JP2000215444A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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JP2000215444A
JP2000215444A JP11019451A JP1945199A JP2000215444A JP 2000215444 A JP2000215444 A JP 2000215444A JP 11019451 A JP11019451 A JP 11019451A JP 1945199 A JP1945199 A JP 1945199A JP 2000215444 A JP2000215444 A JP 2000215444A
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Japan
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oxide
magnetic
film
crystal
inorganic compound
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JP11019451A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumiyoshi Kirino
文良 桐野
Nobuyuki Inaba
信幸 稲葉
Hirotaka Yamamoto
浩貴 山本
Takashi Naito
内藤  孝
Motoyasu Terao
元康 寺尾
Ken Takahashi
高橋  研
Sumio Hosaka
純男 保坂
Eiji Koyama
栄二 小山
Hiroki Kuramoto
浩樹 蔵本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a texture with a precisely controlled interval and depth on the surface of a magnetic disk substrate and to obtain a magnetic disk having high reliability due to the enhanced adhesive strength of the substrate to a medium and improved contact at the interface between a head and the disk. SOLUTION: An inorganic compound film 2 having crystal grains comprising one oxide selected from chromium oxide, iron oxide and nickel oxide and at least one oxide deposited on the grain boundaries of the grains and selected from silicon dioxide, aluminum oxide, titanium dioxide, tantalum oxide and zinc oxide is formed on a disk substrate 1, the oxide grains are at least partly removed by etching the surface of the inorganic oxide film and a magnetic film 3 comprising magnetic grains is formed in the oxide grains-freed parts to produce the objective magnetic recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大量の情報を迅速
かつ正確に格納するための情報記録媒体にかかり、特
に、高性能でかつ高信頼性を有する磁気ディスクの構造
及びそれを用いた磁気ディスク装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium for storing a large amount of information quickly and accurately, and more particularly to a structure of a magnetic disk having high performance and high reliability and a magnetic disk using the same. It relates to a disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の高度情報化社会の進展にはめざま
しいものがあり、各種形態の情報を統合したマルチメデ
ィアが急速に普及してきている。これを支える情報記録
装置の1つに磁気ディスク装置がある。現在、磁気ディ
スク装置は、記録密度を向上させつつ小型化が図られて
いる。それと並行して、ディスク装置の低価格化が急速
に進められている。ところで、磁気ディスクの高密度化
を実現するためには、1)ディスクと磁気ヘッドとの距
離をつめること、2)媒体の保磁力を増大させること、
3)信号処理方法を工夫することなどが必須の技術であ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable progress in the advanced information society, and multimedia in which various forms of information are integrated has rapidly spread. One of the information recording devices that support this is a magnetic disk device. At present, the magnetic disk drive is being downsized while improving the recording density. At the same time, the cost of disk devices has been rapidly reduced. By the way, in order to realize the high density of the magnetic disk, 1) shorten the distance between the disk and the magnetic head, 2) increase the coercive force of the medium,
3) It is an essential technology to devise a signal processing method.

【0003】中でも、磁気記録媒体においては、高密度
記録を実現するために、保磁力の増大が必須である。こ
れに加えて、10 Gb/in2を超える記録密度を実現するた
めには、磁化反転が生じる単位を小さくしなければなら
ない。そのためには、磁性粒子のサイズを微細化するこ
とが必要である。そのためには、磁性粒子間の磁気的相
互作用を低減させることが知られている。この例とし
て、特開平7-50008をあげることができる。これとあわ
せて、信頼性の面からは、ヘッドと磁気記録媒体との間
で吸着が生じる。その結果、回転が止まってしまう場合
があった。これに対して、基板表面にテクスチャと呼ば
れる凹凸を形成する。この公知な例として、特許登録19
86300をあげることができる。
[0003] Above all, in a magnetic recording medium, an increase in coercive force is indispensable in order to realize high-density recording. In addition, in order to achieve a recording density exceeding 10 Gb / in 2 , the unit in which magnetization reversal occurs must be reduced. For that purpose, it is necessary to reduce the size of the magnetic particles. For that purpose, it is known to reduce magnetic interaction between magnetic particles. As an example of this, JP-A-7-50008 can be mentioned. At the same time, in terms of reliability, suction occurs between the head and the magnetic recording medium. As a result, the rotation may stop. On the other hand, irregularities called textures are formed on the substrate surface. As a known example of this, Patent Registration 19
86300 can be given.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術では、
磁性粒子間の磁気的相互作用を低減するために、粒界に
非磁性元素を偏析させている。しかし、磁性粒子が微細
化してくると、磁気特性の低減が著しく、添加できる濃
度には限界があった。また、磁性粒子のサイズの分布の
低減が難しく、媒体ノイズ、熱揺らぎや熱減磁の低減に
は限りがあった。また、ディスクの信頼性の面からは、
ディスク表面に形成するテクスチャを精度良く安定に形
成することが困難な場合があった。特に、任意の高さの
凹凸(テクスチャ)を基板表面に形成したり、その形状や
基板上の配置を精密に制御することは困難であった。ま
た、基板間のばらつきを制御しきれず、基板上に形成し
た磁性膜の構造が異なり、磁気特性にばらつきを生じる
場合があった。これにより、10GB/inch2を超える超高密
度記録を行う場合、安定した記録や再生が行えない場合
があった。
In the above prior art,
Non-magnetic elements are segregated at grain boundaries in order to reduce magnetic interaction between magnetic particles. However, as the magnetic particles become finer, the magnetic properties are significantly reduced, and there is a limit to the concentration that can be added. Further, it is difficult to reduce the size distribution of the magnetic particles, and there is a limit to the reduction of medium noise, thermal fluctuation and thermal demagnetization. Also, in terms of disk reliability,
In some cases, it is difficult to accurately and stably form the texture formed on the disk surface. In particular, it has been difficult to form irregularities (textures) of an arbitrary height on the substrate surface and to precisely control the shape and arrangement on the substrate. Further, variation between substrates cannot be fully controlled, and the structure of the magnetic film formed on the substrate is different, which sometimes causes variation in magnetic characteristics. As a result, when performing ultra-high-density recording exceeding 10 GB / inch 2 , stable recording and reproduction may not be performed.

【0005】そこで、本発明の第1の目的は、磁性膜の
磁気特性を劣化させずに磁性粒子間の磁気的相互作用を
低減できる媒体構造およびその製造方法を提供すること
にある。さらに、本発明の第2の目的は、磁性膜作製と
同時に凹凸のテクスチャを形成することにより、高精度
に制御されたテクスチャを提供するとともに、簡素な製
造工程を提供し、高性能でしかも安価な磁気ディスク装
置を提供することにある。テクスチャは、任意のサイズ
や任意の凹凸の高さを高精度に制御することが可能であ
る。さらに、本発明の第3の目的は、基板と磁気記録媒
体との密着力を増し、高信頼性を有する磁気ディスク基
板を提供することにある。さらに、本発明の第4の目的
は、基板から浸出してくるアルカリ金属イオンなどの拡
散を制御することにより、磁性膜の耐食性や磁気特性の
安定性の高い磁気ディスクを提供することにある。これ
により、20GB/inch2を超える超高密度磁気記録媒体を提
供できる。
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a medium structure capable of reducing the magnetic interaction between magnetic particles without deteriorating the magnetic characteristics of the magnetic film, and a method of manufacturing the same. Further, the second object of the present invention is to provide a texture that is controlled with high precision by forming a texture of concavities and convexities simultaneously with the production of a magnetic film, and to provide a simple manufacturing process, and to provide high performance and low cost. Another object of the present invention is to provide a simple magnetic disk device. As for the texture, it is possible to control the arbitrary size and the height of the arbitrary unevenness with high accuracy. Further, a third object of the present invention is to provide a magnetic disk substrate having high reliability by increasing the adhesion between the substrate and the magnetic recording medium. Further, a fourth object of the present invention is to provide a magnetic disk having high corrosion resistance and high stability of magnetic characteristics of a magnetic film by controlling diffusion of alkali metal ions and the like leached from a substrate. Thereby, an ultra-high density magnetic recording medium exceeding 20 GB / inch 2 can be provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、ディスク
基板上に、酸化クロム、酸化鉄あるいは酸化ニッケルの
内より選ばれる1種類の酸化物からなる結晶粒子と該結
晶粒子の結晶粒界に析出した酸化シリコン、酸化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化タンタルあるいは酸化亜鉛の
内より選ばれる少なくとも1種類の酸化物とを有する無
機化合物膜を形成し、該無機化合物の表面をエッチング
することにより前記酸化物の結晶粒子の少なくとも一部
を除去し、該酸化物の結晶粒子を除去した部分に磁性粒
子から構成される磁性膜を形成して磁気記録媒体とする
ことにより実現できる。また、少なくとも円形のディス
ク基板と情報を記録するための磁性膜を有する磁気ディ
スクにおいて、ディスク基板表面に酸化クロム、酸化鉄
あるいは酸化ニッケルの内より選ばれる1種類の酸化物
(溶質)を酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタ
ン、酸化タンタルあるいは酸化亜鉛の内より選ばれる少
なくとも1種類の酸化物(溶媒)に溶解させ、該溶質物質
が結晶粒子として析出している無機化合物の薄膜を形成
した後に、結晶質の酸化クロム、酸化鉄あるいは酸化ニ
ッケル相(溶質)の一部をエッチングにより選択的に除去
した後に、磁性膜を形成することにより実現できる。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide, on a disk substrate, crystal grains made of one kind of oxide selected from chromium oxide, iron oxide or nickel oxide and crystal grain boundaries of the crystal grains. Forming an inorganic compound film having at least one oxide selected from precipitated silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide, or zinc oxide, and etching the surface of the inorganic compound by etching the surface of the inorganic compound. By removing at least a part of the crystal grains of the above, and forming a magnetic film composed of magnetic particles on the portion from which the crystal grains of the oxide have been removed, a magnetic recording medium can be realized. Further, in a magnetic disk having at least a circular disk substrate and a magnetic film for recording information, one type of oxide selected from chromium oxide, iron oxide or nickel oxide is formed on the disk substrate surface.
(Solute) is dissolved in at least one oxide (solvent) selected from silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide or zinc oxide, and the solute substance is an inorganic compound precipitated as crystal particles. It can be realized by forming a magnetic film after selectively removing a part of a crystalline chromium oxide, iron oxide or nickel oxide phase (solute) by etching after forming a thin film.

【0007】さらに、上記の無機化合物膜の表面をエッ
チング後に、磁気記録媒体を形成する場合、相対的に結
晶粒界の溶媒物質の部分が凸となるように磁気記録媒体
を形成してもよい。これにより、磁性膜の作製と同時に
テクスチャを作製することができる。
Further, when the magnetic recording medium is formed after etching the surface of the inorganic compound film, the magnetic recording medium may be formed such that the portion of the solvent substance at the crystal grain boundaries relatively becomes convex. . Thereby, the texture can be produced simultaneously with the production of the magnetic film.

【0008】ここで、基板表面に形成される凹凸の頂点
部分と底部分との差(深さ)を、形成した無機化合物層の
膜厚または/およびエッチング時間により、結晶部分(結
晶粒子部分)と非晶質部分(粒界部分)とのエッチングレ
ートの差を利用することにより制御することができる。
これにより、磁性膜を作製すると同時にテクスチャが形
成できるのでプロセスの簡素化も図れる。ところで、成
膜後の無機化合物層の構造は、結晶相が溶質化合物であ
り、溶媒化合物が結晶粒子の粒界に非晶質で存在してい
る。結晶相はコバルト、鉄、あるいはニッケルの酸化物
である。エッチング後も膜構造や粒子サイズに変化がな
く、磁性膜はこの結晶相からエピタキシャル成長させ
る。この場合、結晶粒界に存在する溶媒物質が障壁にな
るので、形成する磁気記録媒体の結晶成長を抑制できる
ので、無機化合物層と同じ結晶粒子サイズの磁性粒子を
形成することができる。
Here, the difference (depth) between the top and bottom of the irregularities formed on the substrate surface is determined by the film thickness of the formed inorganic compound layer and / or the etching time. It can be controlled by utilizing the difference between the etching rates of the amorphous portion and the amorphous portion (grain boundary portion).
As a result, the texture can be formed simultaneously with the production of the magnetic film, so that the process can be simplified. By the way, the structure of the inorganic compound layer after film formation is such that the crystal phase is a solute compound and the solvent compound is amorphous at the grain boundaries of the crystal grains. The crystalline phase is an oxide of cobalt, iron or nickel. There is no change in the film structure or particle size after etching, and the magnetic film is epitaxially grown from this crystal phase. In this case, since the solvent substance present at the crystal grain boundaries serves as a barrier, the crystal growth of the magnetic recording medium to be formed can be suppressed, so that magnetic particles having the same crystal particle size as the inorganic compound layer can be formed.

【0009】ここで、磁性材料は、コバルト、鉄、ある
いはニッケルの他に、この元素を主体として、これにC
r,Pt,Ta,Nbの内より選ばれる少なくとも2種類の元素を
含む合金を用いてもよい。さらに、この強磁性薄膜にお
いて、結晶粒子がCo,NiあるいはFeの内より選ばれる少
なくとも1種類の元素であり、その結晶粒界近傍あるい
は粒界にCr,Ta,Nbの内より選ばれる少なくとも1種類の
元素を偏析させてもよい。
Here, the magnetic material is mainly composed of this element in addition to cobalt, iron or nickel.
An alloy containing at least two kinds of elements selected from r, Pt, Ta, and Nb may be used. Further, in this ferromagnetic thin film, the crystal grains are at least one element selected from Co, Ni or Fe, and at least one element selected from Cr, Ta and Nb is located near or at the crystal grain boundary. The types of elements may be segregated.

【0010】このような磁気記録媒体を形成した磁気デ
ィスク円板、磁気ヘッド、あるいは電気回路からなる磁
気ディスク装置を構成する。そして、この装置に各種の
形態の情報を記録、再生あるいは消去を行なう。
A magnetic disk device comprising such a magnetic recording medium, a magnetic disk, a magnetic head, or an electric circuit. Then, various types of information are recorded, reproduced or erased in this device.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の詳細を実施例を用いて説
明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described with reference to embodiments.

【0012】(実施例1)作製した磁気ディスクの断面
構造の模式図を図1に示す。まず、磁気ディスク用の基
板として、2.5″直径のガラス基板を用いた。ここで用
いたガラス基板はほんの1例であり、いずれのサイズの
ディスク基板を用いても、また、AlやAl合金の基板を用
いても、本発明の効果を左右するものではない。この基
板(1)上に、無機化合物層(2)として、CoOとSiO2を2:1に
混合したものをターゲットに用いて、スパッタ法により
30 nm膜厚に形成した。この無機化合物層(2)の表面をTE
Mにより観察した結果の略図を図2に示す。この図より、
8nmの正六角形の微結晶粒子の集合体であることがわか
る。また、結晶粒界の幅は、TEM観察から0.5nm以下であ
った。この結晶相の粒子サイズのばらつきはほとんどな
く、標準偏差σで3以下であった。この膜の表面からエ
ッチングを行い、コバルト酸化物の結晶相を選択的にエ
ッチングした。ここでは、コバルトの酸化物とシリコン
酸化物とのエッチングレートの差を利用した。ここで、
エッチング深さは、15nmである。エッチングを行っても
無機化合物膜の形態や構造には変化が見られなかった。
この後に、エッチングにより生じた無機化合物層(2)の
凹部分に磁性層(3)をスパッタリング法により15nmの膜
厚に形成した。用いた磁性材料はCoである。スパッタの
条件は、投入DC電力密度が1kW/150mmφ、放電ガス圧
力が3mTorrである。スパッタ中は、基板を300℃に加熱
した。ここでは、スパッタガスにArを使用した。Co膜
を無機化合物層の結晶相表面よりエピタキシャル成長さ
せた。それと同時に、無機化合物層の凸部である結晶粒
界部分に膜が析出しないように基板表面をミリングし
た。これにより、凸部の結晶粒界には膜が析出してこな
い。結晶粒界部分に磁性膜が存在すると、磁性粒子間の
相互作用が強まったり、凹凸の存在により磁気特性のミ
クロな分布が生じる。これは、媒体ノイズ、熱揺らぎや
熱減磁の原因になるからである。この膜の表面に保護膜
(4)として、C膜を5 nm の膜厚に形成した。スパッタの
条件は、投入DC電力密度が0.5kW/150mmφ、放電ガス
圧力が5mTorrである。ここでは、スパッタガスにAr
を使用したが、窒素を含むガスを用いてもよいことは言
うまでもない。これは、粒子が微細化するために、得ら
れる膜が緻密化し、保護性能を向上させることができる
からである。この膜の膜質は、このようなスパッタの方
法に加えて、得られる膜の性質が装置に大きく依存して
いるので、この条件や手法は絶対的なものではない。
(Example 1) FIG. 1 shows a schematic view of a cross-sectional structure of a manufactured magnetic disk. First, a 2.5 ″ diameter glass substrate was used as a substrate for a magnetic disk. The glass substrate used here is only one example, and a disk substrate of any size can be used. Even if a substrate is used, the effect of the present invention is not affected.On the substrate (1), a mixture of CoO and SiO2 in a ratio of 2: 1 as an inorganic compound layer (2) is used as a target. By sputtering method
It was formed to a thickness of 30 nm. The surface of the inorganic compound layer (2) is
FIG. 2 shows a schematic diagram of the results observed by M. From this figure,
It can be seen that this is an aggregate of 8 nm regular hexagonal fine crystal particles. The width of the crystal grain boundary was 0.5 nm or less from TEM observation. There was almost no variation in the particle size of this crystal phase, and the standard deviation σ was 3 or less. Etching was performed from the surface of this film to selectively etch the cobalt oxide crystal phase. Here, the difference in etching rate between the oxide of cobalt and the silicon oxide was used. here,
The etching depth is 15 nm. No change was found in the form or structure of the inorganic compound film even after etching.
Thereafter, a magnetic layer (3) was formed in a concave portion of the inorganic compound layer (2) generated by etching to a thickness of 15 nm by a sputtering method. The magnetic material used is Co. The sputtering conditions are as follows: input DC power density is 1 kW / 150 mmφ, and discharge gas pressure is 3 mTorr. During sputtering, the substrate was heated to 300 ° C. Here, Ar was used as the sputtering gas. A Co film was epitaxially grown from the crystal phase surface of the inorganic compound layer. At the same time, the surface of the substrate was milled so that a film was not deposited on the crystal grain boundary portions, which were convex portions of the inorganic compound layer. As a result, no film is deposited on the crystal grain boundaries of the projections. When the magnetic film exists in the crystal grain boundary portion, the interaction between the magnetic particles is strengthened, and the microscopic distribution of the magnetic characteristics occurs due to the presence of the unevenness. This is because it causes medium noise, thermal fluctuation and thermal demagnetization. Protective film on the surface of this film
As (4), a C film was formed to a thickness of 5 nm. The sputtering conditions are as follows: input DC power density is 0.5 kW / 150 mmφ, and discharge gas pressure is 5 mTorr. Here, the sputtering gas is Ar
However, it goes without saying that a gas containing nitrogen may be used. This is because the particles become finer, and the resulting film becomes denser, and the protective performance can be improved. As for the film quality of this film, in addition to such a sputtering method, since the properties of the obtained film greatly depend on the apparatus, these conditions and methods are not absolute.

【0013】次に、この磁性膜の構造を調べた。この膜
は、X線回折から、Coの(102)面が強く配向していた。ま
た、電子顕微鏡観察による平面の観察から、平均粒子径
が9nmであり、粒子径分布を求めたところ、標準偏差σ
の値で3以下であった。この磁性膜の粒子は微細化して
おり、かつ、その粒子サイズの分布が小さい。また、断
面観察から、磁性膜(3)の断面組織は良好な柱状構造で
あり、基板表面から媒体表面まで結晶粒子サイズが変化
していなことがわかった。また、無機化合物層が基板と
磁性粒子の間に存在しているために、成膜中などにガラ
ス基板からアルカリイオンが磁気記録媒体中へ拡散して
こないので、磁気特性の劣化や信頼性の低下をきたさな
いこともわかった。次に、この磁性膜の磁気特性を測定
した。得られた磁気特性は、保磁力が3.5 kOe、Isvが2.
5×10-16 emu、M-Hループにおけるヒステリシスの角型
性の指標であるSが0.8、Sが0.86であり、良好な磁気
特性を有していた。
Next, the structure of the magnetic film was examined. According to X-ray diffraction, the (102) plane of Co was strongly oriented in this film. Further, from the observation of the plane by electron microscopy, the average particle size was 9 nm, and the particle size distribution was determined.
Was 3 or less. The particles of this magnetic film are finer and the particle size distribution is smaller. From the cross-sectional observation, it was found that the cross-sectional structure of the magnetic film (3) had a good columnar structure, and the crystal grain size did not change from the substrate surface to the medium surface. In addition, since the inorganic compound layer is present between the substrate and the magnetic particles, alkali ions do not diffuse from the glass substrate into the magnetic recording medium during film formation, etc. It was also found that there was no decline. Next, the magnetic characteristics of the magnetic film were measured. The obtained magnetic properties are as follows: coercive force 3.5 kOe, Isv 2.
5 × 10 −16 emu, S, which is an index of the squareness of the hysteresis in the MH loop, was 0.8, and S was 0.86, indicating good magnetic properties.

【0014】次に、このような磁気特性を有する磁性膜
を用いた磁気ディスクの媒体表面に潤滑剤を塗布してデ
ィスクの記録再生特性を評価した。記録には、2.1Tの高
飽和磁束密度を有する軟磁性膜を用いた磁気ヘッドを記
録ヘッドの用いた。また、巨大磁気抵抗効果を有する磁
気ヘッドを用いて再生した。ヘッド面と磁性膜との距離
は20nmである。このディスクに20 GB/inch2に相当する
信号を記録してディスクのS/Nを評価したところ、32dB
の再生出力が得られた。ここで、磁気力顕微鏡(MFM)に
より磁化反転単位を測定したところ、粒子2から3個分程
度であり、十分小さいことがわかった。これと合わせ
て、磁化遷移領域に存在するジグザグパターンも従来の
媒体より著しく小さかった。また、熱揺らぎや熱による
減磁も発生しなかった。これは、磁性膜の結晶粒子サイ
ズの分布が小さいこと、これと合わせて、結晶粒子間に
粒界相を設けたことにより磁気的な相互作用が低減した
ことに起因している。また、このディスクの欠陥レート
を測定したところ、信号処理を行わない場合の値で、1
×10-5以下であった。また、本例の無機化合物層による
テクスチャを形成することにより安定した浮上特性が得
られた。
Next, a lubricant was applied to the medium surface of a magnetic disk using a magnetic film having such magnetic characteristics, and the recording / reproducing characteristics of the disk were evaluated. For recording, a magnetic head using a soft magnetic film having a high saturation magnetic flux density of 2.1 T was used as the recording head. Reproduction was performed using a magnetic head having a giant magnetoresistance effect. The distance between the head surface and the magnetic film is 20 nm. A signal equivalent to 20 GB / inch 2 was recorded on this disk and the S / N of the disk was evaluated.
Was obtained. Here, when the magnetization reversal unit was measured by a magnetic force microscope (MFM), it was found that the size was about 3 particles from 2 and sufficiently small. At the same time, the zigzag pattern existing in the magnetization transition region was significantly smaller than that of the conventional medium. In addition, thermal fluctuation and demagnetization due to heat did not occur. This is attributable to the fact that the crystal grain size distribution of the magnetic film is small and, in addition, the magnetic interaction is reduced by providing a grain boundary phase between crystal grains. Further, when the defect rate of this disk was measured, the value obtained when no signal processing was performed was 1
× 10 -5 or less. Further, by forming a texture with the inorganic compound layer of this example, stable flying characteristics were obtained.

【0015】ここでは、無機化合物層(2)に、溶質物質
に酸化クロムを用いた例を述べたが、この効果は酸化鉄
あるいは酸化ニッケルを用いても同様の効果が得られ
た。さらに、溶質の酸化物として酸化シリコンを用いた
が、これ以外に、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化
タンタルあるいは酸化亜鉛を用いても同様の効果が得ら
れた。さらに、還元処理後の磁性膜中にCo,NiあるいはF
eなどの主元素に加えて、Cr,Pt,Ta,Nbの内より選ばれる
少なくとも2種類の元素を含む合金とすることにより、
磁気特性を調整できる。その場合、その結晶粒界近傍あ
るいは粒界にCr,Ta,Nbの内より選ばれる少なくとも1種
類の元素を偏析させてもよい。これにより、磁気ヘッド
と磁気記録媒体の整合性が取りやすくなる効果がある。
Here, an example was described in which chromium oxide was used as the solute substance in the inorganic compound layer (2), but the same effect was obtained by using iron oxide or nickel oxide. Further, although silicon oxide was used as the solute oxide, similar effects were obtained by using aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide, or zinc oxide. In addition, Co, Ni or F
By using an alloy containing at least two elements selected from Cr, Pt, Ta, and Nb in addition to the main elements such as e,
The magnetic properties can be adjusted. In this case, at least one element selected from Cr, Ta, and Nb may be segregated near or at the crystal grain boundaries. As a result, there is an effect that matching between the magnetic head and the magnetic recording medium can be easily achieved.

【0016】(実施例2)本実施例は、磁性膜の作製と
同時にテクスチャを形成した場合である。作製した磁気
ディスクの断面構造の模式図を図3に示す。まず、磁気
ディスク用の基板として、2.5″直径のガラス基板を用
いた。ここで用いたガラス基板はほんの1例であり、い
ずれのサイズのディスク基板を用いても、また、AlやAl
合金基板を用いても、本発明の効果を左右するものでは
ない。この基板(1)上に、無機化合物層(2)として、CoO
とZnOを3:1に混合したものをターゲットに用いて、スパ
ッタ法により35 nm膜厚に形成した。この膜をドライエ
ッチングにより結晶粒子の1部分を除去した。これによ
り、基板上に25nm深さの凹凸が形成した。この深さは、
無機化合物層(2)の膜厚とエッチング時間やエッチング
ガスを選択することにより任意に選択できる。その後、
エッチングにより生じた無機化合物層(2)の凹部分に磁
性層(3)をスパッタリング法により、15nm膜厚に形成し
た。これにより、媒体表面に10nmの凹凸が形成でき、こ
れがテクスチャとなる。この凹凸の深さは、無機化合物
の膜厚やエッチング深さ、磁性膜の膜厚を適宜組み合わ
せることにより、容易に所望のものを得ることができる
ことは言うまでもない。ここで、用いた磁性材料はCoで
ある。スパッタの条件は、投入DC電力密度が1kW/150m
mφ、放電ガス圧力が3mTorrである。スパッタ中は、基
板を300℃に加熱した。ここでは、スパッタガスにAr
を使用した。Co膜を無機化合物層の結晶相表面よりエピ
タキシャル成長させた。それと同時に、無機化合物層の
凸部である結晶粒界部分に膜が析出しないように基板表
面をミリングした。これにより、凸部の結晶粒界には膜
が析出してこない。結晶粒界部分に磁性膜が存在する
と、磁性粒子間の相互作用が強まったり、凹凸の存在に
より磁気特性のミクロな分布が生じる。これは、媒体ノ
イズ、熱揺らぎや熱減磁の原因になるからである。そし
て、最後に、保護膜(4)として、C膜を5 nm の膜厚に形
成した。スパッタの条件は、投入DC電力密度が1kW/15
0mmφ、放電ガス圧力が5mTorrである。ここでは、スパ
ッタガスにArを使用したが、窒素を含むガスを用いて
もよいことは言うまでもない。これは、粒子が微細化す
るために、得られる膜が緻密化し、保護性能を向上させ
ることができるからである。この膜の膜質は、このよう
なスパッタの方法に加えて、得られる膜の性質が装置に
大きく依存しているので、この条件や手法は絶対的なも
のではない。
(Embodiment 2) In this embodiment, the texture is formed simultaneously with the production of the magnetic film. FIG. 3 shows a schematic diagram of a cross-sectional structure of the manufactured magnetic disk. First, a 2.5 ″ diameter glass substrate was used as a substrate for a magnetic disk. The glass substrate used here is only one example, and any size disk substrate can be used.
The use of an alloy substrate does not affect the effects of the present invention. On this substrate (1), as an inorganic compound layer (2), CoO
Using a mixture of ZnO and ZnO at a ratio of 3: 1 as a target, a film having a thickness of 35 nm was formed by a sputtering method. This film was subjected to dry etching to remove a part of the crystal grains. As a result, unevenness having a depth of 25 nm was formed on the substrate. This depth is
It can be arbitrarily selected by selecting the thickness of the inorganic compound layer (2), the etching time, and the etching gas. afterwards,
A magnetic layer (3) was formed to a thickness of 15 nm by a sputtering method in a concave portion of the inorganic compound layer (2) generated by the etching. As a result, irregularities of 10 nm can be formed on the medium surface, and this becomes the texture. Needless to say, the desired depth can be easily obtained by appropriately combining the thickness of the inorganic compound, the etching depth, and the thickness of the magnetic film. Here, the magnetic material used is Co. Sputtering conditions are as follows: input DC power density is 1kW / 150m
mφ and discharge gas pressure is 3 mTorr. During sputtering, the substrate was heated to 300 ° C. Here, the sputtering gas is Ar
It was used. A Co film was epitaxially grown from the crystal phase surface of the inorganic compound layer. At the same time, the surface of the substrate was milled so that a film was not deposited on the crystal grain boundary portions, which were convex portions of the inorganic compound layer. As a result, no film is deposited on the crystal grain boundaries of the projections. When the magnetic film exists in the crystal grain boundary portion, the interaction between the magnetic particles is strengthened, and the microscopic distribution of the magnetic characteristics occurs due to the presence of the unevenness. This is because it causes medium noise, thermal fluctuation and thermal demagnetization. Finally, a C film was formed to a thickness of 5 nm as a protective film (4). Sputtering conditions are as follows: input DC power density is 1 kW / 15
0 mmφ and discharge gas pressure is 5 mTorr. Here, Ar is used as the sputtering gas, but it goes without saying that a gas containing nitrogen may be used. This is because the particles become finer, and the resulting film becomes denser, and the protective performance can be improved. As for the film quality of this film, in addition to such a sputtering method, since the properties of the obtained film greatly depend on the apparatus, these conditions and methods are not absolute.

【0017】次に、この磁性膜の構造を調べた。 X線
回折法によると、この膜は、Coの(102)が強く配向して
いた。媒体表面の観察から、平均粒子径が8nmであっ
た。この粒子の粒子径分布を求めたところ、σで3以下
であった。このように、粒子は微細化しており、かつ、
分布が小さいことがわかった。結晶粒界の幅は、0.5nm
以下であった。また、断面観察から、無機化合物層と磁
性膜は、エピタキシャル成長していることがわかった。
その組織も良好な柱状構造であり、基板表面から媒体表
面まで結晶粒子サイズが変化していなことがわかった。
また、無機化合物層を存在しているために、ガラス基板
からアルカリイオンが磁気記録媒体中へ拡散してこない
ので、磁気特性の劣化や信頼性の低下をきたさない。こ
の磁性膜の磁気特性を測定した。得られた磁気特性は、
保磁力が3.5 kOe、Isvが2.5×10-16 emu、M-Hループに
おけるヒステリシスの角型性の指標であるSが0.81、S
が0.85であり、良好な磁気特性を有していた。また、こ
の磁気記録媒体をTEMにより観察したところ、結晶粒子
サイズは、無機化合物層と同じで、8nmの正六角形の結
晶粒子の集合体であること、その分布もσで3以下と著
しく小さいことを反映しているのと推定される。
Next, the structure of the magnetic film was examined. According to the X-ray diffraction method, (102) of Co was strongly oriented in this film. From the observation of the medium surface, the average particle size was 8 nm. When the particle size distribution of the particles was determined, the value of σ was 3 or less. Thus, the particles are finer, and
The distribution was found to be small. The grain boundary width is 0.5nm
It was below. From the cross-sectional observation, it was found that the inorganic compound layer and the magnetic film were epitaxially grown.
The structure also had a good columnar structure, and it was found that the crystal grain size did not change from the substrate surface to the medium surface.
In addition, since the inorganic compound layer is present, alkali ions do not diffuse from the glass substrate into the magnetic recording medium, so that magnetic characteristics and reliability are not deteriorated. The magnetic properties of this magnetic film were measured. The obtained magnetic properties are
The coercive force is 3.5 kOe, Isv is 2.5 × 10 -16 emu, S is 0.81 which is an index of the squareness of the hysteresis in the MH loop, and S
Was 0.85, indicating good magnetic properties. When the magnetic recording medium was observed by TEM, the crystal grain size was the same as that of the inorganic compound layer, it was an aggregate of 8 nm regular hexagonal crystal grains, and the distribution was extremely small with σ of 3 or less. It is presumed to reflect this.

【0018】次に、このような磁気特性を有する磁性膜
を用いた磁気ディスクの媒体表面に潤滑剤を塗布してデ
ィスクの記録再生特性を評価した。記録には、2.1Tの高
飽和磁束密度を有する軟磁性膜を用いた磁気ヘッドを記
録ヘッドの用いた。また、巨大磁気抵抗効果を有するヘ
ッドにより再生した。ヘッド面と磁性膜との距離は20nm
である。このディスクに20 GB/inch2に相当する信号を
記録してディスクのS/Nを評価したところ、32dBの再生
出力が得られた。ここで、磁気力顕微鏡(MFM)により磁
化反転単位を測定したところ、粒子2から3個分程度であ
り、十分小さいことがわかった。これと合わせて、磁化
遷移領域に存在するジグザグパターンも従来の媒体より
著しく小さかった。また、熱揺らぎや熱による減磁も発
生しなかった。これは、磁性膜の結晶粒子サイズの分布
が小さいこと、これと合わせて、結晶粒子間に粒界相を
設けたことにより磁気的な相互作用が低減したことに起
因している。また、このディスクの欠陥レートを測定し
たところ、信号処理を行わない場合の値で、1×10-5
下であった。また、本例の無機化合物層によるテクスチ
ャを形成することにより安定した浮上特性が得られた。
Next, a lubricant was applied to the medium surface of a magnetic disk using a magnetic film having such magnetic characteristics, and the recording / reproducing characteristics of the disk were evaluated. For recording, a magnetic head using a soft magnetic film having a high saturation magnetic flux density of 2.1 T was used as the recording head. Reproduction was performed by a head having a giant magnetoresistance effect. The distance between the head surface and the magnetic film is 20nm
It is. When a signal corresponding to 20 GB / inch 2 was recorded on this disc and the S / N of the disc was evaluated, a reproduction output of 32 dB was obtained. Here, when the magnetization reversal unit was measured by a magnetic force microscope (MFM), it was found that the size was about 3 particles from 2 and sufficiently small. At the same time, the zigzag pattern existing in the magnetization transition region was significantly smaller than that of the conventional medium. In addition, thermal fluctuation and demagnetization due to heat did not occur. This is attributable to the fact that the crystal grain size distribution of the magnetic film is small and, in addition, the magnetic interaction is reduced by providing a grain boundary phase between crystal grains. When the defect rate of this disk was measured, the value was 1 × 10 −5 or less when no signal processing was performed. Further, by forming a texture with the inorganic compound layer of this example, stable flying characteristics were obtained.

【0019】ここでは、溶質物質に酸化クロムを用いた
例を述べたが、この効果は酸化鉄あるいは酸化ニッケル
を用いても同様の効果が得られた。さらに、溶質の酸化
物として酸化シリコンを用いたが、これ以外に、酸化ア
ルミニウム、酸化チタン、酸化タンタルあるいは酸化亜
鉛を用いても同様の効果が得られた。さらに、還元処理
後の磁性膜中にCo,NiあるいはFeなどの主元素に加え
て、Cr,Pt,Ta,Nbの内より選ばれる少なくとも2種類の
元素を含む合金とすることにより、磁気特性を調整でき
る。その場合、その結晶粒界近傍あるいは粒界にCr,Ta,
Nbの内より選ばれる少なくとも1種類の元素を偏析させ
てもよい。これにより、磁気ヘッドと磁気記録媒体の整
合性が取りやすくなる効果がある。
Here, an example in which chromium oxide is used as the solute substance has been described, but the same effect was obtained by using iron oxide or nickel oxide. Further, although silicon oxide was used as the solute oxide, similar effects were obtained by using aluminum oxide, titanium oxide, tantalum oxide, or zinc oxide. Furthermore, by forming an alloy containing at least two elements selected from Cr, Pt, Ta, and Nb in addition to the main elements such as Co, Ni, and Fe in the magnetic film after the reduction treatment, the magnetic properties are improved. Can be adjusted. In that case, Cr, Ta,
At least one element selected from Nb may be segregated. As a result, there is an effect that matching between the magnetic head and the magnetic recording medium can be easily achieved.

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明によれば、磁性粒子サイズの微細
化ならびにサイズ分布を小さくでき、しかも磁性粒子間
の磁気的な相互作用を低減できるので、20GB/inch2を超
える超高密度磁気記録を実現することができる。さら
に、磁気ディスク基板の表面に、間隔および深さを精密
に制御したテクスチャを形成することができ、基板と媒
体の密着力の向上やヘッド−ディスクのインターフェイ
スにおける接触の改善などの高信頼性を有する磁気ディ
スクを得ることができる。これと合わせて、安定した浮
上特性が得られた。また、テクスチャと磁性膜とを同時
に形成できること、さらに、積層数の低減が図れるので
製造プロセスの簡素化が図れ、ディスク価格の低減が図
れる。
According to the present invention, ultra-high density magnetic recording exceeding 20 GB / inch 2 can be achieved because the size of magnetic particles can be reduced and the size distribution can be reduced, and the magnetic interaction between magnetic particles can be reduced. Can be realized. In addition, a texture with a precisely controlled spacing and depth can be formed on the surface of the magnetic disk substrate, and high reliability such as improved adhesion between the substrate and the medium and improved contact at the head-disk interface can be achieved. A magnetic disk having the same can be obtained. In addition, stable flying characteristics were obtained. Further, since the texture and the magnetic film can be formed at the same time, and the number of laminations can be reduced, the manufacturing process can be simplified, and the disk cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】磁気ディスクの断面構造を示す模式図。FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magnetic disk.

【図2】無機化合物層の構造を示す模式図。FIG. 2 is a schematic view illustrating a structure of an inorganic compound layer.

【図3】磁気ディスクの断面構造を示す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magnetic disk.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・ 基板、2・・・ 無機化合物膜、3・・・ 磁性膜、4・・
・ 保護膜。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Inorganic compound film, 3 ... Magnetic film, 4 ...
· Protective film.

フロントページの続き (72)発明者 山本 浩貴 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 内藤 孝 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 寺尾 元康 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 高橋 研 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 保坂 純男 埼玉県比企郡鳩山町赤沼2520番地 株式会 社日立製作所基礎研究所内 (72)発明者 小山 栄二 大阪府茨木市丑寅一丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 蔵本 浩樹 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 Fターム(参考) 5D006 BB01 BB07 CA01 CA05 DA03 EA03 FA09 5D112 AA03 AA05 AA24 BB01 BB02 BB05 BB06 BD03 BD04 FA04 GA02 GA20 Continued on the front page (72) Inventor Hiroki Yamamoto 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Takashi Naito 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Motoyasu Terao, Inventor: 1-280, Higashi-Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Within Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor: Ken Takahashi Hitachi, Ltd.Hitachi Research Laboratories (72) Inventor Sumio Hosaka 2520 Akanuma, Hatoyama-cho, Hiki-gun, Saitama Prefecture Hitachi, Ltd.Basic Research Laboratories Co., Ltd. Hitachi Maxell Co., Ltd. (72) Inventor Hiroki Kuramoto 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture F-term in Hitachi, Ltd. Production Technology Research Laboratories F-term (reference) BB02 BB05 BB06 BD03 BD04 FA04 GA02 GA20

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ディスク基板上に、酸化クロム、酸化鉄あ
るいは酸化ニッケルの内より選ばれる1種類の酸化物か
らなる結晶粒子と該結晶粒子の結晶粒界に析出した酸化
シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタ
ルあるいは酸化亜鉛の内より選ばれる少なくとも1種類
の酸化物とを有する無機化合物膜を形成し、該無機化合
物の表面をエッチングすることにより前記酸化物の結晶
粒子の少なくとも一部を除去し、該酸化物の結晶粒子を
除去した部分に磁性粒子から構成される磁性膜を形成す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A disk substrate, comprising: a crystal particle made of one kind of oxide selected from chromium oxide, iron oxide, and nickel oxide; and silicon oxide, aluminum oxide, and oxide oxide precipitated at a crystal grain boundary of the crystal particle. Forming an inorganic compound film having at least one oxide selected from titanium, tantalum oxide or zinc oxide, and removing at least a part of crystal particles of the oxide by etching the surface of the inorganic compound; And forming a magnetic film composed of magnetic particles in the portion from which the crystal grains of the oxide have been removed.
【請求項2】前記磁性膜は、前記酸化物の結晶粒子を除
去した部分に対して前記酸化物の結晶粒子の結晶粒界の
部分が相対的に凸となるように形成したことを特徴とす
る請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
2. The magnetic film according to claim 1, wherein a portion of a crystal grain boundary of the oxide crystal particle is relatively convex with respect to a portion from which the oxide crystal particle is removed. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1.
【請求項3】前記無機化合物膜中の酸化物の結晶粒子か
ら磁性膜を構成する磁性粒子をエピタキシャル成長させ
たことを特徴とする請求項1又は2記載の磁気記録媒体
の製造方法。
3. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein magnetic particles constituting the magnetic film are epitaxially grown from crystal grains of the oxide in the inorganic compound film.
【請求項4】前記磁性膜がCo,NiあるいはFeの内より選
ばれる少なくとも1種類の元素を含むことを特徴とする
請求項1乃至3記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the magnetic film contains at least one element selected from Co, Ni and Fe.
【請求項5】前記磁性膜がCo,NiあるいはFeの内より選
ばれる少なくとも1種類の元素を主体とし、Cr,Pt,Ta,N
bの内より選ばれる少なくとも2種類の元素を含む合金
を用いたことを特徴とする請求項4記載の磁気記録媒体
の製造方法。
5. The magnetic film mainly comprises at least one element selected from Co, Ni or Fe, and Cr, Pt, Ta, N
5. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 4, wherein an alloy containing at least two kinds of elements selected from b is used.
【請求項6】前記磁性膜は、Co,NiあるいはFeの内より
選ばれる少なくとも1種類の元素からなる磁性粒子と、
該磁性粒子の粒界に偏析したCr,Ta,Nbの内より選ばれる
少なくとも1種類の元素とを含むことを特徴とする請求
項5記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. The magnetic film comprises: magnetic particles comprising at least one element selected from Co, Ni or Fe;
6. The method according to claim 5, further comprising at least one element selected from the group consisting of Cr, Ta, and Nb segregated at the grain boundaries of the magnetic particles.
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