JP2000252574A - レーザ光源装置 - Google Patents
レーザ光源装置Info
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- JP2000252574A JP2000252574A JP11056142A JP5614299A JP2000252574A JP 2000252574 A JP2000252574 A JP 2000252574A JP 11056142 A JP11056142 A JP 11056142A JP 5614299 A JP5614299 A JP 5614299A JP 2000252574 A JP2000252574 A JP 2000252574A
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- Japan
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- laser beam
- generator
- laser generator
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、２種の異なった波長を持って色が
異なり、かつハイパワーの合成レーザビームを得て、用
途を幅広く拡大することを目的とする。 【解決手段】 波長の異なる第１、第２のレーザビーム
３，４を合成して２種の異なる波長を持つ１本の合成レ
ーザビーム６を出射する合成手段５を有することを特徴
とする。
異なり、かつハイパワーの合成レーザビームを得て、用
途を幅広く拡大することを目的とする。 【解決手段】 波長の異なる第１、第２のレーザビーム
３，４を合成して２種の異なる波長を持つ１本の合成レ
ーザビーム６を出射する合成手段５を有することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームを幅
広く利用することが可能なレーザ光源装置に関する。
広く利用することが可能なレーザ光源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ光源装置として、特開平９
−１０９３５３号公報に、２つのレーザビーム放射手段
と、一方のレーザビーム放射手段の偏光面を回転させる
複屈折手段と、他方のレーザビーム放射手段からのレー
ザビームと複屈折手段からのレーザビームとを合成する
合成手段とを備え、レーザ強度を増加して、レーザ製版
装置の製版速度を早めるようにしたレーザビーム合成装
置が開示されている。
−１０９３５３号公報に、２つのレーザビーム放射手段
と、一方のレーザビーム放射手段の偏光面を回転させる
複屈折手段と、他方のレーザビーム放射手段からのレー
ザビームと複屈折手段からのレーザビームとを合成する
合成手段とを備え、レーザ強度を増加して、レーザ製版
装置の製版速度を早めるようにしたレーザビーム合成装
置が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザビーム合
成装置は、２つのレーザビームを合成してレーザ強度を
増加することのみを目的とし、レーザ製版装置の製版速
度を早めるようにしている。しかしながら、レーザビー
ムの強度とともに、その色についても変えることができ
れば、例えばレーザアートの分野等、幅広い分野での利
用が期待できる。
成装置は、２つのレーザビームを合成してレーザ強度を
増加することのみを目的とし、レーザ製版装置の製版速
度を早めるようにしている。しかしながら、レーザビー
ムの強度とともに、その色についても変えることができ
れば、例えばレーザアートの分野等、幅広い分野での利
用が期待できる。
【０００４】本発明は、上記に鑑みてなされたもので、
２種の異なった波長を持って色が異なり、かつハイパワ
ーの合成レーザビームを得ることができて、用途を幅広
く拡大することができ、また正常な出力での連続使用が
できて、信頼性の高いレーザ光源装置を提供することを
目的とする。
２種の異なった波長を持って色が異なり、かつハイパワ
ーの合成レーザビームを得ることができて、用途を幅広
く拡大することができ、また正常な出力での連続使用が
できて、信頼性の高いレーザ光源装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、第１のレーザビームを発生
する第１のレーザ発生装置と、前記第１のレーザビーム
の波長とは波長の異なる第２のレーザビームを発生する
第２のレーザ発生装置と、前記第１、第２のレーザビー
ムを合成して２種の異なる波長を持つ１本の合成レーザ
ビームを出射する合成手段とを有することを要旨とす
る。この構成により、波長の異なる第１、第２のレーザ
ビームを合成することで、２種の異なった波長を持って
色が異なり、かつハイパワーの１本の合成レーザビーム
が得られる。
に、請求項１記載の発明は、第１のレーザビームを発生
する第１のレーザ発生装置と、前記第１のレーザビーム
の波長とは波長の異なる第２のレーザビームを発生する
第２のレーザ発生装置と、前記第１、第２のレーザビー
ムを合成して２種の異なる波長を持つ１本の合成レーザ
ビームを出射する合成手段とを有することを要旨とす
る。この構成により、波長の異なる第１、第２のレーザ
ビームを合成することで、２種の異なった波長を持って
色が異なり、かつハイパワーの１本の合成レーザビーム
が得られる。
【０００６】請求項２記載の発明は、第１のレーザビー
ムを発生する第１のレーザ発生装置と、第２のレーザビ
ームを発生する第２のレーザ発生装置と、前記第１、第
２のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時に、その
出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が一定値以
下になったときには、前記第１、第２のレーザ発生装置
の何れか他方を切替え駆動するモニタコントローラとを
有することを要旨とする。この構成により、一方のレー
ザ発生装置が故障等で、その出射レーザビームの出力が
一定値以下に低下したときには、自動的に他方のレーザ
発生装置が駆動状態に切替わり、連続使用が可能とな
る。
ムを発生する第１のレーザ発生装置と、第２のレーザビ
ームを発生する第２のレーザ発生装置と、前記第１、第
２のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時に、その
出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が一定値以
下になったときには、前記第１、第２のレーザ発生装置
の何れか他方を切替え駆動するモニタコントローラとを
有することを要旨とする。この構成により、一方のレー
ザ発生装置が故障等で、その出射レーザビームの出力が
一定値以下に低下したときには、自動的に他方のレーザ
発生装置が駆動状態に切替わり、連続使用が可能とな
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【０００８】図１は、本発明の第１の実施の形態を示す
図である。第１のレーザ発生装置１と第２のレーザ発生
装置２が、合成手段としての偏光ビームスプリッタ５に
対し直角方向に配置されている。第１のレーザ発生装置
１は、波長λ1 でＰ偏光の第１のレーザビーム３を発生
し、第２のレーザ発生装置２は、波長λ2 でＳ偏光の第
２のレーザビーム４を発生する。第１のレーザビーム３
は、偏光ビームスプリッタ５で直角方向に反射され、第
２のレーザビーム４は、偏光ビームスプリッタ５をその
まま透過する。つまり、波長の異なる第１のレーザビー
ム３と第２のレーザビーム４は偏光ビームスプリッタ５
で合成され、２種類の異なった波長を持ち（λ1 ＋
λ2 ）、かつ色の異なる１本の合成レーザビーム６にな
る。また、偏光ビームスプリッタ５による減衰を除け
ば、この構造で、１つのレーザ発生装置のパワーのほぼ
２倍のレーザパワーを得ることができる。
図である。第１のレーザ発生装置１と第２のレーザ発生
装置２が、合成手段としての偏光ビームスプリッタ５に
対し直角方向に配置されている。第１のレーザ発生装置
１は、波長λ1 でＰ偏光の第１のレーザビーム３を発生
し、第２のレーザ発生装置２は、波長λ2 でＳ偏光の第
２のレーザビーム４を発生する。第１のレーザビーム３
は、偏光ビームスプリッタ５で直角方向に反射され、第
２のレーザビーム４は、偏光ビームスプリッタ５をその
まま透過する。つまり、波長の異なる第１のレーザビー
ム３と第２のレーザビーム４は偏光ビームスプリッタ５
で合成され、２種類の異なった波長を持ち（λ1 ＋
λ2 ）、かつ色の異なる１本の合成レーザビーム６にな
る。また、偏光ビームスプリッタ５による減衰を除け
ば、この構造で、１つのレーザ発生装置のパワーのほぼ
２倍のレーザパワーを得ることができる。
【０００９】図２には、本発明の第２の実施の形態を示
す。本実施の形態は、第１のレーザ発生装置１１からの
第１のレーザビーム７のみのパワーで問題ない場合に、
第２のレーザ発生装置１２をバックアップ用に使用する
構造である。第１のレーザ発生装置１１と第２のレーザ
発生装置１２が、偏光ビームスプリッタ５に対し直角方
向に配置され、第１のレーザ発生装置１１の背面側に
は、第１のレーザ発生装置１１の光モニタ出力９を監視
するモニタコントローラ１０が配置されている。１３は
モニタコントローラ１０の出力でオン・オフ制御される
スイッチ、１４は第２のレーザ発生装置１２への供給電
源ライン、１５は第２のレーザ発生装置１２のドライバ
である。この構造で、第１のレーザ発生装置１１からの
第１のレーザビーム７と第２のレーザ発生装置１２から
の第２のレーザビーム８とは、通常同一波長のものが用
いられるが、装置出力としてレーザパワーのみを問題に
する場合は、異なった波長としてもよい。
す。本実施の形態は、第１のレーザ発生装置１１からの
第１のレーザビーム７のみのパワーで問題ない場合に、
第２のレーザ発生装置１２をバックアップ用に使用する
構造である。第１のレーザ発生装置１１と第２のレーザ
発生装置１２が、偏光ビームスプリッタ５に対し直角方
向に配置され、第１のレーザ発生装置１１の背面側に
は、第１のレーザ発生装置１１の光モニタ出力９を監視
するモニタコントローラ１０が配置されている。１３は
モニタコントローラ１０の出力でオン・オフ制御される
スイッチ、１４は第２のレーザ発生装置１２への供給電
源ライン、１５は第２のレーザ発生装置１２のドライバ
である。この構造で、第１のレーザ発生装置１１からの
第１のレーザビーム７と第２のレーザ発生装置１２から
の第２のレーザビーム８とは、通常同一波長のものが用
いられるが、装置出力としてレーザパワーのみを問題に
する場合は、異なった波長としてもよい。
【００１０】そして、第１のレーザ発生装置１１の光モ
ニタ出力９をモニタコントローラ１０で常に監視する。
この第１のレーザ発生装置１１のみの稼動中に、もし、
第１のレーザ発生装置１１に故障等が発生して光モニタ
出力９がある一定値以下（レーザパワーがダウンした
ら）になったときには、モニタコントローラ１０は、ス
イッチ１３をオン制御して、自動的に第２のレーザ発生
装置１２を駆動状態に切替える。これにより、第２のレ
ーザ発生装置１２から第２のレーザビーム８が発生し、
途切れることなくレーザ光源装置の機能を維持すること
ができる。
ニタ出力９をモニタコントローラ１０で常に監視する。
この第１のレーザ発生装置１１のみの稼動中に、もし、
第１のレーザ発生装置１１に故障等が発生して光モニタ
出力９がある一定値以下（レーザパワーがダウンした
ら）になったときには、モニタコントローラ１０は、ス
イッチ１３をオン制御して、自動的に第２のレーザ発生
装置１２を駆動状態に切替える。これにより、第２のレ
ーザ発生装置１２から第２のレーザビーム８が発生し、
途切れることなくレーザ光源装置の機能を維持すること
ができる。
【００１１】図３には、本発明の第３の実施の形態を示
す。上記第１の実施の形態等の構成において、第１のレ
ーザ発生装置１に回転機構１６を接続し、第１のレーザ
発生装置１を回転させることで、第１のレーザビーム３
は、Ｐ偏光からＳ偏光に変化する。これにより、偏光ビ
ームスプリッタ５による第１のレーザビーム３の反射光
量が減衰し、さらにレーザパワーの調整を行うことがで
きる。
す。上記第１の実施の形態等の構成において、第１のレ
ーザ発生装置１に回転機構１６を接続し、第１のレーザ
発生装置１を回転させることで、第１のレーザビーム３
は、Ｐ偏光からＳ偏光に変化する。これにより、偏光ビ
ームスプリッタ５による第１のレーザビーム３の反射光
量が減衰し、さらにレーザパワーの調整を行うことがで
きる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、第１のレーザビームを発生する第１のレー
ザ発生装置と、前記第１のレーザビームの波長とは波長
の異なる第２のレーザビームを発生する第２のレーザ発
生装置と、前記第１、第２のレーザビームを合成して２
種の異なる波長を持つ１本の合成レーザビームを出射す
る合成手段とを具備させたため、２種の異なった波長を
持って色が異なり、かつハイパワーの１本の合成レーザ
ビームが得られるので、レーザ光源装置の用途を幅広く
拡大することができる。
明によれば、第１のレーザビームを発生する第１のレー
ザ発生装置と、前記第１のレーザビームの波長とは波長
の異なる第２のレーザビームを発生する第２のレーザ発
生装置と、前記第１、第２のレーザビームを合成して２
種の異なる波長を持つ１本の合成レーザビームを出射す
る合成手段とを具備させたため、２種の異なった波長を
持って色が異なり、かつハイパワーの１本の合成レーザ
ビームが得られるので、レーザ光源装置の用途を幅広く
拡大することができる。
【００１３】請求項２記載の発明によれば、第１のレー
ザビームを発生する第１のレーザ発生装置と、第２のレ
ーザビームを発生する第２のレーザ発生装置と、前記第
１、第２のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時
に、その出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が
一定値以下になったときには、前記第１、第２のレーザ
発生装置の何れか他方を切替え駆動するモニタコントロ
ーラとを具備させたため、一方のレーザ発生装置に故障
等が発生しても、正常な出力での連続使用が可能となっ
て、装置の信頼性を高めることができる。
ザビームを発生する第１のレーザ発生装置と、第２のレ
ーザビームを発生する第２のレーザ発生装置と、前記第
１、第２のレーザ発生装置の何れか一方のみの稼動時
に、その出射レーザビームの出力を監視し、当該出力が
一定値以下になったときには、前記第１、第２のレーザ
発生装置の何れか他方を切替え駆動するモニタコントロ
ーラとを具備させたため、一方のレーザ発生装置に故障
等が発生しても、正常な出力での連続使用が可能となっ
て、装置の信頼性を高めることができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態であるレーザ光源装
置のブロック図である。
置のブロック図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態のブロック図であ
る。
る。
【図３】本発明の第３の実施の形態のブロック図であ
る。
る。
１，１１ 第１のレーザ発生装置 ２，１２ 第２のレーザ発生装置 ３，７ 第１のレーザビーム ４，８ 第２のレーザビーム ５ 偏光ビームスプリッタ（合成手段） ６ 合成レーザビーム １０ モニタコントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H084 AA14 AE05 4E068 CA04 CB08 CD02 CD08 5F072 HH02 JJ05 KK15 MM04 MM07 YY20
Claims (2)
- 【請求項１】 第１のレーザビームを発生する第１のレ
ーザ発生装置と、前記第１のレーザビームの波長とは波
長の異なる第２のレーザビームを発生する第２のレーザ
発生装置と、前記第１、第２のレーザビームを合成して
２種の異なる波長を持つ１本の合成レーザビームを出射
する合成手段とを有することを特徴とするレーザ光源装
置。 - 【請求項２】 第１のレーザビームを発生する第１のレ
ーザ発生装置と、第２のレーザビームを発生する第２の
レーザ発生装置と、前記第１、第２のレーザ発生装置の
何れか一方のみの稼動時に、その出射レーザビームの出
力を監視し、当該出力が一定値以下になったときには、
前記第１、第２のレーザ発生装置の何れか他方を切替え
駆動するモニタコントローラとを有することを特徴とす
るレーザ光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056142A JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056142A JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000252574A true JP2000252574A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=13018840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11056142A Pending JP2000252574A (ja) | 1999-03-03 | 1999-03-03 | レーザ光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000252574A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10556293B2 (en) | 2009-08-11 | 2020-02-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser machining method |
-
1999
- 1999-03-03 JP JP11056142A patent/JP2000252574A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10556293B2 (en) | 2009-08-11 | 2020-02-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser machining method |
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