JP2000233867A - Film peeling device - Google Patents

Film peeling device

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JP2000233867A
JP2000233867A JP11038721A JP3872199A JP2000233867A JP 2000233867 A JP2000233867 A JP 2000233867A JP 11038721 A JP11038721 A JP 11038721A JP 3872199 A JP3872199 A JP 3872199A JP 2000233867 A JP2000233867 A JP 2000233867A
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peeling
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suction
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博 田口
Kenji Kitagawa
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  • Folding Of Thin Sheet-Like Materials, Special Discharging Devices, And Others (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make a film peeling device smaller in size, and also make the time required by peeling off a film shorter. SOLUTION: This film peeling device is to be formed out of a substrate carry-in area 11 formed from a substrate carry-in side to a delivery side, an upper and a lower side film peeling area 12, and of a substrate carry-out area, and in the upper film releasing area 12, the upper side film of a substrate 22 carried in by a carrying fixing plate is pulled out so as to be peeled by an upper side tension peeling device 60 in an fixed condition including a lower side adhesive disc 42, the substrate 22 after peeling off is carried over to a lower side film peeling area 14 by the lower side adhesive disc 42, let a peeled film be dropped down so as to be discharged out through a newly opened space, the substrate 22 is delivered to an upper side fixed disc from the upper side fixed disc, a lower side film is pulled out by a lower side peeling device to be released in an fixing condition including the upper side adhesive disc, the substrate 22 is carried over to the substrate delivery area, and causes the released film to be dropped down to be discharged through a newly opened space.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、プリント配線盤
用基板、液晶表示パネル用基板、プラズマディスプレイ
用基板等に例示される基板に張り付けられた保護フィル
ムを剥離する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for peeling a protective film attached to a substrate exemplified by a substrate for a printed wiring board, a substrate for a liquid crystal display panel, a substrate for a plasma display and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】上記のようなプリント配線基板は、次の
ような工程により製造されている。まず、絶縁性基板上
に設けられた導電層上に感光性樹脂(ホトレジスト)層
と、これを保護する透光性樹脂フィルム(保護フィル
ム)とからなる積層体をラミネーティングロールにより
熱圧着する。次に配線パターンフィルムを重ね、この配
線パターンフィルム及び前記透光性樹脂フィルムを通し
て前記感光性樹脂層を所定時間露光する。
2. Description of the Related Art A printed wiring board as described above is manufactured by the following steps. First, a laminate comprising a photosensitive resin (photoresist) layer and a light-transmitting resin film (protective film) for protecting the conductive layer on a conductive layer provided on an insulating substrate is thermocompression-bonded with a laminating roll. Next, a wiring pattern film is overlaid, and the photosensitive resin layer is exposed for a predetermined time through the wiring pattern film and the translucent resin film.

【0003】次いで、透光性樹脂フィルムを剥離した
後、露光されたホトレジスト層を現像してエッチングマ
スクパターンを形成し、この後、前記導電層の不必要部
分をエッチングにより除去し、所定の配線パターンを有
するプリント配線基板が形成される。
Next, after the light-transmitting resin film is peeled off, the exposed photoresist layer is developed to form an etching mask pattern. Then, unnecessary portions of the conductive layer are removed by etching, and a predetermined wiring is formed. A printed wiring board having a pattern is formed.

【0004】前記プリント配線基板の製造工程におい
て、前記保護フィルムを基板から自動的に剥離するフィ
ルム剥離装置が種々提案されている。
Various film peeling apparatuses have been proposed for automatically peeling the protective film from the substrate in the process of manufacturing the printed wiring board.

【0005】このような、フィルム剥離装置により基板
からフィルムを自動的に剥離させる際に、まず、フィル
ム先端の、剥離を開始させる部分を上下斜めに押圧した
り、ニードル状部材で引掛けて起こしたりしている。
When the film is automatically peeled from the substrate by such a film peeling device, first, the portion of the leading end of the film at which the peeling is to be started is pressed obliquely up and down or hooked by a needle-like member. Or

【0006】例えば、特公平6−3550号公報に開示
されるように、基板に張り付けられている感光性樹脂層
と透光性樹脂フィルムとからなる積層体フィルムの端部
にバイブレータのロッドの振動を与えて叩くことによ
り、透光性樹脂フィルムの一部を感光性樹脂層から浮上
させるものがある。又、例えば特開昭62−83974
号公報に開示されるように、保護フィルム端部を基板と
共に圧力車により挟み込んだ状態で該圧力車をフィルム
端縁に沿って走行させることにより、該フィルム端縁を
浮き上がらせるようにしたものもある。
For example, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 6-3550, vibration of a rod of a vibrator is applied to an end of a laminated film composed of a photosensitive resin layer and a translucent resin film attached to a substrate. In some cases, a part of the light-transmitting resin film is floated from the photosensitive resin layer by applying and tapping. Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-83974
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-209, there is also a type in which the film edge is lifted by running the pressure wheel along the film edge in a state where the protective film edge is sandwiched by the pressure wheel together with the substrate. is there.

【0007】いずれの場合も、フィルム先端を浮上させ
た後は、圧縮空気等の気体を吹き付けて浮上した端縁か
らフィルムをめくり上げ、更には、めくり上がったフィ
ルム端縁をローラやベルトによって挟み込んで基板を進
行させつつ、フィルムを完全に剥離してライン外に搬出
させるようにしている。
In any case, after the leading edge of the film is floated, the film is flipped up from the rising edge by blowing a gas such as compressed air, and the flipped-up film edge is sandwiched between rollers and belts. The film is completely peeled off and the film is carried out of the line while advancing the substrate.

【0008】ここで、フィルム端縁をローラやベルトに
よって挟み込んで剥離させ、ライン外へ搬出させる際
に、基板上面から剥離したフィルムは、搬送ローラ等の
基板搬送装置があるために、その幅方向外側から搬出す
ることになり、装置の幅が大きくなってしまう。又、フ
ィルム端縁をローラやベルトは上下方向の装置の寸法を
大きくしてしまう。
Here, when the film edge is pinched and peeled by a roller or a belt and carried out of the line, the film peeled from the upper surface of the substrate is removed in the width direction by a substrate transport device such as a transport roller. Since the device is carried out from the outside, the width of the device becomes large. Rollers and belts at the edges of the film increase the size of the device in the vertical direction.

【0009】又、フィルム端縁をローラやベルトによっ
て挟み込む装置では、保護フィルムが非常に薄い場合、
これを確実に挟持することができない場合がある。
In a device in which the film edge is sandwiched between rollers and belts, if the protective film is extremely thin,
In some cases, this cannot be reliably held.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】薄いフィルムを基板か
ら確実に剥離させようとする場合は、例えば特開平8−
99769号公報に開示されるように、めくり上がった
フィルム端縁を挟持片によって挟持し、これを基板に対
して引張ることによりフィルムを剥離させるようにした
剥離方法及び装置が有効であるが、この場合、基板上面
から剥離したフィルムを搬出するために、該フィルムを
基板搬送面の側方にまで移動してライン外にフィルムを
排出しなければならないという問題点がある。
In order to reliably peel a thin film from a substrate, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 99769, a peeling method and apparatus in which a flipped-up film edge is clamped by a clamping piece and the film is peeled by pulling it against a substrate is effective. In this case, in order to carry out the film peeled off from the upper surface of the substrate, there is a problem that the film must be moved to the side of the substrate transport surface and the film must be discharged out of the line.

【0011】又、剥離を開始したフィルム先端を挟持片
により挟持して引張ることにより、該フィルムを基板か
ら剥離させる際に、例えば前述の特開平8−99769
号公報に開示されるように、基板の、剥離されるフィル
ムと反対側面を吸着装置によって吸着固定しなければな
らない。
Further, when the film is peeled off from the substrate by holding the leading end of the film which has been peeled by the holding piece and pulling it, for example, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-99769.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-260, the side of the substrate opposite to the film to be peeled must be fixed by suction using a suction device.

【0012】従って、挟持片は、固定状態の基板からフ
ィルムを剥離させるために、該基板の進行方向の長さ分
だけ移動する必要があり、これによって更に装置面積が
大きくなってしまうという問題点がある。
Therefore, the holding piece must be moved by the length in the direction of travel of the substrate in order to peel the film from the fixed substrate, thereby further increasing the device area. There is.

【0013】更に、基板を吸着装置によって固定した状
態でフィルムを剥離させるので、フィルムを剥離して基
板を次の工程に搬出するまでの時間がかかり、効率が低
いという問題点がある。
Further, since the film is peeled while the substrate is fixed by the suction device, it takes a long time to peel the film and carry out the substrate to the next step, and there is a problem that the efficiency is low.

【0014】この発明は、上記従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、薄いフィルムでも確実に剥離でき
ると共に、剥離を開始したフィルム先端を引張って剥離
する装置の移動範囲が小さく、又、剥離したフィルムを
基板搬送面の側方から搬出する必要がなく、且つフィル
ム剥離時間の短いフィルム剥離方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and enables a thin film to be reliably peeled off, and has a small moving range of a device for pulling and peeling the leading end of the film which has started peeling. It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for peeling a film, which need not carry out the peeled film from the side of the substrate transport surface and have a short film peeling time.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】又、本装置発明は、請求
項1のように、基板搬入側から搬出側に、水平方向に、
基板搬入領域、上側フィルム剥離領域、下側フィルム剥
離領域、及び、基板搬出領域を順次隣接配置してなり、
前記基板搬入領域に設けられ、上下両面にフィルムが張
り付けられた基板を水平の基板搬送面に沿って搬送する
基板搬入装置と、この基板搬入装置の上方位置と前記上
側フィルム剥離領域内との間でほぼ水平に往復動自在、
且つ、前記基板の上面を吸着して、該基板を水平に保持
可能とされた搬送吸着盤と、前記上側フィルム剥離領域
内に前記搬送吸着盤が移動したときのその下側位置に配
置され、該下側位置と前記下側フィルム剥離領域内との
間で水平に往復動自在、且つ、前記基板の下面の略全面
を吸着して、該基板を水平に保持可能とされた下側吸着
盤と、この下側吸着盤に吸着された状態の基板における
上側面に張り付けられた上側フィルムの搬出側先端を剥
離し、且つ、めくり上げる上側剥離装置と、該めくり上
げられた上側フィルム先端を捕捉すると共に、これを基
板搬入側に引張る上側引張剥離装置と、前記下側フィル
ム剥離領域内に前記下側吸着盤が移動したときのその上
側位置に配置され、該上側位置と前記下側フィルム剥離
領域内との間で水平に往復動自在、且つ、前記基板の上
面の略全面を吸着して、該基板を水平に保持可能とされ
た上側吸着盤と、この上側吸着盤に吸着された状態の基
板における下側面に張り付けられた下側フィルムの搬出
側先端を剥離し、且つ、めくり下げる下側剥離装置と、
前記基板搬出装置における搬入側端近傍に配置され、前
記下側剥離装置によりめくり下げられた下側フィルムの
先端を捕捉し、且つ、前記基板搬出装置と前記上側フィ
ルム剥離領域との間を通って、前記捕捉した下側フィル
ムの先端を下方に引張る下側引張剥離装置と、を有して
なり、前記下側吸着盤は、前記上側引張剥離装置により
上側フィルムを引張るとき、基板を吸着したまま下側フ
ィルム剥離領域にまで移動し、且つ、前記下側剥離装置
により下側フィルムを剥離する前に上側フィルム剥離領
域内に戻り、前記上側吸着盤は、前記下側引張装置によ
り前記下側フィルムの引張るとき、基板を吸着したまま
前記基板搬出領域内に移動し、前記下側フィルムが基板
から剥離し、且つ、前記下側吸着盤が基板搬入領域方向
に移動して前記上側引張剥離装置の下方向に空白が生じ
たとき、前記上側引張剥離装置は捕捉していた上側フィ
ルムを解放するようにされたことを特徴とするフィルム
剥離装置により、上記目的を達成するものである。
Further, according to the present invention, there is provided the present invention in a horizontal direction from a substrate loading side to a loading side.
The substrate carry-in area, the upper film peeling area, the lower film peeling area, and the substrate carry-out area are sequentially arranged adjacently,
A substrate loading device that is provided in the substrate loading region and transports a substrate having a film attached to both upper and lower surfaces along a horizontal substrate transport surface, and between a position above the substrate loading device and the upper film peeling region. Reciprocating almost horizontally with
And, by sucking the upper surface of the substrate, a transport suction disk capable of holding the substrate horizontally, and is disposed at a lower position when the transport suction disk is moved into the upper film peeling region, A lower suction plate capable of horizontally reciprocating horizontally between the lower position and the lower film peeling area, and adsorbing substantially the entire lower surface of the substrate to be able to hold the substrate horizontally. And an upper peeling device that peels off the leading end of the upper film attached to the upper surface of the substrate in a state of being sucked by the lower suction plate and flips the upper film, and captures the tip of the flipped upper film. And an upper pull-off device that pulls the lower suction plate toward the substrate loading side, and is disposed at an upper position of the lower suction plate when the lower suction plate is moved into the lower film release region. Water between and within the area And an upper suction plate capable of holding the substrate horizontally by adsorbing substantially the entire upper surface of the substrate and adhering to a lower surface of the substrate that is adsorbed by the upper suction disk. A lower peeling device that peels off the leading end of the lower film that is carried out, and turns it down.
Arranged in the vicinity of the loading side end of the substrate unloading device, captures the tip of the lower film turned down by the lower peeling device, and passes between the substrate unloading device and the upper film peeling region. A lower tension peeling device that pulls the tip of the captured lower film downward, and wherein the lower suction disk holds the substrate when the upper film is pulled by the upper tension peeling device. Move to the lower film peeling area, and return to the upper film peeling area before peeling the lower film by the lower peeling device, the upper suction plate, the lower film by the lower tensile device, the lower film When pulling, the substrate is moved into the substrate unloading area while adsorbing the substrate, the lower film peels off from the substrate, and the lower suction disk moves in the direction of the substrate loading area to move the substrate upward. The above object is achieved by a film peeling device characterized in that the upper tensile peeling device releases a captured upper film when a gap occurs in a downward direction of the tensile peeling device. .

【0016】前記フィルム剥離装置において、前記下側
剥離装置は、前記上側吸着盤の搬出側端部近傍位置で、
基板搬送面に沿って並列配置された複数の搬送ローラを
含んでなり、該複数の搬送ローラは、前記基板搬送面を
構成する搬送位置と、これより下方であって、前記下側
剥離装置により剥離され、めくり下げられた下側フィル
ムと非干渉となるまで引き下がった待機位置との間で上
下動自在としてもよい。
In the film peeling device, the lower peeling device is located at a position near the carry-out end of the upper suction plate,
It comprises a plurality of transport rollers arranged in parallel along the substrate transport surface, the plurality of transport rollers, the transport position constituting the substrate transport surface, and below it, by the lower peeling device The lower film that has been peeled off and turned over may be freely movable up and down between a stand-by position that is pulled down until it does not interfere with the lower film.

【0017】前記フィルム剥離装置において、前記下側
引張剥離装置は、前記下側剥離装置における下側フィル
ムの剥離開始先端近傍位置で、その下側近傍から略鉛直
下向きに配置され、めくり下げられた下側フィルムの先
端を案内するガイド板と、このガイド板の下端近傍に設
けられ、ガイド板から下方に突出した前記下側フィルム
の先端を捕捉可能とされたフィルム捕捉装置と、このフ
ィルム捕捉装置を自由端側に支持し基端側を中心とし
て、前記ガイド板近傍位置とこれより下方の解放位置と
の間で揺動自在とされた揺動アームと、を有して構成し
てもよい。
In the film peeling device, the lower tensile peeling device is disposed substantially vertically downward from near the lower portion thereof at a position near the peeling start end of the lower film in the lower peeling device, and is turned up. A guide plate for guiding the leading end of the lower film, a film capturing device provided near the lower end of the guide plate and capable of capturing the leading end of the lower film protruding downward from the guide plate; and a film capturing device. And a swing arm that is swingable between a position near the guide plate and a release position below the guide plate with the base end as the center. .

【0018】前記フィルム剥離装置において、前記下側
吸着盤を水平に往復動させる送り桟構の下側剥離領域側
端部に前記揺動アームの基端を揺動自在に支持するよう
にしてもよい。
In the film peeling device, the base end of the swing arm may be swingably supported at the lower peeling region side end of a feed bar for horizontally reciprocating the lower suction disk. Good.

【0019】この発明においては、基板下側面に張り付
けられたフィルムを剥離する際に、該基板上面を吸着保
持しつつ、基板先端方向に搬送し、同時に剥離を開始し
た下側フィルムの先端を下方に引張ることによって、基
板を搬送しつつ下側フィルムを搬送装置の下方に引張っ
て剥離し、剥離時間を短縮すると共に、剥離したフィル
ムをそのまま下方に解放、排出することができる。
In the present invention, when peeling off the film adhered to the lower surface of the substrate, the upper surface of the substrate is sucked and held, and is conveyed in the direction of the front end of the substrate. By pulling the lower film, the lower film can be pulled downward under the transfer device while the substrate is being transferred, and the separation time can be shortened, and the separated film can be released and discharged as it is.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態の例を図
面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0021】図1、図2に示されるように、本発明に係
るフィルム剥離装置10は、同図において左側の基板搬
入側から右側の搬出側に向かって、水平方向に、基板搬
入領域11、上側フィルム剥離領域12、下側フィルム
剥離領域14、及び、基板搬出領域16を順次隣接配置
して構成されていて、基板搬入側から基板搬入領域11
に送り込まれた、上面に上側フィルム18が、又、下面
に下側フィルム20がそれぞれ張り付けられた基板22
(図3参照)から、前記上側及び下側フィルム18、2
0をこの順で剥離して、基板搬出領域16から、フィル
ム剥離後の基板22を搬出するようにしたものである。
As shown in FIGS. 1 and 2, a film peeling apparatus 10 according to the present invention is configured such that a substrate carrying area 11 is horizontally arranged from a left substrate carrying side to a right carry-out side in FIG. An upper film peeling area 12, a lower film peeling area 14, and a substrate carry-out area 16 are sequentially arranged adjacent to each other.
Substrate 22 having an upper film 18 on the upper surface and a lower film 20 on the lower surface, respectively.
(See FIG. 3), the upper and lower films 18, 2
0 is peeled in this order, and the substrate 22 after the film peeling is carried out from the substrate carrying-out area 16.

【0022】前記基板搬入領域11には、複数の搬送ロ
ーラ24を水平に並列配置してなる基板搬入装置26が
設けられ、搬送ローラ24の上端によって形成される基
板搬送面26Aに沿って、図1において左端の基板搬入
端から装入された基板22全体が基板搬入領域11内に
入り込むまで、これを搬送できるようにされている。
The substrate carrying-in area 11 is provided with a substrate carrying-in device 26 in which a plurality of carrying rollers 24 are horizontally arranged in parallel, and is arranged along a substrate carrying surface 26A formed by the upper end of the carrying rollers 24 as shown in FIG. In FIG. 1, the substrate 22 can be transported until the entire substrate 22 loaded from the left-hand substrate loading end enters the substrate loading region 11.

【0023】前記基板搬入装置26の下側位置には、各
搬送ローラ24間の隙間から上方に突出することによっ
て、基板搬送面26A上の基板22を押し上げる複数の
押し上げ部材30を備えた押し上げ装置32が配置され
ている。
At the lower position of the substrate loading device 26, a push-up device provided with a plurality of push-up members 30 which push up the substrate 22 on the substrate transfer surface 26A by projecting upward from the gap between the transfer rollers 24. 32 are arranged.

【0024】この押し上げ装置32は、通常は、図1に
示されるように、押し上げ部材30の先端が基板搬送面
26Aよりも下側にある待機位置とされ、シリンダ装置
34によって基板22を押し上げる押し上げ位置に駆動
され得るようになっている。図1の符号34Aは押し上
げ部材30を鉛直方向に案内するためのガイドシャフト
を示す。
As shown in FIG. 1, the push-up device 32 is normally in a standby position in which the tip of the push-up member 30 is located below the substrate transfer surface 26A, and pushes up the substrate 22 by the cylinder device 34. It can be driven into position. Reference numeral 34A in FIG. 1 indicates a guide shaft for guiding the lifting member 30 in the vertical direction.

【0025】前記基板搬入領域11及び上側フィルム剥
離領域12の上方位置には、これらの間を水平に往復動
自在とされた搬送吸着盤35が配置されている。
At a position above the substrate carrying-in area 11 and the upper film peeling area 12, there is provided a transport suction board 35 which can be reciprocated horizontally between them.

【0026】この搬送吸着盤35は、その下側面に、負
圧が印加される多数の吸引孔(図示省略)が面方向に均
一に設けられ、下方から押し付けられた基板22の上面
をその全面に渡って吸着できるようにされている。
A plurality of suction holes (not shown) to which a negative pressure is applied are uniformly provided in the lower surface of the transport suction board 35 in the plane direction, and the upper surface of the substrate 22 pressed from below is entirely covered. To be able to be adsorbed.

【0027】又、搬送吸着盤35は、水平且つ搬送方向
に、上記基板搬入領域11及び上側フィルム剥離領域1
2に渡って基板搬送方向に配置されたロッドレスシリン
ダのガイドレール35Aに沿って、ガイドシュー35B
を介して摺動自在に案内され、且つ送り機構(図示省
略)により往復動され得るようになっている。
The transport suction board 35 is horizontally and horizontally transported by the substrate loading area 11 and the upper film peeling area 1.
2 along a guide rail 35A of a rodless cylinder disposed in the substrate transport direction.
, And can be reciprocated by a feed mechanism (not shown).

【0028】この送り機構による搬送吸着盤35の移動
範囲は、図1に示されるように、基板搬入領域11内
で、前記基板搬入装置26の真上となる位置及び上側フ
ィルム剥離領域12内に入り込んだ位置との間とされて
いる。
As shown in FIG. 1, the moving range of the transfer suction board 35 by the feed mechanism is within the substrate loading area 11, at a position directly above the substrate loading device 26 and within the upper film peeling area 12. It is between the entry position.

【0029】又、搬送吸着盤35の高さ、即ち基板搬送
面26Aからの距離は、前記押し上げ部材30によって
基板22が押し上げられたとき、該基板22の上面が搬
送吸着盤35の下側面とほぼ一致するように設定されて
いる。
The height of the transfer suction plate 35, that is, the distance from the substrate transfer surface 26A, is such that when the substrate 22 is pushed up by the push-up member 30, the upper surface of the substrate 22 is in contact with the lower surface of the transfer suction plate 35. It is set to almost match.

【0030】前記搬送吸着盤35が、前記上側フィルム
剥離領域12内に入り込んだときの、該搬送吸着盤35
の下面に対向する位置には、下側吸着盤42が水平に配
置され得るようになっている。
When the transfer suction plate 35 enters the upper film peeling area 12, the transfer suction plate 35
The lower suction plate 42 can be horizontally disposed at a position facing the lower surface of the lower plate.

【0031】この下側吸着盤42は、その水平の上面に
負圧が印加される多数の吸引孔(図示省略)が面方向に
均一に設けられていて、ここに、前記基板22の下側面
をその全面に渡って吸着できるようにされている。
The lower suction plate 42 is provided with a large number of suction holes (not shown) to which a negative pressure is applied on the horizontal upper surface thereof in a plane direction. Can be adsorbed over its entire surface.

【0032】この下側吸着盤42は、昇降シリンダ42
Aによって上下動自在に支持され、この昇降シリンダ4
2Aは送りねじ機構46によって水平に、且つ基板搬入
領域11と前記上側フィルム剥離領域12を通って下側
フィルム剥離領域14の入側部との間で往復動され得る
ようになっている。送りねじ機構46は、前記昇降シリ
ンダ42Aと一体のナット部46Aと、このナット部4
6Aに螺合する水平の送りねじ46Bと、この送りねじ
46Bを駆動するモータ46Cと、を含んで構成されて
いる。
The lower suction plate 42 includes a lifting cylinder 42
A is vertically movably supported by A
2A can be reciprocated horizontally by the feed screw mechanism 46 and between the substrate carrying-in area 11 and the upper film peeling area 12 and the entrance side of the lower film peeling area 14. The feed screw mechanism 46 includes a nut portion 46A integrated with the lift cylinder 42A, and a nut portion 4A.
It is configured to include a horizontal feed screw 46B screwed to 6A and a motor 46C for driving the feed screw 46B.

【0033】又、前記上側フィルム剥離領域12内に
は、下側吸着盤42に吸着されている基板22上面の上
側フィルム18先端を剥離し、且つめくり上げる上側剥
離装置50が、又、前記下側フィルム剥離領域14内に
は、基板22が上側吸着盤36に吸着された状態で、そ
の搬送方向先端における下側フィルム20の先端を剥離
し、且つめくり下げる下側剥離装置48が、それぞれ設
けられている。
In the upper film peeling area 12, there is provided an upper peeling device 50 for peeling off and turning up the tip of the upper film 18 on the upper surface of the substrate 22 which is sucked by the lower sucking plate 42. In the side film peeling region 14, there are provided lower peeling devices 48 for peeling off and turning over the leading end of the lower film 20 at the leading end in the transport direction with the substrate 22 being sucked by the upper sucking plate 36, respectively. Have been.

【0034】前記上側フィルム剥離領域12の出側部か
ら下側フィルム剥離領域14を通って基板搬出領域16
の上方位置には、これらの間を水平に往復動自在とされ
た上側吸着盤36が配置されている。
From the exit side of the upper film peeling area 12, through the lower film peeling area 14, to the substrate unloading area 16
An upper suction plate 36 is provided at a position above the upper suction plate 36 so as to be able to reciprocate horizontally between them.

【0035】この上側吸着盤36は、その下側面に、負
圧が印加される多数の吸引孔(図示省略)が面方向に均
一に設けられ、下方から押し付けられた基板22の上面
をその全面に渡って吸着できるようにされている。
The upper suction plate 36 is provided with a large number of suction holes (not shown) to which a negative pressure is applied on the lower surface thereof in a plane direction, and the upper surface of the substrate 22 pressed from below is entirely covered. To be able to be adsorbed.

【0036】又、上側吸着盤36は、水平且つ搬送方向
に、上記上側及び下側フィルム剥離領域12、14から
基板搬出領域16に渡って基板搬送方向に配置されたね
じ機構40の送りねじ40Bによって、水平方向に移動
自在とされている。
The upper suction plate 36 is provided with a feed screw 40B of a screw mechanism 40 disposed horizontally and in the transport direction from the upper and lower film peeling regions 12 and 14 to the substrate unloading region 16 in the substrate transport direction. Thereby, it can be moved in the horizontal direction.

【0037】この送りねじ機構40はモータ40A、こ
のモータ40Aに駆動される前記送りねじ40B、及び
送りねじ40Bに螺合してその回転により進退するナッ
ト部40Cと、を有してなり、ナット部40Cが上側吸
着盤36を支持している。送りねじ機構40による上側
吸着盤36の移動範囲は、図1に示されるように、上側
フィルム剥離領域12内で、出側の終端位置にある前記
基板22の真上となる位置及び、図2に2点鎖線で示さ
れるように、下側フィルム剥離領域14を超えて基板搬
出領域16内に入り込んだ位置との間とされている。
The feed screw mechanism 40 has a motor 40A, the feed screw 40B driven by the motor 40A, and a nut portion 40C screwed into the feed screw 40B and advanced and retracted by the rotation thereof. The portion 40C supports the upper suction plate 36. As shown in FIG. 1, the moving range of the upper suction disk 36 by the feed screw mechanism 40 is, as shown in FIG. 1, a position directly above the substrate 22 at the exit side end position in the upper film peeling region 12 and FIG. As shown by the two-dot chain line in FIG.

【0038】又、上側吸着盤36の高さ、即ち基板搬送
面26Aからの距離は、前記下側吸着盤42によって基
板22が押し上げられたとき、該基板22の上面が上側
吸着盤36の下側面とほぼ一致するように設定されてい
る。
The height of the upper suction plate 36, that is, the distance from the substrate transfer surface 26 A, is such that when the substrate 22 is pushed up by the lower suction plate 42, the upper surface of the substrate 22 is positioned below the upper suction plate 36. It is set to almost match the side.

【0039】前記上側吸着盤36が、前記上側フィルム
剥離領域12内に入り込んだときの、該上側吸着盤36
の下面に対向する位置には、前記下側吸着盤42が水平
に配置され得るようになっている。
When the upper suction plate 36 enters the upper film peeling area 12, the upper suction plate 36
The lower suction plate 42 can be horizontally disposed at a position facing the lower surface of the bottom plate.

【0040】なお、上側フィルム18及び下側フィルム
20は、図3に示されるように、それぞれ基板22の上
面及び下面において、該基板22の搬送方向先端よりも
わずかに後方にずれた位置にその先端があるように張り
付けられている。
As shown in FIG. 3, the upper film 18 and the lower film 20 are respectively located on the upper surface and the lower surface of the substrate 22 at positions slightly shifted rearward from the leading end of the substrate 22 in the transport direction. It is stuck so that there is a tip.

【0041】前記上側剥離装置50は、図4に拡大して
示されるように、下側吸着盤42に吸着されている基板
22の上側フィルム18の先端部に対して、昇降して離
接自在、且つ基板幅方向(図1において紙面と垂直方
向)にわずかに(約30mm)往復動自在の剥離ロール
50Aを備え、この剥離ロール50Aを上側フィルム1
8の先端に押し付けつつ基板幅方向にわずかに往復させ
ることによって、該上側フィルム18先端を基板22上
面から浮き上がらせるようになっている。
As shown in FIG. 4, the upper peeling device 50 is capable of moving up and down with respect to the leading end of the upper film 18 of the substrate 22 which is being sucked by the lower sucking plate 42. And a peeling roll 50A that is slightly (approximately 30 mm) reciprocable in the width direction of the substrate (in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1).
By slightly reciprocating in the width direction of the substrate while pressing against the top end of the substrate 8, the top end of the upper film 18 is raised from the upper surface of the substrate 22.

【0042】又、上側剥離装置50は、前記剥離ロール
50Aによって基板22上面から浮き上がった上側フィ
ルム18の先端と基板22の下面との間に圧縮空気を吹
き付けて、該上側フィルム18先端を剥離し、且つめく
り上げるようにした剥離ノズル50Bを備えている。
The upper peeling device 50 blows compressed air between the leading end of the upper film 18 lifted from the upper surface of the substrate 22 and the lower surface of the substrate 22 by the peeling roll 50A to peel off the leading end of the upper film 18. And a peeling nozzle 50B that is turned up.

【0043】なお、前記剥離ロール50Aは、リニアガ
イド50Dにより、下側吸着盤42に吸着されている状
態の基板22の上側面に圧接する剥離位置と、図1、図
4に示されるように、基板搬送面26Aから上方にある
待機位置との間で昇降され得るようになっている。図
1、4の符号50Eは、剥離ロール50Aを基板幅方向
にわずかに往復動するためのスライドテーブルを示す。
なお、剥離ロール50Aを往復動させるためのエアシリ
ンダは図示省略する。又、前記スライドテーブル50
E、及び、剥離ノズル50Bは、エアシリンダ50Cに
より全体としてわずかに上下動され得るようになってい
る。
The peeling roll 50A is pressed by the linear guide 50D onto the upper surface of the substrate 22 in a state where the peeling roll 50A is being sucked by the lower sucking plate 42, as shown in FIGS. Can be moved up and down between the substrate transfer surface 26A and a standby position above. Reference numeral 50E in FIGS. 1 and 4 indicates a slide table for slightly reciprocating the peeling roll 50A in the substrate width direction.
An air cylinder for reciprocating the peeling roll 50A is not shown. Also, the slide table 50
E and the peeling nozzle 50B can be slightly moved up and down as a whole by the air cylinder 50C.

【0044】前記下側剥離装置48は、図5に拡大して
示されるように、前記上側剥離装置50におけると同様
に、剥離ロール48A、剥離ノズル48B、エアシリン
ダ48C、リニアガイド48D、及び、スライドテーブ
ル48Eを備えて構成されている。
As shown in the enlarged view of FIG. 5, the lower peeling device 48 includes a peeling roll 48A, a peeling nozzle 48B, an air cylinder 48C, a linear guide 48D, The slide table 48E is provided.

【0045】又、基板搬送方向最先端側であって、前記
剥離ロール48Aの入側に隣接する位置に、シリンダ装
置28によって基板搬送面26Aを構成する搬送位置
と、図1において実線で示されるように、搬送位置から
大きく下降した待機位置との間で上下動自在とされた2
個の搬送ローラ25を備えている。
A transfer position which forms the substrate transfer surface 26A by the cylinder device 28 at a position on the foremost side of the substrate transfer direction and adjacent to the entry side of the peeling roll 48A is indicated by a solid line in FIG. As described above, it is possible to move up and down between the transfer position and the standby position which is greatly lowered.
The transport rollers 25 are provided.

【0046】なお、前記剥離ロール48Aは、リニアガ
イド48Dにより、下側吸着盤42に吸着されている状
態の基板22の下側面に圧接する剥離位置と、図2、図
5に実線で示されるように、基板搬送面26Aから下方
にある待機位置との間で昇降され得るようになってい
る。剥離ロール48Aを往復動させるためのエアシリン
ダは図示省略する。又、前記搬送ローラ25、スライド
テーブル48E、及び、剥離ノズル48Bは、エアシリ
ンダ48Cにより全体としてわずかに上下動され得るよ
うになっている。
The peeling roll 48A is shown by a solid line in FIGS. 2 and 5, and a peeling position where the peeling roll 48A is pressed against the lower surface of the substrate 22 in a state of being sucked by the lower sucking plate 42 by the linear guide 48D. As described above, it is possible to move up and down between the substrate transfer surface 26A and a standby position below. An air cylinder for reciprocating the peeling roll 48A is not shown. The transport roller 25, slide table 48E, and peeling nozzle 48B can be slightly moved up and down as a whole by an air cylinder 48C.

【0047】図5に拡大して示されるように、前記昇降
自在の搬送ローラ25に隣接する位置に鉛直方向にガイ
ド板52が配置されている。
As shown in an enlarged view in FIG. 5, a guide plate 52 is disposed in a vertical direction at a position adjacent to the transport roller 25 which can move up and down.

【0048】前記下側フィルム剥離領域14内での下側
フィルム20の剥離開始位置における上側吸着盤35の
下方には、前記ガイド板52からはみ出して垂下した下
側フィルム20の先端を捕捉して、これを下方に引張る
ことによって、下側フィルム20を基板22から剥離さ
せるための下側引張剥離装置54が設けられている。
The leading end of the lower film 20 protruding from the guide plate 52 and hanging is captured below the upper suction plate 35 at the peeling start position of the lower film 20 in the lower film peeling area 14. A lower tension peeling device 54 is provided for peeling the lower film 20 from the substrate 22 by pulling it downward.

【0049】この下側引張剥離装置54は、支柱53
に、基端においてピン56Aにより揺動自在(揺動駆動
源は図示省略)に枢支され、図2、図5に示されるよう
に、水平状態から、時計方向に約100°の範囲で揺動
自在とされた揺動アーム56と、この揺動アーム56の
先端近傍に取り付けられ、前記ガイド板52の下端から
はみ出して垂下する下側フィルム20の先端を捕捉且つ
解放自在の捕捉装置58とを備えて構成されている。
This lower tension peeling device 54 is
At the base end, the pin 56A is pivotally supported by a pin 56A (a swing drive source is not shown), and as shown in FIGS. 2 and 5, swings in a range of about 100 ° clockwise from a horizontal state. A swinging arm 56 that is movable; and a catching device 58 that is attached near the tip of the swinging arm 56 and that catches and releases the tip of the lower film 20 that protrudes from the lower end of the guide plate 52 and hangs down. It is provided with.

【0050】前記捕捉装置58は、前記ガイド板52の
下端に連続して垂直に配置された受け板58Aと、自由
端が該受け板58A下側位置及び外側位置に臨んで配置
され、基端においてピン58Bにより揺動自在に支持さ
れた捕捉レバー58Cと、エアシリンダ58Dとを備え
て構成され、該エアシリンダ58Dは、突出時に前記捕
捉レバー58Cを、その先端が、前記下側フィルム20
下端を受け板58Aとの間に挟み込むように、図5にお
いて反時計方向に揺動させ、且つ引き込み時には捕捉レ
バー58Cを図5において時計方向に揺動して、下側フ
ィルム20の先端を解放させるようにされている。
The catching device 58 has a receiving plate 58A continuously and vertically disposed at the lower end of the guide plate 52, and a free end disposed at a lower position and an outer position of the receiving plate 58A. The air cylinder 58D includes a catch lever 58C swingably supported by a pin 58B and an air cylinder 58D.
The lower end of the lower film 20 is released by swinging the lower end of the lower film 20 in the counterclockwise direction in FIG. 5 so that the lower end is sandwiched between the receiving plate 58A and the catching lever 58C in the retracted state. It is made to let.

【0051】前記上側フィルム剥離領域12内には、図
1、図4に示されるように、前記上側剥離装置50によ
り基板22の上面から剥離され、且つめくり上げられた
上側フィルム18の先端を捕捉して、剥離方向に引張る
上側引張剥離装置60が設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 4, the upper film peeling region 12 captures the tip of the upper film 18 which has been peeled off from the upper surface of the substrate 22 by the upper peeling device 50 and turned up. Then, an upper tension peeling device 60 that pulls in the peeling direction is provided.

【0052】この上側引張剥離装置60は、前記下側引
張剥離装置54における捕捉装置58と同様の捕捉装置
62と、この捕捉装置62を図1、図4において上下に
昇降させるための昇降シリンダ64と、この昇降シリン
ダ64を基板搬送方向に水平に往復動自在に支持する移
動装置66と、を備えて構成されている。
The upper pull-off device 60 includes a catching device 62 similar to the catching device 58 in the lower pull-off device 54, and an elevating cylinder 64 for vertically moving the catching device 62 in FIGS. And a moving device 66 that supports the elevating cylinder 64 so as to be able to reciprocate horizontally in the substrate transfer direction.

【0053】前記捕捉装置62は、前記捕捉装置58と
同様に、鉛直方向の受け板62Aと、この受け板62A
に沿ってめくり上げられた上側フィルム18の先端(上
端)を受け板62A上端との間で挟み込み、且つ挟み込
んで捕捉し、且つ解放可能とされた捕捉レバー62C
と、この捕捉レバー62Cを揺動自在に支持するピン6
2Bと、捕捉レバー62Cをピン62B前に揺動させる
エアシリンダ62Dとを備えて構成されている。
As in the case of the catching device 58, the catching device 62 includes a vertical receiving plate 62A and a receiving plate 62A.
The upper end of the upper film 18 flipped up along the upper end of the receiving plate 62A is sandwiched between the upper end and the upper end of the receiving plate 62A.
And a pin 6 for swingably supporting the capture lever 62C.
2B and an air cylinder 62D that swings the capture lever 62C forward of the pin 62B.

【0054】前記移動装置66は、前記昇降シリンダ6
4を基板搬送方向に摺動自在に支持するガイドバー66
Aと、昇降シリンダ64をガイドバー66Aに沿って往
復動させるロッドレスシリンダ66Bと、を備えて構成
されている。
The moving device 66 includes the lifting cylinder 6
Guide bar 66 for slidably supporting substrate 4 in the substrate transport direction
A, and a rodless cylinder 66B for reciprocating the lifting cylinder 64 along the guide bar 66A.

【0055】前記基板搬出領域16には、前記上側吸着
盤36が該基板搬出領域16内の終端位置に移動したと
き、その真下位置に、下方から上昇して、上側吸着盤3
6に吸着されている基板22を下方から受け取り、且つ
基板搬出領域16から図1において右側に搬出するため
の基板搬出装置68が設けられている。
When the upper suction plate 36 is moved to the terminal position in the substrate transfer region 16, the upper suction plate 36 rises from below to the substrate discharge region 16.
A substrate unloading device 68 is provided for receiving the substrate 22 adsorbed on the substrate 6 from below and unloading the substrate 22 from the substrate unloading area 16 to the right side in FIG.

【0056】この基板搬出装置68は、前記基板搬入装
置26と同一の構成であって、複数の搬送ローラ68A
を含んでなり、その下方には押し上げ装置32と同一構
成・作用の押し上げ装置69が配置されている。この押
し上げ作用装置69は押し上げ部材69Aと、シリンダ
装置69Bと、ガイドシャフト69Cとを備えている。
The substrate unloading device 68 has the same configuration as the substrate loading device 26, and includes a plurality of transport rollers 68A.
A push-up device 69 having the same configuration and operation as the push-up device 32 is disposed below the push-up device 32. The lifting device 69 includes a lifting member 69A, a cylinder device 69B, and a guide shaft 69C.

【0057】図2の符号70は制御盤を示す。この制御
盤70には、前記基板搬入装置26、シリンダ装置2
8、34、69B、押し上げ装置32、69のシリンダ
装置34、69B、モータ40A、46C、上側及び下
側吸着盤36、42への負圧のオン・オフ、昇降シリン
ダ42A、ロッドレスシリンダ66B、下側及び上側剥
離装置48、50、下側及び上側引張剥離装置54、6
0、基板搬出装置68を制御する制御装置72が設けら
れている(図6参照)。
Reference numeral 70 in FIG. 2 indicates a control panel. The control panel 70 includes the substrate loading device 26 and the cylinder device 2.
8, 34, 69B, cylinder devices 34, 69B of lifting devices 32, 69, motors 40A, 46C, on / off of negative pressure to upper and lower suction plates 36, 42, lifting cylinder 42A, rodless cylinder 66B, Lower and upper peeling devices 48 and 50, lower and upper tensile peeling devices 54 and 6
0, a control device 72 for controlling the substrate unloading device 68 is provided (see FIG. 6).

【0058】次に上記フィルム剥離装置10により、基
板22から上側フィルム18及び下側フィルム20を剥
離する工程について説明する。
Next, a process of peeling the upper film 18 and the lower film 20 from the substrate 22 by the film peeling device 10 will be described.

【0059】まず、上下面にフィルムが張られた基板2
2を、基板搬入装置26の入側(図1の左側)から水平
に装入し、該基板搬入装置26によって、基板22が基
板搬入領域11内に入り込むまで搬送して停止する。
First, a substrate 2 having films on the upper and lower surfaces
2 is loaded horizontally from the entry side (left side in FIG. 1) of the substrate loading device 26, and is transported and stopped by the substrate loading device 26 until the substrate 22 enters the substrate loading region 11.

【0060】次に、所定位置に停止した基板22を、そ
の真上位置に予めセットされている搬送吸着盤35に接
触するまで前記押し上げ装置32によって上方に押し上
げる。
Next, the substrate 22 stopped at the predetermined position is pushed upward by the pushing device 32 until it comes into contact with the transport suction plate 35 set at a position directly above the substrate 22.

【0061】搬送吸着盤35には、予め負圧を印加して
おけば、基板22が該搬送吸着盤35の下側面に接近し
たとき、その負圧によって基板22を吸い上げて、吸着
保持できることになる。
If a negative pressure is applied to the transport suction board 35 in advance, when the substrate 22 approaches the lower surface of the transport suction board 35, the substrate 22 can be sucked up by the negative pressure and sucked and held. Become.

【0062】次に、前記押し上げ装置32は、図1に示
される位置まで下降される。次いで前記搬送吸着盤35
を送り機構によりレール35Aに沿って、上側フィルム
剥離領域12方向に水平に移動させる。
Next, the lifting device 32 is lowered to the position shown in FIG. Next, the transfer suction plate 35
Is horizontally moved in the direction of the upper film peeling region 12 along the rail 35A by the feed mechanism.

【0063】基板22は、搬送吸着盤35によって更に
移動され、上側フィルム剥離領域12内で、予め入側端
側に移動されている前記下側吸着盤42の真上位置にき
たとき停止される。
The substrate 22 is further moved by the transport suction plate 35 and stopped when it comes to a position directly above the lower suction plate 42 which has been moved to the entry end side in the upper film peeling area 12 in advance. .

【0064】次に、前記下側吸着盤42を、負圧を印加
しつつ昇降シリンダ42Aによって上昇させる。一方、
前記搬送吸着盤35は、下側吸着盤42が接近したとき
負圧が解除され、基板22は搬送吸着盤35から下側吸
着盤42に受け渡される。
Next, the lower suction disk 42 is raised by the lifting cylinder 42A while applying a negative pressure. on the other hand,
The negative pressure is released from the transport suction board 35 when the lower suction board 42 approaches, and the substrate 22 is transferred from the transport suction board 35 to the lower suction board 42.

【0065】この受け渡し後に、前記搬送吸着盤35は
図1に示されるように基板搬入領域11内に戻される。
After the transfer, the transport suction board 35 is returned to the substrate carrying-in area 11 as shown in FIG.

【0066】基板22を吸着した下側吸着盤42は、昇
降シリンダ42Aによって図1に示される位置まで下降
され、停止する。
The lower suction plate 42 having sucked the substrate 22 is lowered by the lifting cylinder 42A to the position shown in FIG. 1 and stopped.

【0067】この状態で、前記上側剥離装置50の剥離
ロール50Aを下降させ、基板22の上面に張られてい
る上側フィルム18の先端を圧接しつつ基板幅方向に往
復させる。これによって、上側フィルム18は基板22
から剥離され、且つ剥離ノズル50Bからの圧縮空気の
吹き付けによってめくり上げられ、前記上側引張装置6
0における受け板62Aに沿う状態となる。
In this state, the peeling roll 50A of the upper peeling device 50 is lowered, and the leading end of the upper film 18 stretched on the upper surface of the substrate 22 is reciprocated in the width direction of the substrate while being pressed. As a result, the upper film 18 is
From the upper pulling device 6 which is lifted up by blowing compressed air from the peeling nozzle 50B.
The state follows the receiving plate 62A at 0.

【0068】この状態では、受け板62Aの上端外側に
上側フィルム18の先端が位置しているので、エアシリ
ンダ62Dによって予め図7のように反時計方向に揺動
させておいた捕捉レバー62Cを時計方向に揺動させる
ことによって、該捕捉レバー62Cの先端と受け板62
Aの上端との間で、めくり上げられた上側フィルム18
の先端を捕捉する。
In this state, since the leading end of the upper film 18 is located outside the upper end of the receiving plate 62A, the catch lever 62C which has been swung counterclockwise in advance by the air cylinder 62D as shown in FIG. By swinging in the clockwise direction, the tip of the catch lever 62C and the receiving plate 62
A turned upside film 18 between the upper end of A
To capture the tip.

【0069】次に、上側フィルム18を捕捉した状態
で、前記昇降シリンダ64により捕捉装置62を上昇さ
せ、且つ移動装置66により、下側フィルム剥離領域1
4方向に水平に移動させる。
Next, in a state where the upper film 18 has been captured, the capturing device 62 is raised by the elevating cylinder 64, and the lower film peeling region 1 is moved by the moving device 66.
Move horizontally in four directions.

【0070】このとき、同時に、前記下側吸着盤42も
送りねじ機構46によって下側フィルム剥離領域14方
向に水平に移動させる。これにより、上側フィルム18
は基板22の上面から強制的に剥離される。
At this time, at the same time, the lower suction plate 42 is also moved horizontally by the feed screw mechanism 46 in the direction of the lower film peeling area 14. Thereby, the upper film 18
Is forcibly peeled off from the upper surface of the substrate 22.

【0071】基板22が、上側フィルム18を剥離しつ
つ下側吸着盤42によって下側フィルム剥離領域14に
まで移動されたとき、前記捕捉装置62は、図1におい
て二点鎖線で示される位置まで移動され、その捕捉レバ
ー62Cと受け板62Aとの間には、剥離された上側フ
ィルム18が保持されている。
When the substrate 22 is moved to the lower film peeling area 14 by the lower suction plate 42 while peeling the upper film 18, the capturing device 62 is moved to the position shown by the two-dot chain line in FIG. The upper film 18 that has been moved and peeled is held between the capture lever 62C and the receiving plate 62A.

【0072】一方、前述の如く、下側吸着盤42は下側
フィルム剥離領域14に移動しているので、上側引張剥
離装置60の下方は解放状態となっていて、捕捉レバー
62Cを反時計方向に揺動させると、捕捉されていた上
側フィルム18が解放されて自由落下し、上側フィルム
剥離領域12下端から排出されることになる。
On the other hand, as described above, since the lower suction disk 42 has been moved to the lower film peeling area 14, the lower part of the upper tensile peeling device 60 is in the released state, and the catch lever 62C is moved counterclockwise. As a result, the captured upper film 18 is released, falls freely, and is discharged from the lower end of the upper film peeling area 12.

【0073】下側吸着盤42によって下側フィルム剥離
領域14内に移動された基板22は、該下側吸着盤42
から、上方から下降してくる上側吸着盤36の吸着によ
り受け渡される。
The substrate 22 moved into the lower film peeling area 14 by the lower suction disk 42 is
From the upper suction plate 36 descending from above.

【0074】上側吸着盤36には、予め負圧を印加して
おけば、基板22が該上側吸着盤36の下側面に接近し
たとき、その負圧によって基板22を吸い上げて、吸着
保持することになる。
If a negative pressure is applied to the upper suction disk 36 in advance, when the substrate 22 approaches the lower surface of the upper suction disk 36, the substrate 22 is sucked up by the negative pressure and suction-held. become.

【0075】次に、上側フィルム18が剥がされた基板
22を、上側吸着盤36によって、下側フィルム剥離領
域14内に入り込むまで搬送して、下側フィルム20の
先端が、前記下側剥離装置48の剥離ロール48Aの位
置に到達したとき、搬送を停止する。
Next, the substrate 22 from which the upper film 18 has been peeled is conveyed by the upper suction plate 36 until it enters the lower film peeling area 14, and the leading end of the lower film 20 is moved by the lower peeling device. When the sheet reaches the position of the 48 peeling roll 48A, the conveyance is stopped.

【0076】なお、このとき、前記昇降自在の搬送ロー
ラ25は、シリンダ装置34によって、図5で2点鎖線
で示されるように、基板搬送面26Aの位置まで押し上
げておき、基板22の先端の垂れ下がりを防止する。
At this time, the vertically movable transport roller 25 is pushed up to the position of the substrate transport surface 26A by the cylinder device 34 as shown by a two-dot chain line in FIG. Prevent sagging.

【0077】次に、下側剥離装置48の剥離ロール48
Aを基板22下側面に張り付けられている下側フィルム
20に圧接する位置まで上昇させてから基板幅方向にこ
れを往復動させる。このとき、搬送ローラ25によって
押えられているので基板22が、がたつくことがない。
Next, the peeling roll 48 of the lower peeling device 48
A is raised to a position where it is pressed against the lower film 20 attached to the lower side surface of the substrate 22, and then reciprocated in the width direction of the substrate. At this time, since the substrate 22 is pressed by the transport roller 25, the substrate 22 does not rattle.

【0078】従って、下側フィルム20の先端は剥離ロ
ール48Aによって基板22からわずかに剥がされ、こ
こに、剥離ノズル48Bから圧縮空気が吹き付けられ、
該圧縮空気が下側フィルム20と基板22との隙間に入
り込むことによって、下側フィルム20をめくり下げる
ことになる。
Accordingly, the leading end of the lower film 20 is slightly peeled off from the substrate 22 by the peeling roll 48A, and compressed air is blown from the peeling nozzle 48B.
When the compressed air enters the gap between the lower film 20 and the substrate 22, the lower film 20 is turned down.

【0079】下側フィルム20先端の剥離動作を終了し
た後は、前記剥離ロール48A及び搬送ローラ25は、
基板搬送面26Aの下方に退避する。
After the peeling operation of the leading end of the lower film 20 is completed, the peeling roll 48A and the transport roller 25 are
It retreats below the substrate transfer surface 26A.

【0080】剥離ノズル48Bは、わずかに下降して、
再度圧縮空気を噴出し、初回の噴出でめくり下げること
ができなかった部分を完全にめくり下げる。
The peeling nozzle 48B descends slightly,
The compressed air is blown out again, and the part that could not be turned down by the first blow is completely turned down.

【0081】基板22から剥離された下側フィルム20
の先端(下端)は、前記ガイド板52に沿って垂直に垂
れ下がる。このとき、ガイド板52が金属製の場合、下
側フィルム20は、それ自体が有する静電気によって、
ガイド板52に密着する。
The lower film 20 peeled off from the substrate 22
Is vertically suspended along the guide plate 52. At this time, when the guide plate 52 is made of metal, the lower film 20 is caused by static electricity of itself.
It adheres closely to the guide plate 52.

【0082】ガイド板52の下端から垂れ下がった下側
フィルム20の先端は、ガイド板52の下方に垂直に連
続する受け板58Aにまで至る。
The leading end of the lower film 20 hanging down from the lower end of the guide plate 52 reaches a receiving plate 58A that is vertically continuous below the guide plate 52.

【0083】この状態で、予め図8に示されるように、
時計方向に揺動されていた捕捉レバー58Cをエアシリ
ンダ58Dによって反時計方向に揺動すると、該捕捉レ
バー58Cと受け板58Aとの間で前記垂れ下がった下
側フィルム20の先端が捕捉される。
In this state, as shown in FIG.
When the capture lever 58C that has been rocked clockwise is rocked counterclockwise by the air cylinder 58D, the tip of the hanging lower film 20 is captured between the capture lever 58C and the receiving plate 58A.

【0084】次に、図9に示されるように、前記下側フ
ィルム20の先端を捕捉したまま、前記揺動アーム56
を図において時計方向に揺動させ、同時に、前記上側吸
着盤36を送りねじ機構40によって、下側フィルム剥
離領域14方向に水平に移動させる。
Next, as shown in FIG. 9, while holding the leading end of the lower film 20, the swing arm 56
Is pivoted clockwise in the figure, and at the same time, the upper suction plate 36 is moved horizontally by the feed screw mechanism 40 in the direction of the lower film peeling region 14.

【0085】従って、上側吸着盤36の移動速度及び揺
動アーム56による下側フィルム20の引張り速度を調
整することによって、下側フィルム20の剥離点がガイ
ド板52の上方位置となる状態で、下側フィルム20を
基板22から円滑に剥離することができる。
Therefore, by adjusting the moving speed of the upper suction plate 36 and the pulling speed of the lower film 20 by the swing arm 56, the peeling point of the lower film 20 is positioned above the guide plate 52. The lower film 20 can be peeled off from the substrate 22 smoothly.

【0086】このとき、上側吸着盤36の移動速度を、
下側引張剥離装置54による下側フィルム20の下方へ
の引張り速度よりもわずかに速くすれば、下側フィルム
20の剥離点がガイド板52よりも必ず下側フィルム剥
離領域14側にずれた位置となり、剥離中の下側フィル
ム20がガイド板52の上端にこすれたりすることがな
い。
At this time, the moving speed of the upper suction plate 36 is
If the speed at which the lower film 20 is pulled downward by the lower pull-off device 54 is slightly increased, the peeling point of the lower film 20 is always shifted to the lower film peeling region 14 side of the guide plate 52. Thus, the lower film 20 does not rub against the upper end of the guide plate 52 during peeling.

【0087】このようにして、上側吸着盤36を移動さ
せつつ下側フィルム20を下方に引張って剥離し、剥離
終了後は、該下側引張剥離装置54の下方に、前記捕捉
レバー58Cを解放動作させることによって、下側フィ
ルム20を下方に落下配置することができる。
In this manner, the lower film 20 is pulled downward while peeling off while moving the upper suction plate 36, and after the peeling is completed, the catch lever 58C is released below the lower tensile peeling device 54. By operating the lower film 20, the lower film 20 can be dropped and disposed.

【0088】即ち、下側フィルム20は、基板搬入装置
26の下側フィルム剥離領域14側の端部の隙間を通っ
て下方に引張られつつ剥離され、且つ、排出されること
になる。
That is, the lower film 20 is peeled and discharged while being pulled downward through the gap at the end of the substrate loading device 26 on the lower film peeling region 14 side.

【0089】基板22は、上側吸着盤36によって更に
移動され、基板搬出領域16内で、前記搬送ローラ68
Aの真上位置にきたとき停止される。
The substrate 22 is further moved by the upper suction plate 36, and within the substrate unloading area 16, the transport rollers 68
It stops when it comes to the position just above A.

【0090】次に、前記押し上げ装置69の押し上げ部
材69Aをシリンダ装置69Bによって上昇させる。一
方、前記上側吸着盤36は、押し上げ部材69Aが接近
したとき負圧が解除され、基板22は上側吸着盤36か
ら押し上げ部材69Aに受け渡される。
Next, the push-up member 69A of the push-up device 69 is raised by the cylinder device 69B. On the other hand, when the push-up member 69A approaches the upper suction plate 36, the negative pressure is released, and the substrate 22 is transferred from the upper suction plate 36 to the push-up member 69A.

【0091】この受け渡し後に、前記上側吸着盤36は
図2に示されるように下側フィルム剥離領域14内に戻
される。前記押上げ部材69Aは下降することによって
基板22を搬送ローラ68A上に受け渡し、基板22は
搬送ローラ68Aによってライン外へ搬出される。
After the transfer, the upper suction plate 36 is returned to the lower film peeling area 14 as shown in FIG. The push-up member 69A descends and transfers the substrate 22 onto the transport roller 68A, and the substrate 22 is carried out of the line by the transport roller 68A.

【0092】上記のような工程を繰り返して、順次搬入
されてくる基板22から上側及び下側フィルム18、2
0を剥離していく。
By repeating the above steps, the upper and lower films 18, 2
0 is peeled off.

【0093】なお、上記フィルム剥離装置10におい
て、基板搬入装置26上に搬入されてきた基板22は、
押し上げ装置32によって搬送吸着盤35の位置まで押
し上げられるが、本発明はこれに限定されるものでな
く、搬送吸着盤35を、基板搬入装置26及び基板22
を損傷することなく、下降して吸着するようにしてもよ
い。
In the film peeling device 10, the substrate 22 carried on the substrate carrying device 26 is
The push-up device 32 pushes up the transfer suction plate 35 to the position of the transfer suction plate 35, but the present invention is not limited to this.
May be lowered and adsorbed without damaging the device.

【0094】又、上記下側及び上側剥離装置48、50
は、剥離ロール及び剥離ノズルによってフィルムの先端
を剥離、且つめくり下げ、あるいはめくり上げるもので
あるが、本発明はこれに限定されるものでなく、例えば
フィルム先端をフック状部材によって引掛けて剥離させ
るようにしたものであってもよい。
The lower and upper peeling devices 48, 50
Is to peel off the leading end of the film by a peeling roll and a peeling nozzle, and turn the film up or down.However, the present invention is not limited to this. It is also possible to have it make it.

【0095】又、上記下側フィルム剥離領域14内の搬
送ローラ25は、シリンダ装置28によって昇降自在と
されているが、これは、基板22が薄くて垂れ下がり易
い場合に必要なものであり、基板22が十分に厚くて先
端が垂れ下がらないような場合は、搬送ローラ25は不
要である。
The transport roller 25 in the lower film peeling region 14 can be moved up and down by a cylinder device 28. This is necessary when the substrate 22 is thin and easy to hang down. If the tip 22 is sufficiently thick that the tip does not hang down, the transport roller 25 is unnecessary.

【0096】又、上側フィルム18及び下側フィルム2
0は、図3に示されるように、それぞれ基板22の上面
及び下面において、該基板22の搬送方向先端よりもわ
ずかに後方にずれた位置にその先端があるように張り付
けられているがこれは基板22の先端と一致させてもよ
い。
The upper film 18 and the lower film 2
As shown in FIG. 3, reference numeral 0 denotes an upper surface and a lower surface of the substrate 22, respectively, such that the front end is located at a position slightly rearward from the front end in the transport direction of the substrate 22. You may make it correspond with the front-end | tip of the board | substrate 22.

【0097】又、上側吸着盤36は送りねじ機構40に
よって、又、下側吸着盤42は送りねじ機構46によっ
て、それぞれ移動されるがこれは位置決め精度が高いの
で利用されている。従って、位置決め精度が確保できれ
ば、ロッドレスシリンダ等の他の移動手段であってもよ
い。
The upper suction disk 36 is moved by the feed screw mechanism 40, and the lower suction disk 42 is moved by the feed screw mechanism 46, which are used because of their high positioning accuracy. Therefore, other moving means such as a rodless cylinder may be used as long as positioning accuracy can be ensured.

【0098】[0098]

【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、フ
ィルム剥離装置の装置面積を大幅に縮小させることがで
きると共に、短時間で効率良くフィルムを剥離させるこ
とができるという優れた効果を有する。
As described above, the present invention has an excellent effect that the area of the film peeling device can be greatly reduced and the film can be peeled efficiently in a short time. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の例に係るフィルム剥離装
置の前半部を示す断面図
FIG. 1 is a sectional view showing a first half of a film peeling device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態の例に係るフィルム剥離装
置の後半部を示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a rear half of the film peeling device according to the embodiment of the present invention.

【図3】剥離されるフィルムが張られている基板を示す
拡大断面図
FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a substrate on which a film to be peeled is stretched;

【図4】上側引張剥離装置近傍を拡大して示す側面図FIG. 4 is an enlarged side view showing the vicinity of the upper tension peeling device;

【図5】同フィルム剥離装置における下側引張剥離装置
近傍を拡大して示す側面図
FIG. 5 is an enlarged side view showing the vicinity of a lower tension peeling device in the film peeling device.

【図6】同フィルム剥離装置の制御系を示すブロック図FIG. 6 is a block diagram showing a control system of the film peeling device.

【図7】上記上側引張剥離装置により上側フィルムを捕
捉する過程を拡大して示す側面図
FIG. 7 is an enlarged side view showing a process of capturing the upper film by the upper tension peeling device.

【図8】上記下側引張剥離装置により下側フィルムを捕
捉する過程を拡大して示す側面図
FIG. 8 is an enlarged side view showing a process of capturing the lower film by the lower pull-off device.

【図9】同下側引張剥離装置により下側フィルムを引張
る過程を拡大して示す側面図
FIG. 9 is an enlarged side view showing a process of pulling a lower film by the lower pull-off device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…フィルム剥離装置 11…基板搬入領域 12…上側フィルム剥離領域 14…下側フィルム剥離領域 16…基板搬出領域 18…上側フィルム 20…下側フィルム 22…基板 24、25…搬送ローラ 26…基板搬入装置 26A…基板搬送面 35…搬送吸着盤 36…上側吸着盤 42…下側吸着盤 48…下側剥離装置 50…上側剥離装置 52…ガイド板 54…下側引張剥離装置 58、62…捕捉装置 58A、62A…受け板 58C、62C…捕捉レバー 60…上側引張剥離装置 66…移動装置 68…基板搬出装置 70…制御盤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Film peeling apparatus 11 ... Substrate carry-in area 12 ... Upper film peeling area 14 ... Lower film peeling area 16 ... Substrate carry-out area 18 ... Upper film 20 ... Lower film 22 ... Substrate 24, 25 ... Transport roller 26 ... Substrate carry-in Apparatus 26A: Substrate transfer surface 35: Transfer suction plate 36: Upper suction plate 42: Lower suction plate 48: Lower release device 50: Upper release device 52: Guide plate 54: Lower tensile release device 58, 62: Capture device 58A, 62A: Receiving plate 58C, 62C: Capture lever 60: Upper tensile peeling device 66: Moving device 68: Substrate unloading device 70: Control panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3F108 JA05 5E339 AD01 AD03 CC01 CC10 CD01 CE11 CE16 CF01 CF15 DD02 EE04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3F108 JA05 5E339 AD01 AD03 CC01 CC10 CD01 CE11 CE16 CF01 CF15 DD02 EE04

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板搬入側から搬出側に、水平方向に、基
板搬入領域、上側フィルム剥離領域、下側フィルム剥離
領域、及び、基板搬出領域を順次隣接配置してなり、前
記基板搬入領域に設けられ、上下両面にフィルムが張り
付けられた基板を水平の基板搬送面に沿って搬送する基
板搬入装置と、この基板搬入装置の上方位置と前記上側
フィルム剥離領域内との間でほぼ水平に往復動自在、且
つ、前記基板の上面を吸着して、該基板を水平に保持可
能とされた搬送吸着盤と、前記上側フィルム剥離領域内
に前記搬送吸着盤が移動したときのその下側位置に配置
され、該下側位置と前記下側フィルム剥離領域内との間
で水平に往復動自在、且つ、前記基板の下面の略全面を
吸着して、該基板を水平に保持可能とされた下側吸着盤
と、この下側吸着盤に吸着された状態の基板における上
側面に張り付けられた上側フィルムの搬出側先端を剥離
し、且つ、めくり上げる上側剥離装置と、該めくり上げ
られた上側フィルム先端を補捉すると共に、これを基板
搬入側に引張る上側引張剥離装置と、前記下側フィルム
剥離領域内に前記下側吸着盤が移動したときのその上側
位置に配置され、該上側位置と前記下側フィルム剥離領
域内との間で水平に往復動自在、且つ、前記基板の上面
の略全体を吸着して、該基板を水平に保持可能とされた
上側吸着盤と、この上側吸着盤に吸着された状態の基板
における下側面に張り付けられた下側フィルムの搬出側
先端を剥離し、且つ、めくり下げる下側剥離装置と、前
記基板搬出装置における搬入側端近傍に配置され、前記
下側剥離装置によりめくり下げられた下側フィルムの先
端を捕捉し、且つ、前記基板搬出装置と前記上側フィル
ム剥離領域との間を通って、前記捕捉した下側フィルム
の先端を下方に引張る下側引張剥離装置と、を有してな
り、前記下側吸着盤は、前記上側引張剥離装置により上
側フィルムを引張るとき、基板を吸着したまま下側フィ
ルム剥離領域にまで移動し、且つ、前記下側剥離装置に
より下側フィルムを剥離する前に上側フィルム剥離領域
内に戻り、前記上側吸着盤は、前記下側引張装置により
前記下側フィルムの引張るとき、基板を吸着したまま前
記基板搬出領域内に移動し、前記下側フィルムが基板か
ら剥離し、且つ、前記下側吸着盤が基板搬入領域方向に
移動して前記上側引張剥離装置の下方向に空白が生じた
とき、前記上側引張剥離装置は捕捉していた上側フィル
ムを解放するようにされたことを特徴とするフィルム剥
離装置。
1. A substrate loading area, an upper film peeling area, a lower film peeling area, and a substrate unloading area are horizontally arranged in order from a substrate loading side to a loading side in a horizontal direction. A substrate loading device that transports a substrate having a film attached on both upper and lower surfaces along a horizontal substrate transport surface, and reciprocates substantially horizontally between a position above the substrate loading device and the upper film peeling area. Movable, and adsorbs the upper surface of the substrate, and a transport suction disk capable of holding the substrate horizontally, and at a lower position when the transport suction disk moves into the upper film peeling area. The lower portion is arranged so that it can reciprocate horizontally between the lower position and the lower film peeling region, and can hold the substrate horizontally by adsorbing substantially the entire lower surface of the substrate. Side suction plate and this lower suction An upper peeling device that peels off the leading end of the upper film attached to the upper surface of the substrate in a state where the upper film is sucked and turns up, and captures the leading edge of the turned up film, and attaches the upper film to the substrate. An upper tensile peeling device that pulls in to the carry-in side, and is disposed at an upper position when the lower suction plate moves into the lower film peeling region, between the upper position and the lower film peeling region. An upper suction plate capable of horizontally reciprocating, and adsorbing substantially the entire upper surface of the substrate and holding the substrate horizontally, and a lower surface of the substrate adsorbed by the upper suction plate. A lower peeling device that peels off the leading end of the attached lower film on the carry-out side, and is turned up and down is disposed near the carry-in end of the substrate carry-out device, and is turned down by the lower peeling device. A lower tension peeling device that captures the leading end of the lower film, and passes between the substrate unloading device and the upper film peeling region, and pulls down the leading end of the captured lower film. When the upper suction film is pulled by the upper tension peeling device, the lower suction plate moves to the lower film peeling region while holding the substrate, and peels the lower film by the lower peeling device. Before returning to the upper film peeling area, the upper suction plate, when pulling the lower film by the lower pulling device, moves to the substrate unloading area while holding the substrate, the lower film is When the lower suction disk is peeled off from the substrate and the lower suction disk moves toward the substrate carrying-in area and a space is generated below the upper tensile peeling device, the upper tensile peeling device captures the upper film. A film peeling device characterized in that the film is released.
【請求項2】請求項1において、前記下側剥離装置は、
前記上側吸着盤の搬出側端部近傍位置で、基板搬送面に
沿って並列配置された複数の搬送ローラを含んでなり、
該複数の搬送ローラは、前記基板搬送面を構成する搬送
位置と、これより下方であって、前記下側剥離装置によ
り剥離され、めくり下げられた下側フィルムと非干渉と
なるまで引き下がった待機位置との間で上下動自在とし
たことを特徴とするフィルム剥離装置。
2. The method according to claim 1, wherein the lower peeling device comprises:
At a position near the unloading side end of the upper suction disk, comprising a plurality of transport rollers arranged in parallel along the substrate transport surface,
The plurality of transport rollers are at a transport position that constitutes the substrate transport surface and a standby position that is lower than the transport position and is pulled down by the lower peeling device until it does not interfere with the turned-down lower film. A film peeling device characterized by being movable up and down between positions.
【請求項3】請求項1又は2において、前記下側引張剥
離装置は、前記下側剥離装置における下側フィルムの剥
離開始先端近傍位置で、その下側近傍から略鉛直下向き
に配置され、めくり下げられた下側フィルムの先端を案
内するガイド板と、このガイド板の下端近傍に設けら
れ、ガイド板から下方に突出した前記下側フィルムの先
端を捕捉可能とされたフィルム捕捉装置と、このフィル
ム捕捉装置を自由端側に支持し基端側を中心として、前
記ガイド板近傍位置とこれより下方の解放位置との間で
揺動自在とされた揺動アームと、を有してなることを特
徴とするフィルム剥離装置。
3. The lower pull-off device according to claim 1, wherein the lower pull-off device is disposed substantially vertically downward from near the lower portion at a position near a leading end of the lower film in the lower peel device. A guide plate for guiding the tip of the lowered lower film, a film capturing device provided near the lower end of the guide plate, and capable of capturing the tip of the lower film protruding downward from the guide plate; And a swing arm that swings between a position near the guide plate and a release position below the guide plate with the film capturing device supported at the free end side and centered on the base end side. A film peeling device characterized by the above-mentioned.
【請求項4】請求項3において、前記下側吸着盤を水平
に往復動させる送り桟構の下側剥離領域側端部に前記揺
動アームの基端を揺動自在に支持したことを特徴とする
フィルム剥離装置。
4. The swing arm according to claim 3, wherein a base end of the swing arm is swingably supported at an end on a lower exfoliation area side of a feed rail for horizontally reciprocating the lower suction disc. Film peeling device.
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