JP2000252574A - レーザ光源装置 - Google Patents
レーザ光源装置Info
- Publication number
- JP2000252574A JP2000252574A JP11056142A JP5614299A JP2000252574A JP 2000252574 A JP2000252574 A JP 2000252574A JP 11056142 A JP11056142 A JP 11056142A JP 5614299 A JP5614299 A JP 5614299A JP 2000252574 A JP2000252574 A JP 2000252574A
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- Japan
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- laser
- laser beam
- generator
- laser generator
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、2種の異なった波長を持って色が
異なり、かつハイパワーの合成レーザビームを得て、用
途を幅広く拡大することを目的とする。 【解決手段】 波長の異なる第1、第2のレーザビーム
3,4を合成して2種の異なる波長を持つ1本の合成レ
ーザビーム6を出射する合成手段5を有することを特徴
とする。
異なり、かつハイパワーの合成レーザビームを得て、用
途を幅広く拡大することを目的とする。 【解決手段】 波長の異なる第1、第2のレーザビーム
3,4を合成して2種の異なる波長を持つ1本の合成レ
ーザビーム6を出射する合成手段5を有することを特徴
とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームを幅
広く利用することが可能なレーザ光源装置に関する。
広く利用することが可能なレーザ光源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザ光源装置として、特開平9
−109353号公報に、2つのレーザビーム放射手段
と、一方のレーザビーム放射手段の偏光面を回転させる
複屈折手段と、他方のレーザビーム放射手段からのレー
ザビームと複屈折手段からのレーザビームとを合成する
合成手段とを備え、レーザ強度を増加して、レーザ製版
装置の製版速度を早めるようにしたレーザビーム合成装
置が開示されている。
−109353号公報に、2つのレーザビーム放射手段
と、一方のレーザビーム放射手段の偏光面を回転させる
複屈折手段と、他方のレーザビーム放射手段からのレー
ザビームと複屈折手段からのレーザビームとを合成する
合成手段とを備え、レーザ強度を増加して、レーザ製版
装置の製版速度を早めるようにしたレーザビーム合成装
置が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザビーム合
成装置は、2つのレーザビームを合成してレーザ強度を
増加することのみを目的とし、レーザ製版装置の製版速
度を早めるようにしている。しかしながら、レーザビー
ムの強度とともに、その色についても変えることができ
れば、例えばレーザアートの分野等、幅広い分野での利
用が期待できる。
成装置は、2つのレーザビームを合成してレーザ強度を
増加することのみを目的とし、レーザ製版装置の製版速
度を早めるようにしている。しかしながら、レーザビー
ムの強度とともに、その色についても変えることができ
れば、例えばレーザアートの分野等、幅広い分野での利
用が期待できる。
【0004】本発明は、上記に鑑みてなされたもので、
2種の異なった波長を持って色が異なり、かつハイパワ
ーの合成レーザビームを得ることができて、用途を幅広
く拡大することができ、また正常な出力での連続使用が
できて、信頼性の高いレーザ光源装置を提供することを
目的とする。
2種の異なった波長を持って色が異なり、かつハイパワ
ーの合成レーザビームを得ることができて、用途を幅広
く拡大することができ、また正常な出力での連続使用が
できて、信頼性の高いレーザ光源装置を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、第1のレーザビームを発生
する第1のレーザ発生装置と、前記第1のレーザビーム
の波長とは波長の異なる第2のレーザビームを発生する
第2のレーザ発生装置と、前記第1、第2のレーザビー
ムを合成して2種の異なる波長を持つ1本の合成レーザ
ビームを出射する合成手段とを有することを要旨とす
る。この構成により、波長の異なる第1、第2のレーザ
ビームを合成することで、2種の異なった波長を持って
色が異なり、かつハイパワーの1本の合成レーザビーム
が得られる。
に、請求項1記載の発明は、第1のレーザビームを発生
する第1のレーザ発生装置と、前記第1のレーザビーム
の波長とは波長の異なる第2のレーザビームを発生する
第2のレーザ発生装置と、前記第1、第2のレーザビー
ムを合成して2種の異なる波長を持つ1本の合成レーザ
ビームを出射する合成手段とを有することを要旨とす
る。この構成により、波長の異なる第1、第2のレーザ
ビームを合成することで、2種の異なった波長を持って
色が異なり、かつハイパワーの1本の合成レーザビーム
が得られる。
【0006】請求項2記載の発明は、第1のレーザビー
ムを発生する第1のレーザ発生装置と、第2のレーザビ
ームを発生する第2のレーザ発生装置と、前記第1、第
2のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時に、その
出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が一定値以
下になったときには、前記第1、第2のレーザ発生装置
の何れか他方を切替え駆動するモニタコントローラとを
有することを要旨とする。この構成により、一方のレー
ザ発生装置が故障等で、その出射レーザビームの出力が
一定値以下に低下したときには、自動的に他方のレーザ
発生装置が駆動状態に切替わり、連続使用が可能とな
る。
ムを発生する第1のレーザ発生装置と、第2のレーザビ
ームを発生する第2のレーザ発生装置と、前記第1、第
2のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時に、その
出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が一定値以
下になったときには、前記第1、第2のレーザ発生装置
の何れか他方を切替え駆動するモニタコントローラとを
有することを要旨とする。この構成により、一方のレー
ザ発生装置が故障等で、その出射レーザビームの出力が
一定値以下に低下したときには、自動的に他方のレーザ
発生装置が駆動状態に切替わり、連続使用が可能とな
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【0008】図1は、本発明の第1の実施の形態を示す
図である。第1のレーザ発生装置1と第2のレーザ発生
装置2が、合成手段としての偏光ビームスプリッタ5に
対し直角方向に配置されている。第1のレーザ発生装置
1は、波長λ1 でP偏光の第1のレーザビーム3を発生
し、第2のレーザ発生装置2は、波長λ2 でS偏光の第
2のレーザビーム4を発生する。第1のレーザビーム3
は、偏光ビームスプリッタ5で直角方向に反射され、第
2のレーザビーム4は、偏光ビームスプリッタ5をその
まま透過する。つまり、波長の異なる第1のレーザビー
ム3と第2のレーザビーム4は偏光ビームスプリッタ5
で合成され、2種類の異なった波長を持ち(λ1 +
λ2 )、かつ色の異なる1本の合成レーザビーム6にな
る。また、偏光ビームスプリッタ5による減衰を除け
ば、この構造で、1つのレーザ発生装置のパワーのほぼ
2倍のレーザパワーを得ることができる。
図である。第1のレーザ発生装置1と第2のレーザ発生
装置2が、合成手段としての偏光ビームスプリッタ5に
対し直角方向に配置されている。第1のレーザ発生装置
1は、波長λ1 でP偏光の第1のレーザビーム3を発生
し、第2のレーザ発生装置2は、波長λ2 でS偏光の第
2のレーザビーム4を発生する。第1のレーザビーム3
は、偏光ビームスプリッタ5で直角方向に反射され、第
2のレーザビーム4は、偏光ビームスプリッタ5をその
まま透過する。つまり、波長の異なる第1のレーザビー
ム3と第2のレーザビーム4は偏光ビームスプリッタ5
で合成され、2種類の異なった波長を持ち(λ1 +
λ2 )、かつ色の異なる1本の合成レーザビーム6にな
る。また、偏光ビームスプリッタ5による減衰を除け
ば、この構造で、1つのレーザ発生装置のパワーのほぼ
2倍のレーザパワーを得ることができる。
【0009】図2には、本発明の第2の実施の形態を示
す。本実施の形態は、第1のレーザ発生装置11からの
第1のレーザビーム7のみのパワーで問題ない場合に、
第2のレーザ発生装置12をバックアップ用に使用する
構造である。第1のレーザ発生装置11と第2のレーザ
発生装置12が、偏光ビームスプリッタ5に対し直角方
向に配置され、第1のレーザ発生装置11の背面側に
は、第1のレーザ発生装置11の光モニタ出力9を監視
するモニタコントローラ10が配置されている。13は
モニタコントローラ10の出力でオン・オフ制御される
スイッチ、14は第2のレーザ発生装置12への供給電
源ライン、15は第2のレーザ発生装置12のドライバ
である。この構造で、第1のレーザ発生装置11からの
第1のレーザビーム7と第2のレーザ発生装置12から
の第2のレーザビーム8とは、通常同一波長のものが用
いられるが、装置出力としてレーザパワーのみを問題に
する場合は、異なった波長としてもよい。
す。本実施の形態は、第1のレーザ発生装置11からの
第1のレーザビーム7のみのパワーで問題ない場合に、
第2のレーザ発生装置12をバックアップ用に使用する
構造である。第1のレーザ発生装置11と第2のレーザ
発生装置12が、偏光ビームスプリッタ5に対し直角方
向に配置され、第1のレーザ発生装置11の背面側に
は、第1のレーザ発生装置11の光モニタ出力9を監視
するモニタコントローラ10が配置されている。13は
モニタコントローラ10の出力でオン・オフ制御される
スイッチ、14は第2のレーザ発生装置12への供給電
源ライン、15は第2のレーザ発生装置12のドライバ
である。この構造で、第1のレーザ発生装置11からの
第1のレーザビーム7と第2のレーザ発生装置12から
の第2のレーザビーム8とは、通常同一波長のものが用
いられるが、装置出力としてレーザパワーのみを問題に
する場合は、異なった波長としてもよい。
【0010】そして、第1のレーザ発生装置11の光モ
ニタ出力9をモニタコントローラ10で常に監視する。
この第1のレーザ発生装置11のみの稼動中に、もし、
第1のレーザ発生装置11に故障等が発生して光モニタ
出力9がある一定値以下(レーザパワーがダウンした
ら)になったときには、モニタコントローラ10は、ス
イッチ13をオン制御して、自動的に第2のレーザ発生
装置12を駆動状態に切替える。これにより、第2のレ
ーザ発生装置12から第2のレーザビーム8が発生し、
途切れることなくレーザ光源装置の機能を維持すること
ができる。
ニタ出力9をモニタコントローラ10で常に監視する。
この第1のレーザ発生装置11のみの稼動中に、もし、
第1のレーザ発生装置11に故障等が発生して光モニタ
出力9がある一定値以下(レーザパワーがダウンした
ら)になったときには、モニタコントローラ10は、ス
イッチ13をオン制御して、自動的に第2のレーザ発生
装置12を駆動状態に切替える。これにより、第2のレ
ーザ発生装置12から第2のレーザビーム8が発生し、
途切れることなくレーザ光源装置の機能を維持すること
ができる。
【0011】図3には、本発明の第3の実施の形態を示
す。上記第1の実施の形態等の構成において、第1のレ
ーザ発生装置1に回転機構16を接続し、第1のレーザ
発生装置1を回転させることで、第1のレーザビーム3
は、P偏光からS偏光に変化する。これにより、偏光ビ
ームスプリッタ5による第1のレーザビーム3の反射光
量が減衰し、さらにレーザパワーの調整を行うことがで
きる。
す。上記第1の実施の形態等の構成において、第1のレ
ーザ発生装置1に回転機構16を接続し、第1のレーザ
発生装置1を回転させることで、第1のレーザビーム3
は、P偏光からS偏光に変化する。これにより、偏光ビ
ームスプリッタ5による第1のレーザビーム3の反射光
量が減衰し、さらにレーザパワーの調整を行うことがで
きる。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、第1のレーザビームを発生する第1のレー
ザ発生装置と、前記第1のレーザビームの波長とは波長
の異なる第2のレーザビームを発生する第2のレーザ発
生装置と、前記第1、第2のレーザビームを合成して2
種の異なる波長を持つ1本の合成レーザビームを出射す
る合成手段とを具備させたため、2種の異なった波長を
持って色が異なり、かつハイパワーの1本の合成レーザ
ビームが得られるので、レーザ光源装置の用途を幅広く
拡大することができる。
明によれば、第1のレーザビームを発生する第1のレー
ザ発生装置と、前記第1のレーザビームの波長とは波長
の異なる第2のレーザビームを発生する第2のレーザ発
生装置と、前記第1、第2のレーザビームを合成して2
種の異なる波長を持つ1本の合成レーザビームを出射す
る合成手段とを具備させたため、2種の異なった波長を
持って色が異なり、かつハイパワーの1本の合成レーザ
ビームが得られるので、レーザ光源装置の用途を幅広く
拡大することができる。
【0013】請求項2記載の発明によれば、第1のレー
ザビームを発生する第1のレーザ発生装置と、第2のレ
ーザビームを発生する第2のレーザ発生装置と、前記第
1、第2のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時
に、その出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が
一定値以下になったときには、前記第1、第2のレーザ
発生装置の何れか他方を切替え駆動するモニタコントロ
ーラとを具備させたため、一方のレーザ発生装置に故障
等が発生しても、正常な出力での連続使用が可能となっ
て、装置の信頼性を高めることができる。
ザビームを発生する第1のレーザ発生装置と、第2のレ
ーザビームを発生する第2のレーザ発生装置と、前記第
1、第2のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時
に、その出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が
一定値以下になったときには、前記第1、第2のレーザ
発生装置の何れか他方を切替え駆動するモニタコントロ
ーラとを具備させたため、一方のレーザ発生装置に故障
等が発生しても、正常な出力での連続使用が可能となっ
て、装置の信頼性を高めることができる。
【図1】本発明の第1の実施の形態であるレーザ光源装
置のブロック図である。
置のブロック図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態のブロック図であ
る。
る。
【図3】本発明の第3の実施の形態のブロック図であ
る。
る。
1,11 第1のレーザ発生装置 2,12 第2のレーザ発生装置 3,7 第1のレーザビーム 4,8 第2のレーザビーム 5 偏光ビームスプリッタ(合成手段) 6 合成レーザビーム 10 モニタコントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H084 AA14 AE05 4E068 CA04 CB08 CD02 CD08 5F072 HH02 JJ05 KK15 MM04 MM07 YY20
Claims (2)
- 【請求項1】 第1のレーザビームを発生する第1のレ
ーザ発生装置と、前記第1のレーザビームの波長とは波
長の異なる第2のレーザビームを発生する第2のレーザ
発生装置と、前記第1、第2のレーザビームを合成して
2種の異なる波長を持つ1本の合成レーザビームを出射
する合成手段とを有することを特徴とするレーザ光源装
置。 - 【請求項2】 第1のレーザビームを発生する第1のレ
ーザ発生装置と、第2のレーザビームを発生する第2の
レーザ発生装置と、前記第1、第2のレーザ発生装置の
何れか一方のみの稼動時に、その出射レーザビームの出
力を監視し、当該出力が一定値以下になったときには、
前記第1、第2のレーザ発生装置の何れか他方を切替え
駆動するモニタコントローラとを有することを特徴とす
るレーザ光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11056142A JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11056142A JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000252574A true JP2000252574A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=13018840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11056142A Pending JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000252574A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10556293B2 (en) | 2009-08-11 | 2020-02-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser machining method |
-
1999
- 1999-03-03 JP JP11056142A patent/JP2000252574A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10556293B2 (en) | 2009-08-11 | 2020-02-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser machining method |
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