JPH09187913A - Printer and production of image display device using the same - Google Patents

Printer and production of image display device using the same

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JPH09187913A
JPH09187913A JP231796A JP231796A JPH09187913A JP H09187913 A JPH09187913 A JP H09187913A JP 231796 A JP231796 A JP 231796A JP 231796 A JP231796 A JP 231796A JP H09187913 A JPH09187913 A JP H09187913A
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JP
Japan
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relative position
blanket cylinder
plate
surface plate
position detection
Prior art date
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Pending
Application number
JP231796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Yanagisawa
芳浩 柳沢
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPH09187913A publication Critical patent/JPH09187913A/en
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  • Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance printing accuracy by providing a relative position detection means to a blanket cylinder and providing relative position-to-be-detected means to a work surface plate and a plate surface plate and correcting the axial direction of the blanket cylinder on the basis of the relative position detected by both of them. SOLUTION: An ink distributing stand 1, a plate surface plate 2 and a work surface plate 3 are arranged on a main body frame 8 in one row and rack gears 9a, 9b are provided on both sides of this row. Conductive processing parts 17a, 17b being relative position-to-be-detected means are respectively provided on both sides of the direction vertical to the moving direction of the blanket cylinder 11 on an intaglio 5 and a work 6 and static capacity monitor probes 18a, 18b being relative position detection means are provided on both sides of a place where the blanket 15 of the blanket cylinder 11 is mounted so as to come into contact with the conductive processing parts 17a, 17b at a time of the movement of the blanket cylinder 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷装置に関し、
特に、画像表示装置の素子基板の印刷を高精度に行う印
刷装置に関する。
The present invention relates to a printing apparatus,
In particular, the present invention relates to a printing device for printing an element substrate of an image display device with high accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、オフセット印刷は、グラフィ
ックス印刷用として主に人間の視覚に感知されるパター
ンの印刷に多く用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, offset printing has been widely used for printing graphics, mainly for printing patterns that are visually perceptible to human eyes.

【0003】また、近年、電子機器への応用として記録
用サーマルヘッドの電極や液晶表示装置のカラーフィル
ター等を作製するための技術開発がなされている。
Further, in recent years, technical development has been made for producing electrodes of recording thermal heads, color filters of liquid crystal display devices, and the like for application to electronic equipment.

【0004】図14は、従来の平台校正機型オフセット
印刷装置の一構成例を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a structural example of a conventional flatbed proofing machine type offset printing apparatus.

【0005】本従来例は図14に示すように、インキ1
007を展開するインキローラ1004及びインキ練り
台1001と、凹版1005を固定する版定盤1002
と、被印刷物であるワーク1006を固定するワーク定
盤1003と、ブランケット1015が巻かれた円筒状
のブランケット胴1011と、ブランケット胴1011
の両端にそれぞれ設けられたピニオンギア1010a,
1010bと、ピニオンギア1010a,1010bの
それぞれと噛み合うように本体フレーム1008に設け
られたラックギア1009a,1009bと、ブランケ
ット胴1011の軸の両端を固定するキャリッジ101
2a,1012bと、本体フレーム1008上において
ブランケット胴1011を移動させるためにキャリッジ
1012a,1012bにそれぞれ接続されたサイドベ
アリング1013a,1013bと、本体フレーム10
08に設けられサイドベアリング1013a,1013
bが回転しながら移動するためのレール1014a,1
014bとから構成されており、インキ練り台100
1,版定盤1002及びワーク定盤1003は、本体フ
レーム1008上に一列に並べられ、この列の両側にラ
ックギア1009a,1009bが設けられている。
In this conventional example, as shown in FIG.
An ink roller 1004 and an ink kneading table 1001 for developing 007 and a plate surface plate 1002 for fixing an intaglio plate 1005.
A work surface plate 1003 for fixing a work 1006 as a printing target, a cylindrical blanket cylinder 1011 around which a blanket 1015 is wound, and a blanket cylinder 1011.
Pinion gears 1010a provided on both ends of the
1010b, rack gears 1009a and 1009b provided on the main body frame 1008 so as to mesh with the pinion gears 1010a and 1010b, and a carriage 101 that fixes both ends of the axis of the blanket cylinder 1011.
2a and 1012b, side bearings 1013a and 1013b respectively connected to the carriages 1012a and 1012b for moving the blanket cylinder 1011 on the body frame 1008, and the body frame 10
08 side bearings 1013a, 1013
rails 1014a, 1 for moving b while rotating
014b and the ink mixing stand 100
1, the plate surface plate 1002 and the work surface plate 1003 are arranged in a line on the main body frame 1008, and rack gears 1009a and 1009b are provided on both sides of this line.

【0006】上記のように構成された平台校正機型オフ
セット印刷装置においては、本体フレーム1008下部
から延びたクランクアーム(不図示)のクランク動作に
よって、キャリッジ1012a,1012bが移動し、
ブランケット胴1011が、インキ練り台1001,凹
版1005及びワーク1006の上を順次回転慴動す
る。
In the flatbed proofing machine type offset printing apparatus configured as described above, the carriages 1012a and 1012b are moved by the crank operation of the crank arm (not shown) extending from the lower portion of the main body frame 1008,
The blanket cylinder 1011 rotates and slides on the ink mixing table 1001, the intaglio plate 1005, and the work 1006 in sequence.

【0007】以下に、上述した平台校正機型オフセット
印刷装置におけるオフセット印刷工程について説明す
る。
The offset printing process in the flatbed proofing machine type offset printing apparatus described above will be described below.

【0008】図15は、図14に示した平台校正機型オ
フセット印刷装置におけるオフセット印刷工程を示す図
である。
FIG. 15 is a view showing an offset printing process in the flatbed proofing machine type offset printing apparatus shown in FIG.

【0009】まず、インキ練り台1001上において、
インキローラ1004によってインキ1007が練ら
れ、凹版1005上に転移される。
First, on the ink mixing stand 1001,
The ink 1007 is kneaded by the ink roller 1004 and transferred onto the intaglio plate 1005.

【0010】次に、ブランケット胴1011が凹版10
05上に移動し、凹版1005上のインキがブランケッ
ト胴1011に巻かれたブランケット1015に転移す
る。ここで、ブランケット胴1011の移動方向前方に
はドクターブレード1016が設けられており、凹版1
005上の凹部に充填されているもの以外のインキがか
きとられる(図15(a))。
Next, the blanket cylinder 1011 is intaglio 10
05, the ink on the intaglio 1005 is transferred to the blanket 1015 wound on the blanket cylinder 1011. Here, a doctor blade 1016 is provided in front of the moving direction of the blanket cylinder 1011.
The ink other than the ink filled in the concave portion on 005 is scraped off (FIG. 15A).

【0011】その後、ブランケット胴1011がワーク
1006上に移動し、凹版1005のパターンに従って
ブランケット1011に転移したインキがワーク100
6に転移する(図15(b))。
Thereafter, the blanket cylinder 1011 moves onto the work 1006, and the ink transferred to the blanket 1011 according to the pattern of the intaglio 1005 is transferred to the work 100.
6 (Fig. 15 (b)).

【0012】上記工程が繰返し行われることにより(図
15(c),(d))、印刷工程が終了する。
By repeating the above steps (FIGS. 15C and 15D), the printing step is completed.

【0013】ここで、印刷工程に用いられるインキ10
07においては、作成するパターンの機能によって適宜
選択することができる。即ち、記録用サーマルヘッド等
の電極には主にAuレジネートペーストと呼ばれる有機
Au金属から成るインキが用られ、また、カラーフィル
ターであればR、G、B各色の顔料を分散したインキや
有機色素を含んだインキ等が用いられる。
Here, the ink 10 used in the printing process
In 07, it can be appropriately selected depending on the function of the pattern to be created. That is, an ink mainly made of an organic Au metal called Au resinate paste is used for the electrodes of a recording thermal head or the like, and in the case of a color filter, an ink or an organic dye in which pigments of R, G and B colors are dispersed is used. Ink or the like containing is used.

【0014】また、従来より、平面型表示装置を実現す
る表示技術としては、液晶表示装置(LCD)、プラズ
マディスプレイ(PDP)、低速電子線蛍光表示管(V
FD)、マルチ電子源フラットCRT等の平面型表示装
置技術がある。
Conventionally, as a display technology for realizing a flat panel display device, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display (PDP), a low speed electron beam fluorescent display tube (V).
There are flat panel display technologies such as FD) and multi-electron source flat CRT.

【0015】上述した表示技術の一例として、電子源を
用いた平面型表示装置について説明する。
As an example of the above-mentioned display technique, a flat display device using an electron source will be described.

【0016】従来より、簡単な構造で電子の放出が得ら
れる素子として、M.I.Elinson、Radio
Eng. Electron Phys.、10、
(1965)等によって開示されている表面伝導形電子
放出素子が知られている。
Conventionally, as an element which can emit electrons with a simple structure, M. I. Elinson, Radio
Eng. Electron Phys. 10,
A surface conduction electron-emitting device disclosed by (1965) and the like is known.

【0017】これは、基板状に形成された小面積の薄膜
に、膜面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生
ずる現象を利用するものである。
This utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current is passed through a thin film having a small area formed on a substrate in parallel to the film surface.

【0018】この表面伝導形電子放出素子としては、前
記エリンソン等によるSnO2薄膜を用いたもの、Au
薄膜によるもの[G.Dittmer:”Thin S
olid Films”、9、317(1972)]、
In203/SnO2薄膜によるもの[M.Hartw
ell and C.G.Fonstad:”IEEE
Trans.ED Conf.”、519(197
5)]、カーボン薄膜によるもの[荒木久 他:真空、
第26巻、第1号、22頁(1983)]等が報告され
ている。
As the surface conduction electron-emitting device, one using the SnO 2 thin film by Erinson et al.
Thin film [G. Dittmer: "Thin S
old Films ", 9, 317 (1972)],
In203 / SnO 2 thin film [M. Hartw
ell and C.I. G. FIG. Fonstad: "IEEE
Trans. ED Conf. 519 (197
5)], using a carbon thin film [Hisashi Araki et al .: Vacuum,
26, No. 1, p. 22 (1983)].

【0019】上記の表面伝導型電子放出素子の典型的な
素子構成としてM.ハートウェルの素子構成について説
明する。
As a typical device configuration of the above-mentioned surface conduction electron-emitting device, M. The element structure of Hartwell will be described.

【0020】図16は、表面伝導型電子放出素子の一構
成例を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a structural example of a surface conduction electron-emitting device.

【0021】図16に示した素子においては、絶縁性基
板401上に電子放出部形成のための薄膜402〜40
4が形成され、薄膜404上に電子放出部405が形成
されている。
In the device shown in FIG. 16, thin films 402 to 40 for forming electron emission portions are formed on an insulating substrate 401.
4 is formed, and the electron emitting portion 405 is formed on the thin film 404.

【0022】従来、図16に示したような表面伝導型電
子放出素子においては、電子放出を行う前に予め薄膜4
02〜404に対して通電フォーミングと呼ばれる通電
処理が行われ、電子放出部405が形成されるのが一般
的であった。ここで、フォーミングとは、薄膜402,
403の両端に電圧を印加通電し、薄膜404を局所的
に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的に高抵抗な状
態にした電子放出部405を形成することである。尚、
電子放出部405においては、薄膜404の一部に亀裂
が発生しその亀裂付近から電子放出が行われる場合もあ
る。
Conventionally, in the surface conduction electron-emitting device as shown in FIG. 16, the thin film 4 is previously formed before electron emission.
It is general that the electron-emitting portion 405 is formed by performing an energization process called energization forming on 02 to 404. Here, forming means the thin film 402,
A voltage is applied across both ends of 403 to locally destroy, deform or alter the thin film 404 to form an electron emitting portion 405 in an electrically high resistance state. still,
In the electron emission portion 405, a crack may occur in a part of the thin film 404 and electrons may be emitted from the vicinity of the crack.

【0023】また、本発明者等は、USP5,066,
883において、素子電極間に電子を放出せしめる微粒
子を分散配置した新規な表面伝導形電子放出素子を技術
開示した。この電子放出素子は図16に示した従来の表
面伝導形電子放出素子に対し、電子放出位置を精密に制
御でき、より高精密に電子放出素子を配列する事ができ
る。
The inventors of the present invention have also reported that USP 5,066,
883, technically disclosed a novel surface conduction electron-emitting device in which fine particles for emitting electrons are dispersedly arranged between device electrodes. Compared with the conventional surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 16, this electron-emitting device can precisely control the electron-emitting position and can arrange the electron-emitting devices with higher precision.

【0024】図17は、表面伝導型電子放出素子の他の
構成例を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing another configuration example of the surface conduction electron-emitting device.

【0025】図17に示した素子においては、絶縁性基
板501上に金属膜よりなる素子電極502及び503
が合い対向して所定の間隔を有して配設されており、素
子電極502及び503に渡って微粒子からなる薄膜5
04が配置され、さらに、薄膜504内には導電性微粒
子からなる電子放出部505が設けられている。
In the device shown in FIG. 17, device electrodes 502 and 503 made of a metal film are formed on an insulating substrate 501.
Are opposed to each other and are arranged at a predetermined interval, and the thin film 5 made of fine particles extends over the device electrodes 502 and 503.
04 is arranged, and further, an electron emitting portion 505 made of conductive fine particles is provided in the thin film 504.

【0026】また、素子電極502と素子電極503と
の間隔においては、0.01〜100μm、電子放出部
505のシート抵抗においては、1×103〜1×109
Ω/□が適当である。
The distance between the device electrodes 502 and 503 is 0.01 to 100 μm, and the sheet resistance of the electron emission portion 505 is 1 × 10 3 to 1 × 10 9.
Ω / □ is appropriate.

【0027】以上説明した表面伝導形電子放出素子を電
子放出素子として用いる際には、電子ビームを飛翔させ
るために素子を真空容器内に配置する必要がある。素子
を真空容器内に配置し、素子の略垂直上にフェースプレ
ートを設けて電子放出装置とし、電極間に電圧を印加し
て、電子放出部から得られた電子線を蛍光体に照射する
ことによって蛍光体を発光させ、発光素子や平面形表示
装置として用いることができる。
When the surface conduction electron-emitting device described above is used as an electron-emitting device, it is necessary to arrange the device in a vacuum container in order to fly an electron beam. An element is placed in a vacuum container, a face plate is provided almost vertically above the element to form an electron emitting device, and a voltage is applied between electrodes to irradiate the phosphor with an electron beam obtained from the electron emitting portion. The phosphor can emit light to be used as a light emitting element or a flat display device.

【0028】以上の平面型表示装置の素子電極において
は、微粒子電子放出材からなる薄膜とのステップカバレ
ッジを考慮して、より薄い膜厚の素子電極が望まれる。
また、平面型表示装置の大画面化に対応するために、大
面積基板対応のプロセス導入が必要である。このため、
より簡易な方法で精密かつ大面積化を実現する薄膜素子
電極の製造方法としてオフセット印刷機を用いた方法が
ある。
In the element electrode of the above flat panel display device, an element electrode having a thinner film thickness is desired in consideration of the step coverage with the thin film made of the fine particle electron emitting material.
Further, in order to cope with the large screen of the flat panel display device, it is necessary to introduce a process for a large area substrate. For this reason,
There is a method using an offset printing machine as a method of manufacturing a thin film element electrode which realizes a precise and large area by a simpler method.

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図14
に示したような従来の平台校正機型オフセット印刷装置
を用いて平面型表示装置の素子電極を製造するには以下
の様な問題点がある。
However, FIG.
There are the following problems in manufacturing the element electrodes of the flat panel display device using the conventional flatbed proofing machine type offset printing device as shown in FIG.

【0030】ブランケット胴1011の移動において
は、ブランケット胴1011の軸の両端を固定している
キャリッジ1012a,1012bに接続されたサイド
ベアリング1013a,1013bが本体フレーム10
08に設けられたレール1014a,1014bを沿う
ように移動することにより行われるため、印刷時におけ
るブランケット胴1011の直進性は、印刷装置本体の
寸法精度の影響を受ける。
When the blanket cylinder 1011 is moved, the side bearings 1013a and 1013b connected to the carriages 1012a and 1012b fixing both ends of the axis of the blanket cylinder 1011 are moved to the main frame 10.
Since it is performed by moving along the rails 1014a and 1014b provided on 08, the straightness of the blanket cylinder 1011 during printing is affected by the dimensional accuracy of the printing apparatus main body.

【0031】ここで、印刷に高い精度が要求される印刷
装置においては、印刷装置本体の寸法精度を向上させる
ため、一般に本体フレーム1008が鋳物により作製さ
れているが、鋳物により作製された本体フレーム100
8においては、自重により部分的に沈み込みが生じてし
まい、版定盤1002あるいはワーク定盤1003の水
平度の狂いや印刷装置構成品の寸法の狂いが発生しやす
くなってしまう。
Here, in a printing apparatus that requires high precision in printing, in order to improve the dimensional accuracy of the printing apparatus main body, the main body frame 1008 is generally made of casting, but the main body frame made of casting is used. 100
In No. 8, a subsidence occurs partially due to its own weight, and the plate surface plate 1002 or the work surface plate 1003 is liable to be out of alignment and the components of the printing apparatus are out of size.

【0032】上記のような水平度及び寸法の狂いは、印
刷時においてブランケット胴1011の軸方向のドリフ
トの原因となり、係るドリフトを伴った印刷は、結果と
して印刷パターンの位置精度が悪化してしまう。さら
に、印刷パターンの位置精度の悪化は、平面型表示装置
の素子電極を作製する際、取り出し配線や微粒子電子放
出材からなる薄膜とのアライメントを悪くし、画素欠陥
やクロストークの一因となる虞れがある。
The above-mentioned deviation in the levelness and dimension causes a drift in the axial direction of the blanket cylinder 1011 at the time of printing, and the printing accompanied by such drift consequently deteriorates the positional accuracy of the print pattern. . Further, the deterioration of the positional accuracy of the print pattern deteriorates the alignment with the extraction wiring and the thin film made of the particulate electron-emitting material when manufacturing the element electrode of the flat panel display device, which causes pixel defects and crosstalk. There is fear.

【0033】上述したアライメントの悪化においては、
設計マージンを大きくすることによって逃れることがで
きないほど高精度な画素を形成する際、特に問題であっ
た。
In the deterioration of the alignment described above,
This has been a particular problem when forming pixels with high precision that cannot be escaped by increasing the design margin.

【0034】本発明は、上述したような従来の技術が有
する問題点に鑑みてなされたものであって、オフセット
印刷の印刷精度を向上させることができる印刷装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems of the conventional technique, and an object of the present invention is to provide a printing apparatus capable of improving the printing accuracy of offset printing.

【0035】[0035]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、ワークを固定するためのワーク定盤と、凹
版を固定するための版定盤と、前記ワーク及び前記凹版
上に付着させるインキが練られるインキ練り台と、前記
ワーク定盤、版定盤及びインキ練り台上を回転移動する
ブランケット胴と、該ブランケット胴の周囲に巻かれ、
前記ブランケットの回転移動により前記インキ練り台上
のインキを前記ワーク及び前記版定盤上に付着させるブ
ランケットとを有してなる印刷装置において、前記ブラ
ンケット胴は、前記ブランケットの両側に前記ワーク定
盤及び前記版定盤との相対位置を検出するために軸方向
に巻かれた相対位置検出手段を具備し、前記ワーク定盤
及び前記版定盤は、前記ブランケット胴が移動する際に
前記相対位置検出手段と接する位置に前記ブランケット
との相対位置が検出されるための相対位置被検出手段を
具備し、前記相対位置検出手段と前記相対位置被検出手
段とにより検出された相対位置に基づいて前記ブランケ
ット胴の軸方向の向きを補正するドリフト補正手段を有
することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a work surface plate for fixing a work, a plate surface plate for fixing an intaglio plate, and a work plate and an intaglio plate attached to the work plate. An ink kneading table in which the ink to be kneaded, a work surface plate, a plate surface plate, and a blanket cylinder rotating and moving on the ink mixing table, and wrapped around the blanket cylinder,
In a printing apparatus comprising a blanket for adhering the ink on the ink mixing table onto the work and the platen by the rotational movement of the blanket, the blanket cylinders are provided on both sides of the blanket with the workable platen. And a relative position detection means wound in the axial direction to detect the relative position with the plate surface plate, the work surface plate and the plate surface plate, the relative position when the blanket cylinder moves. The relative position detection means for detecting the relative position to the blanket is provided at a position in contact with the detection means, and the relative position detection means and the relative position detection means detect the relative position based on the relative position. It is characterized by having a drift correction means for correcting the axial direction of the blanket cylinder.

【0036】また、前記相対位置検出手段は、静電容量
モニタプローブであり、前記相対位置被検出手段は、導
電性加工部であることを特徴とする。
Further, the relative position detecting means is a capacitance monitor probe, and the relative position detected means is a conductive processed portion.

【0037】また、前記相対位置検出手段は、導電性加
工部であり、前記相対位置被検出手段は、静電容量モニ
タプローブであることを特徴とする。
Further, the relative position detecting means is a conductive processed portion, and the relative position detected means is a capacitance monitor probe.

【0038】また、前記相対位置検出手段は、ホール素
子であり、前記相対位置被検出手段は、磁性加工部であ
ることを特徴とする。
Further, the relative position detecting means is a Hall element, and the relative position detected means is a magnetic processed portion.

【0039】また、前記相対位置検出手段は、磁性加工
部であり、前記相対位置被検出手段は、ホール素子であ
ることを特徴とする。
Further, the relative position detecting means is a magnetically processed portion, and the relative position detected means is a Hall element.

【0040】また、前記相対位置検出手段は、凸部であ
り、前記相対位置被検出手段は、凹部であることを特徴
とする。
The relative position detecting means is a convex portion, and the relative position detected means is a concave portion.

【0041】また、前記相対位置検出手段は、凹部であ
り、前記相対位置被検出手段は、凸部であることを特徴
とする。
Further, the relative position detecting means is a concave portion, and the relative position detected means is a convex portion.

【0042】また、前記ドリフト補正手段は、前記ブラ
ンケット胴を移動させるサイドベアリングであることを
特徴とする。
The drift correction means is a side bearing for moving the blanket cylinder.

【0043】また、前記印刷装置を用いた画像形成装置
の製造方法であって、前記画像形成装置を構成する素子
基板上の前記相対位置検出手段に対向する位置に前記相
対位置検出手段により検出される被検出手段を設け、前
記素子基板を前記ワーク定盤上に装着し、前記ブランケ
ット胴を前記インキ練り台及び前記素子基板上において
回転移動させることにより前記素子基板上に印刷を施す
ことを特徴とする。
Also, in the method of manufacturing an image forming apparatus using the printing apparatus, the relative position detecting means detects the relative position on the element substrate forming the image forming apparatus. A detection means is provided, the element substrate is mounted on the work surface plate, and printing is performed on the element substrate by rotating the blanket cylinder on the ink mixing table and the element substrate. And

【0044】(作用)上記のように構成された本発明に
おいては、ブランケット胴がワーク及び凹版上を移動す
ることにより印刷が行われる際に、ブランケット胴のブ
ランケットの両側に巻かれた相対位置検出手段によっ
て、ワーク定盤及び版定盤に設けられた相対位置被検出
手段が検出され、検出結果に基づいてドリフト補正手段
によりブランケット胴の向きが制御され、ブランケット
胴の軸方向のドリフトの補正が行われる。
(Operation) In the present invention configured as described above, when printing is performed by moving the blanket cylinder on the work and the intaglio, the relative position detection wound on both sides of the blanket of the blanket cylinder is detected. The means detects the relative position detection means provided on the work surface plate and the plate surface plate, and the orientation of the blanket cylinder is controlled by the drift correction means based on the detection result to correct the drift in the axial direction of the blanket cylinder. Done.

【0045】[0045]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0046】まず、本発明の印刷装置により作製される
基板の一形態について説明する。
First, one mode of the substrate manufactured by the printing apparatus of the present invention will be described.

【0047】本発明の印刷装置によるオフセット印刷
は、一般には紙上にインキを転写するグラフィック印刷
に用いられるが、オフセット印刷は、厚膜電子回路の形
成に用いられるスクリーン印刷に比べてインキの転写膜
厚を薄くすることができるという特徴がある。
The offset printing by the printing apparatus of the present invention is generally used for graphic printing in which ink is transferred onto paper, but the offset printing is compared with the screen printing used for forming thick film electronic circuits, and the ink transfer film is used. There is a feature that the thickness can be reduced.

【0048】ここで、高精細印刷を実施するためには、
印刷原版の精細化、印刷工程におけるインキ転写パター
ンの維持等の実現が必要であるが、転写するインキの厚
みが薄い程、解像度を向上させることができる。これ
は、インキのパターン幅に対する厚さのアスペクト比が
小さい程、転写後のインキのダレ、にじみによるパター
ン幅の太りを小さくできるためである。従って、転写膜
厚を薄くすることができるオフセット印刷は高精細印刷
のためのパターン太りに対する制御の可能性を有してい
る。
Here, in order to carry out high-definition printing,
It is necessary to realize finer printing original plate and to maintain the ink transfer pattern in the printing process. However, the thinner the thickness of the ink to be transferred, the higher the resolution can be. This is because as the aspect ratio of the thickness of the ink to the pattern width is smaller, the thickening of the pattern width due to dripping of ink after transfer and bleeding can be reduced. Therefore, the offset printing capable of reducing the transfer film thickness has the possibility of controlling the pattern thickening for high-definition printing.

【0049】図11は、表面伝導型電子放出素子を用い
た平面表示装置の一構成例を示す図であり、(a)はフ
ェースプレートを示す断面図、(b)は表面伝導型電子
放出素子を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an example of the configuration of a flat panel display device using a surface conduction electron-emitting device. FIG. 11A is a sectional view showing a face plate, and FIG. 11B is a surface conduction electron-emitting device. FIG.

【0050】本形態におけるフェースプレートは図11
(a)に示すように、ガラス基板109と、ガラス基板
109上に積層された蛍光体110及びメタルバック1
11とから構成されている。
The face plate in this embodiment is shown in FIG.
As shown in (a), the glass substrate 109, the phosphor 110 and the metal back 1 laminated on the glass substrate 109.
11 is comprised.

【0051】一方、本形態における表面伝導型放出素子
は図11(b)に示すように、絶縁体から成る基板10
1と、電気的接続を得るための素子電極102,103
と、分散配置された微粒子電子放出材からなる薄膜10
4と、素子電極102,103と各々接続される印刷配
線105,106とから構成されており、薄膜104の
中央部には、電子放出部112が形成され、また、電子
放出部112上に開口部を有するように、素子電極10
2,103が複数接続された配線に対して直交したグリ
ッド電極113が設けられている。
On the other hand, the surface conduction electron-emitting device according to this embodiment has a substrate 10 made of an insulator as shown in FIG. 11 (b).
1 and element electrodes 102, 103 for obtaining electrical connection
And a thin film 10 made of a fine particle electron emission material dispersedly arranged.
4 and printed wirings 105 and 106 connected to the device electrodes 102 and 103, respectively. An electron emitting portion 112 is formed in the central portion of the thin film 104, and an opening is formed on the electron emitting portion 112. Device electrode 10 so as to have a part
A grid electrode 113 that is orthogonal to the wiring to which a plurality of 2, 103 are connected is provided.

【0052】ここで、素子電極102,103の電極間
隔は数μm〜数百μm、膜厚は数百Å〜数千Å、また、
薄膜104の膜厚は数十Å〜数千Åの範囲が好ましく、
適宜設定することができる。さらに、印刷配線105,
106の膜厚は、通常、印刷ペーストインキの焼成によ
って得られる厚みで良く、数μm〜数十μmの範囲であ
る。
Here, the electrode interval between the device electrodes 102 and 103 is several μm to several hundred μm, the film thickness is several hundred Å to several thousand Å, and
The film thickness of the thin film 104 is preferably in the range of several tens of to several thousand
It can be set appropriately. Furthermore, the printed wiring 105,
The film thickness of 106 is usually a thickness obtained by firing the printing paste ink, and is in the range of several μm to several tens of μm.

【0053】上述した表面伝導型電子放出素子基板及び
フェースプレートにより平面型表示装置を作製するため
には、まず、表面伝導型電子放出素子基板を真空容器内
に配置し、素子基板の略垂直上にフェイスプレートを設
ける。
In order to manufacture a flat-panel display device using the surface conduction electron-emitting device substrate and the face plate described above, first, the surface conduction electron-emitting device substrate is placed in a vacuum container and is placed substantially vertically above the device substrate. Install a face plate on.

【0054】次に、素子電極102,103間に電圧を
印加してメタルバック111を+側電位として電圧を加
え、素子電極102,103間の薄膜104において電
子放出部112を形成する。
Next, a voltage is applied between the device electrodes 102 and 103 so that the metal back 111 has a + side potential, and a voltage is applied to form an electron emitting portion 112 in the thin film 104 between the device electrodes 102 and 103.

【0055】その後、電子放出部112から蛍光体11
0に電子が照射されることによって蛍光体110が発光
し、発光素子や平面型表示装置とすることができる。
After that, the phosphor 11 is removed from the electron emitting portion 112.
When 0 is irradiated with electrons, the phosphor 110 emits light, which can be used as a light emitting element or a flat panel display device.

【0056】複数の電子放出素子を用いる場合は、素子
電極102,103が複数接続された配線に対して直行
して電子放出部112上に開口部を有するグリッド電極
113を配置し、電子放出部112を配線とグリッド電
極113との交点としたマトリックスが構成される。
When a plurality of electron-emitting devices are used, a grid electrode 113 having an opening is arranged on the electron-emitting portion 112 so as to be orthogonal to the wiring to which the plurality of device electrodes 102 and 103 are connected. A matrix is formed with 112 as an intersection of the wiring and the grid electrode 113.

【0057】そして、グリッド電極113、印刷配線1
05,106及び電子放出部112に電圧を印加するこ
とによって選択的に電子放出部112から電子が取り出
され蛍光体110に照射され、任意の蛍光体110が発
光して画像を得ることができる。
Then, the grid electrode 113 and the printed wiring 1
Electrons can be selectively taken out from the electron emitting portion 112 by irradiating the fluorescent material 110 by applying a voltage to the electron emitting portions 112 and 112, and any fluorescent material 110 can emit light to obtain an image.

【0058】以下に、図11に示した表面伝導型電子放
出素子の製造工程について説明する。
The manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 11 will be described below.

【0059】図12は、図11に示した表面伝導型電子
放出素子の製造工程を説明するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining a manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device shown in FIG.

【0060】まず、洗浄した基板101上に、オフセッ
ト印刷法により有機金属から成るレジネートペーストを
印刷・焼成して素子電極102,103を形成する(図
12(a))。
First, a resinate paste made of an organic metal is printed and fired on the washed substrate 101 by an offset printing method to form element electrodes 102 and 103 (FIG. 12A).

【0061】次に、スクリーン印刷法により導電性ペー
ストインキを印刷し、焼成することによって印刷配線1
05,106を形成する(図12(b))。この際、印
刷配線105,106は、素子電極102,103上に
積層され、電気的に接続されている。
Next, a conductive paste ink is printed by a screen printing method and baked to print the printed wiring 1.
05 and 106 are formed (FIG. 12B). At this time, the printed wirings 105 and 106 are stacked on the element electrodes 102 and 103 and are electrically connected.

【0062】その後、素子電極105,106の間に電
子放出材から成る薄膜104をリバースエッチング法に
よって形成する(図12(c))。なお、電子放出材料
の成膜は、有機金属溶液の塗布焼成や、真空蒸着法、ス
パッタ法、化学的気相堆積法、電子放出材から成る超微
粒子の分散塗布焼成等によって行われる。
After that, a thin film 104 made of an electron emitting material is formed between the device electrodes 105 and 106 by a reverse etching method (FIG. 12C). The electron-emitting material is formed into a film by coating and baking an organic metal solution, vacuum vapor deposition, sputtering, chemical vapor deposition, dispersion coating and baking of ultrafine particles of an electron-emitting material, and the like.

【0063】ここで、基板101としては、石英ガラ
ス、Na等の不純物含有量が減少したガラス、青板ガラ
ス、青板ガラスにスパッタ法等により形成したSiO2
を積層したガラス基板等、及びアルミナ等のセラミック
等が挙げられる。
Here, as the substrate 101, quartz glass, glass having a reduced content of impurities such as Na, soda-lime glass, and SiO2 formed on soda-lime glass by a sputtering method or the like.
Examples thereof include a glass substrate and the like laminated with, and a ceramic such as alumina.

【0064】また、対向する素子電極105,106の
材料としては導電性を有するものであればどのような物
であっても構わないが、例えば、Ni、Cr、Au、M
o、W、Pt、Ti、Al、Cu、Pd等の金属あるい
は合金、及びPd、Ag、Au、RuO2、Pd−Ag
等の半導体導体材料、及びポリシリコン等の半導体材
料、及びIn203−SnO2等の透明導電対等があげ
られる。
The facing element electrodes 105 and 106 may be made of any material as long as they have conductivity. For example, Ni, Cr, Au and M may be used.
Metals or alloys such as o, W, Pt, Ti, Al, Cu and Pd, and Pd, Ag, Au, RuO2, Pd-Ag
And the like, semiconductor materials such as polysilicon, and transparent conductive pairs such as In203-SnO2.

【0065】さらに、電子放出部112を含む薄膜10
4を構成する材料の具体例を挙げるならば、Pt、R
u、Ag、Au、Ti、In、Cu、Cr、Fe、Z
n、Sn、Ta、W、Pb等の金属、PdO、SnO
2、In203、PbO、Sb203等の酸化物、Hf
B2,ZrB2,LaB6、CeB6、YB4、GdB
4等のホウ化物、TiC、ZrC、HfC、TaC、S
iC,WC等の炭化物、TiN,ZrN,HfN等の窒
化物、Si、Ge等の半導体、カーボン、AgMg、N
iCu、Pb、Sn等があり、微粒子膜からなる。な
お、ここで述べる微粒子膜とは、複数の微粒子が集合し
た膜であり、その微細構造として、微粒子が個々に分散
配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接、あるい
は重なり合った状態(島状も含む)の膜を指す。
Further, the thin film 10 including the electron emitting portion 112.
Specific examples of the material forming No. 4 are Pt and R
u, Ag, Au, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Z
n, Sn, Ta, W, Pb and other metals, PdO, SnO
2, oxides such as In203, PbO, Sb203, Hf
B2, ZrB2, LaB6, CeB6, YB4, GdB
Boride such as 4, TiC, ZrC, HfC, TaC, S
Carbides such as iC and WC, nitrides such as TiN, ZrN and HfN, semiconductors such as Si and Ge, carbon, AgMg and N
There are iCu, Pb, Sn, etc., and it is composed of a fine particle film. Note that the fine particle film described here is a film in which a plurality of fine particles are aggregated, and its fine structure is not only in a state in which the fine particles are individually dispersed and arranged, but also in a state in which the fine particles are adjacent to each other or overlap each other (also in an island shape). (Including) film.

【0066】以下に、図11に示したフェースプレート
の製造工程について説明する。
The manufacturing process of the face plate shown in FIG. 11 will be described below.

【0067】図13は、図11に示したフェースプレー
トの製造工程を説明するための図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining a manufacturing process of the face plate shown in FIG.

【0068】まず、良く洗浄したガラス基板109上
へ、蛍光体にPVA(ポリビニールアルコール)等の樹
脂とこれを感光化させる感光剤を加えた蛍光体スラリー
114をベタ状に塗布し、乾燥させる(図13
(a))。ここで、塗布法においては、スピンナー、デ
ィッピング、スプレーコート、ロールコート、スクリー
ン印刷、オフセット印刷等の方法が用いられる。
First, a phosphor slurry 114 containing a resin such as PVA (polyvinyl alcohol) and a photosensitizing agent for sensitizing the same is applied on a well washed glass substrate 109 in a solid state and dried. (Fig. 13
(A)). Here, in the coating method, methods such as spinner, dipping, spray coating, roll coating, screen printing and offset printing are used.

【0069】次に、塗工された蛍光体スラリー114に
フォトマスク(不図示)を用いて必要部分にのみ光を照
射露光し、その後、現像して不要部分の蛍光体スラリー
114を取り除き焼成する。これにより感光性樹脂は酸
化焼失し、パターニングされた蛍光体110が形成され
る(図13(b))。
Next, the coated phosphor slurry 114 is exposed to light by using a photomask (not shown) only on the necessary portions, and then developed to remove unnecessary portions of the phosphor slurry 114 and bake. . As a result, the photosensitive resin is oxidized and burned off, and the patterned phosphor 110 is formed (FIG. 13B).

【0070】次に、表示装置をカラー化するために、赤
(R)、緑(G)、青(B)の3原色カラー蛍光体が必
要な場合は、上述した図13(a)(b)における工程
を各色について繰り返し、ガラス基板109上に蛍光体
を塗り分けるようにパターニングする。
Next, in the case where three primary color phosphors of red (R), green (G) and blue (B) are required for colorizing the display device, the above-mentioned FIG. 13 (a) (b) is used. The process in (1) is repeated for each color, and patterning is performed so that the phosphors are separately coated on the glass substrate 109.

【0071】次に、蛍光体110を溶液中の水に浸漬さ
せ、水面にクリアーラッカー等の樹脂薄膜117を展開
させる。その後、溶液中の水を拭き取り、展開された樹
脂薄膜117を蛍光体110上に展開配置した後、乾燥
させる(図13(c))。この行程をフィルミングと呼
ぶ。
Next, the phosphor 110 is immersed in water in a solution, and a resin thin film 117 such as clear lacquer is spread on the water surface. After that, the water in the solution is wiped off, the spread resin thin film 117 is spread and arranged on the phosphor 110, and then dried (FIG. 13C). This process is called filming.

【0072】次に、フィルミングが施された蛍光体11
0の上に、真空堆積法によってAl等の金属薄膜を数百
Åの厚さで成膜し、メタルバック111を形成する(図
13(d))。
Next, the phosphor 11 which has been subjected to filming
A thin metal film of Al or the like is formed on the surface of 0 by a vacuum deposition method to a thickness of several hundred liters to form a metal back 111 (FIG. 13D).

【0073】次に、樹脂薄膜117を焼失させ、フェー
スプレート上から取り除く。この際、メタルバック11
1は、平坦化されて、切断の無い連続した膜とした蛍光
体110の上に配置される(図13(e))。
Next, the resin thin film 117 is burnt out and removed from the face plate. At this time, the metal back 11
1 is flattened and placed on the phosphor 110 which is a continuous film without cutting (FIG. 13E).

【0074】上記工程において作製された平面表示装置
においては、電子放出素子、蛍光体をマルチに配列させ
た場合、その大きさは画像表示装置として必要とされる
画素数と画面の大きさによって決定される。例えば、画
面長さ40cmに対し、560本の解像度を持たせよう
とすると1画素当たり約720μmピッチとなる。更に
これをカラー化するには1絵素をR、G、Bの3原色分
割する必要があり、単純に3分割すれば、ピッチは24
0μmとなる。
In the flat display device manufactured in the above process, when the electron-emitting devices and the phosphors are arranged in multiple, the size thereof is determined by the number of pixels required for the image display device and the size of the screen. To be done. For example, if a resolution of 560 lines is intended for a screen length of 40 cm, the pitch is about 720 μm per pixel. Furthermore, in order to color this, it is necessary to divide one picture element into three primary colors of R, G and B. If it is simply divided into three, the pitch is 24
0 μm.

【0075】ここで、電子放出部112(図11参照)
と対応する蛍光体110(図11参照)との位置は1対
1で配置されることが望ましい。上述した平面表示装置
においては、電子放出部112(図11参照)はフォト
リソグラフィー法によって得られた素子電極102,1
03によって精密に基板101(図11参照)上に配置
される。また、電子放出部112(図11参照)に対応
する蛍光体110(図11参照)も、やはりフォトリソ
グラフィー法によって精密にガラス基板109(図11
参照)上に配置される。
Here, the electron emitting portion 112 (see FIG. 11)
It is desirable that the positions of the phosphors 110 (see FIG. 11) corresponding to and are arranged one to one. In the above-described flat panel display device, the electron emitting portion 112 (see FIG. 11) is the device electrode 102, 1 obtained by the photolithography method.
It is precisely arranged by 03 on the substrate 101 (see FIG. 11). Further, the phosphor 110 (see FIG. 11) corresponding to the electron emitting portion 112 (see FIG. 11) is also precisely formed on the glass substrate 109 (see FIG. 11) by the photolithography method.
(See) is placed above.

【0076】一般に、フォトリソグラフィー法によるパ
ターニングの位置精度は高く、マスク露光装置の仕様に
よって精度は変わるものの、40cm角内でパターン位
置精度を4μm以内におさえることができる。従って、
電子放出部112(図11参照)と蛍光体110(図1
1参照)中心位置とは各部品精度で4μm以内の位置精
度誤差内に設定することができる。もし、この位置誤差
が大きな場合、例えば、画素ピッチ約240μmに対し
て40μmのズレが発生すると、画素ピッチに対して約
6分の1の寸法範囲で電子放出部112(図11参照)
から放出された電子が隣接した蛍光体110(図11参
照)に照射され、蛍光輝点のクロストークが発生するこ
とになる。
In general, the patterning accuracy by the photolithography method is high, and the accuracy of the patterning can be kept within 4 μm within a 40 cm square, although the accuracy varies depending on the specifications of the mask exposure apparatus. Therefore,
The electron emitting portion 112 (see FIG. 11) and the phosphor 110 (see FIG. 1)
The center position can be set within a positional accuracy error of 4 μm or less for each part accuracy. If this positional error is large, for example, if a displacement of 40 μm occurs with respect to the pixel pitch of approximately 240 μm, the electron emitting portion 112 (see FIG. 11) is in a size range of approximately 1/6 of the pixel pitch.
Electrons emitted from the phosphor are irradiated to the adjacent phosphor 110 (see FIG. 11), and crosstalk between fluorescent bright spots occurs.

【0077】なお、上記の表示装置を用いて長さ40c
mのアレイ状発光素子を作製し、感光性ドラム上に配置
することにより、電子写真記録装置を構成することがで
きた。さらには、電子写真記録装置にアレイ状発光素子
を作製した場合においても同様の効果を得ることができ
る。
It should be noted that using the above display device, a length of 40c
An electrophotographic recording device could be constructed by producing an array-shaped light emitting element of m and disposing it on a photosensitive drum. Furthermore, the same effect can be obtained when the array-shaped light emitting element is manufactured in the electrophotographic recording device.

【0078】(第1の実施の形態)図1は、本発明の印
刷装置の実施の一形態を示す斜視図である。
(First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a printing apparatus according to the present invention.

【0079】本形態は図1に示すように、インキ7を展
開するインキローラ4及びインキ練り台1と、凹版5を
固定する版定盤2と、被印刷物であるワーク6を固定す
るワーク定盤3と、ブランケット15が巻かれた円筒状
のブランケット胴11と、ブランケット胴11の両端に
それぞれ設けられたピニオンギア10a,10bと、ピ
ニオンギア10a,10bのそれぞれと噛み合うように
本体フレーム08に設けられたラックギア9a,9b
と、ブランケット胴11の軸の両端を固定するキャリッ
ジ12a,12bと、キャリッジ12a,12bにそれ
ぞれ固着され、ブランケット胴11の向きを調節するた
めのブランケット胴修正機構16a,16bと、本体フ
レーム8上においてブランケット胴11を移動させるた
めにブランケット胴修正機構16a,16bにそれぞれ
接続されたサイドベアリング13a,13bと、本体フ
レーム1008に設けられサイドベアリング13a,1
3bが回転しながら移動するためのレール14a,14
bとから構成されており、インキ練り台1,版定盤2及
びワーク定盤3においては、本体フレーム8上に一列に
並べられ、この列の両側にラックギア9a,9bが設け
られている。また、版定盤2及びワーク定盤3上ブラン
ケット胴11の移動方向とは垂直方向のの両側には相対
位置被検出手段である導電性加工部17a,17bがそ
れぞれ設けられ、ブランケット胴11のブランケット1
5が装着されている両側にはブランケット胴11が移動
する際に導電性加工部17a,17bとそれぞれ接する
ように相対位置検出手段である静電容量モニタプローブ
18a,18bが設けられている。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, an ink roller 4 for spreading an ink 7 and an ink kneading table 1, a platen plate 2 for fixing an intaglio plate 5, and a work plate for fixing a work 6 to be printed. The board 3, the cylindrical blanket cylinder 11 around which the blanket 15 is wound, the pinion gears 10a and 10b provided at both ends of the blanket cylinder 11, and the body frame 08 so as to mesh with the pinion gears 10a and 10b, respectively. Rack gears 9a, 9b provided
And carriages 12a and 12b for fixing both ends of the shaft of the blanket cylinder 11, blanket cylinder correction mechanisms 16a and 16b for adjusting the orientation of the blanket cylinder 11 respectively fixed to the carriages 12a and 12b, and the main body frame 8 , Side bearings 13a and 13b respectively connected to blanket cylinder correction mechanisms 16a and 16b for moving the blanket cylinder 11 and side bearings 13a and 1b provided on the main body frame 1008.
Rails 14a, 14 for moving 3b while rotating
The ink mixing table 1, the plate surface plate 2 and the work surface plate 3 are arranged in a line on the main body frame 8 and rack gears 9a and 9b are provided on both sides of this line. Further, conductive processing parts 17a and 17b as relative position detection means are provided on both sides of the platen plate 2 and the work platen 3 in the direction perpendicular to the moving direction of the blanket cylinder 11, respectively. Blanket 1
Capacitance monitor probes 18a and 18b, which are relative position detection means, are provided on both sides where the blanket cylinder 5 is mounted so as to come into contact with the conductive processed portions 17a and 17b when the blanket cylinder 11 moves.

【0080】上記のように構成された印刷装置において
は、本体フレーム8下部から延びたクランクアーム(不
図示)のクランク動作によって、キャリッジ12a,1
2bが移動し、ブランケット胴11が、インキ練り台
1,凹版5及びワーク6の上を順次回転慴動する。
In the printing apparatus constructed as described above, the carriages 12a, 1 are driven by the crank operation of the crank arm (not shown) extending from the lower portion of the main body frame 8.
2b is moved, and the blanket cylinder 11 is rotationally slid in sequence on the ink mixing stand 1, the intaglio 5 and the work 6.

【0081】図2は、図1に示した印刷装置における静
電容量モニタプローブ18a,18bの構成について説
明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining the configuration of the capacitance monitor probes 18a and 18b in the printing apparatus shown in FIG.

【0082】静電容量モニタプローブ18a,18bは
図2に示すように、先端(先端大きさ0.1mm角サイ
ズ)がブランケット胴11の周囲に沿って1mmピッチ
で並べられ、導電性加工部17a,17bのそれぞれに
対向して形成されている。また、各静電容量モニタプロ
ーブ18a,18bに対しては信号を取り出すための配
線(不図示)が接続されている。
As shown in FIG. 2, the capacitance monitor probes 18a and 18b have their tips (tip size of 0.1 mm square size) arranged along the circumference of the blanket cylinder 11 at a pitch of 1 mm, and have a conductive processed portion 17a. , 17b are formed so as to face each other. A wiring (not shown) for extracting a signal is connected to each of the capacitance monitor probes 18a and 18b.

【0083】図3は、図1に示した静電性加工部17
a,17bの構成について説明するための図である。
FIG. 3 shows the electrostatically processed portion 17 shown in FIG.
It is a figure for demonstrating the structure of a, 17b.

【0084】図3に示すように、静電性加工部17a,
17bのそれぞれには、静電容量モニタプローブ18
a,18b内のプローブにおいて、検出される領域とな
る静電容量モニタ部19a,19bが設けられており、
静電容量モニタプローブ18a,18bが導電性加工部
17a,17bに接することにより、静電容量モニタプ
ローブ18a,18b内のプローブにおいて、最近接の
静電容量モニタ部19a,19bが検出される。なお、
静電容量モニタ部19a,19bは、導電性加工部17
a,17bのブランケット15が装着された側とは反対
側の端に設けられている。
As shown in FIG. 3, the electrostatically processed portion 17a,
Each of 17b has a capacitance monitor probe 18
Capacitance monitor units 19a and 19b, which are detection areas, are provided in the probes in a and 18b,
When the capacitance monitor probes 18a and 18b are in contact with the conductive processed portions 17a and 17b, the closest capacitance monitor units 19a and 19b are detected in the probes inside the capacitance monitor probes 18a and 18b. In addition,
The capacitance monitoring units 19a and 19b are the conductive processing unit 17
It is provided at the end on the side opposite to the side on which the blanket 15 of a, 17b is mounted.

【0085】また、導電性加工部17a,17bにおい
ては、幅1mmで版定盤2及びワーク定盤3に形成され
ており、凹版5には例えば不導電性のテープを用い、所
定の箇所を除いて凹版5をマスクすることにより容易に
作製され、また、ワーク6には例えば導電性之表面を有
するテープを貼ることで容易に作製されている。
In the conductive processed portions 17a and 17b, the plate surface plate 2 and the work surface plate 3 are formed with a width of 1 mm. For the intaglio plate 5, for example, an electrically non-conductive tape is used, and predetermined portions are formed. Except for this, the intaglio plate 5 is easily manufactured by masking, and the work 6 is easily manufactured by, for example, attaching a tape having a conductive surface.

【0086】図4は、図2に示した静電容量モニタプロ
ーブにおいて検出される静電容量の時間変化を示した図
である。
FIG. 4 is a diagram showing the time variation of the capacitance detected by the capacitance monitor probe shown in FIG.

【0087】図4に示すように、静電容量モニタプロー
ブ18a,18b内のプローブにおいて静電容量モニタ
部19a,19bがそれぞれ検出された場合に静電容量
が大きくなり(図中A部)、検出されない場合に静電容
量が小さくなる(図中B点)。
As shown in FIG. 4, when the capacitance monitor units 19a and 19b are detected by the probes inside the capacitance monitor probes 18a and 18b, respectively, the capacitance becomes large (portion A in the figure), When not detected, the capacitance becomes small (point B in the figure).

【0088】以下に、上記のように構成された印刷装置
により印刷を行った場合について述べる。
The case where printing is performed by the printing apparatus having the above-described structure will be described below.

【0089】図5は、図1に示した印刷装置のブランケ
ット胴の軸方向のドリフトの修正機構を示すブロック図
である。
FIG. 5 is a block diagram showing a mechanism for correcting the axial drift of the blanket cylinder of the printing apparatus shown in FIG.

【0090】まず、センサ部である静電容量モニタプロ
ーブ18a,18bにおいて検出された信号が、マイコ
ンに送られる。
First, the signals detected by the capacitance monitor probes 18a and 18b, which are the sensor units, are sent to the microcomputer.

【0091】すると、マイコン内において、送られてき
た信号に基づいてブランケット胴11の向きに対する修
正すべき量が算出され、駆動部であるブランケット胴修
正機構16a,16bに対して出力される。
Then, in the microcomputer, the amount to be corrected with respect to the orientation of the blanket cylinder 11 is calculated based on the sent signal, and is output to the blanket cylinder correction mechanisms 16a and 16b which are the drive units.

【0092】その後、ブランケット胴修正機構16a,
16bにおいて、マイコンから出力された値に基づいて
ブランケット胴11が適当量作動する。
Thereafter, the blanket cylinder correcting mechanism 16a,
At 16b, the blanket cylinder 11 operates by an appropriate amount based on the value output from the microcomputer.

【0093】以下に、上述した一連の動作について図1
〜図4を参照して詳細に説明する。
The sequence of operations described above will be described below with reference to FIG.
This will be described in detail with reference to FIG.

【0094】ブランケット胴11がラックギア9a,9
bとピニオンギア10a,10bとの機構によって回転
移動すると、静電容量モニタプローブ18a,18bに
おいて、導電性加工部17a,17bから最近接の静電
容量モニタ部19a,19bが順次検出される。
The blanket cylinder 11 has rack gears 9a, 9
When rotated by the mechanism of b and the pinion gears 10a and 10b, the electrostatic capacitance monitor probes 18a and 18b sequentially detect the closest electrostatic capacitance monitor units 19a and 19b from the conductive processing units 17a and 17b.

【0095】それにより、ブランケット胴15の回転に
伴って静電容量モニタプローブ18a,18bから出力
される信号が図4に示すようになる。
As a result, the signals output from the capacitance monitor probes 18a and 18b with the rotation of the blanket cylinder 15 are as shown in FIG.

【0096】最近接の静電容量モニタプローブ18a,
18bの選択の操作は図4に示すB部のような極小値の
検出後に隣り合う静電モニタプローブ18a,18bに
静電容量のモニタを切り替えることにより容易に達成で
きる。
The closest capacitance monitor probe 18a,
The operation of selecting 18b can be easily achieved by switching the electrostatic capacity monitor to the adjacent electrostatic monitor probes 18a and 18b after the detection of the minimum value such as the portion B shown in FIG.

【0097】静電容量モニタ部19a,19bは、導電
性加工部17a,17bと図3に示すような位置関係に
あるため、例えばブランケット胴11の進行方向が10
μm左に振れた場合、静電容量モニタプローブ18bか
らの出力は静電容量モニタプローブ18aからの出力に
対して1%減少する。
Since the capacitance monitor portions 19a and 19b have the positional relationship with the conductive processed portions 17a and 17b as shown in FIG. 3, for example, the traveling direction of the blanket cylinder 11 is 10.
When it is swung to the left by μm, the output from the capacitance monitor probe 18b is reduced by 1% with respect to the output from the capacitance monitor probe 18a.

【0098】上記出力の変位が、ブランケット胴修正機
構16a,16bにフィードバックされ、ブランケット
胴11の進行方向の補正が行われる。
The displacement of the output is fed back to the blanket cylinder correcting mechanisms 16a and 16b to correct the traveling direction of the blanket cylinder 11.

【0099】上記の場合、ブランケット胴修正機構16
bによりサイドベアリング13bが印刷装置本体に押し
付けられるように移動し、ブランケット胴修正機構16
aによりサイドベアリング13aが印刷装置本体から離
れる方向に移動する。
In the above case, the blanket cylinder correcting mechanism 16
The side bearing 13b is moved so as to be pressed against the printing apparatus main body by b, and the blanket cylinder correction mechanism 16 is moved.
The side bearing 13a moves in a direction away from the printing apparatus main body by a.

【0100】係る動作は、キャリッジ12a,12bを
介してブランケット胴11の軸方向のドリフトの修正の
動作となる。
This operation is an operation for correcting the drift of the blanket cylinder 11 in the axial direction via the carriages 12a and 12b.

【0101】また、ブランケット胴11の軸方向のドリ
フトを補正する手段としては電磁力を利用したアクチュ
ーターを駆動させたり、あるいはガス圧によってサイド
ベアリングを押し付ける力を本体の左右で変えることに
よる手段がある。
Further, as means for correcting the axial drift of the blanket cylinder 11, means for driving an actuator utilizing electromagnetic force or changing the force for pressing the side bearings by gas pressure between the left and right sides of the main body. is there.

【0102】以上説明したように本発明によれば、導電
性加工部17a,17bと静電容量モニタプローブ18
a,18bとによってブランケット胴11の軸方向のド
リフトが検知され、さらにブランケット胴修正機構16
a,16bによりサイドベアリング9a,9bが移動
し、キャリッジ12a,12bの進行方向が補正され
る。なお、本形態においては静電容量モニタプローブ1
8a,18bと導電性加工部17a,17bと間隔は
0.1mmに設定した。
As described above, according to the present invention, the conductive processed portions 17a and 17b and the capacitance monitor probe 18 are provided.
a and 18b detect the drift of the blanket cylinder 11 in the axial direction.
The side bearings 9a and 9b are moved by a and 16b, and the traveling directions of the carriages 12a and 12b are corrected. In this embodiment, the capacitance monitor probe 1
The distance between 8a and 18b and the electroconductive processed portions 17a and 17b was set to 0.1 mm.

【0103】以下に、上述した印刷装置を用いて作製さ
れた画像形成装置について説明する。
An image forming apparatus manufactured by using the above-mentioned printing apparatus will be described below.

【0104】図6は、本発明の印刷装置を用いて作製さ
れた画像形成装置の素子基板の製造工程を示した上面図
である。
FIG. 6 is a top view showing the manufacturing process of the element substrate of the image forming apparatus manufactured by using the printing apparatus of the present invention.

【0105】図6に示した画像形成装置は、青板ガラス
基板(不図示)上に対して、電子放出素子を3個×3
個、計9個のマトリックス状に配線と共に形成した例で
あり、下層印刷配線201と、下層印刷配線201と並
列に、下層印刷配線201と同一工程での印刷金属ペー
ストの焼成によって形成された印刷パッド202と、下
層印刷配線201に対して直交し、印刷ガラスペースト
の焼成によって形成された短冊状の絶縁層203と、印
刷パッド202と絶縁層203との交差中央部に設けら
れた開口部となるコンタクトホール204と、絶縁層2
03上に短冊状に印刷金属ペーストの焼成によって形成
され、コンタクトホール204によって印刷パッド20
2と電気的に接続された上層印刷配線205と、レジネ
ートペーストインキのオフセット印刷、焼成によって形
成され、下層印刷配線201と印刷パッド202とに各
々接続された素子電極207,208と、素子電極20
7,208及び電極間隔に配置形成され、電子放出材で
あるPd微粒子から成る薄膜209と、電子放出部とな
る電子放出部位210とから構成されており、素子電極
207,208は相互の隣接部で電極間隔30μm電極
幅200μmの形状を構成している。
The image forming apparatus shown in FIG. 6 has 3 × 3 electron-emitting devices on a soda-lime glass substrate (not shown).
This is an example in which a total of nine wirings are formed in a matrix, and the lower printed wiring 201 is printed in parallel with the lower printed wiring 201 by firing the printed metal paste in the same step as the lower printed wiring 201. A pad 202, a strip-shaped insulating layer 203 that is orthogonal to the lower-layer printed wiring 201 and is formed by firing a printing glass paste, and an opening provided at the center of the intersection of the printing pad 202 and the insulating layer 203. Contact hole 204 and insulating layer 2
03 is formed by firing the printing metal paste in a strip shape on the printing pad 03, and the printing pad 20 is formed by the contact hole 204.
2, upper layer printed wiring 205 electrically connected to the lower layer, element electrodes 207 and 208 formed by offset printing and firing of resinate paste ink and connected to the lower layer printed wiring 201 and printing pad 202, respectively, and the element electrode 20.
7, 208, and a thin film 209 made of Pd fine particles which is an electron emitting material and is arranged at an electrode interval, and an electron emitting portion 210 which is an electron emitting portion. The device electrodes 207 and 208 are adjacent to each other. The electrode spacing is 30 μm and the electrode width is 200 μm.

【0106】以下に、上記のように構成された素子基板
の製造方法について説明する。
The method of manufacturing the element substrate having the above structure will be described below.

【0107】まず、洗浄した青板ガラスから成る基板上
にレジネートペーストインキのオフセット印刷、焼成に
よって厚さ1000ÅのAu素子電極207,208を
パターン形成した(図6(a))。
First, Au element electrodes 207 and 208 each having a thickness of 1000 Å were patterned by offset printing of resinate paste ink and firing on a substrate made of washed blue plate glass (FIG. 6A).

【0108】次に、Agペーストインキをスクリーン印
刷し、焼成して幅300μm、厚さ7μmの下層印刷配
線201及び印刷パッド202を形成した。この時、下
層印刷配線201及び印刷パッド202は素子電極20
7,208と各々電気的に接続される(図6(b))。
Next, Ag paste ink was screen-printed and baked to form a lower layer printed wiring 201 and a printing pad 202 having a width of 300 μm and a thickness of 7 μm. At this time, the lower-layer printed wiring 201 and the printed pad 202 are connected to the device electrode 20.
7 and 208 are electrically connected to each other (FIG. 6B).

【0109】次に、ガラスペーストインキをスクリーン
印刷し、焼成して幅500μm、厚さ約20μmの絶縁
層203と、開口寸法100μm角のコンタクトホール
204とを形成した(図6(c))。
Next, glass paste ink was screen-printed and baked to form an insulating layer 203 having a width of 500 μm and a thickness of about 20 μm, and a contact hole 204 having an opening size of 100 μm square (FIG. 6C).

【0110】次に、絶縁層203上にAgペーストイン
キをスクリーン印刷し、焼成して幅300μm、厚さ1
0μmの上層印刷配線205を形成した。この時コンタ
クトホール204を通じて上層印刷配線205と印刷パ
ッド202とは電気的に導通する(図6(d))。
Next, Ag paste ink is screen-printed on the insulating layer 203 and baked to have a width of 300 μm and a thickness of 1.
An upper layer printed wiring 205 having a thickness of 0 μm was formed. At this time, the upper print wiring 205 and the print pad 202 are electrically connected to each other through the contact hole 204 (FIG. 6D).

【0111】上述した工程においては、下層印刷配線2
01及び上層印刷配線203の印刷焼成前に素子電極2
07,208が作製されるが、素子電極207,208
においては、印刷焼成工程を一度経ているため、同様な
印刷配線焼成では熱ダメージは発生しなかった。また、
下層印刷配線201と印刷パッド202とは、基板上の
同一形成層であり、素子電極207,208とのコンタ
クトにおいては素子電極207,208が段差の無い基
板上で形成され、下層印刷配線201及び上層印刷配線
203と印刷パッド202とを接続するために途中で断
線することは無かった。
In the above process, the lower layer printed wiring 2
01 and the upper layer printed wiring 203 before printing and firing the device electrode 2
07 and 208 are produced, but the device electrodes 207 and 208
In the above, since the printing and firing step has been performed once, thermal damage did not occur in the same firing of the printed wiring. Also,
The lower layer printed wiring 201 and the printing pad 202 are the same formation layer on the substrate, and the element electrodes 207 and 208 are formed on the substrate without steps in contact with the element electrodes 207 and 208. There was no disconnection in the middle for connecting the upper layer printed wiring 203 and the printing pad 202.

【0112】次に、スパッタ法によるCr成膜及びホト
リソエッチング法によって、薄膜209を配置しない部
分にマスクとなるCrパターンを作製し、その後、有機
パラジュウム溶液(奥野製薬(株)キャタペーストCC
P4230)を塗布、焼成してPd微粒子膜を得る。更
に、Crパターンのリバースエッチングにより薄膜20
9を素子電極207,208と電極間隔部にパターニン
グ形成し、電子放出部が形成される(図6(e))。
Next, a Cr pattern serving as a mask is formed in a portion where the thin film 209 is not arranged by a Cr film formation by a sputtering method and a photolithography etching method, and then an organic palladium solution (catapaste CC manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) is formed.
P4230) is applied and baked to obtain a Pd fine particle film. Further, the thin film 20 is formed by reverse etching of the Cr pattern.
9 is patterned on the device electrodes 207 and 208 and the electrode gap portion to form an electron emission portion (FIG. 6E).

【0113】上記工程において作製された素子基板にお
いては、本発明の印刷装置により高精度に印刷されてい
たため、フォトリソグラフィー法で作製された薄膜20
9を、素子電極207,208の所定の部位に形成する
ことができた。
Since the element substrate manufactured in the above process was printed with high precision by the printing apparatus of the present invention, the thin film 20 manufactured by the photolithography method.
9 could be formed at predetermined portions of the device electrodes 207 and 208.

【0114】上記工程により作製された素子基板を、4
0cm角基板上に350個×350個の電子放出素子を
マトリックス状に配置してR、G、Bに対応する各蛍光
体を有するフェイスプレートと共に真空外囲器内に配置
した。
The element substrate manufactured by the above process is
350 × 350 electron-emitting devices were arranged in a matrix on a 0 cm square substrate and were arranged in a vacuum envelope together with a face plate having phosphors corresponding to R, G, and B.

【0115】なお、本形態において、インキは有機金属
から成るAuレジネートペーストを用いている。ガラス
基板上に転移されたインキは約70℃の乾燥と約580
℃の焼成によってAuからなる素子電極として利用でき
る。印刷乾燥後のガラス基板上のインキ転写厚さは約2
μm程度と小さく、印刷電極パターン幅の太りは非常に
小さかった。さらに、焼成後のAu電極厚みは約100
0Åと薄く形成することができた。ここで、素子電極の
パターン形状としては電子放出材を配置する素子電極間
隔の寸法を約30μmに設定した。
In this embodiment, the ink is an Au resinate paste made of organic metal. The ink transferred to the glass substrate is dried at about 70 ℃ and about 580
It can be used as a device electrode made of Au by firing at ℃. The ink transfer thickness on the glass substrate after printing and drying is about 2
It was as small as about μm, and the thickening of the printed electrode pattern width was very small. Furthermore, the thickness of the Au electrode after firing is about 100.
It could be formed as thin as 0Å. Here, as the pattern shape of the device electrodes, the size of the device electrodes where the electron-emitting material is arranged is set to about 30 μm.

【0116】この後、電子放出素子の通電処理を行い、
素子基板の上層印刷配線には14Vの任意の電圧信号
を、下層印刷配線には0Vの電位を順次印加、走査し、
それ以外の下層印刷配線は7Vの電位とした。そして、
フェースプレートのメタルバックに3kVのアノード電
圧を印加したところ、任意の画像を表示することができ
た。この時の電子放出素子と蛍光体の位置ズレによって
生ずる蛍光輝点のクロストークは無かった。
After that, the electron-emitting device is energized,
An arbitrary voltage signal of 14V is sequentially applied to the upper printed wiring of the element substrate, and a potential of 0V is sequentially applied to the lower printed wiring to scan,
The other lower layer printed wirings were set to a potential of 7V. And
When an anode voltage of 3 kV was applied to the metal back of the face plate, an arbitrary image could be displayed. At this time, there was no crosstalk between the fluorescent bright spots caused by the positional deviation between the electron-emitting device and the phosphor.

【0117】また、導電性加工部と静電容量モニタプロ
ーブとをお互い逆の位置に設けてもよい。
Further, the electroconductive processed portion and the capacitance monitor probe may be provided at positions opposite to each other.

【0118】図7は、図2に示した導電性加工部と静電
モニタプローブとを逆に設けた構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a structure in which the electroconductive processed portion and the electrostatic monitor probe shown in FIG. 2 are provided in reverse.

【0119】(第2の実施の形態)第2の実施の形態
は、第1の実施の形態において示したものに対して、静
電容量モニタプローブの代わりにホール素子が設けら
れ、また、導電性加工部の代わりに磁性加工部が設けら
れたものである。その他の構成については、第1の実施
の形態において示したものと同様である。また、静電容
量モニタ部の代わりに磁力モニタ部が設けられている。
(Second Embodiment) The second embodiment is different from the one shown in the first embodiment in that a Hall element is provided instead of the capacitance monitor probe, and the conductivity is reduced. The magnetic processed portion is provided instead of the magnetic processed portion. Other configurations are the same as those shown in the first embodiment. A magnetic force monitor is provided instead of the capacitance monitor.

【0120】ホール素子の先端径、ピッチは、第1の実
施の形態において示した静電容量モニタプローブと同様
である。また、磁性加工部は、第1の実施の形態におい
て示した導電性加工部と同様に幅1mmで版定盤及びワ
ーク定盤に形成した。
The tip diameter and pitch of the Hall element are the same as those of the capacitance monitor probe shown in the first embodiment. In addition, the magnetic processed portion was formed on the plate surface plate and the work surface plate with a width of 1 mm, similarly to the conductive processed portion shown in the first embodiment.

【0121】磁性加工部においては、例えば磁化したテ
ープを張ることにより容易に形成可能である。また、ホ
ール素子には信号が取り出されるためのケーブルが接続
されている。
The magnetically processed portion can be easily formed, for example, by applying a magnetized tape. A cable for extracting a signal is connected to the hall element.

【0122】図8は、ホール素子において検出される磁
力の時間変化を示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing the change over time in the magnetic force detected in the Hall element.

【0123】図8に示すように、ホール素子において磁
力モニタ部がそれぞれ検出された場合に磁力が大きくな
り(図中A部)、検出されない場合に磁力が小さくなる
(図中B点)。
As shown in FIG. 8, the magnetic force increases when the magnetic force monitor portions are detected in the Hall element (A portion in the figure), and the magnetic force decreases when they are not detected (point B in the figure).

【0124】本形態の印刷装置を用いて精密印刷を行っ
た。この際、磁性加工部の磁力は1kGであり、ホール
素子に流した電流は10mAに設定した。
Precision printing was performed using the printing apparatus of this embodiment. At this time, the magnetic force of the magnetically processed portion was 1 kG, and the current passed through the Hall element was set to 10 mA.

【0125】その結果、第1の実施の形態において示し
たものと同様にブランケット胴のドリフトの修正が可能
であった。
As a result, it was possible to correct the drift of the blanket cylinder as in the case of the first embodiment.

【0126】係る方法によって印刷された素子電極は、
第1の実施の形態において示したものと同様に良好な位
置精度を達成し、更にこの基板を用いて作成された平面
型表示素子は第1の実施の形態において示したものと同
様に良好な特性を示した。
The device electrode printed by the method is
A flat display device that achieves good positional accuracy as shown in the first embodiment and that is made by using this substrate is as good as that shown in the first embodiment. Characterized.

【0127】また、ホール素子と磁性加工部とをお互い
に逆に設けても良い。
Further, the Hall element and the magnetic processed portion may be provided opposite to each other.

【0128】(第3の実施の形態)図9及び図10は、
本発明の印刷装置の第3の実施の形態における特徴を説
明するための図である。
(Third Embodiment) FIGS. 9 and 10 show
It is a figure for demonstrating the characteristic in 3rd Embodiment of the printer of this invention.

【0129】第3の実施の形態は、第1の実施の形態に
おいて示したものに対して、静電容量モニタプローブの
代わりに凸部20が設けられ、また、導電性加工部の代
わりに凹部21が設けられたものである。その他の構成
については、第1の実施の形態において示したものと同
様である。また、凸部は図10に示すように、ブランケ
ット胴の進行方向に対してテーパー部22が設けられて
いる。
The third embodiment is different from the one shown in the first embodiment in that a convex portion 20 is provided instead of the capacitance monitor probe, and a concave portion is provided instead of the conductive processed portion. 21 is provided. Other configurations are the same as those shown in the first embodiment. Further, as shown in FIG. 10, the convex portion is provided with a taper portion 22 in the traveling direction of the blanket cylinder.

【0130】本形態における凹部は開口幅1.2mm、
深さ1mm、凸部は開口幅1mm、高さ1mmで形成さ
れている。
The concave portion in this embodiment has an opening width of 1.2 mm,
The depth is 1 mm, and the convex portion is formed with an opening width of 1 mm and a height of 1 mm.

【0131】凸部20及び凹部21の加工は、ブランケ
ット胴に対しては通常の機械加工によって容易に形成で
き、凹版及びワークに対しては通常のエッチングによっ
て容易に作成できる。
The convex portion 20 and the concave portion 21 can be easily formed on the blanket cylinder by ordinary machining, and the intaglio and the work can be easily formed by ordinary etching.

【0132】凸部20と凹部21とが合わさる際は図9
に示すように、凹部21の側壁に凸部20の先端角が突
き当たり、ブランケット胴と凹版及びワークとの相対位
置が精度良く保たれたまま印刷が行われる。
When the convex portion 20 and the concave portion 21 are fitted together, FIG.
As shown in, the tip angle of the convex portion 20 abuts on the side wall of the concave portion 21, and printing is performed while the relative positions of the blanket cylinder, the intaglio plate, and the work are accurately maintained.

【0133】また、ブランケットが上昇することによっ
て凸部20と凹部21とのはめ合いが外れた場合におい
ても、凸部21にテーパー部22が設けられているた
め、再びブランケット胴が下降した際に容易に凸部20
と凹部21とのはめ合いの再現がなされる。
Even when the convex portion 20 and the concave portion 21 are disengaged from each other due to the elevation of the blanket, the convex portion 21 is provided with the taper portion 22, and therefore when the blanket cylinder descends again. Easily convex 20
The fitting between the groove 21 and the concave portion 21 is reproduced.

【0134】以上説明したように、本形態によれば、凸
部20と凹部21とのはめ合いによってブランケット軸
方向のドリフトの検知と補正が行われる。
As described above, according to the present embodiment, the fitting and the fitting of the convex portion 20 and the concave portion 21 detect and correct the drift in the blanket axial direction.

【0135】係る方法によって印刷された素子電極は、
第1の実施の形態において示したものと同様に良好な位
置精度を達成し、更にこの基板を用いて作成された平面
型表示素子は第1の実施の形態において示したものと同
様に良好な特性を示した。
The device electrode printed by the method is
A flat display device that achieves good positional accuracy as shown in the first embodiment and that is made by using this substrate is as good as that shown in the first embodiment. Characterized.

【0136】また、凸部と凹部とをお互いに逆に設けて
も良い。
Further, the convex portion and the concave portion may be provided opposite to each other.

【0137】[0137]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、ブランケ
ット胴のブランケットの両側にワーク定盤及び版定盤の
ブランケットに対する相対位置を検出する相対位置検出
手段を設け、また、ワーク定盤及び版定盤にブランケッ
トに対する相対位置が検出される相対位置被検出手段を
設けたため、ブランケット胴の移動における向きのずれ
が検出され、ブランケット胴の軸方向のドリフトの補正
が行われる。
As described above, according to the present invention, the relative position detecting means for detecting the relative position of the work surface plate and the plate surface plate to the blanket is provided on both sides of the blanket of the blanket cylinder, and the work surface plate and the plate are also provided. Since the relative position detection means for detecting the relative position with respect to the blanket is provided on the surface plate, the deviation of the direction in the movement of the blanket cylinder is detected, and the drift in the axial direction of the blanket cylinder is corrected.

【0138】それにより、オフセット印刷の印刷寸法精
度を向上させることができる。
As a result, the printing dimension accuracy of offset printing can be improved.

【0139】また、本発明の印刷装置を画像形成装置の
製造に用いることで良好な特性を有する画像形成装置を
製造することができる。
By using the printing apparatus of the present invention for manufacturing an image forming apparatus, an image forming apparatus having good characteristics can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の印刷装置の実施の一形態を示す斜視図
である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a printing apparatus of the present invention.

【図2】図1に示した印刷装置における静電容量モニタ
プローブの構成について説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a configuration of a capacitance monitor probe in the printing apparatus shown in FIG.

【図3】図1に示した静電性加工部の構成について説明
するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a configuration of an electrostatically processed portion shown in FIG.

【図4】図2に示した静電容量モニタプローブにおいて
検出される静電容量の時間変化を示した図である。
FIG. 4 is a diagram showing a change with time of an electrostatic capacitance detected by the electrostatic capacitance monitor probe shown in FIG.

【図5】図1に示した印刷装置のブランケット胴の軸方
向のドリフトの修正機構を示すブロック図である。
5 is a block diagram showing an axial drift correction mechanism of the blanket cylinder of the printing apparatus shown in FIG. 1. FIG.

【図6】本発明の印刷装置を用いて作製された画像形成
装置の素子基板の製造工程を示した上面図である。
FIG. 6 is a top view showing a manufacturing process of an element substrate of an image forming apparatus manufactured by using the printing apparatus of the present invention.

【図7】図2に示した導電性加工部と静電モニタプロー
ブとを逆に設けた構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration in which the electroconductive processed portion and the electrostatic monitor probe shown in FIG. 2 are provided in reverse.

【図8】ホール素子において検出される磁力の時間変化
を示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing the change over time in the magnetic force detected in the Hall element.

【図9】本発明の印刷装置の第3の実施の形態における
特徴を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the characteristics of the printing apparatus according to the third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の印刷装置の第3の実施の形態におけ
る特徴を説明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the features of the printing apparatus according to the third embodiment of the present invention.

【図11】表面伝導型電子放出素子を用いた平面表示装
置の一構成例を示す図であり、(a)はフェースプレー
トを示す断面図、(b)は表面伝導型電子放出素子を示
す図である。
11A and 11B are views showing a configuration example of a flat panel display device using a surface conduction electron-emitting device, wherein FIG. 11A is a sectional view showing a face plate, and FIG. 11B is a view showing a surface conduction electron emission device. Is.

【図12】図11に示した表面伝導型電子放出素子の製
造工程を説明するための図である。
12 is a diagram for explaining a manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device shown in FIG.

【図13】図11に示したフェースプレートの製造工程
を説明するための図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining a manufacturing process of the face plate shown in FIG. 11.

【図14】従来の平台校正機型オフセット印刷装置の一
構成例を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a configuration example of a conventional flatbed proofreading machine type offset printing apparatus.

【図15】図14に示した平台校正機型オフセット印刷
装置におけるオフセット印刷工程を示す図である。
15 is a diagram showing an offset printing process in the flatbed proofing machine type offset printing apparatus shown in FIG.

【図16】表面伝導型電子放出素子の一構成例を示す図
である。
FIG. 16 is a diagram showing a configuration example of a surface conduction electron-emitting device.

【図17】表面伝導型電子放出素子の他の構成例を示す
図である。
FIG. 17 is a diagram showing another configuration example of the surface conduction electron-emitting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 インキ練り台 2 版定盤 3 ワーク定盤 4 インキローラ 5 凹版 6 ワーク 7 インキ 8 フレーム 9a,9b ラックギア 10a,10b ピニオンギア 11 ブランケット胴 12a,12b キャリッジ 13a,13b サイドベアリング 14a,14b レール 15 ブランケット 16a,16b ブランケット胴修正機構 17a,17b 導電性加工部 18a,18b 静電容量モニタプローブ 19a,19b 静電容量モニタ部 20a,20b 凸部 21a,21b 凹部 22a,22b テーパー部 101 基板 102,103,207,208 素子電極 104,209 薄膜 105,106 印刷配線 109 ガラス基板 110 蛍光体 111 メタルバック 112 電子放出部 113 グリッド電極 114 蛍光体スラリー 117 樹脂薄膜 201 下印刷配線 202 印刷パッド 203 絶縁層 204 コンタクトホール 205 上層印刷配線 210 電子放出部位 1 Ink mixing table 2 Plate surface plate 3 Work surface plate 4 Ink roller 5 Intaglio 6 Work 7 Ink 8 Frame 9a, 9b Rack gear 10a, 10b Pinion gear 11 Blanket cylinder 12a, 12b Carriage 13a, 13b Side bearing 14a, 14b Rail 15 Blanket 16a, 16b Blanket cylinder correction mechanism 17a, 17b Conductive processing part 18a, 18b Capacitance monitor probe 19a, 19b Capacitance monitor part 20a, 20b Convex part 21a, 21b Recessed part 22a, 22b Tapered part 101 Substrate 102, 103, 207, 208 Element electrode 104, 209 Thin film 105, 106 Printed wiring 109 Glass substrate 110 Fluorescent substance 111 Metal back 112 Electron emission part 113 Grid electrode 114 Fluorescent substance slurry 117 Resin thin 201 lower printed wiring 202 printing pad 203 insulating layer 204 contact hole 205 upper printed wiring 210 electron emission sites

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークを固定するためのワーク定盤と、 凹版を固定するための版定盤と、 前記ワーク及び前記凹版上に付着させるインキが練られ
るインキ練り台と、 前記ワーク定盤、版定盤及びインキ練り台上を回転移動
するブランケット胴と、 該ブランケット胴の周囲に巻かれ、前記ブランケットの
回転移動により前記インキ練り台上のインキを前記ワー
ク及び前記版定盤上に付着させるブランケットとを有し
てなる印刷装置において、 前記ブランケット胴は、前記ブランケットの両側に前記
ワーク定盤及び前記版定盤との相対位置を検出するため
に軸方向に巻かれた相対位置検出手段を具備し、 前記ワーク定盤及び前記版定盤は、前記ブランケット胴
が移動する際に前記相対位置検出手段と接する位置に前
記ブランケットとの相対位置が検出されるための相対位
置被検出手段を具備し、 前記相対位置検出手段と前記相対位置被検出手段とによ
り検出された相対位置に基づいて前記ブランケット胴の
軸方向の向きを補正するドリフト補正手段を有すること
を特徴とする印刷装置。
1. A work surface plate for fixing a work, a plate surface plate for fixing an intaglio plate, an ink kneading table for kneading ink to be deposited on the work plate and the intaglio plate, the work surface plate, A blanket cylinder that rotates and moves on a plate surface plate and an ink kneading table, and is wound around the blanket cylinder, and the ink on the ink mixing table is attached to the work and the plate surface plate by the rotation and movement of the blanket. In a printing device comprising a blanket, the blanket cylinder has relative position detection means axially wound on both sides of the blanket to detect a relative position between the work surface plate and the plate surface plate. The workpiece surface plate and the plate surface plate are positioned relative to the blanket at a position in contact with the relative position detection means when the blanket cylinder moves. A drift correction for correcting the axial direction of the blanket cylinder based on the relative position detected by the relative position detection means and the relative position detected means. A printing apparatus having means.
【請求項2】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、静電容量モニタプローブであ
り、 前記相対位置被検出手段は、導電性加工部であることを
特徴とする印刷装置。
2. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detection unit is a capacitance monitor probe, and the relative position detection unit is a conductive processing unit. apparatus.
【請求項3】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、導電性加工部であり、 前記相対位置被検出手段は、静電容量モニタプローブで
あることを特徴とする印刷装置。
3. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detection unit is a conductive processing unit, and the relative position detection unit is a capacitance monitor probe. apparatus.
【請求項4】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、ホール素子であり、 前記相対位置被検出手段は、磁性加工部であることを特
徴とする印刷装置。
4. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detection unit is a Hall element, and the relative position detection target unit is a magnetic processing unit.
【請求項5】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、磁性加工部であり、 前記相対位置被検出手段は、ホール素子であることを特
徴とする印刷装置。
5. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detection unit is a magnetic processing unit, and the relative position detection unit is a Hall element.
【請求項6】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、凸部であり、 前記相対位置被検出手段は、凹部であることを特徴とす
る印刷装置。
6. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detecting means is a convex portion, and the relative position detected means is a concave portion.
【請求項7】 請求項1に記載の印刷装置において、 前記相対位置検出手段は、凹部であり、 前記相対位置被検出手段は、凸部であることを特徴とす
る印刷装置。
7. The printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detecting means is a concave portion, and the relative position detected means is a convex portion.
【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の
印刷装置において、 前記ドリフト補正手段は、前記ブランケット胴を移動さ
せるサイドベアリングであることを特徴とする印刷装
置。
8. The printing apparatus according to claim 1, wherein the drift correction unit is a side bearing that moves the blanket cylinder.
【請求項9】 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の
印刷装置を用いた画像形成装置の製造方法であって、 前記画像形成装置を構成する素子基板上の前記相対位置
検出手段に対向する位置に前記相対位置検出手段により
検出される被検出手段を設け、 前記素子基板を前記ワーク定盤上に装着し、 前記ブランケット胴を前記インキ練り台及び前記素子基
板上において回転移動させることにより前記素子基板上
に印刷を施すことを特徴とする画像形成装置の製造方
法。
9. A method of manufacturing an image forming apparatus using the printing apparatus according to claim 1, wherein the relative position detecting means on the element substrate forming the image forming apparatus is used. Detecting means detected by the relative position detecting means are provided at opposing positions, the element substrate is mounted on the work surface plate, and the blanket cylinder is rotationally moved on the ink kneading stand and the element substrate. A method for manufacturing an image forming apparatus, wherein printing is performed on the element substrate according to the above method.
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JP2008178997A (en) * 2007-01-23 2008-08-07 Hirano Giken Kogyo Kk Printing machine and printing method
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