JP2000202776A - 大型真空容器の表面処理装置 - Google Patents
大型真空容器の表面処理装置Info
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- JP2000202776A JP2000202776A JP11006104A JP610499A JP2000202776A JP 2000202776 A JP2000202776 A JP 2000202776A JP 11006104 A JP11006104 A JP 11006104A JP 610499 A JP610499 A JP 610499A JP 2000202776 A JP2000202776 A JP 2000202776A
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- Japan
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- vacuum container
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】宇宙空間を移動する飛翔体の試験等を行う大型
の真空容器は、大型であるために据え付け現場での組み
立てが必要とされ、ガス放出速度の低減に効果のある表
面処理を施すことが難しかった。 【解決手段】回転伝達リングの反対側に回転枠に固定さ
れた取り付け枠と、この取り付け枠に固定された直線ガ
イドに沿って回転伝達リングの回転軸に対して垂直方向
に移動する移動架台と、この移動架台に固定された表面
処理作業の装置からなる表面処理装置を用いて、真空排
気に際して真空容器から放出されるガスを低減できるの
で、排気時間の短縮及び動力の低減を行うことができ
る。
の真空容器は、大型であるために据え付け現場での組み
立てが必要とされ、ガス放出速度の低減に効果のある表
面処理を施すことが難しかった。 【解決手段】回転伝達リングの反対側に回転枠に固定さ
れた取り付け枠と、この取り付け枠に固定された直線ガ
イドに沿って回転伝達リングの回転軸に対して垂直方向
に移動する移動架台と、この移動架台に固定された表面
処理作業の装置からなる表面処理装置を用いて、真空排
気に際して真空容器から放出されるガスを低減できるの
で、排気時間の短縮及び動力の低減を行うことができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、宇宙空間を移動す
る飛翔体の試験等を行う大型の真空容器の、真空側の表
面の処理を行うのに好適な表面処理装置に関する。
る飛翔体の試験等を行う大型の真空容器の、真空側の表
面の処理を行うのに好適な表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来は、宇宙空間を移動する飛翔体の試
験等を行う大型の真空容器は、大型であるためにオース
テナイト系ステンレス鋼等の構造材料で組み立てられる
と、表面処理は行われなかった。このため組み立てに際
して付着する汚れが十分に除去されないままに真空排気
が行われることとなり、汚れに吸蔵された大量の水が放
出されて所定の圧力まで排気するのに多くの時間と動力
とを必要とした。
験等を行う大型の真空容器は、大型であるためにオース
テナイト系ステンレス鋼等の構造材料で組み立てられる
と、表面処理は行われなかった。このため組み立てに際
して付着する汚れが十分に除去されないままに真空排気
が行われることとなり、汚れに吸蔵された大量の水が放
出されて所定の圧力まで排気するのに多くの時間と動力
とを必要とした。
【０００３】真空容器の表面処理方法としては各種の研
磨や、酸洗い，アルカリ洗浄，GBB（glass beads shot
blast）処理等があって超高真空装置に適用されている
が、大型の真空容器の組み立て現場で適用することが難
しいため、実施には至っていない。
磨や、酸洗い，アルカリ洗浄，GBB（glass beads shot
blast）処理等があって超高真空装置に適用されている
が、大型の真空容器の組み立て現場で適用することが難
しいため、実施には至っていない。
【０００４】このように従来技術では、大型の真空容器
の内面に真空排気に適した表面処理が施されていないた
めに、真空排気に多くの時間と動力を必要とする欠点が
あった。
の内面に真空排気に適した表面処理が施されていないた
めに、真空排気に多くの時間と動力を必要とする欠点が
あった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、宇宙
空間を移動する飛翔体の試験等を行うような大型の真空
容器の真空排気に際して真空容器から放出されるガスを
低減して、排気時間の短縮及び動力の低減を行うため、
超高真空材料の表面処理としてよく用いられるＧＢＢ処
理を容易に施すことができる、表面処理装置を提供する
ことにある。
空間を移動する飛翔体の試験等を行うような大型の真空
容器の真空排気に際して真空容器から放出されるガスを
低減して、排気時間の短縮及び動力の低減を行うため、
超高真空材料の表面処理としてよく用いられるＧＢＢ処
理を容易に施すことができる、表面処理装置を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】真空容器内に設置したレ
ール上を自在に移動する台車と、この台車の上に設置さ
れて水平面内に回転自在な回転台と、この回転台上に固
定された回転ガイドに沿って回転自在に設置された回転
枠と、この回転枠に連結して固定された円形の回転伝達
リングと、この回転伝達リングの反対側に回転枠に固定
された取り付け枠と、この取り付け枠に固定された直線
ガイドに沿って回転伝達リングの回転軸に対して垂直方
向に移動することのできる移動架台と、この移動架台に
固定された表面処理作業の装置からなる、表面処理装置
を用いることによって、上記の課題を解決することがで
きる。
ール上を自在に移動する台車と、この台車の上に設置さ
れて水平面内に回転自在な回転台と、この回転台上に固
定された回転ガイドに沿って回転自在に設置された回転
枠と、この回転枠に連結して固定された円形の回転伝達
リングと、この回転伝達リングの反対側に回転枠に固定
された取り付け枠と、この取り付け枠に固定された直線
ガイドに沿って回転伝達リングの回転軸に対して垂直方
向に移動することのできる移動架台と、この移動架台に
固定された表面処理作業の装置からなる、表面処理装置
を用いることによって、上記の課題を解決することがで
きる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を、図１及び図２
により説明する。図１は大型真空容器内に設置された本
発明の表面処理装置を１つの水平側面からみた構成を示
す。真空容器１の内部に設置されたレール２の上を自在
に移動する台車３があり、台車３には水平面内に回転自
在な回転台４が設置され、この回転台４には回転ガイド
５が固定されており、回転枠６はこの回転ガイド５に沿
って回転自在に設置されており、この回転枠６に連結部
材１５を介して回転伝達リング７が固定されており、こ
の回転伝達リング７の反対側に回転枠６に連結部材１６
を介して固定された取り付け枠８と、この取り付け枠８
に固定された直線ガイド９に沿って回転伝達リング７の
回転軸に対して垂直方向に移動することのできる移動架
台１０と、この移動架台に固定された表面処理作業の装
置１１が設置されている。
により説明する。図１は大型真空容器内に設置された本
発明の表面処理装置を１つの水平側面からみた構成を示
す。真空容器１の内部に設置されたレール２の上を自在
に移動する台車３があり、台車３には水平面内に回転自
在な回転台４が設置され、この回転台４には回転ガイド
５が固定されており、回転枠６はこの回転ガイド５に沿
って回転自在に設置されており、この回転枠６に連結部
材１５を介して回転伝達リング７が固定されており、こ
の回転伝達リング７の反対側に回転枠６に連結部材１６
を介して固定された取り付け枠８と、この取り付け枠８
に固定された直線ガイド９に沿って回転伝達リング７の
回転軸に対して垂直方向に移動することのできる移動架
台１０と、この移動架台に固定された表面処理作業の装
置１１が設置されている。
【０００８】回転伝達リング７が回転装置１２によって
回転すると取り付け枠８，直線ガイド９，移動架台１
０、及び表面処理作業の装置１１が一緒に回転する。表
面処理作業の装置１１としては、微細なガラス球を高速
で噴射して真空容器１の表面の汚れや酸化物を除去する
ＧＢＢ（glass beads shot blast）装置を用いることが
できる。ＧＢＢ装置を動作させながら回転伝達リングを
１回転させると、噴射ノズル１９から噴射されるガラス
球の到達範囲を示す表面処理範囲１７の幅を有する円筒
面が処理される。したがって、回転伝達リング７が１回
転する間に台車３を表面処理範囲１７だけ移動させれ
ば、連続して容器側面１４を表面処理することができ
る。
回転すると取り付け枠８，直線ガイド９，移動架台１
０、及び表面処理作業の装置１１が一緒に回転する。表
面処理作業の装置１１としては、微細なガラス球を高速
で噴射して真空容器１の表面の汚れや酸化物を除去する
ＧＢＢ（glass beads shot blast）装置を用いることが
できる。ＧＢＢ装置を動作させながら回転伝達リングを
１回転させると、噴射ノズル１９から噴射されるガラス
球の到達範囲を示す表面処理範囲１７の幅を有する円筒
面が処理される。したがって、回転伝達リング７が１回
転する間に台車３を表面処理範囲１７だけ移動させれ
ば、連続して容器側面１４を表面処理することができ
る。
【０００９】しかし、台車３のために容器端面１８に近
い容器側面１４の一部はこのままでは処理することがで
きない。そこで、回転台４を１８０度回転させることに
より、残された容器端面１８に近い容器側面１４の一部
の表面処理を行うことができる。噴射ノズル１９を容器
側面１４の方向でなく容器端面１３の方向に向けて、回
転伝達リングが１回転する毎にＧＢＢ装置を半径方向に
直線ガイドに沿ってガラス球の到達範囲に相当する距離
を移動させれば、容器端面１３全面を表面処理すること
ができる。容器端面１８についても同様である。
い容器側面１４の一部はこのままでは処理することがで
きない。そこで、回転台４を１８０度回転させることに
より、残された容器端面１８に近い容器側面１４の一部
の表面処理を行うことができる。噴射ノズル１９を容器
側面１４の方向でなく容器端面１３の方向に向けて、回
転伝達リングが１回転する毎にＧＢＢ装置を半径方向に
直線ガイドに沿ってガラス球の到達範囲に相当する距離
を移動させれば、容器端面１３全面を表面処理すること
ができる。容器端面１８についても同様である。
【００１０】回転伝達リング７の回転軸と円筒形の真空
容器１の中心軸とが一致しない場合や、真空容器１が円
筒形でない場合、さらには真空容器１が円筒形でなくて
その中心軸と回転伝達リング７の回転軸とがずれている
場合には、回転伝達リング７の回転に伴って噴射ノズル
１９と容器側壁１４との距離を一定に保つように移動架
台１０を移動させることにより、容器側壁１４の表面を
適切に処理することができる。容器端面１３あるいは容
器端面１８の処理に際しては、同様に移動架台１０を移
動させると共に台車３を前後に移動させることにより、
噴射ノズル１９と端面との距離を一定に保つことができ
るので、端面全体を適切に処理することができる。
容器１の中心軸とが一致しない場合や、真空容器１が円
筒形でない場合、さらには真空容器１が円筒形でなくて
その中心軸と回転伝達リング７の回転軸とがずれている
場合には、回転伝達リング７の回転に伴って噴射ノズル
１９と容器側壁１４との距離を一定に保つように移動架
台１０を移動させることにより、容器側壁１４の表面を
適切に処理することができる。容器端面１３あるいは容
器端面１８の処理に際しては、同様に移動架台１０を移
動させると共に台車３を前後に移動させることにより、
噴射ノズル１９と端面との距離を一定に保つことができ
るので、端面全体を適切に処理することができる。
【００１１】以上に述べたように本発明によれば、大型
の真空容器の表面に真空排気に適した表面処理であるＧ
ＢＢ処理を施すことができる。
の真空容器の表面に真空排気に適した表面処理であるＧ
ＢＢ処理を施すことができる。
【００１２】上述の実施例では表面処理作業の装置１１
としてＧＢＢ装置を用いたが、高温水蒸気を噴射する蒸
気洗浄機や、溶媒噴射装置を用いることも可能である。
また、ＧＢＢ装置を用いる場合には、回転伝達リング７
及び回転装置１２がガラス球によって動作不良を起こさ
ぬようにカバーをつけることもできる。
としてＧＢＢ装置を用いたが、高温水蒸気を噴射する蒸
気洗浄機や、溶媒噴射装置を用いることも可能である。
また、ＧＢＢ装置を用いる場合には、回転伝達リング７
及び回転装置１２がガラス球によって動作不良を起こさ
ぬようにカバーをつけることもできる。
【００１３】
【発明の効果】実施例の説明において詳しく述べたよう
に、本発明によれば、宇宙空間を移動する飛翔体の試験
等を行う大型の真空容器の、真空側の表面に真空排気に
適したＧＢＢ処理のような表面処理を施すことができ、
真空排気に際して真空容器から放出されるガスを低減で
きるので、排気時間の短縮及び動力の低減を行うことが
できる。
に、本発明によれば、宇宙空間を移動する飛翔体の試験
等を行う大型の真空容器の、真空側の表面に真空排気に
適したＧＢＢ処理のような表面処理を施すことができ、
真空排気に際して真空容器から放出されるガスを低減で
きるので、排気時間の短縮及び動力の低減を行うことが
できる。
【図１】本発明の実施例を示す表面処理装置の側面図で
ある。
ある。
１…真空容器、２…レール、３…台車、４…回転台、５
…回転ガイド、６…回転枠、７…回転伝達リング、８…
取り付け枠、９…直線ガイド、１０…移動架台、１１…
表面処理作業の装置、１２…回転装置、１３，１４，１
８…容器端面、１５，１６…連結部材、１７…表面処理
範囲、１９…噴射ノズル。
…回転ガイド、６…回転枠、７…回転伝達リング、８…
取り付け枠、９…直線ガイド、１０…移動架台、１１…
表面処理作業の装置、１２…回転装置、１３，１４，１
８…容器端面、１５，１６…連結部材、１７…表面処理
範囲、１９…噴射ノズル。
Claims (1)
- 【請求項１】真空容器内に設置したレール上を自在に移
動する台車と、この台車の上に設置されて水平面内に回
転自在な回転台と、この回転台上に固定された回転ガイ
ドに沿って回転自在に設置された回転枠と、この回転枠
に連結して固定された円形の回転伝達リングと、この回
転伝達リングの反対側に回転枠に固定された取り付け枠
と、この取り付け枠に固定された直線ガイドに沿って回
転伝達リングの回転軸に対して垂直方向に移動する移動
架台と、この移動架台に固定された表面処理作業の装置
からなることを特徴とする大型真空容器の表面処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11006104A JP2000202776A (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 大型真空容器の表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11006104A JP2000202776A (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 大型真空容器の表面処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000202776A true JP2000202776A (ja) | 2000-07-25 |
Family
ID=11629207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11006104A Pending JP2000202776A (ja) | 1999-01-13 | 1999-01-13 | 大型真空容器の表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000202776A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101014769B1 (ko) | 2010-09-20 | 2011-02-14 | (주) 미래이피 | 진공챔버의 표면처리 방법 |
-
1999
- 1999-01-13 JP JP11006104A patent/JP2000202776A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101014769B1 (ko) | 2010-09-20 | 2011-02-14 | (주) 미래이피 | 진공챔버의 표면처리 방법 |
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