JP2000255579A - Plastic container and manufacture thereof - Google Patents

Plastic container and manufacture thereof

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JP2000255579A
JP2000255579A JP11062907A JP6290799A JP2000255579A JP 2000255579 A JP2000255579 A JP 2000255579A JP 11062907 A JP11062907 A JP 11062907A JP 6290799 A JP6290799 A JP 6290799A JP 2000255579 A JP2000255579 A JP 2000255579A
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plastic container
gas
barrier layer
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晶彦 伊藤
Kyoichi Yamamoto
恭市 山本
Akira Takeda
晃 武田
Tsutomu Shirai
励 白井
Ko Iijima
航 飯島
Toshiaki Kakemura
敏明 掛村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the barrier property, transparency, impact-resistance and flexibility or the like by forming a barrier layer wherein the carbon content or the like is changed during one film forming by a plasma CVD method using a gas having a vaporized organic silicon compound, and a gas having an oxida tion function in a plasma or the like. SOLUTION: By using a gas having at least an organic silicon compound and oxygen or a gas having an oxidation function, a barrier layer containing a silicon compound, and at least one kind of compound comprising one or more kinds of elements from among carbon, hydrogen, silicon and oxygen, is formed at least on one side of a plastic container by a plasma CVD method. For example, the plastic container 1 is set in an external electrode 2, and a gas introducing pipe 3 which becomes a grounding 5, and an air discharging port 4 are set. Then, the inside and the outside of the plastic container 1 are vacuumized, and a required gas or the like is made to flow from the gas introducing pipe 3, and at the same time, a high frequency is applied to the external electrode 2, and a plasma is generated, and a film forming is performed on the internal surface of the plastic container 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はガスバリアー膜を設
けたプラスチック容器の製造方法に係わり、ガスバリア
ー性、透明性、対衝撃性に優れたガスバリアー性プラス
チック容器の製造方法及び容器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a plastic container provided with a gas barrier film, and relates to a method and a container for manufacturing a gas barrier plastic container having excellent gas barrier properties, transparency and impact resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、プラスチック容器は、その成形
の容易性や軽量性、さらには低コストである点等の種々
の特性から、食品分野や医薬品分野等の様々な分野にお
いて、包装容器として広く使用されている。
2. Description of the Related Art In general, plastic containers are widely used as packaging containers in various fields such as foods and pharmaceuticals because of their various characteristics such as ease of molding, light weight, and low cost. It is used.

【0003】しかしながら、プラスチックは、よく知ら
れているように、酸素や二酸化炭素、水蒸気のような低
分子ガスを透過する性質を有し、さらに低分子有機化合
物が内部に吸着してしまうという性質を有しているた
め、プラスチック容器はガラス等の他の容器に比べて、
その使用対象や使用形態が様々な制約を受ける。
However, as is well known, plastic has the property of transmitting low molecular gases such as oxygen, carbon dioxide, and water vapor, and the property that low molecular organic compounds are adsorbed inside. Because, having a plastic container, compared to other containers such as glass,
There are various restrictions on the use object and use form.

【0004】たとえば、ビール等の炭酸飲料をプラスチ
ック容器に充填した場合、プラスチックを透過して容器
の内部に浸透する酸素によって、内容物である飲料が経
時的に酸化を起こして劣化してしまったり、また、炭酸
飲料の炭酸ガスがプラスチックを透過し容器の外部に放
出されてしまうため、炭酸飲料が気の抜けた飲料になっ
てしまう。
[0004] For example, when a carbonated beverage such as beer is filled in a plastic container, the content of the beverage is oxidized with time and deteriorates due to oxygen permeating the plastic and penetrating into the container. Moreover, since the carbon dioxide gas of the carbonated beverage permeates the plastic and is released to the outside of the container, the carbonated beverage becomes a drank beverage.

【0005】また、オレンジジュース等の香気成分を有
する飲料をプラスチック容器に充填した場合、飲料に含
まれる低分子有機化合物である香気成分(たとえばオレ
ンジジュースのリモネン等)がプラスチックに吸着され
るため、飲料の香気成分の組成がバランスを崩して、飲
料の品質が劣化してしまうおそれがある。
In addition, when a beverage having an aromatic component such as orange juice is filled in a plastic container, an aromatic component which is a low molecular organic compound (for example, limonene of orange juice) contained in the beverage is adsorbed on the plastic. There is a possibility that the composition of the aroma component of the beverage may be out of balance and the quality of the beverage may be degraded.

【0006】さらに、インスタントコーヒー等の粉末を
プラスチック容器中で保存する際にも、プラスチックを
透過して容器内部に浸透した水蒸気により、内容物の品
質が劣化してしまうおそれがある。
[0006] Further, when powder of instant coffee or the like is stored in a plastic container, there is a possibility that the quality of the contents may be degraded due to water vapor that has permeated the plastic and penetrated into the container.

【0007】また、プラスチック容器については、その
組成中に含まれる低分子化合物の溶出が問題になる場合
がある。すなわち、プラスチック容器に純度が要求され
る内容物(特に液体)を充填した場合、プラスチック組
成中に含まれている可塑剤や残留モノマー、その他添加
剤が内容物中に溶出し、内容物の純度を損なったりする
可能性がある。
[0007] In the case of plastic containers, elution of low-molecular compounds contained in the composition may be a problem. That is, when a plastic container is filled with contents (especially liquid) that require purity, the plasticizer, residual monomer, and other additives contained in the plastic composition are eluted into the contents, and the purity of the contents is increased. May be impaired.

【0008】一方、使用済み容器の回収が、現在、社会
問題化しており資源のリサイクル化が進められている
が、プラスチック容器を再充填容器として使用しようと
しても、ガラス容器の場合と異なり、使用後、回収まで
環境中に放置されていると、その間にカビ臭など種々の
低分子有機化合物がプラスチック容器に吸着する。
[0008] On the other hand, the collection of used containers has become a social problem and the recycling of resources is being promoted. After that, if left in the environment until recovery, various low-molecular organic compounds such as mold odor adsorb to the plastic container during that time.

【0009】この吸着した低分子有機化合物は、洗浄後
もプラスチック中に残存する。このためプラスチック容
器を再充填容器として使用した場合、吸着した低分子有
機化合物が異成分として充填された内容物中に徐々に溶
けだしてしまい、内容物の品質低下や衛生上の問題が生
じる。
The adsorbed low-molecular-weight organic compound remains in the plastic even after washing. For this reason, when a plastic container is used as a refill container, the adsorbed low-molecular-weight organic compound gradually dissolves in the content filled as a foreign component, and the quality of the content deteriorates and there is a problem in hygiene.

【0010】このため、プラスチック容器は、リターナ
ブル容器として使用されている例はほとんどない。
[0010] For this reason, plastic containers are rarely used as returnable containers.

【0011】上記のようなプラスチック容器の低分子ガ
スを透過する性質や低分子有機化合物が内部に吸着して
しまうという性質を抑制するために、プラスチックを配
向させ結晶化度を向上させたり、より吸着性の低いプラ
スチックやアルミの薄膜等を積層する方法も使用されて
いるが、いずれも透明性、易廃棄性というようなプラス
チック容器の特質を維持したままで、ガスバリアー性や
吸着の問題を完全に解決することができていない。
[0011] In order to suppress the above-mentioned properties of a plastic container that allows the permeation of a low-molecular gas and the property that a low-molecular organic compound is adsorbed inside, the plastic is oriented to improve the crystallinity. A method of laminating thin films of plastic or aluminum with low adsorptivity is also used, but in all cases, while maintaining the characteristics of plastic containers such as transparency and easy disposal, the problems of gas barrier properties and adsorption Not completely resolved.

【0012】ここで、近年プラスチック容器にプラズマ
CVD法を用いてコーティングを行う技術が知られてき
ているが、ボトルの外面に成膜する方法では容器内面に
吸着する低分子有機化合物の問題に対しては効力がない
ため、特にボトルの内面に成膜することが望ましい。
Here, in recent years, a technique of coating a plastic container using a plasma CVD method has been known, but the method of forming a film on the outer surface of a bottle solves the problem of a low molecular organic compound adsorbed on the inner surface of the container. Therefore, it is particularly desirable to form a film on the inner surface of the bottle.

【0013】ボトル内面へのプラズマCVD法でのコー
ティング例としてDLC膜によるものが報告されている
(特開平8−53117号公報)。このDLC膜は、炭
素間のSP3、SP2結合を主体としたアモルファスな
炭素で、非常に硬く、高屈折率で非常になめらかなモル
フォロジを有する硬質炭素膜である。
As an example of coating the inner surface of a bottle by a plasma CVD method, a method using a DLC film has been reported (JP-A-8-53117). This DLC film is an amorphous carbon mainly composed of SP3 and SP2 bonds between carbons, and is a hard carbon film having a very hard, high refractive index and a very smooth morphology.

【0014】さらにプラスチック容器の内面コーティン
グ例として珪素酸化物膜によるものも報告されている。
(特開平8−175528号公報)この例では有機重合
膜と珪素酸化物膜の2層構造にすることも述べられてい
る。
Further, as an example of the inner surface coating of a plastic container, a coating using a silicon oxide film has been reported.
In this example, a two-layer structure of an organic polymer film and a silicon oxide film is described.

【0015】そこで我々は、DLC膜で問題となる透明
性、珪素酸化物膜で問題となるフレキシビリティーの問
題を克服するために、プラスチック容器のコーティング
例として珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中
から少なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化
合物を含有する膜による物をすでに報告している。(特
願平10−186393)
In order to overcome the problems of transparency and DLC film, and of the flexibility of silicon oxide film, we have proposed to coat silicon oxide, carbon, hydrogen, Already-reported films containing compounds containing at least one or two or more elements from silicon and oxygen have been reported. (Japanese Patent Application No. 10-186393)

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

【0017】しかし、プラズマCVD法では原料を大量
に供給し、大量に排気する事が求められるが、排気系を
強化するには多くのコストが必要となる。
However, in the plasma CVD method, it is required to supply a large amount of raw materials and exhaust a large amount of the raw materials. However, a large amount of cost is required to strengthen the exhaust system.

【0018】原料ガスを有機珪素化合物、酸素に分けて
供給する方法もあるが、これでは成膜時間の増加をまね
くという欠点がある。
There is also a method of supplying the raw material gas separately to the organic silicon compound and oxygen, but this method has a drawback that the film formation time is increased.

【0019】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、バリアー性、透明性、対衝撃性、フレキ
シビリティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器
の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a method for producing a gas-barrier plastic container having excellent barrier properties, transparency, impact resistance, and flexibility. And

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0021】このような目的を達成するために、本発明
のガスバリアー性プラスチック容器の製造方法及び容器
は成膜中のガス濃度を変化させることにより排気系への
負担、成膜時間の減少を目的とする物である。
In order to achieve the above object, the method and the container for manufacturing a gas barrier plastic container of the present invention reduce the burden on the exhaust system and the reduction of the film formation time by changing the gas concentration during film formation. It is a target thing.

【0022】すなわち、本発明によるガスバリアープラ
スチック容器の製造方法は、気化させた有機珪素化合物
を有するガスと酸素あるいはプラズマ中で酸化力を有す
るガス用い、プラズマCVD法によりプラスチック容器
に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少
なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合物を
含有する膜を成膜し、ガス濃度を変化させることにより
膜中の炭素含有量等を1度の成膜中に変化させたバリア
ー層を形成する物である。
That is, the method for manufacturing a gas barrier plastic container according to the present invention uses a gas having a vaporized organic silicon compound and oxygen or a gas having an oxidizing power in plasma, and a silicon oxide is added to the plastic container by a plasma CVD method. A film containing a compound comprising at least one or two or more elements from among carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed, and by changing the gas concentration, the carbon content and the like in the film can be reduced to one degree. This is to form a changed barrier layer during film formation.

【0023】具体的には、請求項1の発明では、少なく
とも有機珪素化合物と酸素もしくは酸化力を有するガス
を用い、プラズマCVD法によりプラスチック容器の少
なくとも片側上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び
酸素の中から少なくとも1種あるいは2種以上の元素か
らなる化合物を少なくとも1種類含有するバリアー層を
形成する際に有機珪素化合物の濃度が変化することを特
徴とするプラスチック容器の製造方法を提供するもので
ある。
Specifically, in the first aspect of the present invention, at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power are used, and silicon oxide, carbon, hydrogen, and the like are formed on at least one side of a plastic container by a plasma CVD method. A method for producing a plastic container, characterized in that the concentration of an organosilicon compound changes when forming a barrier layer containing at least one compound of at least one or two or more elements from silicon and oxygen. To provide.

【0024】請求項2の発明では、有機珪素化合物の濃
度が成膜中に減少していくことを特徴とする請求項1に
記載のプラスチック容器の製造方法を提供するものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plastic container according to the first aspect, wherein the concentration of the organic silicon compound decreases during film formation.

【0025】請求項3の発明では、有機珪素化合物の濃
度が成膜中に減少、増加を繰り返すことを特徴とする請
求項1に記載のプラスチック容器の製造方法を提供する
ものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plastic container according to the first aspect, wherein the concentration of the organic silicon compound repeatedly decreases and increases during film formation.

【0026】請求項4の発明では、少なくとも有機珪素
化合物と酸素もしくは酸化力を有するガスを用い、プラ
ズマCVD法により基材上に珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるいは2種
以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有する
バリアー層を形成する際に有機珪素化合物の供給を成膜
途中で止めることを特徴とするプラスチック容器の製造
方法を提供するものである。
According to a fourth aspect of the present invention, at least one of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. It is intended to provide a method for producing a plastic container, wherein the supply of an organosilicon compound is stopped during film formation when forming a barrier layer containing at least one kind of a compound composed of one or more kinds of elements. .

【0027】請求項5の発明では、少なくとも有機珪素
化合物と酸素もしくは酸化力を有するガスを用い、プラ
ズマCVD法により基材上に珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるいは2種
以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有する
バリアー層を形成する際に有機珪素化合物の供給を成膜
途中で止め、再度供給を開始することを特徴とするプラ
スチック容器の製造方法を提供するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, at least one of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. A method for producing a plastic container, wherein the supply of an organosilicon compound is stopped during film formation and the supply is started again when forming a barrier layer containing at least one compound composed of one or more kinds of elements. Is provided.

【0028】請求項6の発明では、少なくとも有機珪素
化合物と酸素もしくは酸化力を有するガスを用い、プラ
ズマCVD法により基材上に珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるいは2種
以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有する
バリアー層を形成する際に有機珪素化合物の供給を成膜
途中で止め、再度供給を開始することを繰り返すことを
特徴とするプラスチック容器の製造方法を提供するもの
である。
In the sixth aspect of the present invention, at least one of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. A plastic container characterized in that when forming a barrier layer containing at least one kind of a compound comprising two or more kinds of elements, the supply of the organosilicon compound is stopped in the course of film formation and the supply is started again. Is provided.

【0029】請求項7の発明では、少なくとも有機珪素
化合物と酸素もしくは酸化力を有するガスを用い、プラ
ズマCVD法により基材上に珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるいは2種
以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有する
バリアー層を形成する際に有機珪素化合物の流量及び酸
素もしくは酸化力を有するガスの流量がともに変化する
ことを特徴とするプラスチック容器の製造方法を提供す
るものである。
According to the invention of claim 7, at least one of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. Wherein the flow rate of the organosilicon compound and the flow rate of the oxygen or oxidizing gas are both changed when forming the barrier layer containing at least one kind of a compound comprising two or more kinds of elements. It is intended to provide a manufacturing method.

【0030】請求項8の発明では、請求項1から7の何
れかのバリアー層をボトル内面へ設けることを特徴とす
るプラスチック容器の製造方法を提供するものである。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a method for producing a plastic container, wherein the barrier layer according to any one of the first to seventh aspects is provided on the inner surface of the bottle.

【0031】請求項9の発明では、少なくとも片側上に
珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少な
くとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合物を少
なくとも1種類含有する、有機珪素化合物の濃度が変化
するプラズマCVDバリアー層を有することを特徴とす
るプラスチック容器を提供するものである。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an organic silicon compound comprising at least one side containing silicon oxide and at least one compound of at least one or two or more elements selected from carbon, hydrogen, silicon and oxygen. An object of the present invention is to provide a plastic container having a plasma CVD barrier layer in which the concentration of a compound changes.

【0032】請求項10の発明では、有機珪素化合物の
濃度が成膜中に減少していくことを特徴とする請求項9
に記載のプラスチック容器を提供するものである。
According to a tenth aspect of the present invention, the concentration of the organosilicon compound decreases during the film formation.
And a plastic container described in (1).

【0033】請求項11の発明では、有機珪素化合物の
濃度が成膜中に減少、増加を繰り返すことを特徴とする
請求項9に記載のプラスチック容器を提供するものであ
る。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a plastic container according to the ninth aspect, wherein the concentration of the organic silicon compound repeatedly decreases and increases during film formation.

【0034】請求項12の発明では、有機珪素化合物の
濃度及び酸素濃度がともに厚さ方向に変化することを特
徴とする請求項9に記載のプラスチック容器を提供する
ものである。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a plastic container according to the ninth aspect, wherein both the concentration of the organic silicon compound and the oxygen concentration change in the thickness direction.

【0035】請求項13の発明では、請求項9から12
の何れかのバリアー層をボトル内面へ設けることを特徴
とするプラスチック容器を提供するものである。
According to the thirteenth aspect, in the ninth to twelfth aspects,
Wherein the barrier layer is provided on the inner surface of the bottle.

【0036】珪素酸化物層を構成する有機珪素化合物は
1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン、ヘキサ
メチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチル
トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシ
ラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシ
ランプロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン等の中から選択することができ
る。
The organic silicon compound constituting the silicon oxide layer is 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane. , Trimethylsilane, diethylsilanepropylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can do.

【0037】特に1,1,3,3,−テトラメチルジシ
ロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサンが好ましい。
Particularly, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane are preferred.

【0038】ただし、これらに限定されるものではなく
アミノシラン、シラザン等も用いられる。
However, the present invention is not limited to these, and aminosilane, silazane and the like can be used.

【0039】いずれも液体である上記有機珪素化合物を
気化させ、酸素もしくは酸化力を有するガス(例えばN
2O、CO2等)と混合したガス、又は、上記の混合ガ
スに不活性ガスであるヘリウム及び/又はアルゴンを混
合した原料ガス、もしくはこれに窒素、弗化炭素等を加
え、プラスチック容器が設置されているプラズマ化学的
気相蒸着機に導入して、厚さ30−5000Åの珪素酸
化物層を形成する。望ましくはバリアー性、柔軟性の面
から100−500Åの膜厚が望ましい。
The organic silicon compound, which is a liquid, is vaporized, and oxygen or a gas having an oxidizing power (eg, N 2
2O, CO2, etc.), or a raw material gas obtained by mixing the above mixed gas with helium and / or argon as an inert gas, or nitrogen, carbon fluoride, etc., and a plastic container is installed. To form a silicon oxide layer having a thickness of 30-5000Å. Desirably, a film thickness of 100 to 500 ° is desirable from the viewpoint of barrier properties and flexibility.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】一例を図を用いて以下示す。図2
に示す様に、プラスチック容器1を覆うような外部電極
2内に容器をセットし、アース5となるガス導入管3と
排気口4をセットする。次に図3に示す様に真空ポンプ
を用いてボトルの内外を真空に引く。ガス導入管3から
有機珪素化合物と酸化力を有するガス等を流し、外部電
極に高周波を印可することによりプラスチック容器1内
部にプラズマを発生させ、内面に成膜を行う。この際に
ガスの濃度を変化させる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example will be described below with reference to the drawings. FIG.
As shown in (1), the container is set in the external electrode 2 so as to cover the plastic container 1, and the gas introduction pipe 3 serving as the ground 5 and the exhaust port 4 are set. Next, the inside and outside of the bottle are evacuated using a vacuum pump as shown in FIG. An organic silicon compound and a gas having an oxidizing power are flowed from the gas inlet tube 3, and a high frequency is applied to an external electrode to generate plasma inside the plastic container 1, thereby forming a film on the inner surface. At this time, the concentration of the gas is changed.

【0041】最後にプラスチック容器1を外部電極2か
ら取り出し、図1に示す物が出来あがった。
Finally, the plastic container 1 was taken out from the external electrode 2, and the product shown in FIG. 1 was completed.

【0042】以上のような方法によりプラスチック容器
に成膜を行うが、電極は一枚構造でも複数枚の組み合わ
せでもかまわないものとする。また、導入する有機珪素
化合物と酸化力を有するガスの混合比、および時間、高
周波出力を変化させることにより膜中の炭素含有量を調
整できる。
The film is formed on the plastic container by the above method, and the electrode may have a single structure or a combination of plural electrodes. Further, the carbon content in the film can be adjusted by changing the mixing ratio of the introduced organic silicon compound and the gas having oxidizing power, the time, and the high-frequency output.

【0043】[0043]

【実施例】(予備実験)ヘキサメチルジシロキサン(H
MDSO)、酸素それぞれのガスを流した際のチャンバ
ー内の圧力を示す。条件1としてHMDSO濃度変化を
行う場合の初期圧力、条件2としてHMDSO濃度変化
を行わない場合の圧力、条件3として原料ガスを有機珪
素化合物(1)、酸素(2)に分けて供給した場合の圧
力も示す。圧力の測定は大亜真空製ピラニー真空計PT
−DB1を用い、真空ポンプはEDWARDS社製ロー
タリーポンプE2M−18とULVAC社製メカニカル
ブースターポンプMBS−030を使用した。
EXAMPLES (Preliminary experiment) Hexamethyldisiloxane (H
MDSO) and the pressure in the chamber when each gas of oxygen flows. The condition 1 is an initial pressure when the HMDSO concentration is changed, the condition 2 is a pressure when the HMDSO concentration is not changed, and the condition 3 is a case where the raw material gas is separately supplied to the organic silicon compound (1) and the oxygen (2). Pressure is also shown. The pressure is measured by Pirani gauge PT
-DB1 was used, and a rotary pump E2M-18 manufactured by EDWARDS and a mechanical booster pump MBS-030 manufactured by ULVAC were used as vacuum pumps.

【0044】また、条件2で、排気系にULVAC社製
クライオポンプU10PUを加えた物を条件4に示す。
The condition 4 is obtained by adding the cryopump U10PU manufactured by ULVAC to the exhaust system under the condition 2.

【0045】(実施例1)酸素透過量0.020cc/
pkg/day,水蒸気透過量0.030g/pkg/
day以下になるまでの処理時間を示す。
(Example 1) Oxygen permeation amount 0.020 cc /
pkg / day, water vapor transmission amount 0.030 g / pkg /
Shows the processing time until it becomes less than day.

【0046】比較例1としてHMDSO1.0scc
m、酸素100sccmにおいてHMDSO濃度変化を
行わない場合の処理時間、比較例2としてHMDSO
1.0sccm、酸素20sccmにおいてHMDSO
濃度変化を行わない場合の処理時間、比較例3として原
料ガスを有機珪素化合物、酸素に分けて供給した場合の
処理時間、比較例4として排気系にクライオポンプを加
え、HMDSO1.0sccm、酸素100sccmに
おいてHMDSO濃度変化を行わない場合の処理時間も
示す。
As Comparative Example 1, HMDSO 1.0 scc
m, the processing time when the HMDSO concentration was not changed at 100 sccm of oxygen.
HMDSO at 1.0 sccm, oxygen 20 sccm
The processing time when the concentration was not changed, the processing time when the raw material gas was separately supplied to the organic silicon compound and the oxygen as Comparative Example 3, the cryopump was added to the exhaust system as Comparative Example 4, and the HMDSO was 1.0 sccm and the oxygen was 100 sccm. 2 also shows the processing time when the HMDSO concentration change is not performed.

【0047】また、未処理PET容器の酸素透過量は
0.100cc/pkg/day、水蒸気透過量は0.
070g/pkg/dayであった。
The untreated PET container has an oxygen permeation amount of 0.100 cc / pkg / day and a water vapor permeation amount of 0.1 kg / kg / day.
070 g / pkg / day.

【0048】酸素透過度についてはMOCON社のOX
TRANにより、水蒸気透過度についいてはMOCON
社のPERMATRANによって測定を行った。
The oxygen permeability was measured by MOCON OX.
According to TRAN, MOCON
The measurement was performed by PERMATRAN of the company.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】上に示したようにHMDSO濃度を変化さ
せることによりHMDSO成膜後に酸素後処理を行うよ
りも成膜時間を短くすることが出来る。また、比較例
1、比較例2については所定のガスバリアー性を示す物
は作成できなかった。
As described above, by changing the HMDSO concentration, the film formation time can be shortened as compared with the case where oxygen post-treatment is performed after the HMDSO film formation. Further, in Comparative Examples 1 and 2, products having a predetermined gas barrier property could not be produced.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば排
気系に負担をかけずに短時間で高いガスバリアー性を有
したプラスチック容器を作成することが出来る。
As described above in detail, according to the present invention, a plastic container having a high gas barrier property can be produced in a short time without imposing a load on the exhaust system.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の概
念断面図である。
FIG. 1 is a conceptual sectional view of a gas barrier plastic container of the present invention.

【図2】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の成
膜前の状態の概念断面図である。
FIG. 2 is a conceptual cross-sectional view of a gas barrier plastic container of the present invention in a state before film formation.

【図3】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の成
膜中の状態の概念断面図である。
FIG. 3 is a conceptual cross-sectional view of the gas barrier plastic container of the present invention in a state during film formation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラスチック容器 2 外部電極 3 ガス導入管 4 排気口 5 アース 6 電源 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic container 2 External electrode 3 Gas introduction pipe 4 Exhaust port 5 Ground 6 Power supply

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白井 励 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 飯島 航 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 掛村 敏明 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 3E062 AA09 AB02 AC02 JA02 JA07 JB22 JC01 JD01  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor, Shigeru Shirai 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. (72) Inventor Wataru Iijima 1-1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Letterpress Inside Printing Co., Ltd. (72) Inventor Toshiaki Kakemura 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. F-term (reference) 3E062 AA09 AB02 AC02 JA02 JA07 JB22 JC01 JD01

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも有機珪素化合物と酸素もしくは
酸化力を有するガスを用い、プラズマCVD法によりプ
ラスチック容器の少なくとも片側上に珪素酸化物と、炭
素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるい
は2種以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含
有するバリアー層を形成する際に有機珪素化合物の濃度
が変化することを特徴とするプラスチック容器の製造方
法。
At least one of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen is formed on at least one side of a plastic container by a plasma CVD method using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. A method for producing a plastic container, wherein the concentration of an organosilicon compound changes when forming a barrier layer containing at least one compound composed of two or more elements.
【請求項2】有機珪素化合物の濃度が成膜中に減少して
いくことを特徴とする請求項1に記載のプラスチック容
器の製造方法。
2. The method for producing a plastic container according to claim 1, wherein the concentration of the organosilicon compound decreases during film formation.
【請求項3】有機珪素化合物の濃度が成膜中に減少、増
加を繰り返すことを特徴とする請求項1に記載のプラス
チック容器の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the concentration of the organic silicon compound repeatedly decreases and increases during the film formation.
【請求項4】少なくとも有機珪素化合物と酸素もしくは
酸化力を有するガスを用い、プラズマCVD法により基
材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中か
ら少なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合
物を少なくとも1種類含有するバリアー層を形成する際
に有機珪素化合物の供給を成膜途中で止めることを特徴
とするプラスチック容器の製造方法。
4. At least one or more of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. Wherein the supply of the organosilicon compound is stopped during film formation when forming a barrier layer containing at least one kind of a compound consisting of the above elements.
【請求項5】少なくとも有機珪素化合物と酸素もしくは
酸化力を有するガスを用い、プラズマCVD法により基
材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中か
ら少なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合
物を少なくとも1種類含有するバリアー層を形成する際
に有機珪素化合物の供給を成膜途中で止め、再度供給を
開始することを特徴とするプラスチック容器の製造方
法。
5. At least one or more of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen on a substrate by a plasma CVD method using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. Wherein the supply of the organosilicon compound is stopped in the course of film formation and the supply is started again when forming a barrier layer containing at least one compound composed of the above elements.
【請求項6】少なくとも有機珪素化合物と酸素もしくは
酸化力を有するガスを用い、プラズマCVD法により基
材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中か
ら少なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合
物を少なくとも1種類含有するバリアー層を形成する際
に有機珪素化合物の供給を成膜途中で止め、再度供給を
開始することを繰り返すことを特徴とするプラスチック
容器の製造方法。
6. At least one or more of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and oxygen or a gas having an oxidizing power. A method for producing a plastic container, comprising: stopping the supply of an organosilicon compound in the course of forming a film and restarting the supply when forming a barrier layer containing at least one compound of the following elements:
【請求項7】少なくとも有機珪素化合物と酸素もしくは
酸化力を有するガスを用い、プラズマCVD法により基
材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中か
ら少なくとも1種あるいは2種以上の元素からなる化合
物を少なくとも1種類含有するバリアー層を形成する際
に有機珪素化合物の流量及び酸素もしくは酸化力を有す
るガスの流量がともに変化することを特徴とするプラス
チック容器の製造方法。
7. At least one or more of silicon oxide, carbon, hydrogen, silicon and oxygen on a substrate by plasma CVD using at least an organic silicon compound and a gas having oxygen or oxidizing power. Wherein the flow rate of the organic silicon compound and the flow rate of the gas having oxygen or oxidizing power are both changed when forming the barrier layer containing at least one compound composed of the above-mentioned elements.
【請求項8】請求項1から7の何れかのバリアー層をボ
トル内面へ設けることを特徴とするプラスチック容器の
製造方法。
8. A method for producing a plastic container, wherein the barrier layer according to claim 1 is provided on the inner surface of a bottle.
【請求項9】少なくとも片側上に珪素酸化物と、炭素、
水素、珪素及び酸素の中から少なくとも1種あるいは2
種以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有す
る、有機珪素化合物の濃度が変化するプラズマCVDバ
リアー層を有することを特徴とするプラスチック容器。
9. A method according to claim 1, wherein at least one side has silicon oxide, carbon,
At least one or two of hydrogen, silicon and oxygen
A plastic container comprising a plasma CVD barrier layer containing at least one compound composed of at least one kind of element and having a variable concentration of an organic silicon compound.
【請求項10】有機珪素化合物の濃度が成膜中に減少し
ていくことを特徴とする請求項9に記載のプラスチック
容器。
10. The plastic container according to claim 9, wherein the concentration of the organosilicon compound decreases during the film formation.
【請求項11】有機珪素化合物の濃度が成膜中に減少、
増加を繰り返すことを特徴とする請求項9に記載のプラ
スチック容器。
11. The method according to claim 1, wherein the concentration of the organosilicon compound decreases during the film formation.
The plastic container according to claim 9, wherein the increase is repeated.
【請求項12】有機珪素化合物の濃度及び酸素濃度がと
もに厚さ方向に変化することを特徴とする請求項9に記
載のプラスチック容器。
12. The plastic container according to claim 9, wherein both the concentration of the organic silicon compound and the oxygen concentration change in the thickness direction.
【請求項13】請求項9から12の何れかのバリアー層
をボトル内面へ設けることを特徴とするプラスチック容
器。
13. A plastic container, wherein the barrier layer according to claim 9 is provided on the inner surface of a bottle.
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