JP2000212514A - Composition for forming spray membrane and transparent electroconductive membrane having spray membrane formed by using the same - Google Patents

Composition for forming spray membrane and transparent electroconductive membrane having spray membrane formed by using the same

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JP2000212514A
JP2000212514A JP2000004790A JP2000004790A JP2000212514A JP 2000212514 A JP2000212514 A JP 2000212514A JP 2000004790 A JP2000004790 A JP 2000004790A JP 2000004790 A JP2000004790 A JP 2000004790A JP 2000212514 A JP2000212514 A JP 2000212514A
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film
spray
transparent conductive
membrane
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Jong-Hwan Park
鐘 煥 朴
Heika Tei
炳 華 鄭
Junki Kin
潤 姫 金
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Samsung SDI Co Ltd
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    • H01J29/88Vessels; Containers; Vacuum locks provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • HELECTRICITY
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    • H01J2229/863Passive shielding means associated with the vessel
    • H01J2229/8635Antistatic shielding

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition excellent in durability and stain resistance by including a specific silicon alkoxide oligomer. SOLUTION: This composition for forming a spray membrane contains one or more kinds of compounds selected from the group consisting of a metal alkoxide having a 1-4C alkoxy (the metal is Si, Ti, Sn or Zr) and a silicon alkoxide oligomer represented by the formula (SiO)n(OR1)4-2n (n is 0-1; R1 is a 1-4C alkyl group), a fluoroalkylsilane, an acid catalyst and a solvent in (4:1) to (6:1) weight ratio of the compound to the fluoroalkylsilane. The spray membrane from the above composition can be formed in the outermost corner layer to realize the water repellency and thereby prevent a reduction in membrane strength of a transparent electroconductive membrane and an increase in membrane staining thereof caused by water permeation in use or storage under high-temperature and high-humidity conditions.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管をはじめ
とする画像表示装置用透明導電膜の製造時に用いられる
スプレー膜形成用組成物に係り、より詳細には、耐久性
及び耐汚染性に優れたスプレー膜形成用組成物、及び前
記組成物を用いて形成されたスプレー膜を具備している
透明導電膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for forming a spray film used in the production of a transparent conductive film for an image display device such as a cathode ray tube, and more particularly to a composition having improved durability and contamination resistance. The present invention relates to an excellent composition for forming a spray film, and to a transparent conductive film having a spray film formed using the composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明導電膜とは、光透過率の高い絶縁物
質の表面に形成された薄い伝導性薄膜であり、電化機器
の静電気防止膜、電磁波遮蔽膜、及び平板液晶表示装
置、または電界発光素子の電源印加用透明電極等に広く
使われる。
2. Description of the Related Art A transparent conductive film is a thin conductive thin film formed on the surface of an insulating material having a high light transmittance. The transparent conductive film is an antistatic film of an electric appliance, an electromagnetic wave shielding film, a flat panel liquid crystal display device, or an electric field. It is widely used for transparent electrodes for applying power to light emitting elements.

【0003】また、陰極線管のパネル外表面に装着され
ている帯電防止、及び光反射防止機能を提供する場合が
あり、本発明は特にこの分野に関する。
In some cases, the present invention provides an antistatic and antireflection function mounted on the outer surface of a panel of a cathode ray tube. The present invention particularly relates to this field.

【0004】陰極線管のガラスパネル外表面に透明導電
膜を形成する一方法として、湿式コーティング法を挙げ
られる。この方法は、金属酸化物、金属アルコキシド、
またはシリコンアルコキシド、及び溶媒よりなる混合分
散液を、陰極線管の表面にスプレーした後、熱硬化させ
る方法である。
As one method of forming a transparent conductive film on the outer surface of a glass panel of a cathode ray tube, there is a wet coating method. This method comprises: a metal oxide, a metal alkoxide,
Alternatively, it is a method of spraying a mixed dispersion comprising a silicon alkoxide and a solvent on the surface of a cathode ray tube and then thermally curing the mixture.

【0005】これより改善された方法として、純度の高
い高屈折率導電性物質、及び溶媒を含む導電膜形成用組
成物を、ガラスパネル上に塗布、及び乾燥した後、冷却
して導電膜を形成する。その導電膜上に、シリコンアル
コキシド、または金属アルコキシド、加水分解触媒、及
び溶媒を含む組成物を塗布した後、乾燥、及び冷却して
保護膜を形成する。その後、前記保護膜上に、シリカを
スプレーして外部から入射する光を散乱させて、反射が
防止できる凹凸状のスプレー膜を形成する方法がある。
As an improved method, a composition for forming a conductive film containing a high-refractive-index conductive material having a high purity and a solvent is coated on a glass panel, dried, and then cooled to form a conductive film. Form. A composition containing a silicon alkoxide or a metal alkoxide, a hydrolysis catalyst, and a solvent is applied over the conductive film, and then dried and cooled to form a protective film. Then, there is a method in which silica is sprayed on the protective film to scatter light incident from the outside to form an uneven spray film that can prevent reflection.

【0006】ところが、透明導電膜が外部から水分を吸
収すると、膜表面に染みが生じる場合がある。このよう
な膜表面部の染みは、長期間の運搬及び保管中はもちろ
ん、製造時及び使用中にも頻繁に発生し、除去が困難で
あり製品の品質を低下させる原因になる。それに加え
て、吸収された水分により膜強度が急激に低下して、膜
の剥離及び脱落などが発生する問題点がある。
However, when the transparent conductive film absorbs moisture from the outside, the surface of the film may be stained. Such stains on the surface of the film frequently occur not only during long-term transport and storage, but also during manufacture and use, and are difficult to remove, resulting in deterioration of product quality. In addition, there is a problem that the film strength is rapidly lowered due to the absorbed water, and the film is peeled off or dropped off.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたものであり、従って本発明の目的は、耐久
性及び耐汚染性を有するスプレー膜形成用組成物を提供
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is therefore an object of the present invention to provide a composition for forming a spray film having durability and stain resistance. .

【0008】本発明の他の目的は、前記組成物を用いて
形成されたスプレー膜を具備することによって、劣悪な
外部環境、特に高温多湿な環境下で長時間保管または使
用しても特性が劣化しないだけでなく、外部の汚染源に
よってもほとんど汚染されない透明導電膜を提供するこ
とである。
Another object of the present invention is to provide a spray film formed by using the above-mentioned composition, so that its characteristics can be maintained even when stored or used for a long time in a poor external environment, particularly in a high-temperature and high-humidity environment. An object of the present invention is to provide a transparent conductive film which is not deteriorated and hardly contaminated by an external contamination source.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、炭素数
1〜4のアルコキシを有する金属アルコキシド(ただ
し、前記金属はSi、Ti、SnまたはZrである)、
及び化学式1:
An object of the present invention is to provide a metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, wherein the metal is Si, Ti, Sn or Zr.
And chemical formula 1:

【0010】[0010]

【化4】 Embedded image

【0011】(前記式中、nは0〜1の実数で、R1
炭素数1〜4のアルキル基である。)で表されるシリコ
ンアルコキシドオリゴマーよりなる群より選択された1
種以上の化合物、フルオロアルキルシラン、酸触媒、及
び溶媒を含み、前記化合物とフルオロアルキルシランの
重量比が、4:1〜6:1であることを特徴とするスプ
レー膜形成用組成物によって達成される。
(Wherein n is a real number from 0 to 1 and R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) selected from the group consisting of silicon alkoxide oligomers represented by the formula:
At least one compound, a fluoroalkylsilane, an acid catalyst, and a solvent, wherein the weight ratio of the compound to the fluoroalkylsilane is from 4: 1 to 6: 1. Is done.

【0012】さらに本発明は、前記溶媒は、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、N-メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、及び水からなる群
より選択された1種以上を含む混合溶媒であることを特
徴とする前記スプレー膜形成用組成物である。
Further, the present invention is characterized in that the solvent is a mixed solvent containing at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropyl alcohol, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, and water. The composition for forming a spray film.

【0013】さらに本発明の他の目的は、ガラスパネル
上に、導電膜、及びスプレー膜が順次に形成されている
透明導電膜であって、前記スプレー膜は、炭素数1〜4
のアルコキシを有する金属アルコキシド(ただし、前記
金属はSi、Ti、SnまたはZrである)、及び化学
式1:
Still another object of the present invention is a transparent conductive film in which a conductive film and a spray film are sequentially formed on a glass panel, wherein the spray film has 1 to 4 carbon atoms.
(Wherein the metal is Si, Ti, Sn or Zr), and a chemical formula 1:

【0014】[0014]

【化5】 Embedded image

【0015】(式中、nは0〜1の実数で、R1は炭素
数1〜4のアルキル基である。)で表されるシリコンア
ルコキシドオリゴマーからなる群より選択された1種以
上の化合物の加水分解物、及びフルオロアルキルシラン
の加水分解物を4:1〜6:1の重量比で含むことを特
徴とする透明導電膜によって達成される。
(Wherein n is a real number of 0 to 1 and R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) at least one compound selected from the group consisting of silicon alkoxide oligomers And a hydrolyzate of fluoroalkylsilane in a weight ratio of 4: 1 to 6: 1.

【0016】さらに本発明は、前記導電膜は、酸化イン
ジウムスズ、酸化インジウムチタン、酸化スズ、酸化チ
タン、酸化アンチモンスズ、及び酸化アンチモン亜鉛よ
りなる群から選択された少なくとも一つの伝導性物質を
含むことを特徴とする前記透明導電膜である。
Further, according to the present invention, the conductive film contains at least one conductive substance selected from the group consisting of indium tin oxide, indium titanium oxide, tin oxide, titanium oxide, antimony tin oxide, and antimony zinc oxide. The transparent conductive film described above.

【0017】さらに本発明は、前記導電膜とスプレー膜
との間に、炭素数1〜4のアルコキシを有する金属アル
コキシド(ただし、前記金属はSi、Ti、Snまたは
Zrである)、及び化学式1:
Further, the present invention provides a metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms (wherein the metal is Si, Ti, Sn or Zr) between the conductive film and the spray film. :

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】(式中、nは0〜1実数で、R1は炭素数
1〜4のアルキル基である。)で表されるシリコンアル
コキシドからなる群より選択された1種以上の化合物の
オリゴマーよりなる保護膜を、さらに含むことを特徴と
する前記透明導電膜である。
(Wherein n is a real number from 0 to 1 and R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) An oligomer of at least one compound selected from the group consisting of silicon alkoxides The transparent conductive film according to claim 1, further comprising a protective film comprising:

【0020】さらに本発明は、前記スプレー膜の形成面
積が、前記ガラスパネルの総面積を基準として30〜7
0%であることを特徴とする前記透明導電膜である。
Further, according to the present invention, the spray film formation area is preferably 30 to 7 with respect to the total area of the glass panel.
0% of the transparent conductive film.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の望ましい実施形態に対して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0022】本発明のスプレー膜形成用組成物は、炭素
数1〜4のアルコキシを有する金属アルコキシド(ただ
し、前記金属はSi、Ti、SnまたはZrである)、
及び化学式1:
The composition for forming a spray film of the present invention comprises a metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms (wherein the metal is Si, Ti, Sn or Zr);
And chemical formula 1:

【0023】[0023]

【化7】 Embedded image

【0024】(前記式中、nは0〜1の実数で、Rは炭
素数1〜4のアルキル基である。)で表されるシリコン
アルコキシドオリゴマーよりなる群より選択された1種
以上の化合物、フルオロアルキルシラン、酸触媒、及び
溶媒を含む。
(Wherein n is a real number from 0 to 1 and R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) at least one compound selected from the group consisting of silicon alkoxide oligomers , A fluoroalkylsilane, an acid catalyst, and a solvent.

【0025】前記フルオロアルキルシランの例として
は、フルオロメトキシシラン、フルオロエトキシシラ
ン、フルオロイソプロポキシシランなどが挙げられる。
その含量は、前記化合物とフルオロアルキルシランの重
量比で4:1〜6:1であり、この範囲未満の場合、撥
水特性が十分ではなく、一方でこの範囲を超過する場
合、かえって膜強度の減少をもたらす恐れがあり望まし
くない。
Examples of the fluoroalkylsilane include fluoromethoxysilane, fluoroethoxysilane, and fluoroisopropoxysilane.
The content is from 4: 1 to 6: 1 by weight of the compound and the fluoroalkylsilane. When the content is less than this range, the water repellency is not sufficient. On the other hand, when the content exceeds this range, the film strength is rather increased. It is not desirable because it may lead to a decrease in

【0026】また、酸触媒としては本発明の分野で通常
的に使われうる酸触媒ならいずれも使用可能だが、例え
ば硝酸または塩酸が使われる。
As the acid catalyst, any acid catalyst which can be generally used in the field of the present invention can be used. For example, nitric acid or hydrochloric acid is used.

【0027】前記溶媒は、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコールのようなアルコール、N-メチル
2-ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド、及
び水からなる群より選択された1種以上の混合溶媒であ
ることが望ましい。
The solvent may be at least one mixed solvent selected from the group consisting of alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide and water. desirable.

【0028】さらに本発明の透明導電膜は、ガラスパネ
ル上に、導電膜、及びスプレー膜が順次に形成されてい
るものである。前記スプレー膜は、前記金属アルコキシ
ド、及び前記化学式1で表されるシリコンアルコキシド
オリゴマーからなる群より選択された1種以上の化合物
の加水分解物、及びフルオロアルキルシランの加水分解
物を4:1〜6:1の重量比で含み、この範囲未満の場
合、撥水特性が十分ではなく、一方でこの範囲を超過す
る場合、かえって膜強度の減少をもたらす恐れがあり望
ましくない。前記フルオロアルキルシランの例は、前述
したものと同様である。
Further, the transparent conductive film of the present invention is one in which a conductive film and a spray film are sequentially formed on a glass panel. The spray film may include a hydrolyzate of one or more compounds selected from the group consisting of the metal alkoxide and the silicon alkoxide oligomer represented by Formula 1 and a hydrolyzate of fluoroalkylsilane in a ratio of 4: 1. When it is contained in a weight ratio of 6: 1 and is less than this range, the water repellency is not sufficient. On the other hand, when it exceeds this range, the film strength may be reduced, which is not desirable. Examples of the fluoroalkylsilane are the same as those described above.

【0029】本発明の透明導電膜において、前記導電層
は、酸化インジウムスズ、酸化インジウムチタン、酸化
スズ、酸化チタン、酸化アンチモンスズ、酸化アンチモ
ン亜鉛のような伝導性物質を含む。
In the transparent conductive film of the present invention, the conductive layer contains a conductive material such as indium tin oxide, indium titanium oxide, tin oxide, titanium oxide, antimony tin oxide, and antimony zinc oxide.

【0030】また、必要に応じては前記導電膜とスプレ
ー膜との間に、前記金属アルコキシド、及び前記化学式
1のシリコンアルコキシドオリゴマーからなる群より選
択された1種以上の化合物の加水分解物よりなる保護膜
をさらに含むことができる。
If necessary, a hydrolyzate of at least one compound selected from the group consisting of the metal alkoxide and the silicon alkoxide oligomer represented by the chemical formula 1 may be provided between the conductive film and the spray film. May further include a protective film.

【0031】一方、前記スプレー膜は、前記ガラスパネ
ル面積の30〜70%程度に形成されることが望ましい
が、30%未満の場合、耐環境性及び耐汚染性が期待に
及ばず、一方70%範囲を超過する場合、これを採用す
る画像表示装置の解像度を阻害するという問題点があり
望ましくない。
On the other hand, it is desirable that the spray film is formed in about 30 to 70% of the area of the glass panel, but if it is less than 30%, environmental resistance and stain resistance are not as expected. If the ratio exceeds the% range, there is a problem that the resolution of an image display device employing the ratio is hindered, which is not desirable.

【0032】本発明の透明導電膜は、最外角層のスプレ
ー膜に含まれているフルオロアルキルシランの加水分解
物により、透明導電膜に撥水性が提供されることを特徴
とする。図1は通常の透明導電膜の、図2は本発明の透
明導電膜の撥水状態を模式的に表したもので、両者の撥
水性を比較するための図面である。
The transparent conductive film of the present invention is characterized in that the transparent conductive film is provided with water repellency by a hydrolyzate of fluoroalkylsilane contained in the spray film of the outermost corner layer. FIG. 1 schematically shows a water-repellent state of a normal transparent conductive film, and FIG. 2 schematically shows a water-repellent state of the transparent conductive film of the present invention.

【0033】各々の透明導電膜上に水滴を滴下した後、
接触角を測定した結果、通常の透明導電膜の場合には、
約40〜42゜(図1のα)であるのに対し、本発明の
透明導電膜の場合には、約84〜85゜(図2の90゜
−β)であった。このようなテスト結果から、フルオロ
アルキルシランの加水分解物の含まれたスプレー膜が備
わった透明導電膜は、非常に優れた撥水特性を示すこと
が分かる。従って、このような透明導電膜は、高温多湿
な条件で長時間使用または保管されても膜強度が減少せ
ず、かつ外部の汚染源によりほとんど汚染されない。
After dropping water drops on each transparent conductive film,
As a result of measuring the contact angle, in the case of a normal transparent conductive film,
The angle is about 40 to 42 ° (α in FIG. 1), whereas in the case of the transparent conductive film of the present invention, it is about 84 to 85 ° (90 ° −β in FIG. 2). From these test results, it can be seen that the transparent conductive film provided with the spray film containing the hydrolyzate of fluoroalkylsilane exhibits extremely excellent water repellency. Therefore, even if such a transparent conductive film is used or stored for a long time under conditions of high temperature and high humidity, the film strength does not decrease and is hardly contaminated by an external contamination source.

【0034】本発明の一実施例に係る透明導電膜の製造
方法を概略的に説明する。まず、酸化インジウムスズ、
酸化インジウムチタン、酸化スズ、酸化チタン、酸化ア
ンチモンスズ、酸化アンチモン亜鉛のように高屈折率を
有する金属酸化物を、アルコール、N-メチル2-ピロリ
ドン、ジメチルホルムアミドまたは水などを含む混合有
機溶媒に分散させる。この分散液をガラスパネル上にス
ピンコーティングし、硬化させて高屈折率の導電膜を形
成する。
A method for manufacturing a transparent conductive film according to one embodiment of the present invention will be schematically described. First, indium tin oxide,
A metal oxide having a high refractive index, such as indium titanium oxide, tin oxide, titanium oxide, antimony tin oxide, and antimony zinc oxide, is mixed with a mixed organic solvent containing alcohol, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, or water. Disperse. This dispersion is spin-coated on a glass panel and cured to form a conductive film having a high refractive index.

【0035】次いで、低屈折率のシリコン酸化物を混合
有機溶媒に溶解し、ここに塩酸または硝酸のような酸触
媒を加えて約50℃で1時間程反応させる。次にこの組
成物を、前記導電膜上にスピンコーティングし、硬化さ
せて保護膜を形成する。
Next, a silicon oxide having a low refractive index is dissolved in a mixed organic solvent, and an acid catalyst such as hydrochloric acid or nitric acid is added thereto and reacted at about 50 ° C. for about 1 hour. Next, this composition is spin-coated on the conductive film and cured to form a protective film.

【0036】次いで、シリコンアルコキシドとフルオロ
アルキルシランを有機混合溶媒に溶解し、ここに酸触媒
を加えて約50℃で約24時間反応させる。得られた組
成物を前記保護膜上にスプレーした後、乾燥させてスプ
レー膜を形成する。この時、形成されたスプレー膜の面
積は、ガラスパネル面積の30〜70%範囲であること
が望ましい。このように形成された透明導電膜は優れた
耐久性及び耐汚染性を示す。
Next, the silicon alkoxide and the fluoroalkylsilane are dissolved in an organic solvent mixture, an acid catalyst is added thereto, and the mixture is reacted at about 50 ° C. for about 24 hours. After spraying the obtained composition on the protective film, it is dried to form a spray film. At this time, the area of the formed spray film is preferably in the range of 30 to 70% of the area of the glass panel. The transparent conductive film thus formed has excellent durability and stain resistance.

【0037】以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明する。しかし、本発明がこれに限られ
ることではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to this.

【0038】[0038]

【実施例】<実施例1>2gの酸化インジウムスズを1
00mlのメタノールに分散して製造した分散液を、1
50rpmの速度で陰極線管のガラスパネル上にスピン
コーティングした後、乾燥させて導電膜を形成した。
<Example 1> 2 g of indium tin oxide was added to 1
Dispersion prepared by dispersing in
After spin coating on a glass panel of a cathode ray tube at a speed of 50 rpm, it was dried to form a conductive film.

【0039】次いで、0.8gのテトラエチルオルトシ
リケートを100mlのエタノールに溶解した後、ここ
に塩酸0.3mlを添加して反応させた。得られた組成
物を前記導電層上に150rpmの速度でスピンコーテ
ィングして乾燥させて保護膜を形成した。
Next, after dissolving 0.8 g of tetraethyl orthosilicate in 100 ml of ethanol, 0.3 ml of hydrochloric acid was added thereto and reacted. The obtained composition was spin-coated on the conductive layer at a speed of 150 rpm and dried to form a protective film.

【0040】最後に、1.2gのテトラエチルオルトシ
リケートと0.25gのヘプタデカフルオロデシルトリ
メトキシシランの混合物を100mlのエタノールに溶
解した後、ここに硝酸0.25mlを添加して反応させ
た。得られた組成物をスプレーガンを用いて前記保護膜
上にスプレーコーティングした後乾燥させてスプレー膜
を形成した後、結果物を200℃で2時間焼成して透明
導電膜を収得した。
Finally, a mixture of 1.2 g of tetraethylorthosilicate and 0.25 g of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane was dissolved in 100 ml of ethanol, and 0.25 ml of nitric acid was added thereto for reaction. The obtained composition was spray-coated on the protective layer using a spray gun and dried to form a spray layer, and the resultant was fired at 200 ° C. for 2 hours to obtain a transparent conductive film.

【0041】収得された透明導電膜を苛酷条件(温度:
45℃、相対湿度: 95RH)下で24時間放置し
た後、表面抵抗及び膜強度を測定し、染みの発生有無を
肉眼で観察した。その結果を下記の表1に示した。
The obtained transparent conductive film was subjected to severe conditions (temperature:
After standing at 45 ° C. and a relative humidity of 95 RH for 24 hours, the surface resistance and the film strength were measured, and the occurrence of stains was visually observed. The results are shown in Table 1 below.

【0042】<実施例2>ヘプタデカフルオロデシルト
リメトキシシランの代わりに、同量のヘプタデカフルオ
ロデシルトリイソプロポキシシランを用いてスプレー膜
を形成することを除いては、実施例1と同じ方法で透明
導電膜を形成した。その透明導電膜に対して実施例1と
同じ方法で表面抵抗及び膜硬度を測定し染みの発生有無
を観察してその結果を表1に示した。
Example 2 The same method as in Example 1 except that the same amount of heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane was used instead of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane to form a spray film. Thus, a transparent conductive film was formed. The surface resistance and the film hardness of the transparent conductive film were measured in the same manner as in Example 1, and the presence or absence of stains was observed. The results are shown in Table 1.

【0043】<比較例1>1.5gのテトラエチルオル
トシリケート40mlのメタノール、40mlのイソプ
ロピルアルコール及び20mlのノルマルブチルアルコ
ールの混合溶媒に溶解した後、ここに硝酸0.25ml
を添加し反応させて得た組成物を用いてスプレー膜を形
成することを除いては、実施例1と同じ方法で透明導電
膜を形成した。その透明導電膜に対して実施例1と同じ
方法で表面抵抗及び膜硬度を測定し染みの発生有無を観
察してその結果を表1に示した。
Comparative Example 1 1.5 g of tetraethylorthosilicate was dissolved in a mixed solvent of 40 ml of methanol, 40 ml of isopropyl alcohol and 20 ml of normal butyl alcohol, and 0.25 ml of nitric acid was added thereto.
A transparent conductive film was formed in the same manner as in Example 1, except that a spray film was formed using the composition obtained by adding and reacting the compound. The surface resistance and the film hardness of the transparent conductive film were measured in the same manner as in Example 1, and the presence or absence of stains was observed. The results are shown in Table 1.

【0044】[0044]

【表1】 [Table 1]

【0045】表1の結果から、本発明の透明導電膜は、
苛酷条件下で長期間保管しても膜強度が依然として維持
できることが分かる。また、表面上に染みが発生しない
ことから、耐汚染性に優れ、かつ表面抵抗も従来の透明
導電膜と同じ水準を維持していることが分かる。
From the results shown in Table 1, the transparent conductive film of the present invention was
It can be seen that the film strength can still be maintained even when stored for a long time under severe conditions. Further, since no stain is generated on the surface, it can be seen that the stain resistance is excellent and the surface resistance is maintained at the same level as the conventional transparent conductive film.

【0046】[0046]

【発明の効果】従って、本発明に係る透明導電膜は、最
外角層に撥水性を有するスプレー膜を具備しているた
め、透明導電膜が高温多湿な条件で使用または保管した
場合でも、水分浸透により発生する膜強度の減少、及び
膜汚染の増加等の問題を防止することができる。
As described above, the transparent conductive film according to the present invention has a water-repellent spray film in the outermost corner layer. Problems such as a decrease in membrane strength caused by permeation and an increase in membrane contamination can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の透明導電膜の表面に滴下されている水滴
の形態を示す電子顕微鏡写真の模式図である。
FIG. 1 is a schematic view of an electron micrograph showing the form of a water drop dropped on the surface of a conventional transparent conductive film.

【図2】本発明に係る透明導電膜の表面に滴下されてい
る水滴の形態を示す電子顕微鏡写真の模式図である。
FIG. 2 is a schematic view of an electron micrograph showing a form of a water drop dropped on a surface of a transparent conductive film according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 9/20 H01J 9/20 A 29/88 29/88 (72)発明者 金 潤 姫 大韓民国ソウル特別市江北区弥阿3洞245 −31番地──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) H01J 9/20 H01J 9/20 A 29/88 29/88 (72) Inventor Kim Jun-hime Seoul Special City of Korea 245 -31 245 Yaa-dong, Gangbuk-gu

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 炭素数1〜4のアルコキシを有する金属
アルコキシド(ただし、前記金属はSi、Ti、Snま
たはZrである)、及び化学式1: 【化1】 (前記式中、nは0〜1の実数で、R1は炭素数1〜4
のアルキル基である。)で表されるシリコンアルコキシ
ドオリゴマーよりなる群より選択された1種以上の化合
物、フルオロアルキルシラン、酸触媒、及び溶媒を含
み、前記化合物とフルオロアルキルシランの重量比が、
4:1〜6:1であることを特徴とするスプレー膜形成
用組成物。
1. A metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms (wherein the metal is Si, Ti, Sn or Zr), and a chemical formula 1: (In the above formula, n is a real number of 0 to 1 , and R 1 has 1 to 4 carbon atoms.
Is an alkyl group. ) Comprising at least one compound selected from the group consisting of silicon alkoxide oligomers, a fluoroalkylsilane, an acid catalyst, and a solvent, wherein the weight ratio of the compound to the fluoroalkylsilane is
A composition for forming a spray film, wherein the composition is from 4: 1 to 6: 1.
【請求項2】 前記溶媒は、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、N-メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、及び水からなる群より選択された1
種以上を含む混合溶媒であることを特徴とする請求項1
に記載のスプレー膜形成用組成物。
2. The method according to claim 1, wherein the solvent is methanol, ethanol,
1 selected from the group consisting of isopropyl alcohol, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, and water
2. A mixed solvent containing at least one species.
The composition for forming a spray film according to item 1.
【請求項3】 ガラスパネル上に、導電膜、及びスプレ
ー膜が順次に形成されている透明導電膜であって、 前記スプレー膜は、炭素数1〜4のアルコキシを有する
金属アルコキシド(ただし、前記金属はSi、Ti、S
nまたはZrである)、及び化学式1: 【化2】 (式中、nは0〜1の実数で、R1は炭素数1〜4のア
ルキル基である。)で表されるシリコンアルコキシドオ
リゴマーからなる群より選択された1種以上の化合物の
加水分解物、及びフルオロアルキルシランの加水分解物
を4:1〜6:1の重量比で含むことを特徴とする透明
導電膜。
3. A transparent conductive film in which a conductive film and a spray film are sequentially formed on a glass panel, wherein the spray film is a metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms (wherein Metals are Si, Ti, S
n or Zr), and Formula 1: Wherein n is a real number of 0 to 1 and R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Hydrolysis of one or more compounds selected from the group consisting of silicon alkoxide oligomers And a hydrolyzate of a fluoroalkylsilane in a weight ratio of 4: 1 to 6: 1.
【請求項4】 前記導電膜は、酸化インジウムスズ、酸
化インジウムチタン、酸化スズ、酸化チタン、酸化アン
チモンスズ、及び酸化アンチモン亜鉛よりなる群から選
択された少なくとも一つの伝導性物質を含むことを特徴
とする請求項3に記載の透明導電膜。
4. The conductive film includes at least one conductive material selected from the group consisting of indium tin oxide, indium titanium oxide, tin oxide, titanium oxide, antimony tin oxide, and antimony zinc oxide. The transparent conductive film according to claim 3.
【請求項5】 前記導電膜とスプレー膜との間に、炭素
数1〜4のアルコキシを有する金属アルコキシド(ただ
し、前記金属はSi、Ti、SnまたはZrである)、
及び化学式1: 【化3】 (式中、nは0〜1の実数で、R1は炭素数1〜4のア
ルキル基である。)で表されるシリコンアルコキシドか
らなる群より選択された1種以上の化合物のオリゴマー
よりなる保護膜を、さらに含むことを特徴とする請求項
3または4に記載の透明導電膜。
5. A metal alkoxide having an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms (where the metal is Si, Ti, Sn or Zr) between the conductive film and the spray film;
And chemical formula 1: (Wherein, n is a real number of 0 to 1 and R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) An oligomer of one or more compounds selected from the group consisting of silicon alkoxides represented by The transparent conductive film according to claim 3, further comprising a protective film.
【請求項6】 前記スプレー膜の形成面積が、前記ガラ
スパネルの総面積を基準として30〜70%であること
を特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載の透明
導電膜。
6. The transparent conductive film according to claim 3, wherein a formation area of the spray film is 30 to 70% based on a total area of the glass panel.
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