィラーと細
かいシリカフィラーを混合して用いることもでき、形状
についても各種のものを便宜混合してもよい。
Next, the silica filler as one of the insulating fillers preferably has an average particle size of 1 to 20 μm and a maximum particle size of 50 μm or less. If the average particle size is less than 1 μm, the viscosity increases, and if the average particle size exceeds 20 μm, bleeding occurs because the resin component flows out during coating or curing, which is not preferable.
On the other hand, if the maximum particle size exceeds 50 μm, it is not preferable because needle clogging occurs when applying the paste with a dispenser. Furthermore, a relatively coarse silica filler and a fine silica filler may be mixed and used, and various shapes may be conveniently mixed.

【0019】本発明における樹脂ペーストは必要により
消泡剤、カップリング剤、界面活性剤等の添加剤を用い
ることができる。これらの添加剤のうち、カップリング
剤は接着性を高めるために添加する事が好ましい。
In the resin paste of the present invention, additives such as an antifoaming agent, a coupling agent and a surfactant can be used if necessary. Of these additives, the coupling agent is preferably added to enhance the adhesiveness.

【0020】その例としては特に限定されないが、いわ
ゆる、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基
等を含むアルコキシシラン化合物、リン酸基を有するア
クリレート又はメタクリレート等が挙げられる。本発明
のペーストの製造方法としては、例えば予備混合して三
本ロール等を用いてペーストを得て真空下脱泡する。
Examples thereof include, but are not particularly limited to, so-called alkoxysilane compounds containing an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a vinyl group, etc., and acrylates or methacrylates having a phosphate group. In the method for producing the paste of the present invention, for example, the paste is premixed to obtain a paste using a three-roll mill or the like, and defoamed under vacuum.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明を実施例で具体的に説明する。 <実施例1〜8>一般式(1)で示されるイソシアヌル
酸EO変性ジアクリレート(東亞合成・製、M−21
5)、下記の構造式で示されるモノアクリレート、重合
開始剤として下記の有機過酸化物1、2及びアゾ化合
物、カップリング剤としてリン酸基含有メタクリレー
ト、更に無機フィラーとして平均粒径3μm、最大粒径
20μmのフレーク状銀粉、又は平均粒径5μm、最大
粒径20μmのシリカフィラーを表1のように配合し、
3本ロールを用いて混錬し、脱泡後ペーストを得た。得
られたペーストを以下の方法により評価した。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. <Examples 1 to 8> Isocyanuric acid EO-modified diacrylate represented by the general formula (1) (manufactured by Toagosei Co., Ltd., M-21)
5), a monoacrylate represented by the following structural formula, the following organic peroxides 1 and 2 and an azo compound as a polymerization initiator, a phosphoric acid group-containing methacrylate as a coupling agent, and an average particle size of 3 μm as an inorganic filler, A flake silver powder having a particle diameter of 20 μm, or a silica filler having an average particle diameter of 5 μm and a maximum particle diameter of 20 μm is blended as shown in Table 1,
The mixture was kneaded using three rolls, and a paste was obtained after defoaming. The obtained paste was evaluated by the following method.

【0022】<評価方法> ・粘度:25℃でE型粘度計を用いて回転数2.5rp
mでの粘度を測定した。 ・保存性:25℃の恒温槽で72時間静置後の粘度を測
定した。粘度の上昇が初期の粘度の10%以下なら良
好、10%を越えると不良とした。 ・接着強度:ペーストを用いて、2×2mmのシリコン
チップを銅フレームにマウントし、180℃のオーブン
中で15分硬化した。硬化後プッシュプルゲージを用い
250℃での熱時ダイシェア強度を測定した。 ・ボイド:リードフレームに10mm×10mmのガラ
スチップをマウントし、硬化後、外観を目視でボイドを
チェックした。被着面積の15%以下のボイドならば良
好、15%を越えるものを不良とした。 ・WB処理時の剥離:リードフレームに6mm×15m
mのチップをマウントし、硬化後、250℃にてワイヤ
ーボンディング処理を行ない、ペレットの接着状態を観
察した。剥離が無ければ良好、剥離が観察されれば不良
とした。 ・反り:低応力性の評価として反りを測定した。厚み2
00ミクロンの銅フレームに6mm×15mm×0.3
mmのシリコンチップをペーストを用いて175℃15
秒でペースト厚みが20μmになるよう接着し、表面粗
さ計を用いて、長手方向のチップの変位を測定しその高
低差により反り量を測定した。 ・耐パッケージクラック性:スミコンEME−7320
(住友ベークライト(株)製)の封止材料を用い、下記
の条件で成形したパッケージを85℃、相対湿度85
%、168時間吸水処理した後、IRリフロー(240
℃、10秒)にかけ、断面観察により内部クラックの数
を測定し、耐パッケージクラック性の指標とした。 パッケージ:80pQFP(14×20×2mm厚さ) チップサイズ:7.5×7.5mm(アルミ配線のみ) リードフレーム:Cu 成形:175℃、2分間 ポストモールドキュア:175℃、4時間 全パッケージ数:12
<Evaluation method> Viscosity: 2.5 rpm using an E-type viscometer at 25 ° C.
The viscosity in m was measured. -Storage property: The viscosity after standing for 72 hours in a thermostat at 25 ° C was measured. If the increase in viscosity was 10% or less of the initial viscosity, it was good, and if it exceeded 10%, it was bad. Adhesive strength: Using a paste, a 2 × 2 mm silicon chip was mounted on a copper frame and cured in an oven at 180 ° C. for 15 minutes. After curing, the die shear strength under heat at 250 ° C. was measured using a push-pull gauge. Void: A glass chip of 10 mm × 10 mm was mounted on a lead frame, and after curing, voids were visually checked for appearance. A void of 15% or less of the adhered area was regarded as good, and a void exceeding 15% was regarded as defective. -Peeling during WB processing: 6 mm x 15 m on lead frame
After mounting the m-type chip and curing, a wire bonding treatment was performed at 250 ° C., and the adhesion state of the pellet was observed. If there was no peeling, it was good, and if peeling was observed, it was bad. -Warpage: Warpage was measured as an evaluation of low stress. Thickness 2
6mm x 15mm x 0.3 in a 00 micron copper frame
mm silicon chip at 175 ° C 15
The paste was adhered so that the thickness of the paste became 20 μm in seconds, the displacement of the chip in the longitudinal direction was measured using a surface roughness meter, and the amount of warpage was measured based on the height difference. -Package crack resistance: Sumicon EME-7320
A package molded under the following conditions using a sealing material (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) at 85 ° C. and a relative humidity of 85
% After a water absorption treatment for 168 hours, followed by IR reflow (240
(10 ° C., 10 seconds), the number of internal cracks was measured by cross-sectional observation, and used as an index of package crack resistance. Package: 80pQFP (14 × 20 × 2mm thickness) Chip size: 7.5 × 7.5mm (aluminum wiring only) Lead frame: Cu Molding: 175 ° C, 2 minutes Post-mold cure: 175 ° C, 4 hours Total number of packages : 12

【0023】<比較例1〜6>表2に示した組成の各成
分を配合し、実施例1と同様にペーストを得て、同様の
評価を行った。
<Comparative Examples 1 to 6> Each component having the composition shown in Table 2 was blended, a paste was obtained in the same manner as in Example 1, and the same evaluation was performed.

【0024】評価結果を表1及び表2に示す。The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【表1】 [Table 1]

【0025】[0025]

【表2】 [Table 2]

【0026】[0026]

【化4】 Embedded image

【0027】[0027]

【化5】 Embedded image

【0028】有機過酸化物1:日本油脂(株)・製、キュ
ミルパーオキシネオデカネート(急速加熱試験における
分解温度:65℃) 有機過酸化物2:日本油脂(株)・製、t−ブチルパーオ
キシイソプロピルモノカーボネート(急速加熱試験にお
ける分解温度:108℃) アゾ化合物:和光純薬工業(株)・製、2,2’−アゾイ
ソブチルニトリル
Organic peroxide 1: Cumyl peroxyneodecanate, manufactured by NOF Corporation (decomposition temperature in a rapid heating test: 65 ° C.) Organic peroxide 2: manufactured by NOF Corporation, t -Butyl peroxyisopropyl monocarbonate (decomposition temperature in rapid heating test: 108 ° C) Azo compound: 2,2'-azoisobutylnitrile, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明のダイアタッチペーストは、限定
された構造のイソシアヌルEO変性ジアクリレート又は
トリアクリレートにより接着性が向上し、更に嵩高い置
換基を有するモノアクリレートの組み合わせにより硬化
時の収縮を押さえ、その結果優れた低応力性、接着性が
発現された速硬化性ペーストである。
According to the die attach paste of the present invention, adhesion is improved by an isocyanuric EO-modified diacrylate or triacrylate having a limited structure, and shrinkage during curing is reduced by a combination of a monoacrylate having a bulky substituent. This is a fast-curing paste that has excellent low stress and adhesiveness as a result.

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Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)一般式(1)で示されるイソシア
ヌル酸EO変性ジアクリレート又はトリアクリレート、
(B)一般式(2)で示されるモノアクリレート及び/
又はモノメタクリレート、(C)有機過酸化物及び/又
はアゾ化合物、(D)無機フィラーからなることを特徴
とするダイアタッチペースト。 【化1】 【化2】
(A) isocyanuric acid EO-modified diacrylate or triacrylate represented by the general formula (1):
(B) a monoacrylate represented by the general formula (2) and / or
Alternatively, a die attach paste comprising monomethacrylate, (C) an organic peroxide and / or an azo compound, and (D) an inorganic filler. Embedded image Embedded image
【請求項2】 該(A)一般式(1)で示されるイソシ
アヌル酸EO変性ジアクリレート又はトリアクリレート
と該(B)一般式(2)で示されるモノアクリレート及
び/又はモノメタクリレートとの重量比が80/20か
ら20/80である請求項1記載のダイアタッチペース
ト。
2. A weight ratio of the (A) isocyanuric acid EO-modified diacrylate or triacrylate represented by the general formula (1) to the (B) monoacrylate and / or monomethacrylate represented by the general formula (2). Is 80/20 to 20/80.
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