JP2000251700A - Patterning method and patterning device of screen board - Google Patents

Patterning method and patterning device of screen board

Info

Publication number
JP2000251700A
JP2000251700A JP4717199A JP4717199A JP2000251700A JP 2000251700 A JP2000251700 A JP 2000251700A JP 4717199 A JP4717199 A JP 4717199A JP 4717199 A JP4717199 A JP 4717199A JP 2000251700 A JP2000251700 A JP 2000251700A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
screen plate
patterning
tension
wiring
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4717199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Kasanuki
有二 笠貫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP4717199A priority Critical patent/JP2000251700A/en
Publication of JP2000251700A publication Critical patent/JP2000251700A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the positional accuracy of a screen plate and to cope with high accuracy and a large area. SOLUTION: This device is provided with a contact roller 5a, 5b for bringing a screen plate 3 into surface contact with a glass mask 2, a reeling-out roller 6a and a reeling roller 6b for imparting tension to the screen board 3; supporting rollers 7a, 7b for supporting the screen board 3, an exposure machine 1 for exposing a pattern to the screen board 3 which is given the tension by a rotation mechanism formed in the reeling-out roller 6a and the reeling roller 6b and transported, and a developing bath 8 for performing the development of the pattern exposed to and photographed on the screen board 3 by the exposure machine 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なスクリーン
印刷版のパターニング方法およびパターニング装置に関
するものであり、さらには前記パターニング方法により
形成された版を用いたマトリクス基板の製造方法、画像
表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel screen printing plate patterning method and patterning apparatus, and more particularly, to a method of manufacturing a matrix substrate using a plate formed by the patterning method and an image display apparatus. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、CRTに代わる薄く軽く大画面な
平板状の画像表示装置が期待されている。このような平
板状の画像表示装置の一つとして自発光型画像表示があ
る。たとえば、紫外線を蛍光体に照射することで蛍光体
を励起し発光させるプラズマディスプレイパネル(PD
P)、電界放出型電子放出素子(FE)や表面伝導型電
子放出素子を電子源として用い、上記電子放出素子から
放出された電子を蛍光体に照射することで、蛍光体を励
起し、発光させる平板型画像表示装置がある。なかでも
PDPは40インチ程度のものが市販されはじめてい
る。
2. Description of the Related Art At present, a flat, thin, light, large-screen image display device replacing a CRT is expected. One example of such a flat image display device is a self-luminous image display. For example, a plasma display panel (PD) that irradiates a phosphor with ultraviolet light to excite the phosphor and emit light.
P), using a field emission type electron emission element (FE) or a surface conduction type electron emission element as an electron source, and irradiating the phosphor with electrons emitted from the electron emission element, thereby exciting the phosphor and emitting light. There is a flat-panel type image display device. Above all, PDPs having a size of about 40 inches have begun to be marketed.

【0003】本出願人は、自発光型の平板状画像表示装
置の中でも、表面伝導型電子放出素子を用いた画像表示
装置に着目している。これは構造が比較的簡易なため、
大面積に形成することに適しているためである。
The present applicant has paid attention to an image display device using a surface conduction electron-emitting device, among self-luminous flat plate image display devices. This is because the structure is relatively simple,
This is because it is suitable for forming a large area.

【0004】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された微粒子膜からなる導電性薄膜に素子電極と呼ばれ
る一対の電極から上記導電性薄膜に電圧を印加すること
により、導電性薄膜の一部に形成された電子放出部から
電子が放出される。上記電子放出素子から放出された電
子を蛍光体に照射し、発光を得ることにより画像表示装
置を実現することができる。
A surface conduction electron-emitting device is a device in which a voltage is applied to a conductive thin film formed of a fine particle film formed on a substrate from a pair of electrodes called device electrodes to the conductive thin film. Electrons are emitted from the electron emission portion formed in the portion. The image display device can be realized by irradiating the phosphor with the electrons emitted from the electron-emitting device and obtaining light emission.

【0005】本出願人は、先に特開平6−342636
号公報において、このような表面伝導型電子放出素子を
もちいた画像表示装置の一例を開示している。
[0005] The present applicant has previously disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-342636.
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. Hei 11 (1995) discloses an example of an image display device using such a surface conduction electron-emitting device.

【0006】図9は表面伝導型電子放出素子を用いた画
像表示装置の一例をしめす概略構成図である。図9にお
いて、105はリアプレート、106は外枠、107は
フェースプレートである。外枠106、リアプレート1
05、フェースプレート107の各接続部は不図示の低
融点ガラスフリット等の接着材により封着され、画像表
示装置内部を真空に維持するための外囲器を構成してい
る。リアプレート105には基板101が固定されてい
る。この基板101上には表面伝導型電子放出素子10
2がn×m個配列形成されている(n,mは2以上の正
の整数であり、目的とする表示装置に応じて適宜設定さ
れる。)。
FIG. 9 is a schematic diagram showing an example of an image display device using a surface conduction electron-emitting device. In FIG. 9, 105 is a rear plate, 106 is an outer frame, and 107 is a face plate. Outer frame 106, rear plate 1
05, each connection portion of the face plate 107 is sealed with an adhesive such as a low melting point glass frit (not shown) to form an envelope for maintaining the inside of the image display device in a vacuum. The substrate 101 is fixed to the rear plate 105. The surface conduction electron-emitting device 10 is provided on the substrate 101.
2 are formed in an n × m array (n and m are positive integers equal to or greater than 2 and are appropriately set according to the target display device).

【0007】また、表面伝導型電子放出素子102は図
9に示すとおり、m本の行方向配線とn本の列方向配線
とにより配線されている。これら基板101、複数の表
面伝導型電子放出素子102、行方向配線Dx1〜Dx
m、列方向配線Dy1〜Dynによってマルチ電子ビー
ム源が構成される。また、少なくも行方向配線と列方向
配線の交差する部分には、両配線間に不図示の層間絶縁
層が形成されており、行方向配線Dx1〜Dxmと列方
向配線Dy1〜Dynとの電気的な絶縁が保たれてい
る。
Further, as shown in FIG. 9, the surface conduction electron-emitting device 102 is wired by m row-directional wirings and n column-directional wirings. The substrate 101, the plurality of surface conduction electron-emitting devices 102, and the row direction wirings Dx1 to Dx
m and the column direction wirings Dy1 to Dyn constitute a multi-electron beam source. At least at the intersection of the row direction wiring and the column direction wiring, an interlayer insulating layer (not shown) is formed between the two wirings, and the electrical connection between the row direction wirings Dx1 to Dxm and the column direction wirings Dy1 to Dyn. Insulation is maintained.

【0008】上記画像表示装置を形成するには、上記電
子放出素子102、行配線Dx1〜Dxm、列配線Dy
1〜Dynを多数配列形成する必要がある。しかしなが
ら、たとえば数十インチの大画面の画像表示装置を形成
する場合、対角数十インチの大基板の対応する大型製造
装置が必要となる。とりわけフォトリソグラフィー技術
を用いるとすると、その製造工程上の取り扱いの難しさ
や高コストなどの問題がある。
To form the image display device, the electron-emitting device 102, the row wirings Dx1 to Dxm, and the column wiring Dy
It is necessary to form a large number of 1 to Dyn. However, in the case of forming an image display device having a large screen of several tens of inches, for example, a large-sized manufacturing apparatus corresponding to a large substrate of several tens of inches in diagonal is required. In particular, when the photolithography technique is used, there are problems such as difficulty in handling in the manufacturing process and high cost.

【0009】そこで比較的安価で、真空装置などが必要
なく、大面積に対応しえる印刷技術を用いて、上記電子
放出素子、行方向および列方向配線を多数配列形成する
ことが考えられる。
Therefore, it is conceivable to form a large number of the above-described electron-emitting devices, row-direction and column-direction wirings by using a printing technique that is relatively inexpensive, does not require a vacuum device, and can handle a large area.

【0010】本出願人は、先に特開平8−34110号
公報にスクリーン印刷技術を用いて上記行方向および列
方向を多数配列形成することを開示している。
The present applicant has previously disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-34110 that a large number of rows and columns are formed in an array using a screen printing technique.

【0011】スクリーン印刷は、たとえば金属粒子をま
ぜたインキを所望のパターンの開口を有する版をマスク
として、上記開口部からインキを被印刷体である基板上
に印刷形成し、その後焼成を行うことで、所望のパター
ンの導体配線などを形成するものである。
In screen printing, for example, an ink mixed with metal particles is used as a mask with a plate having an opening of a desired pattern as a mask, and the ink is printed and formed on the substrate as a printing medium from the opening, followed by baking. Thus, a conductor wiring having a desired pattern is formed.

【0012】スクリーン印刷機の一例を図10及び図1
1を用いて以下に述べる。
FIGS. 10 and 1 show an example of a screen printing machine.
1 will be described below.

【0013】図10は従来のスクリーン印刷機の斜視
図、図11は従来のスクリーン印刷機の断面図である。
図10、図11において、111は版枠、112はスク
リーンメッシュ、113はスキージ、114はワーク
(被印刷体)、121は押圧部、115は版パターン、
116はインキパターン、117はインキ、122は張
力、123はギャップである。スクリーンメッシュ11
2はステンレス等の材質のメッシュ上に形成されてお
り、適宜設定された張力で版枠にはられている。
FIG. 10 is a perspective view of a conventional screen printer, and FIG. 11 is a sectional view of the conventional screen printer.
10 and 11, reference numeral 111 denotes a plate frame, 112 denotes a screen mesh, 113 denotes a squeegee, 114 denotes a work (substrate to be printed), 121 denotes a pressing portion, 115 denotes a plate pattern,
116 is an ink pattern, 117 is ink, 122 is tension, and 123 is a gap. Screen mesh 11
Numeral 2 is formed on a mesh made of a material such as stainless steel, and is held on the plate frame with appropriately set tension.

【0014】次ぎにスクリーン印刷の手順を、図を用い
て以下に述べる。
Next, the procedure of screen printing will be described below with reference to the drawings.

【0015】まず、図11に示すように、スクリーンメ
ッシュ112の面とワークを所定のギャップ123にセ
ットする。次ぎにスクリーンメッシュ112が押圧部に
おいてワーク114に接するまでスキージ113を下げ
る。次ぎにスキージ113の手前にインキ117を設置
する。つぎにスクリーンメッシュ112がワーク114
に常に接するように、スキージ113を下げたまま、ス
キージ113を図10の矢印方向に操引して、インキ1
17をかきとる。その後、図10のようにスキージ11
3からの圧力によってインキ117は版パターン115
を通ってワーク114上に吐出される。このように、イ
ンキ117の吐出と同時に、図11に示すスクリーン押
圧部の張力の垂直成分に由来する復元力によりスクリー
ンメッシュ112がワーク114から離れることでイン
キ117が分離されワーク114上に、図10に示す所
望のインキパターン116が形成される。
First, as shown in FIG. 11, the surface of the screen mesh 112 and the work are set in a predetermined gap 123. Next, the squeegee 113 is lowered until the screen mesh 112 contacts the work 114 at the pressing portion. Next, the ink 117 is placed before the squeegee 113. Next, the screen mesh 112 is
While keeping the squeegee 113 down, the squeegee 113 is operated in the direction of the arrow in FIG.
I scrape 17. Then, as shown in FIG.
3 causes the ink 117 to be transferred to the plate pattern 115.
Is discharged onto the workpiece 114 through the As described above, at the same time as the ejection of the ink 117, the screen mesh 112 is separated from the work 114 by the restoring force derived from the vertical component of the tension of the screen pressing portion shown in FIG. A desired ink pattern 116 shown in FIG. 10 is formed.

【0016】以上のような従来のスクリーン印刷には、
以下の点に特徴がある。 (1)四辺を枠固定したスクリーンメッシュ112を原
版として使用している。 (2)原版とワーク114の間を、あるギャップ123
に保った状態で印刷を行う。
In the conventional screen printing as described above,
The features are as follows. (1) A screen mesh 112 having four sides fixed on a frame is used as an original. (2) A gap 123 exists between the original and the work 114.
Print while keeping

【0017】これらのことにより、スクリーン印刷で
は、あらかじめ設定されたスクリーン版上の元パターン
を伸長して、印刷することとなるため、元パターンの寸
法に対して2次元的に歪んだ誤差が加えられた寸法での
印刷となる。以上の位置精度悪化は大面積に成るほど無
視できない大きさとなる(NHK技研R&D No37
1995年8月「ハイビジョン用プラズマディスプレイ
の研究」)。
Because of these, in screen printing, the original pattern on the screen plate that has been set in advance is printed after being stretched, so that a two-dimensionally distorted error is added to the dimensions of the original pattern. It will be printed with the specified dimensions. The above-described deterioration in positional accuracy becomes a size that cannot be ignored as the area becomes larger (NHK Giken R & D No. 37).
August 1995, "Study on Plasma Display for Hi-Vision").

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のスクリーン印刷法では前述したように印刷版とワーク
間にギャップがあり、スキージで印刷インキをワークに
印刷する際、印刷版の伸びが発生する。また繰り返し印
刷する際、スクリーン版はスクリーン版の位置により異
なった伸びを発生して、パターン位置精度が劣化してい
く。さらには、これらの伸びの発生は、各パターンによ
っても異なる。すなわち、各パターンに応じて、異なる
スクリーン版を用いて印刷されるため、各パターン間の
位置精度が大幅に低下するということになる。
As described above, in the conventional screen printing method, as described above, there is a gap between the printing plate and the work, and when the printing ink is printed on the work with a squeegee, the printing plate elongates. appear. Further, when printing is repeated, the screen plate elongates differently depending on the position of the screen plate, and the pattern position accuracy deteriorates. Furthermore, the occurrence of these elongations differs depending on each pattern. That is, since printing is performed using different screen plates according to each pattern, the positional accuracy between the patterns is greatly reduced.

【0019】とりわけx軸方向の第一の配線と、第一の
配線と直交するy軸方向の第二の配線と、第一の配線と
第二の配線の交差部とに、すくなくも配置される絶縁層
から構成されるマトリクス基板では、各パターンの位置
精度のみならず各パターン間の相対位置精度は重要であ
る。
In particular, at least the first wiring in the x-axis direction, the second wiring in the y-axis direction orthogonal to the first wiring, and the intersection of the first and second wirings are arranged at least. In a matrix substrate composed of insulating layers, not only the positional accuracy of each pattern but also the relative positional accuracy between the patterns are important.

【0020】本発明は、上記スクリーン版の位置精度を
向上させ、高精度でかつ大面積に対応できるスクリーン
印刷版のパターニング方法およびパターニング装置を提
供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a patterning method and a patterning apparatus for a screen printing plate, which can improve the positional accuracy of the screen plate, and can handle a large area with high accuracy.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を解
決するものであり、スクリーン版のパターニング方法に
おいて、スクリーン版の対向する2辺をそれぞれロール
に巻き付けるロール・ツー・ロール構成によってスクリ
ーン版に張力を与えた状態で少なくも一種類以上のパタ
ーンをパターニングすることを特徴とするスクリーン版
のパターニング方法であり、本発明で用いられるスクリ
ーン版は好ましくは非弾性スクリーン版である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned object, and in a method of patterning a screen plate, a screen plate is formed by a roll-to-roll configuration in which two opposite sides of the screen plate are wound around rolls. A patterning method of a screen plate characterized by patterning at least one or more types of patterns under tension. The screen plate used in the present invention is preferably a non-elastic screen plate.

【0022】また紗と乳剤から構成されるスクリーン版
のパターニング装置において対向する2辺のロールにス
クリーン版が巻き付けられるロール・ツー・ロール構成
によりスクリーン版に張力が与えられる手段を有し、張
力を印加した状態でロールの回転により移動させること
により少なくも一種類以上のパターンを露光・現像でき
ることを特徴としたパターニング装置である。
In a screen plate patterning apparatus composed of a gauze and an emulsion, there is provided a means for applying tension to the screen plate by a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls. A patterning apparatus characterized in that at least one or more types of patterns can be exposed and developed by moving the roller by rotating the roll in a state where the voltage is applied.

【0023】また、メタルと乳剤から構成されるスクリ
ーン版のパターニング装置において対向する2辺のロー
ルにスクリーン版が巻き付けられるロール・ツー・ロー
ル構成によりスクリーン版に張力が与えられる手段を有
し、張力を印加した状態でロールの回転により移動させ
ることにより少なくも一種類以上のパターンを露光・現
像・エッチングできることを特徴としたパターニング装
置である。
In a screen plate patterning apparatus comprising a metal and an emulsion, there is provided a means for applying tension to the screen plate by a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls. A patterning apparatus characterized in that at least one or more types of patterns can be exposed, developed, and etched by moving the roller by rotating a roll in a state in which is applied.

【0024】さらには、メタルもしくはプラスチックか
ら構成されるスクリーン版のパターニング装置において
対向する2辺のロールにスクリーン版が巻き付けられる
ロール・ツー・ロール構成によりスクリーン版に張力が
与えられる手段を有し、張力を印加した状態でロールの
回転により移動させることにより少なくも一種類以上の
パターンをレーザーでエッチングすることを特徴とした
パターニング装置である。
Further, in a screen plate patterning device made of metal or plastic, there is provided a means for applying tension to the screen plate by a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls, A patterning apparatus characterized in that at least one or more types of patterns are etched by a laser by moving the rolls while rotating under a tension.

【0025】さらには上記パターニング方法により形成
された版の複数のパターン部が第一の配線、第一の配線
と直交する第二の配線、第一の配線と第二の配線の交差
部に少なくも配置される絶縁層から構成され、該版を用
いて印刷されるマトリクス基板の製造方法であり、また
上記パターニング方法により形成された版の複数のパタ
ーン部が3原色からなる蛍光体およびブラックラインか
ら構成され、該版を用いて印刷される蛍光膜を有する基
板の製造方法であり、またこれらを用いて製造されたこ
とを特徴とする画像表示装置の製造方法でもある。
Further, a plurality of pattern portions of the plate formed by the above-described patterning method are less in the first wiring, the second wiring orthogonal to the first wiring, and the intersection of the first wiring and the second wiring. Is a method for manufacturing a matrix substrate, which is constituted by an insulating layer disposed thereon, and is printed by using the plate. A plurality of pattern portions of the plate formed by the patterning method have phosphors and black lines each having three primary colors. And a method of manufacturing a substrate having a fluorescent film printed using the plate, and also a method of manufacturing an image display device characterized by being manufactured using these.

【0026】[作用]本発明のパターニング装置は、ス
クリーン版の対向する2辺をそれぞれロールに巻き付け
るロール・ツー・ロール構成によって、スクリーン版に
張力を加える手段を有しているので、印刷時の張力と同
様の張力を設定して加えることができる。しかも、ロー
ル・ツー・ロール方式なので、一定で均一な張力を印加
でき、このため複数のパターニングを行う際に、順次ロ
ールでスクリーン版をおくり、パターニングする際に各
パターン間での張力を一定に保つことができ、高精度な
パターニングを行うことができる。
[Operation] The patterning apparatus of the present invention has a means for applying tension to the screen plate by means of a roll-to-roll configuration in which two opposing sides of the screen plate are wound around rolls. A tension similar to the tension can be set and applied. In addition, since the roll-to-roll method is used, a constant and uniform tension can be applied.For this reason, when performing multiple patterning, the screen plate is sequentially put on rolls, and the tension between each pattern is kept constant during patterning. It is possible to carry out high-precision patterning.

【0027】スクリーン版はこのましくは非弾性スクリ
ーン版がよい。ここで非弾性スクリーン版とよんでいる
のは、従来のポリエステルスクリーンやステンレススク
リーンに対して、これらにニッケルメッキ処理をして作
成されたリジタイズドスクリーン版、エレクトロフォー
ミング法で作成されたスクリーン版、金属板やプラスチ
ック板をエッチングして作成されたスクリーン版等をい
う。しかし、本発明に用いることのできるスクリーン版
は、これに限るものではない。
The screen plate is preferably an inelastic screen plate. Here, what is called an inelastic screen plate is a rigidized screen plate created by applying nickel plating to a conventional polyester screen or stainless steel screen, a screen plate created by an electroforming method, A screen plate or the like created by etching a metal plate or a plastic plate. However, the screen plate that can be used in the present invention is not limited to this.

【0028】本発明のパターニング装置で作成したスク
リーン版は、異なるパターンでも同一の張力でパターニ
ングされているため、パターン間の相対的位置精度が良
好であり、マトリクス基板等の形成には好適である。
Since the screen plate produced by the patterning apparatus of the present invention is patterned with the same tension even in different patterns, the relative positional accuracy between the patterns is good, which is suitable for forming a matrix substrate or the like. .

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】本発明による実施形態について、
図面を参照しつつ詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to the drawings.

【0030】[第1の実施形態]図1、図2を用いて本
実施形態のスクリーン版のパターニング方法及びパター
ニング装置を説明する。
[First Embodiment] A patterning method and a patterning apparatus for a screen plate according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0031】図1は本実施形態のパターニング装置を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a patterning apparatus according to this embodiment.

【0032】図1は本発明の第1の実施形態のスクリー
ン版のパターニング方法を実現するパターニング装置を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a patterning apparatus for realizing a method of patterning a screen plate according to a first embodiment of the present invention.

【0033】図1において、パターニング装置は、露光
機1、ガラスマスク2、接触ローラ5a、5b、巻き出
しローラ6a、巻き取りローラー6b、支持ローラ7
a、7b、現像槽8を備えている。また図中、4はスク
リーン版3のパターニング領域を示す。ここで、巻き出
しローラ6aはテンションローラーであり、巻き出す方
向とは反対の方向に一定のトルクをかけることができ
る。トルクは例えば電磁クラッチ等を用いる。一方、巻
き取りローラー6bは巻き取り用で、巻き取り速度を制
御することができる。巻き取りローラー6bはローラー
を駆動するモータにより速度制御し、巻き出しローラ6
aと巻き取りローラー6bとの間にあるローラーは全て
フリーロールである。以上の機構により、所望の張力
で、所望の速度で巻き取ることができる。
In FIG. 1, the patterning apparatus includes an exposure machine 1, a glass mask 2, contact rollers 5a and 5b, an unwind roller 6a, a take-up roller 6b, and a support roller 7.
a, 7 b and a developing tank 8. In the drawing, reference numeral 4 denotes a patterning region of the screen plate 3. Here, the unwinding roller 6a is a tension roller, and can apply a constant torque in a direction opposite to the unwinding direction. As the torque, for example, an electromagnetic clutch or the like is used. On the other hand, the winding roller 6b is for winding, and can control the winding speed. The speed of the take-up roller 6b is controlled by a motor that drives the roller.
All the rollers between a and the take-up roller 6b are free rolls. With the above-described mechanism, it is possible to wind at a desired speed at a desired tension.

【0034】また、スクリーン版3は、ガラスマスク2
に対し接触ローラ5a、5bにより密着されている。ま
た、スクリーン版3は、本例では紗と乳剤から構成され
ており、巻き出しローラ6a、巻き取りローラー6bに
より一定の張力に制御されている。
The screen plate 3 is made of a glass mask 2
Are brought into close contact with the contact rollers 5a and 5b. Further, the screen plate 3 is composed of gauze and emulsion in this example, and is controlled to a constant tension by the unwind roller 6a and the take-up roller 6b.

【0035】スクリーン版3の両端には、引き回し用に
不図示のリーダが設けられている。巻き出しローラ6
a、巻き取りローラー6bには、不図示の回転機構が設
けてあり、一定の張力を印加しながら、スクリーン版3
を搬送することができる。また、接触ローラ5a、5b
には、スクリーン版3をガラスマスク2に面接触させる
ための不図示の上下機構が装備されている。
At both ends of the screen plate 3, readers (not shown) are provided for routing. Unwind roller 6
a, a rotating mechanism (not shown) is provided on the winding roller 6b, and the screen plate 3
Can be transported. Also, the contact rollers 5a, 5b
Is provided with a vertical mechanism (not shown) for bringing the screen plate 3 into surface contact with the glass mask 2.

【0036】図2は本発明の第1の実施形態のパターニ
ング装置の概略図である。図2において、8aは現像液
を吐出するノズル、8bは乾燥用のエアナイフであり、
現像槽8の内部に配設されている。尚、図1及び図2に
おける共通構成には同一符号を付す。
FIG. 2 is a schematic view of a patterning apparatus according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 2, reference numeral 8a denotes a nozzle for discharging the developer, 8b denotes an air knife for drying,
It is arranged inside the developing tank 8. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals.

【0037】(動作の説明)次に、本発明の第1の実施
形態のパターニング手順について、図1及び図2、図3
及び図4を参照して詳細に説明する。
(Explanation of Operation) Next, the patterning procedure according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described in detail with reference to FIG.

【0038】最初に、パターニング装置へのスクリーン
のセッティングについて述べる。本例では、スクリーン
版3としてステンレススクリーンにニッケルメッキ処理
して作成されたリジタイズドスクリーン版を用いた。係
るスクリーン版3の一端を張力ローラ6aに固定する。
次に、スクリーン版3を種々の支持ローラ7a、7bや
接触ローラ5a、5b及び現像槽8を通過させて、もう
一方の張力ローラ6bに固定する。支持ローラ7a、7
bは、このスクリーン版3の引き回しに応じて適宜設け
ることができる。
First, the setting of the screen on the patterning device will be described. In this example, a rigidized screen plate made by nickel plating a stainless steel screen was used as the screen plate 3. One end of the screen plate 3 is fixed to the tension roller 6a.
Next, the screen plate 3 is passed through various support rollers 7a and 7b, contact rollers 5a and 5b, and the developing tank 8, and is fixed to the other tension roller 6b. Support rollers 7a, 7
b can be appropriately provided according to the layout of the screen plate 3.

【0039】また、スクリーン版3の両端には、上記の
ように、引き回し用にリーダが設けられており、必ずし
もスクリーン版3が張力ローラ6a、6bに巻き取られ
る必要はない。張力ローラ6a、6bには、上記のよう
に回転機構が設けてあり、一定の張力を印加しながら、
スクリーン版を搬送することができる。また、接触ロー
ラ5a、5bには、上記のように不図示の上下機構がつ
いており、スクリーン版3をガラスマスク2に面接触さ
せることができる。
As described above, leaders are provided at both ends of the screen plate 3 for routing, and the screen plate 3 does not necessarily need to be wound around the tension rollers 6a and 6b. The rotation mechanism is provided on the tension rollers 6a and 6b as described above, and while applying a constant tension,
The screen plate can be transported. The contact rollers 5a and 5b are provided with the vertical mechanism (not shown) as described above, and can bring the screen plate 3 into surface contact with the glass mask 2.

【0040】スクリーン版3をパターニング装置にセッ
ティングした後、パターニング領域4がガラスマスク2
上にくるまでスクリーン版3を搬送する。所定の位置ま
で搬送したら、接触ローラ5によりスクリーン版3にお
けるパターンが形成されたパターニング領域(パターン
形成領域)4をガラスマスク2に面接触させて、露光機
1により露光する。
After setting the screen plate 3 in the patterning device, the patterning region 4 is
The screen plate 3 is transported until it comes to the top. After being conveyed to a predetermined position, the patterning area (pattern forming area) 4 where the pattern on the screen plate 3 is formed by the contact roller 5 is brought into surface contact with the glass mask 2 and exposed by the exposing machine 1.

【0041】露光が終わると、接触ローラ5a、5bに
よりスクリーン版3をガラスマスク2より離し、スクリ
ーン版3を搬送する。
After the exposure, the screen plate 3 is separated from the glass mask 2 by the contact rollers 5a and 5b, and the screen plate 3 is conveyed.

【0042】次に、スクリーン版3は現像槽8に入れら
れる。現像槽8では現像液がノズル8aよりシャワー状
に吐出して、現像が行われる。ノズル8aの数や現像液
の量は現像条件により選択される。また、現像後のリン
ス、洗浄もこの現像槽8内で同様にして行われる。洗浄
後のスクリーン版3は、エアナイフ8bにより乾燥され
て現像槽8より出てくる。
Next, the screen plate 3 is put into the developing tank 8. In the developing tank 8, the developing solution is discharged from the nozzle 8a in a shower shape to perform the development. The number of nozzles 8a and the amount of the developing solution are selected according to the developing conditions. Rinsing and cleaning after development are also performed in the developing tank 8 in the same manner. The screen plate 3 after washing is dried by the air knife 8b and comes out of the developing tank 8.

【0043】この間、スクリーン版3は常に一定の張力
に保持される。本例では、張力は2kg/cmとした。
During this time, the screen plate 3 is always kept at a constant tension. In this example, the tension was 2 kg / cm.

【0044】上記工程を繰り返すことにより、複数のパ
ターニングも行うことができる。
By repeating the above steps, a plurality of patterning operations can be performed.

【0045】本例では、印刷精度のチェックのため、第
一のパターン部と第二のパターン部によってドットパタ
ーンを構成するようにスクリーン版をパターニングし
た。図3に、第一のドット13と第二のドット14のパ
ターンの配置図を示す。
In this embodiment, in order to check the printing accuracy, the screen plate was patterned so that the first pattern portion and the second pattern portion constituted a dot pattern. FIG. 3 shows an arrangement pattern of the first dots 13 and the second dots 14.

【0046】図3において、基板11は対角20インチ
で、印刷パターン部12は、対角15インチである。ド
ットパターンは、図3(b)に示すアライメントマーカ
15を基準として等ピッチで、且つ第一のドット13と
第二のドット14が交互になるように配置されている。
In FIG. 3, the substrate 11 has a diagonal of 20 inches, and the print pattern section 12 has a diagonal of 15 inches. The dot patterns are arranged at an equal pitch with reference to the alignment marker 15 shown in FIG. 3B, and the first dots 13 and the second dots 14 are alternately arranged.

【0047】上記のようなパターンのスクリーン版3を
ロール・ツー・ロール方式の印刷機1にセットして印刷
を行った。この時のスクリーン版3の張力は2kg/c
mである。先ず、第一のパターン部を基板11に印刷
し、次に、第二のパターン部までスクリーン版を送って
ワーク上で位置合わせした後、第一のパターン部と同様
に印刷を行い、ドットパターンを形成した。ペーストは
銀ペーストを使用した。
The screen plate 3 having the above-described pattern was set on the roll-to-roll type printing press 1 for printing. At this time, the tension of the screen plate 3 is 2 kg / c.
m. First, the first pattern portion is printed on the substrate 11, and then the screen plate is sent to the second pattern portion and positioned on the work, and then printed in the same manner as the first pattern portion, and the dot pattern is printed. Was formed. The paste used was a silver paste.

【0048】以上の方法により印刷したドットパターン
の位置精度を測定した。位置精度は図上、右上下のアラ
イメントマーカ15を原点としてその位置を測定した。
The positional accuracy of the dot pattern printed by the above method was measured. The position accuracy was measured using the alignment markers 15 at the upper right and lower right in the figure as the origin.

【0049】(第1の実施形態と比較例)次に、第1の
実施形態と比較例との相異について説明する。
(First Embodiment and Comparative Example) Next, differences between the first embodiment and the comparative example will be described.

【0050】第1の実施形態と同様のパターンを通常の
2版のスクリーン版で構成して、従来技術で説明したス
クリーン印刷機を用いて印刷し、その位置精度を測定し
た。
The same pattern as that of the first embodiment was formed by two ordinary screen plates, and printed using the screen printer described in the prior art, and the positional accuracy was measured.

【0051】第1の実施形態と比較例の位置精度の測定
結果を図4に示す。図4はそれぞれのドットの設計座標
に対する印刷後の位置座標のずれ量の分布を示す。第1
の実施形態における第一のドットのずれ量の分布と第二
のドットのずれ量の分布はほぼ同じであり、重なる。こ
れに対して、比較例は第一のドットのずれ量と第二のド
ットのずれ量が異なる傾向を示していることが分かる。
FIG. 4 shows measurement results of the positional accuracy of the first embodiment and the comparative example. FIG. 4 shows the distribution of the shift amount of the position coordinates after printing with respect to the design coordinates of each dot. First
In the embodiment, the distribution of the deviation amount of the first dot and the distribution of the deviation amount of the second dot are almost the same and overlap. On the other hand, it can be seen that the comparative example shows a tendency that the shift amount of the first dot and the shift amount of the second dot are different.

【0052】以上のように本発明の第1の実施形態で
は、スクリーン版のパターニング時の張力を異なるパタ
ーンにたいして一定に保つことができ、このため異なる
パターン間での相対的位置精度を良好とすることができ
る。
As described above, in the first embodiment of the present invention, the tension at the time of patterning the screen plate can be kept constant for different patterns, so that the relative positional accuracy between the different patterns is improved. be able to.

【0053】[第2の実施形態]次に、本発明の第2の
実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0054】(1)構成の説明 本発明の第2の実施形態では、メタルと乳剤から構成さ
れるスクリーン版のパターニング装置の場合について述
べる。
(1) Description of Configuration In the second embodiment of the present invention, a case of a screen plate patterning device composed of a metal and an emulsion will be described.

【0055】図5は本発明の第1の実施形態のパターニ
ング装置の概略の構成を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view showing a schematic configuration of the patterning apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【0056】図5において、パターニング装置は、露光
機1、ガラスマスク2、接触ローラ5a、5b、張力ロ
ーラ6a、6b、支持ローラ7a、7b、現像槽8、エ
ッチング槽9を備えている。尚、上記図1及び図2と同
一の符号は同一のものを示す。
In FIG. 5, the patterning apparatus includes an exposing machine 1, a glass mask 2, contact rollers 5a and 5b, tension rollers 6a and 6b, support rollers 7a and 7b, a developing tank 8, and an etching tank 9. The same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2 denote the same components.

【0057】第1の実施形態のスクリーン版の構成は、
第1の実施形態の紗にたいして、メタルが用いられてい
る。メタルが用いられることにより、乳剤の現像工程の
後に、メタルのエッチング工程のためにエッチング槽9
が設けられている。メタルとしては種々の材料がある
が、SUS304・ニッケル等がよく用いられる。メタ
ル箔の厚さは10〜300μmである。
The configuration of the screen plate of the first embodiment is as follows.
Metal is used for the gauze of the first embodiment. Since the metal is used, the etching tank 9 is used for the metal etching step after the emulsion developing step.
Is provided. As the metal, there are various materials, and SUS304, nickel and the like are often used. The thickness of the metal foil is 10 to 300 μm.

【0058】(2)動作の説明 次に、本発明の第2の実施形態のパターニング手順につ
いて、図5を参照して詳細に説明する。
(2) Description of Operation Next, a patterning procedure according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

【0059】パターニング手順は、第1の実施形態と同
様に乳剤の現像まで行った後に、エッチング槽9にてメ
タルエッチングを行った。エッチング槽9では、メタル
のエッチング液、洗浄液、乳剤の剥離液、洗浄液と順に
ノズルより供給し、最後にブロワーして、エッチング工
程を終了する。
In the patterning procedure, metal etching was performed in the etching tank 9 after the development of the emulsion was performed in the same manner as in the first embodiment. In the etching tank 9, a metal etching liquid, a cleaning liquid, an emulsion stripping liquid, and a cleaning liquid are sequentially supplied from a nozzle, and finally blower is performed, thereby completing the etching process.

【0060】以上のように本発明の第2の実施形態で
は、上記のようにして形成されたスクリーン版におい
て、第1の実施形態と同様の印刷実験を行ったところ、
良好な位置精度の印刷が実現できた。
As described above, in the second embodiment of the present invention, a printing experiment similar to that of the first embodiment was performed on the screen plate formed as described above.
Printing with good positional accuracy was realized.

【0061】[第3の実施形態]次に、本発明の第3の
実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0062】(1)構成の説明 本発明の第3の実施形態では、メタルまたはプラスチッ
クから構成されるスクリーン版のパターニング装置につ
いて述べる。
(1) Description of Configuration In the third embodiment of the present invention, a patterning apparatus for a screen plate made of metal or plastic will be described.

【0063】図6は本発明の第3の実施形態のパターニ
ング装置の概略の構成を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a schematic configuration of a patterning apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【0064】図6において、パターニング装置は、ガラ
スマスク2、接触ローラ5a、5b、張力ローラ6a、
6b、支持ローラ7a、7b、レーザ照射機構10を備
えている。尚、図1及び図2と同一の符号は同一のもの
を示す。
In FIG. 6, the patterning device includes a glass mask 2, contact rollers 5a and 5b, a tension roller 6a,
6b, support rollers 7a and 7b, and a laser irradiation mechanism 10. 1 and 2 denote the same components.

【0065】第3の実施形態のスクリーン版の構成は、
第1の実施形態の紗に対して、メタルまたはプラスチッ
クが用いられている。
The configuration of the screen plate of the third embodiment is as follows.
Metal or plastic is used for the gauze of the first embodiment.

【0066】(2)動作の説明 次に、本発明の第3の実施形態のパターニング手順につ
いて、図6を参照して詳細に説明する。
(2) Description of Operation Next, a patterning procedure according to the third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

【0067】パターンは直接、レーザ照射機構10から
照射したレーザ光で描画される。レーザ照射機構10は
YAG(Yttrium-Aluminum-Garmet)やエキシマを使用
しており、材料により取捨選択すればよい。本発明で
は、メタル、例えばSUS304(ステンレス)には、
YAG第二高調波を用いた。また、プラスチック、例え
ばPET(石油化学品)にはエキシマレーザを用いた。
The pattern is drawn directly by the laser light irradiated from the laser irradiation mechanism 10. The laser irradiation mechanism 10 uses YAG (Yttrium-Aluminum-Garmet) or excimer, and may be selected according to the material. In the present invention, metal, for example, SUS304 (stainless steel)
The YAG second harmonic was used. An excimer laser was used for plastics, for example, PET (petrochemicals).

【0068】以上のように本発明の第3の実施形態で
は、上記のようにして得られたスクリーン版を用いて、
第1の実施形態と同様の印刷実験を行ったところ、良好
な位置精度の印刷ができた。
As described above, in the third embodiment of the present invention, using the screen plate obtained as described above,
When a printing experiment similar to that of the first embodiment was performed, printing was performed with good positional accuracy.

【0069】[第4の実施形態]次に、本発明の第4の
実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
[Fourth Embodiment] Next, a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0070】(1)構成の説明 本発明の第4の実施形態では、第1の実施形態で述べた
本発明のパターニング装置で単純マトリクス状に行配
線、行配線と直交するように配置された列配線と行配線
と列配線の交差部に配置された絶縁層に相当するパター
ン部を、パターニングしたスクリーン版を用いてマトリ
クス配線を形成し、表面伝導型電子放出素子を複数配置
した電子源を用いた画像表示装置の製造方法について以
下に述べる。
(1) Description of Configuration In the fourth embodiment of the present invention, row wirings are arranged in a simple matrix in the patterning apparatus of the present invention described in the first embodiment, and are arranged orthogonal to the row wirings. A pattern portion corresponding to an insulating layer disposed at an intersection of a column wiring, a row wiring, and a column wiring is formed into a matrix wiring using a patterned screen plate, and an electron source in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices are disposed. The method of manufacturing the used image display device will be described below.

【0071】図7(a)〜(e)は本発明の第4の実施
の形態のパターニング装置を用いてパターニングしたス
クリーン版により形成した画像表示装置の電子源基板の
製造工程を示した上面図である。ここでは、図7(e)
において、不図示の青板ガラス基板上に対して、電子放
出素子65を3×3個の計9個のマトリクス状に配線6
2,64と共に形成した例で示す。
FIGS. 7A to 7E are top views showing steps of manufacturing an electron source substrate of an image display device formed by a screen plate patterned using the patterning device according to the fourth embodiment of the present invention. It is. Here, FIG.
In FIG. 6, the electron emission elements 65 are arranged in a matrix of 3 × 3 in a matrix of 9 on a blue glass substrate (not shown).
This is shown in an example formed with 2, 64.

【0072】図7(e)において、61はオフセット印
刷によって形成された素子電極である。この素子電極パ
ターンは、本実施形態においては、20μmのギャップ
を隔てた長方形状の一対の電極がマトリクス状に配置さ
れている。62は印刷銀ペーストの焼成によって形成さ
れた下層印刷配線、63は印刷ガラスペーストの焼成に
よって形成された絶縁層である。64は印刷銀ペースト
の焼成によって形成された上層印刷配線である。65は
導電性薄膜であり、Pd微粒子から成る薄膜であり、一
対の素子電極62の間隔部に配線形成される。
In FIG. 7E, reference numeral 61 denotes an element electrode formed by offset printing. In this embodiment, a pair of rectangular electrodes with a gap of 20 μm are arranged in a matrix in the element electrode pattern. Reference numeral 62 denotes a lower printed wiring formed by firing the printed silver paste, and reference numeral 63 denotes an insulating layer formed by firing the printed glass paste. Reference numeral 64 denotes an upper printed wiring formed by firing the printed silver paste. Reference numeral 65 denotes a conductive thin film, which is a thin film made of Pd fine particles, and is formed with wiring at a space between the pair of device electrodes 62.

【0073】(2)動作の説明 次に、本発明の第4の実施形態の電子源基板の製造工程
について、図7及び図8を参照して詳細に説明する。
(2) Description of Operation Next, the manufacturing process of the electron source substrate according to the fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

【0074】素子電極61のパターンを、20μmのギ
ャップを隔てた長方形状の一対の電極がマトリクス状に
配置して形成する。また、印刷銀ペーストの焼成によっ
て下層印刷配線62を形成し、印刷ガラスペーストの焼
成によって絶縁層63を形成する。また、印刷銀ペース
トの焼成によって上層印刷配線64を形成する。これら
の印刷は本発明のパターニング装置と同様なロールツー
ロールの印刷機により印刷された。
The pattern of the device electrode 61 is formed by arranging a pair of rectangular electrodes separated by a matrix with a gap of 20 μm. Further, the lower printed wiring 62 is formed by firing the printed silver paste, and the insulating layer 63 is formed by firing the printed glass paste. The upper printed wiring 64 is formed by firing the printed silver paste. These prints were printed by a roll-to-roll printer similar to the patterning apparatus of the present invention.

【0075】また、Pd微粒子から成る薄膜である導電
性薄膜65を、一対の素子電極62の間隔部に配線形成
する。
Further, a conductive thin film 65, which is a thin film made of Pd fine particles, is formed in the space between the pair of device electrodes 62.

【0076】次に、図9に示したフェースプレート10
7〜109を形成する。フェースプレートにはガラス基
体107と蛍光膜108とメタルバック109等が形成
されている。図8(a)、(b)は蛍光膜108を示す
上面図である。カラーの蛍光膜の場合は、蛍光体の配列
によりブラックストライプ(図8(a))或いはブラッ
クマトリクス(図8(b))の黒色導電材71と蛍光体
72とで形成される。
Next, the face plate 10 shown in FIG.
7 to 109 are formed. A glass substrate 107, a fluorescent film 108, a metal back 109, and the like are formed on the face plate. FIGS. 8A and 8B are top views showing the fluorescent film 108. FIG. In the case of a color fluorescent film, a black conductive material 71 of a black stripe (FIG. 8A) or a black matrix (FIG. 8B) and a fluorescent material 72 are formed depending on the arrangement of the fluorescent materials.

【0077】ガラス基板に蛍光体72を塗布する方法に
は、沈殿法や印刷法が用いられる。また、蛍光膜108
の内面側には通常メタルバック109が設けられる。メ
タルバック109は蛍光膜108作成後、蛍光膜108
の内面側表面の平滑化処理を行い、その後、アルミを真
空蒸着等で堆積することで作成できる。
As a method of applying the phosphor 72 to the glass substrate, a precipitation method or a printing method is used. Also, the fluorescent film 108
Is usually provided with a metal back 109 on the inner surface side. The metal back 109 is formed after the fluorescent film 108 is formed.
Can be formed by performing a smoothing treatment on the inner side surface of the substrate and then depositing aluminum by vacuum evaporation or the like.

【0078】本例では、蛍光膜108のうちブラックラ
インペーストに黒鉛をふくむペーストを用い、ブラック
ラインを印刷した。これを乾燥させた後、ブラックライ
ン間に赤色蛍光体を印刷した。これを乾燥させた後、赤
色蛍光体に隣接するブラックライン間に絶縁蛍光体を印
刷した。同様に青色蛍光体を印刷した後、本焼成してフ
ェースプレートを形成した。
In this example, black lines were printed using a paste containing graphite as the black line paste in the fluorescent film 108. After drying, a red phosphor was printed between the black lines. After drying, an insulating phosphor was printed between black lines adjacent to the red phosphor. Similarly, after printing a blue phosphor, main firing was performed to form a face plate.

【0079】上記のように、図9に示したように形成し
たフェースプレート107、リアプレート105を支持
枠106を介して封着し、画像表示装置を構成した。画
像表示装置は、封着後、行列配線を介して素子電極間に
所望の電圧を印加して、通電フォーミング処理、及び活
性化処理を行い、内部を真空状態として、素子電極に走
査信号と画像信号を印加し、メタルバックに高電圧を印
加すれば、高輝度の画像を視認することができた。
As described above, the face plate 107 and the rear plate 105 formed as shown in FIG. 9 were sealed via the support frame 106 to constitute an image display device. After sealing, the image display device applies a desired voltage between the device electrodes via the matrix wiring, performs an energization forming process, and an activation process, makes the inside a vacuum state, and applies a scanning signal and an image to the device electrodes. When a signal was applied and a high voltage was applied to the metal back, a high-luminance image could be visually recognized.

【0080】画像表示装置に表示された画像を観察する
と、印刷位置精度に起因する色ずれ、ばらつき等は観察
されなかった。
When the image displayed on the image display device was observed, no color shift or variation due to the printing position accuracy was observed.

【0081】以上のように本発明の第4の実施形態で
は、各パターンの位置精度が高く、従って色ずれ等のな
い高品位の画像表示装置が製造できた。
As described above, in the fourth embodiment of the present invention, it is possible to manufacture a high-quality image display device in which the positional accuracy of each pattern is high, and therefore, there is no color shift or the like.

【0082】[0082]

【発明の効果】以上説明したように本発明のスクリーン
版のパターニング方法、本発明のスクリーン版のパター
ニング装置によれば、搬送方向両端がロールに巻き付け
られたスクリーン版に張力を付与して搬送を行い、スク
リーン版にパターンを露光し現像を行うため、高精度且
つ大面積での印刷に対応したスクリーン版を形成するこ
とができる。
As described above, according to the method for patterning a screen plate of the present invention and the apparatus for patterning a screen plate of the present invention, transport is performed by applying tension to the screen plate wound at both ends in the transport direction. Then, since the pattern is exposed to the screen plate and developed, a screen plate capable of printing with high accuracy and large area can be formed.

【0083】また、本発明のマトリクス基板の製造方法
によれば、本発明のスクリーン版のパターニング方法、
スクリーン版のパターニング装置を用いることにより、
位置精度が高く色ずれ等のないマトリクス基板を製造す
ることができる。
According to the method of manufacturing a matrix substrate of the present invention, the method of patterning a screen plate of the present invention
By using a screen plate patterning device,
A matrix substrate with high positional accuracy and no color shift can be manufactured.

【0084】また、本発明の蛍光体を有する基板の製造
方法によれば、本発明のスクリーン版のパターニング方
法、スクリーン版のパターニング装置を用いることによ
り、位置精度が高く色ずれ等のない蛍光膜を有する基板
を製造することができる。
Further, according to the method for manufacturing a substrate having a phosphor of the present invention, by using the method for patterning a screen plate and the patterning apparatus for a screen plate of the present invention, a phosphor film having high positional accuracy and no color shift is obtained. Can be manufactured.

【0085】また、本発明の画像表示装置の製造方法に
よれば、本発明のマトリクス基板の製造方法、蛍光膜を
有する基板の製造方法を用いることにより、各パターン
の位置精度が高く色ずれ等のない高品位の画像表示装置
を製造することができる。
Further, according to the method of manufacturing an image display device of the present invention, by using the method of manufacturing a matrix substrate and the method of manufacturing a substrate having a fluorescent film of the present invention, the positional accuracy of each pattern is high and color misregistration is achieved. It is possible to manufacture a high-quality image display device without any problem.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態のパターニング装置の
構成例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration example of a patterning apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態のパターニング装置の
構成例を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a patterning apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態の印刷テストパターン
を示す上面図である。
FIG. 3 is a top view illustrating a print test pattern according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態と比較例との位置精度
の評価結果を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing evaluation results of position accuracy between the first embodiment of the present invention and a comparative example.

【図5】本発明の第2の実施形態のパターニング装置の
構成例を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a patterning apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施形態のパターニング装置の
構成例を示す概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a patterning apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施形態の製造装置を用いて形
成したリアプレートの製造工程を示す上面図である。
FIG. 7 is a top view illustrating a manufacturing process of a rear plate formed using the manufacturing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第4の実施形態の蛍光膜を示す上面図
である。
FIG. 8 is a top view showing a fluorescent film according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明及び従来例の表面伝導型電子放出素子を
用いた画像表示装置の斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view of an image display apparatus using surface conduction electron-emitting devices of the present invention and a conventional example.

【図10】従来例のスクリーン印刷機の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a conventional screen printing machine.

【図11】従来例のスクリーン印刷機の概略図である。FIG. 11 is a schematic view of a conventional screen printing machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 露光機 2 ガラスマスク 3 スクリーン版 4 パターニング領域 5a、5b 接触ローラ 6a、6b 張力ローラ 7a、7b 接触ローラ 8 現像槽 9 エッチング槽 10 レーザ照射機構 62 下層印刷配線 63 絶縁層 64 上層印刷配線 71 黒色導電材 72 蛍光体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Exposure machine 2 Glass mask 3 Screen plate 4 Patterning area 5a, 5b Contact roller 6a, 6b Tension roller 7a, 7b Contact roller 8 Developing tank 9 Etching tank 10 Laser irradiation mechanism 62 Lower printed wiring 63 Insulating layer 64 Upper printed wiring 71 Black Conductive material 72 Phosphor

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スクリーン版のパターニングにおいて、
前記スクリーン版の対向する2辺をそれぞれロールに巻
き付けるロール・ツー・ロール構成によって前記スクリ
ーン版に張力を与えた状態で少なくも一種類以上のパタ
ーンをパターニングすることを特徴とするスクリーン版
のパターニング方法。
1. In patterning a screen plate,
A patterning method for a screen plate, comprising patterning at least one or more types of patterns while tension is applied to the screen plate by a roll-to-roll configuration in which two opposing sides of the screen plate are wound around rolls. .
【請求項2】 前記スクリーン版が非弾性スクリーン版
であることを特徴とする請求項1に記載のパターニング
方法。
2. The patterning method according to claim 1, wherein the screen plate is a non-elastic screen plate.
【請求項3】 紗と乳剤から構成されるスクリーン版の
パターニング装置において、 対向する2辺のロールに前記スクリーン版が巻き付けら
れるロール・ツー・ロール構成により前記スクリーン版
に張力が与えられる手段を有し、前記張力を印加した状
態で前記ロールの回転により移動させることにより少な
くも一種類以上のパターンを露光・現像できることを特
徴としたパターニング装置。
3. An apparatus for patterning a screen plate comprising a gauze and an emulsion, comprising means for applying tension to the screen plate in a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls. A patterning apparatus characterized in that at least one or more types of patterns can be exposed and developed by moving the roll by rotating the roll while applying the tension.
【請求項4】 メタルと乳剤から構成されるスクリーン
版のパターニング装置において、 対向する2辺のロールに前記スクリーン版が巻き付けら
れるロール・ツー・ロール構成により前記スクリーン版
に張力が与えられる手段を有し、前記張力を印加した状
態で前記ロールの回転により移動させることにより少な
くも一種類以上のパターンを露光・現像・エッチングで
きることを特徴としたパターニング装置。
4. A patterning apparatus for a screen plate comprising a metal and an emulsion, comprising means for applying tension to the screen plate in a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls. A patterning apparatus characterized in that at least one or more types of patterns can be exposed, developed, and etched by moving by rotating the roll while applying the tension.
【請求項5】 メタルもしくはプラスチックから構成さ
れるスクリーン版のパターニング装置において、 対向する2辺のロールにスクリーン版が巻き付けられる
ロール・ツー・ロール構成により前記スクリーン版に張
力が与えられる手段を有し、前記張力を印加した状態で
前記ロールの回転により移動させることにより少なくも
一種類以上のパターンをレーザーでエッチングすること
を特徴としたパターニング装置。
5. A patterning apparatus for a screen plate made of metal or plastic, comprising means for applying tension to the screen plate by a roll-to-roll configuration in which the screen plate is wound around two opposite rolls. A patterning apparatus characterized in that at least one type of pattern is etched by a laser by moving the roll by rotating the roll while applying the tension.
【請求項6】 請求項1又は2に記載のパターニング方
法により形成された前記スクリーン版の複数のパターン
部が第一の配線、該第一の配線と直交する第二の配線、
前記第一の配線と前記第二の配線の交差部に少なくも配
置される絶縁層から構成され、前記スクリーン版を用い
て印刷されるマトリクス基板の製造方法。
6. A plurality of pattern portions of the screen plate formed by the patterning method according to claim 1 or 2, wherein the plurality of pattern portions are a first wiring, a second wiring orthogonal to the first wiring,
A method for manufacturing a matrix substrate, comprising: an insulating layer disposed at least at an intersection of the first wiring and the second wiring, and printed using the screen plate.
【請求項7】 請求項1又は2に記載のパターニング方
法により形成された版の複数のパターン部が3原色から
なる蛍光体およびブラックラインから構成され、該版を
用いて印刷される蛍光膜を有する基板の製造方法。
7. A plurality of pattern portions of a plate formed by the patterning method according to claim 1 are composed of phosphors of three primary colors and black lines, and a phosphor film printed using the plate is provided. Of manufacturing a substrate having the same.
【請求項8】 請求項6又は,7に記載のマトリクス基
板の製造方法により製造されたおいて、を用いて製造さ
れたことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
8. A method of manufacturing an image display device, wherein the method is performed by using the method of manufacturing a matrix substrate according to claim 6 or 7.
【請求項9】 スクリーン版にパターンを形成するスク
リーン版のパターニング方法において、 搬送方向両端がロールに巻き付けられた前記スクリーン
版を引き回して搬送する搬送工程と、前記スクリーン版
に張力を付与する張力付与工程と、該張力付与工程によ
り張力が付与されると共に前記搬送工程により搬送され
る前記スクリーン版にパターンを露光する露光工程と、
該露光工程により露光された前記スクリーン版に現像を
行う現像工程とを有することを特徴とするスクリーン版
のパターニング方法。
9. A screen plate patterning method for forming a pattern on a screen plate, comprising: a conveying step of drawing and conveying the screen plate wound at both ends in the conveying direction, and applying tension to the screen plate. Step, and an exposure step of exposing a pattern on the screen plate conveyed by the conveying step while applying tension by the tension applying step,
A step of developing the screen plate exposed in the exposing step.
【請求項10】 前記スクリーン版は、紗及び乳剤を有
して構成されるスクリーン版であることを特徴とする請
求項9に記載のスクリーン版のパターニング方法。
10. The method according to claim 9, wherein the screen plate is a screen plate having gauze and emulsion.
【請求項11】 請求項9に記載されたスクリーン版の
パターニング方法において、前記現像工程により現像さ
れた前記スクリーン版のエッチングを行うエッチング工
程とを有することを特徴とするスクリーン版のパターニ
ング方法。
11. The method for patterning a screen plate according to claim 9, further comprising an etching step of etching the screen plate developed in the developing step.
【請求項12】 スクリーン版にパターンを形成するス
クリーン版のパターニング方法において、 搬送方向両端がロールに巻き付けられた前記スクリーン
版を引き回して搬送する搬送工程と、前記スクリーン版
に張力を付与する張力付与工程と、該張力付与工程によ
り張力が付与されると共に前記搬送工程により搬送され
る前記スクリーン版にレーザを照射してパターンをエッ
チングするレーザ照射工程とを有することを特徴とする
スクリーン版のパターニング方法。
12. A screen plate patterning method for forming a pattern on a screen plate, comprising: a conveying step of drawing and conveying the screen plate wound on rolls at both ends in the conveying direction; and applying a tension to the screen plate. And a laser irradiation step of irradiating a laser beam to the screen plate conveyed in the conveying step while applying tension in the tension applying step and etching a pattern. .
【請求項13】 前記スクリーン版は、メタル或いはプ
ラスチックから構成される非弾性スクリーン版であるこ
とを特徴とする請求項12に記載のスクリーン版のパタ
ーニング方法。
13. The method according to claim 12, wherein the screen plate is an inelastic screen plate made of metal or plastic.
【請求項14】 スクリーン版にパターンを形成するス
クリーン版のパターニング装置において、 搬送方向両端がロールに巻き付けられた前記スクリーン
版を引き回して搬送する搬送手段と、前記スクリーン版
に張力を付与する張力付与手段と、該張力付与手段によ
り張力が付与されると共に前記搬送手段により搬送され
る前記スクリーン版にパターンを露光する露光手段と、
該露光手段により露光された前記スクリーン版に現像を
行う現像手段とを備えることを特徴とするスクリーン版
のパターニング装置。
14. A screen plate patterning apparatus for forming a pattern on a screen plate, a conveying means for drawing and conveying the screen plate wound at both ends in a conveying direction, and a tension applying device for applying tension to the screen plate. Means, and exposure means for exposing a pattern on the screen plate conveyed by the conveying means while applying tension by the tension applying means,
Developing means for developing the screen plate exposed by the exposure means.
【請求項15】 前記スクリーン版は、紗及び乳剤を有
して構成されるスクリーン版であることを特徴とする請
求項14に記載のスクリーン版のパターニング装置。
15. The apparatus according to claim 14, wherein the screen plate is a screen plate including gauze and emulsion.
【請求項16】 請求項14に記載されたスクリーン版
のパターニング装置において、前記現像手段により現像
された前記スクリーン版のエッチングを行うエッチング
手段とを備えることを特徴とするスクリーン版のパター
ニング装置。
16. The apparatus for patterning a screen plate according to claim 14, further comprising an etching unit for etching the screen plate developed by the developing unit.
【請求項17】 前記スクリーン版は、メタル及び乳剤
を有して構成される非弾性スクリーン版であることを特
徴とする請求項14に記載のスクリーン版のパターニン
グ装置。
17. The apparatus according to claim 14, wherein the screen plate is a non-elastic screen plate having a metal and an emulsion.
【請求項18】 スクリーン版にパターンを形成するス
クリーン版のパターニング装置において、 搬送方向両端がロールに巻き付けられた前記スクリーン
版を引き回して搬送する搬送手段と、前記スクリーン版
に張力を付与する張力付与手段と、該張力付与手段によ
り張力が付与されると共に前記搬送手段により搬送され
る前記スクリーン版にレーザを照射してパターンをエッ
チングするレーザ照射手段とを備えることを特徴とする
スクリーン版のパターニング装置。
18. A screen plate patterning apparatus for forming a pattern on a screen plate, comprising: conveying means for winding and conveying the screen plate wound at both ends in the conveying direction, and applying tension to the screen plate. And a laser irradiation means for irradiating a laser beam to the screen plate conveyed by the conveying means while applying tension by the tension applying means and etching a pattern. .
【請求項19】 前記スクリーン版は、メタル或いはプ
ラスチックから構成される非弾性スクリーン版であるこ
とを特徴とする請求項18に記載のスクリーン版のパタ
ーニング装置。
19. The apparatus according to claim 18, wherein the screen plate is an inelastic screen plate made of metal or plastic.
【請求項20】 請求項1,2,6乃至13の何れかに
記載のパターニング方法により形成された版の複数のパ
ターン部を第一の配線、該第一の配線と直交する第二の
配線、少なくとも前記第一の配線と前記第二の配線の交
差部に配置される絶縁層から構成し、該版を用いて基板
に印刷を行うことを特徴とするマトリクス基板の製造方
法。
20. A plurality of pattern portions of the plate formed by the patterning method according to claim 1, wherein the plurality of pattern portions are a first wiring and a second wiring orthogonal to the first wiring. A method of manufacturing a matrix substrate, comprising: an insulating layer disposed at least at an intersection of the first wiring and the second wiring; and printing the substrate using the plate.
【請求項21】 請求項3乃至5及び14乃至19の何
れか1項に記載のパターニング装置により形成された版
の複数のパターン部を第一の配線、該第一の配線と直交
する第二の配線、少なくとも前記第一の配線と前記第二
の配線の交差部に配置される絶縁層から構成し、該版を
用いて基板に印刷を行うことを特徴とするマトリクス基
板の製造方法。
21. A plurality of pattern portions of a plate formed by the patterning device according to claim 3, wherein the plurality of pattern portions are formed by a first wiring and a second wiring orthogonal to the first wiring. A method of manufacturing a matrix substrate, comprising: forming a wiring, at least an insulating layer disposed at an intersection of the first wiring and the second wiring, and performing printing on the substrate using the plate.
【請求項22】 請求項20又は21に記載のマトリク
ス基板の製造方法を用いて画像表示装置を製造すること
を特徴とする画像表示装置の製造方法。
22. A method of manufacturing an image display device, comprising manufacturing an image display device by using the method of manufacturing a matrix substrate according to claim 20.
JP4717199A 1999-02-24 1999-02-24 Patterning method and patterning device of screen board Pending JP2000251700A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4717199A JP2000251700A (en) 1999-02-24 1999-02-24 Patterning method and patterning device of screen board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4717199A JP2000251700A (en) 1999-02-24 1999-02-24 Patterning method and patterning device of screen board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000251700A true JP2000251700A (en) 2000-09-14

Family

ID=12767630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4717199A Pending JP2000251700A (en) 1999-02-24 1999-02-24 Patterning method and patterning device of screen board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000251700A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117660962A (en) * 2024-01-31 2024-03-08 大连保税区金宝至电子有限公司 Etching apparatus and etching method for etching small-sized element
CN117660962B (en) * 2024-01-31 2024-05-31 大连保税区金宝至电子有限公司 Etching apparatus and etching method for etching small-sized element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117660962A (en) * 2024-01-31 2024-03-08 大连保税区金宝至电子有限公司 Etching apparatus and etching method for etching small-sized element
CN117660962B (en) * 2024-01-31 2024-05-31 大连保税区金宝至电子有限公司 Etching apparatus and etching method for etching small-sized element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7807334B2 (en) Substrate having fine line, electron source and image display apparatus
KR100209045B1 (en) An image forming apparatus and method for manufacturing the same
JP2000251700A (en) Patterning method and patterning device of screen board
US6902455B2 (en) Method of manufacturing member pattern, electron source, and image display device
JP2000071418A (en) Method and device for screen printing
JP3260592B2 (en) Method of manufacturing image forming apparatus and image forming apparatus manufactured by this method
US20070182313A1 (en) Method of manufacturing image display unit, and image display unit
JPH11105447A (en) Screen printing plate and its utility
JPH1158680A (en) Screen printing machine and manufacture of image forming device
JPH11320816A (en) Method for offset printing, and image displaying apparatus by the method
JP2001155626A (en) Method for producing display substrate
JPH11188835A (en) Printing machine and manufacture of image forming device
JP2000168043A (en) Screen printer, method for screen printing and manufacture of image forming apparatus
JP5590830B2 (en) Luminescent substrate and image display apparatus using the same
JPH09207306A (en) Method and machine for offset printing and image forming unit
JPH11188838A (en) Manufacture of screen printer and image forming device
JP2000251740A (en) Substrate for screen printing device, screen printing method, and image display device and its manufacture
JPH09187913A (en) Printer and production of image display device using the same
JPH09300586A (en) Offset printing press, blanket used therefor, offset printing method using them and manufacture of image-forming device using them
JP2000238242A (en) Alignment mark and image forming device using mark
JPH11245368A (en) Manufacture of printer and image forming device
JP2000335073A (en) Method for offset printing and manufacture of image forming apparatus
JPH11309836A (en) Offset printing method and image forming apparatus employing the method
JPH1167081A (en) Manufacture of flat image forming device, and flat image forming device
JP2000335125A (en) Intaglio plate for printing and offset-printing method and image forming device using the same