JP2000241993A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2000241993A JP2000241993A JP11042822A JP4282299A JP2000241993A JP 2000241993 A JP2000241993 A JP 2000241993A JP 11042822 A JP11042822 A JP 11042822A JP 4282299 A JP4282299 A JP 4282299A JP 2000241993 A JP2000241993 A JP 2000241993A
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- glass substrate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光処理を行うアライメントステージユニッ
トを２個以上設けた場合に露光ユニットの光源を省略で
きるようにする。 【解決手段】 光源手段は露光用の光束を出力する。方
向切換反射鏡手段は光源からの光束を反射するものであ
って、その反射方向を切り換えて反射する。第１の凹面
鏡手段は方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ平行
光となるように反射する。第１の反射鏡手段は第１の凹
面鏡手段からの反射光束を第１の露光面に反射する。第
２の凹面鏡手段は方向切換反射鏡手段からの反射光束を
ほぼ平行光となるように反射する。第２の反射鏡手段は
第２の凹面鏡手段からの反射光束を第２の露光面に反射
する。１つの光源手段から出力される光束を方向切換反
射鏡手段によって時間的に切り換えて、第１の凹面鏡手
段及び第１の反射鏡手段を介して露光したり、第２の凹
面鏡手段及び第２の反射鏡手段を介して露光したりす
る。これによって露光用の光源は１つでよくなり、光源
を省略することができる。
トを２個以上設けた場合に露光ユニットの光源を省略で
きるようにする。 【解決手段】 光源手段は露光用の光束を出力する。方
向切換反射鏡手段は光源からの光束を反射するものであ
って、その反射方向を切り換えて反射する。第１の凹面
鏡手段は方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ平行
光となるように反射する。第１の反射鏡手段は第１の凹
面鏡手段からの反射光束を第１の露光面に反射する。第
２の凹面鏡手段は方向切換反射鏡手段からの反射光束を
ほぼ平行光となるように反射する。第２の反射鏡手段は
第２の凹面鏡手段からの反射光束を第２の露光面に反射
する。１つの光源手段から出力される光束を方向切換反
射鏡手段によって時間的に切り換えて、第１の凹面鏡手
段及び第１の反射鏡手段を介して露光したり、第２の凹
面鏡手段及び第２の反射鏡手段を介して露光したりす
る。これによって露光用の光源は１つでよくなり、光源
を省略することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターン
を形成する露光装置に係り、特に露光光源の有効利用を
図った露光装置に関する。
イの製造工程においてガラス基板上にマスクのパターン
を形成する露光装置に係り、特に露光光源の有効利用を
図った露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉ
ｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）は、ＣＲＴ（Ｃ
ａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に比べて薄型化、軽
量化が可能であるため、ＣＴＶ（Ｃｏｌｏｒ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として
採用され、画面サイズも１０型以上の大形化が図られ、
より一層の高精細化及びカラー化が押し進められてい
る。液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によ
りガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られ
る。露光装置はこの微細パターンをガラス基板上に描画
するものである。この露光装置としては、マスクパター
ンをレンズ又はミラーを用いてガラス基板上に投影する
プロジェクション方式と、マスクとガラス基板との間に
微小なギャップを設けてマスクパターンを転写するプロ
キシミティ方式とがある。
ｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）は、ＣＲＴ（Ｃ
ａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に比べて薄型化、軽
量化が可能であるため、ＣＴＶ（Ｃｏｌｏｒ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として
採用され、画面サイズも１０型以上の大形化が図られ、
より一層の高精細化及びカラー化が押し進められてい
る。液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によ
りガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られ
る。露光装置はこの微細パターンをガラス基板上に描画
するものである。この露光装置としては、マスクパター
ンをレンズ又はミラーを用いてガラス基板上に投影する
プロジェクション方式と、マスクとガラス基板との間に
微小なギャップを設けてマスクパターンを転写するプロ
キシミティ方式とがある。
【０００３】プロキシミティ方式の露光装置は、プロジ
ェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るもの
の、照射光学系が非常にシンプルであり、スループット
が高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優
れており、生産性の高い量産用装置に適したものであ
る。従来、プロキシミティ露光装置は、インライン対応
ローラコンベア方式のローダ・アンローダユニットを採
用しており、ローラコンベアの流れに沿って、ローダユ
ニット、搬入用基板搬送ユニット、アライメントステー
ジユニット、搬出用基板帆走ユニット、アンローダユニ
ットが順番に配置されて構成されている。
ェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るもの
の、照射光学系が非常にシンプルであり、スループット
が高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優
れており、生産性の高い量産用装置に適したものであ
る。従来、プロキシミティ露光装置は、インライン対応
ローラコンベア方式のローダ・アンローダユニットを採
用しており、ローラコンベアの流れに沿って、ローダユ
ニット、搬入用基板搬送ユニット、アライメントステー
ジユニット、搬出用基板帆走ユニット、アンローダユニ
ットが順番に配置されて構成されている。
【０００４】ローダユニットはガラス基板を順次供給す
るものであり、アンローダユニットは露光処理の終了し
たガラス基板を順次排出するものである。搬入用基板搬
送ユニットはローダユニット上のガラス基板をセンタリ
ング位置決めしてからアライメントステージの露光チャ
ックに搬送する。アライメントステージユニットは、露
光チャック、チルティングＺステージ及びガラス基板ア
ライメントステージ、プリアライメント、マスクベース
ユニットなどで構成される。このアライメントステージ
ユニットには、インラインの外側に設けられた露光ユニ
ットからの紫外線をガラス基板上のフォトマスクに照射
するための光学系などが存在する。搬出用基板搬送ユニ
ットは露光チャック上の露光処理後のガラス基板をアン
ローダユニットに搬送する。
るものであり、アンローダユニットは露光処理の終了し
たガラス基板を順次排出するものである。搬入用基板搬
送ユニットはローダユニット上のガラス基板をセンタリ
ング位置決めしてからアライメントステージの露光チャ
ックに搬送する。アライメントステージユニットは、露
光チャック、チルティングＺステージ及びガラス基板ア
ライメントステージ、プリアライメント、マスクベース
ユニットなどで構成される。このアライメントステージ
ユニットには、インラインの外側に設けられた露光ユニ
ットからの紫外線をガラス基板上のフォトマスクに照射
するための光学系などが存在する。搬出用基板搬送ユニ
ットは露光チャック上の露光処理後のガラス基板をアン
ローダユニットに搬送する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のようにインライ
ン対応ローラコンベア方式の露光装置の場合は、ライン
上で露光処理を行っているため、一連の露光処理が終了
するまで、次のガラス基板に対して露光処理を施すこと
ができなかった。すなわち、インライン対応の場合、ロ
ーダユニットからの基板の取り込み−基板センタリング
−露光チャックへの基板搬送−プリアライメント−ギャ
ップ開始位置へ露光チャックを上昇−ギャップ制御−ア
ライメント−露光処理−基板搬送位置へ露光チャックを
下降−基板センタリング−アンローダユニットへ基板搬
出、と言った一連の処理を行っている。これらの各処理
時間を大幅に短縮化した場合でもスループットの向上に
は限界がある。
ン対応ローラコンベア方式の露光装置の場合は、ライン
上で露光処理を行っているため、一連の露光処理が終了
するまで、次のガラス基板に対して露光処理を施すこと
ができなかった。すなわち、インライン対応の場合、ロ
ーダユニットからの基板の取り込み−基板センタリング
−露光チャックへの基板搬送−プリアライメント−ギャ
ップ開始位置へ露光チャックを上昇−ギャップ制御−ア
ライメント−露光処理−基板搬送位置へ露光チャックを
下降−基板センタリング−アンローダユニットへ基板搬
出、と言った一連の処理を行っている。これらの各処理
時間を大幅に短縮化した場合でもスループットの向上に
は限界がある。
【０００６】そこで、実際に露光する場所、すなわち、
アライメントステージユニットをラインの外側に複数個
設けて、そこで並列的に露光処理を行うようにすること
によって、スループットを大幅に向上させることができ
るようになったが、アライメントステージユニットを複
数個設けることは露光ユニットもそれに合わせて複数個
設けなければならないことを意味し、それに伴って露光
用の光源も複数必要となり、電力消費の点で問題であっ
た。
アライメントステージユニットをラインの外側に複数個
設けて、そこで並列的に露光処理を行うようにすること
によって、スループットを大幅に向上させることができ
るようになったが、アライメントステージユニットを複
数個設けることは露光ユニットもそれに合わせて複数個
設けなければならないことを意味し、それに伴って露光
用の光源も複数必要となり、電力消費の点で問題であっ
た。
【０００７】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
あり、露光処理を行うアライメントステージユニットを
２個以上設けた場合でも露光ユニットの光源を省略する
ことのできる露光装置を提供することを目的とする。
あり、露光処理を行うアライメントステージユニットを
２個以上設けた場合でも露光ユニットの光源を省略する
ことのできる露光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載された本
発明に係る露光装置は、露光用の光束を出力する１つの
光源手段と、前記光源からの光束を反射するものであっ
て、その反射方向を切り換えて反射する方向切換反射鏡
手段と、前記方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ
平行光となるように反射する第１の凹面鏡手段と、前記
第１の凹面鏡手段からの反射光束を第１の露光面に反射
する第１の反射鏡手段と、前記方向切換反射鏡手段から
の反射光束をほぼ平行光となるように反射する第２の凹
面鏡手段と、前記第２の凹面鏡手段からの反射光束を第
２の露光面に反射する第２の反射鏡手段とを備えたもの
である。１つの光源手段から出力される光束を方向切換
反射鏡手段によって時間的に切り換えて、第１の凹面鏡
手段及び第１の反射鏡手段を介して露光したり、第２の
凹面鏡手段及び第２の反射鏡手段を介して露光したりす
る。これによって露光用の光源は１つでよくなり、光源
を省略することができる。
発明に係る露光装置は、露光用の光束を出力する１つの
光源手段と、前記光源からの光束を反射するものであっ
て、その反射方向を切り換えて反射する方向切換反射鏡
手段と、前記方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ
平行光となるように反射する第１の凹面鏡手段と、前記
第１の凹面鏡手段からの反射光束を第１の露光面に反射
する第１の反射鏡手段と、前記方向切換反射鏡手段から
の反射光束をほぼ平行光となるように反射する第２の凹
面鏡手段と、前記第２の凹面鏡手段からの反射光束を第
２の露光面に反射する第２の反射鏡手段とを備えたもの
である。１つの光源手段から出力される光束を方向切換
反射鏡手段によって時間的に切り換えて、第１の凹面鏡
手段及び第１の反射鏡手段を介して露光したり、第２の
凹面鏡手段及び第２の反射鏡手段を介して露光したりす
る。これによって露光用の光源は１つでよくなり、光源
を省略することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面に従って説明する。図１〜図３は本発明に係る露
光装置の概略構成を示す図であり、図１はガラス基板搬
送用のダブルアームロボットを省略し、露光用光源とそ
の光学系とアライメントステージユニットとの位置関係
を示す図である。図２及び図３はガラス基板搬送用のダ
ブルアームロボットとアライメントステージユニットと
の関係を示す図であり、図２はガラス基板搬送用ロボッ
トのフォークがローラコンベア上にある場合を示し、図
３はアライメントステージユニット上にある場合を示
す。
付図面に従って説明する。図１〜図３は本発明に係る露
光装置の概略構成を示す図であり、図１はガラス基板搬
送用のダブルアームロボットを省略し、露光用光源とそ
の光学系とアライメントステージユニットとの位置関係
を示す図である。図２及び図３はガラス基板搬送用のダ
ブルアームロボットとアライメントステージユニットと
の関係を示す図であり、図２はガラス基板搬送用ロボッ
トのフォークがローラコンベア上にある場合を示し、図
３はアライメントステージユニット上にある場合を示
す。
【００１０】他の装置で処理されたガラス基板２１〜２
３はローラコンベア１上を順次右側に搬送される。ガラ
ス基板２１及び２２は露光処理前のものであり、ガラス
基板２３及び２４は露光処理後のものである。ガラス基
板２１の上面には恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニッ
ト）３が設けられている。恒温送風ユニット３は、設定
温度±０．１°Ｃに調整されたエアーを０．１２μｍの
粒子を集塵可能なフィルタを通してガラス基板２１にダ
ウンフローし、第１のアライメントステージユニット４
１又は第２のアライメントステージユニット４２の露光
チャックに搬送される前のガラス基板２１の温度調整す
なわち冷却を行うものである。
３はローラコンベア１上を順次右側に搬送される。ガラ
ス基板２１及び２２は露光処理前のものであり、ガラス
基板２３及び２４は露光処理後のものである。ガラス基
板２１の上面には恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニッ
ト）３が設けられている。恒温送風ユニット３は、設定
温度±０．１°Ｃに調整されたエアーを０．１２μｍの
粒子を集塵可能なフィルタを通してガラス基板２１にダ
ウンフローし、第１のアライメントステージユニット４
１又は第２のアライメントステージユニット４２の露光
チャックに搬送される前のガラス基板２１の温度調整す
なわち冷却を行うものである。
【００１１】ダブルアームロボット５は、２本のアーム
５１及び５３と、これらのアーム先端に取り付けられた
フォーク５２及び５４とを有し、旋回自在の構成になっ
ている。なお、このようなダブルアームロボットの構成
は公知なので、ここではその詳細説明は省略する。アー
ム５１及びフォーク５２はローラコンベア１上のガラス
基板２２を持ち上げて第１のアライメントステージユニ
ット４１又は第２のアライメントステージユニット４２
の露光チャック上に配置するものであり、アーム５３及
びフォーク５４は第１のアライメントステージユニット
４１又は第２のアライメントステージユニット４２の露
光チャック上のガラス基板をローラコンベア１上のガラ
ス基板２２の位置に配置するものである。すなわち、ア
ーム５１及びフォーク５２は露光処理前のガラス基板を
ローラコンベア１上から露光チャック上に搬入するガラ
ス基板搬入用であり、アーム５３及びフォーク５４は露
光処理済のガラス基板を露光チャック上からローラコン
ベア１上に搬送するガラス基板搬送用である。図２では
アーム５１及びフォーク５２がローラコンベア１上の露
光前のガラス基板２２を持ち上げている状態が示されて
おり、図３ではアーム５１及びフォーク５２がそのガラ
ス基板を第１のアライメントステージユニット４１の露
光チャック上に配置する状態が示されている。なお、ガ
ラス基板２２の位置では基板センタリングユニットなど
によって基板のセンタリングが行われてから、各アライ
メントステージユニット４１及び４２にガラス基板が搬
送される。第１及び第２のアライメントステージユニッ
ト４１及び４２は、露光チャック、チルティングＺステ
ージ、ガラス基板アライメントステージ、プリアライメ
ント、マスクベースユニットなどで構成されている。な
お、アライメントステージユニットの構成は公知なので
その説明は省略する。
５１及び５３と、これらのアーム先端に取り付けられた
フォーク５２及び５４とを有し、旋回自在の構成になっ
ている。なお、このようなダブルアームロボットの構成
は公知なので、ここではその詳細説明は省略する。アー
ム５１及びフォーク５２はローラコンベア１上のガラス
基板２２を持ち上げて第１のアライメントステージユニ
ット４１又は第２のアライメントステージユニット４２
の露光チャック上に配置するものであり、アーム５３及
びフォーク５４は第１のアライメントステージユニット
４１又は第２のアライメントステージユニット４２の露
光チャック上のガラス基板をローラコンベア１上のガラ
ス基板２２の位置に配置するものである。すなわち、ア
ーム５１及びフォーク５２は露光処理前のガラス基板を
ローラコンベア１上から露光チャック上に搬入するガラ
ス基板搬入用であり、アーム５３及びフォーク５４は露
光処理済のガラス基板を露光チャック上からローラコン
ベア１上に搬送するガラス基板搬送用である。図２では
アーム５１及びフォーク５２がローラコンベア１上の露
光前のガラス基板２２を持ち上げている状態が示されて
おり、図３ではアーム５１及びフォーク５２がそのガラ
ス基板を第１のアライメントステージユニット４１の露
光チャック上に配置する状態が示されている。なお、ガ
ラス基板２２の位置では基板センタリングユニットなど
によって基板のセンタリングが行われてから、各アライ
メントステージユニット４１及び４２にガラス基板が搬
送される。第１及び第２のアライメントステージユニッ
ト４１及び４２は、露光チャック、チルティングＺステ
ージ、ガラス基板アライメントステージ、プリアライメ
ント、マスクベースユニットなどで構成されている。な
お、アライメントステージユニットの構成は公知なので
その説明は省略する。
【００１２】次に第１及び第２のアライメントステージ
ユニット４１及び４２上のフォトマスクに露光用光源か
らの紫外線を照射する光学系の構成について、図１を用
いて説明する。図１でで、ガラス基板搬送用のダブルア
ームロボットの図示を省略している。アライメントステ
ージユニットが図１のように２つの場合、従来は露光用
光源である超高圧水銀ランプをステージユニット毎に設
け、それぞれの超高圧水銀ランプからの光束をそれぞれ
の光学系を用いて第１及び第２のアライメントステージ
ユニット４１及び４２に導くような構成になっている。
ところが、この実施の形態では、１つの超高圧水銀ラン
プ６０から発射される紫外光線を反射方向切換ミラー６
５Ａ（６５Ｂ）によってその反射方向を交互に切り換え
て第１及び第２のアライメントステージユニット４１及
び４２に導くように光学系が構成されている。
ユニット４１及び４２上のフォトマスクに露光用光源か
らの紫外線を照射する光学系の構成について、図１を用
いて説明する。図１でで、ガラス基板搬送用のダブルア
ームロボットの図示を省略している。アライメントステ
ージユニットが図１のように２つの場合、従来は露光用
光源である超高圧水銀ランプをステージユニット毎に設
け、それぞれの超高圧水銀ランプからの光束をそれぞれ
の光学系を用いて第１及び第２のアライメントステージ
ユニット４１及び４２に導くような構成になっている。
ところが、この実施の形態では、１つの超高圧水銀ラン
プ６０から発射される紫外光線を反射方向切換ミラー６
５Ａ（６５Ｂ）によってその反射方向を交互に切り換え
て第１及び第２のアライメントステージユニット４１及
び４２に導くように光学系が構成されている。
【００１３】超高圧水銀ランプ６０から出射された光束
は、その周囲の楕円鏡によって下方向に集光され、第１
平面鏡６１によって反射方向切換ミラー６５Ａ（６５
Ｂ）に反射される。第１平面鏡６１で反射した光束は、
照明強度を均一にするための２枚のフライアイレンズ６
３及び６４を通過して反射方向切換ミラー６５Ａ（６５
Ｂ）に入射する。フライアイレンズ６３と第１平面鏡６
１との間には、紫外光線の照射を遮るシャッタ機構６２
が設けられている。フライアイレンズ６３及び６４によ
って照明強度の均一となった光束は反射方向切換ミラー
６５Ａ（６５Ｂ）によって、第１の凹面鏡６６又は第２
の凹面鏡６７のいずれか一方に反射される。すなわち、
反射方向切換ミラー６５Ａはフライアイレンズ６４から
の光束を第１の凹面鏡６６の方向に反射し、反射方向切
換ミラー６５Ｂはフライアイレンズ６４からの光束を第
２の凹面鏡６７の方向に反射する。
は、その周囲の楕円鏡によって下方向に集光され、第１
平面鏡６１によって反射方向切換ミラー６５Ａ（６５
Ｂ）に反射される。第１平面鏡６１で反射した光束は、
照明強度を均一にするための２枚のフライアイレンズ６
３及び６４を通過して反射方向切換ミラー６５Ａ（６５
Ｂ）に入射する。フライアイレンズ６３と第１平面鏡６
１との間には、紫外光線の照射を遮るシャッタ機構６２
が設けられている。フライアイレンズ６３及び６４によ
って照明強度の均一となった光束は反射方向切換ミラー
６５Ａ（６５Ｂ）によって、第１の凹面鏡６６又は第２
の凹面鏡６７のいずれか一方に反射される。すなわち、
反射方向切換ミラー６５Ａはフライアイレンズ６４から
の光束を第１の凹面鏡６６の方向に反射し、反射方向切
換ミラー６５Ｂはフライアイレンズ６４からの光束を第
２の凹面鏡６７の方向に反射する。
【００１４】第１のアライメントステージユニット４１
及び第２のアライメントステージユニット４２上で実際
に露光している時間は約５秒間であり、ガラス基板の搬
入やアライメントなどに約１５秒の時間が費やされ、基
板の搬出に約１０秒の時間が費やされている。ゆえにこ
の５秒間の露光時間がそれぞれ第１のアライメントステ
ージユニット４１及び第２のアライメントステージユニ
ット４２上で交互になるように処理順序を調整し、それ
に合わせて反射方向切換ミラー６５Ａ（６５Ｂ）の反射
方向を切り換えることによって、１つの露光用光源（超
高圧水銀ランプ６０）を兼用することができる。
及び第２のアライメントステージユニット４２上で実際
に露光している時間は約５秒間であり、ガラス基板の搬
入やアライメントなどに約１５秒の時間が費やされ、基
板の搬出に約１０秒の時間が費やされている。ゆえにこ
の５秒間の露光時間がそれぞれ第１のアライメントステ
ージユニット４１及び第２のアライメントステージユニ
ット４２上で交互になるように処理順序を調整し、それ
に合わせて反射方向切換ミラー６５Ａ（６５Ｂ）の反射
方向を切り換えることによって、１つの露光用光源（超
高圧水銀ランプ６０）を兼用することができる。
【００１５】第１の凹面鏡６６は反射方向切換ミラー６
５Ａからの反射光をほぼ平行光線束となるように反射し
て第２反射ミラー６８を介して第１のアライメントステ
ージユニット４１上の露光面に光束を照射して露光処理
を行う。同様に第２の凹面鏡６７は反射方向切換ミラー
６５Ｂからの反射光をほぼ平行光線束となるように反射
して第２反射ミラー６９を介して第２のアライメントス
テージユニット４２上の露光面に光束を照射して露光処
理を行う。
５Ａからの反射光をほぼ平行光線束となるように反射し
て第２反射ミラー６８を介して第１のアライメントステ
ージユニット４１上の露光面に光束を照射して露光処理
を行う。同様に第２の凹面鏡６７は反射方向切換ミラー
６５Ｂからの反射光をほぼ平行光線束となるように反射
して第２反射ミラー６９を介して第２のアライメントス
テージユニット４２上の露光面に光束を照射して露光処
理を行う。
【００１６】この露光装置がどのような手順で露光処理
を行うのか、その概略を説明する。図２においてガラス
基板２２は露光処理前のものであり、ガラス基板２３は
露光処理後のものであるとする。まず、ダブルアームロ
ボット５は図２及び図３に示すようにガラス基板２２を
ローラコンベア１上から第１のアライメントステージユ
ニット４１上に配置する。これと同時に反射方向切換ミ
ラーは６５Ａのように位置決めされる。そして、アライ
メントステージユニット４１上でのアライメント処理が
終了した時点で露光処理が行われる。アライメントステ
ージユニット４１上での露光処理が行われている最中に
ダブルアームロボット５は図３の状態からアーム５１を
収縮してフォーク５２をフォーク５４と同じ位置に戻
し、時計方向に１８０度旋回する。アーム５３を伸縮し
てフォーク５４でガラス基板２３を持ち上げ、それを反
時計方向に９０度旋回搬送し、ローラコンベア１に配置
する。アーム５３を収縮してフォーク５４をフォーク５
２と同じ位置に戻す。ローラコンベア１が駆動するの
で、ガラス基板２３はガラス基板２４の位置に移動し、
ガラス基板２１が新たにダブルアームロボット５の取扱
い可能位置に配置されるようになるので、ダブルアーム
ロボット５はアーム５１を伸縮してフォーク５２でガラ
ス基板２１を持ち上げ、それを時計方向に９０度旋回搬
送し、アライメントステージユニット４２上に配置し、
アーム５１を収縮してフォーク５２をフォーク５４と同
じ位置に戻す。この時点でアライメントステージユニッ
ト４１上の露光処理は終了しているので、反射方向切換
ミラーは６５Ｂのように位置決めされる。そして、アラ
イメントステージユニット４２上でのアライメント処理
が終了した時点でガラス基板２１に対して露光処理が行
われる。このようにして、ダブルアームロボット５は次
々とガラス基板を第１及び第２のアライメントステージ
ユニット４１，４２上に配置する。このダブルアームロ
ボット５がガラス基板を配置するのに合わせて反射方向
切換ミラーの方向を６５Ａ又は６５Ｂのように切り換え
て交互に露光処理を行う。
を行うのか、その概略を説明する。図２においてガラス
基板２２は露光処理前のものであり、ガラス基板２３は
露光処理後のものであるとする。まず、ダブルアームロ
ボット５は図２及び図３に示すようにガラス基板２２を
ローラコンベア１上から第１のアライメントステージユ
ニット４１上に配置する。これと同時に反射方向切換ミ
ラーは６５Ａのように位置決めされる。そして、アライ
メントステージユニット４１上でのアライメント処理が
終了した時点で露光処理が行われる。アライメントステ
ージユニット４１上での露光処理が行われている最中に
ダブルアームロボット５は図３の状態からアーム５１を
収縮してフォーク５２をフォーク５４と同じ位置に戻
し、時計方向に１８０度旋回する。アーム５３を伸縮し
てフォーク５４でガラス基板２３を持ち上げ、それを反
時計方向に９０度旋回搬送し、ローラコンベア１に配置
する。アーム５３を収縮してフォーク５４をフォーク５
２と同じ位置に戻す。ローラコンベア１が駆動するの
で、ガラス基板２３はガラス基板２４の位置に移動し、
ガラス基板２１が新たにダブルアームロボット５の取扱
い可能位置に配置されるようになるので、ダブルアーム
ロボット５はアーム５１を伸縮してフォーク５２でガラ
ス基板２１を持ち上げ、それを時計方向に９０度旋回搬
送し、アライメントステージユニット４２上に配置し、
アーム５１を収縮してフォーク５２をフォーク５４と同
じ位置に戻す。この時点でアライメントステージユニッ
ト４１上の露光処理は終了しているので、反射方向切換
ミラーは６５Ｂのように位置決めされる。そして、アラ
イメントステージユニット４２上でのアライメント処理
が終了した時点でガラス基板２１に対して露光処理が行
われる。このようにして、ダブルアームロボット５は次
々とガラス基板を第１及び第２のアライメントステージ
ユニット４１，４２上に配置する。このダブルアームロ
ボット５がガラス基板を配置するのに合わせて反射方向
切換ミラーの方向を６５Ａ又は６５Ｂのように切り換え
て交互に露光処理を行う。
【００１７】なお、上述の実施の形態ではマスクの交換
については述べていないが、マスクストッカーをダブル
アームロボットの取扱い範囲内に配置しておき、そこか
らマスクを取り出してマスクの交換を行うようにしても
よい。
については述べていないが、マスクストッカーをダブル
アームロボットの取扱い範囲内に配置しておき、そこか
らマスクを取り出してマスクの交換を行うようにしても
よい。
【００１８】
【発明の効果】本発明の露光装置によれば、露光処理を
行うアライメントステージユニットを複数設けた場合で
も露光ユニットの光源を省略することができるという効
果がある。
行うアライメントステージユニットを複数設けた場合で
も露光ユニットの光源を省略することができるという効
果がある。
【図１】 本発明に係る露光装置の概略構成を示す図で
あり、ガラス基板搬送用のダブルアームロボットを省略
し、露光用光源とその光学系とアライメントステージユ
ニットとの位置関係を示す図である。
あり、ガラス基板搬送用のダブルアームロボットを省略
し、露光用光源とその光学系とアライメントステージユ
ニットとの位置関係を示す図である。
【図２】 ガラス基板搬送用のダブルアームロボットと
アライメントステージユニットとの関係を示す図であ
り、ガラス基板搬送用ロボットのフォークがローラコン
ベア上にある場合を示す図である。
アライメントステージユニットとの関係を示す図であ
り、ガラス基板搬送用ロボットのフォークがローラコン
ベア上にある場合を示す図である。
【図３】 ガラス基板搬送用のダブルアームロボットと
アライメントステージユニットとの関係を示す図であ
り、ガラス基板搬送用ロボットのフォークがアライメン
トステージユニット上にある場合を示す図である。
アライメントステージユニットとの関係を示す図であ
り、ガラス基板搬送用ロボットのフォークがアライメン
トステージユニット上にある場合を示す図である。
１…ローラコンベア、２１，２２，２３，２４…ガラス
基板、３…恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）、４
１，４２…アライメントステージユニット、５…ダブル
アームロボット、５１，５３…アーム、５２，５４…フ
ォーク、６０…超高圧水銀ランプ、６１，６８，６９…
反射鏡、６２…シャッタ機構、６３，６４…フライアイ
レンズ、６５Ａ（６５Ｂ）…反射方向切換ミラー、６
６，６７…凹面鏡
基板、３…恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）、４
１，４２…アライメントステージユニット、５…ダブル
アームロボット、５１，５３…アーム、５２，５４…フ
ォーク、６０…超高圧水銀ランプ、６１，６８，６９…
反射鏡、６２…シャッタ機構、６３，６４…フライアイ
レンズ、６５Ａ（６５Ｂ）…反射方向切換ミラー、６
６，６７…凹面鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 弘 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 高見 重博 東京都渋谷区東３丁目16番３号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 CA03 CA12 DB07 DB11 LA12 5F046 CA01 CB03 CD01 CD04 CD06
Claims (1)
- 【請求項１】 露光用の光束を出力する１つの光源手段
と、 前記光源からの光束を反射するものであって、その反射
方向を切り換えて反射する方向切換反射鏡手段と、 前記方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ平行光と
なるように反射する第１の凹面鏡手段と、 前記第１の凹面鏡手段からの反射光束を第１の露光面に
反射する第１の反射鏡手段と、 前記方向切換反射鏡手段からの反射光束をほぼ平行光と
なるように反射する第２の凹面鏡手段と、 前記第２の凹面鏡手段からの反射光束を第２の露光面に
反射する第２の反射鏡手段とを備えたことを特徴とする
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11042822A JP2000241993A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11042822A JP2000241993A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241993A true JP2000241993A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12646656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11042822A Pending JP2000241993A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241993A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100471427B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2005-03-08 | 엘지전자 주식회사 | 이중램프 노광장치 |
| JP2006267802A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
-
1999
- 1999-02-22 JP JP11042822A patent/JP2000241993A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100471427B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2005-03-08 | 엘지전자 주식회사 | 이중램프 노광장치 |
| JP2006267802A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
| JP4638755B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-02-23 | 大日本印刷株式会社 | 露光装置および露光方法 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041025 |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061006 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061017 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070313 |