JP2000234992A - 汚泥濃度水分測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 サンプル皿を繰り返し使用でき、測定時間を
短縮する。 【解決手段】 モータ４に接続した縦方向の回転駆動軸
３と、回転駆動軸に対して回動不能であるが、上下動可
能な状態で回転駆動軸に設けられた昇降基部６と、昇降
基部に取り付けた２本のアーム９と、各アームの先端に
設けられ、底部を下方に突出した状態でサンプル皿を下
から支持可能な皿ホルダ７と、昇降基部を上下動する昇
降機構と、を備え、回転駆動軸の回転により皿ホルダが
描く軌跡上に、皿洗浄ステージと、洗浄皿乾燥ステージ
と、サンプル供給ステージと、加熱乾燥重量測定ステー
ジとを配置した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば下水処理場
で汚泥の濃度や汚泥の水分を測定する汚泥濃度水分測定
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の汚泥濃度水分測定装置には、汚泥
サンプル（以下、単にサンプルまたは試料という。）を
入れるサンプル皿を繰り返し使用する皿再利用タイプ
と、測定の度に新たなサンプル皿を使用するディスポー
ザブルタイプとがある。

【０００３】皿洗浄タイプの装置では、表面にフッ素樹
脂加工等の付着防止処理を施したサンプル皿を使用し、
サンプル供給ステージでサンプル皿内にサンプルを投入
し、次の加熱乾燥重量測定ステージでサンプル皿内のサ
ンプルを加熱乾燥しながら重量を測定し、測定が終了す
ると、サンプル皿内で板状に乾燥したサンプルを剥して
捨てる。そして、このサンプル皿を再度サンプル供給ス
テージにセットして繰り返し使用する。

【０００４】一方、ディスポーザブルタイプの装置で
は、例えばアルミニウムコイル材からサンプル皿を打ち
抜き成型する皿成型ステージを設け、このステージの後
にサンプル供給ステージ、加熱乾燥重量測定ステージを
設け、測定が終了したサンプル皿はそのまま廃棄処分と
する。

【０００５】上記したいずれのタイプにおいても各ステ
ージを直線状に配置し、搬送機構によりサンプル皿を順
次各ステージに搬送する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来のディスポーザブ
ルタイプの汚泥濃度水分測定装置は、測定する度にサン
プル皿を廃棄処分するので、ゴミ問題、省資源、自然保
護の観点から好ましくない。また、皿再利用タイプの汚
泥濃度水分測定装置は、測定が終了したサンプル皿をそ
のまま再度使用するので、前回の乾燥サンプルを剥した
後に若干のサンプルが残ることがあり、高い測定精度を
期待することができない。そして、測定精度を高めるた
めに、測定が終了したサンプル皿を洗浄してから再度使
用することが考えられるが、単に測定後のサンプル皿を
洗浄することにすると、少なくとも洗浄に要する時間と
洗浄したサンプル皿を乾燥する時間が加わるので、１回
の測定に要する時間が長くなってしまい、測定効率が低
下してしまう。また、従来の装置は、いずれも各ステー
ジを直線状に配置するので、装置が大型化してしまい、
広い設置スペースを必要とする。

【０００７】そこで本発明の目的は、サンプル皿を繰り
返し使用することができ、しかも短時間で効率良く測定
できる汚泥濃度水分測定装置を提供しようとするもので
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために提案されたもので、請求項１に記載のもの
は、駆動源に接続した縦方向の回転駆動軸と、この回転
駆動軸に対して回動不能であるが、上下動可能な状態で
回転駆動軸に設けられた昇降基部と、この昇降基部に、
放射状に取り付けられた複数本のアームと、各アームの
先端に設けられ、底部を下方に突出した状態でサンプル
皿を下から支持可能な皿ホルダと、上記昇降基部を上下
動する昇降機構と、を備え、回転駆動軸の回転により皿
ホルダが描く軌跡上に、少なくとも皿洗浄ステージと、
洗浄皿乾燥ステージと、サンプル供給ステージと、加熱
乾燥重量測定ステージと、を配置したことを特徴とする
汚泥濃度水分測定装置である。

【０００９】請求項２に記載のものは、一の皿ホルダが
洗浄皿乾燥ステージに位置する状態で他の皿ホルダが加
熱乾燥重量測定ステージに位置するように前記アームを
配置したことを特徴とする請求項１に記載の汚泥濃度水
分測定装置である。

【００１０】請求項３に記載のものは、回転駆動軸を挟
んで対向する位置に洗浄皿乾燥ステージと加熱乾燥重量
測定ステージを配置したことを特徴とする請求項２に記
載の汚泥濃度水分測定装置である。

【００１１】請求項４に記載のものは、前記皿ホルダ
が、サンプル皿の鍔部を載置可能な環状部材で構成され
ていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
載の汚泥濃度水分測定装置である。

【００１２】請求項５に記載のものは、前記軌跡上に、
サンプル皿内のサンプルを拡散させるサンプル拡散ステ
ージを配置したことを特徴とする請求項１から４のいず
れかに記載の汚泥濃度水分測定装置である。

【００１３】請求項６に記載のものは、前記昇降機構
が、回転駆動軸に遊嵌され、上面に昇降基部を回動自在
な状態で載せる昇降基部支持部材と、この昇降基部支持
部材を上下動する昇降駆動源とから構成されていること
を特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の汚泥濃
度水分測定装置である。

【００１４】請求項７に記載のものは、前記加熱乾燥重
量測定ステージが、天秤機構の少なくとも上部を囲う状
態で設けられた天秤カバーと、該天秤カバー内に、上下
を区画するように設けられた区画部材と、天秤カバー内
に、区画部材よりも高い位置に環状に設けられたシール
材と、皿ホルダをシール材上に降ろした状態でシール材
の内側でサンプル皿を支持する皿支持部と、区画部材の
開口部内を貫通し、上記皿支持部上に載せられたサンプ
ル皿の重さを天秤機構に伝える重量伝達軸と、からなる
気流防止機構を備えたことを特徴とする請求項１から６
のいずれかに記載の汚泥濃度水分測定装置である。

【００１５】請求項８に記載のものは、上記区画部材
を、間に間隔を開けて設けた複数の板材から構成し、３
本の重量伝達軸を各板材の開口部内に貫通させ、最上の
板材の上方に突出する各重量伝達軸の上端を皿支持部と
したことを特徴とする請求項７に記載の汚泥濃度水分測
定装置である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は汚泥濃度水分測定装置１の
正面図、図２はその左側面図、図３はその右側面図、図
４は背面図、図５は各ステージの配置を示す平面図であ
る。

【００１７】汚泥濃度水分測定装置１は、フレーム２に
パネルを張った筺体内のほぼ中央に、フレーム２に設け
た軸受３′により上部と下部を支持した状態で回転駆動
軸３を縦方向に設け、この回転駆動軸３の上部に駆動源
としてパルスモータ４を接続するとともに、回転駆動軸
３の回転位置を検出する位置検出機構５を設け、回転駆
動軸３の途中に昇降基部６を設け、先端に皿ホルダ７を
有する２本のアーム９の基端を昇降基部６に取り付け、
昇降基部６の下方に昇降基部６を上下動する昇降機構１
０を設け、回転駆動軸３の回転により皿ホルダ７が描く
軌跡上に、図５に示すように、皿洗浄ステージＳＴ１、
洗浄皿乾燥ステージＳＴ２、サンプル供給ステージＳＴ
３、サンプル拡散ステージＳＴ４、加熱乾燥重量測定ス
テージＳＴ５を配置してある。なお、各機構は、筺体内
の上部に設けた制御装置（図示せず）の制御の下で作動
する。

【００１８】昇降基部６は、回転駆動軸３に対して回動
不能であるが、上下動可能であり、本実施形態では、短
尺な円筒体の内周面と回転駆動軸３の外周面との間にス
プライン機構を設けてある。具体的には、回転駆動軸３
に軸方向のキー溝を形成し、このキー溝内をスライド可
能なキーを円筒体の内周面に設けてある。したがって、
この昇降基部６は、昇降高さに拘らず回転駆動軸３と共
回りし、後述する昇降機構１０の作動により上下動する
ことができる。

【００１９】この昇降基部６に取り付けるアーム９は、
先端に皿ホルダ７を固定した棒材であり、本実施形態で
は皿ホルダ７を傾動可能とするために基端を昇降基部６
に対して回動可能な状態で取り付けてある。そして、本
実施形態では、２本のアーム９を１８０°位相を変え
て、すなわち昇降基部６を挟んで対向する反対側に取り
付ける。なお、アーム９を回動可能な状態で昇降基部６
に取り付けるには、昇降基部６の側面に開設した軸穴内
にアーム９の基端を遊嵌し、この基端にピン等の抜け防
止を設ければよい。

【００２０】皿ホルダ７は、図６（ｂ）に示すように、
サンプル皿１１の鍔部１２を載せる載置面１３を起立面
１４の内側に向けて形成した断面略Ｌ字状の環状部材で
あり、起立面１４の内径をサンプル皿１１の鍔部１２の
外径よりも少し大きく設定し、載置面１３の内周縁に囲
まれた穴１５の内径をサンプル皿１１の窪部の最大外径
よりも少し大きく設定し、上記穴内にサンプル皿１１の
窪部を落とし込んで底部１６が下方に突出した状態で保
持できるように構成してある。

【００２１】本実施形態では、図６（ｃ）に示すよう
に、載置面１３上に摩擦係数が大きな滑べり止め材とし
てシリコンゴム層１９を形成し、穴１５の開口縁から載
置面１３の内周縁にかけて摩擦係数の小さな滑べり材と
して断面Ｌ字状のプラスチック層２０を形成し、このプ
ラスチック層２０にサンプル皿１１の窪部が接触して円
滑に上下動できるように構成してある。なお、このプラ
スチック層２０の上面は、前記シリコンゴム層１９の表
面よりも低くして、載置面１３にサンプル皿１１の鍔部
１２を載置した状態で、鍔部１２の下面がシリコンゴム
層１９の表面に確実に接触して、後述する皿洗浄の際に
おけるサンプル皿１１の共回りを防止する。

【００２２】サンプル皿１１は、試料皿あるいは計量皿
とも言い、ステンレス板等の耐熱性板材を浅い円形皿状
体にプレス成型し、表面に界面活性剤を主体とする親水
性層を形成（親水化処理）したもので、図６（ｂ）に示
すように、平らな底部１６の縁から緩やかな傾斜面２１
を起立し、傾斜面２１の傾斜上端部分に垂直部２２を形
成して鍔部１２の内周縁に連続させてある。なお、垂直
部２２の上下長さは、皿ホルダ７のプラスチック層２０
の上下寸法よりも少し長く設定する。

【００２３】この様な構成からなるサンプル皿１１を皿
ホルダ７の穴１５内にセットすると、前記したように、
鍔部１２が皿ホルダ７の載置面１３上に載って、底部１
６が下方に突出した状態で支持され、この状態で皿ホル
ダ７が所定量だけ下降してサンプル皿１１の底部１６
が、例えば天秤機構２３の測定テーブル２４上に載る
と、鍔部１２が載置面１３から離れるので、サンプル皿
１１の重さが天秤機構２３の測定テーブル２４に作用し
て重量を測定できる。そして、この状態で皿ホルダ７を
上昇すると、鍔部１２が載置面１３に載って上昇し、底
部１６が測定テーブル２４から離れる。この様に、皿ホ
ルダ７の穴１５とサンプル皿１１の窪部とは相対的に上
下動するが、穴１５の内周面に摩擦係数の小さなプラス
チック層２０を添設してあるので、引っ掛かりを防止し
て円滑にサンプル皿１１を天秤機構２３等に載せたり、
持ち上げたりすることができる。

【００２４】次に、皿ホルダ７を上下動させる昇降機構
１０について説明する。本実施形態における昇降機構１
０は、上面に昇降基部６を回動自在な状態で載せる昇降
基部支持部材２５を回転駆動軸３に遊嵌した状態で設
け、この昇降基部支持部材２５の下方に２本のエアシリ
ンダ２６を昇降駆動源として設け、上向きに設けたエア
シリンダ２６の先端を昇降基部支持部材２５の下面に接
続してある。昇降基部支持部材２５は、中心の貫通穴内
に回転駆動軸３を貫通した肉厚な円筒体であり、上面に
はベアリング（図示せず）を設け、昇降基部６が円滑に
回動できるように構成してある。

【００２５】この様な構成からなる昇降機構１０におい
ては、エアシリンダ２６のロッドを縮めた状態では昇降
基部支持部材２５が自重により下降した状態を維持し、
エアシリンダ２６のロッドを伸ばして昇降基部支持部材
２５を上昇すると、昇降基部支持部材２５上の昇降基部
６が上昇し、これによりアーム９の先端の皿ホルダ７が
サンプル皿１１と共に上昇する。そして、この上昇状態
でパルスモータ４を作動して回転駆動軸３を回転する
と、昇降基部６が回転駆動軸３と共回りするので、皿ホ
ルダ７がサンプル皿１１と共に回転する。したがって、
回転駆動軸３の回転角度を適宜設定すると、皿ホルダ７
が描く回転軌跡上に配置した各ステージＳＴ１〜ＳＴ５
にサンプル皿１１を搬送することができる。

【００２６】本実施形態では、図５に示すように、汚泥
濃度水分測定装置１の正面側に加熱乾燥重量測定ステー
ジＳＴ５を配置し、この加熱乾燥重量測定ステージＳＴ
５から９０°左回りした位置にサンプル供給ステージＳ
Ｔ３を配置し、このサンプル供給ステージＳＴ３からさ
らに９０°左回りした位置、すなわち回転駆動軸３を挟
んで加熱乾燥重量測定ステージＳＴ５とは反対側に洗浄
皿乾燥ステージＳＴ２を配置し、このステージから９０
°左回りした位置、すなわちサンプル供給ステージＳＴ
３の反対側に皿洗浄ステージＳＴ１を配置する。また、
サンプル供給ステージＳＴ３から４５°左回りした位置
にサンプル拡散ステージＳＴ４を配置する。

【００２７】次に、各ステージについて説明するが、ま
ず、皿洗浄ステージＳＴ１について説明する。この皿洗
浄ステージＳＴ１は、測定に使用するサンプル皿１１を
予め洗浄して前回のサンプルを確実に除去するためのス
テージであり、本実施形態では、サンプル皿１１を傾け
た状態で、上方に設けた皿洗浄機構により洗浄できるよ
うに構成してある。

【００２８】サンプル皿１１を傾ける機構の一部とし
て、皿ホルダ７のアーム９が昇降基部６に対して回動可
能な状態で取り付けられていることは既に説明したが、
このアーム９には、図７に示すように、ストッパ３０の
作用により一方向に自由に揺動して他方向に揺動しない
ワンウエイ係止片３１が下向きに軸着されており、皿洗
浄ステージＳＴ１には、図２に示すように、ワンウエイ
係止片３１に係止する係止突起３２が下方、例えば昇降
基部支持部材２５から固定された状態で起立している。
したがって、アーム９が昇降基部６と共に回転（図７
（ｂ）中、左側に移動）してワンウエイ係止片３１が係
止突起３２に係止すると、ワンウエイ係止片３１が係止
突起３２に引っ掛かってアーム９の進行に伴ってアーム
９がその軸線を中心にして回動し、これにより皿ホルダ
７が傾動する。そして、アーム９が皿洗浄ステージＳＴ
１で停止すると、皿ホルダ７が十分な角度まで傾斜す
る。皿ホルダ７が傾斜しても、サンプル皿１１の窪部が
皿ホルダ７の穴１５内に嵌合しているので、皿ホルダ７
から外れて落下することはない。そして、皿ホルダ７が
回動して皿洗浄ステージＳＴ１から外れると、アーム９
に接続したスプリング３３の付勢力により皿ホルダ７が
水平な状態に復帰する。

【００２９】皿洗浄機構は、図８および図９に示すよう
に、弾性を有する十字形のヘラ４０を先端に設けた洗浄
部４１と、この洗浄部４１を回転駆動するモータ４２
と、洗浄部４１が回転中心線の方向に移動可能な状態で
モータ４２の出力軸側と洗浄部４１との間を接続し、洗
浄部４１を先端側に付勢するコイルスプリング４３を設
けた付勢ジョイント部４４と、皿ホルダ７により保持し
たサンプル皿１１内に水などの洗浄液を供給する洗浄液
供給ノズル４５とからなり、図２に示すように、モータ
４７の駆動により回動する腕部材４６の先端部分に取り
付けられている。そして、腕部材４６の回動により皿洗
浄機構が下降し、これによりヘラ４０が傾いたサンプル
皿１１の内表面に圧接し、洗浄液供給ノズル４５からサ
ンプル皿１１内に洗浄液を供給しながら洗浄部４１のヘ
ラ４０を圧接状態で回転すると、サンプル皿１１の内表
面に付着したサンプル５０等を洗浄除去することができ
る。なお、前記したように、皿ホルダ７の載置面１３に
シリコンゴム層１９を形成してあるので、ヘラ４０がサ
ンプル皿１１の内表面に圧接した状態で回転しても、サ
ンプル皿１１がシリコンゴム層１９との摩擦力によって
抑えられ、共回りすることはない。

【００３０】この傾斜状態でサンプル皿１１を洗浄する
と、サンプル皿１１に付着していたサンプル５０や汚れ
などが洗浄液と共にサンプル皿１１から流出する。この
様にしてサンプル皿１１の洗浄が終了すると、腕部材４
６が戻り回動して皿洗浄機構が上方に退避し、回転駆動
軸３が回転することによりワンウエイ係止片３１が係止
突起３２から外れて皿ホルダ７がスプリング３３の付勢
力により水平状態に復帰し、この状態で次の洗浄皿乾燥
ステージＳＴ２に搬送される。なお、スプリング３３の
付勢力により復帰するアーム９は、ストッパ（図示せ
ず）の作用により皿ホルダ７が水平となる位置で停止す
る。

【００３１】洗浄皿乾燥ステージＳＴ２は、皿洗浄ステ
ージＳＴ１で洗浄して濡れたサンプル皿１１を乾燥させ
るためのステージであり、皿ホルダ７が通過する軌跡の
上方に設けたヒータ５１により加熱し、またエアーを吹
き付けることにより効率良く短時間で乾燥し、乾燥した
サンプル皿１１にエアーを吹き付けて冷却する。

【００３２】本実施形態におけるヒータ５１は、回転駆
動軸３に遊嵌した昇降基部６上に環状の支持基部５２を
遊嵌し、この支持基部５２に基端を固定したアーム９の
先端に、発熱源としてセラミックヒータを設け、フレー
ム２側に固定したフード５３により上記セラミックヒー
タを囲い、このフード５３内にエアー吹き出しノズル
（図示せず）を臨ませた構成を採り、昇降基部６の上下
動に伴ってセラミックヒータがフード５３内で上下動し
てサンプル皿１１との間隔を一定に保持するが、支持基
部５２が回転駆動軸３に遊嵌されているので、洗浄皿乾
燥ステージＳＴ２の所定位置で停止している。なお、昇
降基部６と支持基部５２との間にはベアリングが介在す
るので、昇降基部６上に支持基部５２が載っていても昇
降基部６は円滑に回転する。

【００３３】前記ヒータ５１の下方の洗浄皿乾燥ステー
ジＳＴ２には、図１０に示すように、下方から３本の支
持柱５５を皿支持部として立設し、三角形に配置した支
持柱５５の間から上方に向けて、また、斜め上方から支
持柱５５の上端近傍に向けてエアー吹き出しノズル５６
ａ，５６ｂをそれぞれ設けてある。この洗浄皿乾燥ステ
ージＳＴ２に皿ホルダ７が停止して下降すると、サンプ
ル皿１１が支持柱５５上に載って三点支持され、これに
より皿ホルダ７とサンプル皿１１との間、特に載置面１
３と鍔部１２との間に隙間ができる。この状態でヒータ
５１の加熱、および、エアー吹き出しノズル５６ａ，５
６ｂからのエアーの吹き付けによりサンプル皿１１に付
着した洗浄液を蒸発させて乾燥し、乾燥が終了するとヒ
ータ５１を停止する。したがって、皿洗浄ステージＳＴ
１で洗浄して濡れたサンプル皿１１を短時間で効率良く
乾燥することができるとともに、温度上昇したサンプル
皿１１を効率良く冷却することができる。なお、本実施
形態では、サンプル皿１１を支持柱５５上に載せて皿ホ
ルダ７とサンプル皿１１との接触部分を離隔しているの
で、サンプル皿１１と皿ホルダ７間に付着している水も
短時間で効率良く確実に乾燥することができる。そし
て、乾燥したサンプル皿１１は、次のサンプル供給ステ
ージＳＴ３に搬送される。

【００３４】サンプル供給ステージＳＴ３は、サンプル
皿１１内に汚泥サンプル（試料）を投入するステージで
あり、本実施形態では図１および図４に示すように、皿
ホルダ７が通過する軌跡の上方にサンプル供給ノズル５
４を下方に向けて設けてある。皿ホルダ７がこのサンプ
ル供給ステージＳＴ３に停止すると、サンプル供給弁
（図示せず）が開いてサンプル供給ノズル５４からサン
プルが噴出して、サンプル皿１１内に所定量の汚泥がサ
ンプルとして投入される。そして、サンプルの投入が終
了すると、このサンプル皿１１は次のサンプル拡散ステ
ージＳＴ４に搬送される。なお、サンプル供給ノズル５
４は、サンプルの投入が終了する度に、近傍に別途設け
た洗浄ノズル（図示せず）からの水によって洗浄され
る。

【００３５】サンプル拡散ステージＳＴ４は、サンプル
皿１１上に投入されたサンプルを拡散機構により均一な
厚さに拡散するためのステージであり、サンプルを均一
な厚さに拡散することにより、次のステージでの乾燥の
均一化を図って乾燥時間を短縮化を図ると共に、測定精
度を高めることを目的とする。

【００３６】拡散機構は、本実施形態では図１１および
図１２に示すように、サンプル皿１１を載せるターンテ
ーブル６０と、このターンテーブル６０を回転駆動する
モータ６１と、モータ６１の回転力をターンテーブル６
０に伝達する遊星歯車機構６２とから構成され、ターン
テーブル６０を自転しながら公転させることができ、こ
れによりサンプル皿１１上のサンプルを公転と自転の遠
心力により均一に拡散する。

【００３７】具体的に説明すると、遊星歯車機構６２の
中心に配置した太陽歯車６３の軸６３′の下端に上記パ
ルスモータ６１の出力軸を接続し、太陽歯車６３に噛合
するとともにフレーム２側に設けた内歯車６４の内歯に
噛合した遊星歯車６５の内その１つの軸６５′を上方に
延出して当該軸６５′の上端にターンテーブル６０を取
り付ける。上記内歯車６４は、フレーム２側に固定して
回転しない状態で取り付けられている。また、遊星歯車
６５は、その上方と下方に配置した円盤状の第１保持部
材６６ａと第２保持部材６６ｂとに設けた軸受によって
回転自在な状態で保持されており、ターンテーブル６０
を取り付ける軸６５′だけが第１保持部材６６ａを貫通
している。

【００３８】また、この第１保持部材６６ａと第２保持
部材６６ｂとは、図１１（ａ）に示すように、遊星歯車
６５から外れた位置においてピン状の連結部材６７によ
り上下が三箇所連結されて一体化され、図１２に示すよ
うに、第１保持部材６６ａの中心に下向きに設けた軸
を、太陽歯車６３の軸６３′の上端に設けてある軸受に
回転自在な状態で嵌合することにより、太陽歯車６３の
回転に対して独立して回転できる状態で支えられてい
る。

【００３９】この様な遊星歯車機構６２においては、パ
ルスモータ６１を作動して出力軸を回転することにより
太陽歯車６３を回転すると、この太陽歯車６３に噛合し
ている遊星歯車６５が太陽歯車６３の回転に伴って自転
し、また、外側の内歯車６４に噛合しているので自転し
ながら太陽歯車６３の周りを公転する。したがって、上
記遊星歯車６５の運動により、遊星歯車６５の軸６５′
の上端に取り付けたターンテーブル６０が太陽歯車６３
の軸６３′を中心にしてその周囲を自転しながら公転す
る。

【００４０】ターンテーブル６０が自転しながら公転す
ると、サンプル皿１１上のサンプルの各部には、自転に
よる遠心力と公転による遠心力とが合成された力が作用
し、しかもこの力は自転と公転により方向と強さが連続
的に変化する。したがって、サンプル皿１１上のサンプ
ルは、多方向に流動して満遍なく拡散する。そして、サ
ンプルにはその全体に遠心力が作用するので、短時間で
サンプル皿１１上の全面に均一に拡散する。

【００４１】なお、ターンテーブル６０上にサンプル皿
１１を載せるには皿ホルダ７を下降するが、この皿ホル
ダ７を所定量だけ下降する途中で、下方に突出している
サンプル皿１１の底部１６がターンテーブル６０上に載
り、この状態からさらに下降するので、サンプル皿１１
の鍔部１２が皿ホルダ７の載置面１３から離れるととも
に、サンプル皿１１の傾斜面２１と皿ホルダ７の穴１５
の内周縁との間隔が拡大される。したがって、ターンテ
ーブル６０が自転しながら公転しても、サンプル皿１１
は皿ホルダ７に当たることなく自転しながら公転するこ
とができ、これによりサンプルが均一に拡散される。

【００４２】この様にしてサンプルの拡散が終了する
と、皿ホルダ７が上昇するので、サンプル皿１１の鍔部
１２が載置面１３に持ち上げられて底部１６がターンテ
ーブル６０から浮き上がり、この状態で次の加熱乾燥重
量測定ステージＳＴ５に搬送される。

【００４３】加熱乾燥重量測定ステージＳＴ５は、ヒー
タ７０によりサンプル皿１１内のサンプルを加熱乾燥し
ながら天秤機構２３により重量の変化を測定することは
勿論のこと、空のサンプル皿１１の重量も測定するステ
ージである。

【００４４】天秤機構２３は、測定テーブル２４上に載
せられた物の重量を電気的に測定するものであり、変化
する重量データを逐次制御装置に送出することができ
る。そして、本実施形態における天秤機構２３では、図
１３に示すように、風の影響を受けないようにするため
に気流防止機構を備える。この気流防護機構８０は、天
秤機構２３の少なくとも上部を囲う状態で設けられた天
秤カバーと、該天秤カバー内に、上下に区画して遮蔽す
るように設けられた区画部材と、天秤カバー内に、区画
部材よりも高い位置に環状に設けられたシール材と、皿
ホルダ７をシール材上に降ろした状態でシール材の内側
でサンプル皿を支持する皿支持部と、区画部材の開口部
内を貫通し、上記皿支持部上に載せられたサンプル皿の
重さを天秤機構に伝える重量伝達軸とが主要な構成部材
である。

【００４５】具体的には、天秤機構２３の上部を含めて
測定テーブル２４の周囲を筒状の天秤カバー７３で囲
い、この天秤カバー７３内に、区画部材として板材７４
をほぼ水平に設けることによりサンプル皿１１を収容す
る上空間と天秤機構２３の上部を収容する下空間とに区
画して遮蔽し、上記板材７４上にシリコンスポンジ等か
らなる耐熱性弾性シール材７５を環状に設け、皿支持部
として設けた測定テーブル２４の軸８１を板材７４の開
口部８２内に貫通させる。この様な気流防護機構８０を
設けると、空調機からの気流が天秤カバー７３によって
遮られて測定テーブル２４とサンプル皿１１への影響を
抑制することができることは勿論のこと、下降した皿ホ
ルダ７の下面がシール材７５の上面に接触して皿ホルダ
７と天秤カバー７３との間の隙間をなくすことができる
ので、サンプル皿１１と測定テーブル２４に対して、加
熱による上昇気流が影響を与えないようにすることがで
きる。なお、測定テーブル２４の軸８１は、板材７４に
開設した開口部８２内を開口縁に接触することなく貫通
する。また、シール材７５は、前記実施形態では板材７
４の上面に固定したが、天秤カバー７３の内周面に、内
側に突出する状態で環状に固定してもよい。

【００４６】本実施形態におけるヒータ７０は、前記洗
浄皿乾燥ステージＳＴ２のヒータ５１と同様に、回転駆
動軸３に遊嵌した支持基部５２に基端を固定したアーム
９の先端に、発熱源としてセラミックヒータを設け、こ
のセラミックヒータをフレーム２側に固定したフード７
１で囲い、フード７１の上方に送風機７２を設け、この
送風機７２によりフード７１内から水蒸気を含んだ空気
を上方に緩やかに排気できるように構成してある。な
お、このヒータも昇降基部６の上下動に伴ってフード７
１内で上下動し、サンプル皿１１との間隔を一定に保持
する。

【００４７】この加熱乾燥重量測定ステージＳＴ５に皿
ホルダ７が停止し、この皿ホルダ７が下降するとサンプ
ル皿１１の底部１６が測定テーブル２４上に接触し、皿
ホルダ７を十分に下降すると、サンプル皿１１の鍔部１
２が皿ホルダ７の載置面１３から離脱する。したがっ
て、サンプル皿１１とサンプルの重さだけが測定テーブ
ル２４に作用し、また、皿ホルダ７の下面がシール材７
５の上面に接触して停止する。この状態でヒータ７１に
より加熱すると、サンプルに含まれていた水分が次第に
蒸発してサンプルが次第に軽くなり、この重量の変化を
天秤機構２３からの重量データに基づいて制御装置で監
視することができる。そして、重量データが安定して重
量の変化がなくなったことを検知すると、これで十分に
乾燥したと制御装置が判断し、重量変化した分を当該サ
ンプル内の水分重量として、汚泥濃度、水分濃度を算出
することができる。なお、本実施形態では皿ホルダ７の
下面をシール材７５に押し当てて皿ホルダ７と天秤カバ
ー７３の間の隙間をなくしているので、加熱乾燥による
上昇気流が測定テーブル２４やサンプル皿１１に影響を
及ぼすことが殆どなくなる。したがって、気流による測
定誤差をなくして高い精度で測定することができる。

【００４８】この様にして測定が終了すると、皿ホルダ
７が上昇するので、サンプル皿１１の鍔部１２が載置面
１３に持ち上げられて底部１６が測定テーブル２４から
浮き上がり、この状態で皿洗浄ステージＳＴ１に搬送さ
れる。

【００４９】各ステージで行なう処理は前記した通りで
あり、各ステージの開始から終了までに要する時間は処
理の内容により異なるが、洗浄皿乾燥ステージＳＴ２と
加熱乾燥重量測定ステージＳＴ５は、他のステージでの
処理時間よりも長時間を必要とする。そこで、本実施形
態では、長時間を要する洗浄皿乾燥ステージＳＴ２と加
熱乾燥重量測定ステージＳＴ５を、回転駆動軸３を中心
にして対向する位置に配置し、この２つのステージにサ
ンプル皿１１を同時に停止させ、両方の処理を同時に行
なうことにより、全体の測定に要する時間の短縮を図っ
ている。このために、回転駆動軸３を中心にして２つの
皿ホルダ７を設け、すなわち２つのサンプル皿１１を同
時に使用して、２つのステージでの処理を同時に行なえ
るように構成してある。

【００５０】次に、２つのサンプル皿１１を使用して２
つのステージでの処理を同時に行なう汚泥濃度水分測定
装置１の作用について説明する。なお、各皿ホルダ７に
はそれぞれサンプル皿１１を載せておく。まず、電源を
投入すると、制御装置が初期洗浄モードを選択し、制御
装置からの信号に基づいてエアシリンダ２６が昇降基部
６を上昇するとともに、パルスモータ４が回転駆動軸３
を左回転して一方（第１）の皿ホルダ７を皿洗浄ステー
ジＳＴ１に停止し、当該皿ホルダ７が保持しているサン
プル皿１１の洗浄を行なう。

【００５１】洗浄が終了したならば、回転駆動軸３が９
０°右回転して、前記第１の皿ホルダ７を洗浄皿乾燥ス
テージＳＴ２に停止し、当該皿ホルダ７が保持している
濡れたサンプル皿１１の乾燥を行ない、乾燥が終了する
と、エアーを吹き付けて熱したサンプル皿１１を冷却す
る。そして、この冷却が終了したならば、スタンバイモ
ードに移行し、測定モードの開始を待つ。

【００５２】手動により、あるいは自動で制御装置に測
定開始信号が入ると測定モードに移行する。

【００５３】測定モードに移行すると、回転駆動軸３が
１８０°左回転して前記皿ホルダ７を加熱乾燥重量測定
ステージＳＴ５で停止し、皿ホルダ７を下降して、サン
プル皿１１を天秤機構２３の測定テーブル２４上に載
せ、空の状態におけるサンプル皿１１の重量を測定す
る。この測定が終了すると、昇降基部６が上昇して皿ホ
ルダ７が測定テーブル２４からサンプル皿１１を持ち上
げ、その後、回転駆動軸３が９０°左回転してサンプル
供給ステージＳＴ３で停止する。

【００５４】空重量の測定が終了したサンプル皿１１が
サンプル供給ステージＳＴ３に停止すると、制御装置か
らの信号によりサンプル供給弁が開いてサンプル供給ノ
ズル５４から所定量のサンプルがサンプル皿１１内に投
入される。

【００５５】この様にして、第１の皿ホルダ７がサンプ
ル供給ステージＳＴ３に停止すると、他方（第２）の皿
ホルダ７が皿洗浄ステージＳＴ１に停止するので、第１
のサンプル皿１１へのサンプルの供給を行なうと同時進
行で第２のサンプル皿１１の洗浄を行なう。

【００５６】第１のサンプル皿１１へのサンプルの投入
が終了すると、回転駆動軸３が９０°右回転し、投入し
たサンプルの重量を測定し、その後、回転駆動軸３が１
３５°左回転して拡散ステージで停止する。停止したな
らば、昇降基部６が下降して第１のサンプル皿１１をタ
ーンテーブル６０上に降ろし、サンプル皿１１内のサン
プルを均一な厚さに拡散する。なお、第１のサンプル皿
１１が拡散ステージに停止すると、第２のサンプル皿１
１は、皿洗浄ステージＳＴ１と加熱乾燥重量測定ステー
ジＳＴ５との中間に停止するので、何等の処理も行なわ
ない。

【００５７】サンプルの拡散が終了したならば、昇降基
部６が上昇して皿ホルダ７がターンテーブル６０上のサ
ンプル皿１１を持ち上げ、回転駆動軸３が１３５°右回
転して当該第１のサンプル皿１１を再び加熱乾燥重量測
定ステージＳＴ５に搬送するとともに、第２のサンプル
皿１１を洗浄皿乾燥ステージＳＴ２に搬送し、停止する
と昇降基部６が下降する。

【００５８】昇降基部６が下降すると、第１のサンプル
皿１１が天秤機構２３の測定テーブル２４上に降ろされ
るとともにヒータ７０が下降するので、このヒータ７０
で加熱乾燥しながら天秤機構２３により重量の変化を測
定することができる。また、昇降基部６が下降すると、
第２の皿ホルダ７も同時に下降し、前記したように、洗
浄皿乾燥ステージＳＴ２にはサンプル皿１１の底部１６
を支える支持柱５５があるので、第２のサンプル皿１１
は、支持柱５５上に載った状態で、同時に下降してきた
ヒータ５１により加熱乾燥され、乾燥が終了するとエア
ー吹き出しノズルからのエアー吹き付けによって冷却さ
れる。

【００５９】この様に、本実施形態では、加熱乾燥重量
測定ステージＳＴ５と洗浄皿乾燥ステージＳＴ２との２
つのステージで、合計２つのサンプル皿１１の処理が同
時進行で処理される。したがって、加熱乾燥という他の
ステージでの処理に比較して長い時間を要する２種類の
処理を同時進行することで、総合的な所要時間の短縮を
図ることができる。

【００６０】第１のサンプル皿１１の加熱乾燥重量測定
処理と第２のサンプル皿１１の乾燥冷却処理が終了した
ならば、昇降機部が上昇して各皿ホルダ７がそれぞれサ
ンプル皿１１を持ち上げ、回転駆動軸３が１８０°回転
して、第２のサンプル皿１１を加熱乾燥重量測定ステー
ジＳＴ５に搬送し、第１のサンプル皿１１の場合と同様
に、第２のサンプル皿１１の空状態における重量を測定
する。なお、第２のサンプル皿１１が加熱乾燥重量測定
ステージＳＴ５に搬送されると、反対側の第１のサンプ
ル皿１１が洗浄皿乾燥ステージＳＴ２に搬送されるが、
測定が終了した後は第１のサンプル皿１１を乾燥する必
要はないので、第２のサンプル皿１１と共に上下動する
だけで、実際の乾燥、冷却処理は行われない。

【００６１】第２のサンプル皿１１の空重量測定が終了
すると、第１のサンプル皿１１の場合と同様に、回転駆
動軸３が９０°左回転して、第２のサンプル皿１１をサ
ンプル供給ステージＳＴ３に搬送し、この第２のサンプ
ル皿１１上にサンプルを投入する。そして、第２のサン
プル皿１１がサンプル供給ステージＳＴ３に搬送される
と、反対側の第１のサンプル皿１１が皿洗浄ステージＳ
Ｔ１に搬送される。したがって、第２のサンプル皿１１
へのサンプル投入と第１のサンプル皿１１の洗浄処理と
を並行して処理することができる。

【００６２】第２のサンプル皿１１へのサンプル投入と
第１のサンプル皿１１の洗浄が終了すると、回転駆動軸
３が９０°右回転し、新たに投入したサンプルの重量を
測定し、その後、回転駆動軸３が１３５°左回転して第
２のサンプル皿１１を拡散ステージに搬送して、前記第
１のサンプル皿１１の場合と同様に、第２のサンプル皿
１１内のサンプルを均一な厚さに拡散する。この状態
で、第１のサンプル皿１１に対しては何等の処理も行わ
ない。

【００６３】第２のサンプル皿１１の拡散処理が終了す
ると、昇降基部６が上昇して第２の皿ホルダ７がターン
テーブル６０上の第２のサンプル皿１１を持ち上げ、回
転駆動軸３が１３５°右回転して当該第２のサンプル皿
１１を加熱乾燥重量測定ステージＳＴ５に搬送するとと
もに、第１のサンプル皿１１を洗浄皿乾燥ステージＳＴ
２に搬送する。そして、昇降基部６が下降すると、第２
のサンプル皿１１の加熱乾燥重量測定処理が行われ、こ
れに並行して第１のサンプル皿１１の乾燥、冷却処理が
行われる。

【００６４】この様に、本実施形態では、２つのサンプ
ル皿１１を使用して、２つの異なる工程を並行して行う
ことができる。したがって、サンプル皿１１の洗浄工
程、洗浄皿の加熱乾燥、冷却工程を行うことによりサン
プル皿１１の再利用を行っても、処理時間の短縮化を図
ることができ、特に、比較的長い時間を要するサンプル
の加熱乾燥重量測定工程と洗浄したサンプル皿１１の加
熱乾燥、冷却工程とを同時に行うことができるので、時
間の短縮化を合理的に為し得る。

【００６５】なお、前記した実施形態においては、昇降
基部６を挟んで２つの皿ホルダ７を１８０°位相を変え
て設ける（即ち、反対側に設ける）ことにより２つのサ
ンプル皿１１を使用するとともに、回転駆動軸３を挟ん
で対向する位置に洗浄皿乾燥ステージＳＴ２と加熱乾燥
重量測定ステージＳＴ５を配置して、サンプルの加熱乾
燥重量測定工程と洗浄したサンプル皿１１の加熱乾燥・
冷却工程とを同時に行うように構成したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、昇降基部６から３本以上
のアーム９を放射状に取り付けて、各アーム９に皿ホル
ダ７を設けてもよい。

【００６６】また、加熱乾燥重量測定ステージの天秤機
構２３は、前記実施形態に限らないが、できるだけ高い
精度で測定できることが望ましい。例えば、図１４に示
す天秤機構２３の他の実施形態では、１本軸の測定テー
ブル２４に代えて、三角形に配置した３本の測定柱７６
を重量伝達軸として設け、また、区画部材は、間にスペ
ーサ７７を介在して空隙を設けた状態で第１板材７４ａ
と第２板材７４ｂとの二重構造とし、測定柱７６を第
１，第２板材７４ａ，７４ｂの各開口部８２内に貫通
し、測定柱７６の尖った上端を皿支持部として機能さ
せ、３つの尖端でサンプル皿１１を３点支持できるよう
に構成してある。この様な構成からなる天秤機構２３に
おいては、３本の測定柱７６上にサンプル皿１１を載せ
るので、１本軸の測定テーブル２４に比較してサンプル
皿１１を安定した状態で支えることができる。また、区
画部材を二重構造にしたので断熱効果を期待できる。さ
らに、二重構造でしかも測定柱７６の上端部分が貫通す
る開口部８２′の小径化を図って、気流が上昇し難くな
るように構成したので、前記断熱効果と相俟って、上昇
気流の発生を抑制することができる。したがって、気流
の影響を一層受け難くし、測定精度を向上することがで
きる。なお、区画部材は、二重構造に限らず複数構造で
あればよく、スペーサ７７の代り、或いはスペーサ７７
を兼ねて発泡プラスチックを介在させてもよい。

【００６７】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、以
下の効果を奏する。請求項１の発明によれば、駆動源に
接続した縦方向の回転駆動軸と、この回転駆動軸に対し
て回動不能であるが、上下動可能な状態で回転駆動軸に
設けられた昇降基部と、この昇降基部に、放射状に取り
付けられた複数本のアームと、各アームの先端に設けら
れ、底部を下方に突出した状態でサンプル皿を下から支
持可能な皿ホルダと、上記昇降基部を上下動する昇降機
構と、を備え、回転駆動軸の回転により皿ホルダが描く
軌跡上に、少なくとも皿洗浄ステージと、洗浄皿乾燥ス
テージと、サンプル供給ステージと、加熱乾燥重量測定
ステージと、を配置したので、サンプル皿の再度の使用
を可能にすることができ、しかも複数のサンプル皿を使
用しても、複数のステージで同時進行で処理できるの
で、測定作業に要する時間の短縮化を図ることができ
る。

【００６８】また、皿ホルダがサンプル皿の底部を下方
に突出した状態で保持するので、皿ホルダを昇降するだ
けで、測定テーブル等の上に載せたり、持ち上げたりす
ることができる。すなわち、皿ホルダを降ろすだけでサ
ンプル皿を所定の場所に置くことができ、別途、皿ホル
ダから取り出す操作が不要であり、また、搬送する際に
は皿ホルダを上昇して回転駆動軸を回転するだけでよ
い。したがって、各ステージにおけるサンプル皿の載
置、取り出し、搬送を簡単に行うことができる。

【００６９】請求項２の発明によれば、一の皿ホルダが
洗浄皿乾燥ステージに位置する状態で他の皿ホルダが加
熱乾燥重量測定ステージに位置するように前記アームを
配置したので、他のステージでの処理よりも比較的長い
時間を要する乾燥処理を同時に進行することができる。
したがって、複数のサンプル皿を再使用する測定であっ
ても、測定時間を合理的、且つ確実に短縮することがで
きる。

【００７０】請求項３の発明によれば、回転駆動軸を挟
んで対向する位置に洗浄皿乾燥ステージと加熱乾燥重量
測定ステージを配置したので、測定に要する時間を短縮
できるばかりでなく、皿ホルダを含んだアームのバラン
スをとり易い。

【００７１】請求項４の発明によれば、皿ホルダが、サ
ンプル皿の鍔部を載置可能な環状部材で構成されている
ので、サンプル皿を安定した状態で保持することができ
る。

【００７２】請求項５の発明によれば、皿ホルダの軌跡
上に、サンプル皿内のサンプルを拡散させるサンプル拡
散ステージを配置したので、サンプル皿内のサンプルを
均一な厚さに拡散することができ、これにより、均一な
加熱により均一な乾燥が期待できる。したがって、測定
精度を向上することができ、また、加熱時間の短縮化を
図ることができる。

【００７３】請求項６の発明によれば、昇降機構が、回
転駆動軸に遊嵌され、上面に昇降基部を回動自在な状態
で載せる昇降基部支持部材と、この昇降基部支持部材を
上下動する昇降駆動源とから構成されているので、昇降
基部を安定して上下動差せることができる。したがっ
て、アームの先端に設けた皿ホルダにセットしたサンプ
ル皿の上下動も安定し、サンプル皿内のサンプルがこぼ
れ出たりする不都合を解消することができる。

【００７４】請求項７の発明によれば、前記加熱乾燥重
量測定ステージには、天秤機構の少なくとも上部を囲う
状態で設けられた天秤カバーと、該天秤カバー内に、上
下を区画するように設けられた区画部材と、天秤カバー
内に、区画部材よりも高い位置に環状に設けられたシー
ル材と、皿ホルダをシール材上に降ろした状態でシール
材の内側でサンプル皿を支持する皿支持部と、区画部材
の開口部内を貫通し、上記皿支持部上に載せられたサン
プル皿の重さを天秤機構に伝える重量伝達軸とからなる
気流防止機構を備えたので、加熱乾燥重量測定のときに
皿ホルダの下面をシール材に押し当てて皿ホルダと天秤
カバーの間の隙間をなくすことができる。したがって、
加熱乾燥による上昇気流が皿支持部とサンプル皿に影響
を及ぼすことが殆どなくなる。このため、上昇気流によ
る測定誤差をなくして高い精度で測定することができ
る。

【００７５】請求項８の発明によれば、上記区画部材
を、間に空隙を開けて設けた複数の板材から構成し、３
本の重量伝達軸を各板材の開口部内に貫通させ、最上の
板材の上方に突出する各重量伝達軸の上端を皿支持部と
したので、区画部材による断熱効果を期待できる。ま
た、区画部材が積層構造なので、各板材の開口部に気流
が上昇し難くなる。したがって、前記断熱効果と相俟っ
て、上昇気流の発生を抑制することができ、このため、
気流の影響を一層受け難くし、測定精度を向上すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】汚泥濃度水分測定装置の要部の正面図である。

【図２】汚泥濃度水分測定装置の要部の左側面図であ
る。

【図３】汚泥濃度水分測定装置の要部の右側面図であ
る。

【図４】汚泥濃度水分測定装置の要部の背面図である。

【図５】汚泥濃度水分測定装置の各ステージを示す要部
の平面図である。

【図６】（ａ）は皿ホルダの平面図、（ｂ）はその正面
図、（ｃ）はその断面図である。

【図７】皿ホルダを傾動する構成を示す説明図であり、
（ａ）は皿ホルダが水平状態を示す説明図、（ｂ）は皿
ホルダが傾斜した状態を示す説明図である。

【図８】皿洗浄機構の正面図である。

【図９】皿洗浄機構の断面図である。

【図１０】洗浄皿乾燥ステージにおける乾燥状態を示す
皿ホルダ等の側面図である。

【図１１】（ａ）は遊星歯車機構の平面図、（ｂ）は拡
散機構の正面図である。

【図１２】拡散機構の概略構成を示す説明図である。

【図１３】加熱乾燥重量測定ステージにおける乾燥状態
を示す天秤機構等の一部を断面とした正面図である。

【図１４】加熱乾燥重量測定ステージにおける天秤機構
の他の実施形態の一部を断面とした正面図である。

【符号の説明】

１ 汚泥濃度水分測定装置 ２ フレーム ３ 回転駆動軸 ３′ 軸受 ４ パルスモータ ５ 位置検出機構 ６ 昇降基部 ７ 皿ホルダ ９ アーム １０ 昇降機構 １１ サンプル皿 １２ サンプル皿の鍔部 １３ 皿ホルダの載置面 １４ 皿ホルダの起立面 １５ 皿ホルダの穴 １６ サンプル皿の底部 １９ シリコンゴム層 ２０ プラスチック層 ２１ サンプル皿の傾斜面 ２２ サンプル皿の垂直部 ２３ 天秤機構 ２４ 測定テーブル ２５ 昇降基部支持部材 ２６ エアシリンダ ３０ ストッパ ３１ ワンウエイ係止片 ３２ 係止突起 ３３ スプリング ４０ ヘラ ４１ 洗浄部 ４２ モータ ４３ コイルスプリング ４４ 付勢ジョイント部 ４５ 洗浄液供給ノズル ４６ 腕部材 ４７ モータ ５０ サンプル ５１ 洗浄皿乾燥ステージのヒータ ５２ 支持基部 ５３ フード ５４ サンプル供給ノズル ５５ 皿支持部材としての支持柱 ５６ エアー吹き出しノズル ６０ ターンテーブル ６１ モータ ６２ 遊星歯車機構 ６３ 太陽歯車 ６４ 内歯車 ６５ 遊星歯車 ６６ 保持部材 ６７ 連結部材 ７０ 加熱乾燥重量測定ステージのヒータ ７１ フード ７２ 送風機 ７３ 天秤カバー ７４ 水平板 ７５ シール材 ７６ 測定柱 ７７ スペーサ ８０ 気流防護機構 ８１ 軸 ８２ 開口部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大井 康裕 東京都新宿区西新宿３丁目４番７号 栗田 工業株式会社内 (72)発明者 堀岡 悟 東京都東村山市野口町２丁目16番地２ 日 機装株式会社東村山製作所内 (72)発明者 青木 利明 東京都東村山市野口町２丁目16番地２ 日 機装株式会社東村山製作所内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 駆動源に接続した縦方向の回転駆動軸
   と、 この回転駆動軸に対して回動不能であるが、上下動可能
   な状態で回転駆動軸に設けられた昇降基部と、 この昇降基部に、放射状に取り付けられた複数本のアー
   ムと、 各アームの先端に設けられ、底部を下方に突出した状態
   でサンプル皿を下から支持可能な皿ホルダと、 上記昇降基部を上下動する昇降機構と、 を備え、回転駆動軸の回転により皿ホルダが描く軌跡上
   に、少なくとも皿洗浄ステージと、洗浄皿乾燥ステージ
   と、サンプル供給ステージと、加熱乾燥重量測定ステー
   ジと、を配置したことを特徴とする汚泥濃度水分測定装
   置。
2. 【請求項２】 一の皿ホルダが洗浄皿乾燥ステージに位
   置する状態で他の皿ホルダが加熱乾燥重量測定ステージ
   に位置するように前記アームを配置したことを特徴とす
   る請求項１に記載の汚泥濃度水分測定装置。
3. 【請求項３】 回転駆動軸を挟んで対向する位置に洗浄
   皿乾燥ステージと加熱乾燥重量測定ステージを配置した
   ことを特徴とする請求項２に記載の汚泥濃度水分測定装
   置。
4. 【請求項４】 前記皿ホルダが、サンプル皿の鍔部を載
   置可能な環状部材で構成されていることを特徴とする請
   求項１から３のいずれかに記載の汚泥濃度水分測定装
   置。
5. 【請求項５】 前記軌跡上に、サンプル皿内のサンプル
   を拡散させるサンプル拡散ステージを配置したことを特
   徴とする請求項１から４のいずれかに記載の汚泥濃度水
   分測定装置。
6. 【請求項６】 前記昇降機構が、回転駆動軸に遊嵌さ
   れ、上面に昇降基部を回動自在な状態で載せる昇降基部
   支持部材と、この昇降基部支持部材を上下動する昇降駆
   動源とから構成されていることを特徴とする請求項１か
   ら５のいずれかに記載の汚泥濃度水分測定装置。
7. 【請求項７】 前記加熱乾燥重量測定ステージには、 天秤機構の少なくとも上部を囲う状態で設けられた天秤
   カバーと、 該天秤カバー内に、上下を区画するように設けられた区
   画部材と、 天秤カバー内に、区画部材よりも高い位置に環状に設け
   られたシール材と、 皿ホルダをシール材上に降ろした状態でシール材の内側
   でサンプル皿を支持する皿支持部と、 区画部材の開口部内を貫通し、上記皿支持部上に載せら
   れたサンプル皿の重さを天秤機構に伝える重量伝達軸
   と、からなる気流防止機構を備えたことを特徴とする請
   求項１から６のいずれかに記載の汚泥濃度水分測定装
   置。
8. 【請求項８】 上記区画部材を、間に空隙を開けて設け
   た複数の板材から構成し、３本の重量伝達軸を各板材の
   開口部内に貫通させ、最上の板材の上方に突出する各重
   量伝達軸の上端を皿支持部としたことを特徴とする請求
   項７に記載の汚泥濃度水分測定装置。