JP2000250206A - Photopolymerizable composition and photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photopolymerizable composition and photosensitive planographic printing plate

Info

Publication number
JP2000250206A
JP2000250206A JP4973299A JP4973299A JP2000250206A JP 2000250206 A JP2000250206 A JP 2000250206A JP 4973299 A JP4973299 A JP 4973299A JP 4973299 A JP4973299 A JP 4973299A JP 2000250206 A JP2000250206 A JP 2000250206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photopolymerizable composition
weight
composition according
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4973299A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3753292B2 (en
Inventor
Etsuko Hino
悦子 檜野
Toshiyoshi Urano
年由 浦野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP4973299A priority Critical patent/JP3753292B2/en
Publication of JP2000250206A publication Critical patent/JP2000250206A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3753292B2 publication Critical patent/JP3753292B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high sensitivity photopolymerizable composition having good developability and free from problem on handling such as a foul odor by incorporating an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, a radical activator, a sensitizing dye and an aliphatic amino acid salt and using a pyromethene borate dye as the sensitizing dye. SOLUTION: The photopolymerizable composition contains an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, a radical activator, a sensitizing dye and an aliphatic amino acid salt and a pyromethene borate dye is contained as the sensitizing dye. The pyromethene borate dye may be a dye having a structure of the formula, wherein R1-R6 are each H, halogen, alkyl, aryl or the like, R7 is H, alkyl, aryl or aralkyl, X1 and X2 are each halogen, alkyl, aryl, aralkyl or the like and H atoms of the groups R1-R7 may further be substituted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷
版、配線板用銅エッチングレジスト、グラビア用銅エッ
チングレジスト、ドライフィルム、カラーフィルター及
びプラズマディスプレイ用顔料分散レジストなど各種の
パターン形成に好適に使用可能な光重合性組成物に関す
るものであり、特に高感度な光重合性組成物に関する。
The present invention is suitable for forming various patterns such as photosensitive lithographic printing plates, copper etching resists for wiring boards, copper etching resists for gravure, dry films, color filters and pigment dispersion resists for plasma displays. The present invention relates to a photopolymerizable composition that can be used, and particularly to a highly sensitive photopolymerizable composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成方法
は多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン
性二重結合を含む化合物と光重合開始系、さらに所望に
より用いられる有機高分子結合材等からなる光重合性組
成物を支持体上に塗布して光重合性組成物の層を設けた
感光材料を、露光して露光部分を重合硬化させ未露光部
分を溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成す
る方法、少なくとも一方が透明である二枚の支持体間に
光重合性組成物の層を設け、透明支持体側より露光し光
による接着強度の変化を起こさせ、支持体を剥離するこ
とにより画像を形成する方法、その他光重合性組成物層
の光によるトナー付着性の変化を利用した画像作成方法
などがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, many image forming methods using a photopolymerization system are known. For example, a photopolymerizable composition comprising a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiation system, and an organic polymer binder used as desired is further coated on a support to form a photopolymerizable composition. A method of forming a cured relief image by exposing a light-sensitive material provided with a layer of an object to polymerize and cure an exposed portion and dissolving and removing an unexposed portion, a method in which at least one is transparent between two substrates. A method of forming an image by providing a layer of a polymerizable composition, exposing from the transparent support side to cause a change in adhesive strength by light, and peeling off the support, and other toner adhesion of the photopolymerizable composition layer by light There is an image creation method utilizing a change in gender.

【0003】近年、光重合性感光材料を用いた高感度感
材が種々の応用分野において検討されている。これらの
うち、実用化が近いとみられるシステムとしてレーザー
直接製版があり、レーザーの発振波長、例えばアルゴン
イオンレーザーの488nm、FD−YAGレーザーの
532nmの光での露光に対応した高感度フォトポリマ
ー系の開発が望まれ種々提案されている。
In recent years, high-sensitivity photosensitive materials using a photopolymerizable photosensitive material have been studied in various application fields. Among these, there is a laser direct plate making as a system which is expected to be practically used, and a high sensitivity photopolymer system corresponding to exposure with a laser oscillation wavelength, for example, 488 nm of an argon ion laser and 532 nm of an FD-YAG laser. Development is desired and various proposals have been made.

【0004】これらにおいて最も大きな課題は、光線に
対する感材感度の向上である。通常、光重合開始系の活
性ラジカル発生能力は、450nm以上の光線に対して
は急激に感応性が減少することが良く知られている。可
視光領域の光線に感応し得る光重合開始系を含有する光
重合組成物に関しては、従来、種々の提案がなされてき
た。この内、FD−YAGレーザー周辺の波長に非常に
高感度でFD−YAGレーザー用の増感剤として特に有
効なのがピロメテン錯体増感剤とラジカル発生剤の系で
ある(特開平7−5685号、同4−241338、同
6−072184、同6−141588、同6−211
271、同7−22547、同8−062618、同8
−333455、同9−089572号公報等)。
[0004] The biggest problem in these is how to improve the sensitivity of a light-sensitive material to light rays. It is well known that the ability of the photopolymerization initiation system to generate active radicals rapidly decreases sensitivity to light rays of 450 nm or more. Various proposals have heretofore been made with respect to a photopolymerization composition containing a photopolymerization initiation system capable of responding to light in the visible light region. Among them, a system of a pyromethene complex sensitizer and a radical generator which is extremely sensitive to the wavelength around the FD-YAG laser and is particularly effective as a sensitizer for the FD-YAG laser (Japanese Patent Laid-Open No. 7-5885). 4-241338, 6-07184, 6-141588, 6-211
271, 7-22547, 8-0626218, 8
333455, 9-989572 and the like).

【0005】また、光重合開始系としてラジカル発生剤
と増感剤を併用することは良く知られており、チタノセ
ン類とジエチルアミノ安息香酸エチル等の芳香族アミノ
酸エステルを含有する系が特開平6−301208号公
報等に記載されている。更に、特表9−503871号
公報、特開平8−254821号公報、特開平5−13
2507号公報等には、チタノセン類とN−フェニルグ
リシンもしくはその特定構造の誘導体を含有する系が、
また、特開平10−246954号公報にはチタノセン
類、メロシアニン色素又はベンゾピラン色素とN−フェ
ニルグリシン塩等のアミノ酸塩とを含有する光重合性組
成物が記載されている。
It is well known that a radical generator and a sensitizer are used in combination as a photopolymerization initiation system. A system containing titanocenes and an aromatic amino acid ester such as ethyl diethylaminobenzoate is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. No. 301208 and the like. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-503871, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-254821, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-13
No. 2507 and the like, a system containing titanocenes and N-phenylglycine or a derivative having a specific structure thereof,
JP-A-10-246954 describes a photopolymerizable composition containing a titanocene, a merocyanine dye or a benzopyran dye, and an amino acid salt such as an N-phenylglycine salt.

【0006】しかしこれらの光重合性組成物は何れも可
視光の領域迄その感光波長域を有するが、感度が充分で
はなく、例えば、低出力のアルゴンレーザーやFD−Y
AGレーザーにより高速度に画像記録する場合には、更
に高感度の組成物とする必要があった。又、N−フェニ
ルグリシンを用いる場合は臭気が問題となった。
However, all of these photopolymerizable compositions have a photosensitive wavelength range up to the visible light range, but have insufficient sensitivity. For example, a low-output argon laser or FD-Y
When an image is recorded at a high speed by an AG laser, it is necessary to prepare a composition having higher sensitivity. When N-phenylglycine was used, odor became a problem.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑み成されたものであって、現像性が良好で、臭気等
の取り扱い上の問題がなく、且つ、高感度の光重合性組
成物を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and has a high developing property, has no problem in handling such as odor, and has a high sensitivity. The purpose is to provide things.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため鋭意検討を行い、光重合開始系としての
ラジカル活性剤、脂肪族アミノ酸塩及び特定構造の色素
を組み合わせて使用した場合、感度が大幅に向上し、且
つ、乾燥時の臭気も抑えられることを見出し本発明に到
達した。即ち、本発明の要旨は、少なくとも1個のエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、
ラジカル活性剤、増感色素及び脂肪族アミノ酸塩を含有
する光重合性組成物であって、増感色素としてピロメテ
ンボレート系色素を含有することを特徴とする光重合性
組成物に存する。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and used a combination of a radical activator, an aliphatic amino acid salt and a dye having a specific structure as a photopolymerization initiation system. In this case, it was found that the sensitivity was greatly improved and the odor during drying was suppressed, and the present invention was reached. That is, the gist of the present invention is an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond,
A photopolymerizable composition containing a radical activator, a sensitizing dye and an aliphatic amino acid salt, wherein the photopolymerizable composition contains a pyromethene borate dye as a sensitizing dye.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明の光重合性組成物において第一の必須成分と
して含まれる少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結
合を有する付加重合可能な化合物(以下「エチレン性単
量体」と略記する。)とは、光重合性組成物が活性光線
の照射を受けた場合、光重合開始系の作用により付加重
合し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合を有す
る単量体である。なお、本発明における単量体の意味す
るところは、いわゆる高分子体に相対する概念であっ
て、従って、狭義の単量体以外にも二量体、三量体、オ
リゴマーをも包含するものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. An addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond (hereinafter abbreviated as “ethylenic monomer”) contained as a first essential component in the photopolymerizable composition of the present invention. Is a monomer having an ethylenically unsaturated double bond that undergoes addition polymerization and cures by the action of a photopolymerization initiation system when the photopolymerizable composition is irradiated with actinic rays. In the present invention, the meaning of the monomer is a concept corresponding to a so-called polymer, and therefore includes not only a monomer in a narrow sense but also a dimer, a trimer, and an oligomer. It is.

【0010】エチレン性単量体としては、例えば不飽和
カルボン酸とモノヒドロキシ化合物とのエステル、脂肪
族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステ
ル、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と
のエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び前
述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキ
シ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応
により得られるエステル、ポリイソシアネート化合物と
(メタ)アクリロイル含有ヒドロキシ化合物とを反応さ
せたウレタン骨格を有するエチレン性化合物等が挙げら
れる。
Examples of the ethylenic monomer include an ester of an unsaturated carboxylic acid and a monohydroxy compound, an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, and an ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid. Ester, ester obtained by esterification reaction of unsaturated carboxylic acid with polyvalent carboxylic acid and polyvalent hydroxy compound such as aliphatic polyhydroxy compound and aromatic polyhydroxy compound, containing polyisocyanate compound and (meth) acryloyl Examples include an ethylenic compound having a urethane skeleton reacted with a hydroxy compound.

【0011】なお、本明細書において、「(メタ)アク
リロイル〜」等は「アクリロイル〜またはメタクリロイ
ル〜」等を意味する。前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物
と不飽和カルボン酸とのエステルは、特に限定されるも
のではないが、例えばエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒ
ドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合
物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル
酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エ
ステル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもし
くはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げら
れる。
In this specification, "(meth) acryloyl-" and the like mean "acryloyl- or methacryloyl-" and the like. The ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid is not particularly limited. For example, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentane Acrylic esters of aliphatic polyhydroxy compounds such as erythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, glycerol acrylate, and the like. Methacrylic acid ester in which acrylate was replaced with methacrylate, and similarly itaconate Itaconic acid esters, maleic acid esters, and the like was replaced with crotonic acid ester or maleate was replaced crotonate.

【0012】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合
物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が
挙げられる。
Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters of aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, pyrogallol triacrylate and the like. And methacrylic acid esters.

【0013】不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多
価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られる
エステルとしては必ずしも単一物である必要はない。代
表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸及びエ
チレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸及
びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレ
フタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル
酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合
物等が挙げられる。
The ester obtained by the esterification reaction of the unsaturated carboxylic acid with the polyvalent carboxylic acid and the polyvalent hydroxy compound does not necessarily have to be a single ester. Representative examples include acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol condensate, acrylic acid, maleic acid and diethylene glycol condensate, methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol condensate, acrylic acid, adipic acid, And condensates of butanediol and glycerin.

【0014】ポリイソシアネート化合物と(メタ)アク
リロイル基含有ヒドロキシ化合物とを反応させたウレタ
ン骨格を有するエチレン性単量体としては、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;シクロヘキ
サンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
の脂環式ジイソシアネート;トリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイ
ソシアネート等と2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシ
(1,1,1−トリアクリロイルオキシメチル)プロパ
ン、3−ヒドロキシ(1,1,1−トリメタクリロイル
オキシメチル)プロパン等の(メタ)アクリロイル基含
有ヒドロキシ化合物との反応物が挙げられる。
Examples of the ethylenic monomer having a urethane skeleton obtained by reacting a polyisocyanate compound with a (meth) acryloyl group-containing hydroxy compound include aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and trimethylhexamethylene diisocyanate; cyclohexane diisocyanate, and isophorone. Alicyclic diisocyanate such as diisocyanate; tolylene diisocyanate, aromatic diisocyanate such as diphenylmethane diisocyanate, and 2-hydroxyethyl acrylate;
(Meth) acryloyl group-containing hydroxy compounds such as 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxy (1,1,1-triacryloyloxymethyl) propane and 3-hydroxy (1,1,1-trimethacryloyloxymethyl) propane; The reactants are:

【0015】その他、本発明に用いられる多官能エチレ
ン性単量体の例としては、ジエポキシ化合物とヒドロキ
シエチルアクリレートとの付加反応物のようなエポキシ
アクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアク
リルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル
類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有
用である。
Other examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include epoxy acrylates such as an addition reaction product of a diepoxy compound and hydroxyethyl acrylate; acrylamides such as ethylene bisacrylamide; and phthalic acid. Allyl esters such as diallyl; vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate are useful.

【0016】これらのエチレン性単量体の配合率は、通
常、光重合性組成物の全固形分の10〜80重量%、好
ましくは20〜70重量%である。本発明に用いられる
付加重合可能なエチレン性単量体としては、少なくとも
一つの(メタ)アクリロイル基を含有するリン酸エステ
ル化合物を含有するのが、感光性平版印刷版に使用した
時の耐刷性、非画線部の抜け性の点で特に有用である。
特に限定はされないが、具体的には例えば下記一般式
(I)、(II)で示される化合物が挙げられる。
The mixing ratio of these ethylenic monomers is usually 10 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight of the total solids of the photopolymerizable composition. The addition-polymerizable ethylenic monomer used in the present invention contains a phosphate ester compound containing at least one (meth) acryloyl group. This is particularly useful in terms of the characteristics and the removability of the non-image area.
Although not particularly limited, specific examples include compounds represented by the following general formulas (I) and (II).

【0017】[0017]

【化4】 Embedded image

【0018】(一般式(I)、(II)中、R、R′は水
素原子又はメチル基を表し、lは1〜25の整数を示
し、nは1〜3の整数を示す。) 一般式(I)、(II)で表される化合物の内、lが1〜
10であるものが特に耐刷力及び非画線部の抜け性を改
善する点で好ましい。一般式(I)、(II)で表される
化合物の内、特に好ましい化合物の具体例としては、メ
タクリルオキシエチルフォスフェート、ビス(メタクリ
ルオキシエチル)フォスフェート、メタクリルオキシエ
チレングリコールフォスフェート等が挙げられる。
(In the general formulas (I) and (II), R and R 'represent a hydrogen atom or a methyl group, 1 represents an integer of 1 to 25, and n represents an integer of 1 to 3.) In the compounds represented by the formulas (I) and (II), 1 is 1 to
A value of 10 is particularly preferred in terms of improving the printing durability and the removability of the non-image area. Of the compounds represented by formulas (I) and (II), specific examples of particularly preferred compounds include methacryloxyethyl phosphate, bis (methacryloxyethyl) phosphate, methacryloxyethylene glycol phosphate, and the like. Can be

【0019】本発明で使用するリン酸エステル化合物は
単独でも、複数の化合物の混合物でも良い。該リン酸エ
ステル化合物の含有割合は、エチレン性単量体合計に対
して1〜50重量%が好ましい。本発明の第2の必須成
分であるラジカル活性剤としては、前記エチレン性単量
体の重合を開始させ得るものであれば全て使用できる。
特にその内でも可視領域の光線に対して感光性を有する
ものであれば、いずれも好適に使用し得る。このうち、
光励起された増感剤と何らかの作用を及ぼしあうことに
より活性ラジカルを生成する活性剤としては、例えば、
チタノセン類、ヘキサアリールビイミダゾール類、ハロ
ゲン化炭化水素誘導体、ジアリールヨードニウム塩、有
機過酸化物等を挙げることができる。特にチタノセン類
と一般式(I)の化合物を組み合わせた光重合性組成物
が、感度、保存性、塗膜の基盤への密着性等が特に良好
で好ましい。
The phosphate compound used in the present invention may be a single compound or a mixture of a plurality of compounds. The content of the phosphate compound is preferably from 1 to 50% by weight based on the total amount of the ethylenic monomers. As the radical activator, which is the second essential component of the present invention, any radical activator that can initiate the polymerization of the ethylenic monomer can be used.
In particular, any of them can be suitably used as long as they have photosensitivity to light rays in the visible region. this house,
Examples of an activator that generates an active radical by interacting with a photoexcited sensitizer, such as
Examples thereof include titanocenes, hexaarylbiimidazoles, halogenated hydrocarbon derivatives, diaryliodonium salts, and organic peroxides. In particular, a photopolymerizable composition in which a titanocene and a compound of the formula (I) are combined is particularly preferable because sensitivity, storage stability, adhesion to a coating film base, and the like are particularly good.

【0020】チタノセン類としては、種々のものを用い
ることができるが、例えば特開昭59−152396
号、特開昭61−151197号各公報に記載されてい
るチタンを中心金属とする錯体である各種チタノセン類
から適宜選んで用いることができる。具体的には、下記
一般式(A)で表されるチタノセン化合物が好ましい。
As the titanocenes, various ones can be used. For example, JP-A-59-152396
And various titanocenes which are complexes having titanium as a central metal described in JP-A-61-151197. Specifically, a titanocene compound represented by the following general formula (A) is preferable.

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】(式中、R21〜R30はそれぞれ、水素原
子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基また
は複素環基を表す。) 更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ
−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,
5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオ
ロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−
2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3
−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を挙げるこ
とができる。これらは、二種以上を併用して用いても良
い。
(Wherein, R 21 to R 30 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group or a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms.) More specifically, di-cyclopentadienyl- Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,
5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-
2,6-di-fluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-
1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3
-(Pyr-1-yl) -phenyl-1-yl and the like. These may be used in combination of two or more.

【0023】その他ラジカル活性剤として例えば、ヘキ
サアリールビイミダゾール類も好適に用いられる。ヘキ
サアリールビイミダゾール類としては、種々のものを用
いることができるが、例えば、2,2′−ビス(o−ク
ロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−フ
ルオロフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o
−ブロムフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p
−ヨードフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
(p−クロルナフチル)ビイミダゾール、2,2′−ビ
ス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テト
ラ(p−クロルフェニル)ビイミダゾール、2,2′−
ビス(o−ブロムフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラ(p−クロル−p−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)
ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロルフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジブロム
フェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロ
ムフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−
ジクロルフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o,p−ジクロルフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール類
等のベンゼン環上にハロゲン置換基を有するヘキサアリ
ールビイミダゾール類が好ましい。
As other radical activators, for example, hexaarylbiimidazoles are also suitably used. Various hexaarylbiimidazoles can be used. For example, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-fluorophenyl) Biimidazole, 2,2'-bis (o
-Bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p
-Iodophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chloronaphthyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chloro Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chlorophenyl) biimidazole, 2,2'-
Bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chloro-p-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl)
Biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dibromophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) ) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-
Dichlorophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Hexaarylbiimidazoles having a halogen substituent on the benzene ring, such as tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole, are preferred.

【0024】これらのヘキサアリールビイミダゾール類
は、必要に応じ、他種のビイミダゾールと併用して使用
することもできる。ビイミダゾール類は例えばBul
l.Chem.Soc.Japan.33,565(1
960)及びJ.Org.Chem.36[16]22
62(1971)に開示されている方法により容易に合
成することができる。本発明は増感色素として、ピロメ
テンボレート系色素を使用することが重要である。ピロ
メテンボレート系色素として、好ましくは、下記一般式
(1)で示される構造のものが好ましい。
These hexaarylbiimidazoles can be used in combination with another kind of biimidazole, if necessary. Biimidazoles are, for example, Bul
l. Chem. Soc. Japan. 33,565 (1
960) and J.M. Org. Chem. 36 [16] 22
62 (1971). In the present invention, it is important to use a pyrromethene borate dye as the sensitizing dye. As the pyromethene borate dye, those having a structure represented by the following general formula (1) are preferable.

【0025】[0025]

【化6】 Embedded image

【0026】{式中、R1 〜R6 は、それぞれ、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、芳香族複素
環基又は−SO3 −R8 基(R8 は水素原子、アルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルカリ金属原子又は
オニウムイオンを表す。)を表す。R7 は、水素原子、
アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、
1 、X2 はそれぞれハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、芳香族複素環基を表す。R1
8 で示される基の水素原子はさらに置換されていても
良い。}
In the formula, R 1 to R 6 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aromatic heterocyclic group, or —SO 3 —R 8 A group (R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkali metal atom or an onium ion). R 7 is a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group,
X 1 and X 2 each represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an aromatic heterocyclic group. R 1 ~
The hydrogen atom of the group represented by R 8 may be further substituted. }

【0027】一般式(1)のR1 〜R8 において、ハロ
ゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、
ヨード原子が挙げられる。アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、シクロペンチル、n−ヘキシル、シ
クロヘキシル、2−エチルヘキシル等の炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜8、特に好ましくは炭素数1
〜6の、直鎖もしくは分岐鎖又は環状のアルキル基であ
る。アリール基としては、フェニル、ナフチル等の1〜
2環の基が好ましい。アラルキル基としては、アルキル
部分の炭素数が1〜10であることが好ましく、例えば
ベンジル、フェネチル等が挙げられる。アシル基として
は、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリル等の炭素
鎖側の炭素数が1〜3のアシル基が好ましい。アルコキ
シカルボニル基としては、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロポキシカルボニル等の炭素数が1〜
3のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基が好
ましい。芳香族複素環基としては、例えばピロリル、フ
リル、チエニル、ピリジル、ピリミジル等のヘテロ原子
として窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有する5〜6
員環が好ましい。これらの基は更に、置換されていても
良く、置換基としては炭素数1〜4のアルキル基、ヒド
ロキシ基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。又
8 がアルカリ金属原子を表す場合、リチウム、ナトリ
ウム、カリウムが好ましく、オニウムイオンとしては、
アンモニウムイオン、置換アンモニウムイオン、ヨード
ニウムイオン、置換ヨードニウムイオン等が好ましい。
In R 1 to R 8 of the general formula (1), examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom,
And iodine atoms. Examples of the alkyl group include those having 1 to 1 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, t-butyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl and 2-ethylhexyl.
0, preferably 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably 1 carbon atom
To 6 linear or branched or cyclic alkyl groups. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl and the like.
Bicyclic groups are preferred. The aralkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms in the alkyl portion, and examples include benzyl and phenethyl. As the acyl group, for example, an acyl group having 1 to 3 carbon atoms on the carbon chain side, such as acetyl, propionyl, and butyryl, is preferable. As the alkoxycarbonyl group, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl and the like have 1 to 1 carbon atoms.
An alkoxycarbonyl group having 3 alkoxy groups is preferred. Examples of the aromatic heterocyclic group include those containing a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom as hetero atoms such as pyrrolyl, furyl, thienyl, pyridyl and pyrimidyl.
Member rings are preferred. These groups may be further substituted, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group and an alkoxycarbonyl group. When R 8 represents an alkali metal atom, lithium, sodium and potassium are preferred, and as the onium ion,
Ammonium ion, substituted ammonium ion, iodonium ion, substituted iodonium ion and the like are preferable.

【0028】X1 、X2 として特に好ましくはハロゲン
原子である。又R1 〜R6 としては水素原子、炭素数1
〜8のアルキル基が好ましく、特に、R1 、R3
4 、R 6 が水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基
で、R2 、R5 、R7 が水素原子又は炭素数1〜6のア
ルキル基であることが好ましい。これらのアルキル基は
分岐鎖を有していても良く、又置換されていても良い。
X1, XTwoParticularly preferably as halogen
Is an atom. Also R1~ R6Is a hydrogen atom, carbon number 1
To 8 alkyl groups are preferred.1, RThree,
RFour, R 6Is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
And RTwo, RFive, R7Is a hydrogen atom or an atom having 1 to 6 carbon atoms.
It is preferably a alkyl group. These alkyl groups are
It may have a branched chain and may be substituted.

【0029】一般式(1)で示されるピロメテンボレー
ト系色素は、例えば、米国特許4774339号、ある
いはJ.H.Boyer et al,Heteroa
tom Chemistry,Vol.1,5,389
(1990)に記載の方法により合成される。本発明に
使用されるピロメテンボレート系色素からなる増感剤の
代表例を以下の第1表に示すが、本発明の増感剤は、以
下の例に限定されるものではない。
The pyrromethene borate dye represented by the general formula (1) is described in, for example, US Pat. H. Boyer et al, Heteroa
Tom Chemistry, Vol. 1,5,389
(1990). Representative examples of the sensitizer comprising a pyrromethene borate dye used in the present invention are shown in Table 1 below, but the sensitizer of the present invention is not limited to the following examples.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】これらの増感剤は1種又は2種以上併用し
て使用される。光重合開始系の第3成分である脂肪族ア
ミノ酸塩及びその縮合体は、本発明の光重合性組成物中
に添加することにより感応感度を高める機能を有する。
本機能を発現させる機構については明らかではないが、
光重合過程において、ラジカル連鎖移動剤、酸素又は酸
素がラジカルと付加反応して生成される過酸化ラジカル
のトラップ剤、或いは画像露光後の現像過程において、
未露光部分のアルカリ現像液に対する溶解性促進剤とし
て働き、その結果として高い感度を示すものと考えられ
る。
These sensitizers are used alone or in combination of two or more. The aliphatic amino acid salt and the condensate thereof, which are the third component of the photopolymerization initiation system, have a function of increasing sensitivity when added to the photopolymerizable composition of the present invention.
Although the mechanism for expressing this function is not clear,
In the photopolymerization process, a radical chain transfer agent, a trapping agent for peroxide radicals generated by addition reaction of oxygen or oxygen with radicals, or in a development process after image exposure,
It is considered that the unexposed portion acts as a solubility accelerator for an alkali developing solution, and as a result, exhibits high sensitivity.

【0032】本発明で使用される脂肪族アミノ酸塩と
は、カルボキシル基の炭素原子とアミノ基の窒素原子と
が、主鎖の炭素数が1以上のアルキレン鎖を介して結合
した骨格を有する酸性、塩基性、または中性のアミノ酸
のカルボン酸と、一価又は多価の陽イオンとで形成され
る塩であり、該脂肪族アミノ酸塩の水素原子が他の基で
置換されているもの、またはそれらが直接あるいは連結
基を介して縮合したものを包含する。
The aliphatic amino acid salt used in the present invention is an acidic amino acid salt having a skeleton in which a carbon atom of a carboxyl group and a nitrogen atom of an amino group are bonded via an alkylene chain having at least one carbon atom in the main chain. A salt formed with a carboxylic acid of a basic or neutral amino acid and a monovalent or polyvalent cation, wherein a hydrogen atom of the aliphatic amino acid salt is substituted with another group, Or, those which are condensed directly or via a linking group are included.

【0033】又、該脂肪族のアミノ酸塩の陰イオンと陽
イオンとしては、一価、多価いずれも用いることができ
る。以下に、陰イオン、陽イオンの好ましい形態につい
て別々に述べるが、実際の化合物はそれらの組み合わせ
である。又、その組み合わせは、全体の価数が0になる
ものであれば、それらの種類、数は任意に選ぶことがで
きる。脂肪族アミノ酸陰イオンの好ましい構造は、下記
一般式(2)で表されるものである。
As the anion and cation of the aliphatic amino acid salt, both monovalent and polyvalent can be used. The preferred forms of the anion and the cation are separately described below, but the actual compound is a combination thereof. The type and number of the combination can be arbitrarily selected as long as the total valence becomes zero. The preferred structure of the aliphatic amino acid anion is represented by the following general formula (2).

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】(式中、mは、1〜10の数を表し、R9
〜R12は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール
基、芳香族複素環基を表す。これらの基は更に置換され
ていても良い。mが2以上の時、複数のR11及びR12
同じでも異なっていても良い。)一般式(2)におい
て、特に好ましくは、R9 が置換基を有していても良い
フェニル基、置換基を有していても良いナフチル基、置
換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキル基の
場合である。さらに好ましいR9 は、下記一般式(3)
で表される。
[0035] (wherein, m represents the number of 1 to 10, R 9
To R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group. These groups may be further substituted. When m is 2 or more, a plurality of R 11 and R 12 may be the same or different. In formula (2), R 9 is particularly preferably a phenyl group optionally having a substituent, a naphthyl group optionally having a substituent, or a carbon number optionally having a substituent. This is the case with 1 to 15 alkyl groups. More preferred R 9 is represented by the following general formula (3)
It is represented by

【0036】[0036]

【化8】 Embedded image

【0037】(式中、R13〜R17はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アリール基、芳香族複素環基、アルコキシ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、シアノ基、アルケニル基、アクリロイルオキシ基、
アクリロイル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、ホ
ルミル基、アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、ス
ルホ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル基、アミノ基、アミド基を表わす。これ
らの基は更に置換されていても良い。)
(Wherein, R 13 to R 17 each represent a hydrogen atom,
Alkyl group, aryl group, aromatic heterocyclic group, alkoxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, cyano group, alkenyl group, acryloyloxy group,
An acryloyl group, an aryloxy group, a halogen atom, a formyl group, an alkylcarbonyloxy group, a nitro group, a sulfo group, an alkylthio group, an alkylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, an amino group, and an amide group. These groups may be further substituted. )

【0038】一般式(2)及び(3)においてR9 〜R
17で表される、置換基を有していても良い各々の基にお
ける置換基として好ましいものは、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アシル
基、アルキルカルボニルオキシ基、アリル基、ビニル
基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アミ
ド基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基であり、
これらの基もまた置換基を有することができる。
In the general formulas (2) and (3), R 9 to R
Preferred as a substituent in each group which may have a substituent represented by 17 is an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, an acyl group, an alkylcarbonyloxy group, an allyl group, Vinyl group, aryloxy group, halogen atom, amino group, amide group, acryloyl group, acryloyloxy group,
These groups can also have substituents.

【0039】特に好ましいR10としては、水素原子、置
換基を有していても良い炭素数が1〜15のアルキル
基、置換基を有していても良い炭素数5〜15のアリー
ル基が挙げられる。それらの置換基としては、水酸基、
カルボキシル基、−COO- 基、アルコキシカルボニル
基、アルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。より好
ましくは、水素原子又は上記置換基を有していても良い
炭素数が1〜5のアルキル基が挙げられる。
Particularly preferred R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 5 to 15 carbon atoms which may have a substituent. No. As those substituents, a hydroxyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a -COO - group, an alkoxycarbonyl group, and an alkylcarbonyloxy group. More preferably, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have the above-mentioned substituent is exemplified.

【0040】特に好ましいR11、R12としては、水素原
子、炭素数1〜10のアルキル基、フェニル基等が挙げ
られるが、その中でも特に水素原子が好ましい。又、一
般式(2)で示される化合物の縮合物としては、一般式
(2)で示される複数の化合物がR10〜R17の位置にお
いて直接又は結合基を介して結合した化合物であり、通
常2〜5量体が挙げられる。結合基としては2価以上の
ものであれば特に限定されないが、例えば
Particularly preferred examples of R 11 and R 12 include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a phenyl group. Among them, a hydrogen atom is particularly preferred. Further, the condensate of the compound represented by the general formula (2) is a compound in which a plurality of compounds represented by the general formula (2) are bonded directly or via a bonding group at the positions of R 10 to R 17 , Usually, a 2- to 5-mer is used. The bonding group is not particularly limited as long as it has two or more valences.

【0041】[0041]

【化9】 Embedded image

【0042】−S−、−O−、−SO2 −、−O−(C
2 q −O−(q=1〜5)、−CO−、−C(CH
3 2 −、−C(CF3 2 −等が挙げられる。脂肪族
アミノ酸塩を構成する陽イオンとしては、一価、多価い
ずれも用いることができるが、好ましくは一価のイオン
である。一価の陽イオンとしては、アルカリ金属イオ
ン、またはアンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、
オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ヨードニウ
ムイオン等のオニウムイオンが挙げられ、多価の陽イオ
ンとしては、アルカリ土類金属イオン(二価)、また
は、前述のオニウムイオンがn個、炭化水素基を介して
結合して形成されるn価の陽イオンである。次に、本発
明に用いられる脂肪族アミノ酸塩およびその縮合誘導体
の具体例を下記第2表に示すが、本発明に使用される脂
肪族アミノ酸塩およびその誘導体はこれら具体例に限定
されるものではない。
[0042] -S -, - O -, - SO 2 -, - O- (C
H 2 ) q —O— (q = 1 to 5), —CO—, —C (CH
3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- and the like. As the cation constituting the aliphatic amino acid salt, either monovalent or polyvalent can be used, but a monovalent ion is preferable. As the monovalent cation, an alkali metal ion, or an ammonium ion, a phosphonium ion,
Onium ions such as oxonium ions, sulfonium ions, and iodonium ions are mentioned. As the polyvalent cations, alkaline earth metal ions (divalent), or n of the above-mentioned onium ions via a hydrocarbon group Is an n-valent cation formed by bonding. Next, specific examples of the aliphatic amino acid salt and its condensed derivative used in the present invention are shown in Table 2 below. The aliphatic amino acid salt and its derivative used in the present invention are not limited to these specific examples. is not.

【0043】[0043]

【表2】 [Table 2]

【0044】[0044]

【表3】 [Table 3]

【0045】これらの脂肪族アミノ酸塩又はその縮合重
合体は二種以上併用しても良い。本発明組成物に好まし
く用いられる脂肪族アミノ酸塩は一般式(2)で示され
る陰イオン(特にR9 が一般式(3)で示されるものが
好ましい。)と一価の陽イオンからなる塩である。
These aliphatic amino acid salts or condensation polymers thereof may be used in combination of two or more. The aliphatic amino acid salt preferably used in the composition of the present invention is a salt comprising an anion represented by the general formula (2) (particularly a compound in which R 9 is represented by the general formula (3)) and a monovalent cation. It is.

【0046】更に、本発明で用いる光重合開始系は必要
に応じて2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカ
プトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズオキサ
ゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、
N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキル安息香酸ア
ルキルエステル等の水素供与性化合物を加えることによ
って更に光重合開始能力を高めることができる。このう
ち特に好ましいのは、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプ
トベンズオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4−
トリアゾール等のメルカプト基を有する化合物や、N,
N−ジアルキル安息香酸アルキルエステルである。
Further, the photopolymerization initiation system used in the present invention may be 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, if necessary.
By adding a hydrogen-donating compound such as N-phenylglycine or alkyl N, N-dialkylbenzoate, the photopolymerization initiation ability can be further enhanced. Of these, particularly preferred are 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4-
Compounds having a mercapto group such as triazole, N,
It is an N-dialkyl benzoic acid alkyl ester.

【0047】本発明の光重合性組成物は、前記の必須構
成成分の他に、本組成物の改質、光硬化後の物性改善の
為に、結合剤として有機高分子物質を添加することが好
ましい。結合剤は、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着
性等の改善目的に応じて適宜選択すればよい。有機高分
子結合材の具体的な例としては例えば下記の化合物が挙
げられる。
In the photopolymerizable composition of the present invention, in addition to the above essential components, an organic polymer substance is added as a binder for modifying the composition and improving physical properties after photocuring. Is preferred. The binder may be appropriately selected according to the purpose of improving the compatibility, the film-forming property, the developing property, the adhesive property and the like. Specific examples of the organic polymer binder include, for example, the following compounds.

【0048】1)ポリオレフィン系ポリマー;ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等 2)ジエン系ポリマー;ポリブタジエン、ポリイソプレ
ン等 3)共役ポリエン構造を有するポリマー;ポリアセチレ
ン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー等 4)ビニルポリマー;ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、
ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリア
クリロニトリル、ポリビニルフェノール等
1) Polyolefin polymer; polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, etc. 2) Diene polymer; polybutadiene, polyisoprene, etc. 3) Polymer having a conjugated polyene structure; polyacetylene polymer, polyphenylene polymer, etc. 4) Vinyl polymer: poly Vinyl chloride, polystyrene,
Vinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid,
Polyacrylate, polyacrylamide, polyacrylonitrile, polyvinylphenol, etc.

【0049】5)ポリエーテル;ポリフェニレンエーテ
ル、ポリオキシラン、ポリオキセタン、ポリテトラヒド
ロフラン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリアセタール等 6)フェノール樹脂;ノボラック樹脂、レゾール樹脂等 7)ポリエステル;ポリエチレンテレフタレート、ポリ
フェノールフタレインテレフタレート、ポリカーボネー
ト、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等
5) Polyether; polyphenylene ether, polyoxirane, polyoxetane, polytetrahydrofuran, polyether ketone, polyether ether ketone, polyacetal, etc. 6) Phenol resin; novolak resin, resole resin, etc. 7) Polyester; polyethylene terephthalate, polyphenol Phthalein terephthalate, polycarbonate, alkyd resin, unsaturated polyester resin, etc.

【0050】8)ポリアミド;ナイロン−6、ナイロン
66、水溶性ナイロン、ポリフェニレンアミド等 9)ポリペプチド;ゼラチン、カゼイン等 10)エポキシ樹脂およびその変性物;ノボラックエポ
キシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹脂、ノボラックエ
ポキシアクリレートおよび酸無水物による変性樹脂等 11)その他;ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹
脂、尿素樹脂、ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、
ポリピロール、ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリス
ルホン、セルロース類等
8) Polyamide; Nylon-6, Nylon 66, water-soluble nylon, polyphenylene amide, etc. 9) Polypeptide; Gelatin, casein, etc. 10) Epoxy resin and its modified products; Novolak epoxy resin, bisphenol epoxy resin, novolak epoxy acrylate And modified resins with acid anhydrides 11) Others: polyurethane, polyimide, melamine resin, urea resin, polyimidazole, polyoxazole,
Polypyrrole, polyaniline, polysulfide, polysulfone, celluloses, etc.

【0051】これらの樹脂の中では樹脂側鎖または主鎖
にカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基等を有す
る樹脂を含有すると、光重合性組成物がアルカリ現像可
能なため、公害防止の観点から好ましい。特にカルボキ
シル基を有する樹脂、例えば、アクリル酸(共)重合
体、スチレン/無水マレイン酸樹脂、ノボラックエポキ
シアクリレートの酸無水物変性樹脂等は高アルカリ現像
性なので好ましい。
[0051] Among these resins, it is preferable from the viewpoint of preventing pollution since the photopolymerizable composition can be alkali-developed if it contains a resin having a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group in the resin side chain or main chain. In particular, a resin having a carboxyl group, for example, an acrylic acid (co) polymer, a styrene / maleic anhydride resin, an acid anhydride-modified resin of novolak epoxy acrylate, and the like are preferable because of high alkali developability.

【0052】さらに、アクリル系樹脂は現像性に優れて
いるので好ましく、様々なモノマーを選択して種々の共
重合体を得ることが可能なため、性能および製造制御の
観点からより好ましい。具体例としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メ
タ)アクリルアミド、マレイン酸、(メタ)アクリロニ
トリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレ
イミド等の単独もしくは共重合体、その他、ポリエチレ
ンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポ
リウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエチレ
ンテレフタレート、アセチルセルロース、またはポリビ
ニルブチラール等が挙げられる。高分子結合剤として
は、アルカリ性現像液に対する溶解性の点で分子内にカ
ルボキシル基を有する高分子結合材が好ましく、中でも
(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも一種と(メ
タ)アクリル酸を共重合成分として含有する共重合体が
好ましい。(メタ)アクリル酸エステルのエステルを構
成する基としては、特に限定されないが、C1 〜C 16
度の脂肪族又は芳香族炭化水素基が一般的である。分子
内にカルボキシル基を有する高分子結合材の好ましい酸
価の値は10〜250であり、好ましい重量平均分子量
(以下Mwと略す)は5千から100万である。
Further, acrylic resin is excellent in developability.
Are preferred, and various monomers can be selected to
Because it is possible to obtain polymers, performance and production control
It is more preferable from the viewpoint. As a specific example, for example,
(T) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester,
TA) acrylamide, maleic acid, (meth) acryloni
Tolyl, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride, male
Homo- or copolymers of imides, etc., polyethylene
Oxide, polyvinylpyrrolidone, polyamide,
Polyurethane, polyester, polyether, polyethylene
Terephthalate, acetylcellulose, or polyvinyl chloride
Nilbutyral and the like. As a polymer binder
Is in the molecule in terms of solubility in alkaline developers.
A polymer binder having a ruboxyl group is preferable, and among them,
(Meth) acrylic acid ester and at least one
(T) A copolymer containing acrylic acid as a copolymer component
preferable. (Meth) acrylic acid ester
The group to be formed is not particularly limited.1~ C 16About
Degrees of aliphatic or aromatic hydrocarbon groups are common. molecule
Preferred acid of polymer binder having carboxyl group in it
The value of the valence is from 10 to 250, and the preferred weight average molecular weight
(Hereinafter abbreviated as Mw) is 5,000 to 1,000,000.

【0053】これらの高分子結合材は、側鎖に不飽和結
合を有する事が望ましく、特に下記一般式(4)〜
(6)で示される少なくとも1種の不飽和結合を有する
ことが好ましい。
It is desirable that these polymer binders have an unsaturated bond in the side chain, and in particular, the following general formulas (4) to (4).
It preferably has at least one type of unsaturated bond represented by (6).

【0054】[0054]

【化10】 Embedded image

【0055】(式中、R30は水素原子又はメチル基を示
す。また、R31〜R35は各々独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール
オキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ
基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換
基を有していてもよいアルキルスルホニル基、又は置換
基を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Z
は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示す。)
(Wherein R 30 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 31 to R 35 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, Having a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, and a substituent An optionally substituted aryloxy group, an optionally substituted alkylamino group, an optionally substituted arylamino group, an optionally substituted alkylsulfonyl group, or a substituent An arylsulfonyl group optionally having
Represents an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group, or an alkylimino group. )

【0056】このような高分子結合材は樹脂側鎖に二重
結合を付与することにより光硬化性が高まるため、解像
性、密着性をさらに向上させることができ好ましい。エ
チレン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、
特公昭50−34443、特公昭50−34444等に
記載の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル
基や水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基
および(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物やアク
リル酸クロライド等を反応させる方法が挙げられる。例
えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロト
ニルグリシジルエーテル、(イソ)クロトン酸グリシジ
ルエーテル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸クロライ
ド、(メタ)アリルクロライド等の化合物を使用し、カ
ルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させることに
より側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。特
に、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メ
タ)アクリレートのような脂環式エポキシ化合物を反応
させた樹脂が好ましい。
Such a polymer binder is preferable because the photocurability is enhanced by imparting a double bond to the resin side chain, so that the resolution and adhesion can be further improved. As a synthetic means for introducing an ethylenic double bond, for example,
The methods described in JP-B-50-34443, JP-B-50-34444 and the like can be mentioned. Specific examples include a method in which a compound having a glycidyl group, an epoxycyclohexyl group, and a (meth) acryloyl group in combination with a carboxyl group or a hydroxyl group, an acrylic acid chloride, or the like is used. For example, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl α-ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl ether (iso) crotonate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, (meth) By using a compound such as acrylic acid chloride or (meth) allyl chloride and reacting it with a resin having a carboxyl group or a hydroxyl group, a resin having a polymer group in the side chain can be obtained. In particular, a resin obtained by reacting an alicyclic epoxy compound such as (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate is preferable.

【0057】以上、本発明の光重合性組成物の主要構成
成分について詳述してきたが、それ等の好適な使用比率
は重合可能なエチレン性単量体100重量部に対して光
重合開始剤の内、前記ピロメテン系増感剤が、好ましく
は0.01〜20重量部、特に好ましいのは0.5〜1
0重量部、更に好ましくは0.5〜8重量部、脂肪族ア
ミノ酸塩又はその縮合物は、好ましくは0.1〜80重
量部、特に好ましくは0.5〜60重量部、更に好まし
くは1〜30重量部である。ラジカル活性剤は好ましく
は0.1〜80重量部、特に好ましいのは0.5〜60
重量部、更に好ましくは1〜30重量部である。また高
分子結合材は、好ましくは10〜400重量部、特に好
ましくは20〜200重量部、更に好ましくは50〜2
00重量部の範囲である。
The main constituents of the photopolymerizable composition of the present invention have been described in detail above. The preferred ratio of these components is 100 parts by weight of the polymerizable ethylenic monomer and the photopolymerization initiator. Of the above, the pyromethene sensitizer is preferably 0.01 to 20 parts by weight, and particularly preferably 0.5 to 1 part by weight.
0 parts by weight, more preferably 0.5 to 8 parts by weight, the aliphatic amino acid salt or a condensate thereof is preferably 0.1 to 80 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 60 parts by weight, and more preferably 1 to 60 parts by weight. -30 parts by weight. The radical activator is preferably 0.1 to 80 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 60 parts by weight.
Parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight. The polymer binder is preferably 10 to 400 parts by weight, particularly preferably 20 to 200 parts by weight, and more preferably 50 to 2 parts by weight.
It is in the range of 00 parts by weight.

【0058】更に、例えばラジカル活性剤10重量部に
対し、ピロメテン系増感剤の好ましい量は0.1〜10
重量部、より好ましいのは0.5〜8重量部であり、脂
肪族アミノ酸塩またはその縮合誘導体の好ましい量は
0.5〜60重量部、更に好ましくは1〜30重量部で
ある。
Further, for example, a preferable amount of the pyrromethene sensitizer is 0.1 to 10 parts by weight based on 10 parts by weight of the radical activator.
Parts by weight, more preferably 0.5 to 8 parts by weight, and the preferred amount of the aliphatic amino acid salt or its condensed derivative is 0.5 to 60 parts by weight, further preferably 1 to 30 parts by weight.

【0059】本発明の光重合性組成物は前記の各成分の
他に、その目的に応じて更に他の物質を含有することが
できる。例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノ
ール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等の熱
重合防止剤;有機又は無機の染顔料からなる着色剤;ジ
オクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリクレ
ジルホスフェート等の可塑剤、三級アミンやチオールの
ような感度特性改善剤、その他色素前駆体等の添加剤も
加えることができる。
The photopolymerizable composition of the present invention may further contain other substances depending on the purpose in addition to the above-mentioned components. For example, thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone, p-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol; coloring agents composed of organic or inorganic dyes and pigments; dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, tricresyl Plasticizers such as phosphates, sensitivity property improvers such as tertiary amines and thiols, and other additives such as dye precursors can also be added.

【0060】また、本発明の光重合性組成物は、塗布性
改良剤として界面活性剤を含有することが出来る。その
中でも特に好ましいのはフッ素系界面活性剤である。以
上述べた添加剤の好ましい添加量は、エチレン性単量体
100重量部に対して熱重合防止剤は2重量部以下、着
色剤は20重量部以下、可塑剤は40重量部以下、色素
前駆体は30重量部以下、界面活性剤は10重量部以下
の範囲である。
Further, the photopolymerizable composition of the present invention may contain a surfactant as a coating property improving agent. Among them, particularly preferred are fluorine-based surfactants. Preferred amounts of the additives described above are 2 parts by weight or less of the thermal polymerization inhibitor, 20 parts by weight or less of the colorant, 40 parts by weight or less of the plasticizer, and 100 parts by weight of the ethylenic monomer. Body weight is less than 30 parts by weight and surfactant is less than 10 parts by weight.

【0061】以上述べた光重合性組成物は、適当な溶媒
で希釈して、支持体上に塗布・乾燥し感光層を形成する
ことにより、画像形成材料となる。画像形成材料が、感
光性平版印刷版の場合、支持体として表面を粗面化した
後、陽極酸化処理したアルミニウム支持体が好適に使用
し得る。粗面化の方法としては、一般に公知のブラシ研
磨法、ボール研磨法、電解エッチング法、化学エッチン
グ法、液体ホーニング法、サンドブラスト法等の方法及
びこれらの組み合わせが挙げられ、好ましくはブラシ研
磨法、ボール研磨法、電解エッチング法、化学エッチン
グ法、液体ホーニング法が挙げられる。更に粗面化処理
が施されたアルミニウム板は、必要に応じて酸またはア
ルカリ水溶液にてデスマット処理される。こうして得ら
れたアルミニウム板は、通常、陽極酸化処理されるが、
特に好ましくは、硫酸を含む電解液で処理する方法が挙
げられる。硫酸を含む電解液で陽極酸化する方法は、従
来公知の方法、例えば特開昭58−213894号公報
に記載の方法等に準じて行われる。具体的には、例えば
硫酸濃度5〜50重量%、好ましくは15〜30%の硫
酸が用いられ、温度は5〜50℃程度、好ましくは15
〜35℃であり、電流密度1〜60A/dm2 で5秒〜
60秒間程度で行なわれる。また、更に必要に応じて珪
酸ソーダ等の珪酸アルカリや熱水による処理、その他カ
チオン性4級アンモニウム基を有する樹脂やポリビニル
ホスホン酸等の水性高分子化合物を含有する水溶液への
浸漬等による表面処理を行うことができる。
The photopolymerizable composition described above is diluted with an appropriate solvent, coated on a support and dried to form a photosensitive layer, thereby forming an image forming material. When the image forming material is a photosensitive lithographic printing plate, an aluminum support which has been subjected to anodizing after roughening the surface as a support can be suitably used. Examples of the surface roughening method include generally known brush polishing methods, ball polishing methods, electrolytic etching methods, chemical etching methods, liquid honing methods, sand blasting methods, and the like, and combinations thereof. Examples include a ball polishing method, an electrolytic etching method, a chemical etching method, and a liquid honing method. The surface-roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as necessary. The aluminum plate thus obtained is usually anodized,
Particularly preferred is a method of treating with an electrolytic solution containing sulfuric acid. The method of anodizing with an electrolytic solution containing sulfuric acid is performed according to a conventionally known method, for example, a method described in JP-A-58-21894. Specifically, for example, sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 30% is used, and the temperature is about 5 to 50 ° C, preferably 15 to 50 ° C.
~ 35 ° C, current density 1 ~ 60A / dm 2 for 5 seconds ~
This is performed for about 60 seconds. Further, if necessary, a surface treatment such as treatment with an alkali silicate such as sodium silicate or hot water, or immersion in an aqueous solution containing an aqueous polymer compound such as a resin having a cationic quaternary ammonium group or polyvinylphosphonic acid. It can be performed.

【0062】感光性組成物の塗布方法としては、ディッ
プコート、コーティングロッド、スピナーコート、スプ
レーコート、ロールコート等の周知の方法により塗布す
ることが可能である。更に、前述の感光層の上には、酸
素による重合禁止作用を防止するために酸素遮断層を設
けることができる。その具体例としては、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサ
イド、セルロース等の水溶性高分子が挙げられる。この
内、特に酸素ガスバリア性の高いポリビニルアルコール
を含むものが好ましい。
The photosensitive composition can be applied by a known method such as dip coating, coating rod, spinner coating, spray coating, roll coating and the like. Further, an oxygen blocking layer can be provided on the above-mentioned photosensitive layer in order to prevent a polymerization inhibition effect by oxygen. Specific examples thereof include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and cellulose. Among them, those containing polyvinyl alcohol having particularly high oxygen gas barrier properties are preferable.

【0063】本発明の組成物に適用し得る露光光源とし
ては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍
光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、Y
AGレーザー、ヘリウムネオンレーザーらが特に好適に
使用し得る。
The exposure light source applicable to the composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include a carbon arc, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, and an argon ion. Laser, Y
AG laser, helium neon laser and the like can be particularly preferably used.

【0064】本発明の光重合性組成物は、かかる光源に
て画像露光を行った後、界面活性剤とアルカリを含有す
る水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成する
ことができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝
剤、染料または顔料を含有することができる。適当なア
ルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、及びトリメチルアミン、ジエチルアミン、イソ
プロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン類な
どの有機アミン化合物などが挙げられ、これらは単独も
しくは組み合わせて使用できる。界面活性剤としては、
例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキ
シエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエ
ステル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニ
オン系界面活性剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩類、
アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩
類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル
塩類等のアニオン界面活性剤;アルキルベタイン類、ア
ミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能である。また、
有機溶剤としては例えば、イソプロピルアルコール、ベ
ンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジア
セトンアルコール等を必要により含有させることが可能
である。
The photopolymerizable composition of the present invention can form an image on a support by performing image exposure with such a light source and developing with an aqueous solution containing a surfactant and an alkali. . The aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffer, a dye or a pigment. Suitable alkali agents include inorganic alkalis such as sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, and sodium bicarbonate. And organic amine compounds such as trimethylamine, diethylamine, isopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. These can be used alone or in combination. As a surfactant,
For example, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters; alkylbenzene sulfonates;
Anionic surfactants such as alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, sulfosuccinate salts and the like; amphoteric surfactants such as alkyl betaines and amino acids can be used. Also,
As the organic solvent, for example, isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol, and the like can be contained as necessary.

【0065】本発明の光重合性組成物は、感光性平版印
刷版の他、配線板用エッチングレジスト、グラビア用銅
エッチングレジスト、ドライフィルム、カラーフィルタ
ー及びプラズマディスプレイ用顔料分散レジスト等の光
重合性組成物が適用可能な公知の種々の用途に使用可能
である。
The photopolymerizable composition of the present invention may be used in addition to a photosensitive lithographic printing plate, such as an etching resist for wiring boards, a copper etching resist for gravure, a dry film, a color filter, and a pigment dispersion resist for plasma displays. The composition can be used for various known applications to which the composition can be applied.

【0066】[0066]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により更に
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定
されるものではない。 <結合剤の合成> 合成例1 メチルメタクリレート/イソブチルメタクリレート/イ
ソブチルアクリレート/メタクリル酸=35/20/1
0/35mol%(仕込み比)の共重合体、Mw=7万
(以下「結合材−1」と略す。)を200重量部、3,
4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート75重
量部、p−メトキシフェノール2.5重量部、テトラブ
チルアンモニウムクロライド8重量部、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート800重量部を反
応容器中に加え、110℃、24時間空気中で撹拌反応
させてエチレン性高分子結合材(酸価60、結合材−1
のメタアクリル酸成分全体の6割に不飽和基が反応。以
下「結合材−2」と略す。)溶液を得た。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. <Synthesis of Binder> Synthesis Example 1 Methyl methacrylate / isobutyl methacrylate / isobutyl acrylate / methacrylic acid = 35/20/1
0/35 mol% (preparation ratio) of a copolymer, Mw = 70,000 (hereinafter abbreviated as “binder 1”), 200 parts by weight, 3,
75 parts by weight of 4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 2.5 parts by weight of p-methoxyphenol, 8 parts by weight of tetrabutylammonium chloride, and 800 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate are added to a reaction vessel, and the mixture is heated at 110 ° C. for 24 hours in the air. To stir the ethylenic polymer binder (acid value 60, binder-1
Unsaturated groups reacted in 60% of the entire methacrylic acid component. Hereinafter, it is abbreviated as “binding material-2”. ) A solution was obtained.

【0067】合成例2 (α−メチル)スチレン/アクリル酸の共重合体(商品
名“SCX−690”Johnson社製、酸価24
0、Mw=1万5千)を855重量部、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルアクリレート490重量部、p
−メトキシフェノール1.3重量部、テトラエチルアン
モニウムクロライド4.3重量部、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート1800重量部を反応
容器中に加え、120℃、15時間空気中で撹拌反応さ
せてエチレン性高分子結合材(酸価約170、原料共重
合体のアクリル酸成分全体の約5割に不飽和基が反応。
以下「結合材−3」と略す。)溶液を得た。
Synthesis Example 2 Copolymer of (α-methyl) styrene / acrylic acid (trade name “SCX-690” manufactured by Johnson, acid number 24)
0, Mw = 15,000), 855 parts by weight, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate 490 parts by weight, p
1.3 parts by weight of methoxyphenol, 4.3 parts by weight of tetraethylammonium chloride, and 1800 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate are added to a reaction vessel, and the mixture is stirred at 120 ° C. for 15 hours in air to react with ethylenic polymer. Material (acid value about 170, unsaturated group reacts to about 50% of the whole acrylic acid component of raw material copolymer).
Hereinafter, it is abbreviated as “binding material-3”. ) A solution was obtained.

【0068】<アルミニウム支持体の製造>アルミニウ
ム板を3%水酸化ナトリウムにて脱脂し、これを11.
5g/l塩酸浴中で25℃、80A/dm2 の電流密度
で11秒電解エッチングし、水洗後30%硫酸浴中で3
0℃、11.5A/dm2 の条件で15秒間陽極酸化
し、水洗、乾燥して平版印刷版用アルミニウム板(以下
「支持体−1」と略す。)を得た。
<Production of Aluminum Support> The aluminum plate was degreased with 3% sodium hydroxide,
Electroetching was performed in a 5 g / l hydrochloric acid bath at 25 ° C. and a current density of 80 A / dm 2 for 11 seconds.
Anodizing was performed at 0 ° C. and 11.5 A / dm 2 for 15 seconds, washed with water and dried to obtain an aluminum plate for a lithographic printing plate (hereinafter abbreviated as “support-1”).

【0069】実施例1〜5 上記支持体−1上に、下記の光重合性組成物塗布液−1
をバーコーターを用いて乾燥膜厚2g/m2 となるよう
に塗布乾燥した。更にこの上に、ポリビニルアルコール
水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜厚3g/m2 とな
るように塗布乾燥し感光性平版印刷版を作製した。得ら
れた感光性平版印刷版について下記の方法で感度を評価
した。結果を第3表に示す。
Examples 1 to 5 The following photopolymerizable composition coating solution-1 was coated on the support-1.
Was applied and dried using a bar coater to a dry film thickness of 2 g / m 2 . Further, a photosensitive lithographic printing plate was prepared by applying and drying an aqueous solution of polyvinyl alcohol using a bar coater to a dry film thickness of 3 g / m 2 . The sensitivity of the obtained photosensitive lithographic printing plate was evaluated by the following method. The results are shown in Table 3.

【0070】 光重合性組成物塗布液−1 ラジカル発生剤 A−1*1 5 重量部 ラジカル発生剤 A−2*1 5 重量部 増感剤1*1 1.4重量部 増感剤2*1 0.6重量部 第3表に示すアミノ酸塩(表中の数字は添加重量部を示す) エチレン性単量体−1*1 22 重量部 エチレン性単量体−2*1 22 重量部 エチレン性単量体−3*1 11 重量部 高分子結合材−2 26 重量部 高分子結合材−3 10 重量部 顔料(P.B.15:6) 4 重量部 Disperbyk 161(ビックケミー社製) 2 重量部 旭硝子(株)社製フッ素系界面活性剤S−381 0.3重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300 重量部 シクロヘキサノン 645 重量部 メチルセロソルブ 200 重量部 *1;構造を後述する。Photopolymerizable Composition Coating Solution-1 Radical Generator A-1 * 1 5 parts by weight Radical Generator A-2 * 1 5 parts by weight Sensitizer 1 * 1 1.4 parts by weight Sensitizer 2 * 1 0.6 parts by weight Amino acid salts shown in Table 3 (the numbers in the table indicate the added parts by weight) Ethylene monomer-1 * 122 parts by weight Ethylene monomer-2 * 122 parts by weight Ethylene Functional monomer-3 * 1 11 parts by weight Polymer binder-2 26 parts by weight Polymer binder-3 10 parts by weight Pigment (P.B. 15: 6) 4 parts by weight Disperbyk 161 (manufactured by Big Chemie) 2 Parts by weight Fluorosurfactant S-381 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. 0.3 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 300 parts by weight Cyclohexanone 645 parts by weight Methyl cellosolve 200 parts by weight * 1;

【0071】評価項目 <感度>感光性平版印刷版を回析分光照射装置(ナルミ
社製、RM−23)を用いて露光した後、無水炭酸ナト
リウム0.8重量%、ペレックスNBL(花王(株)社
製)3重量%を含む水溶液中に、25℃で30秒浸漬後
スポンジで7回擦ることにより現像を行い、得られた硬
化画像の高さより、532nmの光線による光硬化に要
する光エネルギー量を求めた。
Evaluation items <Sensitivity> After exposing the photosensitive lithographic printing plate using a diffraction spectral irradiation apparatus (RM-23, manufactured by Narumi), 0.8% by weight of anhydrous sodium carbonate and Perex NBL (Kao Corporation) Developed by immersing in an aqueous solution containing 3% by weight at 25 ° C. for 30 seconds and rubbing with a sponge seven times, and based on the height of the obtained cured image, the light energy required for photocuring with a light beam of 532 nm. The amount was determined.

【0072】比較例1 実施例1において用いた増感剤−1及び2の代わりに、
ベンゾピラン系色素である増感剤3を用いた以外は同じ
組成の塗布液を用いて、実施例1と同様に感光性平版印
刷版を作成し、同様に評価を行ったところ、感度が低か
った。 比較例2 実施例1で用いた脂肪族アミノ酸塩の代わりにN−フェ
ニルグリシンを用いた以外は同じ組成の塗布液を用い
て、実施例1と同様に感光性平版印刷版を作成し、同様
に評価を行ったところ、塗布乾燥時に臭気が発生した。
Comparative Example 1 Instead of sensitizers 1 and 2 used in Example 1,
A photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 using a coating solution having the same composition except that sensitizer 3 which was a benzopyran-based dye was used, and the evaluation was performed in the same manner. As a result, the sensitivity was low. . Comparative Example 2 A photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that N-phenylglycine was used instead of the aliphatic amino acid salt used in Example 1, and a coating solution was prepared. As a result, an odor was generated during coating and drying.

【0073】<臭気の測定>各塗布液に使用したアミノ
酸塩もしくはN−フェニルグリシン各1gを塗布溶剤5
0gに溶解し、その溶液を40℃に加熱し、30cm離
れた場所で感じる臭気で判断した。臭気が甚だしい場合
を×、臭気を感じない場合を○とした。以上の結果を、
第3表に取り纏め表示した。
<Measurement of Odor> Each 1 g of the amino acid salt or N-phenylglycine used in each coating solution was applied to a coating solvent 5
0 g, and the solution was heated to 40 ° C. and judged by the odor felt at a distance of 30 cm. When the odor was severe, it was evaluated as x, and when no odor was felt, it was evaluated as ○. From the above results,
Table 3 summarizes and displays them.

【0074】[0074]

【表4】 [Table 4]

【0075】〔エチレン性単量体〕 単量体−1[Ethylene monomer] Monomer-1

【0076】[0076]

【化11】 Embedded image

【0077】単量体−2Monomer-2

【0078】[0078]

【化12】 Embedded image

【0079】単量体−3Monomer-3

【0080】[0080]

【化13】 Embedded image

【0081】〔ラジカル発生剤〕[Radical generator]

【0082】[0082]

【化14】 Embedded image

【0083】〔増感剤〕[Sensitizer]

【0084】[0084]

【化15】 Embedded image

【0085】[0085]

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、高感度かつ
現像性が良好であり、かつ含有される光重合開始剤の溶
解性が良好であるため塗布欠陥も生じ難く、特に、画像
形成材料として用いた場合に有用である。
The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity, good developability, and good solubility of the contained photopolymerization initiator, so that coating defects hardly occur. It is useful when used as a forming material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC01 AD01 BC13 BC31 BC65 BC84 CA27 CA39 CA41 CA48 2H096 AA06 AA26 BA05 EA02 EA04 4J011 QA03 QA04 QA12 QA13 QA15 QA17 QA22 QA23 QA34 QA37 QA38 QA42 QB19 QB24 SA61 SA86 SA88 UA01 UA02 VA01 WA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC01 AD01 BC13 BC31 BC65 BC84 CA27 CA39 CA41 CA48 2H096 AA06 AA26 BA05 EA02 EA04 4J011 QA03 QA04 QA12 QA13 QA15 QA17 QA22 QA42 QA28 QA24 SA88 UA01 UA02 VA01 WA01

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも1個のエチレン性不飽和二重
結合を有する付加重合可能な化合物、ラジカル活性剤、
増感色素及び脂肪族アミノ酸塩を含有する光重合性組成
物であって、増感色素としてピロメテンボレート系色素
を含有することを特徴とする光重合性組成物。
1. An addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a radical activator,
What is claimed is: 1. A photopolymerizable composition containing a sensitizing dye and an aliphatic amino acid salt, wherein the photopolymerizable composition contains a pyromethene borate dye as a sensitizing dye.
【請求項2】 ピロメテンボレート系色素が、下記一般
式(1)で示される構造の色素から選ばれることを特徴
とする請求項1記載の光重合性組成物。 【化1】 {式中、R1 〜R6 は、それぞれ、水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、芳香族複素環基、又は−
SO3 −R8 基(R8 は水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルカリ金属原子又はオニウムイ
オンを表す。)を表す。R7 は、水素原子、アルキル
基、アリール基又はアラルキル基を表し、X1 、X2
それぞれハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、芳香族複素環基を表す。これらの基は、更に
置換されていても良い。}
2. The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the pyromethene borate dye is selected from dyes having a structure represented by the following general formula (1). Embedded image Wherein R 1 to R 6 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aromatic heterocyclic group, or-
Represents an SO 3 —R 8 group (R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkali metal atom or an onium ion). R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and X 1 and X 2 represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and an aromatic heterocyclic group, respectively. These groups may be further substituted. }
【請求項3】 脂肪族アミノ酸塩を構成する陰イオン
が、下記一般式(2)で示される陰イオン及び又はその
縮合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の
光重合性組成物。 【化2】 (式中、mは1〜10の整数を示し、R9 、R10、R11
及びR12は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アリー
ル基、芳香族複素環基を表す。これらの基は更に置換さ
れていても良い。mが2以上の時、複数のR11及びR12
は同じでも異なっていても良い。)
3. The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the anion constituting the aliphatic amino acid salt is an anion represented by the following general formula (2) and / or a condensate thereof. Composition. Embedded image (Wherein, m represents an integer of 1 to 10, and R 9 , R 10 , R 11
And R 12 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group. These groups may be further substituted. When m is 2 or more, a plurality of R 11 and R 12
May be the same or different. )
【請求項4】 脂肪族アミノ酸塩が一般式(2)で示さ
れる陰イオンと1価の陽イオンとの塩であることを特徴
とする請求項3に記載の光重合性組成物。
4. The photopolymerizable composition according to claim 3, wherein the aliphatic amino acid salt is a salt of an anion represented by the general formula (2) and a monovalent cation.
【請求項5】 一般式(2)において、R9 が下記一般
式(3)で示される構造であることを特徴とする請求項
3又は4記載の光重合性組成物。 【化3】 (式中、R13、R14、R15、R16及びR17は、それぞれ
水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族複素環基、
アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カ
ルボキシル基、シアノ基、アルケニル基、アクリロイル
基、アクリロイルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
ン原子、ホルミル基、アルキルカルボニルオキシ基、ニ
トロ基、スルホ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アミノ基又はアミド基を
表す。これらの基は更に置換されていても良い。)
5. The photopolymerizable composition according to claim 3, wherein, in the general formula (2), R 9 has a structure represented by the following general formula (3). Embedded image (Wherein, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aromatic heterocyclic group,
Alkoxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carboxyl group, cyano group, alkenyl group, acryloyl group, acryloyloxy group, aryloxy group, halogen atom, formyl group, alkylcarbonyloxy group, nitro group, sulfo group, alkylthio group, Represents an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an amino group or an amide group. These groups may be further substituted. )
【請求項6】 脂肪族アミノ酸塩を構成するカチオン
が、1価のアルカリ金属イオン又はオニウムイオンであ
ることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の光
重合性組成物。
6. The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the cation constituting the aliphatic amino acid salt is a monovalent alkali metal ion or onium ion.
【請求項7】 ラジカル活性剤が、少なくとも1種のチ
タノセン類を含有することを特徴とする請求項1乃至6
の何れかに記載の光重合性組成物。
7. The method according to claim 1, wherein the radical activator contains at least one kind of titanocene.
The photopolymerizable composition according to any one of the above.
【請求項8】 付加重合可能な化合物が、少なくとも1
個のアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有する
リン酸エステル化合物であることを特徴とする請求項1
乃至7の何れかに記載の光重合性組成物。
8. The method according to claim 1, wherein the addition-polymerizable compound has at least one compound.
2. A phosphate compound having two acryloyl groups or methacryloyl groups.
8. The photopolymerizable composition according to any one of items 1 to 7.
【請求項9】 粗面化及び陽極酸化処理が施され、更に
必要により親水化処理が施されたアルミニウム基板上に
感光性樹脂層を有する感光性平版印刷版であって、感光
性樹脂層が、請求項1乃至8の何れかに記載の光重合性
組成物により形成されてなることを特徴とする感光性平
版印刷版。
9. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive resin layer on an aluminum substrate which has been subjected to a surface roughening treatment and an anodic oxidation treatment and further subjected to a hydrophilic treatment if necessary. A photosensitive lithographic printing plate formed of the photopolymerizable composition according to any one of claims 1 to 8.
JP4973299A 1999-02-26 1999-02-26 Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate Expired - Fee Related JP3753292B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4973299A JP3753292B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4973299A JP3753292B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000250206A true JP2000250206A (en) 2000-09-14
JP3753292B2 JP3753292B2 (en) 2006-03-08

Family

ID=12839374

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4973299A Expired - Fee Related JP3753292B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3753292B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1253151A1 (en) * 2001-04-25 2002-10-30 Toray Industries, Inc. Pyrromethene metal complex and light emitting device composition and light emitting devices using the same
JP2005292772A (en) * 2004-03-08 2005-10-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd Photosensitive lithographic printing plate material
FR2882056A1 (en) * 2005-02-15 2006-08-18 Centre Nat Rech Scient DIPYRROMETHENES-BORON BOROCARBONES INSATURE
CN114096421A (en) * 2019-06-28 2022-02-25 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1253151A1 (en) * 2001-04-25 2002-10-30 Toray Industries, Inc. Pyrromethene metal complex and light emitting device composition and light emitting devices using the same
US6805978B2 (en) 2001-04-25 2004-10-19 Toray Industries, Inc. Pyrromethene metal complex and light emitting device composition and light emitting devices using the same
JP2005292772A (en) * 2004-03-08 2005-10-20 Mitsubishi Paper Mills Ltd Photosensitive lithographic printing plate material
JP4526346B2 (en) * 2004-03-08 2010-08-18 三菱製紙株式会社 Photosensitive lithographic printing plate material
FR2882056A1 (en) * 2005-02-15 2006-08-18 Centre Nat Rech Scient DIPYRROMETHENES-BORON BOROCARBONES INSATURE
CN114096421A (en) * 2019-06-28 2022-02-25 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
CN114096421B (en) * 2019-06-28 2023-09-15 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP3753292B2 (en) 2006-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4594310A (en) Photopolymerizable composition comprising tertiary aromatic amine and hexaarylbiimazole initiators
US5800965A (en) Photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate employing it
EP0851299B1 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH11271969A (en) Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
JPH09236913A (en) Photopolymerizable composition
JPS5956403A (en) Photomerizable composition
JPH01100536A (en) Photopolymerizable compound
JP3255042B2 (en) Photopolymerizable composition for photosensitive lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate using the same
JP3324279B2 (en) Photopolymerizable composition
JP3279035B2 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive material
JP3275809B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP3753292B2 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
JP4065358B2 (en) Photopolymerizable composition, image forming material, and photosensitive lithographic printing plate
JP3324266B2 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive material
JPH04330445A (en) Photopolymerizable composition
JP2000275830A (en) Photopolymerizable composition, image forming material and photosensitive planographic printing plate
JP3277808B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP3746624B2 (en) Photopolymerizable composition, image forming material, and photosensitive lithographic printing plate
JP3376912B2 (en) Processing method of photosensitive lithographic printing plate
JPH08297367A (en) Photopolymerizable composition
JPH0980751A (en) Photopolymerizable composition
JPH10195118A (en) Photopolymerizable composition
JPH0876377A (en) Photopolymeerizable composition
JPH0862838A (en) Photopolymerizable composition
JPH1184635A (en) Production of photosensitive planographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040510

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051014

TRDD Decision of grant or rejection written
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051108

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20051109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051208

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081222

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350