JP2000243630A - Film inductor and manufacture thereof - Google Patents

Film inductor and manufacture thereof

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JP2000243630A
JP2000243630A JP11365012A JP36501299A JP2000243630A JP 2000243630 A JP2000243630 A JP 2000243630A JP 11365012 A JP11365012 A JP 11365012A JP 36501299 A JP36501299 A JP 36501299A JP 2000243630 A JP2000243630 A JP 2000243630A
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JP
Japan
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film
base material
groove
coil
holes
Prior art date
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Pending
Application number
JP11365012A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Maeda
茂男 前田
Toshio Endo
寿雄 遠藤
Yozo Obara
陽三 小原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hokuriku Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Hokuriku Electric Industry Co Ltd
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Application filed by Hokuriku Electric Industry Co Ltd filed Critical Hokuriku Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film inductor together with its manufacturing method for good mounting efficiency on a circuit board. SOLUTION: A conductor film 14 is formed on the surface of an insulating base material 12 comprising such as ceramics or magnetic material wherein at least its surface is insulating, both ends of the base material 12 comprise electrodes 20 and 22, and the conductor film 14 between the electrodes 20 and 22 is provided with a conical groove 16 extending from one electrode 20 to the other electrode 22. A coil part 18 divided with the groove 16 is formed at the conductor film 14 on both sides of the groove 16, and a part of the coil part 18 is provided with a trimming part 24 for adjusting the inductance of the coil part 18 divided with the groove 16. The trimming part 24 is formed at one end part of the coil part 18 while contacting the electrode 20, which is sandwiched between one end part of the groove 16 and a division groove 26 extending from one side of the electrode 20 to the groove 16.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、絶縁性の基材の
表面に形成された導電層体膜によるコイルパターンを形
成した皮膜型インダクタとその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film-type inductor having a coil pattern formed by a conductive layer film formed on the surface of an insulating substrate and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、皮膜型インダクタは、特開平9−
55321号公報や図10に示すように、絶縁性の磁性
材料やその他少なくとも表面が絶縁材料の角型基材1の
表面に、導電体膜3を形成し、この導電体膜3に螺旋状
の溝2を形成してコイル部5を形成していた。そして、
コイル部5の両端部には電極4が設けられ、回路基板表
面に表面実装可能に形成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a film type inductor is disclosed in
As shown in JP-A-55321 and FIG. 10, a conductor film 3 is formed on the surface of a rectangular base material 1 made of an insulating magnetic material or at least a surface of an insulating material. The coil part 5 was formed by forming the groove 2. And
Electrodes 4 are provided at both ends of the coil portion 5, and are formed so as to be surface mountable on the surface of the circuit board.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術の場
合、溝2によるコイル部5はそのインダクタンス値を調
整することができず、回路基板表面の回路パターンにイ
ンダクタンス調整用のパターンを形成したりしてインダ
クタンス調整を行っていた。この場合、回路基板表面に
トリミング用のパターンが形成されているので、回路基
板の実装効率が落ち、回路基板の小型化の妨げとなって
いた。さらに、トリミングはレーザ等で行うので、回路
基板上の他の部品にも悪影響を及ぼす恐れもあった。
In the case of the prior art described above, the inductance of the coil portion 5 formed by the groove 2 cannot be adjusted, and a pattern for adjusting the inductance is formed on the circuit pattern on the surface of the circuit board. And adjust the inductance. In this case, since the pattern for trimming is formed on the surface of the circuit board, the mounting efficiency of the circuit board is reduced, which hinders the miniaturization of the circuit board. Further, since the trimming is performed with a laser or the like, there is a possibility that other components on the circuit board may be adversely affected.

【0004】さらに、上記従来の技術の場合、電子機器
の小型化薄型化の要請によりチップ基材の形状を小さく
薄くすると、コイル部のコイルの巻き数が少なくインダ
クタとしての必要な性能が得られない場合があった。ま
た、薄型化には薄膜インダクタも有効であるが、インダ
クタンス等の性能について十分なものが得られないもの
であった。
Further, in the case of the above-mentioned conventional technology, if the shape of the chip base material is made small and thin due to the demand for miniaturization and thinning of the electronic equipment, the number of turns of the coil in the coil portion is small and the required performance as an inductor is obtained. There were no cases. Although thin-film inductors are also effective in reducing the thickness, sufficient performance such as inductance cannot be obtained.

【0005】この発明は上記従来の技術の問題点に鑑み
てなされたもので、所望のインダクタンスを確実に得る
ことができ、小型化が容易であり、回路基板への実装効
率もよい皮膜型インダクタとその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and a film-type inductor which can surely obtain a desired inductance, is easy to reduce in size, and has a high efficiency of mounting on a circuit board. And a method for manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明の皮膜型インダ
クタは、セラミックスや少なくとも表面を絶縁性にした
磁性材料等の絶縁性の基材表面に導電体膜を形成し、こ
の基材の両端に電極を有し、上記電極間の導電体膜には
上記一方の電極から他方の電極に至る螺旋状の溝を備え
る。この溝の両側の上記導電体膜はこの溝で分断されコ
イル部が形成され、このコイル部の一部に上記溝で区画
されこのコイル部のインダクタンスを調整するトリミン
グ部を設けた皮膜型インダクタである。上記トリミング
部は、上記電極に接して上記コイル部の一端部に形成さ
れ、連続する上記溝と、上記螺旋状の溝に上記電極の一
方から延びた区画用の溝とによって挟まれ、上記コイル
部の導電路長を調整可能にしたものである。
The film-type inductor of the present invention comprises a conductor film formed on the surface of an insulating base material such as ceramics or a magnetic material having at least an insulating surface. There is an electrode, and the conductor film between the electrodes is provided with a spiral groove extending from the one electrode to the other electrode. The conductor film on both sides of the groove is divided by the groove to form a coil portion, and a coil type inductor is provided in which a trimming portion is provided in a part of the coil portion and is divided by the groove to adjust the inductance of the coil portion. is there. The trimming portion is formed at one end of the coil portion in contact with the electrode, and is sandwiched between the continuous groove and the partition groove extending from one of the electrodes in the spiral groove, and The conductive path length of the section can be adjusted.

【0007】またこの発明は、絶縁性の基材の表面に導
電体膜を形成し、この導電体膜に螺旋状の溝を形成して
コイル部を設け、このコイル部の一部に上記溝で区画さ
れインダクタンスを調整するトリミング部を設ける皮膜
方インダクタの製造方法である。そして、このトリミン
グ部にトリミング溝を形成して、上記コイル部のインダ
クタンスを調整するものである。
Further, according to the present invention, a conductor film is formed on a surface of an insulating base material, and a spiral groove is formed in the conductor film to provide a coil portion. This is a method for manufacturing a film-type inductor provided with a trimming portion which is defined by a circle and adjusts the inductance. Then, a trimming groove is formed in the trimming portion to adjust the inductance of the coil portion.

【0008】またこの発明の皮膜型インダクタは、セラ
ミックスや少なくとも表面を絶縁性にした磁性材料等の
絶縁性の平面状基材を設け、この基材に所定間隔で複数
対の透孔を形成し、この透孔内面及び上記透孔間に導電
体パターンを設けて、上記透孔間及び上記基材表裏面に
より螺旋状の導電体パターンを形成し、この導電体パタ
ーンの両端に電極を形成したものである。上記導電体パ
ターンは、上記基板表裏面で互い違いになるようにし
て、上記基材表裏面に複数の上記導電体パターンを多重
螺旋状に形成したものである。この多重螺旋状の導体パ
ターンは、互いに独立し絶縁された二重螺旋状に形成さ
れているものである。また、上記二重螺旋状の導体パタ
ーンは、螺旋の巻き数が互いに異なるものである。
The film-type inductor according to the present invention is provided with an insulating planar base material such as ceramics or a magnetic material having at least an insulating surface, and a plurality of pairs of through holes formed at predetermined intervals in the base material. A conductor pattern was provided between the through hole inner surface and the through hole, a spiral conductor pattern was formed between the through holes and the front and back surfaces of the base material, and electrodes were formed at both ends of the conductor pattern. Things. The conductor pattern is formed by forming a plurality of conductor patterns on the front and back surfaces of the substrate in a multi-spiral pattern so as to be alternated on the front and back surfaces of the substrate. The multi-helical conductor pattern is formed in a double spiral shape which is independent and insulated from each other. The double spiral conductor pattern has a different number of spiral turns.

【0009】この発明の皮膜型インダクタの製造方法
は、セラミックスや少なくとも表面を絶縁性にした磁性
材料等の絶縁性の平面状基材を設け、この基材に所定間
隔で複数対の透孔を形成し、上記基材表面にコイルパタ
ーン形成部及び電極形成部を除いてメッキレジストを設
ける。この時、各コイルパターンは、多重螺旋状に各々
独立したコイルパターンが形成されるようにメッキレジ
ストが設けられていない部分を形成する。この後、上記
透孔及び所定のコイルパターン形成部及び電極形成部に
メッキにより導電体膜を形成し、上記基材表裏面に多重
螺旋状の導電体パターンを形成するチップインダクタの
製造方法である
According to a method of manufacturing a film-type inductor of the present invention, an insulating planar base material such as ceramics or a magnetic material having at least a surface insulated is provided, and a plurality of pairs of through-holes are formed in the base material at predetermined intervals. Then, a plating resist is provided on the surface of the base material except for the coil pattern forming portion and the electrode forming portion. At this time, each coil pattern forms a portion where no plating resist is provided so that independent coil patterns are formed in a multiple spiral shape. Thereafter, a conductor film is formed by plating on the through hole, the predetermined coil pattern forming portion and the electrode forming portion, and a multiple spiral conductor pattern is formed on the front and back surfaces of the base material.

【0010】また、この発明のチップインダクタの製造
方法は、セラミックスや少なくとも表面を絶縁性にした
磁性材料等の絶縁性の平面状基材を設け、この基材に所
定間隔で複数対の透孔を形成し、この透孔内面を含む上
記基材表面に導電体膜を形成し、この基材表面の導電体
膜を、上記透孔内及び上記透孔間並びに上記基板表面の
所定範囲であって上記透孔間の近傍に上記導電体膜が残
るようにエッチングレジストで被覆し、上記エッチング
レジストが残った部分以外の上記導電体膜を除去して、
上記基材表裏面に螺旋状の導電体膜によるコイルパター
ンを形成するチップインダクタの製造方法である。
Further, according to the method of manufacturing a chip inductor of the present invention, an insulating planar base material such as ceramics or a magnetic material having at least an insulating surface is provided, and a plurality of pairs of through holes are provided at predetermined intervals in the base material. And forming a conductive film on the surface of the base material including the inner surface of the through hole. Cover with an etching resist so that the conductive film remains in the vicinity between the through holes, and remove the conductive film other than the portion where the etching resist remains,
This is a method for manufacturing a chip inductor in which a coil pattern of a spiral conductive film is formed on the front and back surfaces of the base material.

【0011】このコイルパターンは、上記基材の表裏面
で互い違いに交差した複数本の多重螺旋状導電体パター
ンである。上記エッチングレジストは、印刷により形成
するものである。また上記エッチングレジストはフォト
レジストを用いても良い。
The coil pattern is a multiple helical conductor pattern that alternately crosses the front and back surfaces of the base material. The etching resist is formed by printing. Further, a photoresist may be used as the etching resist.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面に基づいて説明する。図1、図2は、この発明の
第一実施形態の皮膜型インダクタ10を示し、絶縁性の
磁性材料その他絶縁材料であるセラミックスや、フェラ
イト等の磁性材料の表面に絶縁皮膜を施した基材12か
らなる。基材12の四方の側面には銅メッキ等による金
属薄膜の導電体膜14が設けられている。この導電体膜
14には、基材12に達する深さ程度の溝16が形成さ
れ、この溝16によりにより隣接する導電体膜14同士
が分断されている。溝16は、基材12の一方の端部か
ら他方の端部に至る螺旋状に形成され、この溝16で仕
切られる導電体膜14により、基材12の表面にコイル
部18が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 and 2 show a film-type inductor 10 according to a first embodiment of the present invention, in which an insulating film is applied to the surface of a magnetic material such as an insulating magnetic material or other insulating material such as ceramics or ferrite. It consists of 12. On the four side surfaces of the base material 12, conductor films 14 of a metal thin film formed by copper plating or the like are provided. The conductor film 14 is formed with a groove 16 having a depth that reaches the base material 12, and the adjacent conductor films 14 are separated from each other by the groove 16. The groove 16 is formed in a spiral shape from one end to the other end of the substrate 12, and the conductor film 14 partitioned by the groove 16 forms a coil 18 on the surface of the substrate 12. I have.

【0013】また基材12の溝16によるコイル部18
の両端部には、各々電極20,22が形成されている。
この皮膜型インダクタの4方の側面を、その表面側から
4a,4b,4c,4dとすると、コイル部18の一端
部の側面4aには、溝16で区画されこのコイル部16
のインダクタンスを調整するトリミング部24が設けら
れている。このトリミング部24は、電極20側に接し
てコイル部18の一端部に形成されている。トリミング
部24を形成する部分は、溝16の一端部が、このトリ
ミング部24で導電体膜14の一側部を囲むように形成
されている。溝16はトリミング部24をとるために、
基材12の側面4dで電極20側に分岐して接続し、溝
16の他方は、基材12の角部に達している。また、基
材12の他方の側面4bでは、連続する螺旋状の溝16
に電極20の一方の側面から延びた区画用溝26とによ
って挟まれ、コイル部の導電路長を調整可能な領域を形
成している。
A coil portion 18 formed by a groove 16 in the base material 12
, Electrodes 20 and 22 are formed at both ends.
Assuming that four side surfaces of the film-type inductor are 4a, 4b, 4c, and 4d from the surface side, the side surface 4a at one end of the coil portion 18 is partitioned by a groove 16 and the coil portion 16
Is provided with a trimming unit 24 for adjusting the inductance. The trimming portion 24 is formed at one end of the coil portion 18 in contact with the electrode 20 side. In the portion where the trimming portion 24 is formed, one end of the groove 16 is formed so as to surround one side portion of the conductor film 14 by the trimming portion 24. The groove 16 has a trimming portion 24,
The side surface 4d of the base material 12 is branched and connected to the electrode 20 side, and the other of the grooves 16 reaches a corner of the base material 12. On the other side surface 4b of the base material 12, a continuous spiral groove 16 is formed.
Is formed by the partitioning groove 26 extending from one side surface of the electrode 20 to form a region where the conductive path length of the coil portion can be adjusted.

【0014】従って、この皮膜型インダクタ10の側面
の展開図である図2に示すように、溝16と区画用溝2
6とで囲まれるまれる領域は、電極20に接続している
が、溝16,26により分断され、コイル部18を構成
するものではない。一方、基材12の表面側で、区画用
溝26と溝16とで2方が区画されたトリミング部24
は、電極22につながった導電体膜14であるコイル部
18に接続している。
Therefore, as shown in FIG. 2, which is a development view of the side surface of the film type inductor 10, the groove 16 and the partitioning groove 2 are formed.
The region surrounded by 6 is connected to the electrode 20, but is divided by the grooves 16 and 26 and does not constitute the coil portion 18. On the other hand, on the surface side of the base material 12, a trimming portion 24 divided into two sides by a dividing groove 26 and a groove 16.
Are connected to the coil portion 18 which is the conductor film 14 connected to the electrode 22.

【0015】この実施形態の皮膜型インダクタの製造方
法は、まずセラミックス材料等を成形して焼成し、所望
形状の基材12を形成する。そして、基材12の各電極
14部分及び側面にメッキや蒸着、スパッタリング等に
より導電体膜14を形成する。次に、導電体膜14の表
面に、基材12に届く螺旋状の溝16を形成する。溝1
6は、その溝16を挟んで導電体膜14同士を分断す
る。これにより電極20,22間にコイル部18が形成
される。溝16の形成は、レーザ光の他、カッターや砥
石円盤を用いることができる。溝16の形成に際して、
溝16の一端部16aを、電極20につなげるととも
に、基材12の表面側を挟んで一端部16aの反対側の
側面で、電極20と溝16を結ぶ区画用溝26を形成す
る。これにより、区画用溝26と溝16とで2方が区画
されコイル部18につながる部分がトリミング部24と
なる。さらに、基材12の両端部の電極20,22に
は、それぞれ導電体膜16の両端部を覆うようにはんだ
メッキ等を施す。また、このコイル部18が形成された
部分の表面を絶縁性の強磁性体であるフェライトの膜で
被覆しても良い。被覆方法は、磁性体材料を含有した磁
性体塗料を塗布する等により行う。
In the method of manufacturing a film-type inductor according to this embodiment, first, a ceramic material or the like is formed and fired to form a base material 12 having a desired shape. Then, a conductor film 14 is formed on each electrode 14 portion and side surface of the base material 12 by plating, vapor deposition, sputtering, or the like. Next, a spiral groove 16 reaching the substrate 12 is formed on the surface of the conductor film 14. Groove 1
6 divides the conductive films 14 with the groove 16 interposed therebetween. Thereby, the coil portion 18 is formed between the electrodes 20 and 22. The groove 16 can be formed by using a cutter or a grindstone disk in addition to the laser beam. When forming the groove 16,
One end 16a of the groove 16 is connected to the electrode 20, and a partitioning groove 26 connecting the electrode 20 and the groove 16 is formed on the side surface opposite to the one end 16a across the surface of the base material 12. As a result, a portion that is divided into two by the partitioning groove 26 and the groove 16 and connected to the coil portion 18 becomes the trimming portion 24. Further, the electrodes 20 and 22 at both ends of the base material 12 are plated with solder or the like so as to cover both ends of the conductor film 16. Further, the surface of the portion where the coil portion 18 is formed may be covered with a ferrite film which is an insulating ferromagnetic material. The coating method is performed by, for example, applying a magnetic paint containing a magnetic material.

【0016】この被膜型インダクタ10は、これを回路
基板に表面実装した後、トリミング部24に区画用溝2
6や、溝16の一端部から延びたトリミング溝28を形
成して、インダクタンスを調整する。このトリミング溝
28の形成は、側面4b,4dから側面4aにかけて形
成するのが好ましいが、側面4b,4dだけにに形成し
てもよい。トリミング溝28の形成は、インダクタンス
の調整量に合わせて適宜の位置、形状および長さに形成
される。
After the film-type inductor 10 is surface-mounted on a circuit board, the partitioning groove 2 is formed in the trimming portion 24.
6, and a trimming groove 28 extending from one end of the groove 16 is formed to adjust the inductance. The trimming groove 28 is preferably formed from the side surfaces 4b and 4d to the side surface 4a, but may be formed only on the side surfaces 4b and 4d. The trimming groove 28 is formed at an appropriate position, shape and length in accordance with the adjustment amount of the inductance.

【0017】この実施形態の皮膜型インダクタ10によ
れば、トリミング部24を基材12上に設けたので、回
路基板にインダクタンスを調整するトリミング部を設け
る必要がなく、実装密度を上げることができる。また、
インダクタ素子自体でトリミング可能であり、この皮膜
型インダクタ10を取り付ける対象を選ばない。
According to the film-type inductor 10 of this embodiment, since the trimming portion 24 is provided on the base 12, it is not necessary to provide a trimming portion for adjusting the inductance on the circuit board, and the mounting density can be increased. . Also,
Trimming can be performed by the inductor element itself, and the object to which the film-type inductor 10 is attached is not limited.

【0018】次にこの発明の皮膜型インダクタとその製
造方法の第二実施形態について図3、図4を基にして説
明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の
符号を付して説明を省略する。この実施形態の皮膜型イ
ンダクタは、溝16の一端部16aを基材12の角部に
沿って形成し、この角部の溝16からトリミング溝28
を形成するものである。同様に、区画用溝26も他方の
角部に形成し、トリミング溝28をこの角部から形成す
る。これにより、さらにトリミング溝28の形成が容易
となる。
Next, a second embodiment of the film-type inductor according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIGS. Here, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In the film-type inductor of this embodiment, one end 16a of the groove 16 is formed along the corner of the base material 12, and the trimming groove 28 is formed from the groove 16 at the corner.
Is formed. Similarly, the partitioning groove 26 is also formed at the other corner, and the trimming groove 28 is formed from this corner. This makes it easier to form the trimming groove 28.

【0019】次にこの発明の皮膜型インダクタとその製
造方法の第三実施形態について図5、図6を基にして説
明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の
符号を付して説明を省略する。この実施形態の皮膜型イ
ンダクタは、絶縁性の磁性材料その他絶縁材料であるセ
ラミックスや、フェライト等の磁性材料の表面に絶縁皮
膜を施した基板状の基材32からなる。基材32の両面
には銅メッキ等による金属薄膜の導電体膜34が設けら
れ、基材32の互いに平行な端縁部に沿って複数のスル
ーホール36が形成されている。スルーホール36内も
導電体膜34により覆われている。導電体膜34は、基
材32の表面側でスルーホール36を結ぶように互いに
平行なパターンとして形成され、基材32の裏面側でも
同様に導電体膜34がスルーホール34を結ぶ図5に示
すように、各導電体膜34は、スルーホール36を結ん
で、互いに絶縁された2重螺旋状に形成されている。各
2重螺旋状の導電体膜34は、コイルパターンを形成
し、各2重螺旋状の導電体膜34は、各々両端部が基材
32表面の電極38,40に接続している。一対の電極
38が導電体膜34により1本のコイルパターンに接続
し、他の一対の電極40が他の導電体膜34による1本
のコイルパターンに接続している。また、導電体膜34
のコイルパターンは、絶縁性の磁性体塗料42により被
覆されている。
Next, a third embodiment of the film-type inductor according to the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIGS. Here, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The film-type inductor according to this embodiment includes a substrate-like base material 32 having an insulating film formed on the surface of a magnetic material such as an insulating magnetic material or other insulating material such as ceramics or ferrite. A conductor film 34 of a metal thin film formed by copper plating or the like is provided on both surfaces of the substrate 32, and a plurality of through holes 36 are formed along edges of the substrate 32 that are parallel to each other. The inside of the through hole 36 is also covered with the conductor film 34. The conductor film 34 is formed as a pattern parallel to each other so as to connect the through holes 36 on the front surface side of the base material 32, and the conductor film 34 similarly connects the through holes 34 on the back surface side of the base material 32 as shown in FIG. As shown in the figure, each of the conductor films 34 is formed in a double spiral shape that connects the through holes 36 and is insulated from each other. Each double helical conductor film 34 forms a coil pattern, and each double helical conductor film 34 has both ends connected to the electrodes 38 and 40 on the surface of the base material 32. The pair of electrodes 38 is connected to one coil pattern by the conductor film 34, and the other pair of electrodes 40 is connected to one coil pattern of the other conductor film 34. Also, the conductor film 34
Is covered with an insulating magnetic paint 42.

【0020】この実施形態の皮膜型インダクタの製造方
法は、基材32に所定ピッチのスルーホール36の列を
形成し、コイルパターン及び電極形成部分以外に印刷に
よりメッキレジストを塗布する。または、スルーホール
36を除く全面にフォトレジスト材料を塗布し、電極及
びコイルパターン形状を露光し、この電極及びコイルパ
ターン形状部分のレジスト材料を除去する。フォトレジ
ストを用いることにより、より精密で細かいパターンが
可能である。
In the method of manufacturing the film-type inductor of this embodiment, a row of through holes 36 having a predetermined pitch is formed in the base material 32, and a plating resist is applied by printing to portions other than the coil pattern and the electrode forming portion. Alternatively, a photoresist material is applied to the entire surface except for the through holes 36, the electrodes and the coil pattern shape are exposed, and the resist material in the electrode and coil pattern shape portions is removed. By using a photoresist, a more precise and fine pattern can be obtained.

【0021】この後、基材32を無電解メッキ液中に浸
漬し、銅や、銅とニッケル等をメッキし、さらに電解メ
ッキにより導電体膜34を形成する。メッキ液に浸漬
し、電極38,40及びコイルパターンの導電体膜34
を形成する。またスルーホール36内にもメッキにより
導電体膜が形成される。そして、磁性体塗料42を所定
範囲に印刷又は塗布して乾燥硬化させる。
Thereafter, the base material 32 is immersed in an electroless plating solution, plated with copper, copper and nickel, and the like, and a conductive film 34 is formed by electrolytic plating. The electrodes 38 and 40 and the conductor film 34 of the coil pattern are immersed in a plating solution.
To form A conductor film is also formed in the through hole 36 by plating. Then, the magnetic paint 42 is printed or applied in a predetermined range and dried and cured.

【0022】また、他の製造方法として、基材32及び
スルーホール36内の全面に導電体膜34を形成し、電
極38,40及びコイルパターン部分にメッキレジスト
を印刷又は塗布して基材32をエッチング液に浸漬す
る。これによって所望のパターンの導電体膜34を形成
することができる。
As another manufacturing method, a conductive film 34 is formed on the entire surface of the base material 32 and the through hole 36, and a plating resist is printed or applied on the electrodes 38, 40 and the coil pattern portion to form the base material 32. Is immersed in an etching solution. Thus, the conductor film 34 having a desired pattern can be formed.

【0023】この実施形態の皮膜型インダクタによれ
ば、多重螺旋状のコイルパターンを薄い基材32に容易
に形成することができ、大型基材32錠に多数のコイル
パターンを形成した後に分割しても良く、効率的にイン
ダクタを形成することができる。また、インダクタのコ
イル部分が2重螺旋状に形成されているので、コイルパ
ターンの電極38,40の接続方法により、単巻変圧器
又は複巻変圧器として何れにも用いることができ、回路
基板への実装も表面実装により簡単に行うことができ
る。
According to the film-type inductor of this embodiment, a multi-spiral coil pattern can be easily formed on the thin base material 32. After a large number of coil patterns are formed on the large base material 32 tablets, the coil pattern is divided. And the inductor can be formed efficiently. Further, since the coil portion of the inductor is formed in a double spiral shape, it can be used as a single-turn transformer or a multiple-turn transformer depending on the connection method of the electrodes 38 and 40 of the coil pattern. Mounting on a surface can be easily performed by surface mounting.

【0024】次にこの発明の皮膜型インダクタとその製
造方法の第四実施形態について図7、図8を基にして説
明する。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の
符号を付して説明を省略する。この実施形態の皮膜型イ
ンダクタは、上記実施形態と同様の構造であって、電極
一対の電極44が基材32の表面側に形成され、導電体
膜34による一つのコイルパターンの両端に位置してい
る。また、電極46は、基材32に裏面側に位置し、他
方補コイルパターンの両端に接続されている。この実施
形態の皮膜型インダクタも2重螺旋状のコイルパターン
の各螺旋状コイルが各々独立に形成されているものであ
る。
Next, a fourth embodiment of the film-type inductor according to the present invention and its manufacturing method will be described with reference to FIGS. Here, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The film-type inductor of this embodiment has the same structure as that of the above-described embodiment, in which a pair of electrodes 44 is formed on the surface side of the base material 32 and located at both ends of one coil pattern formed by the conductor film 34. ing. The electrodes 46 are located on the back side of the substrate 32, and are connected to both ends of the auxiliary coil pattern. In the film-type inductor of this embodiment, each helical coil of the double helical coil pattern is formed independently.

【0025】この実施形態の皮膜型インダクタは、図8
に示すように、2枚の回路基板50,52の間に積層し
て配置可能なものである。回路基板50,52への取り
付けは、はんだによるほか、導電体塗料56により回路
パターン54に接続しても良い。
FIG. 8 shows a film type inductor according to this embodiment.
As shown in FIG. 7, the circuit board can be stacked and disposed between two circuit boards 50 and 52. Attachment to the circuit boards 50 and 52 may be connected to the circuit pattern 54 by a conductor paint 56 other than by soldering.

【0026】この実施形態の皮膜型インダクタの製造方
法は上記実施形態と同様に形成される。また、図8は拡
大して示したものであり、この実施形態の皮膜型インダ
クタは多層基板の間に実装可能なものである。
The method for manufacturing the film-type inductor of this embodiment is formed in the same manner as in the above-described embodiment. FIG. 8 is an enlarged view, and the film-type inductor of this embodiment can be mounted between multilayer substrates.

【0027】この実施形態の皮膜型インダクタによって
も上記実施形態と同様の効果を得ることができ、さら
に、多層基板への実装が可能であり、より実装密度を向
上させることができる。
The same effects as those of the above embodiment can be obtained by the film-type inductor of this embodiment, and furthermore, mounting on a multilayer board is possible, and the mounting density can be further improved.

【0028】次にこの発明の皮膜型インダクタとその製
造方法の第五実施形態について図9を基にして説明す
る。ここで、上記実施形態と同様の構成は、同一の符号
を付して説明を省略する。この実施形態の皮膜型インダ
クタは、上記実施形態と同様の構造であって、各電極間
のコイルパターンの巻き数が異なるようにしたものであ
る。基材32の表面側の電極58間のコイルパターン
は、巻き数の少ないものであり、図示しない裏面側の電
極間のコイルパターンの巻き数が多いものである。
Next, a fifth embodiment of the film-type inductor according to the present invention and its manufacturing method will be described with reference to FIG. Here, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The film-type inductor of this embodiment has the same structure as that of the above-described embodiment, and the number of turns of the coil pattern between the electrodes is different. The coil pattern between the electrodes 58 on the front surface side of the substrate 32 has a small number of turns, and the coil pattern between the electrodes on the back side (not shown) has a large number of turns.

【0029】裏面側の電極間のコイルパターンの巻き数
は、機材32の中央部に形成されたスルーホール60を
利用し基材32の一側縁部のスルーホール36の数を増
加させて、スルーホール60で折り返すようにして、巻
き数を増加させている。
The number of turns of the coil pattern between the electrodes on the back side is increased by increasing the number of through holes 36 at one side edge of the base material 32 by using the through holes 60 formed at the center of the equipment 32. The number of windings is increased by folding back at the through hole 60.

【0030】これにより、導電体膜34が交差させるこ
となく一方の電極間のコイルパターンの巻き数を増加さ
せることができ、種々のインダクタ素子やトランスに利
用することができる。この実施形態の皮膜型インダクタ
のも上記実施形態と同様のものである。
Thus, the number of turns of the coil pattern between one of the electrodes can be increased without the conductor films 34 intersecting, and can be used for various inductor elements and transformers. The film-type inductor of this embodiment is the same as the above-described embodiment.

【0031】なおこの発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、コイルパターンの形状や巻き数は適宜
設定可能なものであり、トリミング方法は適宜選択可能
である。また、多重螺旋構造のコイル部を形成後にイン
ダクタンスを調整できるものでもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and the shape and the number of turns of the coil pattern can be set as appropriate, and the trimming method can be selected as appropriate. Also, the inductance may be adjusted after the coil portion having the multiple spiral structure is formed.

【0032】[0032]

【発明の効果】この発明の皮膜型インダクタとその製造
方法のトリミング部を設けたものは、回路基板にトリミ
ング用のパターンを設ける必要がなく、トリミングも容
易に可能であり、実装密度も向上させることができ、回
路の品質も向上させることができる。
According to the film-type inductor of the present invention and the method of manufacturing the same which are provided with the trimming portion, it is not necessary to provide a trimming pattern on the circuit board, the trimming can be easily performed, and the mounting density is improved. And the quality of the circuit can be improved.

【0033】また、多重螺旋構造を持ったインダクタ
は、コイルパターンの接続方法により一つの素子で異な
るインダクタ回路を形成することができ、電子機器の実
装密度を上げるとともに、部品管理を容易にし、電子機
器の製造コストも削減することができる。
Also, an inductor having a multi-spiral structure can form a different inductor circuit with one element depending on the connection method of the coil pattern, thereby increasing the mounting density of electronic equipment, facilitating component management, and improving the electronic components. Equipment manufacturing costs can also be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第一実施形態の皮膜型インダクタを
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a film-type inductor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第一実施形態の皮膜型インダクタの
側面の模式展開図である。
FIG. 2 is a schematic development view of a side surface of the film-type inductor according to the first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第二実施形態の皮膜型インダクタを
示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a film-type inductor according to a second embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第二実施形態の皮膜型インダクタの
側面の模式展開図である。
FIG. 4 is a schematic development view of a side surface of a film-type inductor according to a second embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第三実施形態の皮膜型インダクタを
示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a film-type inductor according to a third embodiment of the present invention.

【図6】この発明の第三実施形態の皮膜型インダクタの
縦断面図である。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a film-type inductor according to a third embodiment of the present invention.

【図7】この発明の第四実施形態の皮膜型インダクタを
示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a film-type inductor according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】この発明の第四実施形態の皮膜型インダクタの
実装状態の縦断面図である。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view of a mounted state of a film-type inductor according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第五実施形態の皮膜型インダクタを
示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a film-type inductor according to a fifth embodiment of the present invention.

【図10】従来の皮膜型インダクタを示す斜視図であ
る。
FIG. 10 is a perspective view showing a conventional film-type inductor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 皮膜型インダクタ 12 基材 14 導電体膜 16 溝 18 コイル部 20,22 電極 24 トリミング部 26 区画用溝 28 トリミング溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film type inductor 12 Base material 14 Conductor film 16 Groove 18 Coil part 20, 22 Electrode 24 Trimming part 26 Sectioning groove 28 Trimming groove

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性の基材の表面に導電体膜を形成
し、この基材の両端に電極を有し、上記電極間の導電体
膜には上記一方の電極から他方の電極に至る螺旋状の溝
を形成し、この溝の両側の上記導電体膜をこの溝で分断
してコイル部を形成し、このコイル部の一部に上記溝で
区画されインダクタンスを調整するトリミング部を設け
た皮膜型インダクタ。
1. A conductive film is formed on a surface of an insulating base material, and electrodes are provided at both ends of the base material. The conductive film between the electrodes extends from the one electrode to the other electrode. A spiral groove is formed, the conductive film on both sides of the groove is divided by the groove to form a coil portion, and a trimming portion which is divided by the groove and adjusts inductance is provided in a part of the coil portion. Film type inductor.
【請求項2】 上記トリミング部は、上記電極に接して
上記コイル部の一端部に形成され、連続する上記螺旋状
の溝と上記電極の一方から形成した区画用の溝とによっ
て挟まれ、上記コイル部の導電路長を調整可能に設けた
請求項1記載の皮膜型インダクタ。
2. The method according to claim 1, wherein the trimming portion is formed at one end of the coil portion in contact with the electrode, and is sandwiched between the continuous spiral groove and a partitioning groove formed from one of the electrodes. The film-type inductor according to claim 1, wherein the conductive path length of the coil portion is adjustable.
【請求項3】 絶縁性の基材の表面に導電体膜を形成
し、この導電体膜に螺旋状の溝を形成してコイル部を設
け、このコイル部の一部に上記溝で区画されインダクタ
ンスを調整するトリミング部を設け、このトリミング部
にトリミング溝を形成して上記コイル部のインダクタン
スを調整する皮膜型インダクタの製造方法。
3. A conductor film is formed on a surface of an insulating base material, and a spiral groove is formed in the conductor film to provide a coil portion, and a part of the coil portion is defined by the groove. A method for manufacturing a film-type inductor, comprising: providing a trimming portion for adjusting an inductance; and forming a trimming groove in the trimming portion to adjust the inductance of the coil portion.
【請求項4】 絶縁性の平面状基材を設け、この基材に
所定間隔で複数対の透孔を形成し、この透孔内面及び上
記透孔間に導電体パターンを設けて、上記透孔間及び上
記基材表裏面により螺旋状の導電体パターンを形成し、
この導電体パターンの両端に電極を形成した皮膜型イン
ダクタ。
4. An insulating flat base material is provided, a plurality of pairs of through holes are formed at predetermined intervals in the base material, and a conductor pattern is provided between the inner surface of the through holes and the through holes. Form a spiral conductor pattern between the holes and the front and back of the substrate,
A film type inductor with electrodes formed at both ends of this conductor pattern.
【請求項5】 上記導電体パターンは、上記基板表裏面
で互い違いになるようにして、上記基材表裏面に複数の
上記導電体パターンを多重螺旋状に形成したものである
請求項4記載の皮膜型インダクタ。
5. The conductor pattern according to claim 4, wherein the conductor pattern is formed such that the conductor patterns are alternately formed on the front and back surfaces of the substrate, and the plurality of conductor patterns are formed on the front and back surfaces of the substrate in a multiple spiral shape. Film type inductor.
【請求項6】 上記多重螺旋状の導体パターンは、互い
に独立した二重螺旋状に形成されているものである請求
項5記載の皮膜型インダクタ。
6. The film-type inductor according to claim 5, wherein the multi-helical conductor pattern is formed in a double spiral independent of each other.
【請求項7】 上記二重螺旋状の導体パターンは、螺旋
の巻き数が互いに異なる請求項5または6記載の皮膜型
インダクタ。
7. The film-type inductor according to claim 5, wherein the double-helical conductor pattern has a different number of spiral turns.
【請求項8】 絶縁性の平面状基材を設け、この基材に
所定間隔で複数対の透孔を形成し、上記基材表面にコイ
ルパターン形成部及び電極形成部を除いてメッキレジス
トを設け、この後、上記透孔及び所定のコイルパターン
形成部及び電極形成部にメッキにより導電体膜を形成
し、上記基材表裏面に多重螺旋状の導電体コイルパター
ンを形成するチップインダクタの製造方法。
8. An insulating planar base material is provided, a plurality of pairs of through holes are formed at predetermined intervals in the base material, and a plating resist is formed on the surface of the base material except for a coil pattern forming portion and an electrode forming portion. Manufacturing a chip inductor in which a conductive film is formed by plating on the through-hole, the predetermined coil pattern forming portion and the electrode forming portion, and a multi-spiral conductive coil pattern is formed on the front and back surfaces of the base material. Method.
【請求項9】 絶縁性の平面状基材を設け、この基材に
所定間隔で複数対の透孔を形成し、この透孔内面を含む
上記基材表面に導電体膜を形成し、この基材表面の導電
体膜を、上記透孔内及び上記透孔間並びに上記基板表面
の所定範囲であって上記透孔間の近傍に上記導電体膜が
残るようにエッチングレジストで被覆し、上記エッチン
グレジストが残った部分以外の上記導電体膜を除去し
て、上記基材表裏面に螺旋状の導電体コイルパターンを
形成するチップインダクタの製造方法。
9. An insulating planar base material is provided, a plurality of pairs of through holes are formed at predetermined intervals in the base material, and a conductive film is formed on the surface of the base material including an inner surface of the through hole. The conductive film on the surface of the substrate is coated with an etching resist so that the conductive film remains in the through holes and between the through holes and in a predetermined range of the substrate surface and between the through holes, A method for manufacturing a chip inductor, comprising: removing a portion of the conductive film other than a portion where an etching resist remains, thereby forming a spiral conductive coil pattern on the front and back surfaces of the substrate.
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